WO2004083193A1

WO2004083193A1 - アミド化合物およびこれを含有する殺菌剤組成物

Info

Publication number: WO2004083193A1
Application number: PCT/JP2004/003223
Authority: WO
Inventors: Takashi Komori; Hiroshi Sakaguchi
Original assignee: Sumitomo Chemical Company, Limited
Priority date: 2003-03-17
Filing date: 2004-03-11
Publication date: 2004-09-30

Description

明細書

アミド化合物およびこれを含有する殺菌剤組成物技術分野

本発明はァミン部分に 5員の含窒素芳香族環を有するアミド化合物およびこれを含有する殺菌剤組成物に関する。背景技術

従来より、植物病害防除効力を有する種々の化合物が開発され、多数の化合物が殺菌剤組成物の有効成分として実用に供されているが、その防除効力は十分ではない場合がある。発明の開示

本発明は、アミド化合物（1 )

[式中、は、下記の式（A)、（B )、（C )、 (D) または（E )

で示される基を表し； X¹ は OR⁴基を表し、 Y¹ は水素原子を表:: f:か、あるいは X ¹ と Y¹ とが一緒になつて、 =〇基または = NOR⁵基を表し； R¹ '水素原子、ノヽロゲン原子、 C 1— C 3ァノレキノレ基、 C 1— C 3ハロアルキル基また.は C 1—C 3 アルコキシ基を表し； R² は水素原子、ハロゲン原子または C 1,一 C 3アル'キル基を表すか、あるいは R¹ と R² とが一緒になつて、 ..トリメチレン基、ノテトラメチレン基または CH = CH— CH二 CH基を表し； R³—は C 1:, C 3アルキル基または C 3— C 4アルキニル基を表し、 R⁴ ば水^原'ぞ Γ· IT ' C、3ァキル基または C 3—C 4アルキニル基を表し、 R⁵ は. C 1'一 C 3アルキル基または C — C 4アルキニル基を表す。〕 ^Γ"

で示されるアミド化合物（以下、本発明化合物と記す。）,.を提供する。 3

[式中、 X¹、 Y R\ R²及び R³ は前記と同じ意味を表す。]

、アミド化合物（1一 2)

[式中、 X Y\ R\ R²、 R³及び R⁶ は前記と同じ意味を表す。] ァミド化合物（ 1一 3 )

[式中、 X Y R\ R²、 R³及び R⁶ は前記と同じ意味を表す。] アミド化合物（1— 4 ) -

[式中、 X¹、 Y\ R\ R²、 R³及び R⁶ は前記と同じ意味を表す。] 、アミド化合物（1— 5 )

[式中、 X¹、 Y¹, R R²、 R³及び R⁶ は前記と同じ意味を表す。] 、了ミド化合物（ 1一 6 )

[式中、は、前記と同じ意味を表す。] 、ァミド化合物（ 1一 7 ) … 一

( 1-7)

[式中、 R ¹、 R²、 R³、 R⁵

は、前記と同じ意味を表す。] を提供する。 ―

また、本発明化合物を有効成分として含有する菌剤組成物及び本発明化合物の有効量を植物または土壌に処理することを特徴とする植物病害防除方法を提供する。本発明において、 - R ¹ で表されるハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子があげられ、 C 1—C 3アルキル基としては、メチル基、ェチル基、プ口ピル基、イソプロピル基があげられ、 C 1一 C 3ハロアルキル基としては、フルォロメチル基、ジフルォロメチル基、トリフルォロメチル基または 2， '2 2—トリフルォロェチル基があげられ、 C 1— C 3 Tルコキシ基としては、：メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基があげられ、 '

R² で表されるハロゲン原子としては、例えば塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子があげられ、 C 1—C 3アルキル基としてはメチル基、ェチル基、プロピル基、イソプロピル基があげられ、 — '- ― ..

R³ で表される C 1—C 3アルキル基としては、メチル基、ェチル基、プロピル基、イソプロピル基があげられ、 C 3— C 4アルキニル基としては 2—プロピニル基、 1 一メチル— 2—プロビュル基、 2—ブチュル基、 3—ブチニル基があげられ；. R で表される C 1—C 3アルキル基としては、メチル基、ェチル基、プロピル基、ィソプロピル基があげられ、 C 3— C 4アルキニル基としては、 2—プロピニ ¾、 1 一メチル— 2—プロピニル基、 2—ブチニル基、 3—ブチニル基があげられ、 R⁵ で表される C 1—C 3アルキル基としては、メチル基、ェチル基、プロピル基、イソプロピル基があげられ、 C 3— C 4アルキニル基としては、 2—プロピニル基、 1 一メチル— 2—プロピニル基、 2—ブチュル基、 3—ブチニル基があげられ、 R⁶で表される C 1—C 4アルキル基としては、メチル基、ェチル基、プロピル基があげられる。 ..：:.- 本発明の態様としては、例えば以下の化合物があげられる。

式（1) において、 R¹ が水素原子、ハロゲン原子または C 1—C 3アルキル基であるアミド化合物； - 式（1) において、 X¹ が OR⁴基であり、 Y¹ が水素原子であるアミド化合物；式（1) において、 X¹ が〇R⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり、 R⁴が水素原子であるアミド化合物；

式（1) において、 X¹ が OR⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり、 1¾⁴がじ 1ー〇 3アルキル基であるアミド化合物；

式（1) において、 X¹ が OR⁴基であり、 Ύ¹ が水素原子であり、 R^ C3—C 4アルキニル基であるアミド化合物； - · -- 式（1) において、 X¹ が OR⁴基であり'、 Y¹ が水素原子であり、 R⁴が C 3— C 4アルキニル基であるアミド化合物； " '

式（1) において、 X¹ と Y¹ が一緒にな ^:つ = NO—R ⁵基であるアミ 'ド化合物；式（1) において、 X¹ と Y¹ が一緒になつて = NOR⁵基であり、 R⁵ が C 1—— C 3アルキル基であるアミド化合物； "- ： ^: 一式（1) において、 R¹ が水素原子であるァ -ミド化合物；

式（1) において、 R¹ がハロゲン原子であるアミ-ド化合物； -- 式（1) において、 R¹ が塩素原子であるアミド化合物；一

式（1) において、 R¹ が C 1一 C' 3アルギル基であるァミド化合物；

式（1) において、 R¹ がメチル基であるアミド化合物；

式（1) において、 R² が水素原子であるアミド化合物； - 式（1) において、 R² がハロゲン原子あるアミド化合物； - 式（1) において、 R² が塩素原子であるアミド化合物；

式（1) において、 R² が C 1 _ C 3アルキル基で-あるァミド化合物；—

式（1) において、 R² がメチル基であるアミド化合物；

式（1) において、 R¹ と R² とが一緒になつてトリメチレン基であるアミド化合物；

式（1) において、 R¹ と R² とが一緒になつてテトラメチレン基であるアミド化合物；

式（1) において、 R¹ と R² とが一緒になつて CH = CH— CH二て H基であるァミド化合物；

式（1) において、 R³が C 1—C 3アルキル基であるアミド化合物； - 式（1) において、 R³ がメチル基であるアミド化合物；

式（1) において、 R³ がェチル基-であるアミド化合物； - 式（1) において、 R³ が C 3 _ C 4アルキ^ル基であるァミド化合物；

式（1) において、 R³ が 2—プロ—ビュル基であるアミド化合物； - 式（1) において、 X¹ が OR'¹基で 'あり Y¹ が水素原子であり R⁴ が水素原子であるアミド化合物；. -.—

式（1) において、 X¹ が OR⁴基であり Y¹ が水素原子であり、が C 1一 C

3アル-キル基であるアミド化合物；

式（1) において、 X¹ が OR⁴基であり Y¹ が水素原子であり、 R⁴ がメチル基であるアミド化合物；

式（1) において、 X¹ が OR⁴基であり YV.が水素原子であり、 R⁴ が C 3— C

4アルキニル基であるアミド化合物；

式（1) において、 X¹ が OR⁴基であり Y二が水素原子であり、 R⁴,が 2—-プロ - ビュル基であるアミド化合物；

式（1) において、 X¹ と Y¹ とが一緒になつで = NOR⁵基でありく- R が C 1— C 3アルキル基であるアミド化合物-; .. ― ' - 式（1) において、 X¹—と Y¹ とが一緒になつ-で = NOR⁵基であり、 —： R⁵.:がメチル基であるアミド化合物；： - ' ' '

式（1) において、 X¹ と Y¹ とが一緒になつて NOR⁵基であり R³ がェチル基であるアミド化合物；

式（1) において、 X) と Y¹ とが一緒になって = N〇R⁵基であり R⁵ -が C 3 -

C 4アルキニル基であるアミド化合物；： -. 式（1) において、 X¹ と Y¹ とが -緒になて = NOR⁵基であり R'⁵ が 2—プロビニル基であるアミド化合物； . - —一一一

,式（1) において、 R¹ がハロゲン原子であ:り.、 R² が水素原子であ—るアミド化合物；： · ： - - - - -. - - - - 式（ 1 ) において、 R¹ が塩素原子-であり、 R² が水素原子であるァミド化合物；式（1) において、 R¹ が臭素原子であり、； ²'が水素原子であるアミド化合物； - 式（1) において、 R¹ が CT一 G—3アルキノ基であり.、 R² が水素原子であるァミド化合物； -ー .一 ' . - 式（1) において、 R¹ がメチル基であり、 R² が水素原子であるアミド化合物；式（1) において、 R¹ がェチル基であり、 R² が水素原子であるアミド化合物；式（1) において、 R³ が C 1—C 3アルキル基であり、 X¹ が OR⁴基であり、 Y 1 が水素原子であり、 R⁴ が C 3— C 4アルキ-ル基であるアミド化合物-;

式（1) において、 R³がメチル基であり '、· X¹が OR⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり、 R⁴ が C 3— C 4アルキニル基であるァミド化合物；」 - . · =； 5 式 (1) において、 ¹ が C 1— C.3アルキ;レ基であり、 R³-が C 1.一 C 3·アルキル基であり、 X¹ が〇R⁴基であり-、 · Υ¹·が水素原子であり、 R⁴ が G3— C4—アルキニル基であるアミド化合物； ― — ： . · ' 式（1) において、 R¹ が C 1—G 3ァノレキル基であり、 R³.がメチル基であ.り ■ ■ X¹ が OR⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり、 - R⁴ が C:3— C'4—アルキエル基であ

10 るアミド化合物； - · -: '： -

- 式（1) において、 R¹ がハロゲン原子であり、 R³ が C 1— C 3アルキル基であり、 X¹ が OR⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり R⁴ が. C 3—C- 4アルキニル基であるアミド化合物；： + — - 式（1)·において、 R¹ がハロゲン原子であり、 R³-がメチル基であり、 X¹ が OR 15" ⁴ 基であり、 Y¹ が水素原子であり、 R⁴ が C_.3 - C アルキニル基であるアミ 'ド化合物； ― - -— -

— 」式（1) において、 R¹ が C 1一 3アルキル基であり、 R² が水素原子であ¹! R³ がメチル基であり、 X¹ が OR⁴ 基であり、 Y¹ が水素原子-であり、 R⁴ が C3 —C 4アルキニル基であるアミド化合物； - ' . - ノ—

20 式（1) において、 R¹ がメチル基であり、 R² が水素原子であり:、 R³.がメチル基 " であり-、 X ¹ が O R ⁴基であり、 Y が水素原子であり、： R ⁴.が C 3— G- 4アルキ二 - ル基であるアミド化合物；

-： · 式（1) において、 R¹ がェチル基であり、 R² :が水素原子であり、 R³-がメチル基- であり； X¹ が OR⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり、 R⁴ が C3— C4アルキニ 25 ル基であるアミド化合物； .. ， . ： -- - , - - ― 式（1) において、 R¹ がハロゲン原子であり； -R²二が水素原子であり-、' R³ がメチ .. ル基であり、 X¹ が O R⁴基であり Y¹ が水素原子であり、 R⁴ が C 3 - C 4アル：キニル基であるアミド化合物； ―

, 式（1) において、 R¹ が塩素原子であり、 R²_が水素原子であり、 R³がメチル基 30 であり、 X¹ が OR⁴基であり、 Y卜が水素原子であり、 R⁴ が C 3— C 4アルキ- ル基であるアミド化合物； .·- · .：.- - 、 - .. .' ·· - . ：: 式（1) において、 R¹ が臭素原子であり、 R²-が水素原子であ:り R³—がメチル基- であり、 X ¹ が O R ⁴基であり、 Yしが水素原子であり、-二 R ⁴ が C， 3 C 4アルキ : ル基であるアミド化合物； · ·. ' .. ： - -

式（1— 1) において、 R¹ が水素原子、ハロゲン原子または C 1 C 3ァノレキノレ基であるアミド化合物； '- - 1- 1) において、 R¹ が水素原子であるアミド化合物；

1- 1) において、 R' がハ口-ゲン原子であるアミ.ド化合物.； - ··. 1 - 1) において、 R¹ が塩素原子であるアミド化合物；

1— 1) において、 R¹ が C 1一 C 3アルキル基であるァド化合物；

1- 1) ·において、- R¹ がメチル基であるアミド化合物；： - ·. 1 - 1)-において、 R² が水素原子であるアミ卞化合物； - ' 1一 1 ) において、 R² がハロゲン原子であるアミド化合物.；

1― 1)—において、 R² が塩素原子であるアミド化合物'； " r - 1- 1) において、 R² が C 1— C 3アルキル基である；ァミド化合物；

1- 1) において、 R² がメチル基であるアミド化合物； . ― '- - ' 1-1) において、 R¹ と R² とが一緒になつてトリメチレン基であるアミド化合物-; - ,

式（1— 1) において、 R¹ と R² とが一緒になつてテトヲメヂレン基であるアミド化合物；：- ；- ：

式（1— 1) において、 R¹ と R²:とが一緒になつて CH = CH二 CH= CH基であるアミド化合物；

式 (1 -1) において R³ 'が C 1—C 3アルキル基であるアミ _ド化合物 -; .

式（1— 1) -において、 R³ がメチル基であるアミド化合物；一 . - 式（1— 1) において、 - R³ がェチル基であるァミド化合物；' - - ' '·:

式（1— 1) において、 R³ が C 3—— C 4アルキ^ル基であるァド化合物；式（1— 1) において、 R³ が 2——プロピエル基であるァミド化合物； ' ：式（1— 1) において、 X¹ が OR⁴基であり Y¹ が水素原子であり R が水素原子であるアミド化合物； - - - ' ' - 式（1一 1) において、 X¹ が OR⁴基であり、 Y¹ が水素 1 チ ?あり- R が C- —C 3アルキル基であるアミド化合物；一- "- 式（1— 1) において、 X¹ が OR⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり R⁴ がメ_チル基であるアミド化合物； - 式（1— 1) において、 X¹ が OR⁴基であり Y¹ が水素原子であり、- R⁴ が C 3 -C 4アルキニル基であるアミド化合物；

式（1— 1) において、 X¹ が OR⁴基であり Y¹ が水素原子であり.、 R⁴ が 2 プ口ビュル基であるアミド化合物； ... - 式（1— 1) におい-て、 X¹ ど Y¹ とが緒にな-づ"：0 N OR 基であり、 R⁵ が- C 1一 C 3アルキル基であるアミド化合物；: … ' — ：〜. - 式（1— 1) において、 X¹ と Y¹ とが一緒になつて = NOR⁵基であり、 R⁵ がメチル基であるアミド化合物； . . . . - ：- 式（1—1) において、 X¹ と Y¹ とが一緒に-なつて； NOR⁵基であり、 R⁵ がェチル基であるアミド化合物； -. . . ;:- 「 · · — 式（1— 1) において、 X¹ と Y¹ とが一緒になつて = NOR⁵基であり、 R⁵ が C 3—C 4アルキニル基であるアミド化合物 ·.. - — - -: Γ - 式（1— 1) において、 X⁴ と Y¹ とが一緒になつて = NQR⁵基であり、 R⁵-が 2 5 —プピニル基であるアミド化合物-; . . ― . . r -：： - : - ： ' 式（1— 1) において、 R¹ がハロゲン原子;であ:り.、 R² が水素原子」であ-るミ:ド化合物； - ^ - —： - - -. ：式（1一 1) において、 R¹ が塩素原子であり、 R^? 力水素原子-で-おるア :卞化合' ノ .. - ：： . — — 一， . . . . — . 10 式（i— iy において、 R¹ が臭素原子であり、； R² が水素原子であるァ-ミド化合

- 物； . - - —, 式（1— 1) において、 R¹ が C 1. C 3アルキル基であり、 R² が水素原子であ - るアミド化合物； ·. -- ：. i- i 式（1— 1) において、 R¹ がメチル基であり、 R² が水素原子であるアミド化合 15 物 ; - ： . : + - ';. : - - -：: ：- 式（1— 1) において、 R¹ がェチル基であり、 R² が水素原子であるアミド化合物： - 一 + . . . -

- 式（ 1— 1 )において、 R³ が C 1— C 3アルキル基であり、 X·¹ が QR⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり、 R⁴ が C 3 C 4アルキニル基であるアミ匕合物—; · - - 20 式（—1— 1) において、 R³ がメチル基であり、 X¹ が OR⁴基であり、 Y が水素- 原子であり、 R⁴ が C 3— C 4ァノ :キニル基であるアミ—.ド化合物-に - - - - ニ. 一- 式（ 1— 1 ) において、 R¹ が C 1— C-3ァソレキル基であり、 R³ が C 1— C 3ァ— ルキル基であり、 X¹ が OR'¹ 基であり、 Y¹ 力 S水素原子であり、 R⁴ が C 3— C 4 -' アルキニル基であるアミド化合物； ' -· ■·—'

25 式ズ1ー1) において、 R¹ が C 3ブル-キノレ.-基であり、 Rさ :が-メチル基であり、 X¹ が〇R⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり、 R⁴：が C 3 - C 4アルキル基- ... であるアミド化合物；： . - ·'

式（1一 1) において、 R¹ がハゲン原子-であ 1、 R が C 1 _'G 3アルキル基 ,であり、 X¹ が OR'¹基であり、 · Y¹ が水素原子であり-、 R⁴—が C3 -G 4アルキニ 30 ル基であるアミド化合物； - - - - " へ; -: - 式（1— 1) において、 R¹ がハロゲ^:原子であり、 -'R³.がメ.チル基であり、 X] - が OR'¹基であり、 Y¹ が水素原子であり、 R⁴ が: C :3— C 4アルキニル基であるミド化合物；； - — · ' , : - ノ — ' 式（1— 1) において、 R¹ が C 1-— C 3-アルキノレ基であり、； ²-が水素原子であ 35 り、 R³ がメチル基であり、 X¹ が OR⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり、 R⁴ が - C 3—C 4アルキニル基であるアミ .ド化合物；：, - - - 式'（1— 1) において、 R¹ がメチル基であ-り、， R² が水素原子であり、 R³ がメチ —ノレ基であり、 X¹ が OR'¹基であり、 Ύ¹ が水素原子であり、 R⁴ が C3— C4-アルキニル基であるアミド化合物； . .. . Γ· · '- ,·-- - 式 (1 - 1 ) -において、— R¹ がェチル基であり—、 R²:が水素原子であり、- R³ が--メ―チル基であり； X¹ が OR⁴基であり、 -Y¹ 'が水素原寻であり、 R⁴が C 3— C 4アルキニル基であるミ.ド化合物；： · - - ■-·. . .--..· — 式（—1— 1)·において、 R¹ がハ口'ゲン原子であり、 R² が水素原子であり、 R³ —がメチル基であり、 X¹ が OR⁴-基で 'あり、 Y'¹ が水素原子であり'、が

4アルキニル基であるアミド化合物 . -- ― 式（1— 1- ) において、 R¹ が塩素原子であ，、 R² :が水素原子であり R-³:がメチル基であり、 X¹ が OR⁴基であり/、. -Y¹ が水素原子であり、 R⁴ が C3— C4アルキニル基であるアミド化合物；：ー一. . ： — 式（1 1) において、—— R¹ が臭素原子であり. R² が水素原子であり、.. R³ がメチル基であり、 X¹ が〇R⁴基であり、 Y¹ が水素原子であ^、 R⁴ が C-3—G.4アルキニル基であるァ-ミド化合物.;. - -: - ：

式（1— 2) または式（1 3) におレ\て.、 - R¹ が水素原子、ハロゲン原子または C 1 - C 3アルキル基であるァミド化合物：：.. -; - ': --- . - ' 式 (1-2) または式 ( 1一 3) において、 R¾ が- C 1 -C 3アルキル基であるス - ニノレビラゾール化合物；： -一- - - - -二 ― .. : ：， - . 式（1— 2) または式（1一 3) において、:. R がメチル基であるフヱニルビラゾ - ール化合物； " — · — — . _ ： . ： - 式（1— 2) または式（1一 3) お.レ、て、 -R ¹：がハ口ゲ Jg子であるフエニノレビ --- ラゾール化合物； · ' V ¹ ：

• 5 式（1— 2) または式（1一 3) におで R が塩素原子で.あるフエルピゾ- ― ール化合物「 - - . - 二 . . ： — ·； .

式（ 1一 2 ) または式（ 1一 3 ) において、 R² .が水素原子-であるフ.:ェニノレビラゾール化合物； -. - . — ⁷ ；：- 式（1一 2) ·.または式（1一 3) において、: -.R²:」が: C:l ' C^:3アルキル基であるフ 10 ^: ェニルビラゾール化合物； - ： '

式（1— 2) または式（1一 3- ) においで、 - R² -がハロゲン原子であるフエ」二/レ-ピラゾール化合物； -一一

式（1— 2)' または式（1—3 において、 R ⁶が C 1—C 3アルキル基である.化' 合物； - . ： . - ― ；

15 式（ 1一 2 ) または式（ 1一 3 ) において-、：. R がメ-チ基であるフェ -ルピラゾール化合物； .

式（1— 2) または式（1— 3) において、 R ⁶が水素原子であるフエ-ルビラゾ —ル化合物； - -— ... ― . - 式（1— 2) または式（1— 3)— において、 R³が C 1一 C 3アルキル基でおるフ 20 ェニルビラゾール化合物； ' . 、

式（ 1一 2 ) または式（ 1— 3 ) おいて、 - R ³カメチノ基であるフエ二ルビラゾ一ノレィ匕合物； ^^ - '^ - _:

- -式（1— 2) またほ式（1一 3) において、 X·¹ が O- R⁴基であり:、 Y¹ が水素原子であり、 R ⁴が水素原子であるフエニルピラゾ一ル化合物； - -. -

25 式（1— 2) または式（1— 3) において、 X¹ が OR ⁴基で牟：り.、 Y¹-が水素原子であり、 R⁴が C 1—C3アルキル基であるフエ二ルビラゾール化合物；：- . .. 式（1— 2) または式（1— 3) において、 X¹ が OR ⁴基であり、... Y¹ が水素:原子であり、 R⁴がメチル基であるフエ二ルビラゾール化合物； ―' ·

,式（1— 2) または式（1— 3) において、 X¹ が. OR-⁴基であり- ΓΥ¹ が水素原子 30 であり、 R ⁴が C 3— C 4アルキニ 5 基であ,るフェニルピラゾル化合物； - 式（ 1— 2 ) または式（ 1— 3 ) において、 X¹ が Ό ⁴基であり、： '' Y¹ が水素原子であり、 R ⁴が 2—プロピニル基 -あ'る'"フエ≤ 'ルピラ '、プール^合 ^;物； - , 式（1— 2) または式（1— 3) において-、 .: X¹ と- Y とが一緒になつて = NQR⁵ 基を表し、 R ⁵が C 1一 C 3-アルキル基であるフエ- sルどラヅニル化合物:;

35 式（1— 2) または式（1— .3) において、 — X¹ と Ύ¹·-とが一緒になつて FNOR.⁵ ' 基を表し、 R ⁵がメチル基であるフ-ェニル.ビラゾール '化合物.； - ' 式（1— 2) または式（1— 3) において、 X¹ と Y¹ とが一緒になつて. = NOR⁵ — 基を表し、 R ⁵が C 3— C 4ァノレキニル基であるフエ二ルビラゾーノレ化合物-;

式（1— 2) または式（1— 3) において、 X¹ と Y-¹ とが一緒になつて. = N.OR⁵ 基を表し, R ⁵が 2-—プロ'ピニル基である-フエ-ルビラゾール化合物 ― ―. - 5 ^:-式（1 ^ 2) または式（1— 3:) において、 X¹ と .とがー緒なつ.て- =0基.を表すフエ-ルビラゾール化合物；： —- "-: ？式（1— 2) またば式 (1—3) において、 R¹ が C 1—C 3アルキノ基であり； R² が水素原子であるフヱニルビラゾール化合物

式（1— 2) または式（1— 3) において、 R¹ がチル基であり、 R.²-が水素原 10. 子であるフエ二ルビラゾール化合物； — - . -

'- 式（1— 2) またば式（1— 3) において、- R¹ がハゲン原子であり、. R².が水素原子であるフエ二ルビラゾール化合物. — - - -式 ( 1一 2) または式.（.1— 3) において、 R¹ が塩素原子であ—.り、 R²-.が水素原 ―子であるフェニルビラゾール化合物； - 15 式（1— 2) または式（1— 3) において、 X¹ が OR⁴基であ-り Y¹.が水素原であり、 R⁴が C 1— C 3アルキル基であり.、 R ³が C 1—C 3アルキル基であるフニノレビラゾール化合物； - .:；-. ： :

式（1— 2) または式 ( 1 - 3) において、 ' X¹ が〇R ⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり、 R⁴が C 1—C 3アルキノレ基であり、 R ⁶-が水素原子であり-、 R³が C1— 20 . G 3アルキル基であるフエニルピラゾール化合物 ·；："

- 式 (1 - 2) または式（1一 3 にお-いて、 X' が. QR⁴基であり ·、 Y±.が水素原子であり、 R⁴が C 1—C 3アルキル基であり、 R⁶がメチル基であり、尺³が。 1— ■ - C 3アルキル基であるフエニルビラ」ゾール化合物..； -：. - ' ―. - .

