TWI774909B - 感光性樹脂積層體及其製造方法 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種積層體,其於基礎膜上具備可兼具對顯影液之溶解性即顯影性、及對基板尤其銅基板之密接性之感光性樹脂組合物。本發明係一種感光性樹脂積層體,其特徵在於:其係具備支持膜、及於支持膜上形成之含有感光性樹脂組合物之感光性樹脂組合物層者,且感光性樹脂組合物含有(A)鹼可溶性高分子;(B)具有乙烯性不飽和雙鍵之化合物;(C)光聚合起始劑;及(D)鐵原子,並且感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以感光性樹脂組合物層為基準計為0.01 ppm以上且10 ppm以下。
Description
本發明係關於一種感光性樹脂積層體及其製造方法。
印刷配線板通常係藉由光微影法而製造。所謂光微影法係指藉由以下步驟而於基板上形成所期望之配線圖案之方法。即,首先,於基板上形成包含感光性樹脂組合物之層,對該塗膜進行圖案曝光及顯影而形成光阻圖案。繼而,藉由蝕刻或鍍覆處理而形成導體圖案。其後,去除基板上之光阻圖案,藉此於基板上形成所期望之配線圖案。
於印刷配線板之製造中,多使用感光性元件(感光性樹脂積層體)。作為使用該感光性元件之配線圖案之形成方法、及適合其之感光性樹脂組合物,存在較多之公知例(專利文獻1~3)。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]國際公開第2012/101908號
[專利文獻2]國際公開第2015/174467號
[專利文獻3]國際公開第2015/174468號
[發明所欲解決之問題]
然而,上述專利文獻1~3中揭示之感光性樹脂組合物並非同時滿足顯影性、密接性等者,尚存在改良之餘地。
因此,本發明之目的在於提供一種感光性樹脂積層體及其製造方法,上述感光性樹脂積層體係於基礎膜上具備可兼具對顯影液之溶解性即顯影性、及對基板尤其銅基板之密接性之感光性樹脂組合物者。
[解決問題之技術手段]
本發明者發現藉由以下技術手段可解決上述問題。
[1]
一種感光性樹脂積層體,其特徵在於:其係具備支持膜、及於上述支持膜上形成之含有感光性樹脂組合物之感光性樹脂組合物層者,且
上述感光性樹脂組合物含有:
(A)鹼可溶性高分子;
(B)具有乙烯性不飽和雙鍵之化合物;
(C)光聚合起始劑;及
(D)鐵原子;且
上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.01 ppm以上且10 ppm以下。
[2]
如[1]記載之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.1 ppm以上。
[3]
如[1]記載之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.2 ppm以上。
[4]
如[1]記載之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.3 ppm以上。
[5]
如[1]記載之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.4 ppm以上。
[6]
如[1]記載之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.5 ppm以上。
[7]
如[1]記載之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.6 ppm以上。
[8]
如[1]記載之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.7 ppm以上。
[9]
如[1]記載之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.8 ppm以上。
[10]
如[1]記載之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.9 ppm以上。
[11]
如[1]記載之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為1.0 ppm以上。
[12]
如[1]記載之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為2.0 ppm以上。
[13]
如[1]記載之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為3.0 ppm以上。
[14]
如[1]至[13]中任一項記載之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為5.0 ppm以下。
[15]
如[1]至[11]中任一項記載之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為2.0 ppm以下。
[16]
如[1]至[11]中任一項記載之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為1.5 ppm以下。
[17]
如[1]至[10]中任一項記載之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為1.0 ppm以下。
[18]
如[1]至[9]中任一項記載之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.9 ppm以下。
[19]
如[1]至[8]中任一項記載之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.8 ppm以下。
[20]
如[1]至[7]中任一項記載之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.7 ppm以下。
[21]
如[1]至[6]中任一項記載之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.6 ppm以下。
[22]
如[1]至[5]中任一項記載之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.5 ppm以下。
[23]
如[1]至[4]中任一項記載之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.4 ppm以下。
[24]
如[1]至[3]中任一項記載之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.3 ppm以下。
[25]
如[1]或[2]記載之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.2 ppm以下。
[26]
如[1]記載之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.1 ppm以下。
