WO2012077708A1 - 高屈折率ガラス - Google Patents

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智基 柳瀬
隆 村田
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Definitions

  • the present invention relates to a high refractive index glass, for example, an organic EL device, particularly a high refractive index glass suitable for organic EL lighting.
  • organic EL devices have a structure in which an organic light emitting element is sandwiched between substrates on which a transparent conductive film such as ITO is formed.
  • a transparent conductive film such as ITO
  • the refractive index nd of the organic light emitting device is 1.8 to 1.9, and the refractive index nd of ITO is 1.9 to 2.0.
  • the refractive index nd of the substrate is usually about 1.5.
  • the conventional organic EL device has a problem that the light generated from the organic light-emitting element cannot be extracted efficiently because the reflectance is high due to the difference in refractive index at the substrate-ITO interface.
  • the present inventors have found that the above technical problem can be solved by regulating the glass composition range and the glass characteristics to a predetermined range, and propose as the first invention. is there. That is, the high refractive index glass of the first invention contains 0.1 to 60% by mass of SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 as a glass composition, and a mass ratio (BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + TiO 2).
  • the “refractive index nd” can be measured with a refractive index measuring device. For example, after preparing a rectangular parallelepiped sample of 25 mm ⁇ 25 mm ⁇ about 3 mm, from (annealing point Ta + 30 ° C.) to (strain point ⁇ 50 ° C.) An annealing treatment is performed at a cooling rate such that the temperature range is 0.1 ° C./min, and then a refractive index measuring device KPR-200 manufactured by Carnew Co. is introduced while infiltrating an immersion liquid whose refractive index is matched between the glasses. Can be measured. “Annealing point Ta” refers to a value measured based on the method described in ASTM C338-93.
  • SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 refers to the total amount of SiO 2 , Al 2 O 3 , and B 2 O 3 .
  • BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + TiO 2 + ZrO 2 refers to the total amount of BaO, La 2 O 3 , Nb 2 O 5 , TiO 2 , and ZrO 2 .
  • MgO + CaO + SrO + BaO refers to the total amount of MgO, CaO, SrO, and BaO.
  • TiO 2 + ZrO 2 refers to the total amount of TiO 2 and ZrO 2 .
  • BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 refers to the total amount of BaO, La 2 O 3 , and Nb 2 O 5 .
  • the high refractive index glass of the first invention preferably has a liquidus viscosity of 10 3.0 dPa ⁇ s or more.
  • liquid phase viscosity refers to a value obtained by measuring the viscosity of glass at the liquid phase temperature by a platinum ball pulling method.
  • Liquid phase temperature refers to the temperature at which crystals precipitate by passing the standard sieve 30 mesh (500 ⁇ m) and putting the glass powder remaining in 50 mesh (300 ⁇ m) into a platinum boat and holding it in a temperature gradient furnace for 24 hours. It is a measured value.
  • Organic EL lighting has a problem that the current density at the time of current application changes due to a slight difference in the surface smoothness of the glass plate, resulting in uneven illuminance. Further, when the glass surface is polished in order to improve the surface smoothness of the glass plate, there arises a problem that the processing cost increases. Therefore, when the liquidus viscosity is in the above range, it becomes easy to form by the overflow downdraw method, and as a result, it becomes easy to produce a glass plate that is unpolished and has good surface smoothness.
  • the “overflow downdraw method” is a method in which molten glass is overflowed from both sides of a heat-resistant bowl-shaped structure, and the overflowing molten glass is stretched downward while joining at the lower end of the bowl-shaped structure. This is a method of forming a glass plate.
  • the high refractive index glass of the first invention is preferably plate-shaped. If it does in this way, it will become easy to apply to the substrate of various devices, such as an organic EL display, organic EL lighting, and a dye-sensitized solar cell.
  • Platinum includes a film having a small plate thickness.
  • the high refractive index glass of the first invention is preferably formed by an overflow down draw method or a slot down draw method.
  • the “slot down draw method” is a method of forming a glass plate by drawing and forming molten glass from a substantially rectangular gap while drawing it downward.
  • At least one surface of the high refractive index glass of the first invention is unpolished and the surface roughness Ra of the unpolished surface is 10 mm or less.
  • surface roughness Ra refers to a value measured by a method based on JIS B0601: 2001.
  • the high refractive index glass of the first invention is preferably used for a lighting device.
  • the high refractive index glass of the first invention is preferably used for organic EL lighting.
  • the high refractive index glass of the first invention is preferably used for an organic solar cell, particularly a dye-sensitized solar cell.
  • the high refractive index glass of the first invention is preferably used for an organic EL display.
  • the present inventors have found that the above technical problem can be solved by regulating the glass composition range and the glass characteristics to a predetermined range, and propose as a second invention. is there. That is, the high refractive index glass of the second invention, as a glass composition, in mass%, SiO 2 5 ⁇ 50% , with containing SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 20 ⁇ 50%, the mass ratio ( BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + TiO 2 + ZrO 2) / (SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3) is 0.1 to 5, weight ratio (MgO + CaO + SrO + BaO ) / (BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + TiO 2 + ZrO 2 ) is 0.1 to 1.5, the mass ratio (TiO 2 + ZrO 2 ) / (BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 ) is 0.05 to 2, and the refractive index nd is
  • the present inventors have found that the above technical problem can be solved by regulating the glass characteristics to a predetermined range, and propose the third invention. That is, the high refractive index glass of the third invention is plate-shaped, the refractive index nd is 1.6 or more, the liquid phase viscosity is 10 4.0 dPa ⁇ s or more, and the surface roughness Ra of at least one surface is It is characterized by being 10 mm or less and a thickness of 0.1 to 1.0 mm.
  • the high refractive index glass of the fourth invention has a glass composition in mass% of SiO 2 10-60%, B 2 O 3 0-5%, BaO 0.1-60%, La 2 O 3 + Nb. 2 O 5 0.1 to 40%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0 to 10%, mass ratio (MgO + CaO) / (SrO + BaO) is 0 to 0.5, strain point is 600 ° C. or more
  • the refractive index nd is 1.55 to 2.3.
  • p-Si ⁇ TFT driving by p-Si ⁇ TFT is mainly used from the viewpoint of electron mobility and TFT characteristics.
  • a multi-view 3D display has appeared, and a high-resolution display of 2K to 4K or more is required to obtain a natural stereoscopic image.
  • the “strain point” is a value measured based on the method described in ASTM C336-71.
  • the “refractive index nd” can be measured with a refractive index measuring device. For example, after a cuboid sample of 25 mm ⁇ 25 mm ⁇ about 3 mm is prepared, the temperature from (annealing point Ta + 30 ° C.) to (strain point ⁇ 50 ° C.) An annealing treatment is performed at a cooling rate such that the region is 0.1 ° C./min, and then a refractive index measuring device KPR-200 manufactured by Kalnew is used while an immersion liquid whose refractive index is matched is infiltrated between the glasses. Can be measured.
  • “Annealing point Ta” refers to a value measured based on the method described in ASTM C338-93.
  • “La 2 O 3 + Nb 2 O 5 ” is the total amount of La 2 O 3 and Nb 2 O 5 .
  • “Li 2 O + Na 2 O + K 2 O” is the total amount of Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O.
  • “MgO + CaO” is the total amount of MgO and CaO.
  • “SrO + BaO” is the total amount of SrO and BaO.
  • the high refractive index glass of the fourth invention preferably has a liquidus viscosity of 10 3.0 dPa ⁇ s or more.
  • liquid phase viscosity refers to a value obtained by measuring the viscosity of glass at the liquid phase temperature by a platinum ball pulling method.
  • Liquid phase temperature refers to the temperature at which crystals precipitate by passing the standard sieve 30 mesh (500 ⁇ m) and putting the glass powder remaining in 50 mesh (300 ⁇ m) into a platinum boat and holding it in a temperature gradient furnace for 24 hours. It is a measured value.
  • Organic EL lighting has a problem that the current density at the time of current application changes due to a slight difference in the surface smoothness of the glass plate, resulting in uneven illuminance. Further, when the glass surface is polished in order to improve the surface smoothness of the glass plate, there arises a problem that the processing cost increases. Therefore, when the liquidus viscosity is in the above range, it becomes easy to form by the overflow downdraw method, and as a result, it becomes easy to produce a glass plate that is unpolished and has good surface smoothness.
  • the high refractive index glass of the fourth invention is composed of 15% to 60% of SiO 2 , 0 to 5% of B 2 O 3 , 0.1 to 40% of BaO, and La 2 O as a glass composition.
  • the refractive index nd is 1.55 to 2.2 at a temperature not lower than ° C.
  • the high refractive index glass of the fourth invention is, as a glass composition, by mass%, SiO 2 20-60%, B 2 O 3 0-5%, BaO 5-40%, La 2 O 3 + Nb. 2 O 5 0.1 to 25%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0 to 3%, mass ratio (MgO + CaO) / (SrO + BaO) is 0 to 0.4, strain point is 650 ° C. or more
  • the refractive index nd is preferably 1.55 to 2.1.
  • the high refractive index glass of the fourth invention preferably has a density of 4.0 g / cm 3 or less. “Density” can be measured by the well-known Archimedes method.
  • the high refractive index glass of the fourth invention is preferably plate-shaped. If it does in this way, it will become easy to apply to the substrate of various devices, such as an organic EL display, organic EL lighting, and a dye-sensitized solar cell.
  • “Plate” includes a film having a small plate thickness.
  • the high refractive index glass of the fourth invention is formed by an overflow down draw method or a slot down draw method.
  • the “overflow downdraw method” is a method in which molten glass is overflowed from both sides of a heat-resistant bowl-shaped structure, and the overflowing molten glass is stretched downward while joining at the lower end of the bowl-shaped structure. This is a method of forming a glass plate.
  • the “slot down draw method” is a method of forming a glass plate by drawing downward from a substantially rectangular gap while drawing molten glass.
  • At least one surface of the high refractive index glass of the fourth invention is unpolished, and the surface roughness Ra of the unpolished surface is 10 mm or less.
  • surface roughness Ra refers to a value measured by a method based on JIS B0601: 2001.
  • the high refractive index glass of the fourth invention is preferably used for a lighting device.
  • the high refractive index glass of the fourth invention is preferably used for organic EL lighting.
  • the high refractive index glass of the fourth invention is preferably used for an organic solar cell.
  • the high refractive index glass of the fourth invention is preferably used for an organic EL display.
  • the present inventors have found that the above technical problem can be solved by regulating the glass composition range and the glass characteristics to a predetermined range, and propose as a fifth invention. is there. That is, the high refractive index glass of the fifth invention has a glass composition of 25% to 60% SiO 2 , 0 to 5% B 2 O 3 , 20 to 40% BaO, and 0.1% La 2 O 3 as a glass composition.
  • the high refractive index glass of the sixth invention is plate-like, substantially does not contain PbO, has a refractive index nd of 1.55 to 2.0, a strain point of 630 ° C. or higher, and a liquidus viscosity.
  • 10 4 dPa ⁇ s or more coefficient of thermal expansion at 30 to 380 ° C. is 45 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C. to 95 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C.
  • thickness is 0.05 to 1.5 mm
  • surface roughness of at least one surface Ra is 30 or less.
  • substantially no PbO means that the content of PbO in the glass composition is less than 1000 ppm (mass).
  • “Thermal expansion coefficient at 30 to 380 ° C.” can be measured with a dilatometer.
  • the high refractive index glass of the seventh invention has a glass composition of mol%, SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 20 to 70%, SiO 2 20 to 70%, B 2 O 3 0 to 30 %, MgO + CaO + SrO + BaO 0 ⁇ 50%, BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + ZrO 2 + containing TiO 2 0 ⁇ 30%, the molar ratio B 2 O 3 / SiO 2 0-1, molar ratio SiO 2 / (MgO + CaO + SrO + BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 ) is 0.1 to 6, molar ratio (MgO + CaO + SrO + BaO) / (MgO + CaO + SrO + BaO + La 2 O 3 3 .
  • the “refractive index nd” can be measured with a refractive index measuring device. For example, after preparing a rectangular parallelepiped sample of 25 mm ⁇ 25 mm ⁇ about 3 mm, from (annealing point Ta + 30 ° C.) to (strain point ⁇ 50 ° C.) An annealing treatment is performed at a cooling rate such that the temperature range is 0.1 ° C./min, and then a refractive index measuring device KPR-200 manufactured by Carnew Co. is introduced while infiltrating an immersion liquid whose refractive index is matched between the glasses. Can be measured. “Annealing point Ta” refers to a value measured based on the method described in ASTM C338-93.
  • SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 refers to the total amount of SiO 2 , Al 2 O 3 , and B 2 O 3 .
  • MgO + CaO + SrO + BaO refers to the total amount of MgO, CaO, SrO, and BaO.
  • BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + ZrO 2 + TiO 2 refers to the total amount of BaO, La 2 O 3 , Nb 2 O 5 , ZrO 2 , and TiO 2 .
  • MgO + CaO + SrO + BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 refers to the total amount of MgO, CaO, SrO, BaO, La 2 O 3 , and Nb 2 O 5 .
  • MgO + CaO + SrO + BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + Gd 2 O 3 refers to the total amount of MgO, CaO, SrO, BaO, La 2 O 3 , Nb 2 O 5 , and Gd 2 O 3 .
  • the high refractive index glass of the seventh invention preferably has a liquidus viscosity of 10 3.0 dPa ⁇ s or more.
  • liquid phase viscosity refers to a value obtained by measuring the viscosity of glass at the liquid phase temperature by a platinum ball pulling method.
  • Liquid phase temperature refers to the temperature at which crystals precipitate by passing the standard sieve 30 mesh (500 ⁇ m) and putting the glass powder remaining in 50 mesh (300 ⁇ m) into a platinum boat and holding it in a temperature gradient furnace for 24 hours. It is a measured value.
  • Organic EL lighting has a problem that the current density at the time of current application changes due to a slight difference in the surface smoothness of the glass plate, resulting in uneven illuminance. Further, when the glass surface is polished in order to improve the surface smoothness of the glass plate, there arises a problem that the processing cost increases. Therefore, when the liquidus viscosity is in the above range, it becomes easy to form by the overflow downdraw method, and as a result, it becomes easy to produce a glass plate that is unpolished and has good surface smoothness.
  • the “overflow downdraw method” is a method in which molten glass is overflowed from both sides of a heat-resistant bowl-shaped structure, and the overflowing molten glass is stretched downward while joining at the lower end of the bowl-shaped structure. This is a method of forming a glass plate.
  • the high refractive index glass of the seventh invention has a glass composition of mol%, SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 30 to 70%, SiO 2 30 to 70%, B 2 O 3 0 -15%, MgO + CaO + SrO + BaO 5 to 45%, BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + ZrO 2 + TiO 2 15 to 30%, molar ratio B 2 O 3 / SiO 2 is 0 to 1, molar ratio SiO 2 / (MgO + CaO + SrO + BaO + La 2 3 + Nb 2 O 5 ) is 0.5 to 5, the molar ratio (MgO + CaO + SrO + BaO) / (MgO + CaO + SrO + BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + Gd 2 O 3 ) is 0.3 to 0.99, and the refractive index is 1. It is preferably 55 to 2.3.
  • the high refractive index glass of the seventh invention has a glass composition of mol%, SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 40 to 70%, SiO 2 40 to 70%, B 2 O 3 0 10 to 40%, MgO + CaO + SrO + BaO 10 to 40%, BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + ZrO 2 + TiO 2 15 to 25%, molar ratio B 2 O 3 / SiO 2 is 0 to 1, molar ratio SiO 2 / ( MgO + CaO + SrO + BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 ) is 1 to 3, molar ratio (MgO + CaO + SrO + BaO) / (MgO + CaO + SrO + BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + Gd 2 O 3 is a refractive index of 0.5 to 0.9) It is preferably 0.55 to 2.3.
  • the high refractive index glass of the seventh invention preferably has a density of 4.5 g / cm 3 or less.
  • Organic EL lighting and the like include a type suspended from the ceiling in addition to a type fitted into the ceiling. For this reason, weight reduction of a device is requested
  • the “density” can be measured by a known Archimedes method.
  • the high refractive index glass of the seventh invention is preferably formed by an overflow down draw method or a slot down draw method.
  • the “slot down draw method” is a method of forming a glass plate by drawing and forming molten glass from a substantially rectangular gap while drawing it downward.
  • the high refractive index glass of the seventh invention is preferably used for a lighting device.
  • the high refractive index glass of the seventh invention is preferably used for organic EL lighting.
  • the high refractive index glass of the seventh invention is preferably used for an organic solar cell.
  • the high refractive index glass of the seventh invention is preferably used for an organic EL display.
  • the high refractive index glass of the eighth invention has a glass composition of mol%, SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 60 to 70%, SiO 2 60 to 70%, B 2 O 3 0 to 1 %, MgO + CaO + SrO + BaO 25-30%, BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + ZrO 2 + TiO 2 15-25%, molar ratio B 2 O 3 / SiO 2 is 0 to 0.1, molar ratio SiO 2 / ( MgO + CaO + SrO + BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 ) is 1.5 to 2.5, molar ratio (MgO + CaO + SrO + BaO) / (MgO + CaO + SrO + BaO + La 2 O 3 + N
  • the present inventors have found that the above technical problem can be solved by regulating the glass properties to a predetermined range, and propose the ninth invention. That is, the high refractive index glass of the ninth invention does not contain PbO, has a refractive index of 1.55 to 2.0, a liquid phase viscosity of 10 3.0 dPa ⁇ s or more, and a density of 4.0 g / cm. It is 3 or less.
  • the high refractive index glass of the first embodiment contains 0.1 to 60% by mass of SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 as a glass composition, and a mass ratio (BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + TiO 2 + ZrO). 2 ) / (SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 ) is 0.1 to 50, mass ratio (MgO + CaO + SrO + BaO) / (BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + TiO 2 + ZrO 2 ) is 0 to 10, mass ratio ( TiO 2 + ZrO 2 ) / (BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 ) is 0.001 to 40.
  • the reason for limiting the content range of each component as described above will be described below.
  • % display represents the mass% except the case where there is particular notice.
  • the content of SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 is 0.1 to 60%.
  • the content of SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 decreases, it becomes difficult to form a glass network structure and vitrification becomes difficult. Further, the viscosity of the glass is excessively lowered, and it becomes difficult to ensure a high liquid phase viscosity. Therefore, the content of SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 is 0.1% or more, preferably 5% or more, 10% or more, 12% or more, 15% or more, 20% or more, 25% or more, 28% or more, 35% or more, particularly 40% or more.
  • the content of SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 is 60% or less, preferably 55% or less, 53% or less, 50% or less, 49% or less, 48% or less, particularly 45% or less.
  • the mass ratio (BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + TiO 2 + ZrO 2 ) / (SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 ) is 0.1-50.
  • the mass ratio (BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + TiO 2 + ZrO 2 ) / (SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 ) decreases, it is difficult to increase the refractive index nd.
  • the lower limit of the mass ratio (BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + TiO 2 + ZrO 2 ) / (SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 ) is 0.1 or more, preferably 0.2 or more, 0 .3 or more, 0.5 or more, 0.6 or more, particularly 0.7 or more.
  • the mass ratio (BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + TiO 2 + ZrO 2 ) / (SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 ) increases, vitrification becomes difficult and the viscosity of the glass decreases extremely. Thus, it becomes difficult to ensure a high liquid phase viscosity.
  • the upper limit of the mass ratio (BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + TiO 2 + ZrO 2 ) / (SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 ) is 50 or less, preferably 30 or less, 20 or less, 10 or less. 5 or less, 3 or less, 2 or less, 1.8 or less, 1.6 or less, 1.3 or less, 1.1 or less, particularly 1.0 or less.
  • the mass ratio (MgO + CaO + SrO + BaO) / (BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + TiO 2 + ZrO 2 ) is 0-10.
  • the mass ratio ((MgO + CaO + SrO + BaO) / (BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + TiO 2 + ZrO 2 ) is increased, the devitrification resistance is improved, but when the value exceeds 10, the balance of the glass composition is lost.
  • the devitrification resistance may decrease or the refractive index nd may decrease, so the mass ratio (MgO + CaO + SrO + BaO) / (BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + TiO 2 + ZrO 2 ) is 10 or less, preferably Is 5 or less, 3 or less, 2 or less, 1.5 or less, 1.4 or less, 1.3 or less, 1.2 or less, 1.1 or less, particularly 1.
  • the mass ratio (MgO + CaO + SrO + BaO) / ( BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + TiO 2 + ZrO 2) If decreases, the devitrification resistance is liable to decrease.
  • the weight ratio MgO + CaO + SrO + BaO) / (BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + TiO 2 + ZrO 2) is 0.1 or more, 0.3 or more, 0.4 or more, 0.5 or more, 0.6 or more, particularly 0.7 or more is preferable .
  • the mass ratio (TiO 2 + ZrO 2 ) / (BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 ) is 0.001 to 40.
  • the mass ratio (TiO 2 + ZrO 2 ) / (BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 ) decreases, it becomes difficult to ensure a high liquid phase viscosity and to increase the refractive index nd. Therefore, the mass ratio (TiO 2 + ZrO 2 ) / (BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 ) is 0.001 or more, preferably 0.005 or more, 0.01 or more, 0.05 or more, 0.1 or more. 0.15 or more, 0.18 or more, particularly 0.2 or more.
  • the mass ratio (TiO 2 + ZrO 2 ) / (BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 ) is 40 or less, preferably 25 or less, 13 or less, 10 or less, 7 or less, 5 or less, 2 or less, 1.6 Hereinafter, 1.3 or less, 1 or less, 0.8 or less, and particularly 0.5 or less.
  • the content of SiO 2 is preferably 0.1 to 60%.
  • the content of SiO 2 decreases, it becomes difficult to form a glass network structure, and vitrification becomes difficult. Further, the viscosity of the glass is excessively lowered, and it becomes difficult to ensure a high liquid phase viscosity. Therefore, the content of SiO 2 is 0.1% or more, 3% or more, 5% or more, 10% or more, 12% or more, 15% or more, 20% or more, 25% or more, 28% or more, 35% or more, In particular, 40% or more is preferable.
  • the content of SiO 2 increases, the meltability and moldability tend to decrease, and the refractive index nd tends to decrease. Therefore, the content of SiO 2 is preferably 60% or less, 55% or less, 53% or less, 52% or less, 50% or less, 49% or less, 48% or less, particularly 45% or less.
  • the content of Al 2 O 3 is preferably 0 to 20%.
  • the content of Al 2 O 3 is preferably 20% or less, 15% or less, 10% or less, 8% or less, particularly 6% or less.
  • the content of Al 2 O 3 is reduced, lacks the balance of the glass composition, the glass is liable to devitrify reversed. Therefore, the content of Al 2 O 3 is preferably 0.1% or more, 0.5% or more, and particularly preferably 1% or more.
  • the content of B 2 O 3 is preferably 0 to 10%.
  • the content of B 2 O 3 is preferably 10% or less, 8% or less, 4% or less, less than 2%, particularly preferably less than 1%.
  • MgO is a component that raises the refractive index nd, Young's modulus, and strain point and lowers the high-temperature viscosity.
  • the MgO content is preferably 10% or less, 5% or less, 3% or less, 2% or less, 1.5% or less, 1% or less, and particularly preferably 0.5% or less.