式（1一 2) または式（1— 3) において、 X¹ が 0_R⁴基であり Y-しが水秦原子: 25 であり、 R^ C3— C4アルキニル基であり.、 R が Crl一 C 3-アルキル基であるフエ二ルビラゾール化合物；

- -. -. 式（1— 2) または式（1— 3) において；？:¹ が OR ⁴基であ-り、 Y¹.が水素原子であり、 R ⁴が C 3— C 4アルキニル基であり、 R ⁶が水素原子であり—.、 R ³が— C 1- · - ,一 C'3アルキル基であるフエ二ルビラゾル化合物； - 30 式（ 1— 2 ) または式（ 1— 3.) において、 X¹ が O R ⁴基であり -、 Y^HTK素原子- であり、 R⁴が C 3— C 4アルキニ^基であり、がチル基であり _:、 R3が c.l 一 C 3アルキル基であるフエニルピラゾール化合物；. - : - : — ·-. . A, . ' - 式（1— 2) または式（1 _ 3)—において R¹ が <31.— C3-アルキル基であり、

R² が水素原子であり、 X¹ が OR⁴:基 -あり、： Ύ¹ が水素原子であ-り、 ; R.⁴が C.1- 35 一 C 3アルキル基であり、 R ⁶が水素原子であるフニルピラゾル化合物—；

式 (1 - 2) または式.（ 1一 3 )— において、- .がハログン原子であり-、二- R² が水素原子であり.、 X¹ が OR⁴ '基であ」り、 Y¹ が水素原子であり v—R⁴が — C 3了ルキル基であり、 R ⁶が水素原子であるフエ二ルピラゾ-—ル化合物；. . . -' 式（ 1一 2 ) または式—（ Γ 3 ) において、：. R】 C.1一 C 3-アルキ基であり、 R² が水素原子であり、 X¹ が OR 基であ-り、:. -Y¹ -が水素原子で-あ ¾、- - .R.⁴が Ο 一 C 3.アルキル基であり、- R がメチル基であるフエニルピ -ラ-ゾール化合物； - . '式（1— 2) または式（1— 3) おレヽて—-、 R ¹ -力、口-ゲン原子であり、 R ² が水素原子であり、 X¹ がひ R⁴基であり、' Y¹--が水素原子であり、- R⁴が G 1.— C 3-ァルキル基であり、 R ⁶がメチル基であるフ；^二:ル:ピラヅール化合物：； - 一 -.. · 式（1— 2) または式（1— 3) に-おいて、—； R が CI.— C::3アルキ基であり:、 R²-が水素原子であり、 -X¹ が OR⁴基でありが水素原子であり、 R⁴が C3 •一 C 4アルキ-ノレ基であり、 R ⁶が水素原子であるフ.ェルビラ-ゾール化合物； -. 式（1— 2) または式（1— 3) において、- R¹ がハロゲン原子であり、 R² が水 :素原子であり、 X¹ が OR⁴基であ ¾.、 Y¹ が水素原子であり、 R⁴が C3.— C4;ァルキニル基であり、 R ⁶が水素原子であるフエ二ルビラゾール化合物； ,―

-式 ( 1— 2 ) -または式（ 1—3 ) において、 ¹ 'が- Cユー C 3ァ /レキ基であり'、、 R ² が水素原子であり、 X ¹ が O R ⁴基であ:り、 · Y ¹ が水素原子^ Cあり； - R が C 3 —C 4アルキニル基であり、 R ⁶が-メチル基であるフニルビラゾール化合物；式（ 1— 2 ) または式（ - 1一 3 ) おいて、 · R ¹ ：が-ハ口ゲ原子であ:り ·； R ² が-水素原子であり、 X¹ が OR⁴基であり、 Ύ¹ が水素原子であり、 R⁴が 3 C4ァルキニル基であり、， R ⁶がメチル基であるフエ.エルビラ、/ ル化合物-; , :,·.-

―式（1 _ 2).または式（1— 3) において、 .R¹；-がメチ 7レ基であり、： R² が水素原子であり、 R ³がメチル基であるフ ± ルビラゾノレ化-合物； ■ — - 式 (1-'2) または式（1— 3) において、 R が塩素原子'であり:、 R² が水.素原'. 子であり、 R³がメチル基であるフ.ェニルピラゾ一ル化合物； — -：. -^:

式 ( 1一 4) または式 (1 -：5 ) .において、-: :¹ ·が氷素原子、： ,ヾロゲン原子ま fこは- - C 1一 C.3ァフレキル基であるアミド化合物；— 二.、 · ： ' -:: ' 式（ 1一 4 ) または式（ 1— 5 ) に:おいて、 _R ¹ が: C 1 -C 3アルキル基であ-る-フ - 5 ェ-ルビラゾール化合物； : '. ：: . . .；入：. · - — 式（1— 4) または式（1— 5) において、 R¹ がメチル基であ-るフエニゾレピラ^ - ール化合物； - ；- -: - ：: -. -'; "

- 式（1— 4) または式（1— 5) において、 R¹ がパロゲン原子であ,るフ二ルビ.. ラゾール化合物； - . - . - - ' _：. ： 0 式（1— 4) または式（1— 5) において、— R が塩素原子であるフエ二ルビラゾ _:

- · ール化合物； . ' ' '-: - - - - - ： '-■ 式（1— 4) または式（1一- 5) において、 R² が水素原子であるフニルビラー一ル化合物； .. .. .. J —:—::: ·-. - . - ：■ パ.. - 式（1—4)· または式（1— 5) において、 R² が G.l-^C.3了..ルキル基である.フ 5— .-ェ-ルビラゾール化合物； " - . : . -- · -· · .- ::..· . ·.

式（1—4) または式（1— 5) において、 R² がハ:ロゲ原子であるフエニノレビラゾーノレイ匕合物； π^^; ■ ' - - "· 式（1— 4) または式（1— 5)· において、 R⁶が C 1— C 3ァノ ¾キル基である化 0 式（ 1一 4 ) または式（ 1— 5 ) において、 R ⁶がメチル基であるェニルビラゾ , ール化合物；：- .

式（1— 4) または式（1— 5) に-おいて、. R ⁶が水素厚子であるフエ二ルビラゾ. ール化合物； .. — ：：· .- '·'■- .

式（ 1— 4 ) または式（ 1— 5 )· おいて、、:- ³が C L— C ^:3 ¾レキル基であるフ 25 ェニルピラゾール化合物；？ ^ - · ^;;. . ― 式（1— 4) または式（1— 5) において、 R ³がメチル基であるフ 3ニルビラ.ゾール化合物；

式- (1—4)または式 (1-^5) において、 X¹ が OR ⁴基であり、 Y:¹ が水素原子であり、 R⁴が水素原子であるフエ二ルビラゾール化合物；： . - - 式（1 4) または式（1— 5) において、 X¹ が OR⁴基であり Y¹ が水素原子であり、 R⁴が C 1 C 3アルキル基であるフエルビラゾール化合物.； -V- ： . 式（1— 4- または式（1— 5)·において、 -X¹ が OR ⁴基であり、 Υ· ^が水素原子 5 であり、 R⁴がメチル基であるフエ二ルビラゾ一ル化合物； ... ：- ； - - - ·: 式（1— 4) または式（1— 5) において、 X¹ が 0尺⁴¾であり.、 -Y¹ が水素原子 - であり—、 R⁴が C3— C4アルキニル ¾であるフニル 'ビラ：/ール化合物；- . -- - - 二— 式（1 4) または式（1— 5) に.おいて、 X¹ が OR⁴¾であり、 Y¹ が水素原子であり ^:、 R ⁴が 2—プロピニル基であるフエニルピラゾル化合物； .

:10 式 ( 1 - 4 ) ま -だは式. (1-5) -において、 X¹··と Y¹ とが緒にな :て. = N OR⁵ 基を表し、 R⁵が C 1—C 3アルキル基であるフ-ェ二ルピラゾル化合物 - 式 (1- 4) または式（1— 5).において、 X¹ と _:とがー緒になつr:=.NOR_⁵ - ― 基を表し R⁵がメチル基であるフエ-ルビラヅ一ル化合物； · ·.」 — . -式（1— 4) または式（1— 5).において.、 —X¹ と Y とが一緒になつ-で = NOR ⁵ "15 基を表し、 ⁵が C 3—(34アルキニル基であるフ二ルビラゾル化'合物； r 式 (1-4) または式（1— 5) において、 X¹ と Y¹ -と:が緒になづ:て NOR-⁵- 基を表し、 R⁵が 2—プロピニル基であるフルビラゾール化合物

式（1— 4) または式（1— 5) において、—R¹ C.1.— C 3ァ-ルキル基であり、 - R² が水素原子であるフエ二ルビラゾー/レ化合物 — - - -:

20 式（1—4) または式（1—5) に：おいて、 R¹ がチル基であ:り、 -R.² が水素'原子であるフエ二ルビラゾール化合物-.;: . --· --. - . ； --

， ■ 式 (1-4) または式 (1-5) において、 R¹ がハ：.ロゲン原子であり R² が冰ノ素原子であるフエ二ルビラゾ一ル化合物 - .

- 式（1 4) または式（1— 5) において、： R¹ -が塩素原子であり、 R²-.—が水素原 25 子であるフエニルビラゾール化合物-； ' ^r

式（1 4) または式（1 5) において、 X¹ が QR⁴基であり:、 Ύ¹ -が水素原子 . であり、 R⁴が C I— C3アルキル基-であり、 R³が C I— C3アルキル基であるフ - ェニルビラゾール化合物；：. ： . -..； ■：/■ .：一- 一： -

,式 (1-4) または式 (1-5) において、 X¹ が OR⁴基であり、 Y¹ が水素原子 30- であり、 R ⁴が C 1— C 3アルキノレ基であり、- R が水素原子であり、：-お:³が I一 - C 3アルキル基であるフエニルピラゾ .レ牝合物； -- 式（.1 4) または式（1— 5) において:、. X¹ が QR⁴-基であ； Y.^が水素原子 - であり、 R⁴が C 1—C 3アルキル基であり、 R がメチ-ル基であり、 R-³が C 1—

- C 3アルキル基.であるフヱニルビラ:.ゾール化合物 -:; ·.;-..· ― - -:·:. , -■- ---V . 35 式（1— 4) または式（1— 5) において ^¹ が OR ⁴基であり、 Υ¹· が水素原子 - - - であり、 R ⁴が C 3 _ C 4アルキニル—基であり、 R-_; ³が.. G 1一, C- 3アルキル基であるフエ二ルビラゾール化合物；； V ·' · . - - . -- · .— · ·

-.. 式（1— 4) または式（1— 5) において、 X¹ が OR⁴-—基であり—、 U…が水素原子 • - であり、尺⁴が 3—じ4ァルキニル基でぁり、 ⁶が水素原子でぁり、 ³が 1- — -——C 3アルキノレ基であるフエエルビラゾ一ル化合物' ';.·—— · - - -- . " -- . 5 式（1 4) または式（1— 5) において、 X¹ が OR ⁴基であり、 Y が水素原子 ' であり、 R⁴が C 3— C 4アルキニル基であり、 R⁶.がメチノレ基であり R³が C-1 一 C 3アルキル基であるフエ二ルビテゾ一ル化合物； -- ^:-ノ: ノ —

·" 式（1— 4) または式（1— 5·) において、 R¹ が€ 1— C 3アルキル基であり . R² が水素原子であり、 X¹ が OR⁴基であり、 Y¹. が水素原子であり、 R⁴が C 1 10 -:一 G3アルキル基であり、 R⁶;が水素原子であるフェルピラゾール化合物'； ' - - 式（1 4) - または式（1— 5) において、がハロゲン原子であり、 ; R² が氷- ― - 素原子であり、 X¹ が OR ⁴基であり—、 Y¹ が水秦原子であり—、 R.⁴が C-1— C 3·ァルキル基であり、 R ⁶が水素原子でおるフ二ルピラゾール化合物； - ·· .z '― - - - 式（1 4) .または式（1— 5) において、 R¹ が C 1:.— C 3アルキノ基であ.り-.、：：. 15 R² が水素原子であり、 X¹ が OR⁴.基であり、が水素原子であり、一 R が C l:

' · .—C 3アルキル基であり、 R ⁶がメチル基であるフ二ノレピラゾニノ W匕合物；

式（1— 4) または式（1— 5) において、 R¹ —がハロゲン原子であ-り、」 R² -が水素原子であり、 X¹ が〇R ⁴基であり、 Y¹ が水素原子であり、 R.⁴が C .1— C 3ァルキル基であり、 R⁶がメチル基であるフエルピラゾール化合物； - 20'·- 式（ 1— 4 ) または式（ 1一 5 ) において、 R¹ が C 1一 C .3アルキル基であり、 R² が水素原子であり、 X¹ が OR⁴基で-あり、 - -Y一¹ が-水素原子で.あり； R ⁴が C 3 一 C 4アルキニル基であり、 R ⁶が水素原子であるフェ ^ノレビラブル化合物；：; 式 (1-4) または式 (1— 5) において、 R¹ がハロゲン原子-であり、 . R² が水秦原子であり、 X¹ が〇 R ⁴基であり、 Y¹. が水素原子であり:、 R ⁴が C .3— C 4;ァ 25 ノレキニル基であり、 R⁶が水素原子でおるフエ二.ルビラゾール化合物- .

式 - ( 1 _ 4 ) または式（ 1 _ 5 ) にお-いズ、 -R¹ が C 1 C ,3アルキノー k基で-あり;、: が水素原子であり、 X¹.が OR ⁴基であり、 Y'¹ が水素原子であり R.⁴が C3: 一 C 4アルキニル基であり、 R-⁶が^チル基であるフエ：.二ルピラル化合物.； . ― ,式（1— 4) または式 ( 1 - 5 ) におい'て、 R¹ が、口-ゲン原子であ-り.、 . R²,が水 30 素原子であり、 X¹ が OR⁴基でありが水素原子であり、 R⁴が. G—3 C 4ァフレキ二ル基であり、 R ⁶がメチル基であるフエエルピラヅル化合物「 , - 式（1— 4) または式（1— 5) に:おいて、 - R¹ がメチル基であ-—り、 . R が冰素原子であり、 R ³がメチル基であるフエ-二ルビラゾール化合物； .

- 式 ( I - 4 ) または式（ 1一 5 )'において、 -R】塩素原子.であり、… R² が水素原. _ 35 · 子であり、 R ³がメチル基であるフエ二ルビラゾール化合物； - .. „ 一

：式（1— 6.) において、 R¹ が水素原子、 ^^ -ン^または C.l—C 3アルキル ^ 基でおる.ァ: ド化合物； -ノ - ： - - · - : ' へ- - . て: 式（1 -6 において； -: が水素原子である.ァ:ミド化合物 ;--— ：： - : ：式（1一 6 において、 R¹ 力 ^、口-ダ,ン原子-であるアミ .ド化合物； .. - -- 式（1— 6 において、. R ¹ が塩素原子で:あるァミド化合物；- ； - ― ：- -: - . 式（1— 6 において、 R¹ が C—1 C.3アルキル基-であるアミ.—ド化合物； - · 式 (1一 6 こお-いて、 R^1:がメチル基で ¾¾アミド化合物:;- ■ ノ-, 式（ 1— 6 において、 R²-が水素原子ある.アミ化合物；：.. -：— ·: ノ '■；■'. 式 ( 1- 6 において、 R² がハ口:ゲン原子である了ミド化合物:； ―：:： . . - 式（1— 6 において、— R² が塩素原子であるアミド化合物.; ， · . ■ - ■ 式（1— 6 において、 R² が C 1—C 3-アルキル基.であるアミド化合物；— ：.. -- 式 (1 -6 において、 R² がメレ基である.アミ化合物；：- - —-- 式（1一 6 において、— R¹ ととが一 ¾にな-—つで小リメ:チレン基であるアミ.ド. 化合物；

式（1— 6 において、 R¹ と R² 'とが ,¾ ^ある-ァ.: ド化合物；

式（1— 6. において、 R ¹ と. R ² とが緒:にな:つて OH =- H^ G H = C H基であるアミド匕合物； .

式（1一 6 において、 R³ が C 1；- C 3— レキル基である:'ァ.ミド化合物-；式（1— 6 -において、 R³がメチル基.であるてミド化合物； . -

,式（1— 6 ' において、 R³がェチル基であるアミ:.ド化合物 ■ ：: · 式 (1-6 において、' R³が C 3 C 4アルキ-ニル基であるァ-ミド化合物； - - 式（1— 6 おいて、 R³ が 2—プ :ピ^ル基である;アミド化合物；-」 --- 式（ 1 -6 'において、 R¹ がハ_口-ゲン原子であ：:り';:.: R-² が水素原子で:ある了ミ:ド化合物；

'式 1— 6 において、 R が塩素原子であ: _ ._、· 'R 力 ¾7jく素原子であるアミ化合物； - - 式（Γ_6 において、 R¹ が臭素原子であり、 - R² が水素原子-であるアミド化合物； ' ：■■ - ： .. · '

'式（1— 6) において、 R¹ が C 1—C 3アルキル基であり、 R²-'が水"^原子である.アミド化合物； - · . - ： . G . . - , 式 (1 - 6) において、 R¹ がメチル基であ- -、 R² が水素廐子であるアミド化食. 物； - 一.ノ - - . . ；ニノ - - — · 式 U— 6 ) において、 - R¹ がェチ基であ-:り、- "R². 水素原、子であるァミド化合物；^ i.: --- r- ' ； '· ^;- -" ■ '-

式 (1— 7 において、 R¹ が水素原子であるアミド化合物 . — ■ ..^; 式（1— 7 において、 R¹ がノ、ロダン原子であるアミド化合物；

式（ 1一 7 において、 R¹ が塩素原子であるアミド化合物.； —. V·:-:. . .

(—1一 7 -において、 R¹ が C 1— C 3アルキル基であ.る.アミ..ド化合物； , . 式- (1— .7 において、 ' R¹ がメチゾレ基であるアミ-ド化合物:； - ' 式（1— 7. ^において、 R² が水素原子であるアミ.ド化合物:； _ , . . ^-. 式- (1 - 7 において、 R² がノ、ロゲン原子であるアミド化合物；へ：' --. 式（ 1一 7 において、 R² が塩素原子であるアミ.'ド化合物； - ^; ―.. 式（1 -- 7 において、 R² が C 1 アルキル基であるアミド化合物 ;

式（1ー 7 において、 R² がメチ基であるァミ-ド化合物-;' ：-· ·■ -...-：..- 、―：式（1一 7 において、 R¹ R² とが一緒にな όて'ト Uメチレン基であるアミ..ド化合物； .

式（ 1一 7 において、— R¹ ととが一緒にな ό.てテトラメチレン基で:あるアミ , ド化合物；

式（1一 7 において、 R ¹ ととが緒になて C H'= C Hi-;

あるアミド匕合物； r ： - 一 '； - - ― ； -- - ^ 式（1 _ 7 において、 R³ が C 1 C .3·アルキル基である.'ァ,ミド化合物；. … 式（1一 7 において、— R³ がメチル基であるアミド化合物；： -：. 式（1— 7 こおいて； R³ がェチル基であるアミ -ド化合物:； . - . 式（ 1一 7 において、 R³ が C.3— 4アルキニル基であるァ_ミ-ド化合物；式（1一 7 において、 R³ が 2—ズロビニル基であるアミ.ド:化合物-::; ： ' - 式（1 7) において、 R¹ がハロゲン原子であり、 R² が水素原子であるアミド化合物； - ： . ■ ·

■ 式（1— 7) において、 R¹ —が塩素原子であり、 R² が水素原子であるアミド化合物； -"

5. 式 —（1— 7) において、 R¹ が臭素原子であり、 R² が水素原子であるアミドィ匕合物； - - - ：'-■ - - ： . ■. - 式（1— 7) において、' R¹ が C 1一 C 3アルキル基であり、 R² が水素原子であ— るアミド化合物； - . .

-. 式 - (1— -7) において、 R¹ がメチル基であり、- R² 力 s水素原子であるアミド化合0 物；- . - - ：:ノ . - ' -

• 式（1一 7— ) において、 R¹ がェチル基であり ■- R² が水素原子であるアミド:化合 - 物が挙げられる- ₀ -. ：

；本発明化合物の製造法について明する '

5 本発明化合物は、例えば以下の製造法 1〜 3-により製造ずることができる。製造法 1 - . -- -: -

- アミド化合物（1) うち、化合物（1一 a) は、. 化合物（2) と化合物（-3)·とを塩基の存在下で反応させることにより製造する.こ:.とができる。 - — — - - -

0 (3) ( 1-a

〔式中、 X¹— ¹ は OR'¹— ¹基を表し、 Y¹-しは水素原子を表すか、ある V、は X 人と: , Y¹-— どが一緒になつて、二 N〇R⁵基を表し、 R⁴— ¹ は C 1—C 3アルキル基または C 3— C 4アルキニル基を表し、. R R²、 R-³、 R⁵および

5 は、前記と同じ意味を表す。〕

-該反応は、通常溶媒の存在下でわれる < 反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコ— ルジメチルエーテル、 t e r t—ブチノレメチルェテル等のエーテル類、へキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルェ_ン、キシレン等の芳香族炭ィ匕水 -. 素類、クロ口ベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸ェチル等のェ 5 ステル類、ァセト—二トリル等の二トリフレ類、 -N， N:—ジメチルホルム _:ァ—ミド等の酸 ― アミド類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげら： ' れる。' " - ：- : - - 反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリ _ゥ.ム、炭酸力リゥム等のアル力リ金：属炭酸塩類、トリェチルァミン、 -—ジイソズ口.ピルェチルアミン、 1 , 8: ジァザビ 10 シクロ〔5， 4， Ό] ゥンデジク一 7—ェン、 1， 5—ジァザビシクロ〔4, 3， 0〕ノン— 5—ェン等の第 3級アミ類及びピリジン、 4 -ジメチルァミゾピリジ- ン等の含窒素芳香族化合物類が.あげられる。：: .