[27]
一種感光性樹脂積層體,其特徵在於:其係具備支持膜、及於上述支持膜上形成之含有感光性樹脂組合物之感光性樹脂組合物層者,且
上述感光性樹脂組合物含有:
(A)鹼可溶性高分子;
(B)具有乙烯性不飽和雙鍵之化合物;
(C)光聚合起始劑;及
(E)鈣原子;且
上述感光性樹脂組合物層中之鈣原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.005 ppm以上且5 ppm以下。
[28]
如[27]記載之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鈣原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.02 ppm以上且2.5 ppm以下。
[29]
如[27]記載之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鈣原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.03 ppm以上且1 ppm以下。
[30]
一種感光性樹脂積層體,其係具備支持膜、及於上述支持膜上形成之含有感光性樹脂組合物之感光性樹脂組合物層者,且
上述感光性樹脂組合物含有:
(A)鹼可溶性高分子;
(B)具有乙烯性不飽和雙鍵之化合物;
(C)光聚合起始劑;及
(F)鋁原子;且
上述感光性樹脂組合物層中之鋁原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.005 ppm以上且5 ppm以下。
[31]
如[30]記載之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鋁原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.02 ppm以上且2.5 ppm以下。
[32]
如[30]記載之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鋁原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.03 ppm以上且1 ppm以下。
[33]
一種感光性樹脂積層體,其係具備支持膜、及於上述支持膜上形成之含有感光性樹脂組合物之感光性樹脂組合物層者,且
上述感光性樹脂組合物含有:
(A)鹼可溶性高分子;
(B)具有乙烯性不飽和雙鍵之化合物;
(C)光聚合起始劑;
(D)鐵原子、鈣原子及鋁原子中之至少一種;且
上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子、鈣原子及鋁原子之含量之合計以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.02 ppm以上且20 ppm以下。
[34]
如[33]記載之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子、鈣原子及鋁原子之含量之合計以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.07 ppm以上且10 ppm以下。
[35]
如[33]記載之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子、鈣原子及鋁原子之含量之合計以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.11 ppm以上且5 ppm以下。
[36]
一種感光性樹脂積層體,其係具備支持膜、及於上述支持膜上形成之含有感光性樹脂組合物之感光性樹脂組合物層者,並且
上述感光性樹脂組合物含有:
(A)鹼可溶性高分子;
(B)具有乙烯性不飽和雙鍵之化合物;
(C)光聚合起始劑;及
(I)鈉原子;且
上述感光性樹脂組合物層中之鈉原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為1 ppm以上且50 ppm以下。
[37]
如[36]記載之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鈉原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為1.5 ppm以上且25 ppm以下。
[38]
如[36]記載之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鈉原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為2 ppm以上且10 ppm以下。
[39]
一種感光性樹脂積層體,其係具備支持膜、及於上述支持膜上形成之含有感光性樹脂組合物之感光性樹脂組合物層者,且
上述感光性樹脂組合物含有:
(A)鹼可溶性高分子;
(B)具有乙烯性不飽和雙鍵之化合物;
(C)光聚合起始劑;及
(J)金屬原子;且
上述感光性樹脂組合物層中之金屬原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.005 ppm以上且70 ppm以下。
[40]
如[39]記載之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之金屬原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.01 ppm以上且5 ppm以下。
[41]
如[39]或[40]記載之感光性樹脂積層體,其含有鋁、鈣、鐵、鉀、鎂及鋅之至少一種作為上述金屬原子。
[發明之效果]
根據本發明,提供一種於基礎膜上具備可兼具對顯影液之溶解性即顯影性、及對基板尤其銅基板之密接性之感光性樹脂組合物之積層體,藉此,可提高使用乾膜光阻而形成之印刷配線板之解像性。
以下,具體地說明用以實施本發明之形態(以下簡稱為「本實施形態」)。
再者,本說明書中用語「(甲基)丙烯酸」係指丙烯酸或甲基丙烯酸。用語「(甲基)丙烯醯基」係指丙烯醯基或甲基丙烯醯基。用語「(甲基)丙烯酸酯」係指「丙烯酸酯」或「甲基丙烯酸酯」。
<感光性樹脂組合物>
本實施形態係一種感光性樹脂積層體,其係具備支持膜、及於上述支持膜上形成之含有感光性樹脂組合物之感光性樹脂組合物層者,且
感光性樹脂組合物含有(A)鹼可溶性高分子、(B)含乙烯性不飽和鍵之化合物、(C)光聚合起始劑及(J)金屬原子。(J)金屬原子含有(D)鐵原子、(E)鈣原子及(F)鋁原子及鋅中之至少一種。作為(J)金屬原子,亦可含有(I)鈉原子。視需要,感光性樹脂組合物可進而含有(G)光敏劑、(H)添加劑等其他成分。