  • the CaO content is preferably 0 to 15%.
  • the CaO content is preferably 15% or less, 12% or less, 10% or less, 9% or less, and particularly preferably 8.5% or less.
  • the CaO content is preferably 0.5% or more, 1% or more, 2% or more, 3% or more, and particularly preferably 5% or more.
  • the SrO content is preferably 0 to 15%.
  • the SrO content increases, the refractive index nd, density, and thermal expansion coefficient tend to increase.
  • the SrO content exceeds 15%, the balance of the glass composition is lost and the devitrification resistance tends to decrease. Therefore, the SrO content is preferably 15% or less, 12% or less, 10% or less, 9% or less, 8% or less, and particularly preferably 7% or less.
  • the content of SrO is preferably 0.5% or more, 1% or more, 2% or more, 3% or more, particularly 3.5% or more.
  • the content of MgO + CaO + SrO is preferably 0 to 50% in order to maintain a high liquid phase viscosity while increasing the refractive index nd.
  • the content of MgO + CaO + SrO is preferably 50% or less, 45% or less, 30% or less, 20% or less, and particularly preferably 16% or less.
  • the content of MgO + CaO + SrO is preferably 5% or more, 8% or more, 10% or more, particularly 11% or more.
  • “MgO + CaO + SrO” refers to the total amount of MgO, CaO, and SrO.
  • BaO is a component that increases the refractive index nd without drastically reducing the viscosity of the glass among alkaline earth metal oxides, and its content is preferably 0 to 50%.
  • the content of BaO increases, the refractive index nd, density, and thermal expansion coefficient tend to increase.
  • the content of BaO exceeds 50%, the balance of the glass composition is lacking and the devitrification resistance tends to be lowered. Therefore, the BaO content is preferably 50% or less, 40% or less, 35% or less, 32% or less, 29.5% or less, 29% or less, and particularly preferably 28% or less.
  • the content of BaO is preferably 0.5% or more, 1% or more, 2% or more, 5% or more, 10% or more, 15% or more, 23% or more, particularly 25% or more.
  • La 2 O 3 is a component that increases the refractive index nd.
  • the preferable content range of La 2 O 3 is 0 to 25%, 0 to 22%, 0.1 to 18%, 1 to 14%, 2 to 12%, particularly 3 to 10%.
  • Nb 2 O 5 is a component that increases the refractive index nd.
  • the preferable content range of Nb 2 O 5 is 0 to 25%, 0 to 22%, 0.1 to 18%, 1 to 14%, 2 to 12%, particularly 3 to 10%.
  • TiO 2 is a component that increases the refractive index nd. When the content of TiO 2 increases, the devitrification resistance tends to decrease. Therefore, the preferred content range of TiO 2 is 0 to 25%, 0.1 to 22%, 1 to 18%, 2 to 14%, 3 to 12%, particularly 4 to 10%.
  • ZrO 2 is a component that increases the refractive index nd.
  • the preferable content range of ZrO 2 is 0 to 25%, 0 to 20%, 0.1 to 10%, 0.1 to 8%, 0.1 to 6%, particularly 0.1 to 5%. .
  • the refractive index nd can be increased while suppressing a decrease in devitrification resistance.
  • the content of BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + TiO 2 + ZrO 2 is preferably 10% or more, 15% or more, 20% or more, 25% or more, 28% or more, 33% or more, and particularly preferably 35% or more.
  • the content of BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + TiO 2 + ZrO 2 is too high, devitrification resistance is liable to decrease.
  • the content of BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + TiO 2 + ZrO 2 is preferably 65% or less, 60% or less, 58% or less, 55% or less, 50% or less, 45% or less, particularly 41% or less.
  • Li 2 O + Na 2 O + K 2 O is a component that lowers the viscosity of the glass and adjusts the coefficient of thermal expansion. However, when it is contained in a large amount, the viscosity of the glass is excessively lowered, resulting in a high liquidus viscosity. It becomes difficult to secure. Therefore, the content of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O is preferably 15% or less, 10% or less, 5% or less, 2% or less, 1% or less, 0.5% or less, and particularly preferably 0.1% or less. The contents of Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O are 10% or less, 8% or less, 5% or less, 2% or less, 1% or less, 0.5% or less, particularly 0.1%, respectively. The following is preferred.
  • “Li 2 O + Na 2 O + K 2 O” refers to the total amount of Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O.
  • a fining agent 0 to 3% of one or more selected from the group of As 2 O 3 , Sb 2 O 3 , CeO 2 , SnO 2 , F, Cl, and SO 3 can be added.
  • SnO 2 , SO 3 , and Cl are preferable as the fining agent.
  • the SnO 2 content is preferably 0 to 1%, 0.01 to 0.5%, particularly preferably 0.05 to 0.4%.
  • SnO 2 + SO 3 + Cl The content of SnO 2 + SO 3 + Cl is preferably 0 to 1%, 0.001 to 1%, 0.01 to 0.5%, particularly preferably 0.01 to 0.3%.
  • SnO 2 + SO 3 + Cl refers to the total amount of SnO 2 , SO 3 , and Cl.
  • PbO is a component that lowers the high temperature viscosity, but it is preferable to refrain from using it as much as possible from an environmental point of view, and its content is preferably 0.5% or less, and is desirably not contained substantially.
  • substantially does not contain PbO refers to a case where the content of PbO in the glass composition is less than 1000 ppm (mass).
  • a suitable glass composition range can be obtained by combining suitable content ranges of the respective components.
  • the specific example of a suitable glass composition range is as follows. (1) As a glass composition, SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 is contained in an amount of 0.1 to 60% by mass, and a mass ratio (BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + TiO 2 + ZrO 2 ) / (SiO 2 + Al 2) O 3 + B 2 O 3 ) is 0.1 to 30, mass ratio (MgO + CaO + SrO + BaO) / (BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + TiO 2 + ZrO 2 ) is 0 to 5, mass ratio (TiO 2 + ZrO 2 ) / (BaO + La) 2 O 3 + Nb 2 O 5 ) is 0.01 to 30, the refractive index nd is 1.6 to 2.2, (2) As a glass composition, 5 to 55% by
  • the mass ratio (TiO 2 + ZrO 2 ) / (BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 ) is 0.05 to 2
  • the refractive index nd is 1.6 to 2.2
  • the mass ratio (BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + TiO 2 + ZrO 2 ) / (SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 ) is 0.1-3
  • the mass ratio (MgO + CaO + SrO + BaO) / (BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + TiO 2 + ZrO 2 ) is 0.3 to 1.
  • the mass ratio (TiO 2 + ZrO 2 ) / (BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 ) is 0.05 to 1
  • the refractive index nd is 1.6 to 2.2, (6) as a glass composition, in mass%, SiO 2 10 ⁇ 50% , SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 as well as containing 20-50%
  • the mass ratio (BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + TiO 2 + ZrO 2 ) / (SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 ) is 0.2 to 1.8
  • mass ratio (MgO + CaO + SrO + BaO) / (BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + TiO 2 + ZrO 2 ) is 0.5 to 1.2
  • the mass ratio (TiO 2 + ZrO 2 ) / (BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 ) is 0.05 to 0.8
  • the refractive index nd is 1.55 or more, preferably 1.58 or more, 1.6 or more, 1.63 or more, 1.65 or more, 1.67 or more, 1 .69 or more, 1.7 or more, particularly 1.71 or more. If the refractive index nd is less than 1.55, light cannot be extracted efficiently due to reflection at the ITO-glass interface. On the other hand, if the refractive index nd is higher than 2.3, the reflectance at the air-glass interface increases, and it becomes difficult to increase the light extraction efficiency even if the glass surface is roughened. Therefore, the refractive index nd is 2.3 or less, preferably 2.2 or less, 2.1 or less, 2.0 or less, 1.9 or less, particularly 1.75 or less.
  • the liquidus temperature is preferably 1200 ° C. or lower, 1150 ° C. or lower, 1130 ° C. or lower, 1110 ° C. or lower, 1090 ° C. or lower, 1070 ° C. or lower, particularly 1050 ° C. or lower.
  • the liquid phase viscosity is 10 3.0 dPa ⁇ s or more, 10 3.5 dPa ⁇ s or more, 10 4.0 dPa ⁇ s or more, 10 4.5 dPa ⁇ s or more, 10 4.8 dPa ⁇ s or more.
  • It is preferably 10 5.0 dPa ⁇ s or more, more preferably 10 5.2 dPa ⁇ s or more, and particularly preferably 10 5.3 dPa ⁇ s or more. If it does in this way, it will become difficult to devitrify glass at the time of shaping
  • the high refractive index glass of the first embodiment is preferably plate-shaped.
  • the thickness is 1.5 mm or less, 1.3 mm or less, 1.1 mm or less, 0.8 mm or less, 0.6 mm or less, 0.5 mm or less, 0.3 mm or less, 0.2 mm or less, particularly 0.1 mm or less. preferable.
  • the smaller the thickness the higher the flexibility and the easier it is to produce a lighting device with excellent design. However, when the thickness is extremely small, the glass tends to break. Therefore, the thickness is preferably 10 ⁇ m or more, particularly 30 ⁇ m or more.
  • the high refractive index glass of the first embodiment is plate-shaped, it is preferable that at least one surface is unpolished.
  • the theoretical strength of glass is inherently very high, but breakage often occurs even at a stress much lower than the theoretical strength. This is because a small defect called Griffith flow occurs on the glass surface in a post-molding process such as a polishing process. Therefore, if the glass surface is unpolished, the mechanical strength of the original glass is hardly impaired, and thus the glass is difficult to break. Further, if the glass surface is unpolished, the polishing step can be omitted, so that the manufacturing cost of the glass plate can be reduced.
  • the surface roughness Ra of at least one surface is preferably 10 mm or less, 5 mm or less, 3 mm or less, particularly 2 mm or less.
  • the surface roughness Ra is larger than 10 mm, the quality of ITO formed on the surface is lowered and it is difficult to obtain uniform light emission.
  • the high refractive index glass of the first embodiment is preferably formed by an overflow down draw method.
  • an overflow down draw method it is possible to produce a glass plate that is unpolished and has good surface quality.
  • the reason is that, in the case of the overflow down draw method, the surface to be the surface is not in contact with the bowl-shaped refractory and is molded in a free surface state.
  • the structure and material of the bowl-shaped structure are not particularly limited as long as desired dimensions and surface accuracy can be realized. Further, there is no particular limitation on the method for applying force to the molten glass in order to perform downward stretching.
  • a method of rotating and stretching a heat-resistant roll having a sufficiently large width in contact with the molten glass may be adopted, or a plurality of pairs of heat-resistant rolls may be used only in the vicinity of the end face of the molten glass. You may employ
  • a downdraw method (slot down method, redraw method, etc.), a float method, a rollout method, etc. can be employed.
  • the high refractive index glass of the first embodiment is preferably subjected to a roughening treatment on one surface by HF etching, sand blasting, or the like.
  • the surface roughness Ra of the roughened surface is preferably 10 mm or more, 20 mm or more, 30 mm or more, particularly 50 mm or more. If the roughened surface is in contact with the air such as organic EL lighting, the roughened surface has a non-reflective structure, so that the light generated in the organic light emitting layer is difficult to return to the organic light emitting layer. As a result, the light extraction efficiency can be increased. Moreover, you may give uneven
  • the surface roughening process is performed by an atmospheric pressure plasma process, the surface state of one surface can be maintained and the surface roughening process can be performed uniformly on the other surface.
  • a gas containing F for example, SF 6 , CF 4
  • plasma containing HF gas is generated, the efficiency of the roughening treatment is improved.
  • the density is 5.0 g / cm 3 or less, 4.8 g / cm 3 or less, 4.5 g / cm 3 or less, 4.3 g / cm 3 or less, 3.7 g / cm. It is preferably 3 or less, particularly 3.5 g / cm 3 or less. In this way, the device can be reduced in weight.
  • the “density” can be measured by a known Archimedes method.
  • the thermal expansion coefficient at 30 to 380 ° C. is 30 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C. to 100 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C., 40 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C. to 90 ⁇ 10 ⁇ 7 / C., 60 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C. to 85 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C., particularly 65 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C. to 80 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C. is preferable.
  • the strain point is preferably 630 ° C. or higher, 650 ° C. or higher, 670 ° C. or higher, 690 ° C. or higher, particularly 700 ° C. or higher. If it does in this way, it will become difficult to heat-shrink a glass plate by the high temperature heat processing in the manufacturing process of a device.
  • the temperature at 10 2 dPa ⁇ s is preferably 1400 ° C. or lower, 1380 ° C. or lower, 1360 ° C. or lower, 1330 ° C. or lower, particularly 1300 ° C. or lower. If it does in this way, since meltability will improve, the manufacturing efficiency of glass will improve.
  • temperature at 10 2 dPa ⁇ s refers to a value measured by a platinum ball pulling method.
  • glass raw materials are prepared so as to obtain a desired glass composition, and a glass batch is prepared.
  • the glass batch is melted and refined, and then formed into a desired shape. Thereafter, it is processed into a desired shape.
  • the high refractive index glass of the second embodiment has a glass composition of 10% by mass of SiO 2 10-60%, B 2 O 3 0-5%, BaO 0.1-60%, La 2 O 3 + Nb 2 O. 5 0.1 to 40%, Li 2 O + Na 2 O + K 2 O 0 to 10%, and the mass ratio (MgO + CaO) / (SrO + BaO) is 0 to 0.5.
  • the reason for limiting the content range of each component as described above will be described below.
  • % display represents the mass% except the case where there is particular notice.
  • the content of SiO 2 is 10 to 60%.
  • the content of SiO 2 decreases, it becomes difficult to form a glass network structure, and vitrification becomes difficult. Further, the viscosity of the glass is excessively lowered, and it becomes difficult to ensure a high liquid phase viscosity. Therefore, the content of SiO 2 is 10% or more, preferably 12% or more, 15% or more, 20% or more, 25% or more, 28% or more, 35% or more, particularly 40% or more.
  • the content of SiO 2 is 60% or less, preferably 55% or less, 53% or less, 50% or less, 49% or less, 48% or less, particularly 45% or less.
  • B 2 O 3 is 0 to 10%.
  • the content of B 2 O 3 is 10% or less, preferably 8% or less, 5% or less, 4% or less, 3% or less, less than 2%, particularly less than 1%, and substantially not contained It is desirable.
  • “substantially does not contain B 2 O 3 ” refers to the case where the content of B 2 O 3 in the glass composition is less than 1000 ppm (mass).
  • BaO is a component that increases the refractive index nd without drastically reducing the viscosity of glass among alkaline earth metal oxides, and its content is 0.1 to 60%.
  • the content of BaO increases, the refractive index nd, density, and thermal expansion coefficient tend to increase.
  • the content of BaO exceeds 60%, the balance of the glass composition is lacking and the devitrification resistance tends to be lowered. Therefore, the content of BaO is 60% or less, preferably 53% or less, 48% or less, 44% or less, 40% or less, 39% or less, 36% or less, particularly 33% or less.
  • the content of BaO is 0.1% or more, preferably 1% or more, 2% or more, 5% or more, 10% or more, 15% or more, 20% or more, 23% or more, particularly 25% or more. is there.
  • the content of La 2 O 3 + Nb 2 O 5 is 0.1 to 40%.
  • the content of La 2 O 3 + Nb 2 O 5 is 0.1% or more, preferably 1% or more, 5% or more, 8% or more, and 10% or more.
  • the content of La 2 O 3 + Nb 2 O 5 increases, the density and thermal expansion coefficient become too high. If the content exceeds 40%, the balance of the glass composition is lacking and the devitrification resistance is low. It becomes easy to fall, and also it becomes difficult to ensure a high liquid phase viscosity. Therefore, the content of La 2 O 3 + Nb 2 O 5 is 40% or less, preferably 35% or less, 30% or less, 25% or less, 20% or less, 18% or less, particularly 15% or less.
  • La 2 O 3 is a component that increases the refractive index nd.
  • the preferable content range of La 2 O 3 is 0 to 25%, 0 to 22%, 0.1 to 18%, 0.5 to 14%, 1 to 12%, particularly 2 to 10%.
  • Nb 2 O 5 is a component that increases the refractive index nd.
  • the preferable content range of Nb 2 O 5 is 0 to 25%, 0 to 22%, 0.1 to 18%, 0.5 to 14%, 1 to 12%, particularly 2 to 10%.
  • Li 2 O + Na 2 O + K 2 O is a component that lowers the viscosity of the glass and adjusts the coefficient of thermal expansion. However, when it is contained in a large amount, the viscosity of the glass is excessively lowered, resulting in a high liquidus viscosity. It becomes difficult to secure. Therefore, the content of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O is 10% or less, preferably 5% or less, 3% or less, 2% or less, 1% or less, 0.5% or less, especially 0.1% or less. is there.
  • the contents of Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O are each preferably 8% or less, 5% or less, 2% or less, 1% or less, 0.5% or less, and particularly preferably 0.1% or less.
  • the value of the mass ratio (MgO + CaO) / (SrO + BaO) is 0 to 0.5.
  • the value of the mass ratio (MgO + CaO) / (SrO + BaO) becomes small, it becomes difficult to secure a high liquidus temperature and the strain point tends to be lowered.
  • the value of the mass ratio (MgO + CaO) / (SrO + BaO) increases, the density increases. When the value exceeds 0.5, the balance of the glass composition is lost, and conversely, the devitrification resistance tends to decrease. Become.
  • the value of the mass ratio (MgO + CaO) / (SrO + BaO) is 0.5 or less, preferably 0.45 or less, 0.4 or less, 0.35 or less, 0.3 or less, 0.25 or less, 0. 05 to 0.22, especially 0.1 to 0.2.
  • MgO is a component that raises the refractive index nd, Young's modulus, and strain point and lowers the high-temperature viscosity.
  • the content of MgO is preferably 20% or less, 10% or less, 5% or less, 3% or less, and particularly preferably 1% or less.
  • the CaO content is preferably 0 to 15%.
  • the CaO content is preferably 15% or less, 13% or less, 11% or less, 9.5% or less, and particularly preferably 8% or less.
  • the CaO content is preferably 0.5% or more, 1% or more, 2% or more, 3% or more, and particularly preferably 5% or more.
  • the SrO content is preferably 0 to 25%.
  • the content of SrO is preferably 18% or less, 14% or less, 12% or less, 11% or less, 8% or less, 7% or less, particularly 6% or less.
  • the content of SrO is preferably 0.1% or more, 0.8% or more, 1.4% or more, 3% or more, particularly 4% or more.
  • TiO 2 is a component that increases the refractive index nd. When the content of TiO 2 increases, the devitrification resistance tends to decrease. Therefore, the preferred content range of TiO 2 is 0 to 25%, 0 to 22%, 0.1 to 18%, 1 to 14%, 2 to 12%, particularly 4 to 10%.
  • ZrO 2 is a component that increases the refractive index nd.
  • the preferable content range of ZrO 2 is 0 to 25%, 0 to 20%, 0.1 to 10%, 0.1 to 8%, 0.1 to 6%, particularly 0.1 to 5%. .
  • the content of Al 2 O 3 is preferably 0 to 20%.
  • the content of Al 2 O 3 is preferably 15% or less, 10% or less, 8% or less, and particularly preferably 6% or less.
  • the content of Al 2 O 3 is reduced, lacks component balance of the glass composition, the glass is liable to devitrify reversed. Therefore, the content of Al 2 O 3 is preferably 0.1% or more, 0.5% or more, and particularly preferably 1% or more.
  • a fining agent 0 to 3% of one or more selected from the group of As 2 O 3 , Sb 2 O 3 , CeO 2 , SnO 2 , F, Cl, and SO 3 can be added.
  • SnO 2 , SO 3 , and Cl are preferable as the fining agent.
  • the SnO 2 content is preferably 0 to 1%, 0.01 to 0.5%, particularly preferably 0.05 to 0.4%.
  • SnO 2 + SO 3 + Cl The content of SnO 2 + SO 3 + Cl is preferably 0 to 1%, 0.001 to 1%, 0.01 to 0.5%, particularly preferably 0.01 to 0.3%.
  • SnO 2 + SO 3 + Cl refers to the total amount of SnO 2 , SO 3 , and Cl.
  • PbO is a component that lowers the high temperature viscosity, but it is preferable to refrain from using it as much as possible from an environmental point of view, and its content is preferably 0.5% or less, and is desirably not contained substantially.
  • substantially does not contain PbO refers to a case where the content of PbO in the glass composition is less than 1000 ppm (mass).
  • a suitable glass composition range can be obtained by combining suitable content ranges of the respective components.
  • the specific example of a suitable glass composition range is as follows. (1) As a glass composition, SiO 2 20-60%, B 2 O 3 0-5%, BaO 10-40%, La 2 O 3 0.1-25%, Nb 2 O 5 0.
  • the refractive index nd is 1.55 or more, preferably 1.58 or more, 1.60 or more, 1.63 or more, 1.65 or more, 1.67 or more, 1 .69 or more, 1.70 or more, particularly 1.71 or more. If the refractive index nd is less than 1.55, light cannot be extracted efficiently due to reflection at the ITO-glass interface. On the other hand, if the refractive index nd is higher than 2.3, the reflectance at the air-glass interface increases, and it becomes difficult to increase the light extraction efficiency even if the glass surface is roughened. Therefore, the refractive index nd is 2.3 or less, preferably 2.2 or less, 2.1 or less, 2.0 or less, 1.9 or less, particularly 1.75 or less.
  • the strain point is preferably 630 ° C. or higher, 650 ° C. or higher, 670 ° C. or higher, 690 ° C. or higher, particularly 700 ° C. or higher.
  • a high temperature of 600 ° C. or higher is required to form a film with high transparency and low electrical resistance.
  • the conventional high refractive index glass has insufficient heat resistance, and it has been difficult to achieve both transparency and low electrical resistance. Therefore, if the strain point is in the above range, in a dye-sensitized solar cell or the like, both transparency and low electrical resistance can be achieved, and the glass is less likely to thermally shrink due to heat treatment in the device manufacturing process.
  • the liquidus temperature is preferably 1200 ° C. or lower, 1150 ° C. or lower, 1130 ° C. or lower, 1110 ° C. or lower, 1090 ° C. or lower, 1070 ° C. or lower, 1050 ° C. or lower, particularly 1010 ° C. or lower.
  • the liquid phase viscosity is 10 3.5 dPa ⁇ s or more, 10 3.8 dPa ⁇ s or more, 10 4.2 dPa ⁇ s or more, 10 4.4 dPa ⁇ s or more, 10 4.6 dPa ⁇ s or more.
  • It is preferably 10 5.0 dPa ⁇ s or more, particularly preferably 10 5.2 dPa ⁇ s or more. If it does in this way, it will become difficult to devitrify glass at the time of shaping
  • the density is 5.0 g / cm 3 or less, 4.8 g / cm 3 or less, 4.5 g / cm 3 or less, 4.3 g / cm 3 or less, 3.7 g / cm. 3 or less, 3.5 g / cm 3 or less, 3.4 g / cm 3 or less, 3.3 g / cm 3 or less, and particularly preferably 3.2 g / cm 3 or less.
  • the device can be reduced in weight.
  • the high refractive index glass of the second embodiment is preferably plate-shaped.