化合物（2) 1モルに対して、化合物（3.) が通常 1〜3モルの割合であり、、塩基が通常 1〜10モルの割合である。 -: :： ' . - . ：：:-： . .

15 ― 該反応の反応温度は通常一 20〜 10ひ. の範囲であり反応時間は通常 0. 1- 〜 24時間の範囲である。 — ― ―

反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行う.ことにより:、 ·化合物（1— a).を単離する.ことができ _る。.単離された化合物 (1 -al は、.クロマ小グラフィ— 、.再結晶等によ.:りさらに精製する.こ.とも 20 ：できる。 - - -： - . - - - . 製造法 2 --- - - アミド化合物（1) は、化合物（4) と化合物（5) とを-、塩基の存在下-で-反応させることにより製造することができる。 .

25 ( ⁴し（ ¹ ) -

〔式中、 L¹-は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、. R R²、 R³、 X¹

- γ¹ および ■ . ' -

は前記と同じ意味を表す。〕 -. -. - ノ -.: - . .

- 該反応は、通常溶媒の存在下で行われる-。 ' . · . :- . -ニ - — - ：反応に用いられる溶媒としては、えばテトラヒドロフラン、エチレングリコー

5 ノレジメチルエーテル、 t e r tーブヂルメ'チ:?レエ一テル等のエーテル類:、. キサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素凝斗ルェン;. -キ.シレン等の芳香族 ί匕水素類、クロ口ベンゼン等のハロゲン化炭化水素類.、酢酸ブチル;：酢酸ェチル等のェ' - ステル類、ァセトトリル等の二トリル類、 Ν N—ジ:メチホルムアミ-ド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホシド類及びこ-.れ:らの混合物があげら 10 れる。 - 一：：ー： .

反応に用いちれる塩基としては例え炭酸ナト！ゥ:ム、—炭酸カリ.ゥム等のアルカリ金属炭酸塩及び水素化ナ.トリゥム等の—アル、力リ-金属水素化物類があげられる。:: 化合物（ 4 ) 1モルに対して、化合物 ( 5 力通常 1 2モルの割合であり、塩 :基が通常：！〜 2モルの割合である。 . . ··,· .：二 .. . .. 、.: _>:. _

15 該反応の反応温度は通常一 20 40 の範囲であり、反応日寺間は通常 0. :1 - - 〜24時間の範囲である。 . .. - - /·' 人 . .· - 、 ,：

- 反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処 - 理操作を行うことにより、アミド化合物（1) を単離することができる。単離されたアミド化合物（1) は、クロマト—.グスィー、-再結晶等によりさらに精製するこ. 20 ともできる。 . ― -. ： ■ - . ：— ' - -：製造法 3 ― ——

ァミド化合物（ 1 ) は、化合物 .（ 6 ) と化合物（ 3 ) .と、脱水縮合剤の存在下で反応させることにより製造することができる。 ' · - : ...一 ->·一 - '

I：式中、 R¹、 R²、 R³、 X¹、 -Y¹ および

- は、前記と.同じ意味を表す。〕 - 一一 - - - 該反応は：逋常溶媒の存在下で行おれる。 - - … - -: · ·

' 反応に用いられる溶媒としては、例えば N， N—ジメチルホルムァ'ミド等の酸アミ' 一 5 - ド頻、ジメチルスルホキシド等 ^:のスルホキシド類、，ピリジン、キノリン等の含窒素 — 芳香族化合物-及びこれらの混合物があげられる。 " . -ヘ二-' ：：反応に用いられる脱水縮合剤とじては、 Ί—ェチル—一 3 - ( 3 ·—ジメチルァノ -^: プロピル）ガルボジイミド塩酸塩、 1 , 3—ジシク口キシル -力/レポジィミ .ド等の -' - " カルボジイミド類があげられる。、 "： . - , . — ■· ·÷- .

10 化合物（6) 1モルに対しで ^ 化合物（3) が通常 1〜3モルの割合であり、脱水縮合剤が通常 ι〜5モルの割合でおる'—。： · " - - -. , - - ■

' ― ：該反応の反応温度は、通常。〜 1-4 Q^PCめ範曲で-あ-り、.反応時間は通常！;〜 24 - :時間の範囲である。 — .■ -:· . .. - . : . 一 . ノ. ノ

：反応終了後は、反応混合物を濾過た後、 ^:慮液を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、- 15 濃縮する等の後処理操作を行う.—ことによ -り、ァミド化合物 ( 1 ) を単離するこどが- できる。 -単されたァミド化合物 ( 1 ) は:、--ク口 -トグラブィー、再結晶等により

- ^:さらに精製することもできる。 — ノ ■: .「· : ' ... : -^. .. 製造法 4 ： .; - . -

20 ィ匕合物（ 1— d ) は、化合物' (1 -- C ) を酸と反応させることにより、：製造す.ることができる。 - ノ_

(1-c) _ , (1-d)

^; 〔式中、 R⁹は tert—ブチル基を表し、 X¹、 Υ' R¹ R²、-^³」ほ前記と同じ意-: 味を表し、 -

は、下記に示される

の-いずれかを表す。 ] . 一,：：:.： :; ' . :.パ. - -.'- . '： . -: 該反応は溶媒め存在下または非存在下で行われる。. ： : . • 反応に用いられる溶媒として-は、 -例えばメタノール、エタノール等のアルコール類、酢酸、プロピオン酸等の有機酸類、ニ水及びこれらの混合物があげられる。 , 反応に用いられる酸としては、例え:ば塩酸、」硫酸等の無機酸類が.あげれる。化合物 ( 1 _ c ) iモルに対して、酸が通常ひ.. Ό·-1^:モル〜過剰量の割合である J ·- -該反応め反応温度は、通常 0〜 1 - Ό °C 範囲であり、反応時間は通常 0 1〜

'24時間の範囲である。 - - … 二- ， ■， ■ ■ · ■ . - - ； V： .- ：;

反応終了後は、. 反応混合物を有機溶媒抽出し、 ·有機層を乾燥ミ '濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（一 d) を単離する-こ.とができる。単離された化合物^ (1一 d) は、クロマトグラプィ-ー τ--:再結晶等によりざらに精製することも- でさる。 . · . - ：製造法5 ' ソ - - ' · - , . - 化合物（8) は、化合物（7) と還元剤と:を-反応させることにより製造することができる。 . . .

〔式中、 R R²、 R³および

は、'前記と同じ意味を表す。〕 · … - ·_— ' - - - .

• 該反応は、 ¾常溶媒の存在下で行われる。 - - 反応に用いられる溶媒とじては、例え-ばメタノール、エタノール、 2—プロパノ

5 —ル等のアルコール類、 1 , 4一ジォキサン、テトラドロフテン、. ェチレシグリコールジ-メチルエーテル、 — t e r t—ブチノレメチルエーテノレ等のェ一テノレ類、へキーサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類:' トルエン、キシレン等—の芳香族一炭化水素類、 7k及びこれらの混合物があげられる.。 ··· ： ^; ： '- — " ー反応に用いられる還元剤としては、 ' ば氷素化ホウ素チトリウム、 '水素化ホゥ

10 素カリウムがあげられる。 · -- ■ ·: ^: つ' — ' - - 化合物（7) 1モルに対して、還元刻が通常 0··' 25〜2乇ルの割合である。. - - 該反応の反応'温度は、通常一 20〜 100⁹Cの範囲であり、 ^:反応時間ば通常瞬時- 〜24時間の範囲である。 Λ ' ' . -: -" - - - - - ^

― 反応終了後は、反応混合物を減圧-下濃縮じ、冰を加えて有機媒抽出して、- 有機- 15 層を乾燥、濃縮することにより、—化合物 (8) を単離する ··こ-とが.できる。'単離されだ化合物 (8) は、クロマトグラフィ再結晶等によりさらに精製する—ことも - きる。 '- — '― -^: ^ ■ - - ；~ ..: 製造法 6 一 - '

20 化合物（12) は、以下の方法により製造することもできる。

.

は前記と同じ意味を表す。〕 . - 化合物（10) は、化合物（9) -と塩化メタンスルホニルとを、 ·塩基の存在下で ―. 反応させることにより製造することができる。 , - - ：：：-: ： —、 - -

. 該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。 ' . - 反応に用いられる溶媒としては、例えば 1， 4_ジォキサン、テトラ tドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、 t e r t—ブチルメチルエーテル等のエーテル類、へキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロ口ベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブ ,チル、酢酸ェチル等のエステル類、ァセトニトリル等の二トリル類、 N, N—ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物等があげられる。 - - . 反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水素化ナトリゥム等のアル力リ金属水素化物類、トリェチルァミン、ジィソプロピルェチルァミン、 1， 8—ジァザビシクロ [5. 4. 0]ゥンデックー 7—ェン、 1, 5—ジァザビシクロ [4. 3. 0]ノン一 5—ェン等の第 3級ァミン類およびピリジン、 4—ジメチルァミノピリジン等の含窒素芳香族化合物があげられる。化合物（9) 1モルに対して、塩化メタンスルホニル通常 ι〜3モルの割合であり、塩基が 1〜 1 0モルの割合である。

該反応の反応温度は、通常一 2 0〜1 0 0°Cの範囲であり、反応時間は通常 p. 1〜24時間の範囲である。 · :.. . -

5 反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽し.、乾燥、 _獰縮する等の後 ½理操作を J. 行うことにより、化合物（1 0)-を単離することができ.る。—単離された化合物（1 0) は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。 . ' 化合物（1—2) は、化合物（1 0) ど-化合物（1 1) とを反応させることり

10 -製造することができる。； - 人-— ^:'- , .. . ― 該反応は、溶媒の存在下または非存在下、塩基 ©存在下または存在下で行われる。 - - — - -. - ： - - /

- .反応に用いられる溶媒と.しては、例えば 1， .4 ジォキサン、テトラヒドロ-フラン、 .エチレングリコールジ-メチルエーテル、 t e r t—ブチルメチルエーテノレ等の 15 エテル類、へキサン、ヘプタン、オクタ :等の-脂肪族炭化水素類、ト..；；レェン、ノキ. . シレン等の芳香族炭化水素類、グ &口 _- ンせン等のハ口ゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸ェチル等のエステル類ァセトニトリル等の二トリル類、 N， ..N—ジメ_ チルホルムアミド等の酸ァミ:ド類、.^メチルスルホキシド等のスルホキシド類およ _: びこれらの混合物等があげられる。 · ■ ' ·-' -- ― - - 20 - 反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸 - 塩類、水素化ナトリゥム等のァノレ力金属水素化物類およびトリェチルァミン、ジイソプロピルェチルァミン、 1， 8—ジァザビシク口 [ 5 · 4. 0 ]ゥン-デ：ツクー 7. 一ェン、 1， .5—ジァザビシク口 [ 4. 3. 0 ]ノン— 5—エ^等の第 3級ァ- _:ミン類 - およびピリジン、 4ージメチルァミノピ.リジン等 .含窒素芳香族化合物があザられ •25·' る。 - ： . ； ' -·+. - - . ：?… ： ' . - ノ化合物（1 0) 1モルに対て、 -化合物（1 1) が通常 1モル〜過剰量の範囲で .. あり、塩基が通常 0. ：!〜 5モルの割合である。 · · · — -' - - - ■ 該反応の反応温度は、通常 0〜 1 50 °Cの範囲であり、 -反応.時間は通常 0, . 5〜- , 2 4時間の範囲である。一 · ·· ·. - ， ·■ _:¾ -: ： -

30 反応終了後は、反応混合物を有機溶媒袖出し'、乾燥 .ΐϋ^する等の後処理操作を行うことにより、化合物（1 2) を単離することができる。単離された化合物（1 ' - .2) は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製す：ることもで.き-る.。 — - - 次に、—本発明化合物の製造中間体の製造法について説明する。 . · -

35 - 中間体製造法 1 . - -

:' ( 2-a.) ：- . .

- 〔式中、 R⁸ ばメチル基またはェチル基-を表、 Ms.はメタンスルホ二ル基を表-し、- R\ R² -、 R⁴-¹ は前記と同じ意味を.あら:わす〕 .へ' ノ-: .: - : ：化合物（22) は、化合物（21うと水素 .ホウ素ナト.リウムと ¾反応させる- -とにより製造することができる。

該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。 '： -

- 反応に用いられる溶媒としては、例えば: タノール、.- Εタノ-.ール等のアルづル '類、テトラヒドロフラン等のエーテル類、フ級びこれらの混合物があげられる.。 ... 化合物—( 21 )- 1モルに対して、水素ィ匕ホ:ゥ素ナリゥムが通常 0. -25〜 2.モ. ルの割合である。： - - - ： .. '- — - : • 該反応の反応温度は、通常一 20〜 :5.0:°C 範囲であり、反応時間は通常瞬時 .- 2 ·4時間の範囲である。ノ一—: '：■ - - - 反応終了後は、反応混合物を濃縮し、水を加えで有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、. - 濃縮する等の後処理操作を行うことにより^ヒ合物 (22) を単離する:さ-とができる。単離された化合物（22.) は、クロマドグラフ再結晶等の操作に—より;さ—. らに精製することもできる。 . -·· . 化合物（2'3) は、化合物（22)' と塩化:メ-タンズ ^: ホ-ニルとを、 .塩基の存在下で反応さぜることにより製造するこ-と力でき · — - - . -.:

: ' -·該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。 ·· -.: .. 反応に用られる溶媒としては、例えばテ.トラ—ゼ^;ドロフチ:レング-リ -コーェ、•テル、 t e r tーブチノレ -チルェ一テル等のエーテル類、へキサン、

-プ—タン、--ォクタシ等の脂肪族炭化水素類、トルエン、等の芳香族炭化水素類、クロ口ベンゼン等のハ口ゲン化炭化水素類.; N, N-ジメチルホルムァミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等？)スレホキシ. H:類及びこれ 5'の^合 ¾があ - げもれる。 + - ' : : ： ' ' _ - ； . 反応に用いられる塩基としでは、例えば酸ナトリゥム、炭酸力リゥム等 <¾アル .5' カリ金属炭酸塩類、トリェチレアミン、ジィソプロピルェチルァミン、 1 8ージ - - ァザビシクロ〔5， 4， 0〕—ゥンデッ-ク _· 7 _ェン、 1-， 5_: ジァザ:七、、シク— 〔4，ノ - .3, 0〕ノン— 5—ェン等の第 3級ァミン類友:びピリジン、：4ニジメチルアミ—ノピ - リジン等の含窒素芳香族化合物類力—あ」： f れる。^ - : . ■：_' ^

- - 化合物（22) .1モルに対して、塩化メタンスルホニルが通常 1〜3モルめ割合 10 - であり、塩基が通常 1〜 L 0モルの割合である。 ― - - ノ - ·.

：該反応の反応温度ば、通常— 20〜 100 °Cの範囲であ、反応時間は通常 1〜- 24時間の範囲である。 -. . へ、.二' ·-,,· -

" ' 反応終了後は、例えぱ下記の方法で後-処理操作を行うことにより化合物 ( 23.) を単離することができる。. ■ ，，.:.

15 " .( .i ) 反応混合物を有機溶媒にて抽^し、；.:有機層:を乾燥、濃縮する友法:^ ^

. " ( i i ) 反応混合物'を濾過じ；濾液を濃縮する-方法。...'^ ： - -_ .：· -：.-.：.; , -- - 単離された化合物（1.3) は、クロアト:グラフ —、. 再結晶.等の.操作によ..り—:さ.ら - .に精製することもできる。 . . : - ： . ·· . ， - . · 一 -

20 化合物 (-25) は、化合物 (23) と化合物—(·2·Φ) と反応-させる.ことによ-り- 製造することがでぎる。 . ： . ' . r ... ： ' 二 - ：

：該反応は「溶媒の存在下または'非存在^行われ . ；--! .,： '.-： ,

- 反応に用いられる溶媒と—して.は、例えば 1-，-·4_:·一ジォキサン、 -テトラ _ヒドロフラ - . ン、エチレングリーノレジメチルエノ^ - ,e r ^ブチ^^^ " レエ等 C¾ 25 エーテノレ類、へキサン、ヘプタン、オクタン等の.脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、グ口口-ベンゼン等ノ: Pゲン化炭化水素類、. ト ..- 二トリル等の二トリル類、 N， . N—ジ' チルホルム ' 等の:酸アミ:ド類:、..；ジェチ : . スルホキシド等のスルホキシ:ド類及びこ-れ _の混合物:力 fあげら—れる。ニノ- ..: -' , 化合物（23) 1モルに対-して、'化合物- (2.4:) が通常 1·モル〜過剰量である。. 30 該反応の反応温度は通常' 50 °C〜 1.50 °Cの範囲であり、反応時間は通常 1

24-時間の範囲である。 - 一 ' ノ； . ； ; ： _ _: ；;; r-;. - 反応終了後は、反応混合物を有機溶媒 H^、一有揚層を乾燥濃縮す：る.等後 . 理操作を行うことにより化合物（25 を単離と：き:る単離さ'れ化合物（25) は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作に:よ;り—さ -に精製するとも--- - 35 できる。 … — -" ：- 一 -.

- ' + ——一¹" ■-- - - ~ ·· — ^k · . 二— ^ - - --' - 化合物（26) は、化合物（25) を塩基の存在下、 '水と反応させることによ'り一梨造する事ができる。 - ^: - τ -. _ 該反応は、通常水及び有機溶媒の存在: で行われる。 · -- ノ ... 反^に用いられる有機溶媒としては、例えばメタノール、..エタノール等のアル ^:コール類、テトラヒドロフラン、 Γ, 4—ジ *キサ:ン等のエー:テル類及びこれらの混合物があげられる。：+ '- —— - " - ' . - ■ 反応に用いちれる塩基としては、例えば水酸化リチケム、^:水酸化ナトリウム：酸化力リゥム等のアル力リ金属水酸化物類があ :ちれる。— ··'： · · '-—· . -- V.

― 化合物（25) 1モルに対して、塩基が通常:！〜 2; 0:モノの割合である.。 "0 ― -該反応の反応温度は、通常 0〜 100 °Cの範囲であり：、 ·反応時間.は通常- 0-：- '5^ -24時間の範囲である。 - -. - - 反応終了後は、反応混合物に酸（例えば塩酸等の無機酸）を混合して酸性にした後、有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化^雜. ( 6) を単離することができる。単離された化合物 '.(26)」はクロマトグラフィー、5- 再結晶等の操作によりさらに精製することおで ·。： ― - - - - —：—

-^:— 化合物（2— a) は、化合物 (26) -と.塩化チォ-二ルとを反応させる'ことによ一:り製造することができる。ノ —— ——— - -

- 該反応は、溶媒の存在下または非存在下で行われる。 - ■ . · · . .0- ' 反応に用いられる溶媒としては、例えばクロ:.口:ベンゼン等の-ハロゲン化炭ィヒ水素類、トルエン、キシレン等の芳香族化合物類及び.これらの混合物があげられる。

' - 化合物（26) 1モルに対して、塩化チォニノレ-が通常- 1—モル〜過剰量の割合であ-

- -.:該反応め反応温度は、通常 20〜 Γ 00 °Cの範囲で-あり、反応時間は通常 0. · 5：5 .〜24時間の範囲である。 - - --- — .. .. - ; 反応終了後は、反応混合物を濃縮する等の後処理操作.を行 -うことによ-り、 ·.化合物: (2-a) を単離することができる ₅ 単離ざれた化合物（-2— a)-は、蒸留等に:よ- りさらに精製することができる。； - · . - . ノ .ノ：

(22) (27) 式中、. R R R⁸ は前記と同じ意味を表す。〕 -. ^;

'化合物（27) は、中間体製造法 1 （工程 1 1一 4) に準ずる方法で、化合物 (25.) め代わりに化合物（2 2) を用いて反応させるとにより製造する二-とが- :できる。 -—. ： . - ·- . · . - 一-.. 中間体製造法 3

― ：

- ： - 化合物（3 3) は、化合物（2 Γ) と—化合物（3 2) とを反^きせることにより- 製造することができる。：： -— - —- - - -·· - :'-

― 化合物（3 2) で表される化合物は、 -例えばその塩酸塩及び硫酸塩等の塩 ^:とで ^: - ^在する場合には、その塩を反応に用いる i-ともできる。 · ' — — -- - 該反応は、通常溶媒の存在下、塩基の存在下または非存在下で一行われる。 ― 反応に用いられる溶媒としては、树えば 1·， 4—ジォキサ^、テトラヒドロフラン、エチレングリコーノレジメチノレエーテノレ、 t e r tーブチノレメチノレエ^"チノレ等め :· i一テル類、メタノール、エタノールプロ'パノール等のアルコル類ァセトノトリル等の二トリル類、 N, N—ジメチルホルムアミド等の酸アミ類、' ジメチルズノレホキシド等のスルホキシド類、水及びこれちの混物があげちれる。

' 反応に用いられる塩基と—しては、炭酸ナトリウム、酸カリウム、炭酸水素ナトリゥム等のアル力リ金属炭酸塩、リェチルアミン、ジィソプロピルェチルァミン 1， 8—ジァザビシクロ〔5 4， 0〕ゥンデッ^— 7 ェン、 1， 5—ジァザビシクロ〔4， 3， 0〕ノン一 5—土ン等の第アミン類及びピリジン、二ジメー — チルアミノビリジン等の含窒素芳香族化合物類がげれる。— — ~ ^:' ' ' 化合物（2 1) 1モルに対して、化合物（3' 2) が通常 1〜5モルの割合であり、塩基が通常触媒量〜 1 0モルの割合である。 - 該反応の反応温度は、通常 0 1 20°Cの範囲であり-、.反応時-間は通常 1 24- 時間の範囲である。 . - ·· · -..― · - . -... - .. .

·· 反応終了後は-、反応混合物を有機溶媒抽出し、 ·.有機層を必要により酸性水（例-えば希塩酸）で洗浄し、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（3 3 ) を単離するこ -とができる。単離された化合物（3-3) は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することができる; 化合物（34) は、中間体製造法 1の（工程 1 1一 4) に準ずる方法で、.化合物 (25-) の代わりに化合物（3 3):..を用いて反応させることによ _り-製造する；とができる。 . ―.— - - - ― - . ·· 化合-物'（2— b) は、中間体製造法 1の（工程 1 1一 5) に準ずる方法で、化合物（2 6) の代わりに化合物（34) を用.いて反応させることにより製造するこ-とができる。 ― - " ― . -. — - . — 中間体製造法 4

• ノレジメチルェ一テル、 t e r tーブチルチル^ーノ -等の ^ テル類べキサン、ヘプタン、ォクタン等の脂肪族炭化水素類 :トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、 -ク口口ベンゼン等の-ハロゲン化炭化水素類、/.酢酸ブチル、酢酸エヂル等のェ " ステル類、ァセトニトリル等の二トリル類:、: N, ジメチルホ.ル_ムァド等の酸 ' 5 ' アミド類、ジメチルスルホキシド等のス zレポキシド類及び.これちの混合物があげられる。. - - - ,: - '⁷-- - 二 , .— — .：..ニ：反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸力リゥム等のアル '力リ金属炭酸塩類、水素化ナトリウム、水素化力リゥム等の.ァ:ルカ..リ金属水素化物：類があげられる。

10 ：化合物（35) 1モルに対して、化合物（36) が通常 1〜- 2モルの割合であ.り、

- 塩基が通常:！〜 2モルの割合である。

：該反応の反応温度は、通常.0〜： L00 の範囲であり、反応時間は通常.: θ 5〜-. -24時間の範囲である。 ■ -

- 反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処.. -15 理操作を行うことにより、化合物（37--)·.を単離することができる。単離された化合物（37) は、クロマトグラフィー、焉鋅晶等によりさらに精製することもで:き . る。： -, .；.；. .. .+- · + · . ■ 工程 14— 2 ；" ノー -.

20 ィ匕合物（39) は、化合物（37)_::と化合物（38) とを、塩基の存¾下で反応. させることにより製造させることができる。、'： ..:.， - 該反応は、溶媒の存在下または非存在卞で行われる。 - - .