尤其於本實施形態中,感光性樹脂組合物層較佳為(J)金屬原子之含量以該感光性樹脂組合物層為基準計為0.005 ppm以上且70 ppm以下,較佳為0.01 ppm以上且5 ppm以下。具體而言,(D)鐵原子之含量以該感光性樹脂組合物層為基準計為0.01 ppm以上且10 ppm以下。或者,(E)鈣原子、(F)鋁原子之任一者之含量以該感光性樹脂組合物層為基準計為0.005 ppm以上且5 ppm以下。或者,(I)鈉原子之含量以該感光性樹脂組合物層為基準計為1 ppm以上且50 ppm以下。
藉由使金屬原子,例如鐵原子、鈣原子、鋁原子、鈉原子之含量為上述範圍,可兼具對顯影液之溶解性即顯影性、及對基板尤其銅基板之密接性。藉由使顯影性較佳,可使光阻圖案中不易殘留殘渣,藉由使對基板之密接性較佳,可形成更細之光阻圖案。
以下,依序說明各成分。
(A)鹼可溶性高分子
(A)鹼可溶性高分子係可溶於鹼性物質之高分子。(A)鹼可溶性高分子可為單一種類之共聚物、複數種共聚物之混合物及/或複數種均聚物之混合物。
關於鹼可溶性,(A)鹼可溶性高分子之酸當量(於(A)成分含有複數種共聚物之情形時,該混合物整體之酸當量)就感光性樹脂組合物層之耐顯影性、以及光阻圖案之耐顯影性、解像性及密接性之觀點而言,較佳為100以上。就感光性樹脂組合物層之顯影性及剝離性之觀點而言,較佳為900以下。(A)鹼可溶性高分子之酸當量更佳為200~600,進而較佳為250~500。酸當量係指其中具有1當量之羧基之線狀聚合物之質量。
(A)鹼可溶性高分子
(A)鹼可溶性高分子係易溶於鹼性物質之高分子。具體而言,係以用以溶解於所期望之鹼性物質之充分量具有有助於鹼可溶性之官能基(例如羧基)之高分子。又,典型而言,(A)鹼可溶性高分子中所含之羧基之量以酸當量計為100~600,較佳為250~450。酸當量係指於該分子中具有1當量之羧基之線狀聚合物之質量(單位:克)。為對感光性樹脂組合物層賦予對於鹼性水溶液之顯影性及剝離性,(A)鹼可溶性高分子中之羧基必需。使酸當量為100以上就提高耐顯影性、解像性及密接性之觀點而言較佳,並且較佳為使酸當量為250以上。另一方面,使酸當量為600以下就提高顯影性及剝離性之觀點而言較佳,並且較佳為使酸當量為450以下。
(A)鹼可溶性高分子之重量平均分子量較佳為5,000~500,000。使重量平均分子量為500,000以下就提高解像性及顯影性之觀點而言較佳。更佳為使重量平均分子量為300,000以下,進而較佳設為200,000以下。另一方面,使重量平均分子量為5,000以上就控制顯影凝集物之性狀、以及感光性樹脂積層體之邊緣熔融性及切屑(cut chip)性等未曝光膜之性狀之觀點而言較佳。更佳為使重量平均分子量為10,000以上,進而較佳為設為20,000以上。邊緣熔融性係指於作為感光性樹脂積層體卷取成輥狀之情形時感光性樹脂組合物層自輥之端面溢出之現象。切屑性係指利用切割機將未曝光膜切割之情形時碎片飛散之現象。若該碎片附著於感光性樹脂積層體之上表面等,則於後續之曝光步驟等中碎片轉印至遮罩而成為不良品之原因。
(A)鹼可溶性高分子之分散度(有時亦稱為分子量分佈)可為1~6左右,較佳為1~4。分散度係以重量平均分子量與數量平均分子量之比表示,(分散度)=(重量平均分子量)/(數量平均分子量)。重量平均分子量及數量平均分子量係使用凝膠滲透層析法並藉由聚苯乙烯換算而測定之值。
(A)鹼可溶性高分子較佳為自下述第一單體之至少一種及下述第二單體之至少一種獲得之共聚物。
第一單體係於分子中具有1個聚合性不飽和基之羧酸或酸酐。作為第一單體,例如可列舉:(甲基)丙烯酸、反丁烯二酸、肉桂酸、丁烯酸、伊康酸、順丁烯二酸酐、順丁烯二酸半酯等。尤佳為(甲基)丙烯酸。於本說明書中,所謂(甲基)丙烯酸係表示丙烯酸及/或甲基丙烯酸。以下相同。
第二單體係非酸性且於分子中具有至少1個聚合性不飽和基之單體。作為第二單體,例如可列舉:(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸苄酯、乙烯醇之酯類。作為乙烯醇之酯類,例如可列舉:乙酸乙烯酯、(甲基)丙烯腈、苯乙烯及苯乙烯衍生物。其中,較佳為(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、苯乙烯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯及(甲基)丙烯酸苄酯。就提高光阻圖案之解像性及密接性之觀點而言,較佳為苯乙烯及(甲基)丙烯酸苄酯。
作為第一單體及第二單體之共聚比例,就(A)鹼可溶性高分子之鹼溶解性之調整之觀點而言,較佳為第一單體為10~60質量%且第二單體為40~90質量%。更佳為第一單體為15~35質量%且第二單體為65~85質量%。
(A)鹼可溶性高分子之合成較佳為藉由以下方式進行:於將第一單體與第二單體之混合物以丙酮、甲基乙基酮或異丙醇等溶劑稀釋之溶液中適量添加過氧化苯甲醯、偶氮異丁腈等自由基聚合起始劑,加熱攪拌。亦存在一邊將混合物之一部分滴加至反應液一邊進行合成之情形。亦存在於反應結束後進而添加溶劑,調整為所期望之濃度之情形。作為合成方法,除溶液聚合以外,亦可使用塊狀聚合、懸浮聚合或乳化聚合。
作為(A)鹼可溶性高分子(於混合複數種鹼可溶性高分子而使用之情形時,該混合物)於(A)成分、(B)成分、(C)成分、(D)成分、(G)成分、(H)成分、(I)成分及(J)成分之總量(以下有時亦稱為(A)成分~(J)成分之總量)中所占之比例,較佳為10~90質量%之範圍,更佳為30~70質量%,進而較佳為40~60質量%。於(A)成分相對於(A)成分~(J)成分之總量之比例為90質量%以下之情形時,就控制顯影時間之觀點而言較佳。另一方面,於(A)成分相對於(A)成分~(J)成分之總量之比例為10質量%以上之情形時,就提高邊緣熔融性之觀點而言較佳。
尤其,就表現高解像性之方面而言,較佳為感光性樹脂組合物含有選自由以下(a-1)及(a-2)所組成之群中之一種以上之成分作為(A)成分:
(a-1)源自含有苯乙烯15~60質量%、及選自由丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯所組成之群中之一種以上之丙烯酸系單體之聚合成分之丙烯酸系共聚物;
(a-2)源自含有甲基丙烯酸苄酯20~85質量%、及選自由丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸酯及甲基丙烯酸苄酯以外甲基丙烯酸酯所組成之群中之一種以上之丙烯酸系單體之聚合成分之丙烯酸系共聚物;
作為(a-1)成分及(a-2)成分之總量於(A)成分~(J)成分之總量中所占之比例,就表現高解像性之方面而言,較佳為10~60質量%。上述比例就解像性之觀點而言較佳為20質量%以上,更佳為30質量%以上,就切屑性之觀點而言較佳為55質量%以下,更佳為50質量%以下。
(a-1)中之聚合成分可為僅包含苯乙烯及上述丙烯酸系單體者,亦可進而含有其他單體。又(a-2)中之聚合成分可為僅包含甲基丙烯酸苄酯及上述丙烯酸系單體者,亦可進而含有其他單體。作為聚合成分之組合之尤佳例,可列舉:相對於苯乙烯15~60質量%,甲基丙烯酸為20~35質量%,剩餘為甲基丙烯酸甲酯之組合;相對於苯乙烯30~50質量%,甲基丙烯酸為20~40質量%,丙烯酸2-乙基己酯為10~20質量%,剩餘為甲基丙烯酸2-羥基乙酯之組合;或相對於甲基丙烯酸苄酯20~60質量%,苯乙烯為10~30質量%,剩餘為甲基丙烯酸之組合;相對於甲基丙烯酸苄酯60~85質量%,丙烯酸2-乙基己酯為0~15質量%,剩餘為甲基丙烯酸之組合等。於含有具有芳烷基之單體及/或苯乙烯作為單體之情形時,就光阻圖案之耐化學品性、密接性、高解像性或麓部形狀之觀點而言較佳。