  • the thickness is 1.5 mm or less, 1.3 mm or less, 1.1 mm or less, 0.8 mm or less, 0.6 mm or less, 0.5 mm or less, 0.3 mm or less, 0.2 mm or less, particularly 0.1 mm or less. preferable.
  • the smaller the thickness the higher the flexibility and the easier it is to produce a lighting device with excellent design. However, when the thickness is extremely small, the glass tends to break. Therefore, the thickness is preferably 10 ⁇ m or more, particularly 30 ⁇ m or more.
  • the high refractive index glass of the second embodiment is plate-shaped, it is preferable that at least one surface is unpolished.
  • the theoretical strength of glass is inherently very high, but breakage often occurs even at a stress much lower than the theoretical strength. This is because a small defect called Griffith flow occurs on the glass surface in a post-molding process such as a polishing process. Therefore, if the glass surface is unpolished, the mechanical strength of the original glass is hardly impaired, and thus the glass is difficult to break. Further, if the glass surface is unpolished, the polishing step can be omitted, so that the manufacturing cost of the glass plate can be reduced.
  • the surface roughness Ra of at least one surface is preferably 10 mm or less, 5 mm or less, 3 mm or less, particularly 2 mm or less.
  • the surface roughness Ra is larger than 10 mm, the quality of ITO formed on the surface is lowered and it is difficult to obtain uniform light emission.
  • the high refractive index glass of the second embodiment is preferably formed by an overflow downdraw method.
  • an overflow downdraw method it is possible to produce a glass plate that is unpolished and has good surface quality.
  • the reason is that, in the case of the overflow down draw method, the surface to be the surface is not in contact with the bowl-shaped refractory and is molded in a free surface state.
  • the structure and material of the bowl-shaped structure are not particularly limited as long as desired dimensions and surface accuracy can be realized. Further, there is no particular limitation on the method for applying force to the molten glass in order to perform downward stretching.
  • a method of rotating and stretching a heat-resistant roll having a sufficiently large width in contact with the molten glass may be adopted, or a plurality of pairs of heat-resistant rolls may be used only in the vicinity of the end face of the molten glass. You may employ
  • a downdraw method (slot down method, redraw method, etc.), a float method, a rollout method, etc. can be employed.
  • the high refractive index glass of the second embodiment is preferably subjected to a roughening treatment on one surface by HF etching, sandblasting, or the like.
  • the surface roughness Ra of the roughened surface is preferably 10 mm or more, 20 mm or more, 30 mm or more, particularly 50 mm or more. If the roughened surface is in contact with the air such as organic EL lighting, the roughened surface has a non-reflective structure, so that the light generated in the organic light emitting layer is difficult to return to the organic light emitting layer. As a result, the light extraction efficiency can be increased. Moreover, you may give uneven
  • the surface roughening process is performed by an atmospheric pressure plasma process, the surface state of one surface can be maintained and the surface roughening process can be performed uniformly on the other surface.
  • a gas containing F for example, SF 6 , CF 4
  • plasma containing HF gas is generated, the efficiency of the roughening treatment is improved.
  • the thermal expansion coefficient at 30 to 380 ° C. is 45 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C. to 110 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C., 50 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C. to 100 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C, 60 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C. to 95 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C., 65 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C. to 90 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C., 65 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C. to 85 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C.
  • it is preferably 70 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C.
  • the temperature at 10 2.5 dPa ⁇ s is preferably 1450 ° C. or lower, 1400 ° C. or lower, 1370 ° C. or lower, 1330 ° C. or lower, 1290 ° C. or lower, particularly 1270 ° C. or lower. If it does in this way, since meltability will improve, the manufacturing efficiency of glass will improve.
  • glass raw materials are prepared so as to obtain a desired glass composition, and a glass batch is prepared.
  • the glass batch is melted and refined, and then formed into a desired shape. Thereafter, it is processed into a desired shape.
  • the high refractive index glass of the third embodiment has a glass composition of mol%, SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 20 to 70%, SiO 2 20 to 70%, B 2 O 3 0 to 30%, MgO + CaO + SrO + BaO 0-50%, BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + ZrO 2 + TiO 2 0-30%, molar ratio B 2 O 3 / SiO 2 is 0 to 1, molar ratio SiO 2 / (MgO + CaO + SrO + BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 ) is 0.1 to 6, and the molar ratio (MgO + CaO + SrO + BaO) / (MgO + CaO + SrO + BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + Gd 2 O 3 ) is 0.1 to 0.99.
  • the reason for limiting the content range of each component as described above will be described below. In addition, in description of the following content ranges,
  • the content of SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 is 20 to 70%.
  • the content of SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 decreases, vitrification becomes difficult, it becomes difficult to ensure a high liquid phase viscosity, and the density tends to increase. Therefore, the content of SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 is 20% or more, preferably 30% or more, 40% or more, 50% or more, 55% or more, particularly 60% or more.
  • the content of SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 increases, it is difficult to increase the refractive index nd. Therefore, the content of SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 is 70% or less, preferably 68% or less, particularly preferably 66% or less.
  • the content of SiO 2 is 20 to 70%.
  • the content of SiO 2 decreases, it becomes difficult to form a glass network structure, and vitrification becomes difficult. Further, the viscosity of the glass is excessively lowered, and it becomes difficult to ensure a high liquid phase viscosity. Furthermore, the density tends to increase. Therefore, the content of SiO 2 is 20% or more, preferably 30% or more, 40% or more, 50% or more, particularly 60% or more.
  • the content of SiO 2 is 70% or less, preferably 68% or less, 65% or less, and particularly 63% or less.
  • the content of Al 2 O 3 is preferably 0 to 10%.
  • the content of Al 2 O 3 is preferably 10% or less, 8% or less, 6% or less, and particularly preferably 5% or less.
  • the content of Al 2 O 3 is reduced, lacks the balance of the glass composition, the glass is liable to devitrify reversed. Therefore, the content of Al 2 O 3 is preferably 0.1% or more, 0.5% or more, and particularly preferably 1% or more.
  • the content of B 2 O 3 is 0 to 30%.
  • the content of B 2 O 3 increases, the refractive index nd and Young's modulus are likely to decrease, and phase separation occurs, which may cause a rapid decrease in devitrification resistance. Therefore, the content of B 2 O 3 is 30% or less, preferably 15% or less, 10% or less, 8% or less, 5% or less, 4% or less, less than 2%, less than 1%, less than 1%, 0.5% or less, particularly 0.1% or less.
  • the content of MgO + CaO + SrO + BaO is 0 to 50%.
  • the content of MgO + CaO + SrO + BaO increases, the coefficient of thermal expansion and density become too high, the component balance of the glass composition is lacking, devitrification resistance tends to decrease, and high liquid phase viscosity is difficult to ensure. Therefore, the content of MgO + CaO + SrO + BaO is 50% or less, preferably 45% or less, 40% or less, 35% or less, 33% or less, particularly 30% or less. Note that when the content of MgO + CaO + SrO + BaO decreases, it becomes difficult to increase the refractive index nd. Therefore, the content of MgO + CaO + SrO + BaO is preferably 1% or more, 5% or more, 10% or more, 15% or more, 20% or more, 22% or more, particularly 25% or more.
  • MgO is a component that raises the refractive index nd, Young's modulus, and strain point and lowers the high-temperature viscosity.
  • the MgO content is preferably 10% or less, 5% or less, 3% or less, 2% or less, 1.5% or less, 1% or less, and particularly preferably 0.5% or less.
  • the CaO content is preferably 0-30%.
  • the CaO content is preferably 30% or less, 20% or less, 15% or less, 13% or less, 11% or less, and particularly preferably 10% or less.
  • the CaO content is preferably 2% or more, 4% or more, 6% or more, and particularly preferably 8% or more.
  • the SrO content is preferably 0 to 20%.
  • the content of SrO increases, the refractive index nd, density, and thermal expansion coefficient tend to increase.
  • the content exceeds 20% the balance of the glass composition is lost and the devitrification resistance tends to decrease. Therefore, the content of SrO is preferably 20% or less, 15% or less, 12% or less, 8% or less, and particularly preferably 6% or less. Note that when the content of SrO decreases, the meltability tends to decrease, and the refractive index nd tends to decrease. Therefore, the content of SrO is preferably 0.5% or more, 1% or more, 2% or more, 3% or more, particularly 3.5% or more.
  • BaO is a component that raises the refractive index nd without drastically reducing the viscosity of glass among alkaline earth metal oxides, and its content is preferably 0 to 40%.
  • the content of BaO increases, the refractive index nd, density, and thermal expansion coefficient tend to increase.
  • the content of BaO exceeds 40%, the balance of the glass composition is lacking, and the devitrification resistance tends to decrease. Therefore, the BaO content is preferably 40% or less, 30% or less, 25% or less, and particularly preferably 20% or less.
  • the BaO content is preferably 0.5% or more, 1% or more, 2% or more, 5% or more, and particularly preferably 10% or more.
  • the refractive index nd can be increased while maintaining a high liquid phase viscosity, and the content is 0 to 30%. It is.
  • the content of BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + ZrO 2 + TiO 2 is more than 30%, the glass composition tends to be devitrified due to lack of the component balance of the glass composition, so that the liquid phase viscosity tends to decrease. Also, the density and thermal expansion coefficient become too high.
  • the content of BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + ZrO 2 + TiO 2 is 30% or less, preferably 28% or less, 25% or less, or 22% or less.
  • the content of BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + ZrO 2 + TiO 2 decreases, the refractive index nd tends to decrease. Therefore, the content of BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + ZrO 2 + TiO 2 is preferably 5% or more, 10% or more, 15% or more, 18% or more, and particularly preferably 20% or more.
  • La 2 O 3 is a component that increases the refractive index nd.
  • the preferable content range of La 2 O 3 is 0 to 25%, 0 to 15%, 0.1 to 10%, 0.1 to 7%, 0.1 to 5%, particularly 0.5 to 3%. It is.
  • Nb 2 O 5 is a component that increases the refractive index nd.
  • the preferable content range of Nb 2 O 5 is 0 to 20%, 0 to 12%, 0 to 8%, 0 to 4%, particularly 0.1 to 3%.
  • TiO 2 is a component that increases the refractive index nd.
  • the preferable content range of TiO 2 is 0 to 20%, 0.1 to 18%, 0.5 to 15%, 1 to 12%, 2 to 10%, particularly 3 to 8%.
  • ZrO 2 is a component that increases the refractive index nd.
  • the preferable content range of ZrO 2 is 0 to 20%, 0 to 15%, 0.1 to 12%, 0.1 to 10%, 0.1 to 8%, particularly 0.5 to 5%. .
  • the molar ratio B 2 O 3 / SiO 2 is 0-1.
  • the molar ratio B 2 O 3 / SiO 2 is 0 to 1, preferably 0 to 0.8, 0 to 0.6, 0 to 0.5, 0 to 0.4, 0 to 0.2, 0 to 0.1, especially 0 to 0.05.
  • the molar ratio SiO 2 / (MgO + CaO + SrO + BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 ) is appropriately regulated, it is easy to achieve a high refractive index while maintaining devitrification resistance and high liquid phase viscosity.
  • the molar ratio SiO 2 / (MgO + CaO + SrO + BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 ) increases, the density tends to decrease and the liquid phase viscosity tends to increase, but the refractive index nd tends to decrease.
  • the molar ratio SiO 2 / (MgO + CaO + SrO + BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 ) is 6 or less, preferably 5 or less, 4 or less, 3.5 or less, 3 or less, 2.5 or less, particularly 2.3 or less. is there.
  • the molar ratio SiO 2 / (MgO + CaO + SrO + BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 ) is small, it may be difficult to secure a desired refractive index nd and the thermal expansion coefficient may be too high.
  • the molar ratio SiO 2 / (MgO + CaO + SrO + BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 ) is 0.1 or more, preferably 0.5 or more, 1 or more, 1.2 or more, 1.3 or more, 1.5 or more, In particular, it is 1.8 or more.
  • the molar ratio (MgO + CaO + SrO + BaO) / (MgO + CaO + SrO + BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + Gd 2 O 3 ) is appropriately regulated, a high refractive index can be easily achieved while maintaining devitrification resistance and a high liquid phase viscosity.
  • the molar ratio (MgO + CaO + SrO + BaO) / (MgO + CaO + SrO + BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + Gd 2 O 3 ) is larger than 0.99, it is difficult to achieve a high refractive index and it is difficult to ensure a high liquid phase viscosity.
  • the molar ratio (MgO + CaO + SrO + BaO) / (MgO + CaO + SrO + BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + Gd 2 O 3 ) is 0.99 or less, preferably 0.98 or less, 0.97 or less, particularly 0.96 or less.
  • the molar ratio (MgO + CaO + SrO + BaO) / (MgO + CaO + SrO + BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + Gd 2 O 3 ) is less than 0.1, the glass composition lacks the component balance, and conversely, the devitrification resistance tends to decrease. .
  • the molar ratio (MgO + CaO + SrO + BaO) / (MgO + CaO + SrO + BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + Gd 2 O 3 ) is 0.1 or more, preferably 0.3 or more, 0.5 or more, 0.6 or more, 0.7 Above, 0.8 or more, 0.84 or more, 0.9 or more, 0.92 or more, especially 0.95 or more.
  • Gd 2 O 3 is a component that increases the refractive index nd.
  • the preferable content range of Gd 2 O 3 is 0 to 10%, 0 to 8%, 0.1 to 5%, 0.1 to 4%, 0.2 to 3%, particularly 0.3 to 2%. It is.
  • Li 2 O + Na 2 O + K 2 O is a component that lowers the viscosity of the glass and adjusts the coefficient of thermal expansion. However, when it is contained in a large amount, the viscosity of the glass is excessively lowered, resulting in a high liquidus viscosity. It becomes difficult to secure. Therefore, the content of Li 2 O + Na 2 O + K 2 O is preferably 15% or less, 10% or less, 5% or less, 2% or less, 1% or less, 0.5% or less, and particularly preferably 0.1% or less. The contents of Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O are 10% or less, 8% or less, 5% or less, 2% or less, 1% or less, 0.5% or less, particularly 0.1%, respectively. The following is preferred.
  • “Li 2 O + Na 2 O + K 2 O” refers to the total amount of Li 2 O, Na 2 O, and K 2 O.
  • a fining agent 0 to 3% of one or more selected from the group of As 2 O 3 , Sb 2 O 3 , CeO 2 , SnO 2 , F, Cl, and SO 3 can be added.
  • SnO 2 , SO 3 , and Cl are preferable as the fining agent.
  • the SnO 2 content is preferably 0 to 1%, 0.01 to 0.5%, particularly preferably 0.05 to 0.4%.
  • SnO 2 + SO 3 + Cl The content of SnO 2 + SO 3 + Cl is preferably 0 to 1%, 0.001 to 1%, 0.01 to 0.5%, particularly preferably 0.01 to 0.3%.
  • SnO 2 + SO 3 + Cl refers to the total amount of SnO 2 , SO 3 , and Cl.
  • PbO is a component that lowers the high temperature viscosity, but it is preferable to refrain from using it as much as possible from an environmental point of view, and its content is preferably 0.5% or less, and is desirably not contained substantially.
  • substantially does not contain PbO refers to a case where the content of PbO in the glass composition is less than 1000 ppm (mass).
  • a suitable glass composition range can be obtained by combining suitable content ranges of the respective components.
  • the specific example of a suitable glass composition range is as follows. (1) As a glass composition, in mol%, SiO 2 + Al 2 O 3 + B 2 O 3 50 to 70%, SiO 2 50 to 70%, B 2 O 3 0 to 10%, MgO + CaO + SrO + BaO 20 to 35%, BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + ZrO 2 + TiO 2 15 to 25%, molar ratio B 2 O 3 / SiO 2 is 0 to 1, molar ratio SiO 2 / (MgO + CaO + SrO + BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 ) is 1 to 2.5, the molar ratio (MgO + CaO + SrO + BaO) / (MgO + CaO + SrO + BaO + La 2 O 3 + Nb 2 O 5 + Gd 2 O 3 )
  • the refractive index nd is 1.55 or more, preferably 1.58 or more, 1.6 or more, 1.63 or more, 1.65 or more, 1.67 or more, 1 .69 or more, 1.7 or more, particularly 1.71 or more. If the refractive index nd is less than 1.55, light cannot be extracted efficiently due to reflection at the ITO-glass interface. On the other hand, if the refractive index nd is higher than 2.3, the reflectance at the air-glass interface increases, and it becomes difficult to increase the light extraction efficiency even if the glass surface is roughened. Therefore, the refractive index nd is 2.3 or less, preferably 2.2 or less, 2.1 or less, 2.0 or less, 1.9 or less, particularly 1.75 or less.
  • the liquidus temperature is preferably 1200 ° C. or lower, 1150 ° C. or lower, 1130 ° C. or lower, 1110 ° C. or lower, 1090 ° C. or lower, particularly 1070 ° C. or lower.
  • the liquid phase viscosity is 10 3.0 dPa ⁇ s or more, 10 3.5 dPa ⁇ s or more, 10 4.0 dPa ⁇ s or more, 10 4.5 dPa ⁇ s or more, 10 4.8 dPa ⁇ s or more.
  • It is preferably 10 5.1 dPa ⁇ s or more, more preferably 10 5.3 dPa ⁇ s or more, and particularly preferably 10 5.5 dPa ⁇ s or more. If it does in this way, it will become difficult to devitrify glass at the time of shaping
  • the density is 5.0 g / cm 3 or less, 4.8 g / cm 3 or less, 4.5 g / cm 3 or less, 4.3 g / cm 3 or less, 3.7 g / cm. 3 or less, 3.6 g / cm 3 or less, 3.4 g / cm 3 or less, and particularly preferably 3.3 g / cm 3 or less.
  • the “density” can be measured by a known Archimedes method.
  • the thermal expansion coefficient at 30 to 380 ° C. is 50 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C. to 100 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C., 60 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C. to 95 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C, 65 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C. to 90 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C., 65 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C. to 85 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C., especially 70 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C. to 80 ⁇ 10 ⁇ 7 / ° C. Is preferred.
  • the strain point is preferably 630 ° C. or higher, 650 ° C. or higher, 670 ° C. or higher, 690 ° C. or higher, particularly 700 ° C. or higher. If it does in this way, it will become difficult to heat-shrink a glass plate by the high temperature heat processing in the manufacturing process of a device.
  • the temperature at 10 2.5 dPa ⁇ s is preferably 1400 ° C. or lower, 1350 ° C. or lower, 1300 ° C. or lower, particularly 1250 ° C. or lower. If it does in this way, since meltability will improve, the manufacturing efficiency of glass will improve.
  • the high refractive index glass of the third embodiment has a plate shape (including a film shape).
  • the thickness is 1.5 mm or less, 1.3 mm or less, 1.1 mm or less, 0.8 mm or less, 0.6 mm or less, 0.5 mm or less, 0.3 mm or less, 0.2 mm or less, particularly 0.1 mm or less. preferable.
  • the smaller the thickness the higher the flexibility and the easier it is to produce a lighting device with excellent design. However, when the thickness is extremely small, the glass tends to break. Therefore, the thickness is preferably 10 ⁇ m or more, particularly 30 ⁇ m or more.
  • the high refractive index glass of the third embodiment is plate-like (including film-like), at least one surface is preferably unpolished.
  • the theoretical strength of glass is inherently very high, but breakage often occurs even at a stress much lower than the theoretical strength. This is because a small defect called Griffith flow occurs on the glass surface in a post-molding process such as a polishing process. Therefore, if the glass surface is unpolished, the mechanical strength of the original glass is hardly impaired, and thus the glass is difficult to break. Further, if the glass surface is unpolished, the polishing step can be omitted, so that the manufacturing cost of the glass plate can be reduced.
  • the surface roughness Ra of at least one surface is preferably 10 mm or less, 5 mm or less, 3 mm or less, particularly 2 mm or less.
  • the surface roughness Ra is larger than 10 mm, the quality of ITO formed on the surface is lowered and it is difficult to obtain uniform light emission.
  • the high refractive index glass of the third embodiment is preferably formed by an overflow down draw method.
  • an overflow down draw method it is possible to produce a glass plate that is unpolished and has good surface quality.
  • the reason is that, in the case of the overflow down draw method, the surface to be the surface is not in contact with the bowl-shaped refractory and is molded in a free surface state.
  • the structure and material of the bowl-shaped structure are not particularly limited as long as desired dimensions and surface accuracy can be realized. Further, there is no particular limitation on the method for applying force to the molten glass in order to perform downward stretching.
  • a method of rotating and stretching a heat-resistant roll having a sufficiently large width in contact with the molten glass may be adopted, or a plurality of pairs of heat-resistant rolls may be used only in the vicinity of the end face of the molten glass. You may employ
  • a downdraw method (slot down method, redraw method, etc.), a float method, a rollout method, etc. can be employed.
  • the high refractive index glass of the third embodiment is preferably subjected to a roughening treatment on one surface by HF etching, sandblasting, or the like.
  • the surface roughness Ra of the roughened surface is preferably 10 mm or more, 20 mm or more, 30 mm or more, particularly 50 mm or more. If the roughened surface is in contact with the air such as organic EL lighting, the roughened surface has a non-reflective structure, so that the light generated in the organic light emitting layer is difficult to return to the organic light emitting layer. As a result, the light extraction efficiency can be increased. Moreover, you may give uneven
  • the surface roughening process is performed by an atmospheric pressure plasma process, the surface state of one surface can be maintained and the surface roughening process can be performed uniformly on the other surface.
  • a gas containing F for example, SF 6 , CF 4
  • plasma containing HF gas is generated, the efficiency of the roughening treatment is improved.
  • glass raw materials are prepared so as to obtain a desired glass composition, and a glass batch is prepared.
  • the glass batch is melted and refined, and then formed into a desired shape. Thereafter, it is processed into a desired shape.
  • Tables 1 to 4 show examples of the first invention (sample Nos. 1 to 17). These examples also serve as examples of the second invention and the third invention.
  • the obtained glass batch was supplied to a glass melting furnace and melted at 1500 to 1600 ° C. for 4 hours.
  • a predetermined annealing treatment was performed.
  • various characteristics of the obtained glass plate were evaluated.
  • the density is a value measured by the well-known Archimedes method.
  • the thermal expansion coefficient is a value obtained by measuring an average thermal expansion coefficient at 30 to 380 ° C. using a dilatometer.
  • a cylindrical sample having a diameter of 5 mm ⁇ 20 mm (the end surface is R-processed) was used.
  • the strain point Ps is a value measured based on the method described in ASTM C336-71. In addition, heat resistance becomes high, so that the strain point Ps is high.
  • the annealing point Ta and the softening point Ts are values measured based on the method described in ASTM C338-93.
  • the temperatures at high temperature viscosities of 10 4.0 dPa ⁇ s, 10 3.0 dPa ⁇ s, 10 2.5 dPa ⁇ s, and 10 2.0 dPa ⁇ s are values measured by the platinum ball pulling method. In addition, it is excellent in meltability, so that these temperatures are low.
  • the liquid phase temperature TL passes through a standard sieve 30 mesh (500 ⁇ m), and the glass powder remaining in 50 mesh (300 ⁇ m) is placed in a platinum boat and held in a temperature gradient furnace for 24 hours to measure the temperature at which crystals precipitate. It is the value. Further, the liquidus viscosity log 10 ⁇ TL indicates a value obtained by measuring the viscosity of glass at the liquidus temperature by a platinum ball pulling method. The higher the liquidus viscosity and the lower the liquidus temperature, the better the devitrification resistance and moldability.