反応に用いられる溶媒としては、例えばテ卜ラヒドロフラン、エチレングリコ一 . ノレジメチルエーテル、 t e x t—ブチルメチルエーテル等のェテル類、トノレエ；/、 25 - キシレン等の芳香族炭化水素類、ク ^！:^ゼン等のハロゲン化炭化水素類、 N， N ジメチルホルムアミド等の酸アミ .ド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシ .. ド類及びこれらの混合物があげられる。： .. . .

反応に用いられる塩基としては、例えば水素化力リ ·:ゥ -ム、水素化ナトリゥム等の. ,アル力リ金属水素化物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムェトキシド、—カリウム- 30 t e r t—ブトキシド等のアル力.リ金属アル-コキジド等があげ—られる _:δ；,: ..'.―

化合物（37) 1モルに対して、化合物-. (3.8 ) が通常 1モル〜過剰量の割合であり、塩基が通常:！〜 5モルの割合である。 -. ：ノ」 . -.

. - 該反応の反応温度は、通常 20〜：！： Θ- :0 °Cの範囲であ _ 、：反応時は通.常.;！〜 24時間の範囲である。，；' ,： ― 」. ：- - ..： . ':· ... ' -

35 反応終了後は、反応混合物に希塩酸等の酸を加えて酸性と _した後、有機溶媒抽出 1 し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行う,:こ.-とにより、化合物：（39う- を: 単離すること.ができる。単儺された-化合物- ( 3：：9 )- は、 .グ口マ' kグラフイ一、,:再結晶等によりさらに; it することもできる- . - - - ■· ^ - 」一程 14— 3 - ■ —. - ： - - - . —：：- . ·■：化合物（40) は、化合物— (3- 9·) とヒ .ドロキシレアミンまた.はその埠酸塩.、-.硫. .酸塩等の塩とを反応させることによ-.り製造することができる。— 一

該反応は、通常溶媒の存在下、塩基の存在または非存在下で行われる。 - -—-- . 反応に用いられる溶媒としては-、例えば:トゾレ .ン、：..キシ:レン等の芳香族炭化水素類、- N, N—ジメチルホルムアミドの酸アミ.ド類、メタノール、エタノール等のアルコ-—ル類及びこれらの混合物があげられる。.一 ' ： . - ： -. -- ; --. ，― '-

. 反応に用いられる塩基としては、例えば酢酸ナトリウム、酢酸カリ—ゥム等のアル' 力リ金属酢酸塩類、炭酸力リウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリゥム等のァレ.— - 力リ金属炭酸塩類、ナトリウムメトキシド、'ナト -リゥムェトキシド、カリウム t e - r t—ブトキシド等のアルカリ金属ァレコキシ..ド類があげれる。 - -- ^

化合物（39) 1モルに対 ϋて、―ヒ: '— 口シルァミンまたゆそ.—の塩が.通常 1〜〜モルの割合であり、塩基が触媒量べ ¾3モノレの割合である. ：■ --；;' -

,該反応の反応温度は、通常 20〜ニ.100 °Cの範囲であり、反応時間は通常 0. 5- 〜24時間の範囲である。 - ..

反応終了後は、反応混合物を濃縮し、.濾過する等の後処理操作を行う _ことにより、化合物 (40) を単離することができる。単離された化合物- - (40) 1ま、ク:ロマ十グラフィ一、再結晶等によりさちに精製す:る. ;と..もできる。 - ·'..: ：」：.. ： - , -

(中間体製造法 5)

〔式中、 βηはベンジル基を表し、 L ば塩素原子または臭素原子を表し、 Ri、. R 2、 R⁸、 X Y¹ は前記と同じ意味を表す。〕 . . ：— 工程 15 1〜1.5— 3- - 一化合物（46) は、中間体製造法 4の工程 14 1〜工程 14— 3に準じて、化合物（36) の代わりに化合物（42) を用いて反応させることにより製造することができる _n - - - 工程 15— 4 ： - -- · - - - 化合物（47) は、化合物 ^::（46) と水素とをパラジウム炭素の存在下で反応させることにより製造することができる。 -. ― - . 該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。 - - 反応に用いられる溶媒と-しては、例えばメタノール、エタノール等のアルコ一ノレ類、テドラヒドロフラン等のエーテル類、酢酸ェチル等のエステル類、卜-ルェン等- — の芳香族炭化水素類、 - '水及びごれ-らの混合物があげられる。一- 一 - 化合物（4.6) 1モルに対して、パラジウム炭素が通常 0、 .001〜0. 1モノレの割合である。 +— - + — ： ―. . " ；該反応の反応温度は、通常 20〜 100°C 範囲であ、反応時間は通常 1〜'2 4.時間の範囲である。 . — . - ' - - ニー. . 反応終了後は、反応混合物に必要に.応じて有機溶媒を加え、濾過して、濾液を減圧下濃縮する等の後処理操作を行うことにより—、化合物（47) を単離することができる。単離された化合物（.47). は、クマト'グラフィ、再結晶等によりさらに精製することもできる . ： :: " - — 工程 15— 5 . ". 「： · - .

化合物（48) は、製造法 3に準ずる-方'法で、化合物（3) の代わりに化合物（4 7) を用いて反応させることにより製造する · -ができる。 - " ：- - ：

(中間体製造法 6) · — ■ - - - . -：- ' ■ ·-：

〔式中、 R¹¹及び R¹² はそれぞれメチル基またはェチル基を表し、 R³、 R⁶ は前 ,記と同じ意味を表す。〕

— 工程 16一 1 ― ― 化合物（51) は、化合物（49-) と、化合物（50) とを、金属ナトリ-ゥムの存在下で反応さ.せることにより製造することができる。 - — - 該反応は、 .溶媒の存在下または非存在下で行われる。 · ·，.· 反応に用いられる溶媒としては、. 例えば 1, 4—ジォキサン、テトラ t ドロフラ · . ン、エチレングリコーノレジメチノレエーテノレ、 t e r t—ブチノレメチノレエーテノレ等のエーテル類、へキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、小ル;^ン—、キ z等の芳香族炭化水素類及びこれらの混合物があげられる。 ..:. - -·

-. 化合物（49—) 1モルに対して、金属ナトリゥムが通常 1〜 2モノレの割—合であり、 - 化合物（50) が通常 2モル〜過剰量 ,割食であ.る。 '—.·-,— .；. - 該反応の反応温度は.、通常 100〜 150 の範囲であり、—反応時間'は通常 1〜 •24時間の範囲で.ある。 — .「, -·'- . -― . '· .—— 反応終了後は、反応混合物に酢酸水溶液等の酸を加えて酸性とし後有機溶媒袖出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物（5-_ .1 ):を単離す-ることができる。—単離された化合物（ 5.1 ) は、ク口—マトグ.ラフィ-一、 ' 再結晶等によ:り-ざらに精製することもでぎる。 ' 、 - :

：:、 ― . 工程： Τ6 -2 "- - 化合物（53) は、化合物（51) 化合物（5.2) を反応させること,により、 - 製造することができる。 -

• 該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。. ' - 一…―

反応に用いられる溶媒としては、 .1， 4 -ジォキ. ヌ、 ·テ下ラヒドロフラン、ェチレングリールジメチノレエ一テル、 t e r ブチルメチルエーテノレ等の工^ *テル類，へキサン、ヘプタン、ォクタ X_等の脂肪族炭化水素類、ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、無水酢酸等の酸無水物及びこれら..の混合物があげられる。

■ ィ匕合物（51) 1モルに対して、- J匕合物（5' 2')· が通常 Γ〜― Ϊ" モノ 'の割合-である。 - — - - . 該反応の反応温度は、通常 50〜150 の範囲であり.、反応時間は通常 1'^ 2 4時間の範囲である。 '一'

反応終了後は、反応混合物を濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化合物

(53) を単離することができる。卑離された化合物-' (53) は、クロマトグラフィー、再結晶等により精製するこおもできる。 - 工程 1.6— 3

化合物（55) は、化合物（53) -と化合物 5A) またはその塩酸塩、硫酸塩 ,等の塩とを反応させることにより、 '製造する jこ.とが-できる。

該反応は、通常溶媒の存下、 -—塩基の存在下'または非存在下で行われる。

該反応に用いられる溶媒とじては、例えばメ Γタソール、エタノール等の—アルコール類、トルェン、ーキシレ,ン等の芳香族炭化水素類:、. -N, .N -ジメチスレ:ホルァ. 'ミ- ·ド · 等の酸アミド類、水及びこれらの混合物があげら-れる。. ' -: . - --■-■■ 7 · ：. 反応に用-いられる塩基として.は、例えば炭酸水素丈トリ-ゥム、炭酸ナ-トリ:ゥム、炭酸力リゥム等の炭酸塩類、水酸化ナトリウム；水酸化力リゥム等のアル力リ金属水酸化物類、ナト -リヴムメノトキシド'、 -ナトゥムェキシド、ガリウム t-e r t一— - ブトキシド等の金属アルコキシド類があげおれる ϊ'. ' · 」 ^. ：: ：: . ^: · ι^:■■■

- 化合物（ 53 ) .1モルに対して-、化合物 (.54 )が通常 1— ·3モルの割合であり、一. 塩基を用いる場合には、その量は通常- 0. 〜モノ割合でぁる^ ： , ' - 該反応の反応温は、通常 Q〜 150 °C.の範囲であり-、反応時間は通常 il〜 2 -4

5 時間の範囲である。 - -—

反応終了後は、例えば下記の方法で後処理操作を行こによ-り -、化合物 (¾- 5 )' ：を単離することができる。 - · .-— :' い. - . - - ，：.

- ( i ) 反応^；合物に必要に応じて有機溶媒を加えて濃縮する方法。 - ；：.

( i i ) 反応混合物に必要に応じて有機溶媒を加えて、：濾過し、濾液を濃縮する 10 ：方法。 . " - - .

単離された化合物 55) は、グロマ-卜グラフィー、再結晶等によりさらに精製

-- . すること.もできる。 - - -^. ： ..- ■ - '' .二 .. - . ：工程 16 4 - ^v 二 . .： - · - ·'- ：

15 化合物（56) は、化合物（55) を塩基め存在下-で水-と-反応させること:によ -り ——製造することができる。 - - 該反応は、通常水及び有機溶媒の― ： -- ："

存在下で fi¹われる。一一 - - .： --— . ..:· -.. - -·¥' ·--.·- 反応に用いられる有機溶媒としては、例えば—メタノル、エタ—ノー-ル等のァ―ルコ:: - ― ール類、テ.トラヒドロフラン、 1 , 4ージオギサン等のェ.一テル類及びこれらの混 20— —合物があげられる。」. " ■ " -'

- 反応に用いられる塩基としては、例ぇぱ水酸ィ匕—リ -ヶム、冰酸化力リ:ゥム、 /水酸' 化ナトリウム等のアル力リ金属水酸化物等がおげられる。

反応に用いられる塩基の量は、化合物： 5) --1モルに対して、通常 1 - Ό.モル,

- の割合である。 : -.. ：

25 該反^の反応温度は、通常 0〜120°Cの範囲であり、反応時-間は 0· 5 '4 時間の範囲である。， · — _ . '

• 反応終了後は、反応混合物に塩酸等の酸を加えて酸性とした後、有機溶媒抽出し、 " 有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行ことにより—、化合物（5 を:単離 ,することができる。単離された化合物（5·_6·.) は； ·ク- _:ロマ上グラフ.ィー :.再結晶筝: 30 によりさらに精製することもできる。 ' .· -.. ：：': . 工程 16— 5 ：-- ·' 一一 - . ' - - ;二 .:::：^^ 化合物（57) は、化合物（.56) 塩素化剤-とを反応させる 'と :：り_:製造す: - ることができる。 ― - - 二：一二

35 該反応は、溶媒の存在下または非存在下で行われる^一；へ r. -' -.

反応に用いちれる溶媒と"^ては：例えばレエ ^:ン、.キレジ等の芳香族炭化水素穎、クロ口ベンゼン等のハロゲン化炭化水素類及びれらの混合物があげられる。 : 反応に用いられる塩素化剤として-は、.例えば塩化チォ-ニル、ォキシ塩化.リ-ン等があげられる。 - - . . . . - - ： - ； - 化合物（111) 1モルに ¾·して、塩素化剤が通常 1モル〜過剰量の割合：である_¾ 該反応の反応温度は、通常一 20-1 C O°Cの範囲でありい反応時間は通常瞬時―

〜24時間の範囲である。 . ' -：： - - ..+ ：. - 反応終了後は、反応混合物を濃縮する等の後処理操作を行うことにより、化台物： (57) を単離すること-ができる。.単離された化合物 (57)-は、蒸留等により;さ;

-らに精製することもでぎる。： ' - ： -： . . - =

—工程 16— 6

化合物（58) は、化合物（.57) ·と了ンモ二-ァ.と-を反応させることにより..製造することができる。 - '

該反応は；溶媒の存在下または非存在下で行われる。 '

反応に用いられる溶媒としては 1， 4—一、ォ.キサン、テトラヒド:口フラン、 -.: ^チレングリコーノレ-ジメチノレエーテル、 - 1 _e,r t ブチノレメチノレエーテル等のエーテル類、へキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ク Pロ^ンン等のノヽロゲン化炭化水素類、酢酸プチル、酢酸ェチル等のエステル類、ァセ小二トリクレ等二卜.リル類、 N, N—ジメチルホルムアミ卞等の酸アミ .ド類、ジメチレスノレホキ- シド等のスルホキシド類、水及び-これらの混合物があげられる。 _

' 反応に用いられるアンモニアとしては、例えばアンモニアガス、アンモニア水等— があげられる。 ... - 「 - .: ■' . .. ；. - :. -:: ：-. 化合物（5—7) 1モルに対して、アンモが通常.1モル〜過剰量割合であ ·る。 '- 該反応の反応温度は、通常— 20〜 100°Cの範囲であり、反応時間は通常瞬時〜 24時間の範囲である。 - . ·.. . - . - ' ノ '.」 . 反応終了後は、反応混合物を濃縮する等後処理操作を行うことにより、化合物 (58) を単離することができる。単離ざれた化合物 (5:.8- ) は、クロマ小ラフ. ィ一、 '再結晶等によりさらに精製することも":できる。 - い . '. - ··.:.. - 工程 16— 7 ： . — . — ： - 化合物（59) は、化合物（58) を、塩基の存在下で臭素と反応させること.に？より.製造することができる。 ·. · — ·· . -

- 該反応は通常水及び有機溶媒の存在下で行われる。 . . · · - -··· .：

—反応に用いられる有機溶媒としては、.例えば; U 4—ジォキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコーノレジメチノレエテノレ、 -t e r t ブチ -人レメチノレエテ;; k. 等のエーテル類、へキサン、ヘプタン、オダタン等の脂肪族炭化水素類、トル： ·■ '等の芳香族炭化水素類、ク:口口ベンゼン等のハロゲン化炭化水素類及びこれらの混合物があげられる。 — ·'... ' —',。. . 二- 反応に用いられる塩基のと'レては.;. ^:例えば水酸化リチウム、水酸化力 I ゥム、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物があげられる。 - . ' - 化合物（5 8) 1-モノレに対して、塩基が通常.1 : 1.0.モルの割合であ'り、臭素が —通常 1 - 2モルの割合である。- '. -：∑,-■ - .. ：. ..；■ - ―

. -- 該反応の反応温度は、通常一 2ひ .Q.O °Gの範囲であり:、 - 反応時間は通常瞬時 _ 〜— 24時間の範囲である。：—' 一 ' - _:: ニ'.」 ,. ― '： . ·- ".； - ： . --：■

- 反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出レ、〜有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物（5 9) を単離することができる。単離された化合物.（5 9)·は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することできる。

(中間体製造法 7)

, - (63) - — . . _: "— 一- , 〔式中、 L ² は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、 R³、 R⁶および

R ¹⁰ は前記'と同じ意味を表す..。〕： :. -： -- ― - 工程 1 7— 1および工程 1 7— 2

- 化合物 (3 9) は、中間体製造法 4·と同様製造すると—ができる。 ― ·,: - 工程 1 7— 3 . -.·. 一 - - .： · ' ：-— , ：.、 - -.

— 化合物 (6 3) は、 -化合物 (-3:-9:-). -と—化合物: 5 -4 ) またはその-塩 (例え 1 、塩: 酸塩、.酢酸塩）とを反応-させる-こ.とによ.り製造-する:ことができる。 … · . ... • 該反応は、通常溶媒め存在下:、塩基の存在下まおは非存在下で行わ^ tる。 · - - 反応に用いられる溶媒とし-ては、例えば: -ドルェン、キシン等の芳香族炭化水素 ' 類、 N， N—ジメチルホルムアミ. K等酸ァ.ミ ·Κ類メタノール、 -ェ-タル等の- 5- 'アルコール類及びこれらの混合物があばれる。 .. · ~ ： .ノ：- -;: 〜： ― -反応に用いられる塩基とじては、:例-え-ば酢酸す-トリゥム:、酢酸力リゥム等のアル: 〜· カリ金属酢酸塩類、炭酸カリヴム、炭酸ホ—トリ-ゥ:ム炭酸水素ナ-トリ、ゥム等のアルカリ金属炭酸塩類、ナトリ'ヴムメキ -シドゥエトキシド、カリウム t e . r t—ブトキシ K等のアル力リ金属ノコキ:シ Ηί類があばちれる _έ -'.- ~：^ ' ― 10 - 化合物（39) ίモルに対して、:化合物（·5'4) またはぞの塩が通常 1〜- 3モルの割合であり、塩基が触媒量〜 3モルの割合である。 - - - -、 -. ： —-該反応の反応温度は、通常 _20〜10_0°Cの範囲であり、反応時間は通常ひ. 5 〜 24時間の範囲である。 -— ::— . ― - 反応終了後は、反応混合物を濃縮し、寧,過する等の後処理操作を行うことによ、 15 化合物（63—) を単離することができる'。単鳞れ ^イ^^物（6-3)-は、クロマグラフ一、再結晶等によりざらに精製することもできる。 - - ？：' ：

20. 〔式中、 R¹¹ は C 1一 C4アルキル基を表—し、 R³、 R ⁶は前記と同じ意味を-表す。〕工程 18一 1 - · _Π ― - 1 .：·;. — ：一 . - -： ― 化合物（6·6_) は、化合物 - (64-) アジ化剤-と.化合物' お: 5 ;ま反 ;させことにより、製造すること.がで,きる'。 . -:. - -

.該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。 - . - +一

-25- -- 化合物- Γ65) は、溶媒とじても用い'-られる；化合物 (;6.5) ど ϋて、 -具体.的.には、例えばメタノール、エタノールプロノヽ ° ル、ブチルアル - ル、.. t-e r.-:t: 一ブチルアルコールがあげら.れる。. :. -■" ：へ： ■ - 二 -- "- 反応に用いられるアジ化剤としては、:：例えばジフ -ェル:ホスホリ ·ルァ「ジド、二ナトリウムトキシド等があげられる。 . . - - ■ , .： - - r

- -該反応の反応温度は、通常 0〜 1· Θ 0 °Cの範囲であり、 .反応時間瞬時 : 2 時間の範囲である。 - ' -::—■.— · :' · . - -:: _..-· - · :.；. ·.： · ·：-: 反応終了後は、反^混合物を濃縮する等の後処理操作に: 'り.、化合物:. (「6 .) を単離することができる。 · - ■ - - ― - - , - -. - ： - 工程 18— 2 - ^: ノ：.—' 一二 - -.: :ー：ノー

- 化合物 (63) は化合物（6-6).を、 ·酸存在下で水と反応させることよ.り- 製造することができる。、—:— — - . .… . ' . - 該反応は通常水及び有機酸類の存在下で 'われる。' . - ― - - ―

- 反応に用いられる有機酸類としてはリフルォロ.酢酸；酢酸；プロピオ ^酸及:び. · —· これらの混合物があげられる。：: .— ；： -: -' . - — . ..— ；' "： -；■：：該反応の反応温度は、通常.40〜 120 °Cの範囲であ、. -反応時間は通常 0 5 ：〜 24時間の範囲である。 - — — -· · .

(67) (63) (68)

〔式中、 R¹ R²、 R³、 R⁷、 L²—は前記ど同じ意味を表。 Γ-. - - . ■ ： = 該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。 - ■ 」— ' — ·: .. ： ':

反応に用いられる溶媒としては、例えば- -1， 4 -ジォキサン、テトテヒドロフラン、ェチレグリコールジメチ:ルエー ¾ル : t. "e r t―ブチルメルエ^テル等のエーテル類、へキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トル- ン、キーシ-レン等の芳香族炭化水素類、クロ.口べ--ンゼン等のハ口-ゲ-ン化炭化水素類、酢酸ェチル、酢酸ブチル等のエステル類、ア-r. -卜-リル等の二トリル類、 ^メ-チフ .:スルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が.あげられる。 . - - :

- 反応に用いられる塩基としで-は、例えば炭酸ナ -V .ゥム、炭酸-力-リゥム等の炭塩類、ドェチルァミン-; ジィソプ口ノレ.ェチルァミン、 1， 8—ジァザ:ビシ久ロ〔5， 4,： 0] ゥンデックー 7—エ - - 1， -、5:—·ジァザビシ; ロ,〔4, --3，.一 0〕ノ -- 'ン一- 5—ェン等の第 3級アミン類及び^リ: ン；_、 4 ジメチルアミノピ.リジン等の含窒素芳香族化合物類があげられる。 - ' 化合物（6 7) 1モルに対で、化合物.. (.6:3) が通常 0. 5 2モルの割合であ-り、塩基が通常 1〜 1 0モルの割合である。 - . --; ；： .- ： - -.