(B)具有乙烯性不飽和雙鍵之化合物
(B)含乙烯性不飽和鍵之化合物係藉由於其結構中具有乙烯性不飽和基而具有聚合性之化合物。就加成聚合性之觀點而言,乙烯性不飽和鍵較佳為末端乙烯性不飽和基。
就硬化性及與(A)鹼可溶性高分子之相溶性之觀點而言,(B)具有乙烯性不飽和雙鍵之化合物較佳為含有於分子內具有丙烯醯基之化合物。作為於分子內具有丙烯醯基之化合物,例如可列舉:於聚環氧烷之一末端加成(甲基)丙烯酸而成之化合物、或於聚環氧烷之一末端加成(甲基)丙烯酸,另一末端經烷基醚化或烯丙基醚化而得者等。
作為此種化合物,可列舉:將聚乙二醇加成至苯基而成之化合物之(甲基)丙烯酸酯即苯氧基六乙二醇單(甲基)丙烯酸酯、或將加成有平均2莫耳之環氧丙烷(以下有時亦簡稱為PO)之聚丙二醇與加成有平均7莫耳之環氧乙烷(以下有時亦簡稱為EO)之聚乙二醇加成至壬基苯酚而成之化合物之(甲基)丙烯酸酯即4-正壬基苯氧基七乙二醇二丙二醇(甲基)丙烯酸酯、將加成有平均1莫耳之環氧丙烷之聚丙二醇與加成有平均5莫耳之環氧乙烷之聚乙二醇加成至壬基苯酚而成之化合物之(甲基)丙烯酸酯即4-正壬基苯氧基五乙二醇單丙二醇(甲基)丙烯酸酯。亦可列舉:將加成有平均8莫耳之環氧乙烷之聚乙二醇加成至壬基苯酚而成之化合物之丙烯酸酯即4-正壬基苯氧基八乙二醇(甲基)丙烯酸酯(例如東亞合成(股)製造,M-114)。
例如可列舉:於環氧烷鏈之兩末端具有(甲基)丙烯醯基之化合物、或於環氧乙烷鏈與環氧丙烷鏈以無規或嵌段鍵結而成之環氧烷鏈之兩末端具有(甲基)丙烯醯基之化合物。
作為此種化合物,可列舉:四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、五乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、六乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、七乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、八乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、九乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、十乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、於12莫耳之環氧乙烷鏈之兩末端具有(甲基)丙烯醯基之化合物等聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丁二醇二(甲基)丙烯酸酯等。作為於化合物中含有環氧乙烷基與環氧丙烷基之聚環氧烷二(甲基)丙烯酸酯化合物,例如可列舉:於加成有平均12莫耳之環氧丙烷之聚丙二醇之兩端進而分別加成平均3莫耳之環氧乙烷而成之二醇之二甲基丙烯酸酯、於加成有平均18莫耳之環氧丙烷之聚丙二醇之兩端進而分別加成平均15莫耳之環氧乙烷而成之二醇之二甲基丙烯酸酯等。進而,就柔軟性、解像性、密接性等觀點而言,較佳為聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、具有環氧乙烷與聚環氧丙烷之兩者之二(甲基)丙烯酸酯(例如「FA-023M、FA-024M、FA-027M,製品名,日立化成工業製造」)。
又,將雙酚A進行環氧烷改性且於兩末端具有(甲基)丙烯醯基之化合物就解像性及密接性之觀點而言較佳。環氧烷改性有環氧乙烷改性、環氧丙烷改性、環氧丁烷改性、環氧戊烷改性、環氧己烷改性等。又,就解像性及密接性之觀點而言,尤佳為將雙酚A進行環氧乙烷改性且於兩末端具有(甲基)丙烯醯基之化合物。
作為此種化合物,例如可列舉:2,2-雙(4-((甲基)丙烯醯氧基二乙氧基)苯基)丙烷(例如新中村化學工業(股)製造 NKEster BPE-200)、2,2-雙(4-((甲基)丙烯醯氧基三乙氧基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-((甲基)丙烯醯氧基四乙氧基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-((甲基)丙烯醯氧基五乙氧基)苯基)丙烷(例如新中村化學工業(股)製造NKEster BPE-500)、2,2-雙(4-((甲基)丙烯醯氧基六乙氧基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-((甲基)丙烯醯氧基七乙氧基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-((甲基)丙烯醯氧基八乙氧基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-((甲基)丙烯醯氧基九乙氧基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-((甲基)丙烯醯氧基十乙氧基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-((甲基)丙烯醯氧基十一乙氧基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-((甲基)丙烯醯氧基十二乙氧基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-((甲基)丙烯醯氧基十三乙氧基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-((甲基)丙烯醯氧基十四乙氧基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-((甲基)丙烯醯氧基十五乙氧基)苯基)丙烷、2,2-雙(4-((甲基)丙烯醯氧基十六乙氧基)苯基)丙烷等2,2-雙(4-((甲基)丙烯醯氧基多乙氧基)苯基)丙烷等。進而,就解像性及密接性之觀點而言,於雙酚A之兩端分別加成有平均2莫耳之環氧丙烷與平均6莫耳之環氧乙烷而成之聚伸烷基二醇之二(甲基)丙烯酸酯、或於雙酚A之兩端分別加成有平均2莫耳之環氧丙烷與平均15莫耳之環氧乙烷而成之聚伸烷基二醇之二(甲基)丙烯酸酯、於雙酚A之兩端分別各加成有平均5莫耳之EO而成之聚乙二醇之二甲基丙烯酸酯(例如新中村化學(公司)製造 BPE-500)等環氧乙烷改性及環氧丙烷改性之化合物亦較佳。作為該等將雙酚A進行環氧烷改性且於兩末端具有(甲基)丙烯醯基之化合物中之相對於雙酚A 1莫耳之環氧乙烷之莫耳數,就提高解像性、密接性及柔軟性之觀點而言,較佳為合計為10莫耳以上且30莫耳以下。