  • Refractive index nd is annealed at a cooling rate so that the temperature range from (Ta + 30 ° C.) to (strain point ⁇ 50 ° C.) is 0.1 ° C./min after preparing a rectangular solid sample of 25 mm ⁇ 25 mm ⁇ about 3 mm. This is a value measured using a refractive index measuring device KPR-200 manufactured by Carnew Co., Ltd. while an immersion liquid having a refractive index matching is subsequently infiltrated between the glasses. *
  • Tables 5 and 6 show examples of the fourth invention (sample Nos. 18 to 31). These examples also serve as examples of the fifth invention and the sixth invention.
  • the obtained glass batch was supplied to a glass melting furnace and melted at 1500 to 1600 ° C. for 4 hours.
  • a predetermined annealing treatment was performed.
  • various characteristics of the obtained glass plate were evaluated.
  • the density is a value measured by the well-known Archimedes method.
  • the thermal expansion coefficient is a value obtained by measuring an average thermal expansion coefficient at 30 to 380 ° C. using a dilatometer.
  • a cylindrical sample having a diameter of 5 mm ⁇ 20 mm (the end surface is R-processed) was used.
  • the strain point Ps is a value measured based on the method described in ASTM C336-71. In addition, heat resistance becomes high, so that the strain point Ps is high.
  • the annealing point Ta and the softening point Ts are values measured based on the method described in ASTM C338-93.
  • the temperatures at high temperature viscosities of 10 4.0 dPa ⁇ s, 10 3.0 dPa ⁇ s, 10 2.5 dPa ⁇ s, and 10 2.0 dPa ⁇ s are values measured by the platinum ball pulling method. In addition, it is excellent in meltability, so that these temperatures are low.
  • the liquid phase temperature TL passes through a standard sieve 30 mesh (500 ⁇ m), and the glass powder remaining in 50 mesh (300 ⁇ m) is placed in a platinum boat and held in a temperature gradient furnace for 24 hours to measure the temperature at which crystals precipitate. It is the value. Further, the liquidus viscosity log 10 ⁇ TL indicates a value obtained by measuring the viscosity of glass at the liquidus temperature by a platinum ball pulling method. The higher the liquidus viscosity and the lower the liquidus temperature, the better the devitrification resistance and moldability.
  • the refractive index nd is first prepared as a rectangular solid sample of 25 mm ⁇ 25 mm ⁇ about 3 mm, and then at a cooling rate such that the temperature range from (Ta + 30 ° C.) to (strain point ⁇ 50 ° C.) is 0.1 ° C./min. This is a value measured using a refractive index measuring instrument KPR-200 manufactured by Carnew Co., Ltd. while an immersion liquid in which the refractive index is matched is infiltrated between the glasses after annealing.
  • Tables 7 to 10 show examples of the seventh invention (sample Nos. 32 to 50). These examples also serve as examples of the eighth invention and the ninth invention.
  • the obtained glass batch was supplied to a glass melting furnace and melted at 1500 to 1600 ° C. for 4 hours.
  • a predetermined annealing treatment was performed.
  • various characteristics of the obtained glass plate were evaluated.
  • the density is a value measured by the well-known Archimedes method.
  • the thermal expansion coefficient is a value obtained by measuring an average thermal expansion coefficient at 30 to 380 ° C. using a dilatometer.
  • a cylindrical sample having a diameter of 5 mm ⁇ 20 mm (the end surface is R-processed) was used.
  • the strain point Ps is a value measured based on the method described in ASTM C336-71. In addition, heat resistance becomes high, so that the strain point Ps is high.
  • the annealing point Ta and the softening point Ts are values measured based on the method described in ASTM C338-93.
  • the temperatures at high temperature viscosities of 10 4.0 dPa ⁇ s, 10 3.0 dPa ⁇ s, 10 2.5 dPa ⁇ s, and 10 2.0 dPa ⁇ s are values measured by the platinum ball pulling method. In addition, it is excellent in meltability, so that these temperatures are low.
  • the liquid phase temperature TL passes through a standard sieve 30 mesh (500 ⁇ m), and the glass powder remaining in 50 mesh (300 ⁇ m) is placed in a platinum boat and held in a temperature gradient furnace for 24 hours to measure the temperature at which crystals precipitate. It is the value. Further, the liquidus viscosity log 10 ⁇ TL indicates a value obtained by measuring the viscosity of glass at the liquidus temperature by a platinum ball pulling method. The higher the liquidus viscosity and the lower the liquidus temperature, the better the devitrification resistance and moldability.
  • Refractive index nd is annealed at a cooling rate so that the temperature range from (Ta + 30 ° C.) to (strain point ⁇ 50 ° C.) is 0.1 ° C./min after preparing a rectangular solid sample of 25 mm ⁇ 25 mm ⁇ about 3 mm. This is a value measured using a refractive index measuring device KPR-200 manufactured by Carnew Co., Ltd. while an immersion liquid having a refractive index matching is subsequently infiltrated between the glasses. *
  • Sample No. 32, 33, 35, 36, 38, 40, 42, 44, 45, 47, 49, and 50 after preparing the glass raw materials so as to have the glass composition, the obtained glass batch is put into a continuous kiln. It was charged and melted at a temperature of 1500 to 1600 ° C. Subsequently, the obtained molten glass was molded by an overflow down draw method to obtain a glass plate having a thickness of 0.5 mm. When the average surface roughness (Ra) was measured with respect to the obtained glass plate, the value was 2 mm. In addition, average surface roughness (Ra) is the value measured by the method based on JISB0601: 2001.

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Abstract

　高屈折率ガラスであって、ガラス組成として、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３を０．１～６０質量％含有し、質量比（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３）が０．１～５０、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）が０～１０、質量比（ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５）が０．００１～４０、屈折率ｎｄが１．５５～２．３であることを特徴とする。

Description

高屈折率ガラス
　本発明は、高屈折率ガラスに関し、例えば有機ＥＬデバイス、特に有機ＥＬ照明に好適な高屈折率ガラスに関する。
　近年、有機ＥＬ発光素子を用いたディスプレイ、照明が益々注目されている。これらの有機ＥＬデバイスは、ＩＴＯ等の透明導電膜が形成された基板により、有機発光素子が挟み込まれた構造を有する。この構造において、有機発光素子に電流が流れると、有機発光素子中の正孔と電子が会合して発光する。発光した光は、ＩＴＯ等の透明導電膜を介して基板中に進入し、基板内で反射を繰り返しながら外部に放出される。
　ところで、有機発光素子の屈折率ｎｄは１．８～１．９であり、ＩＴＯの屈折率ｎｄは１．９～２．０である。これに対して、基板の屈折率ｎｄは、通常、１．５程度である。このため、従来の有機ＥＬデバイスは、基板－ＩＴＯ界面の屈折率差に起因して反射率が高いため、有機発光素子から発生した光を効率良く取り出せないという問題があった。
　そこで、本発明は、有機発光素子やＩＴＯの屈折率に整合し得る高屈折率ガラスを提供することを技術的課題とする。
　本発明者等は、鋭意検討を行った結果、ガラス組成範囲とガラス特性を所定範囲に規制することにより、上記技術的課題を解決し得ることを見出し、第一の発明として、提案するものである。すなわち、第一の発明の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３を０．１～６０質量％含有し、質量比（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３）が０．１～５０、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）が０～１０、質量比（ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５）が０．００１～４０、屈折率ｎｄが１．５５～２．３であることを特徴とする。このようにすれば、有機発光素子やＩＴＯの屈折率に整合させ易くなり、更には耐失透性を高め易くなる。
　ここで、「屈折率ｎｄ」は、屈折率測定器で測定可能であり、例えば２５ｍｍ×２５ｍｍ×約３ｍｍの直方体試料を作製した後、（徐冷点Ｔａ＋３０℃）から（歪点－５０℃）までの温度域を０．１℃／ｍｉｎになるような冷却速度でアニール処理し、続いて屈折率が整合する浸液をガラス間に浸透させながら、カルニュー社製の屈折率測定器ＫＰＲ－２００を用いることにより測定可能である。「徐冷点Ｔａ」は、ＡＳＴＭ　Ｃ３３８－９３に記載の方法に基づいて測定した値を指す。また、「ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３」は、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、及びＢ２Ｏ３の合量を指す。「ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２」は、ＢａＯ、Ｌａ２Ｏ３、Ｎｂ２Ｏ５、ＴｉＯ２、及びＺｒＯ２の合量を指す。「ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ」は、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、及びＢａＯの合量を指す。「ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２」は、ＴｉＯ２とＺｒＯ２の合量を指す。「ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５」は、ＢａＯ、Ｌａ２Ｏ３、及びＮｂ２Ｏ５の合量を指す。
　第二に、第一の発明の高屈折率ガラスは、液相粘度が１０３．０ｄＰａ・ｓ以上であることが好ましい。ここで、「液相粘度」は、液相温度におけるガラスの粘度を白金球引き上げ法で測定した値を指す。「液相温度」は、標準篩３０メッシュ（５００μｍ）を通過し、５０メッシュ（３００μｍ）に残るガラス粉末を白金ボートに入れ、温度勾配炉中に２４時間保持して、結晶の析出する温度を測定した値である。
　有機ＥＬ照明等には、ガラス板の表面平滑性の僅かな違いによって、電流印加時の電流密度が変化し、照度のムラを引き起こすという問題があった。また、ガラス板の表面平滑性を高めるために、ガラス表面を研磨すると、加工コストが高騰するという問題が生じる。そこで、液相粘度を上記範囲とすれば、オーバーフローダウンドロー法で成形し易くなり、結果として、未研磨で表面平滑性が良好なガラス板を作製し易くなる。ここで、「オーバーフローダウンドロー法」は、溶融ガラスを耐熱性の樋状構造物の両側から溢れさせて、溢れた溶融ガラスを樋状構造物の下端で合流させながら、下方に延伸成形してガラス板を成形する方法である。
　第三に、第一の発明の高屈折率ガラスは、板状であることが好ましい。このようにすれば、有機ＥＬディスプレイ、有機ＥＬ照明、色素増感型太陽電池等の各種デバイスの基板に適用し易くなる。なお、「板状」は、板厚が小さいフィルム状のものを含む。
　第四に、第一の発明の高屈折率ガラスは、オーバーフローダウンドロー法又はスロットダウンドロー法で成形されてなることが好ましい。ここで、「スロットダウンドロー法」は、略矩形形状の隙間から溶融ガラスを流し出しながら、下方に延伸成形して、ガラス板を成形する方法である。
　第五に、第一の発明の高屈折率ガラスは、少なくとも一方の面が未研磨であり、且つ未研磨面の表面粗さＲａが１０Å以下であることが好ましい。ここで、「表面粗さＲａ」は、ＪＩＳ　Ｂ０６０１：２００１に準拠した方法で測定した値を指す。
　第六に、第一の発明の高屈折率ガラスは、照明デバイスに用いることが好ましい。
　第七に、第一の発明の高屈折率ガラスは、有機ＥＬ照明に用いることが好ましい。
　第八に、第一の発明の高屈折率ガラスは、有機太陽電池、特に色素増感型太陽電池に用いることが好ましい。
　第九に、第一の発明の高屈折率ガラスは、有機ＥＬディスプレイに用いることが好ましい。
　本発明者等は、鋭意検討を行った結果、ガラス組成範囲とガラス特性を所定範囲に規制することにより、上記技術的課題を解決し得ることを見出し、第二の発明として、提案するものである。すなわち、第二の発明の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２　５～５０％、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３　２０～５０％を含有すると共に、質量比（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３）が０．１～５、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）が０．１～１．５、質量比（ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５）が０．０５～２、屈折率ｎｄが１．６～２．２であることを特徴とする。
　本発明者等は、鋭意検討を行った結果、ガラス特性を所定範囲に規制することにより、上記技術的課題を解決し得ることを見出し、第三の発明として、提案するものである。すなわち、第三の発明の高屈折率ガラスは、板状であり、屈折率ｎｄが１．６以上、液相粘度が１０４．０ｄＰａ・ｓ以上、少なくとも一方の面の表面粗さＲａが１０Å以下、厚みが０．１～１．０ｍｍであることを特徴とする。
　本発明者等は、鋭意検討を行った結果、ガラス組成範囲とガラス特性を所定範囲に規制することにより、上記技術的課題を解決し得ることを見出し、第四の発明として、提案するものである。すなわち、第四の発明の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２　１０～６０％、Ｂ２Ｏ３　０～５％、ＢａＯ　０．１～６０％、Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５　０．１～４０％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ　０～１０％を含有すると共に、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ）／（ＳｒＯ＋ＢａＯ）の値が０～０．５、歪点が６００℃以上、屈折率ｎｄが１．５５～２．３であることを特徴とする。このようにすれば、有機発光素子やＩＴＯの屈折率に整合させ易くなると共に、耐熱性を高め易くなる。更には、耐失透性を高め易くなり、またＩＴＯ、ＦＴＯ等の透明導電膜の熱膨張係数に整合させ易くなる。
　ところで、有機ＥＬ発光素子を用いたディスプレイ（ＯＬＥＤ等）では、電子の移動度、ＴＦＴ特性の観点から、ｐ－Ｓｉ・ＴＦＴによる駆動が主流となっている。ｐ－Ｓｉ・ＴＦＴの製造工程には、４００～６００℃の熱処理工程が存在するが、この熱処理工程で、ガラスに熱収縮と呼ばれる微小な寸法収縮が生じ、これがＴＦＴの画素ピッチのズレを惹起して、表示不良の原因になるおそれがある。特に、近年では、多眼式の３Ｄディスプレイも登場し、自然な立体像を得るために、２Ｋ～４Ｋ以上の高解像度のディスプレイが求められている。ディスプレイの解像度が高まると、数ｐｐｍ程度の寸法収縮でも表示不良になるおそれがある。しかし、従来の高屈折率ガラスは、耐熱性が不十分であるため、高温の熱処理を行うと、表示不良の原因となる熱収縮を来たし易いという課題がある。これに対し、第四の発明の高屈折率ガラスは、上記のとおり、耐熱性を容易に高めることができるため、このような課題も同時に解決することができる。
　ここで、「歪点」は、ＡＳＴＭ　Ｃ３３６－７１に記載の方法に基づいて測定した値である。「屈折率ｎｄ」は、屈折率測定器で測定可能であり、例えば２５ｍｍ×２５ｍｍ×約３ｍｍの直方体試料を作製した後、（徐冷点Ｔａ＋３０℃）から（歪点－５０℃）までの温度域を０．１℃／ｍｉｎになるような冷却速度でアニール処理し、続いて屈折率が整合する浸液をガラス間に浸透させながら、カルニュー社製の屈折率測定器ＫＰＲ－２００を用いることにより測定可能である。「徐冷点Ｔａ」は、ＡＳＴＭ　Ｃ３３８－９３に記載の方法に基づいて測定した値を指す。また、「Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５」は、Ｌａ２Ｏ３とＮｂ２Ｏ５の合量である。「Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ」は、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、及びＫ２Ｏの合量である。「ＭｇＯ＋ＣａＯ」は、ＭｇＯとＣａＯの合量である。「ＳｒＯ＋ＢａＯ」は、ＳｒＯとＢａＯの合量である。
　第二に、第四の発明の高屈折率ガラスは、液相粘度が１０３．０ｄＰａ・ｓ以上であることが好ましい。ここで、「液相粘度」は、液相温度におけるガラスの粘度を白金球引き上げ法で測定した値を指す。「液相温度」は、標準篩３０メッシュ（５００μｍ）を通過し、５０メッシュ（３００μｍ）に残るガラス粉末を白金ボートに入れ、温度勾配炉中に２４時間保持して、結晶の析出する温度を測定した値である。
　有機ＥＬ照明等には、ガラス板の表面平滑性の僅かな違いによって、電流印加時の電流密度が変化し、照度のムラを引き起こすという問題があった。また、ガラス板の表面平滑性を高めるために、ガラス表面を研磨すると、加工コストが高騰するという問題が生じる。そこで、液相粘度を上記範囲とすれば、オーバーフローダウンドロー法で成形し易くなり、結果として、未研磨で表面平滑性が良好なガラス板を作製し易くなる。
　第三に、第四の発明の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２　１５～６０％、Ｂ２Ｏ３　０～５％、ＢａＯ　０．１～４０％、Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５　０．１～３０％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ　０～５％を含有すると共に、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ）／（ＳｒＯ＋ＢａＯ）の値が０～０．５、歪点が６３０℃以上、屈折率ｎｄが１．５５～２．２であることが好ましい。
　第四に、第四の発明の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２　２０～６０％、Ｂ２Ｏ３　０～５％、ＢａＯ　５～４０％、Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５　０．１～２５％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ　０～３％を含有すると共に、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ）／（ＳｒＯ＋ＢａＯ）の値が０～０．４、歪点が６５０℃以上、屈折率ｎｄが１．５５～２．１であることが好ましい。
　第五に、第四の発明の高屈折率ガラスは、密度が４．０ｇ／ｃｍ３以下であることが好ましい。「密度」は、周知のアルキメデス法で測定可能である。
　第六に、第四の発明の高屈折率ガラスは、板状であることが好ましい。このようにすれば、有機ＥＬディスプレイ、有機ＥＬ照明、色素増感型太陽電池等の各種デバイスの基板に適用し易くなる。なお、「板状」は、板厚が小さいフィルム状のものを含む。
　第七に、第四の発明の高屈折率ガラスは、オーバーフローダウンドロー法又はスロットダウンドロー法で成形されてなることが好ましい。ここで、「オーバーフローダウンドロー法」は、溶融ガラスを耐熱性の樋状構造物の両側から溢れさせて、溢れた溶融ガラスを樋状構造物の下端で合流させながら、下方に延伸成形してガラス板を成形する方法である。また、「スロットダウンドロー法」は、略矩形形状の隙間から溶融ガラスを流し出しながら、下方に延伸成形して、ガラス板を成形する方法である。
　第八に、第四の発明の高屈折率ガラスは、少なくとも一方の面が未研磨であり、その未研磨面の表面粗さＲａが１０Å以下であることが好ましい。ここで、「表面粗さＲａ」は、ＪＩＳ　Ｂ０６０１：２００１に準拠した方法で測定した値を指す。
　第九に、第四の発明の高屈折率ガラスは、照明デバイスに用いることが好ましい。
　第十に、第四の発明の高屈折率ガラスは、有機ＥＬ照明に用いることが好ましい
　第十一に、第四の発明の高屈折率ガラスは、有機太陽電池に用いることが好ましい。
　第十二に、第四の発明の高屈折率ガラスは、有機ＥＬディスプレイに用いることが好ましい。
　本発明者等は、鋭意検討を行った結果、ガラス組成範囲とガラス特性を所定範囲に規制することにより、上記技術的課題を解決し得ることを見出し、第五の発明として、提案するものである。すなわち、第五の発明の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２　２５～６０％、Ｂ２Ｏ３　０～５％、ＢａＯ　２０～４０％、Ｌａ２Ｏ３　０．１～１０％、Ｎｂ２Ｏ５　０．１～１０％、Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５　０．１～２０％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ　０～０．１％を含有すると共に、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ）／（ＳｒＯ＋ＢａＯ）の値が０～０．２、屈折率ｎｄが１．５５～２．０であることを特徴とする。