- 該反応の反応温度は、通常 0〜- 5O°Cの _範囲:であり、反応時間は通常 0. 1〜 24時間の範囲である。，二 ' , ,. . - . - .人ヽ -,

：反応終了後.は、反応混合物を有機溶媒棘出し、 ·.必要こ応^ :水 ^加えて.濃縮して: - 水を加え、有機溶媒抽出し、乾燥、 -: _濃縮する.等褒処理操作を行うことにより、化合物（6.8) を単離する-ことができる。 :単離さ- たィ匕食物 6. ）は、クマ.,小グ. ラフィー、再結晶等によりさらに精製する 'ことも^きる。 - - - 次に、本発明化合物の具体例を以下 4こ:示.す-。

式（A— 1) で示されるァド化合物： ·

〔式中の R R²、 R R⁴ は、表 1に'記載の置換基である。〕

式.（A— 2) で示されるアミド化合物 - - - OCHつ

(A-2)

- 〔式中の R R²、 R³\ R⁴ は、表 1に記载め置換基である。〕 - 式（A— 3) で示されるアミ-ド化合物. --. · - . . ' 二；

〔式中の R R²、 R³、 R⁴ は、表 1に記載の置換基である。〕式（A— 4) で示されるアミ：ド化合物 . .、 -: -'. '_— ニー -

基である。〕式 (A— 5) で示されるアミド化合物.. - ：： . - ；: 一 -

〔式中の R- —； R²、__=R-³、 R は、表 1に記載の置換基で—ある。〕式（A— 6) で示されるアミド化合物-

〔式中の R¹ R²、 R³、 R⁴ は、—表 1に記載の置換基である〕式（Α—— 7) で示されるアミド化合物：一一 -, ' -

〔式中の R R²、 R³、 R は、表 1に記載の置換.基である。〕；-

(表 1の続き)

(表 1の続き）

(表 1の続き）

(表 1の続き）

式（B— 1) で示されるアミド化合物である。〕

-

〔式中の R¹ R²、 R³、 R⁵ は、表 2に記載の置換基である。〕式（B— 3) で示されるアミド化合物 '一：^:— -

基である。〕

〔式中の R¹ R²、 R³、— R⁵ は、表 2に記載の置換基である。〕式（B— 5) で示されるアミド化合物

〔式中の R R²、 R R⁵ は、表.2に記載の置換基である。〕式（B— 6Γで示されるアミド化合物 ―

〔式中の R¹ R²、 R³、 R⁵ ほ、表 2に記載の置換基である。.〕式（B— 7) で示されるアミド化合物 · ·.---- -' — ·

〔式中の R R²、 R³\ R⁵ は、表 2に記載の置換基である。〕

(表 2の続き）

〔表 2の続き）

本発明化合物が防除効力を有する植物病害としては、例えば藻菌類によ植物病害があげられ、具体的には例えば次の病害があげられる。 ' '' ' - " 蔬菜類、ダイコンのベと病（Peronospora -brassicae)-、 ·ホ.ヴレンソ "ゥのべと病 (Peronospora spinaciae)、タノ ^ fのへと病 (Peronospor.a

'ノリ ¾|のベと (Pseudoperonospora cuDensis)、フ r "ゥのべと炳 (Plasmopara yiticola)、. リンゴ、イチゴ、ャクヨウニンジンの疫病（Phytophthora cactorum)、トマト、キユウジの灰色疫病 (Phytophora capsici)、ノヽ⁰イナップノレの疫病 (Phytophthora cinnamomi) , シャガイモ、卜マ卜の疫病 (Phytophthora inf estans)、 'ダパ、 'ソラマメ、ネキの投炳 (Phytophthora nicotianae var. nicoti裏 e)、ゥ，レン:ソゥの立枯病 (Pythium sp. ) , キュゥリ-田 AL枯病 (Pythium aphanidermatura) _Λ コムギ '掲色雪腐病（Pythium sp. )、タバコ苗立枯病 (Pythium debaryanum)、ダイズの Pythium rot (Pythium aphanidermatum, P. debaryanum, P. irregulare, P. mvr iotylum , P. ultimum)₀ ·--■■' .. 本発明化合物を有効成分として含有する殺菌剤組成物は、.本発明化合物と:担体 (carrier) とを含有する。担体は本発明化合物に対して不活性であり— Γ¾殺菌剤糸且成物の施用形態等に応じて適宜選択される。該殺菌剤組成物は、必要に応じて界面活性剤等の製剤用補助剤を更に含有していてもよい。該殺菌剤組成物は、乳剤、 —水和剤、顆粒水和剤、フロアブル剤、.粉剤、 -粒剤等の製剤形態を含む。該殺菌剤組成物は、本発明化合物を通常 0 . 1〜9 0重量％含有する。：. ' - " 製剤化の際に用いられる固体担体としては、例えばカオリンクレー、アツタパルジャィトクレー、ベントナイト、モンモリロナイト、酸性白土、パイロフィライト、- 5 タルク、珪藻土、方解石等の鉱物、トウモ '口コシ穂軸粉、クルミ殻粉等の天然有機- -

- 物、尿素等の合成有機物、炭酸カルシゥ · .、硫酸アンモニゥム等の塩類、合成含水酸化珪素等の合成無機物等からなる微粉末あるいは粒状物等があげられ、液体担体としては、例えばキシレン、アルキルベンゼン、メチルナフタレン等の芳善族炭化水素類、 2—プロパノール、ェチレシグリ'コール、プロピレングリコー-ル'、セロソ 10 ノレブ等のアルコール類、アセトン、シク.口べキサノン、イソホロン等のケ.! ÷ン類、 - ダイズ油、綿実油等の植物油、石油系脂肪族炭化水素類、エステル類メチルスノレホキシド、ァセトニトリ/レ、 7J があげられる。 „ 界面活性剤としては、例えばアルキル硫酸土ステル塩、アルキルァリールズルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、 'ポ —"ォキシエチレンアルキルァ'リールエー 15 テルリン酸エステル塩、リグニンスルホン酸塩、ナフタレンスルホネートホルムァ - ルデヒド重縮合物等の陰イオン界面. 性剤及びポリオキシエチレンアルキルァリ一ノレエーテノレ、ポリォキシエチレンァノレキノレポリォキシプロピレンプロックコポリマー、ソルビタン脂肪酸エステル等の非オン界面活性剤があげられる。'— -

"." - その他の製剤用補助剤としては、例えばポリビニルアルコール、ポリビエル i 口-

20一-リドン等の水溶性高分子、アラビアガム、アルギン酸及びその塩、 CMC (力レボ . キシメチルセルロース）、ザンサンガム等の多糖類、ァノレミニゥムマグネシウムシリケ一ト、アルミナゾル等の無機物、防腐剤、着色剤、 P A—P (酸性リン酸ィプ口ピル）、 B H T等の安定化剤があげられる。：

- 本発明の殺菌剤組成物は、例えば植物体に'処理することにより S該榼杨を植物病 25 害から保護するために用いられ、また、土壌に処理することにり当該土: に生育 -する植物を植物病害から保護するために用いられる。 ' ' .

本発明の殺菌剤組成物を植物体に茎葉処理することにより用いる場合または土連に処理することにより用いる場合、'その処理量は、防除対象植物'である.作物等 ,種類、防除対象病害の種類、防除対象病害の §生程度、製剤形態、処理時期、気象 30 条件等によって変化させ得るが、 O O O O m² あたり本発明化合—物として通常 1

〜5 0 0 0 g、好ましくは 5 ^ 1 0 0 0 gである。 ' ' ■

. - .乳剤、水和剤、フロアブル剤等は通常水で希釈レて散布することにより処理す - る.。この場合、本発明化合物の濃度は 3常 0 . 0 0 0 1 3重量％、好ましくは Ό .； •Ό 0 0 5〜 1重量％の範囲である。粉剤、粒剤等ば通常希釈することなくそのまま- 35 . 処理する。 _

また、本発明の殺菌剤組成物は種子消毒等の処理方法で用いることもできる。そ : ·.——の方法としては、例えば本発明化合物の濃度が- _1〜 1: 0 0ひ p P mとなる-ように調製した本発明の殺菌剤組成物に植物の種子を浸漬する ·方-法、植物の種子に本発明^: • 合物の濃度が 1〜 1 0 0—O p p mの本発明の殺菌剤铒成物を噴霧もしくは塗沫す ' —る方法及び植物の種子に本発明の殺菌剤組成物を粉衣する方法があげられる。 - " 5 本発明の植物病害防除方法は、通常本発明の殺菌剤組成物の有効量を、病害の発 -生が予測される植物若しくはその植物が生育—する土壌に処理する、及-びまたは病害の発生が確認された植物若しぐはその植物が生育する:土壌に処理するこ.とによ

. —ϋ行われる。 . · -- , . - . -一.

—- - 本発明の殺菌剤組成物は通常、農園芸用植物病害防除；即ち畑地、 '水田、：臬樹: 10— 園、茶園、牧草地、芝生地等の植物病害を防除するための植物病害防除剤として用- - レヽられる。 . -ノ：,；. - . :— ' - - -. . 本発明の殺菌剤組成物剤は他の植物病害防除剤剤、殺虫剤、殺ダニ剤殺線虫剤、

·· 除草剤、植物生長調節剤及び Ζまたは肥 # と共に用いることもできる。 ·' ：：二.

" かかる植物病害防除剤の有効成分と::しては、例えば、 -ク -口ロタ口 -ル、ブルアジ-

15 ナム、ジク口フルァニド、ホセチル— A 1、 _環状ィ-ミド誘導体 ·（キヤプダン、キプタホーノレ、フォノレペット等）、ジチォカーバメー.ト誘導体（マンネブ、マンコゼ- . ブ、チラム、ジラム、ジネブ、プロゼネブ等）、無機も-しぐは有機の銅誘導体（-塩基性硫酸銅、塩基性塩化銅、水酸化銅、ォキシン銅等)、ァ:ンルァラニン誘導体 (メ. - ― タラキシル、フララキシル、オフレー-ス、シプロ：フラ.ン、ベナラキシノレ、：ォキサジー 20 キシル等）、スト口ビル—リン_系化合物（クレソキ、ムメチ.ル-、 .ァ—ゾキシスト口ビン、 .. トリフロキシスト口ビン、ピコキシスト口ビン.、ピラク口ス卜口ビン、 ·.ジモキシス:—：ト口ビン等）、ァニリズピリミジン誘導体.（シプロジニル、ピリ.メタニル；メパ二- ピリム等）、フエ二ルビロール誘導体.（フヱ^ピクロ二ル、フルジォキソニル等）、イミド誘導体（プロシミドン、イブジオン. ^ンク口.ゾリン等）、ベンズィミダ-.

25. ゾール誘導体（カルベンダジム、べソミル、チアベンダゾール、チオファネー小メ ... チル等）、アミン誘導体（フェンプロピモノレフ.、小リデモルフ、 -フエ:ンプロピジン、-— . . . スピロキサミン等）、ァゾール誘導体 '· (プ口ピコナ -ゾ.ール；トリ 7：ジメノ一ノ-&、一プ口クロラズ、ペンコナゾーノレ、テブ' 33.ナゾ一-ノレ、' .フソレシーラゾ一ノレ、ジニコナ-ゾ一ノレ、 ,ブロムコナゾーノレ、エポキシコナゾノレ、ジフェノユナゾノレ、シプ口コ-ナゾーノレ.、 -

30 メトコナゾール、トリフノレミゾーノレ、 - ラ -コナゾ：ル-、 --マイク口ブタニル、フエンブコナゾール、へキサコナゾール-、 ·フノレキ ^.コナ ^一ノレ、 .トリティ.コナール、：

- J ―ビテルタノール、ィマザリル、フルト..リァホル等）、シモキ-サ-ニソレ、ジ; ^ドル」フ、ファモキサドン、フエナミドン、 - ィプダ了—リ：カルブ、—ベンチアノや:リ:^ノレブ： - シァゾフアミド、ゾキサミド、タボキサム、. _:ニコ-ビフエ、フエンへキサミ -ド、 -

35 キノキシフェン、ジエトフェンカノレブ及びァシベンゾラール Sメチルがあげられる。以下、本発明を製造例、製斉例及び試験例等によりさら.に詳.レく説明するが、.本明はこれらの例のみに限定されるものではない。 .— ：. ... - ·,, まず、本発明化合物の製造例を示す。：· - 製造例 1— 1 · - . - ·- ■ '

5 ァミノ一 4— (3, 4 ジ-メ'トキシフェ.ニル） -イソキサゾール -0 , 37 gと - トリェチルアミン Ό-. "50 g-とをテトラヒドロフラン 1 -Om 1に溶解-し、こ. に 2 一（2—プロピニルォキシ） 2— ( 4 クロフエ二ル)-酢酸塩化物.0. 4-Q g を滴下して、室温で 3時間攪拌した。その後、反応混合物に酢酸ェチルを加えて濾過し、濾液を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルク^マトグラフィー（展開溶媒.: ^へキサン酢酸ェチル = 1/1)-に付-し、 N { .( 3 , 4—ジメ—ドキシフ :ニル）イソキサゾール— 5 ィル } — 2— (·2 プロピエルォキシ） 2— (4—クロ口: フェニル）ァセトアミド（以下、生成物— 1— 1と.記す） .0. 049 gを得た。

生成物 1— 1 - ■ r

— NMR (CDC 13, T S) δ ( ρ ρ m) : 2-. 5 6 (1 Η, -t , -J = 2 _r . · Η ζ 3. 7 1 (3 Η, - s ):、:' 3.-—8 8 (3 Η, s ) -4. 1 2 - (-1 Η, -d d d :- J = 2. 4H z , 1 5. 8H z 4. 38- (Ι Η,- d d-_r J = 2. 4 H z , 1-5.

.7 7 -.6. .80 (3H m)、 7. .22 - 7. s)、 - 8 7 5 (tH, -s) ―

製造例 2 1— ^ ■ ·^;- - - - -- - - - - ■ トルエン 1 50m 1に 4 メチルスェニルダリオキシル酸 1 0.. _0 gと塩化チォニル 7. 2 m 1 と N, N—ジメチルホルムアミド 0:. 2 gを加えて、 80 °Cで 1時—: 間攪拌した。その後、反応混合物を室温付近まで放冷してから減圧下濃縮じ f粗 4 ·. 〜メチルフエニルダリォキシル酸塩化物 1 2. 1 gを得た。 ·· 二：-■： . .- . テトラヒドロフラン 50 m l:に生成物 Π— 6- aの 2.. 1 gと.トリチルミ-ン 2 - m 1 とを混合し、この混合液に 0 5°Cで、上記の粗 4· -メ.チルフェル -グ:リォ—キ： -シル酸塩化物 1. · 8 gをカ卩え、 -室温で 2時間攪拌した。 -その後、反応混-合物に水を -: カロえて减圧下濃縮して、クロロホルムで &回抽出-した。.有機；！を乾燥し、減圧. 濃：縮して、残渣をシリカゲルクロマトグラフ-ィ一に付し、下記の物性の生成物 (以下、 _一生成物 2 1と記す） 1. 4 gを得た。 - - —- — ·...

生成物 2— 1 — 一- -¹ H-NMR- (CDC 13 , TMS) δ .( p p.m) .2. -45 .( 3 H-，一- s )、 3. -9 " 4- (3 H-, · s ) , 3. 97- ( 3 H;: s ); 3. .9 -9 ( 3 H, s )、. 7. 00- 7 1 8 (-3H, m)、 7.- 31 (2H; d, J 8 H )、— 8 ·, 26 : (-1 :，-一 s )、 8 —3 6- (2H, d， J = 8H z)、 .9. 1 6 (1 H, b r s ) "

--

製造例 2— 2· .· -： … … ―' 一 .·： - 生成物 ·2— 1の 1 · 1 gをェタノ一/レニ20 m 1に混合:し、-.ここに 0〜 5. で7|素- 化ホウ素ナトリウム 33 m gを加え;-室温で 5時間攪拌した。その後、反応混合物を減圧下濃縮し、水を加えてクロ口ホルみで_3.回抽出，した。有機層を乾燥し、 .減圧 ' 下濃縮して、下記の物性の生成物（-以下、生成物 2 2と.記す) 1 l_gを得た _ό 生成物 2 2 - ― -: ： - . - '-. .·■ . - -_: .

— NMR (CDC 13 , TMS) δ (ρ ρ m") ： 2..3.6 (3 Η, s)、- 3..3 : 1 H, d)、 3. 88 (6H， s)、 3. 92 ( 3 H, s)、 5.. 2 ( 1— H， d )-、 · 6. · 86— 7. 21 (5-H, m)、 . 33 (2H, d， J =8H z)v'8. 06 (1 H, s-)、 8. 2 (1H， b r s) - _:— - - -

製造例 2— 3 - 二 - . ヘ：ノ . ' ■ ,,：

- '生成物 2— 1の 20 gをメタノール 5 m 1に混合し、 - 0-メチレ：ドロキシ― ,ルァミン塩酸塩 57 m gとピリジン 0 · G 5 1 m 1を加えて ·、室温で 6:時間攪拌し 'た。その後、反応混合物を減圧下濃縮-して Γ残渣を薄層クロマトグラフ-ィ一で分取-. ：憎製して、下記の物性の生成物（以下：、生成物- 2— 3_:と記す） .0-, l、4-.-g.を得た。 ^成物 2— 3 .. .：： · - . 、： , - - ,二：.;: . " H一 NM-R ( C D C 1₃， - TM S ) δ ( p p m) ：—2" .3" 7 (3H, s) -、 .3 ,.,：8-7-. (:3H， s)、 3. 9 1 (3H, s)、了 3. 95 (3H， ' _S.)、 4. Θ 4 (-3H;' s)、二. 6. 92 (1H， d， J 8. 4Hz)、 7. 09 (1、H, d d J = 8 4, 2.

0H z)、 7. 14 (1 H, d， J =2 ::QHz)、 7. 19 (2H， d， J = 8. 4Ή ζ)·、 7. 45 ( 2Ή, d p=:8. 4 H zう、 -8·· 1-5 (ΙΗ, b r s)\ 8. "2 3- (1Η， s)

製造例 :2— 4 ：- " , . ― ： ,.

' テトラヒドロフラン ·20 m l-に生成物 2—' 2の 0—· 71 gとトリェチルァミン 0.

5 2m lとを混合し、 .ここに 0 °C付近：で塩化メタンスルホニノレ 0. 21m lを滴下 —-し：室温で 2時間攪拌した。、.反応混合物に水を加えて、酢酸ェチルで抽出レた。.有機層を 3 %塩酸および水で順次洗浄.じ、乾燥し、減圧:下濃縮：した。我渣に Λ2―プ:口 ' - ピン— 1—オール 3 m 1を加えて、約- '8 °C:で :2時間攪拌た。.その後、反応混合,」物を室温付近まで放冷ーレてから水を加え、：.酢酸ェチ.ルで抽出した。 ,·有機層を水、.飽— 和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で順次洗浄した後、 _乾燥レ、減圧下- 濃縮し、残渣をシリ力ゲルクロマトダラス、に付、下記の物性の生成物 (以下.; - 生成物 2— と記す） -0. 50 gを得た：。 - . . — - - 生成物 2— 4 -：: . -

¹ H-NMR (CDC 1₃, TM S ) - δ (p p m) ： 2 •35 (3H, s)、 2 4. 8 -2. 49 (1 H, m)、 3. 89 (3 H, s), 3 95 "( 3 H, s)、 3 9

6 (3H， s)、 4. 01 -4. 30 (2-H, m)、 5 14 ( 1 ¾ s )、 6 9

H, m)、 8. 08 (

2. 4 gとジフエニルホスホリルアジド.2. 6 g-と h -ェチルアミン 1 0 gとを混合し、. 還流下 6時間攪- 拌した。反応混合物を減圧下濃縮し；残渣をシリ力ゲルク口マトダラフイ一に付し- た。得られた精製物とトリフルォロ酢酸 lm 1と酢酸 3 m 1と水- lm 1とを混合し、 60°Cで 3時間攪拌した。室温付近まで放.冷した反応混合物に水を加え、二酢酸ェチノレで抽出し、有機層..を飽和炭酸水素-ナトリウム水溶液で洗浄後、減圧下濃縮した。 - られた残渣とトリェ-チノレア.ミ-ン 0. 50 g-とをテトラヒド t？フラン 10m に混合し、ここに 2— < 2—プロ-ピオ-ルォキジ） —2— (4 グロ口フエニル）酉乍酸塩化物 0. 50 gを加え、室温で 4時間攪拌した。その後反応混合物を減圧下 ¾S縮 • し、残渣をシリカゲルク口マトダラフイ一に付:し、.下記の物性の生成物（以下、生成物 2— 5と記す) 0 43 gを得た。 . ·' " - 生-成物 2— 5 · - -:, - . ' - iH— NMR (CDC 1₃，. TMS) δ (P P— in) ： 1. 46 (9H, s)、 2. 43 (1"H, t , J =2. 4H zゥ.、 3. 8 -4. 00 (7H,—m)、. 4. 08— 4. .1.6 (1-H, m)ゝ 4. 98 ( 1 H, s ) 6. -7: 5— 6 · · 9 & (3 . m)、 7. 1 6 - 7. 30 (4H, m)、 7. 12 ( 1 Η,ν s.)v 7. _95— ( 1Ή，- s：) - .— - ： ' ~ '：" - - " —

製造例 2— 6 -.- . - . 一

生成物 2 _ 5の 0. 43 gと希塩酸 1 O m:lとを混合し、還流下 3時間攪拌した。. 室温付近まで放冷した反応混合物に水を加え、酢酸チルで抽出した。有機層を乾燥、減圧下濃縮して、 .残渣をシ-リ力ゲルク'口.マ小グラフィに付し、.下記の物性の- - 生成物 0. o i ogを得た。 - ：： - . 一 ― . . - 生成物 2— 6 "

1お _NMR (CDC 1₃， TMS) 8 ( p p m) ： 2. 5 (1 H, t， J - 2. 4Hz)、 3. 92 (3H, -s)、 .3. 95 (3H， s -)、 4, 05 —(1H， d d， J =2. 4H z , 15. 8Hz)、 4. 31. ( 1 H, d d, J =2. 4 H z 1 5.

8 H z ), 5. 17 (1 H, s )、 6. 98.(1 H, d'; J = 8. 7 H z)、 7.. 1 1 (.1 H， s )、 7. 11 (1 H，- d J = 8. 7 H- z )、 7. 34- 7. 38 (4. H， m)、 8. 21 s)、 8:. 60 (1 H,. s ) 一.

OCM, 製造例 2一 7 - - . . -- . ,:· · - 一

2 - (2—プロピニルォキシ） 2— (:.4 クロルフエ-ニル）酢酸 0.： 35 g、：生成物 Π— 6 aの 0. 34 g、 WS C 0. 33 g及び上。リジン S m l.を混合し、 7 0°Cで 3時間攪拌した。その後、室温まで冷却して反応混合物に水を加え、酢酸ェチルで抽出した。有機層.を 5 %塩酸で 3·回.; -飽和重曹.7k及び飽和食塩水で順次浄し、硫酸マグネシゥムで乾燥した後、- .減圧下濃縮した。残渣をシリ力.ゲル力ラムダ口マトグラフィ一に付し、下記物性-を示す生成物'（以下、生成物- 2— · 7と記す。） 0. 21 gを得た。一 ... — . . . ' · 、 ― . :. 生成物 2— 7 - ：. - ： - ： - -

!H-NMR (CDC 13 , TMS) δ- (ρ pm)_;: 2. 47 ( 1 Η， t， — J = 2 · - 4 H z )、 - 3. 89 (3H, s .)、 3. 95 (3 H, s ), 3. .96 (_3 H， s )、 4.. 0 5 (1 H， d d， J = 16. OH z,- 2. 4H z), 4,..31 (1H, d d， J = 16. OH z,- 2. 4 Hz), 5. 16 (1H， s)、 6 98 CI H，― d , J =-

8. ΌΗ z)、 7 13 (1 , d d, J =8.. OH z, . 6H ζ) 7. 17 (1 H, d， J = 1. 6 H z )、 7. .37 (4H, s )、 8 06 (1H， s)、. 8. 6 2 (1 H, b r . s) ― - "-

2 - ( 2—プロピニルォキシ） — 2 (.4 -ブ:口—ムフエニル）—酢酸 0. 2.6·: g .く生成物 Π— 6 aの 0. 27 g、'WS:C0. 26 g及びピリジン ·8 m 1を混合し、 7 0°Cで 3時間攪拌した。その後、室温ま.で冷却レて反応混合物に^を加え、酢.酸^ チルで抽出した。有機層を- 5 %塩酸で 3回、飽和重曹水及び飽和食埠水で順次洗浄 ' し、硫酸マグネシウムで乾燥した後—、減圧下濃縮した。残渣をシリ,力ゲルカラムク口マトグラフィ一に付し、下記物性を示す生成物.（以下；生成物 2—- ·8:と記ず。） - 0. 25 gを得た。 ―

生成物 2— 8

^-NMR (CDG l—₃, TMS) δ (ρ ρ m) ： 2. 51 (1 Η, t:， J = 2τ 4H¾)、- 3. 89 (3H, s)、 .3. 9 B ,( 3 H, s )；'： 3. 96 (3H， s)、 4.. ひ3. (1 H， d d, J = 1 6 H z , 2. 4H z 4. 3 1 (1 H， d d ,■ J = 1- 6 H z , 2. 4H z)、 5. Γ 4 (1:_:H, s), 6. 97 ' ( 1 H, d， J =7. 9H z )、 7. 13 (1 H, -d d , J .= T 9 H z , 2. OH z)、 7. .1 7 (1 H， - d， — J = 2r 0Hz)、 7. 3 1 (2H, d, J = 8: -3H z)、 7.— 52 - (2H，- . d- J =8. 3Hz)、 8. 06 (1H, . s ), 8. 6 . (1 H, .b. r . s-)

製造例 3—1 - . ^: . ：一生成物 ΠΙ— 3 aの 1. 08 gをエタソール 1: 0 m l:に混合し、ここに 0 5 °Gで '水素化ホウ素ナトリウム 32mgを加え、室温で 2時間攪拌した。反応混合物を減- 圧下濃縮し、残渣に水を加えた混合物を 0°C.にした。濾過して得られた固体を減圧乾燥し、下記の物性の生成物（以-下、生成物 3— 1と記す). 0. 7-5-gを得た。生成物 3— 1 '

¹ H-NMR (CDC 1₃, TMS) δ (p pm) ： 2. 36 .(.3 H，- s -)、 3. 71 (3H， s)、 3. 86 - 3. 88 (7 H, m)-、 5. 1 8 (1H， s)、 6. 65 - 6. 78 (3— H， m)、 "7 17. (2-H, ' d, -J - 7. ,6Hz)、 7 , 34 (2H, d,ノ J = 7. 6 H z―)、 7. 38 (1 H, s ')、、丁く 85'： (1 ¾, s )

" J; -

製造例 3— 2 +·. : - - - ; ： - .