於本實施形態中,作為(B)具有乙烯性不飽和雙鍵之化合物,就表現高解像性之方面而言,較佳為含有於一分子中具有超過2個之(甲基)丙烯醯基之化合物。一分子中之(甲基)丙烯醯基之個數更佳為3個以上。就剝離性之觀點而言,一分子中之(甲基)丙烯醯基之個數較佳為6個以下,更佳為4個以下。於一分子中具有超過2個之(甲基)丙烯醯基之化合物可藉由如下方式獲得:作為中心骨架於分子內具有3莫耳以上(即每1個中心骨架為3個以上)可加成環氧烷基之基,於其上加成環氧乙烷基、環氧丙烷基或環氧丁烷基等環氧烷基而獲得醇,自該醇與(甲基)丙烯酸形成(甲基)丙烯酸酯。若中心骨架為醇,則亦可藉由直接與(甲基)丙烯酸形成(甲基)丙烯酸酯而獲得。作為可成為中心骨架之化合物,可列舉:甘油、三羥甲基丙烷、季戊四醇、二季戊四醇、異氰尿酸酯環等。
作為此種化合物,可列舉:三羥甲基丙烷之EO 3莫耳改性三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷之EO 6莫耳改性三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷之EO 9莫耳改性三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷之EO 12莫耳改性三丙烯酸酯、甘油之EO 3莫耳改性三丙烯酸酯(例如新中村化學工業(股)製造A-GLY-3E)、甘油之EO 9莫耳改性三丙烯酸酯(例如新中村化學工業(股)製造A-GLY-9E)、甘油之EO 6莫耳PO 6莫耳改性三丙烯酸酯(A-GLY-0606PE)、甘油之EO 9莫耳PO 9莫耳改性三丙烯酸酯(A-GLY-0909PE)、季戊四醇之4 EO改性四丙烯酸酯(例如沙多瑪日本(股)公司製造SR-494)、季戊四醇之35 EO改性四丙烯酸酯(例如新中村化學工業(股)公司製造NKEster ATM-35E)、二季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯與季戊四醇四丙烯酸酯之7:3混合物(例如東亞合成製造M-306)等。又,作為具有至少3個甲基丙烯醯基之化合物,可列舉:三甲基丙烯酸酯,例如乙氧基化甘油三甲基丙烯酸酯、乙氧基化異三聚氰酸三甲基丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三甲基丙烯酸酯(例如於三羥甲基丙烷上加成平均21莫耳之環氧乙烷之三甲基丙烯酸酯、於三羥甲基丙烷上加成平均30莫耳之環氧乙烷之三甲基丙烯酸酯就柔軟性、密接性、滲出抑制之觀點而言較佳)等;四甲基丙烯酸酯,例如二(三羥甲基丙烷)四甲基丙烯酸酯、季戊四醇四甲基丙烯酸酯、二季戊四醇四甲基丙烯酸酯等;五甲基丙烯酸酯,例如二季戊四醇五甲基丙烯酸酯等;六甲基丙烯酸酯,例如二季戊四醇六甲基丙烯酸酯等。該等之中,較佳為四、五或六甲基丙烯酸酯。
其中,作為較佳之(B)具有乙烯性不飽和雙鍵之化合物之例,就操作性之觀點而言,較佳為熔點低於室溫,保存時不易固化者。尤佳為三羥甲基丙烷之EO 3莫耳改性三丙烯酸酯、季戊四醇之4 EO改性四丙烯酸酯。
作為於一分子中具有超過2個之(甲基)丙烯醯基之化合物之含量,較佳為上述(B)具有乙烯性不飽和雙鍵之化合物之50~100質量%。該含量就解像度之觀點而言較佳為50質量%以上,更佳為60質量%以上。該含量可為100質量%,就剝離性之觀點而言,較佳可為95質量%以下,更佳可為90質量%以下。
(B)成分除上述化合物以外,例如亦可適宜含有以下列舉之化合物。例如可列舉:1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-環己二醇二(甲基)丙烯酸酯、2-二(對羥基苯基)丙烷二(甲基)丙烯酸酯、2,2-雙[(4-(甲基)丙烯醯氧基聚伸丙氧基)苯基]丙烷、2,2-雙[(4-(甲基)丙烯醯氧基聚伸丁氧基)苯基]丙烷、甘油三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、聚氧丙基三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三縮水甘油醚三(甲基)丙烯酸酯、鄰苯二甲酸β-羥基丙基-β'-(丙烯醯氧基)丙酯、壬基苯氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、壬基苯氧基聚丁二醇(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇單(甲基)丙烯酸酯等。進而亦可列舉如以下之胺基甲酸酯化合物。例如可列舉:六亞甲基二異氰酸酯、甲苯二異氰酸酯或二異氰酸酯化合物(例如2,2,4-三甲基六亞甲基二異氰酸酯)與於一分子中具有羥基與(甲基)丙烯酸基之化合物,例如丙烯酸2-羥基丙酯、低聚丙二醇單甲基丙烯酸酯之胺基甲酸酯化合物。具體有六亞甲基二異氰酸酯與低聚丙二醇單甲基丙烯酸酯(例如日本油脂(股)製造,Blemmer PP1000)之反應產物。又,亦可列舉:藉由聚丙二醇或聚己內酯而改性之異三聚氰酸酯之二或三(甲基)丙烯酸酯等。又,例如亦可列舉:使作為二異氰酸酯與多元醇之聚加成物而獲得之胺基甲酸酯化合物之末端與具有乙烯性不飽和雙鍵及羥基之化合物進行反應而獲得之胺基甲酸酯低聚物等。
又,作為(B)具有乙烯性不飽和鍵之化合物,可含有4-正壬基苯氧基八乙二醇丙烯酸酯、4-正壬基苯氧基四乙二醇丙烯酸酯、鄰苯二甲酸γ-氯-β-羥基丙基-β'-甲基丙烯醯氧基乙酯之類之具有1個乙烯性不飽和鍵之化合物。就剝離性或硬化膜柔軟性之觀點而言較佳,若含有鄰苯二甲酸γ-氯-β-羥基丙基-β'-甲基丙烯醯氧基乙酯,則就感度、解像性、密接性之觀點而言亦較佳。
上述(B)具有乙烯性不飽和雙鍵之化合物較佳為於分子內含有羥基。藉此,尤其成為感度(生產性)、解像性、密接性優異者。
(B)具有乙烯性不飽和雙鍵之化合物相對於上述(A)成分~(J)成分之總量之比例較佳為5~70質量%。於該比例為5質量%以上之情形時,就感度、解像性及密接性之觀點而言較佳,該比例更佳為10質量%以上,進而較佳為20質量%以上。另一方面,於該比例為70質量%以下之情形時,就抑制邊緣熔融及硬化光阻之剝離延遲之觀點而言較佳,該比例更佳為60質量%以下,進而較佳為50質量%以下。
(C)光聚合起始劑
(C)光聚合起始劑就獲得感度與解像度之觀點而言較佳為含有六芳基聯咪唑化合物。