　本発明者等は、鋭意検討を行った結果、ガラス特性を所定範囲に規制することにより、上記技術的課題を解決し得ることを見出し、第六の発明として、提案するものである。すなわち、第六の発明の高屈折率ガラスは、板状であり、実質的にＰｂＯを含有せず、屈折率ｎｄが１．５５～２．０、歪点が６３０℃以上、液相粘度が１０４ｄＰａ・ｓ以上、３０～３８０℃における熱膨張係数が４５×１０－７／℃～９５×１０－７／℃、厚みが０．０５～１．５ｍｍ、少なくとも一方の面の表面粗さＲａが３０Å以下であることを特徴とする。ここで、「実質的にＰｂＯを含有せず」は、ガラス組成中のＰｂＯの含有量が１０００ｐｐｍ（質量）未満であることを指す。「３０～３８０℃における熱膨張係数」は、ディラトメーターで測定可能である。
　本発明者等は、鋭意検討を行った結果、ガラス組成範囲とガラス特性を所定範囲に規制することにより、上記技術的課題を解決し得ることを見出し、第七の発明として、提案するものである。すなわち、第七の発明の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３　２０～７０％、ＳｉＯ２　２０～７０％、Ｂ２Ｏ３　０～３０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ　０～５０％、ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＺｒＯ２＋ＴｉＯ２　０～３０％を含有し、モル比Ｂ２Ｏ３／ＳｉＯ２が０～１、モル比ＳｉＯ２／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５）が０．１～６、モル比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋Ｇｄ２Ｏ３）が０．１～０．９９であると共に、屈折率が１．５５～２．３であることを特徴とする。このようにすれば、有機発光素子やＩＴＯの屈折率に整合させ易くなる。更には、耐失透性が向上し易くなり、また密度が低下し易くなる。
　ここで、「屈折率ｎｄ」は、屈折率測定器で測定可能であり、例えば２５ｍｍ×２５ｍｍ×約３ｍｍの直方体試料を作製した後、（徐冷点Ｔａ＋３０℃）から（歪点－５０℃）までの温度域を０．１℃／ｍｉｎになるような冷却速度でアニール処理し、続いて屈折率が整合する浸液をガラス間に浸透させながら、カルニュー社製の屈折率測定器ＫＰＲ－２００を用いることにより測定可能である。「徐冷点Ｔａ」は、ＡＳＴＭ　Ｃ３３８－９３に記載の方法に基づいて測定した値を指す。また、「ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３」は、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、及びＢ２Ｏ３の合量を指す。「ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ」は、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、及びＢａＯの合量を指す。「ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＺｒＯ２＋ＴｉＯ２」は、ＢａＯ、Ｌａ２Ｏ３、Ｎｂ２Ｏ５、ＺｒＯ２、及びＴｉＯ２の合量を指す。「ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５」は、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、Ｌａ２Ｏ３、及びＮｂ２Ｏ５の合量を指す。「ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋Ｇｄ２Ｏ３」は、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、Ｌａ２Ｏ３、Ｎｂ２Ｏ５、及びＧｄ２Ｏ３の合量を指す。
　第二に、第七の発明の高屈折率ガラスは、液相粘度が１０３．０ｄＰａ・ｓ以上であることが好ましい。ここで、「液相粘度」は、液相温度におけるガラスの粘度を白金球引き上げ法で測定した値を指す。「液相温度」は、標準篩３０メッシュ（５００μｍ）を通過し、５０メッシュ（３００μｍ）に残るガラス粉末を白金ボートに入れ、温度勾配炉中に２４時間保持して、結晶の析出する温度を測定した値である。
　有機ＥＬ照明等には、ガラス板の表面平滑性の僅かな違いによって、電流印加時の電流密度が変化し、照度のムラを引き起こすという問題があった。また、ガラス板の表面平滑性を高めるために、ガラス表面を研磨すると、加工コストが高騰するという問題が生じる。そこで、液相粘度を上記範囲とすれば、オーバーフローダウンドロー法で成形し易くなり、結果として、未研磨で表面平滑性が良好なガラス板を作製し易くなる。ここで、「オーバーフローダウンドロー法」は、溶融ガラスを耐熱性の樋状構造物の両側から溢れさせて、溢れた溶融ガラスを樋状構造物の下端で合流させながら、下方に延伸成形してガラス板を成形する方法である。
　第三に、第七の発明の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３　３０～７０％、ＳｉＯ２　３０～７０％、Ｂ２Ｏ３　０～１５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ　５～４５％、ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＺｒＯ２＋ＴｉＯ２　１５～３０％、モル比Ｂ２Ｏ３／ＳｉＯ２が０～１、モル比ＳｉＯ２／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５）が０．５～５、モル比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋Ｇｄ２Ｏ３）が０．３～０．９９であると共に、屈折率が１．５５～２．３であることが好ましい。
　第四に、第七の発明の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３　４０～７０％、ＳｉＯ２　４０～７０％、Ｂ２Ｏ３　０～１０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ　１０～４０％、ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＺｒＯ２＋ＴｉＯ２　１５～２５％を含有し、モル比Ｂ２Ｏ３／ＳｉＯ２が０～１、モル比ＳｉＯ２／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５）が１～３、モル比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋Ｇｄ２Ｏ３）が０．５～０．９９であると共に、屈折率が１．５５～２．３であることが好ましい。
　第五に、第七の発明の高屈折率ガラスは、密度が４．５ｇ／ｃｍ３以下であることが好ましい。有機ＥＬ照明等は、天井に嵌め込まれるタイプの他にも、天井から吊るすタイプもある。このため、作業負担を軽減すべくデバイスの軽量化が要求されている。そこで、密度を上記範囲とすれば、このような要求を満たし易くなる。ここで、「密度」は、周知のアルキメデス法で測定可能である。
　第六に、第七の発明の高屈折率ガラスは、オーバーフローダウンドロー法又はスロットダウンドロー法で成形されてなることが好ましい。ここで、「スロットダウンドロー法」は、略矩形形状の隙間から溶融ガラスを流し出しながら、下方に延伸成形して、ガラス板を成形する方法である。
　第七に、第七の発明の高屈折率ガラスは、照明デバイスに用いることが好ましい。
　第八に、第七の発明の高屈折率ガラスは、有機ＥＬ照明に用いることが好ましい。
　第九に、第七の発明の高屈折率ガラスは、有機太陽電池に用いることが好ましい。
　第十に、第七の発明の高屈折率ガラスは、有機ＥＬディスプレイに用いることが好ましい。
　本発明者等は、鋭意検討を行った結果、ガラス組成範囲とガラス特性を所定範囲に規制することにより、上記技術的課題を解決し得ることを見出し、第八の発明として、提案するものである。すなわち、第八の発明の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３　６０～７０％、ＳｉＯ２　６０～７０％、Ｂ２Ｏ３　０～１％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ　２５～３０％、ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＺｒＯ２＋ＴｉＯ２　１５～２５％を含有し、モル比Ｂ２Ｏ３／ＳｉＯ２が０～０．１、モル比ＳｉＯ２／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５）が１．５～２．５、モル比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋Ｇｄ２Ｏ３）が０．８～０．９９であると共に、屈折率が１．５５～２．３、密度が４．５ｇ／ｃｍ３以下であることを特徴とする。
　本発明者等は、鋭意検討を行った結果、ガラス特性を所定範囲に規制することにより、上記技術的課題を解決し得ることを見出し、第九の発明として、提案するものである。すなわち、第九の発明の高屈折率ガラスは、ＰｂＯを含有せず、屈折率が１．５５～２．０、液相粘度が１０３．０ｄＰａ・ｓ以上、密度が４．０ｇ／ｃｍ３以下であることを特徴とする。
　以上のような本発明によれば、有機発光素子やＩＴＯの屈折率に整合し得る高屈折率ガラスを提供することができる。
（第１実施形態）
　第一の発明の一実施形態（以下、第１実施形態という。）について説明する。なお、第１実施形態は、第二の発明および第三の発明の実施形態を兼ねる。
　第１実施形態の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３を０．１～６０質量％含有し、質量比（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３）が０．１～５０、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）が０～１０、質量比（ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５）が０．００１～４０である。このように各成分の含有範囲を限定した理由を以下に説明する。なお、以下の含有範囲の説明において、％表示は、特に断りがある場合を除き、質量％を表す。
　ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３の含有量は０．１～６０％である。ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３の含有量が少なくなると、ガラス網目構造を形成し難くなり、ガラス化が困難になる。またガラスの粘性が低下し過ぎて、高い液相粘度を確保し難くなる。よって、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３の含有量は０．１％以上であり、好ましくは５％以上、１０％以上、１２％以上、１５％以上、２０％以上、２５％以上、２８％以上、３５％以上、特に４０％以上である。一方、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３の含有量が多くなると、溶融性、成形性が低下し易くなり、また屈折率ｎｄが低下し易くなる。よって、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３の含有量は６０％以下であり、好ましくは５５％以下、５３％以下、５０％以下、４９％以下、４８％以下、特に４５％以下である。
　質量比（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３）は０．１～５０である。質量比（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３）が小さくなると、屈折率ｎｄを高め難くなる。よって、質量比（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３）の下限値は０．１以上であり、好ましくは０．２以上、０．３以上、０．５以上、０．６以上、特に０．７以上である。一方、質量比（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３）が大きくなると、ガラス化が困難になると共に、ガラスの粘性が極端に低下して、高い液相粘度を確保し難くなる。よって、質量比（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３）の上限値は５０以下であり、好ましくは３０以下、２０以下、１０以下、５以下、３以下、２以下、１．８以下、１．６以下、１．３以下、１．１以下、特に１．０以下である。
　質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）は０～１０である。質量比（（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）が大きくなると、耐失透性が向上するが、その値が１０を超えると、ガラス組成のバランスを欠いて、逆に耐失透性が低下したり、屈折率ｎｄが低下するおそれがある。よって、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）は１０以下であり、好ましくは５以下、３以下、２以下、１．５以下、１．４以下、１．３以下、１．２以下、１．１以下、特に１以下である。なお、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）が小さくなると、耐失透性が低下し易くなる。よって、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）は０．１以上、０．３以上、０．４以上、０．５以上、０．６以上、特に０．７以上が好ましい。
　質量比（ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５）は０．００１～４０である。質量比（ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５）が少なくなると、高い液相粘度を確保し難くなると共に、屈折率ｎｄを高め難くなる。よって、質量比（ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５）は０．００１以上であり、好ましくは０．００５以上、０．０１以上、０．０５以上、０．１以上、０．１５以上、０．１８以上、特に０．２以上である。一方、質量比（ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５）が大きくなると、高屈折率を維持しつつ、高い液相粘度を確保し易くなるが、質量比（ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５）が４０を超えると、ガラス組成のバランスを欠いて、逆に液相粘度が低下し易くなる。よって、質量比（ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５）は４０以下であり、好ましくは２５以下、１３以下、１０以下、７以下、５以下、２以下、１．６以下、１．３以下、１以下、０．８以下、特に０．５以下である。
　ＳｉＯ２の含有量は０．１～６０％が好ましい。ＳｉＯ２の含有量が少なくなると、ガラス網目構造を形成し難くなり、ガラス化が困難になる。またガラスの粘性が低下し過ぎて、高い液相粘度を確保し難くなる。よって、ＳｉＯ２の含有量は０．１％以上、３％以上、５％以上、１０％以上、１２％以上、１５％以上、２０％以上、２５％以上、２８％以上、３５％以上、特に４０％以上が好ましい。一方、ＳｉＯ２の含有量が多くなると、溶融性、成形性が低下し易くなり、また屈折率ｎｄが低下し易くなる。よって、ＳｉＯ２の含有量は６０％以下、５５％以下、５３％以下、５２％以下、５０％以下、４９％以下、４８％以下、特に４５％以下が好ましい。
　Ａｌ２Ｏ３の含有量は０～２０％が好ましい。Ａｌ２Ｏ３の含有量が多くなると、ガラスに失透結晶が析出し易くなって、液相粘度が低下し易くなり、また屈折率ｎｄが低下し易くなる。よって、Ａｌ２Ｏ３の含有量は２０％以下、１５％以下、１０％以下、８％以下、特に６％以下が好ましい。なお、Ａｌ２Ｏ３の含有量が少なくなると、ガラス組成のバランスを欠いて、逆にガラスが失透し易くなる。よって、Ａｌ２Ｏ３の含有量は０．１％以上、０．５％以上、特に１％以上が好ましい。
　Ｂ２Ｏ３の含有量は０～１０％が好ましい。Ｂ２Ｏ３の含有量が多くなると、屈折率ｎｄやヤング率が低下し易くなる。よって、Ｂ２Ｏ３の含有量は１０％以下、８％以下、４％以下、２％未満、特に１％未満が好ましい。
　ＭｇＯは、屈折率ｎｄ、ヤング率、歪点を高める成分であると共に、高温粘度を低下させる成分であるが、多量にＭｇＯを含有させると、液相温度が上昇して、耐失透性が低下したり、密度や熱膨張係数が高くなり過ぎる。よって、ＭｇＯの含有量は１０％以下、５％以下、３％以下、２％以下、１．５％以下、１％以下、特に０．５％以下が好ましい。
　ＣａＯの含有量は０～１５％が好ましい。ＣａＯの含有量が多くなると、密度、熱膨張係数が高くなり易く、その含有量が１５％を超えると、ガラス組成のバランスを欠いて、耐失透性が低下し易くなる。よって、ＣａＯの含有量は１５％以下、１２％以下、１０％以下、９％以下、特に８．５％以下が好ましい。なお、ＣａＯの含有量が少なくなると、溶融性が低下したり、ヤング率が低下したり、屈折率ｎｄが低下し易くなる。よって、ＣａＯの含有量は０．５％以上、１％以上、２％以上、３％以上、特に５％以上が好ましい。
　ＳｒＯの含有量は０～１５％が好ましい。ＳｒＯの含有量が多くなると、屈折率ｎｄ、密度、熱膨張係数が高くなり易く、その含有量が１５％を超えると、ガラス組成のバランスを欠いて、耐失透性が低下し易くなる。よって、ＳｒＯの含有量は１５％以下、１２％以下、１０％以下、９％以下、８％以下、特に７％以下が好ましい。なお、ＳｒＯの含有量が少なくなると、溶融性が低下し易くなり、また屈折率ｎｄが低下し易くなる。よって、ＳｒＯの含有量は０．５％以上、１％以上、２％以上、３％以上、特に３．５％以上が好ましい。
　ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯの含有量は、屈折率ｎｄを高めつつ、高い液相粘度を維持するため、０～５０％が好ましい。ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯの含有量が多くなると、高い液相粘度を確保し難くなる。よって、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯの含有量は５０％以下、４５％％以下、３０％以下、２０％以下、特に１６％以下が好ましい。なお、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯの含有量が少なくなると、屈折率ｎｄを高め難くなる。よって、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯの含有量は５％以上、８％以上、１０％以上、特に１１％以上が好ましい。ここで、「ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ」は、ＭｇＯ、ＣａＯ、及びＳｒＯの合量を指す。
　ＢａＯは、アルカリ土類金属酸化物の中ではガラスの粘性を極端に低下させずに、屈折率ｎｄを高める成分であり、その含有量は０～５０％が好ましい。ＢａＯの含有量が多くなると、屈折率ｎｄ、密度、熱膨張係数が高くなり易い。しかし、ＢａＯの含有量が５０％を超えると、ガラス組成のバランスを欠いて、耐失透性が低下し易くなる。よって、ＢａＯの含有量は５０％以下、４０％以下、３５％以下、３２％以下、２９．５％以下、２９％以下、特に２８％以下が好ましい。但し、ＢａＯの含有量が少なくなると、所望の屈折率ｎｄを得難くなる上、高い液相粘度を確保し難くなる。よって、ＢａＯの含有量は０．５％以上、１％以上、２％以上、５％以上、１０％以上、１５％以上、２３％以上、特に２５％以上が好ましい。
　Ｌａ２Ｏ３は、屈折率ｎｄを高める成分である。Ｌａ２Ｏ３の含有量が多くなると、密度、熱膨張係数が高くなり過ぎ、また耐失透性が低下し易くなる。よって、Ｌａ２Ｏ３の好適な含有範囲は０～２５％、０～２２％、０．１～１８％、１～１４％、２～１２％、特に３～１０％である。
　Ｎｂ２Ｏ５は、屈折率ｎｄを高める成分である。Ｎｂ２Ｏ５の含有量が多くなると、密度、熱膨張係数が高くなり過ぎ、また耐失透性が低下し易くなる。よって、Ｎｂ２Ｏ５の好適な含有範囲は０～２５％、０～２２％、０．１～１８％、１～１４％、２～１２％、特に３～１０％である。
　ＴｉＯ２は、屈折率ｎｄを高める成分である。ＴｉＯ２の含有量が多くなると、耐失透性が低下し易くなる。よって、ＴｉＯ２の好適な含有範囲は０～２５％、０．１～２２％、１～１８％、２～１４％、３～１２％、特に４～１０％である。
　ＺｒＯ２は、屈折率ｎｄを高める成分である。ＺｒＯ２の含有量が多くなると、耐失透性が低下し易くなる。よって、ＺｒＯ２の好適な含有範囲は０～２５％、０～２０％、０．１～１０％、０．１～８％、０．１～６％、特に０．１～５％である。
　ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２を所定量添加すると、耐失透性の低下を抑制しつつ、屈折率ｎｄを高めることができる。ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２の含有量は１０％以上、１５％以上、２０％以上、２５％以上、２８％以上、３３％以上、特に３５％以上が好ましい。一方、ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２の含有量が多過ぎると、耐失透性が低下し易くなる。よって、ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２の含有量は６５％以下、６０％以下、５８％以下、５５％以下、５０％以下、４５％以下、特に４１％以下が好ましい。
　上記成分以外にも、任意成分として、例えば以下の成分を添加することができる。
　Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏは、ガラスの粘性を低下させる成分であり、また熱膨張係数を調整する成分であるが、多量に含有させると、ガラスの粘性が低下し過ぎて、高い液相粘度を確保し難くなる。よって、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏの含有量は１５％以下、１０％以下、５％以下、２％以下、１％以下、０．５％以下、特に０．１％以下が好ましい。なお、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏの含有量は、それぞれ１０％以下、８％以下、５％以下、２％以下、１％以下、０．５％以下、特に０．１％以下が好ましい。ここで、「Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ」は、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、及びＫ２Ｏの合量を指す。
　清澄剤として、Ａｓ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３、ＣｅＯ２、ＳｎＯ２、Ｆ、Ｃｌ、ＳＯ３の群から選択された一種又は二種以上を０～３％添加することができる。但し、Ａｓ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３、及びＦ、特にＡｓ２Ｏ３、及びＳｂ２Ｏ３は、環境的観点から、その使用を極力控えることが好ましく、それぞれの含有量は０．１％未満が好ましい。以上の点を考慮すると、清澄剤として、ＳｎＯ２、ＳＯ３、及びＣｌが好ましい。特に、ＳｎＯ２の含有量は０～１％、０．０１～０．５％、特に０．０５～０．４％が好ましい。また、ＳｎＯ２＋ＳＯ３＋Ｃｌの含有量は０～１％、０．００１～１％、０．０１～０．５％、特に０．０１～０．３％が好ましい。ここで、「ＳｎＯ２＋ＳＯ３＋Ｃｌ」は、ＳｎＯ２、ＳＯ３、及びＣｌの合量を指す。
　ＰｂＯは、高温粘性を低下させる成分であるが、環境的観点から、その使用を極力控えることが好ましく、その含有量は０．５％以下が好ましく、実質的に含有しないことが望ましい。ここで、「実質的にＰｂＯを含有しない」とは、ガラス組成中のＰｂＯの含有量が１０００ｐｐｍ（質量）未満の場合を指す。
　第１実施形態の高屈折率ガラスにおいて、各成分の好適な含有範囲を組み合わせて、好適なガラス組成範囲とすることが可能である。その中でも、好適なガラス組成範囲の具体例は以下の通りである。
（１）ガラス組成として、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３を０．１～６０質量％含有し、質量比（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３）が０．１～３０、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）が０～５、質量比（ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５）が０．０１～３０、屈折率ｎｄが１．６～２．２、
（２）ガラス組成として、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３を５～５５質量％含有し、質量比（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３）が０．１～２０、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）が０～３、質量比（ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５）が０．０１～１０、屈折率ｎｄが１．５５～２．３、
（３）ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２　３～５５％、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３　１０～５５％を含有すると共に、質量比（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３）が０．１～１０、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）が０～１．５、質量比（ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５）が０．０５～５、屈折率ｎｄが１．６～２．２、
（４）ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２　５～５２％、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３　２０～５２％を含有すると共に、質量比（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３）が０．１～５、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）が０．１～１．５、質量比（ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５）が０．０５～２、屈折率ｎｄが１．６～２．２、
（５）ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２　１０～５０％、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３　２０～５０％を含有すると共に、質量比（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３）が０．１～３、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）が０．３～１．４、質量比（ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５）が０．０５～１、屈折率ｎｄが１．６～２．２、