• . M—3 bの 0.· 92 gとェタノ一-ル 10m 1に混合し、ここに」 0〜 5 、水素化ホウ素ナドリゥム 28mgを加え、室温で 2fl寺間攪拌した。反応混合物を減圧下濃縮し、残渣に水を加えた混合物を 0°Cにした ₅濾過して得られた固体を減圧乾燥し、下:記の-物性の生成物 Ό . 93 g.を得た。へヽ - .： - . - ：. - - 生成物 3一 2 - - . · . . : - - - . ' -

-^-NMR (CDC 13 , TMS) δ (ρ pm) ： 2. 38 (3Η， s -)、 3. 36 - -(1 H, d， J =-3. 2H z)、- 3. 67. (3H，- s -)、 3. 79 (3H,:- s) -、 3. .8 9 (.3 H -， " s. -)、 5. 28 (1 H, .d, J.=—3 - . :2 H z )、 .6. .74— 6. .8- 4 -( 3 -H， -m)、 7—·: 22' (2Η,· d, J 8 Hzつ、 7. 36 (2 H, d, J. = 8 H z - - 7 .5.9 (1 H， s)、 7.--87 (1 H， s) — - ' . -— : . ' 製造例 3:3·

テトラヒドロフラン 1 Om 1に生成物 3—1の 0. 5-5 gと卜リエチルァ.ミン 3 Om l -とを混合し、ここに約 0°Cで塩化メタンスルホニル 0 13 gを滴下し、室温で .30分間攪拌した。反応混合物に水を加；^、酢酸ェチル抽出した。有機層を水で 2回洗浄し、乾燥し、減圧下濃縮し。残渣.と _2，プロン— 1—オール 1 ·- 7 m l とを混合し、 80°C付近で 1時間攪拌した。その後；反混合物を室温付近まで放冷してから氷を加え、 -酢酸ェチルで抽出した。有機層を水、飽和炭酸水素ナドリゥム水溶液および飽和食塩水で順次洗浄し、.乾燥し、—減圧下濃縮した。残渣をクロマトグラフィーに付し、下記の物性の.生成物（以下、生成物 3—- 3と記す） -2

29mgを得た。 - - ' . — .·- - - ： - 生成物 3— 3 . - ： .. ·ノ . , ： :-

¹ H-NMR (CDC 1₃, TMS) δ (p-p.m)::.. 2. 37 ( 3 H", s)、 .2. .5- 1 (1H， t , J =2. 5Hz)、 3· 66 (3 H, - s )^- 3. - 78 (3H, s ),

3. 89 (3 H, s)、 4. 01—4. 33 (2H， m)、 5. 21 ( 1 H， s ), 6. 79 - 6. 85 (3H， m)、 7. 21 (2H, d, J =8.Hz)、 7： 33 (2H,

-d， J =8H z)、 7. 59 (1H，. s)、 8..22. (1H, s.) ：. . - , ■-·' -： " - 一： ...

•製造例 3— 4 · .. ' ：：： ---■ - .

-テトラヒドロフラン 10 m lに生成物 3— 2の 0. 6— 3 gとトリェチルァミン 0. , 3 9m lとを混合し、ここに約 0°Cで塩化メタンスルホニル 0. 15m lを滴下-し、室温で 30分間攪拌した。.反応混合物に水を加え、.酢酸；チルで抽出した-。有機層' を水で 2回洗浄し、乾燥し、減圧下濃縮した。-—得られた残渣.と 2- プロ：ビー.1- オール 1. 9 m 1と.を混合し、— 80 付近:で時間.攪拌し。 H後反応混合物を室温付近まで放冷してから水を加えく.酢酸チノ kで抽出した。 -有機:層を水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液および飽和食塩水で順次洗浄し、乾燥し、減压下濃縮した。残渣をクロマトグラフィ一に付し、下記物性の生成物（以下:；生成物， 3 と記す)— 264 mgを得た。 - - - 生成物 3— 4

H-NMR ( C D C 13 , TM-S) δ (p p m) ： 2". 34 (3H， s -)、 2_ 4

7 (1 H, t , J = 2. 4H z)、 3. -53 (3 H, s)、 3. 88 (6H, s )、

4. 03 -4. 28 (2Ή, m)、 5. .14 (1 H, s)、 6. 7— 6. 89 (3

H, m)、 7.- 15 (2H, d， J = 8Ή z ), 7 · '32 ( 2 H d， J = 8 H z ) -、

7. 39 (1 H, s)ヽ 8. 38 (1 H, s ) 一- . -

製造例 3— 5 -

' ピリジン 15m 1に生成物 ΠΓ_δ aの 2·:— 0 gと 2— ( 4—クロ口フエエル）.一

2 - (2—プロピニルォキシ）酢酸 1. 6 と.1—ェチル—3「（3—ジメチノレアミノプロピル）カルボジィミド塩酸塩 1. 7 gとを混合し、 100°Cで 2時間携拌.

した。室温付近まで放冷した反応混合物に希塩酸を加え、酢酸ェチルで抽出した。

有機層を乾燥し、濃縮した。得られた結晶をへ:キサン洗浄じて、下記の物性の生成:

' 物（以下/生成物 3— 5と記す) 2. 7 gを得た。

生成物 3— 5 - ^-NMR ( C D C 13 , TMS) δ (p pm) : 1. 61 (9H, s)、 2. 51

(1 H, t , J =2. 4Hz)ゝ 3. 68 (3H.， s)、- .3. 88 (3H, s)、 4.

0 5 (1 H, d d, J = 2. 4H z, 15. 8 H z )、 4. 3.2 (1 H, d d， J

=2. 4H z , 15. 8Hz)、 5. -1 7^_ (1H, s)、 6. 67— 6. 73 (2 Η,· m)、 6. 81 (1H， d, J = 1. 6H z), 7. 30 -7. 37 (4H， m)、

7. 55 (1 H, s)、 7. 98 ( 1 H , s ) -.

-二 -

製造例 3-6 -" ェタノール 6 m 1と塩酸 ( 3モル Z 1 ) 10 m 1と.1， 4——ジォキサン 3 m 1.と -の混合液に、生成物 3— 5の 1. 0 gを加え、還流下 2時間攪拌した。 -反応混合物- に'水を加え、酢酸ェチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリゥム水溶液で浄し、乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルクロマト-グラフィ一に付し、一下: 記の物性の生成物（以下、生成物 3— 6と記す） · S lmgを得た。ノ - - . 一生成物 3—-6 - .

¹ H-NMR (CDC 1₃ TMS) - δ (p p m) ： 2. 53 ( 1せ Γ t， J 2· O H ζ), 3.- 90 (3 Η, s)、 3. " 93 (3Η， s)、 4. -05 ,( 1 Η， d d， - J =2. 0 H z , 15. 8Hz)、 4. 32 (1— H, d d, J = 2. 0 Hz , 15"； - 一 8Hz)、 5. 20 (1 H, s)、 -6. 87— 6. 95 ( H， m)、 7. 3.3— 7· —

一

製造例 3—7 - 一 . .— 一 . ;. ―

生成物 ΠΙ— 9の 1. 6 gとトリェチルァミン： 1. 0 gとをテトラヒ-ドロフラン 2 Om.lに溶解し、ここに 2— （4—クロ口フエニル）一2— (2—プロビュルォキ -シ）酢酸塩化物 1. 6 ¾を加え、室温で 4時間攪拌した。反応混合物に酢酸ェチルを加えて濾過し、濾液を減圧下濃縮-した。残渣をクロマトグラフィーに付し、'—下記の物性を示す生成物 1. 5 g (以下、生成物 3 -.7 aと記す。）ど下記の物性を示す生成物 0. 38 g (以下、生成物- 3— 7 b-と記す；とをそれぞれ得た。 ― 生成物 3— 7 a } -- -

¹ H-NMR (CDC 1₃, TMS) δ (p pm) ： 2. 49 ( 1 H, t， J = 2. 4Hz)、 3. 74 (3H, s)、 3. 88 (6 H, s)、 4. 0,9 (1 H, cTd, , J = 2. 4 H z , 15. 8Hz)、 4. 30 (1 H, d d, J =2.、4Hz， 15. 8 H z), 5. 15 (1 H, s ) 6. 47 ( 1 H, d, J = 8. 3 H z ) 6. -7 "7 (1 H, d d， J = 1; 6Hz，- 8. 3Hz) 6 84 ( 1 H, d， J = 1 , -

6 H z)\ 7. 31-7. 40 (5H， m)、 -8. 35 (1Ή, s) - 生成物 3 7 b - - - ·· . .. - -. お一 MR (CDC 1₃, TMS) δ (p pm) : 2、 54 (1 H, t， —J =2. .4 Hz )、 3. 65 (3H， .s)、 3. 78 (3H， s), 3. 89 (3H，. s)、 —4—. 08 (1H， dd， J = 2. 4H ζ·, 15. 8Hz)、 4·.33 (1H， d d，. J 4H z , 8 H z)、 5 2.2 (1 H, s..)、 6. -:7 5— 6. 7 8 (2 ΎΛ,

H, m -)、 7. 5 8 (1 ϊί,

5 · 製造例 3— 8. —- - -, : - . - . -

- メタソル 5 0 m 1 に 4 メチルベンズアルデヒド 1 2 g及びブロモホルム 3 0 gを加えた後、水酸化力リウムメタノール溶液（水酸化力リウム 2 8 gとメタノール 1 1 0 m 1 との混合溶液）を氷冷下で滴下した。室温で 1日 ^¾拌した後 V反応混合物に水及びグロ口ホルムを加えて抽出し、得られた永層に塩酸を加えて酸性 10 ：にしてク口口ホルムで抽出した-。有機層を減圧下で濃縮し、 · 2—メ+キシ— 2—（4 ——メチルフエニル）酢酸 1 l gを得た。 . - ·.··..

•2—メトキシ一 2— (4—メチルフエニル）酢酸

-- ¹ H-NMR (CDC 1₃, TMS). δ: (P P m) ： 2. 3 4 (3 H, s)、 3. 3 " 9 (3 H, s)、 4. 7 4 — ( 1 H， s )、-' 7 1 7 ( 2—H， d，' J = .7 9 H z )、 15; 7. 3 1 (2 H, d , J. = 7. 9 H z ) ： .: . . — — . - . ..：. — ： - 2—メトギシー 2—— ( 4—メチルフェ-ニル): -酢酸 0、 2 7. g、生成物 HI— 9:の- 0..'. - :3 5 g、 1—ェチル— 3，（ 3—ジメチルアミノプロピル）カルポジイミド塩酸塩 _ - (以下、 WS Cと記载する。） 0. 3 2 g及びピリジン 8 mレを混合し、 .1 l. °C . ' で 6時間攪拌した。その後、室温まで冷却'して反応混合物に水を加え、酢酸ェチル- 20 で抽出した。有機層を 5%塩酸、飽和重曹水、 -水及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫 . .. 酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムク Pマ.トグラフィ一に付し、下記物性の生成物（以下、生成物 3— 8 aと記す)— 9.1 m gお .よび下記物性を示す生成物（以下、本発明化合物 3— 8 bと記す） 8 0 m gを得た。生成物 3— 8 a ' - - '

-25 ¹ H-NMR ( C D C 13 , TMS)"¾ (p-.p m)： 8. 3 9 ( 1 H b r s )V'7. - 3 8 ( 1 H, s)、 7. 3 1- (2Ή, d , J = 8. Q H )、 — .7. 1:4 (.2. H， d， J = 7. 8 H z ), 6. 8 3 ( 1-Η,· -d^ J^:.^ 1"： 7 H z)、 6. 7 8'. ( 1 H, d d , - - J = 8. OH z 1. 7 H z ), 6·. 7 4 ( l.H, d J = 8 ··. 2'H z ).ゝ 4.. .7—2 - (1 H, s 、 3. 8 7 (3H, s ).、 3. 8 6 (3 H， s)、 3. 6 4' ( 3 H , s )r 30 3. 3 9 (3Ή, s)、 2. 3 3 (3 H， s ) - - ,： -- . ' 生成物: 3—- 8 b - - - -- - - - - - ：

^H -NMR CCDC 1₃， T-M-S)-一 δ ( p p m) ： 8 - 1 6 (ΊΉ， b r . s-)\ 7. 5 8へ ( 1 H， -s)、 7. 3 2- (2 Ή, d， J = 8；. 3 H z -)、 7. 2 0 (2 H, d 一 J =-7. 8 H z)、 6. 8 0〜6. 8 8 ( 3 H, m)、一- 4· 8 0 — (1 H， s ); 3. 8 9 (3 H, s ), 3. 7 7- (3 H, s ) -、 3. -6 6 ( 3 H ,^: s)、 3.. 40. (3 H, s ), 2. 3 7 (3 H, s ) ノ - — - -: "： - —-- . - · ：へ - ；

製造例 3— 9 - - - . '· —. '― - ― .■ ' ―

2 - (· 2—プロピニノレ一才キシ） - 2， (.4-—ブ口ムフエ二ノレ）—酢酸 0 & 4 g 生成物 ΠΙ— 9の 0. 47 g、 WS CO, 4.2. g -及-びピリジ-ン, 8 m.lを.混合レ; ΐ 1 1 5 °Cで 5時間攪拌した。その後、室温まで冷却して反応混合物に水—を加え、酢酸ェ- チルで抽出した。有機層を 5 %塩酸、'飽和重曹水；水及び飽和食塩水で順次洗浄し、 . 硫酸マグネシゥムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカ'ゲル.力ラムク .口:ヌ

—^:トグラフィに付し、下記物性の生成物（以下、生成物 3— 9— ' a.と;記す)- 0. 2 :7— gおよび下記物性の生成物（以下、本発明化合物 3― 9 bと記す） 0. 3 1 gを得 †こ。- . - . , - -. :

-生成物 3— 9 a -- -■ 1 H-NMR (CDC 13 , TMS) δ ( p p m) ： 8.. - 3.4 (1 H， b r— . · s ) 、 7. 4 8 (-2 H, d， J = 8. 3 H z )ゝ 'Ψ - 3 9 ( 1 H, s )、;:-— .7 · ： 3 3 .(2 H, . d , J = 8. 5 H z)、 6. 8— '2〜 6 8 2 ；(1 H, m).、 6. .7:2〜 6V 7,6 ( 2 H, m)、 5. 1 3 ( 1 H, s )、 4： 3 0. ( 1 H，.— d d.， J..=.1 5. 9Ή-ζ 2. 4 H z)、 4. 1 0 ( 1 H, d d, J : 1 5 ; .9-H z-， 2, Ή z )：—、 3 :, 8 9一- ( 3 H, s)、 3. 8 8 (3 H, s ), 3. 7 3 (3 H，. s〉、-. ;2 , .4.9 (1 H t， ,J = 2. 4H z ) - - - 生成物 3— 9 b 一 - - . ：

1 H-NMR (CDC 1₃," TMS) δ (p p m) ：

5 9 ( 1 H， s ), 7. 5 5 (2 H， .d， J ; 8 .2 H z )、： 7、

J = 8. 3 H z)、 6. 8 5 ( 1-H, s -) 6. 7 7 (2 H; .a 、二 5 : 2 2 (JLH s ), 4. 3 5 ("1 H, d d -， J = 1 5 9 H z , 2. 2 H-z )、 4. Ό.'- 9 ( 1 H; d d， J = 1 5. 9 H z , 2. 2 H z )^3. ( 3 H，： s )、 3. 7 9 ( 3 H, s )、 3. 68 (3Ή， s)、 2. 5.3 (1H, t , J = 2. 4H z)

製造例 3—1ひ - 一： . . -

- - 製造例 '3 _ 8と同様の方法で、 4—メチルンズアルデヒド' 0代わりに 4—ブ口 5 モベンズアルデヒド ^:を用いて、 2—メトキジ一.2- _(4—ブフエニスレ）酢酸を得た。 2—メ .トキシ— 2—-（ 4一ブロモフエ二：/レ）酢酸 0. ,4；;9' g、生成物 ΙΠ：-- 9 の 0. 46 g、 WSC0. 42 g及—び'ピリジン 8 m 1を混合じ、 · 115でで 5時間攪拌した。その後、室温まで冷却して反応混合物に水を加え、酢酸ェチルで抽出し •た。有機層を 5%塩酸、飽和重曹水、水及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネ- 1ひ -シゥムで乾燥した後、減圧下濃縮した残渣をシリカゲルカラムク,口.々トグラ」フィ ' - - 一-—に付し、―下記物性の生成物 (以下-、生成物 3— 10 a -と記す） 0. - 20 gおよび— 下記物性の生成物（以下、生成物 3— 1ひ. b-と記す)： 0 , 13 gを得た。一 ' . 生成物 3—10 a - :· - _ - - - 二： + ―

— ¹ H— NMR- (CDC 1₃， TMS) δ (p pm) :.— 8. 3,4 (1-H, .b-r ..s)、 7—. 15 48 (2H， d， J =8. 3Hz) 7. 39 _(— 1:H， s)、 7. 3.3 (2 H, .d J- = 8. 5Hz)、 6. 80 (1 H, s)、 6. 70〜 6. 72 (2 H, m)、 4.

7 2 (1H， s)、 3. 88 ( 6 H-，— - s )、- 3. 70 (3 H, s)、 3. 44 (3H，. ― ^; s ) . - ■ '. - .

- 生 3— 10 b , . . 一

20' ^H-NMR (CDC 1₃, TMS) δ (p pm.) : 8. 11 (1 Η, b r . - s) J. - ：. 58 (1H， s)、 7. 54 (2H， d，- J. = 8. 5 H z )、 7. 34 (2 H, d., . J = 8. 3 H z )、 6. 83 ( 1 H， d , J = 1..7 H z ).、. -6. 75 - (1 H,— d,一 , J = 8. 3Hz), 6. 71 (1H， d d , . J = 8. 3 H z , 1 7H.z); 4;.：. -8 0 (1H， s)、 3. 90 (3 H, s)、 3. 78 (3 H, s)、 3. 67 (3 H, 25 s―)、 3. 44 (3H, s) ノ ― - .

-

. . 2— (ナフタレン一 2—ィル）一2 (2，プロピニルォキシ）酢酸 0. 54 g、生成物 ΙΠ— 9の 0. 47 g、 WS C 0. 4-2 g及びピリ.ジン.8 m 1を混合し、 1 'l^ " 5- 5でで 5時間攪拌した。 ·その後、室温まで冷却して反応混合物に水を加え、酉乍酸ェ - - チルで抽出した。有機層を 5 %塩酸、—飽和重曹水、水及び飽和食塩水で順次洗浄し ' ^:硫酸マグネシゥムで乾燥した後；減圧下濃縮した。 .·残渣をシリ力'ゲル— ラムクロマ -- ' トグラフィ.一に付し、下記物性を示す生成物 0·. .11 g: (以下—、生成物 3— l:l.--a' と記-す。）および下記物性を示す生成物 0:.15 g (以下、生成物 3-— 11— bと-記 10 .す。）を得た。 - ' - ... , . -ι '

生成物 3 1 l a - ―

¹ H-NMR (CDC 13, TMS) δ (p m).： 8. 43 (1 H, b r . s)、 7. ··-'" 94 (1H， &)、 .7. 78一〜 7.- 95 (3 H, m)、マ. 45〜7. 5—7 (3H-; . m)、 7. -40 (1 H, s)、 6. 85 (:1H， d， J ;2. 0Hz)、 6. 74 (1 15 H, d d，. J =8. 0 Hzゝ 2.. 0 Hz), 6. 57 (l.H，： d, J:=8. 0H z)、 .

5-. 34 (1H， s)、 4. 33 ( 1 H, d d, · J = 15. ' 8-H z_,； 2. - 4Ή z ), 4. 13 (1 H, -d d, J = 15. 8 H z , 2. 4Hz)、 3. 87— :—( 3 H， s) ; 3. 77" (3H, s), 3. 62 (3Ή, s)、 2. 49 (1 H, t , J = 2. 4H "z) ― -

20 生成物 3— l i b . ― ' ' - .