作為六芳基聯咪唑化合物,可列舉:2-(鄰氯苯基)-4,5-二苯基聯咪唑、2,2',5-三-(鄰氯苯基)-4-(3,4-二甲氧基苯基)-4',5'-二苯基聯咪唑、2,4-雙-(鄰氯苯基)-5-(3,4-二甲氧基苯基)-二苯基聯咪唑、2,4,5-三-(鄰氯苯基)-二苯基聯咪唑、2-(鄰氯苯基)-雙-4,5-(3,4-二甲氧基苯基)-聯咪唑、2,2'-雙-(2-氟苯基)-4,4',5,5'-四-(3-甲氧基苯基)-聯咪唑、2,2'-雙-(2,3-二氟甲基苯基)-4,4',5,5'-四-(3-甲氧基苯基)-聯咪唑、2,2'-雙-(2,4-二氟苯基)-4,4',5,5'-四-(3-甲氧基苯基)-聯咪唑、2,2'-雙-(2,5-二氟苯基)-4,4',5,5'-四-(3-甲氧基苯基)-聯咪唑、2,2'-雙-(2,6-二氟苯基)-4,4',5,5'-四-(3-甲氧基苯基)-聯咪唑、2,2'-雙-(2,3,4-三氟苯基)-4,4',5,5'-四-(3-甲氧基苯基)-聯咪唑、2,2'-雙-(2,3,5-三氟苯基)-4,4',5,5'-四-(3-甲氧基苯基)-聯咪唑、2,2'-雙-(2,3,6-三氟苯基)-4,4',5,5'-四-(3-甲氧基苯基)-聯咪唑、2,2'-雙-(2,4,5-三氟苯基)-4,4',5,5'-四-(3-甲氧基苯基)-聯咪唑、2,2'-雙-(2,4,6-三氟苯基)-4,4',5,5'-四-(3-甲氧基苯基)-聯咪唑、2,2'-雙-(2,3,4,5-四氟苯基)-4,4',5,5'-四-(3-甲氧基苯基)-聯咪唑、2,2'-雙-(2,3,4,6-四氟苯基)-4,4',5,5'-四-(3-甲氧基苯基)-聯咪唑及2,2'-雙-(2,3,4,5,6-五氟苯基)-4,4',5,5'-四-(3-甲氧基苯基)-聯咪唑等。其中,就感度與解像度之觀點而言,較佳為2-(鄰氯苯基)-4,5-二苯基咪唑二聚物。
作為除六芳基聯咪唑化合物以外可作為(C)成分而含有之光聚合起始劑,可列舉:N-芳基-α-胺基酸化合物、醌類、芳香族酮類、苯乙酮類、醯基氧化膦類、安息香或安息香醚類、二烷基縮酮類、9-氧硫𠮿類、二烷基胺基苯甲酸酯類、肟酯類、吖啶類、N-芳基胺基酸之酯化合物及鹵化合物等。
作為N-芳基-α-胺基酸化合物之例,可列舉:N-苯基甘胺酸、N-甲基-N-苯基甘胺酸、N-乙基-N-苯基甘胺酸等。尤其N-苯基甘胺酸之增感效果高,較佳。
作為醌類,可列舉:2-乙基蒽醌、八乙基蒽醌、1,2-苯并蒽醌、2,3-苯并蒽醌、2-苯基蒽醌、2,3-二苯基蒽醌、1-氯蒽醌、2-氯蒽醌、2-甲基蒽醌、1,4-萘醌、9,10-菲醌、2-甲基-1,4-萘醌、9,10-菲醌、2-甲基-1,4-萘醌、2,3-二甲基蒽醌、3-氯-2-甲基蒽醌等。
作為芳香族酮類,例如可列舉:二苯甲酮、米其勒酮[4,4'-雙(二甲胺基)二苯甲酮]、4,4'-雙(二乙胺基)二苯甲酮及4-甲氧基-4'-二甲胺基二苯甲酮。
作為苯乙酮類,例如可列舉:2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1-(4-異丙基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮、1-(4-十二烷基苯基)-2-羥基-2-甲基丙烷-1-酮、4-(2-羥基乙氧基)-苯基(2-羥基-2-丙基)酮、1-羥基環己基苯基酮、2-苄基-2-二甲胺基-1-(4-𠰌啉基苯基)-丁酮-1及2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-𠰌啉基-丙酮-1。作為市售品,可列舉:Ciba Specialty Chemicals公司製造之Irgacure 907、Irgacure 369及Irgacure 379。
作為醯基氧化膦類,例如可列舉:2,4,6-三甲基苄基二苯基氧化膦、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)氧化膦、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-2,4,4-三甲基-戊基氧化膦等。作為市售品,可列舉:BASF公司製造之Lucirin TPO及Ciba Specialty Chemicals公司製造之Irgacure 819。
作為安息香或安息香醚類,例如可列舉:安息香、安息香***、安息香苯醚、甲基安息香及乙基安息香。
作為二烷基縮酮類,例如可列舉:苯偶醯二甲基縮酮及苯偶醯二乙基縮酮。
作為二烷基胺基苯甲酸酯類,例如可列舉:二甲胺基苯甲酸乙酯、二乙胺基苯甲酸乙酯、對二甲胺基苯甲酸乙酯、4-(二甲胺基)苯甲酸2-乙基己酯等。
作為肟酯類,例如可列舉:1-苯基-1,2-丙二酮-2-O-苯甲醯基肟及1-苯基-1,2-丙二酮-2-(O-乙氧基羰基)肟。作為市售品,可列舉:Ciba Specialty Chemicals公司製造之CGI-325、Irgacure OXE01及Irgacure OXE02。
作為吖啶類,例如可列舉:1,7-雙(9,9'-吖啶基)庚烷、9-苯基吖啶、9-甲基吖啶、9-乙基吖啶、9-氯乙基吖啶、9-甲氧基吖啶、9-乙氧基吖啶、9-(4-甲基苯基)吖啶、9-(4-乙基苯基)吖啶、9-(4-正丙基苯基)吖啶、9-(4-正丁基苯基)吖啶、9-(4-第三丁基苯基)吖啶、9-(4-甲氧基苯基)吖啶、9-(4-乙氧基苯基)吖啶、9-(4-乙醯基苯基)吖啶、9-(4-二甲胺基苯基)吖啶、9-(4-氯苯基)吖啶、9-(4-溴苯基)吖啶、9-(3-甲基苯基)吖啶、9-(3-第三丁基苯基)吖啶、9-(3-乙醯基苯基)吖啶、9-(3-二甲胺基苯基)吖啶、9-(3-二乙胺基苯基)吖啶、9-(3-氯苯基)吖啶、9-(3-溴苯基)吖啶、9-(2-吡啶基)吖啶、9-(3-吡啶基)吖啶及9-(4-吡啶基)吖啶。
作為N-芳基胺基酸之酯化合物,例如可列舉:N-苯基甘胺酸之甲酯、N-苯基甘胺酸之乙酯、N-苯基甘胺酸之正丙酯、N-苯基甘胺酸之異丙酯、N-苯基甘胺酸之1-丁酯、N-苯基甘胺酸之2-丁酯、N-苯基甘胺酸之第三丁酯、N-苯基甘胺酸之戊酯、N-苯基甘胺酸之己酯、N-苯基甘胺酸之戊酯、N-苯基甘胺酸之辛酯等。
作為鹵化合物,例如可列舉:溴戊烷、溴異戊烷、1,2-二溴-2-甲基丙烷、1,2-二溴乙烷、溴化二苯甲烷、苄基溴、二溴甲烷、三溴甲基苯碸、四溴化碳、磷酸三(2,3-二溴丙基)酯、三氯乙醯胺、碘戊烷、碘異丁烷、1,1,1-三氯-2,2-雙(對氯苯基)乙烷、氯化三口井化合物、二烯丙基錪化合物等,尤佳為三溴甲基苯碸。作為感光性樹脂組合物中之鹵化合物之含量,就感度之觀點而言,相對於上述(A)成分~(J)成分之總量較佳為0.01~3質量%。
該等光聚合起始劑可單獨使用,亦可併用兩種以上。
(C)光聚合起始劑相對於上述(A)成分~(J)成分之總量之比例較佳為0.1~20質量%。於該比例為0.1質量%以上之情形時,就獲得充分之感度之觀點而言較佳,該比例更佳為0.2質量%以上,進而較佳為0.5質量%以上。另一方面,於該比例為20質量%以下之情形時,就獲得較高之解像性且抑制於顯影液中之凝集性之觀點而言較佳,該比例更佳為10質量%以下。
(D)鐵原子
於本實施形態中,感光性樹脂組合物層中,鐵原子之含量以該感光性樹脂組合物層為基準計為0.01 ppm以上且10 ppm以下。
作為感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量之下限值,以該感光性樹脂組合物層為基準計為0.01 ppm以上。
於鐵原子之含量低於上述範圍之情形時,與基板之金屬表面之相互作用變少,由此易於產生密接不良。例如穩定存在之鐵離子為3價,故而基板表面之CuO-
與黏合劑之羧酸之間可配位鍵結(例如CuO-
…Fe3+
…COO-
)。若鐵原子之含量為上述下限值以上,則與基板之金屬表面之相互作用變強,密接性優異。