（６）ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２　１０～５０％、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３　２０～５０％を含有すると共に、質量比（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３）が０．２～１．８、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）が０．５～１．２、質量比（ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５）が０．０５～０．８、屈折率ｎｄが１．６～２．２、
（７）ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２　１０～５０％、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３　２０～５０％を含有すると共に、質量比（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３）が０．３～１．２、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）が０．７～１．１、質量比（ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５）が０．０５～０．５、屈折率ｎｄが１．６～２．２。
　第１実施形態の高屈折率ガラスにおいて、屈折率ｎｄは１．５５以上であり、好ましくは１．５８以上、１．６以上、１．６３以上、１．６５以上、１．６７以上、１．６９以上、１．７以上、特に１．７１以上である。屈折率ｎｄが１．５５未満になると、ＩＴＯ－ガラス界面の反射によって光を効率良く取り出せなくなる。一方、屈折率ｎｄが２．３より高くなると、空気－ガラス界面での反射率が高くなり、ガラス表面に粗面化処理を施しても、光の取り出し効率を高めることが困難になる。よって、屈折率ｎｄは２．３以下であり、好ましくは２．２以下、２．１以下、２．０以下、１．９以下、特に１．７５以下である。
　第１実施形態の高屈折率ガラスにおいて、液相温度は１２００℃以下、１１５０℃以下、１１３０℃以下、１１１０℃以下、１０９０℃以下、１０７０℃以下、特に１０５０℃以下が好ましい。また、液相粘度は１０３．０ｄＰａ・ｓ以上、１０３．５ｄＰａ・ｓ以上、１０４．０ｄＰａ・ｓ以上、１０４．５ｄＰａ・ｓ以上、１０４．８ｄＰａ・ｓ以上、１０５．０ｄＰａ・ｓ以上、１０５．２ｄＰａ・ｓ以上、特に１０５．３ｄＰａ・ｓ以上が好ましい。このようにすれば、成形時にガラスが失透し難くなり、オーバーフローダウンドロー法でガラス板を成形し易くなる。
　第１実施形態の高屈折率ガラスは、板状であることが好ましい。また、厚みは１．５ｍｍ以下、１．３ｍｍ以下、１．１ｍｍ以下、０．８ｍｍ以下、０．６ｍｍ以下、０．５ｍｍ以下、０．３ｍｍ以下、０．２ｍｍ以下、特に０．１ｍｍ以下が好ましい。厚みが小さい程、可撓性が高まり、デザイン性に優れた照明デバイスを作製し易くなるが、厚みが極端に小さくなると、ガラスが破損し易くなる。よって、厚みは１０μｍ以上、特に３０μｍ以上が好ましい。
　第１実施形態の高屈折率ガラスは、板状の場合、少なくとも一方の面が未研磨であることが好ましい。ガラスの理論強度は、本来非常に高いのであるが、理論強度よりも遥かに低い応力でも破壊に至ることが多い。これは、ガラス表面にグリフィスフローと呼ばれる小さな欠陥が成形後の工程、例えば研磨工程等で生じるからである。よって、ガラス表面を未研磨とすれば、本来のガラスの機械的強度を損ない難くなるため、ガラスが破壊し難くなる。また、ガラス表面を未研磨とすれば、研磨工程を省略できるため、ガラス板の製造コストを低廉化することができる。
　第１実施形態の高屈折率ガラスにおいて、少なくとも一方の表面（但し、有効面）の表面粗さＲａは１０Å以下、５Å以下、３Å以下、特に２Å以下が好ましい。表面粗さＲａが１０Åより大きいと、その面に形成されるＩＴＯの品位が低下し、均一な発光を得難くなる。
　第１実施形態の高屈折率ガラスは、オーバーフローダウンドロー法で成形されてなることが好ましい。このようにすれば、未研磨で表面品位が良好なガラス板を製造することができる。その理由は、オーバーフローダウンドロー法の場合、表面になるべき面は樋状耐火物に接触せず、自由表面の状態で成形されるからである。樋状構造物の構造や材質は、所望の寸法や表面精度を実現できる限り、特に限定されない。また、下方への延伸成形を行うために、溶融ガラスに対して、力を印加する方法も特に限定されない。例えば、充分に大きい幅を有する耐熱性ロールを溶融ガラスに接触させた状態で回転させて延伸する方法を採用してもよいし、複数の対になった耐熱性ロールを溶融ガラスの端面近傍のみに接触させて延伸する方法を採用してもよい。
　オーバーフローダウンドロー法以外にも、例えば、ダウンドロー法（スロットダウン法、リドロー法等）、フロート法、ロールアウト法等を採用することができる。
　第１実施形態の高屈折率ガラスは、ＨＦエッチング、サンドブラスト等によって、一方の面に粗面化処理を行うことが好ましい。粗面化処理面の表面粗さＲａは１０Å以上、２０Å以上、３０Å以上、特に５０Å以上が好ましい。粗面化処理面を有機ＥＬ照明等の空気と接する側にすれば、粗面化処理面が無反射構造になるため、有機発光層で発生した光が有機発光層内に戻り難くなり、結果として、光の取り出し効率を高めることができる。またリプレス等の熱加工によって、ガラス表面に凹凸形状を付与してもよい。このようにすれば、ガラス表面に正確な反射構造を形成することができる。凹凸形状は、屈折率ｎｄを考慮しながら、その間隔と深さを調整すればよい。さらに、凹凸形状を有する樹脂フィルムをガラス表面に貼り付けてもよい。
　大気圧プラズマプロセスにより粗面化処理すれば、一方の表面の表面状態を維持した上で、他方の表面に対して、均一に粗面化処理を行うことができる。また、大気圧プラズマプロセスのソースとして、Ｆを含有するガス（例えば、ＳＦ６、ＣＦ４）を用いることが好ましい。このようにすれば、ＨＦ系ガスを含有したプラズマが発生するため、粗面化処理の効率が向上する。
　なお、成形時に表面に無反射構造を形成する場合、粗面化処理しなくても同様の効果を享受することができる。
　第１実施形態の高屈折率ガラスにおいて、密度は５．０ｇ／ｃｍ３以下、４．８ｇ／ｃｍ３以下、４．５ｇ／ｃｍ３以下、４．３ｇ／ｃｍ３以下、３．７ｇ／ｃｍ３以下、特に３．５ｇ／ｃｍ３以下が好ましい。このようにすれば、デバイスを軽量化することができる。なお、「密度」は、周知のアルキメデス法で測定可能である。
　第１実施形態の高屈折率ガラスにおいて、３０～３８０℃における熱膨張係数は３０×１０－７／℃～１００×１０－７／℃、４０×１０－７／℃～９０×１０－７／℃、６０×１０－７／℃～８５×１０－７／℃、特に６５×１０－７／℃～８０×１０－７／℃が好ましい。近年、有機ＥＬ照明、有機ＥＬデバイス、色素増感太陽電池において、デザイン的要素を高める観点から、ガラス板に可撓性が要求される場合がある。可撓性を高めるためには、ガラス板の厚みを小さくする必要があるが、この場合、ガラス板とＩＴＯ、ＦＴＯ等の透明導電膜の熱膨張係数が不整合であると、ガラス板が反り易くなる。そこで、３０～３８０℃における熱膨張係数を上記範囲とすれば、このような事態を防止し易くなる。なお、「３０～３８０℃における熱膨張係数」は、ディラトメーター等で測定可能である。
　第１実施形態の高屈折率ガラスにおいて、歪点は６３０℃以上、６５０℃以上、６７０℃以上、６９０℃以上、特に７００℃以上が好ましい。このようにすれば、デバイスの製造工程における高温の熱処理によりガラス板が熱収縮し難くなる。
　第１実施形態の高屈折率ガラスにおいて、１０２ｄＰａ・ｓにおける温度は１４００℃以下、１３８０℃以下、１３６０℃以下、１３３０℃以下、特に１３００℃以下が好ましい。このようにすれば、溶融性が向上するため、ガラスの製造効率が向上する。ここで、「１０２ｄＰａ・ｓにおける温度」は、白金球引き上げ法で測定した値を指す。
　第１実施形態の高屈折率ガラスを製造する方法を例示する。まず所望のガラス組成になるように、ガラス原料を調合して、ガラスバッチを作製する。次いでこのガラスバッチを溶融、清澄した後、所望の形状に成形する。その後、所望の形状に加工する。
（第２実施形態）
　第四の発明の一実施形態（以下、第２実施形態という。）について説明する。なお、第２実施形態は、第五の発明および第六の発明の実施形態を兼ねる。
　第２実施形態の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２　１０～６０％、Ｂ２Ｏ３　０～５％、ＢａＯ　０．１～６０％、Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５　０．１～４０％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ　０～１０％を含有すると共に、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ）／（ＳｒＯ＋ＢａＯ）の値が０～０．５である。このように各成分の含有範囲を限定した理由を以下に説明する。なお、以下の含有範囲の説明において、％表示は、特に断りがある場合を除き、質量％を表す。
　ＳｉＯ２の含有量は１０～６０％である。ＳｉＯ２の含有量が少なくなると、ガラス網目構造を形成し難くなり、ガラス化が困難になる。またガラスの粘性が低下し過ぎて、高い液相粘度を確保し難くなる。よって、ＳｉＯ２の含有量は１０％以上であり、好ましくは１２％以上、１５％以上、２０％以上、２５％以上、２８％以上、３５％以上、特に４０％以上である。一方、ＳｉＯ２の含有量が多くなると、溶融性、成形性が低下し易くなり、また屈折率ｎｄが低下し易くなる。よって、ＳｉＯ２の含有量は６０％以下であり、好ましくは５５％以下、５３％以下、５０％以下、４９％以下、４８％以下、特に４５％以下である。
　Ｂ２Ｏ３は０～１０％である。Ｂ２Ｏ３の含有量が多くなると、屈折率ｎｄ、ヤング率が低下し易くなり、また歪点が低下し易くなる。よって、Ｂ２Ｏ３の含有量は１０％以下であり、好ましくは８％以下、５％以下、４％以下、３％以下、２％未満、特に１％未満であり、実質的に含有しないことが望ましい。ここで、「実質的にＢ２Ｏ３を含有しない」とは、ガラス組成中のＢ２Ｏ３の含有量が１０００ｐｐｍ（質量）未満の場合を指す。
　ＢａＯは、アルカリ土類金属酸化物の中ではガラスの粘性を極端に低下させずに、屈折率ｎｄを高める成分であり、その含有量は０．１～６０％である。ＢａＯの含有量が多くなると、屈折率ｎｄ、密度、熱膨張係数が高くなり易い。しかし、ＢａＯの含有量が６０％を超えると、ガラス組成のバランスを欠いて、耐失透性が低下し易くなる。よって、ＢａＯの含有量は６０％以下であり、好ましくは５３％以下、４８％以下、４４％以下、４０％以下、３９％以下、３６％以下、特に３３％以下である。但し、ＢａＯの含有量が少なくなると、所望の屈折率ｎｄを得難くなる上、高い液相粘度を確保し難くなる。よって、ＢａＯの含有量は０．１％以上であり、好ましくは１％以上、２％以上、５％以上、１０％以上、１５％以上、２０％以上、２３％以上、特に２５％以上である。
　Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５の含有量は０．１～４０％である。Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５の含有量が少なくなると、屈折率ｎｄを高め難くなる。よって、Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５の含有量は０．１％以上であり、好ましくは１％以上、５％以上、８％以上、１０％以上である。一方、Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５の含有量が多くなると、密度、熱膨張係数が高くなり過ぎ、その含有量が４０％を超えると、ガラス組成のバランスを欠いて、耐失透性が低下し易くなり、更には高い液相粘度を確保し難くなる。よって、Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５の含有量は４０％以下であり、好ましくは３５％以下、３０％以下、２５％以下、２０％以下、１８％以下、特に１５％以下である。
　Ｌａ２Ｏ３は、屈折率ｎｄを高める成分である。Ｌａ２Ｏ３の含有量が多くなると、密度、熱膨張係数が高くなり過ぎ、また耐失透性が低下し易くなる。よって、Ｌａ２Ｏ３の好適な含有範囲は０～２５％、０～２２％、０．１～１８％、０．５～１４％、１～１２％、特に２～１０％である。
　Ｎｂ２Ｏ５は、屈折率ｎｄを高める成分である。Ｎｂ２Ｏ５の含有量が多くなると、密度、熱膨張係数が高くなり過ぎ、また耐失透性が低下し易くなる。よって、Ｎｂ２Ｏ５の好適な含有範囲は０～２５％、０～２２％、０．１～１８％、０．５～１４％、１～１２％、特に２～１０％である。
　Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏは、ガラスの粘性を低下させる成分であり、また熱膨張係数を調整する成分であるが、多量に含有させると、ガラスの粘性が低下し過ぎて、高い液相粘度を確保し難くなる。よって、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏの含有量は１０％以下であり、好ましくは５％以下、３％以下、２％以下、１％以下、０．５％以下、特に０．１％以下である。なお、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏの含有量は、それぞれ８％以下、５％以下、２％以下、１％以下、０．５％以下、特に０．１％以下が好ましい。
　質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ）／（ＳｒＯ＋ＢａＯ）の値は０～０．５である。質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ）／（ＳｒＯ＋ＢａＯ）の値が小さくなると、高い液相温度を確保し難くなり、また歪点が低下し易くなる。一方、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ）／（ＳｒＯ＋ＢａＯ）の値が大きくなると、密度が高くなり、その値が０．５を超えると、ガラス組成のバランスを欠いて、逆に耐失透性が低下し易くなる。よって、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ）／（ＳｒＯ＋ＢａＯ）の値は０．５以下であり、好ましくは０．４５以下、０．４以下、０．３５以下、０．３以下、０．２５以下、０．０５～０．２２、特に０．１～０．２である。
　ＭｇＯは、屈折率ｎｄ、ヤング率、歪点を高める成分であると共に、高温粘度を低下させる成分であるが、多量にＭｇＯを含有させると、液相温度が上昇して、耐失透性が低下したり、密度や熱膨張係数が高くなり過ぎる。よって、ＭｇＯの含有量は２０％以下、１０％以下、５％以下、３％以下、特に１％以下が好ましい。
　ＣａＯの含有量は０～１５％が好ましい。ＣａＯの含有量が多くなると、密度、熱膨張係数が高くなり易く、その含有量が１５％を超えると、ガラス組成のバランスを欠いて、耐失透性が低下し易くなる。よって、ＣａＯの含有量は１５％以下、１３％以下、１１％以下、９．５％以下、特に８％以下が好ましい。なお、ＣａＯの含有量が少なくなると、溶融性が低下したり、ヤング率が低下したり、屈折率ｎｄが低下し易くなる。よって、ＣａＯの含有量は０．５％以上、１％以上、２％以上、３％以上、特に５％以上が好ましい。
　ＳｒＯの含有量は０～２５％が好ましい。ＳｒＯの含有量が多くなると、屈折率ｎｄ、密度、熱膨張係数が高くなり易く、その含有量が２５％を超えると、ガラス組成のバランスを欠いて、耐失透性が低下し易くなる。よって、ＳｒＯの含有量は１８％以下、１４％以下、１２％以下、１１％以下、８％以下、７％以下、特に６％以下が好ましい。なお、ＳｒＯの含有量が少なくなると、溶融性が低下し易くなり、また屈折率ｎｄが低下し易くなる。よって、ＳｒＯの含有量は０．１％以上、０．８％以上、１．４％以上、３％以上、特に４％以上が好ましい。
　上記成分以外にも、任意成分として、以下の成分を添加してもよい。
　ＴｉＯ２は、屈折率ｎｄを高める成分である。ＴｉＯ２の含有量が多くなると、耐失透性が低下し易くなる。よって、ＴｉＯ２の好適な含有範囲は０～２５％、０～２２％、０．１～１８％、１～１４％、２～１２％、特に４～１０％である。
　ＺｒＯ２は、屈折率ｎｄを高める成分である。ＺｒＯ２の含有量が多くなると、耐失透性が低下し易くなる。よって、ＺｒＯ２の好適な含有範囲は０～２５％、０～２０％、０．１～１０％、０．１～８％、０．１～６％、特に０．１～５％である。
　Ａｌ２Ｏ３の含有量は０～２０％が好ましい。Ａｌ２Ｏ３の含有量が多くなると、ガラスに失透結晶が析出し易くなって、液相粘度が低下し易くなる。また屈折率ｎｄが低下し易くなる。よって、Ａｌ２Ｏ３の含有量は１５％以下、１０％以下、８％以下、特に６％以下が好ましい。なお、Ａｌ２Ｏ３の含有量が少なくなると、ガラス組成の成分バランスを欠いて、逆にガラスが失透し易くなる。よって、Ａｌ２Ｏ３の含有量は０．１％以上、０．５％以上、特に１％以上が好ましい。
　清澄剤として、Ａｓ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３、ＣｅＯ２、ＳｎＯ２、Ｆ、Ｃｌ、ＳＯ３の群から選択された一種又は二種以上を０～３％添加することができる。但し、Ａｓ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３、及びＦ、特にＡｓ２Ｏ３、及びＳｂ２Ｏ３は、環境的観点から、その使用を極力控えることが好ましく、それぞれの含有量は０．１％未満が好ましい。以上の点を考慮すると、清澄剤として、ＳｎＯ２、ＳＯ３、及びＣｌが好ましい。特に、ＳｎＯ２の含有量は０～１％、０．０１～０．５％、特に０．０５～０．４％が好ましい。また、ＳｎＯ２＋ＳＯ３＋Ｃｌの含有量は０～１％、０．００１～１％、０．０１～０．５％、特に０．０１～０．３％が好ましい。ここで、「ＳｎＯ２＋ＳＯ３＋Ｃｌ」は、ＳｎＯ２、ＳＯ３、及びＣｌの合量を指す。
　ＰｂＯは、高温粘性を低下させる成分であるが、環境的観点から、その使用を極力控えることが好ましく、その含有量は０．５％以下が好ましく、実質的に含有しないことが望ましい。ここで、「実質的にＰｂＯを含有しない」とは、ガラス組成中のＰｂＯの含有量が１０００ｐｐｍ（質量）未満の場合を指す。
　第２実施形態の高屈折率ガラスにおいて、各成分の好適な含有範囲を組み合わせて、好適なガラス組成範囲とすることが可能である。その中でも、好適なガラス組成範囲の具体例は以下の通りである。
（１）ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２　２０～６０％、Ｂ２Ｏ３　０～５％、ＢａＯ　１０～４０％、Ｌａ２Ｏ３　０．１～２５％、Ｎｂ２Ｏ５　０．１～２５％、Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５　０．１～２５％、　Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ　０～１％含有すると共に、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ）／（ＳｒＯ＋ＢａＯ）の値が０～０．３、屈折率ｎｄが１．５５～２．０、
（２）ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２　２５～５５％、Ｂ２Ｏ３　０～５％、ＢａＯ　１０～４０％、Ｌａ２Ｏ３　０．１～１８％、Ｎｂ２Ｏ５　０．１～１８％、Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５　０．１～２０％、　Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ　０～０．５％を含有すると共に、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ）／（ＳｒＯ＋ＢａＯ）の値が０～０．３、屈折率ｎｄが１．５５～２．０、
（３）ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２　２５～５０％、Ｂ２Ｏ３　０～５％、ＢａＯ　２０～４０％、Ｌａ２Ｏ３　０．１～１０％、Ｎｂ２Ｏ５　０．１～１０％、Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５　０．１～２０％、　Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ　０～０．１％を含有すると共に、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ）／（ＳｒＯ＋ＢａＯ）の値が０～０．２、屈折率ｎｄが１．５５～２．０、
（４）ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２　２５～４５％、Ｂ２Ｏ３　０～３％、ＢａＯ　２０～４０％、Ｌａ２Ｏ３　０．１～１０％、Ｎｂ２Ｏ５　０．１～１０％、Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５　０．１～１５％、　Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ　０～０．１％を含有すると共に、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ）／（ＳｒＯ＋ＢａＯ）の値が０～０．２、屈折率ｎｄが１．５５～２．０。
　第２実施形態の高屈折率ガラスにおいて、屈折率ｎｄは１．５５以上であり、好ましくは１．５８以上、１．６０以上、１．６３以上、１．６５以上、１．６７以上、１．６９以上、１．７０以上、特に１．７１以上である。屈折率ｎｄが１．５５未満になると、ＩＴＯ－ガラス界面の反射によって光を効率良く取り出せなくなる。一方、屈折率ｎｄが２．３より高くなると、空気－ガラス界面での反射率が高くなり、ガラス表面に粗面化処理を施しても、光の取り出し効率を高めることが困難になる。よって、屈折率ｎｄは２．３以下であり、好ましくは２．２以下、２．１以下、２．０以下、１．９以下、特に１．７５以下である。
　第２実施形態の高屈折率ガラスにおいて、歪点は６３０℃以上、６５０℃以上、６７０℃以上、６９０℃以上、特に７００℃以上が好ましい。色素増感型太陽電池等のデバイスにおいて、ＦＴＯを形成する際、透明性が高く、且つ低電気抵抗の膜を形成するためには、６００℃以上の高温が必要になる。しかし、従来の高屈折率ガラスでは、耐熱性が十分ではなく、透明性と低電気抵抗の両立が困難であった。そこで、歪点を上記範囲とすれば、色素増感太陽電池等において、透明性と低電気抵抗の両立が可能になると共に、デバイスの製造工程における熱処理によりガラスが熱収縮し難くなる。
　第２実施形態の高屈折率ガラスにおいて、液相温度は１２００℃以下、１１５０℃以下、１１３０℃以下、１１１０℃以下、１０９０℃以下、１０７０℃以下、１０５０℃以下、特に１０１０℃以下が好ましい。また、液相粘度は１０３．５ｄＰａ・ｓ以上、１０３．８ｄＰａ・ｓ以上、１０４．２ｄＰａ・ｓ以上、１０４．４ｄＰａ・ｓ以上、１０４．６ｄＰａ・ｓ以上、１０５．０ｄＰａ・ｓ以上、特に１０５．２ｄＰａ・ｓ以上が好ましい。このようにすれば、成形時にガラスが失透し難くなり、オーバーフローダウンドロー法でガラス板を成形し易くなる。
　第２実施形態の高屈折率ガラスにおいて、密度は５．０ｇ／ｃｍ３以下、４．８ｇ／ｃｍ３以下、４．５ｇ／ｃｍ３以下、４．３ｇ／ｃｍ３以下、３．７ｇ／ｃｍ３以下、３．５ｇ／ｃｍ３以下、３．４ｇ／ｃｍ３以下、３．３ｇ／ｃｍ３以下、特に３．２ｇ／ｃｍ３以下が好ましい。このようにすれば、デバイスを軽量化することができる。
　第２実施形態の高屈折率ガラスは、板状であることが好ましい。また、厚みは１．５ｍｍ以下、１．３ｍｍ以下、１．１ｍｍ以下、０．８ｍｍ以下、０．６ｍｍ以下、０．５ｍｍ以下、０．３ｍｍ以下、０．２ｍｍ以下、特に０．１ｍｍ以下が好ましい。厚みが小さい程、可撓性が高まり、デザイン性に優れた照明デバイスを作製し易くなるが、厚みが極端に小さくなると、ガラスが破損し易くなる。よって、厚みは１０μｍ以上、特に３０μｍ以上が好ましい。
　第２実施形態の高屈折率ガラスは、板状の場合、少なくとも一方の面が未研磨であることが好ましい。ガラスの理論強度は、本来非常に高いのであるが、理論強度よりも遥かに低い応力でも破壊に至ることが多い。これは、ガラス表面にグリフィスフローと呼ばれる小さな欠陥が成形後の工程、例えば研磨工程等で生じるからである。よって、ガラス表面を未研磨とすれば、本来のガラスの機械的強度を損ない難くなるため、ガラスが破壊し難くなる。また、ガラス表面を未研磨とすれば、研磨工程を省略できるため、ガラス板の製造コストを低廉化することができる。
　第２実施形態の高屈折率ガラスにおいて、少なくとも一方の表面（但し、有効面）の表面粗さＲａは１０Å以下、５Å以下、３Å以下、特に２Å以下が好ましい。表面粗さＲａが１０Åより大きいと、その面に形成されるＩＴＯの品位が低下し、均一な発光を得難くなる。
　第２実施形態の高屈折率ガラスは、オーバーフローダウンドロー法で成形されてなることが好ましい。このようにすれば、未研磨で表面品位が良好なガラス板を製造することができる。その理由は、オーバーフローダウンドロー法の場合、表面になるべき面は樋状耐火物に接触せず、自由表面の状態で成形されるからである。樋状構造物の構造や材質は、所望の寸法や表面精度を実現できる限り、特に限定されない。また、下方への延伸成形を行うために、溶融ガラスに対して、力を印加する方法も特に限定されない。例えば、充分に大きい幅を有する耐熱性ロールを溶融ガラスに接触させた状態で回転させて延伸する方法を採用してもよいし、複数の対になった耐熱性ロールを溶融ガラスの端面近傍のみに接触させて延伸する方法を採用してもよい。
　オーバーフローダウンドロー法以外にも、例えば、ダウンドロー法（スロットダウン法、リドロー法等）、フロート法、ロールアウト法等を採用することができる。
　第２実施形態の高屈折率ガラスは、ＨＦエッチング、サンドブラスト等によって、一方の面に粗面化処理を行うことが好ましい。粗面化処理面の表面粗さＲａは１０Å以上、２０Å以上、３０Å以上、特に５０Å以上が好ましい。粗面化処理面を有機ＥＬ照明等の空気と接する側にすれば、粗面化処理面が無反射構造になるため、有機発光層で発生した光が有機発光層内に戻り難くなり、結果として、光の取り出し効率を高めることができる。またリプレス等の熱加工によって、ガラス表面に凹凸形状を付与してもよい。このようにすれば、ガラス表面に正確な反射構造を形成することができる。凹凸形状は、屈折率ｎｄを考慮しながら、その間隔と深さを調整すればよい。さらに、凹凸形状を有する樹脂フィルムをガラス表面に貼り付けてもよい。
　大気圧プラズマプロセスにより粗面化処理すれば、一方の表面の表面状態を維持した上で、他方の表面に対して、均一に粗面化処理を行うことができる。また、大気圧プラズマプロセスのソースとして、Ｆを含有するガス（例えば、ＳＦ６、ＣＦ４）を用いることが好ましい。このようにすれば、ＨＦ系ガスを含有したプラズマが発生するため、粗面化処理の効率が向上する。
　なお、成形時に表面に無反射構造を形成する場合、粗面化処理しなくても同様の効果を享受することができる。
　第２実施形態の高屈折率ガラスにおいて、３０～３８０℃における熱膨張係数は４５×１０－７／℃～１１０×１０－７／℃、５０×１０－７／℃～１００×１０－７／℃、６０×１０－７／℃～９５×１０－７／℃、６５×１０－７／℃～９０×１０－７／℃、６５×１０－７／℃～８５×１０－７／℃、特に７０×１０－７／℃～８０×１０－７／℃が好ましい。近年、有機ＥＬ照明、有機ＥＬデバイス、色素増感太陽電池において、デザイン的要素を高める観点から、ガラス板に可撓性が要求される場合がある。可撓性を高めるためには、ガラス板の厚みを小さくする必要があるが、この場合、ガラス板とＩＴＯ、ＦＴＯ等の透明導電膜の熱膨張係数が不整合であると、ガラス板が反り易くなる。そこで、３０～３８０℃における熱膨張係数を上記範囲とすれば、このような事態を防止し易くなる。
　第２実施形態の高屈折率ガラスにおいて、１０２．５ｄＰａ・ｓにおける温度は１４５０℃以下、１４００℃以下、１３７０℃以下、１３３０℃以下、１２９０℃以下、特に１２７０℃以下が好ましい。このようにすれば、溶融性が向上するため、ガラスの製造効率が向上する。
　第２実施形態の高屈折率ガラスを製造する方法を例示する。まず所望のガラス組成になるように、ガラス原料を調合して、ガラスバッチを作製する。次いでこのガラスバッチを溶融、清澄した後、所望の形状に成形する。その後、所望の形状に加工する。