.. Ή-NMR (CDC 13 , TMS) δ . (p p m)： 8. 25 ( 1 H，― b- r . s)、 .7 - - 9 5 (1H, s)、 7.- 8.0〜7. 91 (3H， m)、 7. 59 (l.H， s)、 7; • , 50〜7. 56 (3H， m)、 &. 87 (.1 H， — d， J = l.. 9.Hz)、 6. 76 (.1 - H, d d, J = 7. 9Hz， 1. 9 H z ), 6. 62 ( 1 H， d， J =:7.. 9Hz)、 25 5. 42 ( 1 H, s)、 4v :38 ( 1 H, d d , . J = 15. - 8 H z， 2. .4 H z ), 4. 12 (1 H, d— d， J = 15. 4H z , 2 4H z ), 3. 82 (3H，. s:)、 ' 3. 74 (3H, s)、 -3. 69 (3H， s)、. 2. 54 (1 H, t , J = 2._ 4H ' z ) "' - - -- · —

製造例 3 - 12 - " -- - - ノ

2— (2—プロピニルォキシ）一2— -フエニル酢酸 0.—41 g、生成物 ΙΠ— 9の〇-, 50 g、 WSC0. 456 g及びピリ.ジン 8 m 1を混合し、 11- 5 °Cで- 5 寺-間- ； "5 攪拌した。その後、室温まで冷却して反応混合物に水を加え、酢酸ェチルで抽出した。有機層を.5 %塩酸、飽和重曹水; ·水及び飽和食塩水で順次洗浄.じ、硫酸マグネシゥムで乾燥した後、減圧下濃縮しだ。.残渣をシリカゲノレ力ラムクロマトグラワ.ィ- ― ― —に付し、下記物性を示す生成物 0. 26 g - (以下、..生成物 3— Haと記す。）一および下記物性を示す生成物 0. 05.8 g - (以下、. 生成物 3-1- 2 bと ·記す。; Γ_;を 10 得た。 - — . ノ， - - ： . 生—成物 3 ·— 12 a " · , -: - - -" ； -"

^H-NMR (CDC 13 , TMS) δ (ρ ρ m) :.8. 38 ( 1 Η， b r— . — s.)、-: 7.. ― 30〜7. 46 (6 H, m)、 6\ 74〜6 90 ( 3 H, - m)、-— 5· 16 (1 H, s )、 4. 28 — (1H, d d， J = 15.-、—6Ηζ， 2·- 4Hz)、— 4. 07；(1 H, 15 d-d, J = 15. 6—Hz， 2. 4Hz)、 ,3. ,87 (6H, s)、. 3. - .6.8 (3.H, s )、 2. 47 - (1Ή, t, J =2.— 4 Hzう ― ; 二 -

- -' 生成物 3 -12 b — - - - , ■- . .· : - -

^XH-NMR (CDC 13 , TMS) δ (p pm) : '8. :17 ( 1 Η, - r.,s)、 7. . 一 5 (1 H, s)、 7. 36〜7. 50 (5 H, m)、 6. 79〜&. 90. (3 H, 20 m)、 5. 25 (1 H, s)、 4. 3-2 (l.H, d—d， J = 15_. 7H-z, 2. 4 H z ), 4 07 (1 H, d d, J = 15. 7 Hz , 2. 4 H z )、· 3.. 8— 9. ( 3Ή, s )、 3. 77 (3 H, s)、 3 -. 67 (-3H, ..s)、 2/ 5-1 " (1H, tに. J二 2 4 H z)

製造例 3— 1 3 . - . . ■■ :-·

. -製造例 3— 8と同様の方法で、 4—メ.チルベジ.ズアルデヒドの代おり」に z ノレデヒドを用いて、 2—メトキシ一 .2—フエル酢酸を得た。 2—メ .トキ;シ— 2— フエニル酢酸 0. 42 g、生成物 ΙΠ— 9·の- 0.'ノ5' 8-g、- W.S C O. 5 3 g及びピリジン 8 m 1を混合し、 1 1 5 °Cで 5 ,時間攪拌したその接、..室まで冷却して応. 混合物に水を加え、酢酸ェチルで抽出した。.有機層を' -5%塩酸、飽和重曹水、 7 及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後；：減圧下濃縮した。残. 渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ.ィ一に付し、下記物性を示す生成物 _0... 1-2 g (以下、生成物 3— 1 3 aと記す。)— および下記物性を示す生成物 0. 0.9-G g ' (以下、生成物 3— 1 3 bと記す。)— を得た。—. - ... - -: ；. -：.；：ノ一 . 生成物 3— 1 3 a 一- - .. . -: -ゝ ' ' ：-

^H-NMR- (CDC 1₃, TMS) δ (p p m) ,: 8. ,39 (.1 HfL^b r . s)、 7 3 0〜7. 44 (6 H, m)、 6. 7 2〜 6、 8.5 :( 3 H， m)、¾4 · 7;5： 1：- H， s );— -3: 8 8 (3 H, s)、 3: 8.7— (3.H， s)、二 3. 6.5- :(3H, s)、 3-— .4: - 2 (3H, s) . · -— ― . ·... -■ -: ' -- - . ；- 生成物 3— 1 3 b - - - - ― —- '. ―. — -

^-NMR (CDC 13, TMS) δ" (ρ ρ ϊη).: 8. 1 5 ( 1 Η， b r r s》、 Ί-、— 5 8 (1 H, s)、 7. 3 6- 7, 50 (5_;H, m), .6 7 9~6. 8 7 (S Ή, )、- 4. 8 3 (1 H, s)、 3.. 89 (3H， s )：、 3. 7 6 (3Ή,- s)、 :3:-— 6 5 (3H， s)、 3. 42 (-3H s) — ' . ^: ：：ー. . - - - - . 一 -

製造例 3— 1 4 + . ノ - : ノ製造例 3— 8と同様の方法で、 4—メチルベンズアルデヒドの代わりに 4一トリフルォロメチルベンズアルデヒドを用いて、 2—メトキシ一 2-— （.4—トリフノレオロメチルフエニル）酢酸を得た。 2—メトキシ一 2— (4—卜. ラオロメチノレフェニル）酢酸 7 0 g、生成物 ΙΠ— 9の 0. 7 0 g、 WS C 0. 6 3 g及びピ-リ. ジン 1 0m lを混合し、 1 1 5°Cで ·6Β争間 ¾拌 ^:した。その後：室温まで冷却し: X反 ^混合物に水を加え、酢酸ェチルで抽出した。.有機層を 5 。塩酸、飽和重曹水、水- - 及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した舞、減圧下濃縮した。殘渣をシリ力ゲル力ラムクロマトグラフィ一に付し、下記物性を示す生成物 0 、· ..3 1 g (以下、生成物 3— 1 4 aと記す。）および下記物性-を示す生成物 0. 3 9 g (以下、生成物 3—1 4 bと記す。）を得た。一 - · 生成物 3— 1 4 a - - —- ' 一- .

¹ H-NMR (CDC 1 a, TMS) δ· (p p m) ： 8. 3 7, (l.H b r . — s )、 7. - 一' 5 8〜7, 65 (4H， m)、 7：. 39. (1 H, s)、: 6. 8 0 (1 H, d , J -= 1.

5 H z ), 6. 6 5〜6. 7 3 (-.2 H-，- m)、- 4.— 8 2 1 H，- s )、 3. 8 8 (3一 H, s) 3. 8 6 (3H, s)、 3. ' 70 (3H， s)、- 3. 47 (3Ή, s) ' 生成物 S— 1 4 b ― . . - . - ·- :.·.·· . - ·.. .¹ H--NMR (CDC 1₃,- TMS) - δ (p pm):: 8. 1.5 ( 1 Η,. b: r ·.— s )、 7.

6 8 (:2Ή，- d， J -= 8- . 3H:'z：)、 7-. 6 0 _(2H, -d.， j = 8. 0H z); .7. -5 8 (l H, s―)、 6 - ,8 3. ( 1 Η,' d , J. = 1. 4H z), 6. 6 8〜&: - 7 5 (2

. 製造例 3— 1 5 - -;; . ' ： -- - --

- 2— (2，プロピニルォキシ） ,一—2— (5, 6, 7， .8—デ:ドラ—'ヒドロ一ナフタレン一 2—ィ -ル）酢酸: 0. 6 1 g、- 生成物 ΠΙ-_ 9の 0:， 58. g、 W S C 0. 5 3 g 及びピリジン 8 m 1を混合し、 1 1 5 で 6時間攪拌した。 ·その後、'室温まで冷却して反応混合物に水を加え、酢酸ェチノレで抽出し^。 -有機層を 5 %塩酸、 -飽和重曹水、—冰及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクマトグラフィ一に付 b 下記物性を示す生成物 0. 2 7 g (以下、生成物 ·3— 1 5 aと記す。）および下記物性を示す生成物 0. 46 g (以下:'生成物 ·3— 1 5 b^:と記す。を得た。：；. .

生成物 3— 1 5 a ' · · · -

¹ H-NMR" (CDC 1₃, TM-S) δ (p p-rh :：-8. 3 6 し 1 H， b .r: s)、—7. 3 9 (1 H; s)、 7. 00〜7. :1 4 (3.H . m)/ 6. 7 5~-6., 8 8 (3 H, m)、 5.' 08 (1 H, s -)、 4,^: 25 (1 H, d ， J = 1.5. .7 z,—¾ H . 一 z )、' '4： Ό 6. ( ΪΗ, d d， J = 1 5.- 7H z ; 2. 4-H z-)、.- 3. 8 8 (-3 H，- ' s )、 3· 8 7 (3.H, s), 3. 6 7 (3:H，;..s)、 2· 6 7〜2. 7 9. (4H, m)、 2. .45 (1 H, t , J = 2·. · 4.H z)、— 1 : :7.5〜： I . -8 1 (4H, m) - 生成物 3-— 1- 5七 . . .. -- - --- . · ...

¹ H-NMR (GDC 1₃, TMS) δ (p p m)-:--8. 17 ( 1 Η, b r . :s ). 7. 5 '9 ( 1 H7 s ) 7. 05〜 7 · 16 ( 3 H, m) 6. 80〜 6. 91 (3 H, m); 5.— 16 (1H s)、 4. 29· (1 H, d-d, J = 15. 7 H z , 2. 4Ή z ) 4-· 04- ( 1 H d d, J = 15. 7 H z , 2. 4 H ¾ ) - 3..89 ( 3 H, ,s ). 3. 77 -(.3 H, s)、 3. 7—0 (3 H, s )" 2. 70〜2. 81. (4H, m)、： 2v 50 (lH - -t, J =2. 4H'z)、 1· 75〜1. 84 (4H, m) '

製造例 3— 8と同様の方法で、 4一メチルベンズアルデ^ド伏わり-に 4ーメト - キシベンズアルデヒドを用いて、 2—メトキシ一 2— （4—メ '· 'トキシフエニル）酢酸を得た。 2——メ卜-キシ— 2— （4—メトキ-シフェニル）酢酸 Ό,— 49 g、生成物 IE— 9の 0. 58 g WSC0. 53 g及びピ ^:リジン： 8 m 1:'を合し、 115でで 4時間攪拌した。その後、室温まで^却して反応混合物に水を加え、酢酸ェチルで.— · 抽出した-。有機層を 5 %塩酸、飽和重曹水、 -水及び飽和食塩水で順次.洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。：残渣をシリカゲルカラムクロマ >グーラフィ一に付し、下記物性を示す生成物 0._ 2.8 g- (以下、生成物 3— .16 'a:と.記'. -— す。）および下記物性を示す生成物 0. 26 g . (以下、 -生成物 3— 16 bと記す

を得た。— ■ +—· .- . ' · . ' 〜生成物 3—16 a - - — . — . . . — Λ -

.. ^H-NMR (CDC 13 , TMS) δ (ρ ρ m)： 8. 38 ( 1 Η b r . s)、_:マ.

3 8 (1H, s), 7. 33. (2H, d J =8. 7Hz)、 6. 74 6. 89 (5 ,H m)、 4. 70 (1 H, .s)、 3. 87 (6H, s.)、 3:— · 69 (3 H，「 s )、 3. . 39 (3H, s) - . - . — - · ―

生成物 3— 16 b ' -

¹ H-NMR (CDC 1₃, TMS) δ/ -( p p m)： 8. 15 ( 1 H b r,. .s)、 .7:、, " 5 8 (lH, s)、 7. 35 (-2 H :d, J. = 8 . -9Ή-ζ ) 6. 91_ ( 2 H d - J = 8. 7 H .z ) , 6. 8— 5〜 6. 88 (lH; .m)、：6. 80〜 . 83 (2 H; m)、 4. 7-8- (1H- -s)、 3. & 9 ( 3.H" s-) . 3. 82. ( 3 H .s ) 3..— .7 9 (3 H,- s -)、 3. 66 (3H， s)、 3. 39 ( 3 H— s) ." — -:

• 製造例 3— 1 7 - - 製造 — 8と同様の方法で、 4-一メチノレベンズアルデヒ-ド代わ' こ 3 4 - ：ジクロロべンズアルデヒドを用いて、 2—メトキシー 2— (3 4—ジクロフエ 5 ニル）酢酸を得た。 2—メトキシ— 2— (3, 4 -ジク _ロロラエニル）酢酸 0. 5 ニ9 g、生成物 ΙΠ_9の 0. 58" g WS C 0.^;'5..3 g及びピリジ 8 m.lを混合し、— 1 15°Cで 4時間攪拌した。その後、室温まそ、冷却 Lて反^混合物に水を加え、:酢酸ェチルで抽出した。有機層を 5%塩酸飽和重曹水；水及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシゥムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリ力ゲル力.ラム 10 クロマトグラブィ一に付し、下記物性を示す生成物ひ · · 24 g (以下、生成物 3^ 1- 7 aと記す。）および下記物性を示す生成物 0. ·1—2 g (以下、生成物 3— 1 7 bと記す。）を得た。 - - ·:. . . ' - 生成物 3— 1 7 a ■ .. 、 ― ：

- ¹ H-NMR (CDC 1₃, TMS) δ (p pm) :：8. 10 (1 b r— s)、 7.· 15 5 8 ( 1 H s )、 . 57. ( 1 H d, J =- 1- ：9 H z ) 7. ;48' (；； H - d ,- "J = 8. 2H z) 7. 29〜7. -3-3 (1 H .m)： 6.· 83 ( 1 Ή d, J. = 1 9 Hz.)、 6. 7-6 (l-H, d , - J = 8. 2 H z ) 6. 59 U—H d d J ; 8. " - 3 H z, 2. 0Hz)、 4.-79- (1 H, s)、 3 · 89 .(.3 H, : sう、 3. _81 (3

H s)、 3. 69 (3H ¾)、 3,- 4 T (3H, s) '-' -

20 生成物 3— 17 b - —.

；. ^H-NMR (CDC 13 , TMS) δ (p pm) : 8.. 33 (ΙΗ,.-b r . s )v..7.

56 (1 H, s)、 7..38 7. 4.4 ('2Ή m) - 7.- 30 ·( 1Ή ' d d J = , 8. 3Hz, 1. 7Hz)、 6. 80 (lH，—d J = 1.— 5 H z ) 6. 7TG~'6 , 74 (2H, m)、 4. 71 ( 1 H, s)、.3_: 8-9 (6H, s)、 3. .75. (3H 25 s ), 3. 45 (3H, s) - ,

-，ュ -' -

次に、本発明化合物の製造中間体の製造について参考製造例.を示す。

参考製造例 1—1 . . .— ,

水素化ナトリウム（重量⁰/。； 60%) 6. 8 g ギ酸ェチル ·50m l ίこ混合し、. ここに 0°Cで 2— （3， 4—ジメト ^:キシフエニル) ァセトニトリルの N， N— ^;ジメ - チルホルムアミド溶液（2— (3, 4 ジ:メ：ドギシフエ二ル). ァセトニトリル' 25—' gと N， N—ジメチルホルムアミド 30.m.l との混合物) を滴下-し、室温で ·3時間攪拌した。その後、. 反応混合物に希塩酸を加え、 _醉酸ェチで抽出レ、有機層.を乾燥、濃縮した。得られた結晶をへキサンで洗浄して 2— （3， 4—ジメトキ、ンフエ. _ ニル）一 3—ヒドロキシアクリロニトリル 22 gを得た。 - - ' -—

2一（3—， -¾—ジメトキシフエニル）一 3—ヒドキシァクリロニ:トリノレ:— · --.

.

参考製造例 1— 2 — — 一 - —- 一 — - ^τ- ' - エタノーノレ 100m 1に、 - 0°C.でヒドロキシルァ―ミン塩酸塩 3'. -7.gを混合し、- ナトリウムエトキシドのエタノール溶液- (重量％濃度 .； 20%) 18, を加えた。 0°C付近で 30分間攪拌した後、 2— (3, 4ージメトキシフエニル）一 3—ヒド— ロキシアクリロニトリル 10 gを加え、室温で 15分間、 75〜 8 (TCで 4日寺間攪' 拌した。その後、室温付近まで放冷してから反応混合物に水を力 0え、減圧下濃縮後、永冷した。得られた結晶をへキサン洗浄し、減圧乾燥して、 5—ァミノ一 4一（:3，ゾール

：

(3 H, s)、 3. 9 (3H， s) 、 4. 60 (2H, b r)、 6. 84— 6. 9 1 (3H, m)、 8. 1

— 6. (1 H， s) - . . . ... . ·

....参考製造例 2: 1

炭酸ジェチル 2 1 4 gを約 1 25°Cにして、.金属ナトリウ.ム 6. 3 gを徐々に加

5 " えた。混合物が均一となるまで攪拌し、ここに 3'， 4'· —ジメトキシァセトフエノン 50. 0 gと炭酸ジェチル 5.0 gとの混合物を徐々にカ卩え、 - 1 40°Cで攪拌し

- 1 。反応混合物を室温付近まで放冷してから水と酢酸の混合液（水酢酸 =4

1.) を加えて分液.し、水層をジェチルエーテルで 2回抽出した。有機層 ·を混合して

7kで 3回洗浄した。有機層を乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルクロマト

10 グラフィーに付し、 3— (3, 4—ジメトキシフエ二ル）一 3—ォキソープ口ピオ

― ン酸ェチル 5—5 gを得た。—. " - " '- " - "

：：

：:

15

-, 無水酢酸 6 7 gに 3— (3, 4—ジメトキシフエ二ル）一 3—ォキソ一プロピオ 20 ン酸ェチル 5 5 gとオルトギ酸ェチル 4 9 -gとを加え、 1-20°Cで 2時間、 .1 4 . . 0でで 5時間攪拌した。 _その後、 _減圧下濃縮して粗 2— (3, 4—ジメトキシベンゾィル）一 3—ェトキ、:/ァクリル酸ェチル 64 gを得た。

エトキシアクリル酸ェチル

-

一

25 参考製造例 2— 3 . — · .- エタノール 1 50m 1に上記の粗 2— （-3， 4——ジメトキシベンゾィル） 3 • -■" エトキジアクリル酸ェチルとメチルヒドラジンと.を約 0°Cで混合し、 1時間攪拌しノ. .た後、 40°Cで 1時間攪拌した。反応混合物を減圧下濃縮.:し、残渣をシリカゲルク: 口マトダラクイ一に.付し、下記の物性を示す生成物（以下、生成物 Π-— 3と記す） 30 1 1 gを得た。 - . . ：..

" 生成物 Π— 3

¹ H-NMR (CDC 1₃, TMS) δ (p pm) :— 1-'. 3 0 (3H， t , J = 7.-. - - 2 H z ) , 3. 9 2 (3H， s)、一 3. 94 (3H， s)、 3. 94 (3H, s)、 4. . 2 5 (2H, q, J = 7. ,2H z) 6. 9 :1 (1 H, d, J = 8. 4H z)、 7. 35 4 1 - 7. 43 (2H, m), 7 ,._: 94 (1 H, .s)

. . ： „.；参考製造例 2— 4 - . - . - - . ..' - - 生成物 Π— 3の 1 1 gと 2 0 %水酸化ナ hリゥム水溶液 1 1 gとをエタノール 3 0 m lに混合し、 7 0〜 8 0 °Cで 1時間攪拌した。室温付近まで放冷した反応混合物に 5%塩酸を加えて p H 2付近として、クロ口ホルムで 3回抽出した。有機層を乾燥じ、減圧下濃縮して下記の物性を示す生成物（以下、生成物 Π— 4と記す）

1 1 gを得た。. ― ' . 一. ：- ―.— ： . - - 生成物 Π— 4 - - . — . — - - i—H— NMR (CDC 13 , TMS) -δ. (H z ) : 3. : 9 2 (6 H, s)、 3. 9 6 (3 d， J = 8-. 8 H z 、 7. 4 0 - 7. 4 3 (2 H， m)、 "

参考製造例 2— 5 - ：- . - -. へキサン 6 Om 1に生成物 Π— 4の 5. - 8 gを混合し、塩化チォニル 3 m 1を力 g- え、還流下で 3時間攪拌した。室温付近まで放冷した反応混合物を減圧下濃縮し、粗生成物を得た。 ■ ' -：

テトラ tドロフラン 3 O m 1に上記の粗生成物を混合し、 0°じで2 8 %ァンモァ水溶液 3. 9 gを加え、室温で 3ϋき間攪拌た。-反応混合物を減圧下濃縮して、下記の物性を示す生成物（以下、生成物 Π— 5と記す 4. 8 g 得だ。 - - --

て、下記の物性を示す生成物（以下、生成物 II一 6aと記す） 3. l gを得た。. 生成物 Π-— 6 a - -- -. , ： .

- 水 16 m l とテトラヒドロフラン 10 m .1 との混合液に、生成物 Π—マの 4. 5. g-と水酸化リチウム 0. 40 gとを混合じて、'室温で 2時間攪拌しこ。その ·τΚ酸化力リウム水溶液（ 3モル/ 1 ) 10m lを加えて、還流下 2日 [f撩拌した。:'反応混合物に希塩酸を加えて酸性にして、酢酸ェチルで抽出した。有機層を乾燥し、減圧下濃縮した。得られた結晶をへキサンで洗浄て、下記の.物性を示す生成物（以下、 —生成物 Π— 8 aと記す。) 3.' 5 gを得た。 -: - - 生成物 II一 8a - -- -. :

¹ H-NMR ( C D C 1 a , TMS) δ (p p m) ： 1. 44 (9H, s)、 3. 85 (3H， s)、 3. 94 (3H， s)、 6 — 77 ( 1 H , d, J = 1— . 6 H z .), 6. 8 4 (1 H, d d， J = 1. 6 H z , 7. 9H z), 6 89 (1H, d, J = 7. 9 H z)、 -7. 95 (1H， s) -

CH3O-

CH3O '参考製造例 3— 1 - - · - ：、一- - - -

4—メチルフエニルダリォキシル酸ェチル 9. 3 g.と水酸化ナトリゥム水溶液 (重量％ ; 3 0%) 1 3 m 1 とをェタノール 3 0 m 1に混合し、還流下 2'時間攪拌:

= 8. 3 H z ) '-.

参考製造例 3— 2 - ； ― "

(3 4—ジメトキシフエニル）ァセ h二トリル 4 0. 0 g-とギ酸メチル& 8:g とをジメチルホルムァミド 4 0 O m 1.に混合し、こに 0 5 °Cで水素化ナドリ—ゥ.； -ム（重量。/。パ 6 0 %) 1 1 gを徐々に加え、室温で 3時間攪拌じた.。その後、約 0-°C. にした反応混合物に水を加え、 · t e r t —ブチルメチルエーテルで洗浄した。:ヮ ·層に Ρ_Η 2付近になるまで 5 %塩酸を加えて、酢酸ェチルで抽出しだ。有機層を乾燥 —ヒド^キシァダリロニトリノレニ

9 1 (6 H, m)、；二

0 0 g .と虚化チォ混合 I ^、 °Cで I 圧下濃縮、粗 4—

2 - (3； 4—ジメトキシフエニル）一 3—ヒドロキシアタリロトリル 2· . 5 5 gと .トリェチルァミン 2. 3 m Γと.をテトラヒド？フラン 3 Orii 1に混合 l^-ここに 0 5 °Cで上記の粗.4—メチルフエ二ル―グリォキシル酸塩化物 3 gを加え、.室温で 3時間拌した。その後、反応混合物に水を加え：減圧下濃縮して、クロロホノレムで 3回抽出した。有機層を乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をクロマトグラフィ一に付し下記の物性-を示す生成物-： : 1 8 g ( 下、生成物 ΠΙ— 3 aと記す)一と 1 . 0 2 g - (以下、生成物 1 3 bと記す。）とをそれぞれ得た。

生成物 ΙΠ— 3 a . — '· " '- ― 一 NMR - (CDC 1₃，- TMS) δ (p pm) ： 2. 43 (3H， s)、 3. .8.8 (3— Ή，一 s)、 3. 90 — (3-H， s)、 .3. 96 (3H,- s)、 6. 90 - 6.. 96 (3H， m)、 7. 29 ( 2 H， d, J =— 8. 4H z)、 7. 46 (1H， s) 8. 3 6 (2H， d，— J =8. 4H z)、 8. 96 (1H，. s) - " 生成 ΙΙΠ_ 3 b ― - ： . · ifi二 NMR (CDC 1₃, TMS) 8 ( p p m) ·： 2..4-6 (3H， s)、 3. 84

1 H-NMR (CDC 1₃, TMS) δ (p p m).： 2. 47 (1 H, . t., J = 2. 4Hz)、 2. 51 (1 H, t , J =2. 4Hz), .4.-18 (1 H, d-d, J = 2. , 4 H z , 16. 2Hz)、 4. 31 (1 H, -d d-， ] = 2.— 4Ή z，· 16·. :2Hz:) .

4. 67 ( 1 H， d d， J = 2. 4 H z , 15. 4:jH-z )、 4. 76 ( 1 H， d d一 , J = 2. 4H z , 15. 4-H z ) , 5 , 23 (l.H， 's)、 7. 33 - 7. 42 _(4 H， m) . ノ . . — · · '：二参考製造例 3-7 -. " - ,- 2— ( 2—プロピニルォキシ）一 2— ( 4—クロ口フエニル）酢酸メチルと: - 2 '-； (2 プロピニルォキシ） —2— (4—クロロフ-ヱニル）酢酸（2—プ pピニル). との混合物 64. 6 gをテトラヒドロフラン 800mlに溶解し、 0°Cで水酸化リテゥム水溶液（水酸化リチウム 6. 74 gと水 28 Om 1 との混合物）を滴下-し： 0—°C〜室温で 3時間攪拌した。その後、—反応混合物に希塩酸を加え；酢酸ェチルで抽出-した。有機層を乾燥し、減圧下濃縮して、得られた結晶をへキサンで洗挣じて、 - 2— （2—プロピニルォキシ） — 2— (4—クロ口フ王-ル）酢酸 4— 3. 4 gを得だ。 - ■

ニルォキシ）一 2— '（4 -—クロ口フエ二ル-) 酢酸 ' - ' , -

¹ H-NMR (CDC 13 , TMS) 8 (p p : 2. .5.1 (1 H, t , J 2' 4H z), 4. 1 5 (1 H," d d, J = 2.- 4 H z , 1 6. 0 H z ) 4.. 3 2 (1 H, d d， J = 2. 4 H z , 1 6. OH-z), 5. 20 Cl H, s ), 7, 3 3 - 7.· -, — 4 4 ( 4 H， m)、 8. 70— 9. 50 ( 1 H' b r ) · -

10 参考製造例 3— 8 .