感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量可為0.03 ppm以上,亦可為0.05 ppm以上。又,可為0.1 ppm以上,亦可為0.2 ppm以上,亦可為0.3 ppm以上,亦可為0.4 ppm以上,亦可為0.5 ppm以上,亦可為0.6 ppm以上,亦可為0.7 ppm以上,亦可為0.8 ppm以上,亦可為0.9 ppm以上,亦可為1.0 ppm以上。又,可為1.1 ppm以上,亦可為1.2 ppm以上,亦可為1.3 ppm以上,亦可為1.4 ppm以上,亦可為1.5 ppm以上。又,可為2.0 ppm以上,亦可為3.0 ppm以上,亦可為4.0 ppm以上,亦可為5.0 ppm以上。鐵原子之含量越多,密接性越提高。
另一方面,作為感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量之上限值,以該感光性樹脂組合物層為基準計為10 ppm以下。
於鐵原子之含量超過上述範圍之情形時,鐵離子於分子間生成配位鍵結性之鍵,由此產生準交聯(quasi crosslink)。由於該準交聯,對顯影液之溶解性下降,產生顯影時間之延遲。若鐵原子之含量為上述上限值以下,則對顯影液之溶解性適度,顯影時間亦成為適度時間。
感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量可為5.0 ppm以下,亦可為4.0 ppm以下,亦可為3.0 ppm以下,亦可為2.0 ppm以下。又,可為1.5 ppm以下,亦可為1.4 ppm以下,亦可為1.3 ppm以下,亦可為1.2 ppm以下,亦可為1.1 ppm以下,亦可為1.0 ppm以下。又,可為0.9 ppm以下,亦可為0.8 ppm以下,亦可為0.7 ppm以下,亦可為0.6 ppm以下,亦可為0.5 ppm以下,亦可為0.4 ppm以下,亦可為0.3 ppm以下,亦可為0.2 ppm以下,亦可為0.1 ppm以下。鐵原子之含量越少,顯影時間可變得越少。
作為感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量,以該感光性樹脂組合物層為基準計為0.01 ppm以上且10 ppm以下,最佳為0.05 ppm以上且2.0 ppm以下之範圍。
藉由使鐵原子之含量為上述範圍,可兼具對顯影液之溶解性即顯影性、及對基板尤其銅基板之密接性。若顯影性優良,則存在光阻圖案中不易殘留殘渣之效果,若對基板之密接性優良,則存在可形成更細之光阻圖案之效果。
作為將感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量調整為0.01 ppm以上且10 ppm以下之範圍內之方法,並無特別限定,例如可列舉:對感光性樹脂組合物之組成,關於各成分進行各種調整。
感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量係藉由實施例中記載之方法而決定。
(E)鈣原子
於本實施形態中,感光性樹脂組合物層中,鈣原子之含量以該感光性樹脂組合物層為基準計為0.005 ppm以上且5 ppm以下。
作為感光性樹脂組合物層中之鈣原子之含量之下限值,以該感光性樹脂組合物層為基準計為0.005 ppm以上。
於鈣原子之含量低於上述範圍之情形時,與基板之金屬表面之相互作用變少,由此產生密接不良。例如穩定存在之鈣離子為2價,故而基板表面之CuO-
與黏合劑之羧酸之間可配位鍵結(例如CuO-
…Ca2+
…COO-
)。若鈣原子之含量為上述下限值以上,則與基板之金屬表面之相互作用變強,密接性優異。
感光性樹脂組合物層中之鈣原子之含量可為0.01 ppm以上,亦可為0.03 ppm以上,亦可為0.05 ppm以上,亦可為0.08 ppm以上。又,可為0.1 ppm以上,亦可為0.2 ppm以上,亦可為0.3 ppm以上,亦可為0.4 ppm以上,亦可為0.5 ppm以上,亦可為0.6 ppm以上,亦可為0.7 ppm以上,亦可為0.8 ppm以上,亦可為0.9 ppm以上,亦可為1.0 ppm以上。又,可為1.1 ppm以上,亦可為1.2 ppm以上,亦可為1.3 ppm以上,亦可為1.4 ppm以上,亦可為1.5 ppm以上。又,可為2.0 ppm以上,亦可為3.0 ppm以上,亦可為4.0 ppm以上。鈣原子之含量越多,密接性越提高。
另一方面,作為感光性樹脂組合物層中之鈣原子之含量之上限值,以該感光性樹脂組合物層為基準計為5 ppm以下。
於鈣原子之含量超過上述範圍之情形時,鈣離子於分子間生成配位鍵結性之鍵,由此產生準交聯。由於該準交聯,對顯影液之溶解性下降,產生顯影時間之延遲。若鈣原子之含量為上述上限值以下,則對顯影液之溶解性適度,顯影時間亦成為適度時間。
感光性樹脂組合物層中之鈣原子之含量可為4.0 ppm以下,亦可為3.0 ppm以下,亦可為2.0 ppm以下。又,可為1.5 ppm以下,亦可為1.4 ppm以下,亦可為1.3 ppm以下,亦可為1.2 ppm以下,亦可為1.1 ppm以下,亦可為1.0 ppm以下。又,可為0.9 ppm以下,亦可為0.8 ppm以下,亦可為0.7 ppm以下,亦可為0.6 ppm以下,亦可為0.5 ppm以下,亦可為0.4 ppm以下,亦可為0.3 ppm以下,亦可為0.2 ppm以下,亦可為0.1 ppm以下,亦可為0.05 ppm以下。鈣原子之含量越少,顯影時間可變得越少。
作為感光性樹脂組合物層中之鈣原子之含量,以該感光性樹脂組合物層為基準計為0.005 ppm以上且5 ppm以下,最佳為0.03 ppm以上且1.0 ppm以下之範圍。
藉由使鈣原子之含量為上述範圍,可兼具對顯影液之溶解性即顯影性、及對基板尤其銅基板之密接性。若顯影性優良,則存在光阻圖案中不易殘留殘渣之效果,若對基板之密接性優良,則存在可形成更細之光阻圖案之效果。
作為將感光性樹脂組合物層中之鈣原子之含量調整為0.005 ppm以上且5 ppm以下之範圍內之方法,並無特別限定,例如可列舉:對感光性樹脂組合物之組成,關於各成分進行各種調整。
感光性樹脂組合物層中之鈣原子之含量係藉由實施例中記載之方法而決定。
(F)鋁原子
於本實施形態中,感光性樹脂組合物層中,鋁原子之含量以該感光性樹脂組合物層為基準計為0.005 ppm以上且5 ppm以下。
作為感光性樹脂組合物層中之鋁原子之含量之下限值,以該感光性樹脂組合物層為基準計為0.005 ppm以上。
於鋁原子之含量低於上述範圍之情形時,與基板之金屬表面之相互作用變少,由此產生密接不良。例如穩定存在之鋁離子為3價,故而基板表面之CuO-
與黏合劑之羧酸之間可配位鍵結(例如CuO-
…Al3+
…COO-
)。若鋁原子之含量為上述下限值以上,則與基板之金屬表面之相互作用變強,密接性優異。
感光性樹脂組合物層中之鋁原子之含量可為0.01 ppm以上,亦可為0.03 ppm以上,亦可為0.05 ppm以上,亦可為0.08 ppm以上。又,可為0.1 ppm以上,亦可為0.2 ppm以上,亦可為0.3 ppm以上,亦可為0.4 ppm以上,亦可為0.5 ppm以上,亦可為0.6 ppm以上,亦可為0.7 ppm以上,亦可為0.8 ppm以上,亦可為0.9 ppm以上,亦可為1.0 ppm以上。又,可為1.1 ppm以上,亦可為1.2 ppm以上,亦可為1.3 ppm以上,亦可為1.4 ppm以上,亦可為1.5 ppm以上。又,可為2.0 ppm以上,亦可為3.0 ppm以上,亦可為4.0 ppm以上。鋁原子之含量越多,密接性越提高。