（第３実施形態）
　第七の発明の一実施形態（以下、第３実施形態という。）について説明する。なお、第３実施形態は、第八の発明および第九の発明の実施形態を兼ねる。
　第３実施形態の高屈折率ガラスは、ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３　２０～７０％、ＳｉＯ２　２０～７０％、Ｂ２Ｏ３　０～３０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ　０～５０％、ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＺｒＯ２＋ＴｉＯ２　０～３０％を含有し、モル比Ｂ２Ｏ３／ＳｉＯ２が０～１、モル比ＳｉＯ２／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５）が０．１～６、モル比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋Ｇｄ２Ｏ３）が０．１～０．９９である。このように各成分の含有範囲を限定した理由を以下に説明する。なお、以下の含有範囲の説明において、％表示は、特に断りがある場合を除き、モル％を表す。
　ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３の含有量は２０～７０％である。ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３の含有量が少なくなると、ガラス化が困難になり、また高い液相粘度を確保し難くなり、更には密度が高くなり易い。よって、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３の含有量は２０％以上であり、好ましくは３０％以上、４０％以上、５０％以上、５５％以上、特に６０％以上である。一方、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３の含有量が多くなると、屈折率ｎｄを高め難くなる。よって、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３の含有量は７０％以下であり、６８％以下、特に６６％以下が好ましい。
　ＳｉＯ２の含有量は２０～７０％である。ＳｉＯ２の含有量が少なくなると、ガラス網目構造を形成し難くなり、ガラス化が困難になる。またガラスの粘性が低下し過ぎて、高い液相粘度を確保し難くなる。更には密度が高くなり易い。よって、ＳｉＯ２の含有量は２０％以上であり、好ましくは３０％以上、４０％以上、５０％以上、特に６０％以上である。一方、ＳｉＯ２の含有量が多くなると、溶融性、成形性が低下し易くなり、また屈折率ｎｄが低下し易くなる。よって、ＳｉＯ２の含有量は７０％以下であり、好ましくは６８％以下、６５％以下、特に６３％以下である。
　Ａｌ２Ｏ３の含有量は０～１０％が好ましい。Ａｌ２Ｏ３の含有量が多くなると、ガラスに失透結晶が析出し易くなって、液相粘度が低下し易くなる。よって、Ａｌ２Ｏ３の含有量は１０％以下、８％以下、６％以下、特に５％以下が好ましい。なお、Ａｌ２Ｏ３の含有量が少なくなると、ガラス組成のバランスを欠いて、逆にガラスが失透し易くなる。よって、Ａｌ２Ｏ３の含有量は０．１％以上、０．５％以上、特に１％以上が好ましい。
　Ｂ２Ｏ３の含有量は０～３０％である。Ｂ２Ｏ３の含有量が多くなると、屈折率ｎｄやヤング率が低下し易くなり、また分相が生じて、耐失透性が急激に低下するおそれがある。よって、Ｂ２Ｏ３の含有量は３０％以下であり、好ましくは１５％以下、１０％以下、８％以下、５％以下、４％以下、２％未満、１％以下、１％未満、０．５％以下、特に０．１％以下である。
　ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯの含有量は０～５０％である。ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯの含有量が多くなると、熱膨張係数や密度が高くなり過ぎ、またガラス組成の成分バランスを欠いて、耐失透性が低下し易くなり、高い液相粘度を確保し難くなる。よって、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯの含有量は５０％以下であり、好ましくは４５％以下、４０％以下、３５％以下、３３％以下、特に３０％以下である。なお、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯの含有量が少なくなると、屈折率ｎｄを高め難くなる。よって、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯの含有量は１％以上、５％以上、１０％以上、１５％以上、２０％以上、２２％以上、特に２５％以上が好ましい。
　ＭｇＯは、屈折率ｎｄ、ヤング率、歪点を高める成分であると共に、高温粘度を低下させる成分であるが、多量にＭｇＯを含有させると、液相温度が上昇して、耐失透性が低下したり、密度や熱膨張係数が高くなり過ぎる。よって、ＭｇＯの含有量は１０％以下、５％以下、３％以下、２％以下、１．５％以下、１％以下、特に０．５％以下が好ましい。
　ＣａＯの含有量は０～３０％が好ましい。ＣａＯの含有量が多くなると、密度、熱膨張係数が高くなり易く、その含有量が３０％を超えると、ガラス組成のバランスを欠いて、耐失透性が低下し易くなる。よって、ＣａＯの含有量は３０％以下、２０％以下、１５％以下、１３％以下、１１％以下、特に１０％以下が好ましい。なお、ＣａＯの含有量が少なくなると、溶融性が低下したり、ヤング率が低下したり、屈折率ｎｄが低下し易くなる。よって、ＣａＯの含有量は２％以上、４％以上、６％以上、特に８％以上が好ましい。
　ＳｒＯの含有量は０～２０％が好ましい。ＳｒＯの含有量が多くなると、屈折率ｎｄ、密度、熱膨張係数が高くなり易く、その含有量が２０％を超えると、ガラス組成のバランスを欠いて、耐失透性が低下し易くなる。よって、ＳｒＯの含有量は２０％以下、１５％以下、１２％以下、８％以下、特に６％以下が好ましい。なお、ＳｒＯの含有量が少なくなると、溶融性が低下し易くなり、また屈折率ｎｄが低下し易くなる。よって、ＳｒＯの含有量は０．５％以上、１％以上、２％以上、３％以上、特に３．５％以上が好ましい。
　ＢａＯは、アルカリ土類金属酸化物の中ではガラスの粘性を極端に低下させずに、屈折率ｎｄを高める成分であり、その含有量は０～４０％が好ましい。ＢａＯの含有量が多くなると、屈折率ｎｄ、密度、熱膨張係数が高くなり易い。しかし、ＢａＯの含有量が４０％を超えると、ガラス組成のバランスを欠いて、耐失透性が低下し易くなる。よって、ＢａＯの含有量は４０％以下、３０％以下、２５％以下、特に２０％以下が好ましい。但し、ＢａＯの含有量が少なくなると、所望の屈折率ｎｄを得難くなる上、高い液相粘度を確保し難くなる。よって、ＢａＯの含有量は０．５％以上、１％以上、２％以上、５％以上、特に１０％以上が好ましい。
　ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＺｒＯ２＋ＴｉＯ２の含有量を適正に規制すれば、高い液相粘度を維持しつつ、屈折率ｎｄを高めることが可能になり、その含有量は０～３０％である。ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＺｒＯ２＋ＴｉＯ２の含有量が３０％より多くなると、ガラス組成の成分バランスを欠いて、ガラスが失透し易くなるため、液相粘度が低下し易くなる。また密度や熱膨張係数が高くなり過ぎる。よって、ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＺｒＯ２＋ＴｉＯ２の含有量は３０％以下であり、好ましくは２８％以下、２５％以下、２２％以下である。なお、ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＺｒＯ２＋ＴｉＯ２の含有量が少なくなると、屈折率ｎｄが低下し易くなる。よって、ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＺｒＯ２＋ＴｉＯ２の含有量は５％以上、１０％以上、１５％以上、１８％以上、特に２０％以上が好ましい。
　Ｌａ２Ｏ３は、屈折率ｎｄを高める成分である。Ｌａ２Ｏ３の含有量が多くなると、密度、熱膨張係数が高くなり過ぎ、また耐失透性が低下し易くなる。よって、Ｌａ２Ｏ３の好適な含有範囲は０～２５％、０～１５％、０．１～１０％、０．１～７％、０．１～５％、特に０．５～３％である。
　Ｎｂ２Ｏ５は、屈折率ｎｄを高める成分である。Ｎｂ２Ｏ５の含有量が多くなると、密度、熱膨張係数が高くなり過ぎ、また耐失透性が低下し易くなる。よって、Ｎｂ２Ｏ５の好適な含有範囲は０～２０％、０～１２％、０～８％、０～４％、特に０．１～３％である。
　ＴｉＯ２は、屈折率ｎｄを高める成分である。ＴｉＯ２の含有量が多くなると、耐失透性が低下し易くなる。よって、ＴｉＯ２の好適な含有範囲は０～２０％、０．１～１８％、０．５～１５％、１～１２％、２～１０％、特に３～８％である。
　ＺｒＯ２は、屈折率ｎｄを高める成分である。ＺｒＯ２の含有量が多くなると、耐失透性が低下し易くなる。よって、ＺｒＯ２の好適な含有範囲は０～２０％、０～１５％、０．１～１２％、０．１～１０％、０．１～８％、特に０．５～５％である。
　モル比Ｂ２Ｏ３／ＳｉＯ２は０～１である。モル比Ｂ２Ｏ３／ＳｉＯ２が大きくなると、ガラスが分相し易くなり、耐失透性の低下を招き易くなる。よって、モル比Ｂ２Ｏ３／ＳｉＯ２は０～１であり、好ましくは０～０．８、０～０．６、０～０．５、０～０．４、０～０．２、０～０．１、特に０～０．０５である。
　モル比ＳｉＯ２／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５）を適正に規制すれば、耐失透性、高い液相粘度を維持しつつ、高屈折率化を図り易くなる。モル比ＳｉＯ２／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５）が大きくなると、密度が低下し易くなり、また液相粘度が高くなり易いが、屈折率ｎｄが低下し易くなる。よって、モル比ＳｉＯ２／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５）は６以下であり、好ましくは５以下、４以下、３．５以下、３以下、２．５以下、特に２．３以下である。一方、モル比ＳｉＯ２／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５）が小さくなると、所望の屈折率ｎｄを確保し難くなり、また熱膨張係数が高くなり過ぎる場合がある。よって、モル比ＳｉＯ２／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５）は０．１以上であり、好ましくは０．５以上、１以上、１．２以上、１．３以上、１．５以上、特に１．８以上である。
　モル比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋Ｇｄ２Ｏ３）を適正に規制すれば、耐失透性、高い液相粘度を維持しつつ、高屈折率化を図り易くなる。モル比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋Ｇｄ２Ｏ３）が０．９９より大きいと、高屈折率化を図り難くなり、また高い液相粘度を確保し難くなる。よって、モル比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋Ｇｄ２Ｏ３）は０．９９以下であり、好ましくは０．９８以下、０．９７以下、特に０．９６以下である。一方、モル比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋Ｇｄ２Ｏ３）が０．１未満になると、ガラス組成の成分バランスを欠いて、逆に耐失透性が低下し易くなる。よって、モル比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋Ｇｄ２Ｏ３）は０．１以上であり、好ましくは０．３以上、０．５以上、０．６以上、０．７以上、０．８以上、０．８４以上、０．９以上、０．９２以上、特に０．９５以上である。
　Ｇｄ２Ｏ３は、屈折率ｎｄを高める成分である。Ｇｄ２Ｏ３の含有量が多くなると、耐失透性が低下し易くなる。よって、Ｇｄ２Ｏ３の好適な含有範囲は０～１０％、０～８％、０．１～５％、０．１～４％、０．２～３％、特に０．３～２％である。
　上記成分以外にも、任意成分として、例えば以下の成分を添加することができる。
　Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏは、ガラスの粘性を低下させる成分であり、また熱膨張係数を調整する成分であるが、多量に含有させると、ガラスの粘性が低下し過ぎて、高い液相粘度を確保し難くなる。よって、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏの含有量は１５％以下、１０％以下、５％以下、２％以下、１％以下、０．５％以下、特に０．１％以下が好ましい。なお、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏの含有量は、それぞれ１０％以下、８％以下、５％以下、２％以下、１％以下、０．５％以下、特に０．１％以下が好ましい。ここで、「Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ」は、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ、及びＫ２Ｏの合量を指す。
　清澄剤として、Ａｓ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３、ＣｅＯ２、ＳｎＯ２、Ｆ、Ｃｌ、ＳＯ３の群から選択された一種又は二種以上を０～３％添加することができる。但し、Ａｓ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３、及びＦ、特にＡｓ２Ｏ３、及びＳｂ２Ｏ３は、環境的観点から、その使用を極力控えることが好ましく、それぞれの含有量は０．１％未満が好ましい。以上の点を考慮すると、清澄剤として、ＳｎＯ２、ＳＯ３、及びＣｌが好ましい。特に、ＳｎＯ２の含有量は０～１％、０．０１～０．５％、特に０．０５～０．４％が好ましい。また、ＳｎＯ２＋ＳＯ３＋Ｃｌの含有量は０～１％、０．００１～１％、０．０１～０．５％、特に０．０１～０．３％が好ましい。ここで、「ＳｎＯ２＋ＳＯ３＋Ｃｌ」は、ＳｎＯ２、ＳＯ３、及びＣｌの合量を指す。
　ＰｂＯは、高温粘性を低下させる成分であるが、環境的観点から、その使用を極力控えることが好ましく、その含有量は０．５％以下が好ましく、実質的に含有しないことが望ましい。ここで、「実質的にＰｂＯを含有しない」とは、ガラス組成中のＰｂＯの含有量が１０００ｐｐｍ（質量）未満の場合を指す。
　第３実施形態の高屈折率ガラスにおいて、各成分の好適な含有範囲を組み合わせて、好適なガラス組成範囲とすることが可能である。その中でも、好適なガラス組成範囲の具体例は以下の通りである。
（１）ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３　５０～７０％、ＳｉＯ２　５０～７０％、Ｂ２Ｏ３　０～１０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ　２０～３５％、ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＺｒＯ２＋ＴｉＯ２　１５～２５％を含有し、モル比Ｂ２Ｏ３／ＳｉＯ２が０～１、モル比ＳｉＯ２／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５）が１～２．５、モル比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋Ｇｄ２Ｏ３）が０．６～０．９９であると共に、屈折率が１．５５～２．３、
（２）ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３　５５～７０％、ＳｉＯ２　５５～７０％、Ｂ２Ｏ３　０～５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ　２２～３３％、ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＺｒＯ２＋ＴｉＯ２　１５～２５％を含有し、モル比Ｂ２Ｏ３／ＳｉＯ２が０～０．５、モル比ＳｉＯ２／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５）が１．２～２．５、モル比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋Ｇｄ２Ｏ３）が０．７～０．９９であると共に、屈折率が１．５５～２．３、
（３）ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３　６０～７０％、ＳｉＯ２　６０～７０％、Ｂ２Ｏ３　０～０．５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ　２５～３０％、ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＺｒＯ２＋ＴｉＯ２　２０～２５％を含有し、モル比Ｂ２Ｏ３／ＳｉＯ２が０～０．１、モル比ＳｉＯ２／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５）が１．８～２．３、モル比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋Ｇｄ２Ｏ３）が０．９～０．９９であると共に、屈折率が１．５５～２．３、
（４）ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３　６０～７０％、ＳｉＯ２　６０～７０％、Ｂ２Ｏ３　０～０．１％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ　２５～３０％、ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＺｒＯ２＋ＴｉＯ２　２０～２５％を含有し、モル比Ｂ２Ｏ３／ＳｉＯ２が０～０．１、モル比ＳｉＯ２／（Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＲＯ）が１．８～２．３、モル比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋Ｇｄ２Ｏ３）が０．９５～０．９９であると共に、屈折率が１．５５～２．３。
　第３実施形態の高屈折率ガラスにおいて、屈折率ｎｄは１．５５以上であり、好ましくは１．５８以上、１．６以上、１．６３以上、１．６５以上、１．６７以上、１．６９以上、１．７以上、特に１．７１以上である。屈折率ｎｄが１．５５未満になると、ＩＴＯ－ガラス界面の反射によって光を効率良く取り出せなくなる。一方、屈折率ｎｄが２．３より高くなると、空気－ガラス界面での反射率が高くなり、ガラス表面に粗面化処理を施しても、光の取り出し効率を高めることが困難になる。よって、屈折率ｎｄは２．３以下であり、好ましくは２．２以下、２．１以下、２．０以下、１．９以下、特に１．７５以下である。
　第３実施形態の高屈折率ガラスにおいて、液相温度は１２００℃以下、１１５０℃以下、１１３０℃以下、１１１０℃以下、１０９０℃以下、特に１０７０℃以下が好ましい。また、液相粘度は１０３．０ｄＰａ・ｓ以上、１０３．５ｄＰａ・ｓ以上、１０４．０ｄＰａ・ｓ以上、１０４．５ｄＰａ・ｓ以上、１０４．８ｄＰａ・ｓ以上、１０５．１ｄＰａ・ｓ以上、１０５．３ｄＰａ・ｓ以上、特に１０５．５ｄＰａ・ｓ以上が好ましい。このようにすれば、成形時にガラスが失透し難くなり、オーバーフローダウンドロー法でガラス板を成形し易くなる。
　第３実施形態の高屈折率ガラスにおいて、密度は５．０ｇ／ｃｍ３以下、４．８ｇ／ｃｍ３以下、４．５ｇ／ｃｍ３以下、４．３ｇ／ｃｍ３以下、３．７ｇ／ｃｍ３以下、３．６ｇ／ｃｍ３以下、３．４ｇ／ｃｍ３以下、特に３．３ｇ／ｃｍ３以下が好ましい。このようにすれば、デバイスを軽量化することができる。なお、「密度」は、周知のアルキメデス法で測定可能である。
　第３実施形態の高屈折率ガラスにおいて、３０～３８０℃における熱膨張係数は５０×１０－７／℃～１００×１０－７／℃、６０×１０－７／℃～９５×１０－７／℃、６５×１０－７／℃～９０×１０－７／℃、６５×１０－７／℃～８５×１０－７／℃、特に７０×１０－７／℃～８０×１０－７／℃が好ましい。近年、有機ＥＬ照明、有機ＥＬデバイス、色素増感太陽電池において、デザイン的要素を高める観点から、ガラス板に可撓性が要求される場合がある。可撓性を高めるためには、ガラス板の厚みを小さくする必要があるが、この場合、ガラス板とＩＴＯ、ＦＴＯ等の透明導電膜の熱膨張係数が不整合であると、ガラス板が反り易くなる。そこで、３０～３８０℃における熱膨張係数を上記範囲とすれば、このような事態を防止し易くなる。なお、「３０～３８０℃における熱膨張係数」は、ディラトメーター等で測定可能である。
　第３実施形態の高屈折率ガラスにおいて、歪点は６３０℃以上、６５０℃以上、６７０℃以上、６９０℃以上、特に７００℃以上が好ましい。このようにすれば、デバイスの製造工程における高温の熱処理によりガラス板が熱収縮し難くなる。
　第３実施形態の高屈折率ガラスにおいて、１０２．５ｄＰａ・ｓにおける温度は１４００℃以下、１３５０℃以下、１３００℃以下、特に１２５０℃以下が好ましい。このようにすれば、溶融性が向上するため、ガラスの製造効率が向上する。
　第３実施形態の高屈折率ガラスは、板状（フィルム状を含む）であることが好ましい。また、厚みは１．５ｍｍ以下、１．３ｍｍ以下、１．１ｍｍ以下、０．８ｍｍ以下、０．６ｍｍ以下、０．５ｍｍ以下、０．３ｍｍ以下、０．２ｍｍ以下、特に０．１ｍｍ以下が好ましい。厚みが小さい程、可撓性が高まり、デザイン性に優れた照明デバイスを作製し易くなるが、厚みが極端に小さくなると、ガラスが破損し易くなる。よって、厚みは１０μｍ以上、特に３０μｍ以上が好ましい。
　第３実施形態の高屈折率ガラスは、板状（フィルム状を含む）の場合、少なくとも一方の面が未研磨であることが好ましい。ガラスの理論強度は、本来非常に高いのであるが、理論強度よりも遥かに低い応力でも破壊に至ることが多い。これは、ガラス表面にグリフィスフローと呼ばれる小さな欠陥が成形後の工程、例えば研磨工程等で生じるからである。よって、ガラス表面を未研磨とすれば、本来のガラスの機械的強度を損ない難くなるため、ガラスが破壊し難くなる。また、ガラス表面を未研磨とすれば、研磨工程を省略できるため、ガラス板の製造コストを低廉化することができる。
　第３実施形態の高屈折率ガラスにおいて、少なくとも一方の表面（但し、有効面）の表面粗さＲａは１０Å以下、５Å以下、３Å以下、特に２Å以下が好ましい。表面粗さＲａが１０Åより大きいと、その面に形成されるＩＴＯの品位が低下し、均一な発光を得難くなる。
　第３実施形態の高屈折率ガラスは、オーバーフローダウンドロー法で成形されてなることが好ましい。このようにすれば、未研磨で表面品位が良好なガラス板を製造することができる。その理由は、オーバーフローダウンドロー法の場合、表面になるべき面は樋状耐火物に接触せず、自由表面の状態で成形されるからである。樋状構造物の構造や材質は、所望の寸法や表面精度を実現できる限り、特に限定されない。また、下方への延伸成形を行うために、溶融ガラスに対して、力を印加する方法も特に限定されない。例えば、充分に大きい幅を有する耐熱性ロールを溶融ガラスに接触させた状態で回転させて延伸する方法を採用してもよいし、複数の対になった耐熱性ロールを溶融ガラスの端面近傍のみに接触させて延伸する方法を採用してもよい。
　オーバーフローダウンドロー法以外にも、例えば、ダウンドロー法（スロットダウン法、リドロー法等）、フロート法、ロールアウト法等を採用することができる。
　第３実施形態の高屈折率ガラスは、ＨＦエッチング、サンドブラスト等によって、一方の面に粗面化処理を行うことが好ましい。粗面化処理面の表面粗さＲａは１０Å以上、２０Å以上、３０Å以上、特に５０Å以上が好ましい。粗面化処理面を有機ＥＬ照明等の空気と接する側にすれば、粗面化処理面が無反射構造になるため、有機発光層で発生した光が有機発光層内に戻り難くなり、結果として、光の取り出し効率を高めることができる。またリプレス等の熱加工によって、ガラス表面に凹凸形状を付与してもよい。このようにすれば、ガラス表面に正確な反射構造を形成することができる。凹凸形状は、屈折率ｎｄを考慮しながら、その間隔と深さを調整すればよい。さらに、凹凸形状を有する樹脂フィルムをガラス表面に貼り付けてもよい。
　大気圧プラズマプロセスにより粗面化処理すれば、一方の表面の表面状態を維持した上で、他方の表面に対して、均一に粗面化処理を行うことができる。また、大気圧プラズマプロセスのソースとして、Ｆを含有するガス（例えば、ＳＦ６、ＣＦ４）を用いることが好ましい。このようにすれば、ＨＦ系ガスを含有したプラズマが発生するため、粗面化処理の効率が向上する。
　なお、成形時に表面に無反射構造を形成する場合、粗面化処理しなくても同様の効果を享受することができる。
　第３実施形態の高屈折率ガラスを製造する方法を例示する。まず所望のガラス組成になるように、ガラス原料を調合して、ガラスバッチを作製する。次いでこのガラスバッチを溶融、清澄した後、所望の形状に成形する。その後、所望の形状に加工する。
　以下、第一～三の発明の実施例を説明する。なお、これら発明は、以下の実施例に何ら限定されない。
　表１～４は、第一の発明の実施例（試料Ｎｏ．１～１７）を示している。なお、これら実施例は、第二の発明および第三の発明の実施例も兼ねている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
　まず、表１～４に記載のガラス組成になるように、ガラス原料を調合した後、得られたガラスバッチをガラス溶融炉に供給して１５００～１６００℃で４時間溶融した。次に、得られた溶融ガラスをカーボン板の上に流し出して板状に成形した後、所定のアニール処理を行った。最後に、得られたガラス板について、種々の特性を評価した。
　密度は、周知のアルキメデス法によって測定した値である。
　熱膨張係数は、ディラトメーターを用いて、３０～３８０℃における平均熱膨張係数を測定した値である。測定試料として、φ５ｍｍ×２０ｍｍの円柱状試料（端面はＲ加工されている）を用いた。
　歪点Ｐｓは、ＡＳＴＭ　Ｃ３３６－７１に記載の方法に基づいて測定した値である。なお、歪点Ｐｓが高い程、耐熱性が高くなる。
　徐冷点Ｔａ、軟化点Ｔｓは　ＡＳＴＭ　Ｃ３３８－９３に記載の方法に基づいて測定した値である。
　高温粘度１０４．０ｄＰａ・ｓ、１０３．０ｄＰａ・ｓ、１０２．５ｄＰａ・ｓ、及び１０２．０ｄＰａ・ｓにおける温度は、白金球引き上げ法で測定した値である。なお、これらの温度が低い程、溶融性に優れる。
　液相温度ＴＬは、標準篩３０メッシュ（５００μｍ）を通過し、５０メッシュ（３００μｍ）に残るガラス粉末を白金ボートに入れ、温度勾配炉中に２４時間保持して、結晶の析出する温度を測定した値である。また、液相粘度ｌｏｇ１０ηＴＬは、液相温度におけるガラスの粘度を白金球引き上げ法で測定した値を指す。なお、液相粘度が高く、液相温度が低い程、耐失透性、成形性に優れる。
　屈折率ｎｄは、２５ｍｍ×２５ｍｍ×約３ｍｍの直方体試料を作製した後、（Ｔａ＋３０℃）から（歪点－５０℃）までの温度域を０．１℃／ｍｉｎになるような冷却速度でアニール処理し、続いて屈折率が整合する浸液をガラス間に浸透させながら、カルニュー社製の屈折率測定器ＫＰＲ－２００を用いて測定した値である。　
　また、試料Ｎｏ．８、１６、及び１７に記載のガラス組成になるように、ガラス原料を調合した後、得られたガラスバッチを連続窯に投入し、１５００～１６００℃の温度で溶融した。続いて、得られた溶融ガラスに対して、オーバーフローダウンドロー法による成形を行い、厚み０．５ｍｍのガラス板を得た。得られたガラス板に対して、平均表面粗さ（Ｒａ）を測定したところ、その値はいずれも２Åであった。なお、平均表面粗さ（Ｒａ）は、ＪＩＳ　Ｂ０６０１：２００１に準拠した方法で測定した値である。　　　
　以下、第四～六の発明の実施例を説明する。なお、これらの発明は、以下の実施例に何ら限定されない。
　表５、６は、第四の発明の実施例（試料Ｎｏ．１８～３１）を示している。なお、これら実施例は、第五の発明および第六の発明の実施例も兼ねている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
　まず、表５、６に記載のガラス組成になるように、ガラス原料を調合した後、得られたガラスバッチをガラス溶融炉に供給して１５００～１６００℃で４時間溶融した。次に、得られた溶融ガラスをカーボン板の上に流し出して板状に成形した後、所定のアニール処理を行った。最後に、得られたガラス板について、種々の特性を評価した。