2 - (3， 4—ジメトキシフエ二ル-) 一..3―ヒド P.キシァ—クリロ二トリル 6... '5 gをエタノールに溶解し、 .t e r t—ブチルヒドラジン塩酸塩 5. 9 gと炭酸水素 'ナトリウム 3 gとを加え、 1時間還流下攪拌じた。反応混合物を室温付近まで放冷 '― し、濾過して、濾液を減圧下濃縮した。残渣'をシリカゲルクロマトグラフィー（展 15 開溶媒；ヘキサン Z酢酸ェチル = 1/1)に付し、下記の物性を示す生成物（以下、 . .

. .

- · 7 5 - 6. 9' 20 -

-.

2 - (3, 4—ジメトキシフエエル）一 3—ヒドロキシァクリロ二トリノ P5. 0 gとメチルヒドラジン 1. 35 gとをエタノール 5 0 m 1に混合し、 7 5〜 80-°C 25- で 3時間攪拌した。その後、反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣にへギサンを加え、濾過.して得れた結晶をへキサン洗浄して生成物（生成物 ΠΙ— .9と記す。） " - . "5. 1 7 gを得た。 -. ·' - 生成物 ΠΙ— 9 "

¹ H— NMR (CDC 1₃， TMS) δ (p p m) ： 1 / 8 2 (2 H, b r： s )、 - OCH₃ - - . 一；

CH₃ ― 3. 73 (1: 8H， s)、 3. .74 (1. 2 H, s)、 -3. 89〜； 3 ; 90 (6 m)、 6. 8"8〜6. 98 (3H， m)、——7. 22 (0. 4H, s)、 7. 4" 1 (0.

6 M, .s) '一 - 参考製造例 3— 10 — 参考製造例 3— 4〜 3— 7と同様の方法で、 4—クロ-口フエニルダリォキシル酸メチルの代わりに 4一ブロモフエニルグリオキシノレ酸メチルを用いて、 2— (2— （4一ブロモフエニル Γ酢酸を得た。 -. " シ） —2 (4—ブロモフエニル）酢酸

TMS) δ (ρ ρ m) ： -2. 51 (1 H, t , J = 2

d d， Γ = 2..4 Η ζ 16. OH z)、 4. 3—2— (1 Μ, d d, J =2. 4 Hz, 16-. 0H z)、 5. 一 9 — (1H， ' s)：、 7. 52 2.

H, d， J = 8. 3 Hz)―、 7. 3 - (2H， d， - J =8: -3Hz)、- 9. 32. (: H, b r )

ノマス、シヮム 0. 86 gに、 2—プロ ΐナフタレンのテトラヒドロフラン溶液（2 ーブロモナ-フタレン 7. 0 gとテトラヒド.口フラン 22m 1 との混合溶液）を室温で滴下し、 30分間撹拌し—た。該混合液を一 0 °Cに冷却し、シュゥ酸ジェチル 9 gおよびテ—トラヒドロフランの混合物を徐 .に滴下した。該混合液-を 2時間かけ -て室温まで昇温し、.飽和塩化アンモニゥム水を加えて、酢酸ェチルで抽出した。得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリゥム水および飽和食塩水で洗浄し、無 ·7_Κ硫酸マ. グネシゥムで乾燥した後、.減圧 Τで濃縮した得られた残渣をシリ.力ゲルカク ,口トグラフィーに付し、（ナフタレン一 2—ィル)' ダリオキシル酸ェチル 9. 3 • gを得た。— . " -

(ナフタレン一 2 ^ル）、ク、、リオキ、ル酸ェチル - ； -

^XH-NMR (CDC 1 a , TMS) —δ ( ρ ίη) -: 8 56 (1 Η, s ).、 8-. —05 (1 Η, d d， J = 1. 7 Η ζ , 8. 5Η ζ-)、 .7-:. :9.8 (1 Η，· d, J = 8. 2 Η ζ ) : 7. 93 ( 1 Η， d， J = 8： 7-Η·ζ)·、- 7..85 (1 Η, d， J = 8. 2 Η ζ 7. 56 - 7. 60 (1:Η， m)、 Τ .. 03-7. 07 (1 Η, m)、 4. 5 1 (2Η， q, ] = ?. 2Η ζ)、 1. 47:.(3Η， t J =7. 2H z) 参考製造例 3— 12 - -

- 参考例 3 -.4〜 3— 7と同様の方法で、 4ーク口口.フ工:

メチルの代わりに（ナフタレン一 2ニイル）グリオキシル酸ェチルを用いて、下記の化合物をそれぞれ得た。 - . - . "

2 - (ナフタレン一 2—ィル） 2—七ドロ _キシ酢酸ェチル .-'. ·

- · ' , . - ；;

'H-NMR (； CDC 1 a, TMS) δ (ρ p.m) ： 7. 91 (1 Η, s)、 . 82 一 7. 86.(3 H, m)\ 7. 47 - 7%' 53：\(3 H, m―)、 5. 32 ( 1 H， d,

J =5. 6H z), 4. 13-4. 3 - 2 ( 2 H, m)、■ 3. 56 ( 1 H, d， J = 5.

6 Hz), 1. 22 (3H, t, J^:=7. 6 Hz) -

2 - (ナフタレン— 2—ィノレ）- 2.—メタン'スルホ二ルォキジ酢酸ェチル '：.

： . . ノ

- - . - ノ - - ： -'

NMR (CDC 1₃, TMS) ;δ (p p m) ： 7. 96 (1 H, s 7. 84" 一 7 90 (3H， m)、 7. .51— 7.' 56 (3 H， m)、 6. 09 (1H， s)、 4. L 9-4. 32 (2H， m):、 -3-. 10 (3.H, s)、 -l. 24 (3H,\ tT"j

= 7 1 H z) -- . ' ：," · ' - ' ..：ヽ : - ； ·, ' -：

2 - (ナフタレン— 2—ィル） _ 2——· 2'—プロピニルォキシ)、酢酸^チルエステルと 2— (ナフタレン _2—ィル）一2— ·· (2—:ズロビニルォキシ)'酢酸-: ('2 プ- ロピニル）エステルとの混合物 -- . -- - -: _ - - . -.- - ：

— NMR - (CDC 1₃， TMS) δ .(p p-m一)」:— 7 95, ( 1 H, s :)、：7. -83: 一 7. 87 (3 H, m)、 7. 49— 7. .5-8 (3H， m)、 5.. 43. ( 0. :5 H， s )、 5. 39 (0. 5H, s)、 -4: 79' (0. 5 H， d d， J = 2. 4Hz， 1 5Hz)、 4. 66 (0. 5 H, d d J—=2. 4 H z， 15 H z )、一 4: l 2 4^:: 38 (3H, m)、 2. 49-2. 52- (l.H, m)、' 2. 43 (0、 5 , t， J- -2. 4Hz)、 1. 22 (1. 5H, t， J =7. -1 Hz) - -. - . - 2— '(ナフタレン一 2 fル）一2-— (2—プロピニルォキシ）酢酸 - —.. : 一 ·

¹ H-NMR ズ CDC 1₃ TMS) δ ( p p m) 8— 10 ( H, b r) - 7. 9 3 1 H, s )\ 7. 83— 7. 88 (3H m)、： 7. 49— 7 53 (3H, m) -

5. 4.0 (1 H, s ), 4. 37 (1H d d J = 2: 4Ήζ 16H z) - 4, 1 5 (1H, d d, J =2 4 H z 1"6 H z ) 2. 53 ( 1 H, t , ] =2 :

. H z ) .

参考製造例 3 13 ― - - , ― .

参考製造例 3— 4 3— 7と同様の方法で、 4—ク口口フエ-ルダリ-ォキシノレ酸メチルの代わりにフエニルダリオキシノレ酸ェチノレ ¾用いて、下記の化合物をそれぞれ得た。 ·- - - , ：？

-2—ヒド.口-キシ一 2—フエ二ノレ酢酸ェチノレ - —..· -. - 一 - - '·■"·.：" -, —

¹ H-NMR ( C D C 13 , TMS) δ ( p p m) 7. 29— 7.+ 4-5— ( 5 H m) 5. 15 (1 Η, s 4. 1 1— 4· 30- (2Η, m 3.·· 50. (1 H, b r ) 1. 22 (3H, t , J = 7. OH z)

2 _メタンスルホニルォキシフエ二ノレ酢酸ェチノレ -

¹ H-NMR (CDC 1₃, TMS) δ (p pm) ： 7. 28-7； 46 (5Η, m)、 5. 92 (1 H, s)、 -4. 16-4. "3 1 ( 2 H, m)、 3： 08.(3H, s )；; 1. 24 ( 3H, t , J = 7. 1 H z ) '

,2― ( 2—プロピニルォキシ） — 2—フェニル酢酸ェチルと 2 (2—プロピニノレォキシ） —2—フエ-二ル酢酸（2—プロビュル）との混合物' -

LH-NMR .(CDC 1₃,- TMS) δ— (p p.m) -: -7 44- 7. 48 (2H,— m 7. 36— 7. 39 (3H, m 5. 29 (0. 5H, s 5. 1 9 (0. 5H, s 4. 78 (0. 5H d d, J = 2. 4Hz 15H z 4. 66 (0. 5 H, d d， J = 2. 4H z , 15H z), 4. 09— 4. 34 (3H, m)、 2..4 7— 2. 50 (1 H，- m)、— 2. 45 (0. 5H, t., J = 2. 4Hz)、 t.' 2,2 (1, 5H, t， J = 7· 1H z ： ' ―

2— （2—プロピニル-ォキシ） —2—フエ、ニル酢酸

^H-NMR. (CDC 1₃, TMS.) δ (p pm) : 8— 10 (1H、 b. r.)、 7. 3 .6— 7. 47 (5 H, m)、 5. 23 (lH.， —s,)、 4. 33 (1H， d d, ] =-2. 4-H z, 16H z)、 4· 13 (1H， d d，:- J二 2 · 4Ή z， . 16—H ').、 _ 2. 5, 1 (1H, t , J =2. 4H z) . -. -- -

10

— - 次に製剤例を示す。なお、部は重量部を表—す。- ：ノ— . 製剤例 1 ―: . - . .

- - - 生成物 1一 1、 2 - 1、 2-2,: 2 3-； 2 - 4、 2— 5、 2— 6、 2— 7、 2" 一 8、. 3— 1、 3— 2、 3— 3、 3—4 , ^一 5、 3— 6、 3— 7 a、. 3 _ 7 b、- 15 3— 8 a、 3— 8 b、 3— 9 a、 3_9 b、 3— _ 10 a、 3— 10. b、 3— l l a、 ― 3——l l b、 3— 12 a、 .3— 12 b、 3— 3 a、 3— 13 b、 -3— 1.4 a、 3 ノ一 14 b、 3— 15 a、 3— :15 b.、 3.— 16. a、 3— 16 b、 3— 17 a及び 3 一 1 J bの 50部、リグ二ンスルホン酸カルシゥム 3部、ラウリル硫酸マグネシゥ - . ム 2部及び合成含水酸化珪素 45.部をよぐ粉砕混合することにより、水和剤を得る。 20 製剤例 2 - - - -； ·'-·- " ' - .'· -. .

生成物 1一 1、 2— 1、 2— 2、 2.— 3、 2— 4、 2— 5、 2— 6、 2-7, 2 - 一 8、 3— 1、 3— 2、 3 - 37- 3 -4, 3——5、 3— .6、 3— 7 a、 .3— 7 b、 - 3— 8 a―、 3— 8 b、 3— & a、 3— 9 b、.3— 10 a、 3.— l Q b、 3- 1 1 a;. - .. 3.一 l l b、 3— 12 a、 .3 12 b、— 3一 13 a、 3— - 13 b、一 3— 14 a、 3 -25：一 14 b、 - 3— 15 a-, 3- 15 、 3—— 16 a、 3— 16 b、 3— 1.7 a及び 3 - , ~ 1 7 bの 20部とソルビタントリオ-レエ一ト 1. 5部とを、 .ポリビニノ kアル—コーノレ 2部を含む水溶液 28. 5部と混合し、湿式粉砕法で微粉碎した後、、この中に、キサンタンガム 0. 05部及びアル:'ミ二ゥムマグネシクムシリケー ' Ό . 1_部を含 -: む水溶液 40部を加え、さらにロピレング'リコール 10部を力 D-えて攪拌混合. L 30 フロアブル製剤を得る。 "

. ：製剤例 3 - . - ' ： —. ノ . - . . - : . 生成物 1— 1、 2— 1、 2— 2_、 2— 3、 2— 4、' 2— 5、 2-6., 2— 7、 2 一 - 一 8、 3一 1、 3一 2、 3— 3、.： 3一 4.、 3— 5、 3—— &、 3:.ー7 _a、： 3一 7- b、 - -.. 3 - 8 -a 3— 8 b 3— 9 a 3 9. b . 3— 10. a- 3— 10 、 3— 1 1 a ；一 3— 1 1 b 3— 12 a 3 12 b , - 3— 13 a, 3 - 1.3 b 3— 14 a ,3 一 14 b 3— 1 5 a -3— 15 b 3- 16 a, 3— 16 b 3— 17 a及び 3 -ー 17 bの 2部/カオリンクレー 88部及びタルク 10部をよく粉砕混合すること - 5 -により、粉剤を得る。 - . - .

- 製剤例 4 - - .. -

-— 生成物 1— 1 2— 1 2— 2 2— 3 2— 4 2— 5 2— 6 2— 7 2. 一 8 . 3— 1 3— 2 3— 3 - 3— 4 3— 5 3— 6 3— 7 a 3 - 7 b 3 - 8 a , 3— 8 b 3 -9 a, 3— 9 b 3— 1ひ a 3— 10 b 3 - 1 1 a, 10 3— 1— 1 b 3- 12. a\ 3— 12 b -3— 13 a 3— 13 b 3 - 1 a-,； 3..

14 b 3 - 15 a ; 3— 15 b 3 _ 1 6 a 3— 1—6 b 3— 1 7- a,及び.3:. - 17 bの 5部、.ポリオキシエチレンスチ:リルフエニル^—テル 14部、 ·ドデシル- ベンゼンスルホン酸カルシウム 6部及びキ、レン 75部をよく混合することによ • り-、乳剤を得る。. ： - ― -.

15 製剤例 5 ' ' - . -

" 生成物 1— 1 2—1 2— 2 - 2— 3 ： 2— 4 2— 5 2-6, 2- 7 —-8 3— 1 3— 2 3— 3 —3— -4 3— 5 3— 6 3— 7 a - 3— 715 3— 8 a 3— 8 b 3— 9 a 3-9 b 3— 10—a 3一- 10 b 3- 1 1 a - 3 - 1 1 b. 3— 1—2 a 3— 12 b 3- 13 a , 3— 13 b,；3 - 14 a 3 20 — 14 b 3— 15 a 3—— 15 b 3— 16 a；— 3— 1 6 b' 3— 1 7 a及び: 3 - _— 1マ- bの 2部、合成含水酸化珪素 1部、リダニンスルホン酸カルシゥム 2部、,ベ - -ントナイト 30部及びカオリンクレー- 63部.をよく粉砕混合した後、水を加えてよ.. く練り合せ、造粒乾燥することにより、粒剤を得る。 . . ·

- 製剤例 6 - ― -- — - . , -. -

25 生成物 1— 1 2 _ ί、 2— 2、 2— 3 2， 4 2— 5 2— -6 2— 7、 .2- ー 8 3 - 1、 3— 2 3— 3—、 3— 4 -3— 5 . 3— 6 3了.7 a 3 - 7 b .. 3— 8 a、· 3— 8 、 3— 9 a、 3— ' 9 b .3— 10- a、 —3— 10— b 3一 1.1 a -. . 3— l l b 3_ 12 a 3— 1 2 b、 3— 1 3-a 3 _ 13 b、 .3— 14 a .— 3 ,— 14 b 3— 15 a 3— 15 b; 3— 16 a 3.—— 16 b, 3- 1 7 a及び 30 - 17 bの 1 Ό部；ポリオキシエチレンアノキルエーテルサルフェートアンモニゥ. ム塩 50部を含むホワイトカーボン 35部 '；及び水 55部を混合し湿式粉砕法で ' 微粉砕することにより、'フロアブノレ製剤得る。：：.. .:. . ■ — —- - : 次に、本発明化合物が植物病害の防除に有用である.ことを試験例で示す。 —- . 35 なお防除効果は、調査時の供試植物上の病斑の面積を目視観察'し、、無処理区の病一 ·斑の面積と本発明化合物処理区-の病斑の面積を比較することにより評価した。 - 試験例 1 - . . -- 一 .. . - . . .

. プラスチックポットに砂壌土を詰め、トマト - (品種: -ポ.ンテローザ）を播種し、 - 温室内で 20日間生育させた。生成物' 2— 1、.2— 2、 2.^-3、 2— 4、 2— 7、

2— 8、 3— 3、 3— 4、 3— 5、 3— 7 a、 3._ 7 b、- 3— 8 a、 3— 8 b、 3- 了 9 a、 3— 9 b、- 3— 10 a、 3— 1 1 a、 3— l l b、 3— 1 2 a、 3- 12 b、 3- 13 a、 3 - 1 3 b -、 3— 1- 4 a、 3 _ 15 a、 3— 1 5 b、 3— 16 a -、 . 3— 16 b、. 3— 17 a及び 3— 1 7 bの各々を製剤例 6. 準じ-てフ口ァブル製.剤とした後、水で本発明化合物の濃度が 50.0 p p mとなるよう—な希釈液を調製した; . 該希釈液を上記のトマ苗の葉面に充_分付着するように茎葉散布した。散布後植物を風乾し、トマト疫病の遊走子嚢の氷懸濁液（約 10000個 Zm l を噴霧（植物 1個体あたり約 2 m- 1の割合）した。 .そ (p後、 ·このトマ卜苗を 23.T：、相対湿度 90 %以上の条件下で一日栽培し、さらに昼間 2.4 °G、夜間 20°Cの温室に移して 4日間栽培した。植物上の病斑面積^調 _査した。上記生成物 2— 1、 2— 2 2 _

3、 2 - 4、 2— 7、 -2— 8、 - 3 - 3、 3 - 4 3— 5、 3— 7 a、 3 - 7 b、 3 _8 a―、 3_8 b、 3— 9 a、 — 3 9 b、 3— 10 a .ゝ 3— l l a、 3— l l b、

- .3— 12 a、 3_ 12 b、 3_ 13 a、 3— 13 b、 3 - 14 a , 3 - 15 a、 3 - 15 b, 3— 16 a、 3— 16 b、 -3— 1.7 a及び 3— 17 bの希釈液を散布-した植物上の病斑面積は、無処理区の病斑面積の 10%以下であった。

試験例 2 · . · .. . — - - - .

_プラスチックポットに砂壌土を詰め、ブドウ（品種：ベリ一 Λ) -を播種し、温室内で 40日間生育させた。生成物 1— 1、 2— 3、 2-4, 2-7, 2— 8、 3 - . 3、 3— 4、 3 _ 5、 3 _ -6、 .3 _ 7 a、 3.— 7 b -.、 3— 8 a、 3— 9 a：、 3,- 9 .· b、 3— 12 a、 3— 15 a及び 3— 15. bを製.剤例 6に準じてフ口ァブル製剤とレた後 ·、水で本発明化合物の濃度が 200 p pmとなるような希釈液を製した -。該希釈液.を前記のブドウ葉面に充分付着するよう'に茎葉散布した。次いで葉面上の散布液を風乾させた後、ブドウべ-と病の遊走子嚢懸濁液を噴霧接瑋した。接種後 2: . 3 °C、相対湿度 90%以上の条件下で "^日栽培し、その後昼間 24 °C、夜間 2. Q°C の温室に移して 6日間栽培した。 · - -. , -

, 植物上の病斑面積を目視観察した。植物上の病斑面積を調査した。生成物 1了. :！、 2— 3、 2— 4、 2— 7、 2— 8、ー3— 3、 3— 4、 3— 5、 3— 6、 3— 7 a、- 3— 7 b、 3— 8 a、 3— 9 a、 3 _ 9— b、 - 3—— 12 a、 3—15 a及び.3— 15. . bの希釈液を散布した植物上の病斑面積は、.無処理の病斑面積の 10%以下:であつた。 - 一- 産業上の利用可能性 - - - . . . · ·— 本発明化合物は優れた植物病害防除効力を有し、本発明化合物の有効量を植物または土壌に処理することにより植物病を防除することができる。 ' - --

Claims

請求 . の. 範. 囲

1. 式 (1)

または（E)

で示される基を表し； X¹ は OR⁴基を表し、 Y¹ は水素原子を表すか、あるいは X 1 iY¹ とが緒になって、 =0基または = NOR⁵基を表し； R¹ は水素原子、：ハロゲン原子、 C 1一^: 3アルキル基、 C 1 C 3ハロアルキル基または C 1一 C 3 アル ήキシ基を表し；は水素原子、ハロゲン原子または C 1 -C 3アルキル基を表すか、あるいは R¹ と R² とが緒になって、トリメチレン基、テトラメチレン基または CH=CH— CH CH基を表し； R³ は C 1—C 3アルキル基または C 3 -C 4アルキニル基を表し、 R-⁴ は水素原子、 C 1一 C 3ァノレ-キル基または C' 3 -C 4アルキニル基を表し、 R⁵ は C 1一- C 3アルキル基 .たは C 3 -C 4アルキニル基を表す。〕 . - - . で示されるアミド化合物。. -

2. " 式（1) において、が水素原子、ハロゲン原子または C I _C 3アルキノレ基である請求項 1に記載のアミド化合物。 - -

3. 式（1)'において、 —-

である請求項 2に記載のアミド化合物。

4. 式（1) において、：

である請求項 2に記載のアミド化合物。

5. 式（1) において、 - ：'

である請求項 2に記載のアミド化合物。

6：式（1) において、— X¹ が OR'¹-基であり、 Y¹ が水素原子であるか、あるいは X¹ と Y¹ とが一緒になって = NOR⁵基である請求項 3、.4、または 5に記載のアミド化合物。 -

7. 式（1)において、 X¹.が OR⁴基であり、 Y¹ が水素原子であ.る請求項 3、— 4、または 5に記載のアミド化合物。 … ' · - .

8. 式（1) において、 X¹ が OR⁴ 基であり、 Y¹ が水素原子であり、 R が水素原子である請求項 3、 4、または 5に記載の .ミド化合物。 . _. ,-. -

9. 式（1) において、 X¹ が OR⁴ 基であり Y¹ 力 S水素原子—：^ り、:' R⁴ が: C 1 -C 3アルキル基である請求項 ·3、 4、または 5に記載のァミ化合物。- 1 0·' 式（1) において、 X—¹ が OR⁴ 基であり、 Y¹ 力 ¾Κ素原子であり、 R⁴ が C 3— C 4アルキニル基である請求項項 3、 4、または 5に記載のアミ -ド化合物。. 1 1. 式（1) において、 X¹.と Y¹.がー緒にな-つて = NOR⁵-基である.請求項項 ■ 3、 4、または 5に記載のアミド化合物。

1 2. 式（1) において、 X¹ と Y¹ が一緒になつて = N.OR⁵ 基であり、二が C 1 - C 3アルキル基である請求項項 3、 _4、または 5に—記載のァミド化合物。

1 3. 式（1) において、 R³が C 1—C 3アルキル基である請求項 1または 2に記載のアミド化合物。 . ： - --

1 4. 式（1) において、 R³が C 3— C 4アルキル基である請求項 1または 2 に記載のアミド化合物。 -.

1 5. 請求項 1〜14のいずれかに-記載のアミド化合物と担体（carrier) とを含有する殺菌剤組成物。 - -;. . . . .

1 6. .請求項 1〜 14のいずれかに記載のァミド化合物を植物または'土壌に処理 · することを特徴とする植物病害防除方法。^ - '