　密度は、周知のアルキメデス法によって測定した値である。
　熱膨張係数は、ディラトメーターを用いて、３０～３８０℃における平均熱膨張係数を測定した値である。測定試料として、φ５ｍｍ×２０ｍｍの円柱状試料（端面はＲ加工されている）を用いた。
　歪点Ｐｓは、ＡＳＴＭ　Ｃ３３６－７１に記載の方法に基づいて測定した値である。なお、歪点Ｐｓが高い程、耐熱性が高くなる。
　徐冷点Ｔａ、軟化点Ｔｓは　ＡＳＴＭ　Ｃ３３８－９３に記載の方法に基づいて測定した値である。
　高温粘度１０４．０ｄＰａ・ｓ、１０３．０ｄＰａ・ｓ、１０２．５ｄＰａ・ｓ、及び１０２．０ｄＰａ・ｓにおける温度は、白金球引き上げ法で測定した値である。なお、これらの温度が低い程、溶融性に優れる。
　液相温度ＴＬは、標準篩３０メッシュ（５００μｍ）を通過し、５０メッシュ（３００μｍ）に残るガラス粉末を白金ボートに入れ、温度勾配炉中に２４時間保持して、結晶の析出する温度を測定した値である。また、液相粘度ｌｏｇ１０ηＴＬは、液相温度におけるガラスの粘度を白金球引き上げ法で測定した値を指す。なお、液相粘度が高く、液相温度が低い程、耐失透性、成形性に優れる。
　屈折率ｎｄは、まず２５ｍｍ×２５ｍｍ×約３ｍｍの直方体試料を作製した後、（Ｔａ＋３０℃）から（歪点－５０℃）までの温度域を０．１℃／ｍｉｎになるような冷却速度でアニール処理し、続いて屈折率が整合する浸液をガラス間に浸透させながら、カルニュー社製の屈折率測定器ＫＰＲ－２００を用いて測定した値である。
　また、試料Ｎｏ．１８～２０、２５、及び２８～３１に記載のガラス組成になるように、ガラス原料を調合した後、得られたガラスバッチを連続窯に投入し、１５００～１６００℃の温度で溶融した。続いて、得られた溶融ガラスに対して、オーバーフローダウンドロー法による成形を行い、厚み０．５ｍｍのガラス板を得た。得られたガラス板に対して、平均表面粗さ（Ｒａ）を測定したところ、その値はいずれも２Åであった。なお、平均表面粗さ（Ｒａ）は、ＪＩＳ　Ｂ０６０１：２００１に準拠した方法で測定した値である。
　以下、第七～九の発明の実施例を説明する。なお、これらの発明は、以下の実施例に何ら限定されない。
　表７～１０は、第七の発明の実施例（試料Ｎｏ．３２～５０）を示している。なお、これら実施例は、第八の発明および第九の発明の実施例も兼ねている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000010
　まず、表７～１０に記載のガラス組成になるように、ガラス原料を調合した後、得られたガラスバッチをガラス溶融炉に供給して１５００～１６００℃で４時間溶融した。次に、得られた溶融ガラスをカーボン板の上に流し出して板状に成形した後、所定のアニール処理を行った。最後に、得られたガラス板について、種々の特性を評価した。
　密度は、周知のアルキメデス法によって測定した値である。
　熱膨張係数は、ディラトメーターを用いて、３０～３８０℃における平均熱膨張係数を測定した値である。測定試料として、φ５ｍｍ×２０ｍｍの円柱状試料（端面はＲ加工されている）を用いた。
　歪点Ｐｓは、ＡＳＴＭ　Ｃ３３６－７１に記載の方法に基づいて測定した値である。なお、歪点Ｐｓが高い程、耐熱性が高くなる。
　徐冷点Ｔａ、軟化点Ｔｓは　ＡＳＴＭ　Ｃ３３８－９３に記載の方法に基づいて測定した値である。
　高温粘度１０４．０ｄＰａ・ｓ、１０３．０ｄＰａ・ｓ、１０２．５ｄＰａ・ｓ、及び１０２．０ｄＰａ・ｓにおける温度は、白金球引き上げ法で測定した値である。なお、これらの温度が低い程、溶融性に優れる。
　液相温度ＴＬは、標準篩３０メッシュ（５００μｍ）を通過し、５０メッシュ（３００μｍ）に残るガラス粉末を白金ボートに入れ、温度勾配炉中に２４時間保持して、結晶の析出する温度を測定した値である。また、液相粘度ｌｏｇ１０ηＴＬは、液相温度におけるガラスの粘度を白金球引き上げ法で測定した値を指す。なお、液相粘度が高く、液相温度が低い程、耐失透性、成形性に優れる。
　屈折率ｎｄは、２５ｍｍ×２５ｍｍ×約３ｍｍの直方体試料を作製した後、（Ｔａ＋３０℃）から（歪点－５０℃）までの温度域を０．１℃／ｍｉｎになるような冷却速度でアニール処理し、続いて屈折率が整合する浸液をガラス間に浸透させながら、カルニュー社製の屈折率測定器ＫＰＲ－２００を用いて測定した値である。　
　また、試料Ｎｏ．３２、３３、３５、３６、３８、４０、４２、４４、４５、４７、４９、及び５０に記載のガラス組成になるように、ガラス原料を調合した後、得られたガラスバッチを連続窯に投入し、１５００～１６００℃の温度で溶融した。続いて、得られた溶融ガラスに対して、オーバーフローダウンドロー法による成形を行い、厚み０．５ｍｍのガラス板を得た。得られたガラス板に対して、平均表面粗さ（Ｒａ）を測定したところ、その値はいずれも２Åであった。なお、平均表面粗さ（Ｒａ）は、ＪＩＳ　Ｂ０６０１：２００１に準拠した方法で測定した値である。

Claims (37)

  1. 　ガラス組成として、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３を０．１～６０質量％含有し、質量比（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３）が０．１～５０、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）が０～１０、質量比（ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５）が０．００１～４０、屈折率ｎｄが１．５５～２．３であることを特徴とする高屈折率ガラス。
  2. 　液相粘度が１０３．０ｄＰａ・ｓ以上であることを特徴とする請求項１に記載の高屈折率ガラス。
  3. 　板状であることを特徴とする請求項１又は２に記載の高屈折率ガラス。
  4. 　オーバーフローダウンドロー法又はスロットダウン法で成形されてなることを特徴とする請求項３に記載の高屈折率ガラス。
  5. 　少なくとも一方の面が未研磨であり、且つ未研磨面の表面粗さＲａが１０Å以下であることを特徴とする請求項３又は４のいずれかに記載の高屈折率ガラス。
  6. 　照明デバイスに用いることを特徴とする請求項１～５のいずれかに記載の高屈折率ガラス。
  7. 　有機ＥＬ照明に用いることを特徴とする請求項６に記載の高屈折率ガラス。
  8. 　有機太陽電池に用いることを特徴とする請求項１～５のいずれかに記載の高屈折率ガラス。
  9. 　有機ＥＬディスプレイに用いることを特徴とする請求項１～５のいずれかに記載の高屈折率ガラス。
  10. 　ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２　５～５０％、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３　２０～５０％を含有すると共に、質量比（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３）が０．１～５、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）が０．１～１．５、質量比（ＴｉＯ２＋ＺｒＯ２）／（ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５）が０．０５～２、屈折率ｎｄが１．６～２．２であることを特徴とする高屈折率ガラス。
  11. 　板状であり、屈折率ｎｄが１．６以上、液相粘度が１０４．０ｄＰａ・ｓ以上、少なくとも一方の面の表面粗さＲａが１０Å以下、厚みが０．１～１．０ｍｍであることを特徴とする高屈折率ガラス。
  12. 　ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２　１０～６０％、Ｂ２Ｏ３　０～５％、ＢａＯ　０．１～６０％、Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５　０．１～４０％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ　０～１０％を含有すると共に、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ）／（ＳｒＯ＋ＢａＯ）の値が０～０．５、歪点が６００℃以上、屈折率ｎｄが１．５５～２．３であることを特徴とする高屈折率ガラス。
  13. 　液相粘度が１０３．０ｄＰａ・ｓ以上であることを特徴とする請求項１２に記載の高屈折率ガラス。
  14. 　ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２　１５～６０％、Ｂ２Ｏ３　０～５％、ＢａＯ　０．１～４０％、Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５　０．１～３０％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ　０～５％を含有すると共に、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ）／（ＳｒＯ＋ＢａＯ）の値が０～０．５、歪点が６３０℃以上、屈折率ｎｄが１．５５～２．２であることを特徴とする請求項１２又は１３に記載の高屈折率ガラス。
  15. 　ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２　２０～６０％、Ｂ２Ｏ３　０～５％、ＢａＯ　５～４０％、Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５　０．１～２５％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ　０～３％を含有すると共に、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ）／（ＳｒＯ＋ＢａＯ）の値が０～０．４、歪点が６５０℃以上、屈折率ｎｄが１．５５～２．１であることを特徴とする請求項１２～１４のいずれかに記載の高屈折率ガラス。
  16. 　密度が４．０ｇ／ｃｍ３以下であることを特徴とする請求項１２～１５のいずれかに記載の高屈折率ガラス。
  17. 　板状であることを特徴とする請求項１２～１６のいずれかに記載の高屈折率ガラス。
  18. 　オーバーフローダウンドロー法又はスロットダウンドロー法で成形されてなることを特徴とする請求項１７に記載の高屈折率ガラス。
  19. 　少なくとも一方の面が未研磨であり、その未研磨面の表面粗さＲａが１０Å以下であることを特徴とする請求項１７又は１８に記載の高屈折率ガラス。
  20. 　照明デバイスに用いることを特徴とする請求項１２～１９のいずれかに記載の高屈折率ガラス。
  21. 　有機ＥＬ照明に用いることを特徴とする請求項２０に記載の高屈折率ガラス。
  22. 　有機太陽電池に用いることを特徴とする請求項１２～１９のいずれかに記載の高屈折率ガラス。
  23. 　有機ＥＬディスプレイに用いることを特徴とする請求項１２～１９のいずれかに記載の高屈折率ガラス。
  24. 　ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ２　２５～６０％、Ｂ２Ｏ３　０～５％、ＢａＯ　２０～４０％、Ｌａ２Ｏ３　０．１～１０％、Ｎｂ２Ｏ５　０．１～１０％、Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５　０．１～２０％、Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ　０～０．１％を含有すると共に、質量比（ＭｇＯ＋ＣａＯ）／（ＳｒＯ＋ＢａＯ）の値が０～０．２、屈折率ｎｄが１．５５～２．０であることを特徴とする高屈折率ガラス。
  25. 　板状であり、実質的にＰｂＯを含有せず、屈折率ｎｄが１．５５～２．０、歪点が６３０℃以上、液相粘度が１０４ｄＰａ・ｓ以上、３０～３８０℃における熱膨張係数が４５×１０－７／℃～９５×１０－７／℃、厚みが０．０５～１．５ｍｍ、少なくとも一方の面の表面粗さＲａが３０Å以下であることを特徴とする高屈折率ガラス。
  26. 　ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３　２０～７０％、ＳｉＯ２　２０～７０％、Ｂ２Ｏ３　０～３０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ　０～５０％、ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＺｒＯ２＋ＴｉＯ２　０～３０％を含有し、モル比Ｂ２Ｏ３／ＳｉＯ２が０～１、モル比ＳｉＯ２／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５）が０．１～６、モル比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋Ｇｄ２Ｏ３）が０．１～０．９９であると共に、屈折率が１．５５～２．３であることを特徴とする高屈折率ガラス。
  27. 　液相粘度が１０３．０ｄＰａ・ｓ以上であることを特徴とする請求項２６に記載の高屈折率ガラス。
  28. 　ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３　３０～７０％、ＳｉＯ２　３０～７０％、Ｂ２Ｏ３　０～１５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ　５～４５％、ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＺｒＯ２＋ＴｉＯ２　１５～３０％、モル比Ｂ２Ｏ３／ＳｉＯ２が０～１、モル比ＳｉＯ２／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５）が０．５～５、モル比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋Ｇｄ２Ｏ３）が０．３～０．９９であると共に、屈折率が１．５５～２．３であることを特徴とする請求項２６又は２７に記載の高屈折率ガラス。
  29. 　ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３　４０～７０％、ＳｉＯ２　４０～７０％、Ｂ２Ｏ３　０～１０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ　１０～４０％、ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＺｒＯ２＋ＴｉＯ２　１５～２５％を含有し、モル比Ｂ２Ｏ３／ＳｉＯ２が０～１、モル比ＳｉＯ２／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５）が１～３、モル比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋Ｇｄ２Ｏ３）が０．５～０．９９であると共に、屈折率が１．５５～２．３であることを特徴とする請求項２６～２８のいずれかに記載の高屈折率ガラス。
  30. 　密度が４．５ｇ／ｃｍ３以下であることを特徴とする請求項２６～２９のいずれかに記載の高屈折率ガラス。
  31. 　オーバーフローダウンドロー法又はスロットダウンドロー法で成形されてなることを特徴とする請求項２６～３０のいずれかに記載の高屈折率ガラス。
  32. 　照明デバイスに用いることを特徴とする請求項２６～３１のいずれかに記載の高屈折率ガラス。
  33. 　有機ＥＬ照明に用いることを特徴とする請求項３２に記載の高屈折率ガラス。
  34. 　有機太陽電池に用いることを特徴とする請求項２６～３１のいずれかに記載の高屈折率ガラス。
  35. 　有機ＥＬディスプレイに用いることを特徴とする請求項２６～３１のいずれかに記載の高屈折率ガラス。
  36. 　ガラス組成として、モル％で、ＳｉＯ２＋Ａｌ２Ｏ３＋Ｂ２Ｏ３　６０～７０％、ＳｉＯ２　６０～７０％、Ｂ２Ｏ３　０～１％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ　２５～３０％、ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋ＺｒＯ２＋ＴｉＯ２　１５～２５％を含有し、モル比Ｂ２Ｏ３／ＳｉＯ２が０～０．１、モル比ＳｉＯ２／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５）が１．５～２．５、モル比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋Ｌａ２Ｏ３＋Ｎｂ２Ｏ５＋Ｇｄ２Ｏ３）が０．８～０．９９であると共に、屈折率が１．５５～２．３、密度が４．５ｇ／ｃｍ３以下であることを特徴とする高屈折率ガラス。
  37. 　ＰｂＯを含有せず、屈折率が１．５５～２．０、液相粘度が１０３．０ｄＰａ・ｓ以上、密度が４．０ｇ／ｃｍ３以下であることを特徴とする高屈折率ガラス。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015036351A (ja) * 2013-08-13 2015-02-23 日本電気硝子株式会社 ガラス板の製造方法及びガラス板

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8999871B2 (en) * 2011-05-25 2015-04-07 Nippon Electric Glass Co., Ltd. High refractive index glass
KR101493601B1 (ko) 2013-07-17 2015-02-13 쌩-고벵 글래스 프랑스 발광 디바이스용 적층체 및 그의 제조 방법
KR101493612B1 (ko) 2013-10-08 2015-02-13 쌩-고벵 글래스 프랑스 발광 디바이스용 적층체 및 그의 제조 방법
GB201505097D0 (en) * 2015-03-26 2015-05-06 Pilkington Group Ltd Glass
JP2017032673A (ja) * 2015-07-30 2017-02-09 日本電気硝子株式会社 導光板及びこれを用いた積層導光板
DE102016107934B4 (de) 2016-04-28 2023-07-13 Schott Ag Verfahren zur Herstellung hochbrechender Dünnglassubstrate
WO2018021221A1 (ja) * 2016-07-28 2018-02-01 旭硝子株式会社 光学ガラスおよび光学部品
JP6695318B2 (ja) * 2017-12-27 2020-05-20 Hoya株式会社 円盤状ガラス基板の製造方法、薄板ガラス基板の製造方法、導光板の製造方法及び円盤状ガラス基板
WO2019208057A1 (ja) * 2018-04-25 2019-10-31 日本電気硝子株式会社 波長変換部材及びそれを用いた発光装置
DK3887329T3 (da) 2018-11-26 2024-04-29 Owens Corning Intellectual Capital Llc Højydelsesglasfibersammensætning med forbedret elasticitetskoefficient
WO2020112396A2 (en) 2018-11-26 2020-06-04 Ocv Intellectual Capital, Llc High performance fiberglass composition with improved specific modulus
KR20200100901A (ko) * 2019-02-18 2020-08-27 삼성디스플레이 주식회사 발광 소자 및 이를 포함하는 표시 장치
CN110342816B (zh) * 2019-08-27 2021-11-02 江西理工大学 一种玻璃态固体电解质及其制备方法
WO2023129891A1 (en) * 2022-01-03 2023-07-06 Rutgers, The State University Of New Jersey Hard and crack resistant glass
WO2023227595A1 (de) * 2022-05-25 2023-11-30 Saint-Gobain Glass France Verbundscheibe mit reflexionselement
CN115010363A (zh) * 2022-06-01 2022-09-06 河北光兴半导体技术有限公司 高折射率玻璃组合物和高折射率玻璃及其制备方法和应用

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5950048A (ja) * 1982-09-16 1984-03-22 Ohara Inc 光学ガラス
JPH09255355A (ja) * 1996-03-18 1997-09-30 Asahi Glass Co Ltd 基板用ガラス組成物

Family Cites Families (30)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1075807B (de) * 1958-08-07 1960-02-18 JENAer Glaswerk Schott &. Gen Mainz Alumimumoxydreiches Lanthanborosilikatglas
DE1093521B (de) * 1959-01-09 1960-11-24 Leitz Ernst Gmbh Optisches Glas
US3578470A (en) * 1968-11-12 1971-05-11 Dov Bahat Bao-al2o3-sio2 glass-ceramic materials
US3964918A (en) * 1974-02-22 1976-06-22 Corning Glass Works Barium borosilicate optical glasses
DE2660012C2 (de) * 1975-06-02 1983-12-22 Hoya Glass Works, Ltd, Tokyo Gläser für Augenlinsen mit einem Brechungsindex von mindestens 1,70, einem Abbe-Wert von 40 und einem spezifischen Gewicht von nicht mehr als 3,0g/cm↑3↑
FR2348163A1 (fr) * 1976-04-16 1977-11-10 Corning Glass Works Verre a haut indice de refraction et faible densite
JPS594390B2 (ja) * 1977-01-27 1984-01-30 株式会社保谷硝子 光学ガラス
FR2530235A1 (fr) * 1982-07-16 1984-01-20 Corning Glass Works Verres a haut indice de refraction, faible dispersion et faible densite
ES2153599T3 (es) 1995-10-18 2001-03-01 Corning Inc Vidrios de alta indice que absorben radiacion uv.
TWI250135B (en) * 2001-10-15 2006-03-01 Hoya Corp Optical glass, glass material for press molding, optical element, and method of manufacturing same
DE10309495B4 (de) * 2003-02-25 2006-02-16 Schott Ag Aluminosilikatglas und dessen Verwendung
DE10311802B4 (de) * 2003-03-12 2006-03-02 Schott Ag Boroaluminosilikatglas und dessen Verwendung
EP1604959A1 (en) 2004-06-02 2005-12-14 Kabushiki Kaisha Ohara An optical glass
WO2007097345A1 (ja) * 2006-02-20 2007-08-30 Asahi Glass Co., Ltd. 光学ガラス
JP5085049B2 (ja) * 2006-03-31 2012-11-28 Ｈｏｙａ株式会社 モールドプレス用ガラス素材、該ガラス素材の製造方法、及びガラス光学素子の製造方法
KR20090018048A (ko) * 2006-05-02 2009-02-19 니혼 이타가라스 가부시키가이샤 유리 조성물 및 이것을 이용한 유리 스페이서
JP2008233547A (ja) * 2007-03-20 2008-10-02 Hoya Corp 車載カメラ用レンズ硝材及び車載カメラ用レンズ
JP5467490B2 (ja) * 2007-08-03 2014-04-09 日本電気硝子株式会社 強化ガラス基板の製造方法及び強化ガラス基板
US8003556B2 (en) * 2007-09-28 2011-08-23 Ohara Inc. Optical glass
EP2206690B1 (en) * 2007-10-05 2016-03-30 Olympus Corporation Optical glass, and optical device having the optical glass
WO2009044874A1 (ja) * 2007-10-05 2009-04-09 Olympus Corporation 光学ガラス及びこれを使用した光学装置
EP2233446A4 (en) * 2007-12-11 2015-02-18 Olympus Corp OPTICAL GLASS AND OPTICAL DEVICE USING THE SAME
JP5327702B2 (ja) 2008-01-21 2013-10-30 日本電気硝子株式会社 ガラス基板の製造方法
US8338320B2 (en) 2008-05-30 2012-12-25 Hoya Corporation Optical glass, preform for precision press-molding, optical element, methods for manufacturing thereof, and imaging device
JP4948569B2 (ja) * 2008-06-27 2012-06-06 Ｈｏｙａ株式会社 光学ガラス
KR101446971B1 (ko) * 2009-03-19 2014-10-06 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 무알칼리 유리
TWI527783B (zh) 2009-07-08 2016-04-01 日本電氣硝子股份有限公司 玻璃板
WO2011019010A1 (ja) * 2009-08-10 2011-02-17 Hoya株式会社 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板およびその製造方法、ならびに磁気記録媒体
US8835336B2 (en) * 2009-11-26 2014-09-16 Konica Minolta Advanced Layers, Inc. Optical glass and optical element
CN103221354A (zh) * 2010-10-18 2013-07-24 Ocv智识资本有限责任公司 高折射指数的玻璃组合物

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5950048A (ja) * 1982-09-16 1984-03-22 Ohara Inc 光学ガラス
JPH09255355A (ja) * 1996-03-18 1997-09-30 Asahi Glass Co Ltd 基板用ガラス組成物

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015036351A (ja) * 2013-08-13 2015-02-23 日本電気硝子株式会社 ガラス板の製造方法及びガラス板

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