另一方面,作為感光性樹脂組合物層中之鋁原子之含量之上限值,以該感光性樹脂組合物層為基準計為5 ppm以下。
於鋁原子之含量超過上述範圍之情形時,鋁離子於分子間生成配位鍵結性之鍵,由此產生準交聯。由於該準交聯,對顯影液之溶解性下降,產生顯影時間之延遲。若鋁原子之含量為上述上限值以下,則對顯影液之溶解性適度,顯影時間亦成為適度時間。
感光性樹脂組合物層中之鋁原子之含量可為4.0 ppm以下,亦可為3.0 ppm以下,亦可為2.0 ppm以下。又,可為1.5 ppm以下,亦可為1.4 ppm以下,亦可為1.3 ppm以下,亦可為1.2 ppm以下,亦可為1.1 ppm以下,亦可為1.0 ppm以下。又,可為0.9 ppm以下,亦可為0.8 ppm以下,亦可為0.7 ppm以下,亦可為0.6 ppm以下,亦可為0.5 ppm以下,亦可為0.4 ppm以下,亦可為0.3 ppm以下,亦可為0.2 ppm以下,亦可為0.1 ppm以下,亦可為0.05 ppm以下。
作為感光性樹脂組合物層中之鋁原子之含量,以該感光性樹脂組合物層為基準計為0.005 ppm以上且5 ppm以下,較佳為0.02 ppm以上且2.5 ppm以下,最佳為0.03 ppm以上且1.0 ppm以下之範圍。
藉由使鋁原子之含量為上述範圍,可兼具對顯影液之溶解性即顯影性、及對基板尤其銅基板之密接性。若顯影性優良,則存在光阻圖案中不易殘留殘渣之效果,若對基板之密接性優良,則存在可形成更細之光阻圖案之效果。
作為將感光性樹脂組合物層中之鋁原子之含量調整為0.005 ppm以上且5 ppm以下之範圍內之方法,並無特別限定,例如可列舉:對感光性樹脂組合物之組成,關於各成分進行各種調整。
感光性樹脂組合物層中之鋁原子之含量可藉由實施例中記載之方法而決定。
感光性樹脂組合物層中之鐵原子、鈣原子及鋁原子之含量較佳為0.02 ppm以上且20 ppm以下。
鐵原子、鈣原子及鋁原子之含量可為0.03 ppm以上,亦可為0.04 ppm以上,亦可為0.05 ppm以上,亦可為0.06 ppm以上,亦可為0.07 ppm以上,亦可為0.08 ppm以上,亦可為0.09 ppm以上,亦可為0.1 ppm以上。又,可為0.1 ppm以上,亦可為0.11 ppm以上,亦可為0.12 ppm以上,亦可為0.13 ppm以上,亦可為0.14 ppm以上,亦可為0.15 ppm以上,亦可為0.16 ppm以上,亦可為0.17 ppm以上,亦可為0.18 ppm以上,亦可為0.19 ppm以上,亦可為0.2 ppm以上。又,可為0.3 ppm以上,亦可為0.4 ppm以上,亦可為0.5 ppm以上,亦可為0.6 ppm以上,亦可為0.7 ppm以上,亦可為0.8 ppm以上,亦可為0.9 ppm以上,亦可為1.0 ppm以上。又,可為1.5 ppm以上,亦可為2.0 ppm以上,亦可為2.5 ppm以上,亦可為3.0 ppm以上,亦可為3.5 ppm以上,亦可為4.0 ppm以上。
鐵原子、鈣原子及鋁原子之含量可為15 ppm以下,亦可為10 ppm以下,亦可為5 ppm以下,亦可為4 ppm以下,亦可為3 ppm以下,亦可為2 ppm以下,亦可為1 ppm以下。較佳為0.11 ppm以上且5 ppm以下。
(I)鈉原子
於本實施形態中,感光性樹脂組合物層中,鈉原子之含量以該感光性樹脂組合物層為基準計為1 ppm以上且50 ppm以下。
作為感光性樹脂組合物層中之鈉原子之含量之下限值,以該感光性樹脂組合物層為基準計為1 ppm以上。
於鈉原子之含量低於上述範圍之情形時,於形成之配線間易於產生殘渣。藉由於感光性樹脂組合物中含有微量之鈉離子,顯影液及水洗水之滲透性優異,故而即使於密集之配線間亦可不產生殘渣而顯影。
感光性樹脂組合物層中之鈉原子之含量可為1 ppm以上,亦可為1.5 ppm以上,亦可為2 ppm以上,亦可為3 ppm以上,亦可為4 ppm以上,亦可為5 ppm以上,亦可為6 ppm以上,亦可為7 ppm以上,亦可為8 ppm以上,亦可為9 ppm以上,亦可為10 ppm以上。又,可為15 ppm以上,亦可為16 ppm以上,亦可為17 ppm以上,亦可為18 ppm以上,亦可為19 ppm以上,亦可為20 ppm以上。又,可為30 ppm以上,亦可為35 ppm以上,亦可為40 ppm以上,亦可為45 ppm以上。鈉原子之含量越多,越不易產生配線間之殘渣。
另一方面,作為感光性樹脂組合物層中之鈉原子之含量之上限值,以該感光性樹脂組合物層為基準計為50 ppm以下。
於鈉原子之含量超過上述範圍之情形時,顯影液及水洗水之滲透性過高,故而形成之密集配線圖案膨潤而與接近之配線接觸,由此無法獲得密集之配線圖案。若鈉原子之含量為上述上限值以下,則顯影液及水洗水之滲透性適度,密集圖案之解像性優異。
感光性樹脂組合物層中之鈉原子之含量可為45 ppm以下,亦可為40 ppm以下,亦可為35 ppm以下,亦可為30 ppm以下。又,可為25 ppm以下,亦可為20 ppm以下,亦可為19 ppm以下,亦可為18 ppm以下,亦可為17 ppm以下,亦可為16 ppm以下,亦可為15 ppm以下。又,可為9 ppm以下,亦可為8 ppm以下,亦可為7 ppm以下,亦可為6 ppm以下,亦可為5 ppm以下,亦可為4 ppm以下,亦可為3 ppm以下,亦可為2 ppm以下。
作為感光性樹脂組合物層中之鈉原子之含量,以該感光性樹脂組合物層為基準計為1 ppm以上且50 ppm以下,較佳為1.5 ppm以上且25 ppm以下之範圍,最佳為2 ppm以上且10 ppm以下之範圍。
藉由使鈉原子之含量為上述範圍,可防止配線間之殘渣及圖案彼此之接觸,故而密集之配線圖案之形成性優異。
作為將感光性樹脂組合物層中之鈉原子之含量調整為1 ppm以上且50 ppm以下之範圍內之方法,並無特別限定,例如可列舉:對感光性樹脂組合物之組成關於各成分進行各種調整、或使用離子交換樹脂去除、或添加各種鈉鹽化合物。
感光性樹脂組合物層中之鈉原子之含量係藉由實施例中記載之方法而決定。
(G)增感劑
本實施形態之感光性樹脂組合物中,(G)增感劑含有選自吡唑啉化合物、蒽化合物、三芳基胺化合物、㗁唑化合物中之至少一種。該等化合物對稱為h射線之405 nm附近之光之吸收較大。藉由使用該等化合物作為增感劑,感度、圖像形成性變得良好。其中,更佳為(G)增感劑含有選自吡唑啉化合物及蒽化合物中之至少一種。
上述(G)增感劑相對於該感光性樹脂組合物之固形物成分之總質量,較佳為0.005~2質量%。藉由以該範圍使用上述(G)增感劑,可獲得良好之感度、解像度、密接性。
本發明中之(G)增感劑只要為藉由與(C)起始劑組合而提高感度者即可。作為(G)增感劑之功能,可列舉:吸收曝光波長之光,對起始劑賦予能量或電子;促進(C)起始劑之斷裂;自(C)起始劑產生之起始自由基或暫時加成於單體並聚合後之成長自由基移動至(G)增感劑,經過新的斷裂、分解,使自由基再生等各種功能。
作為吡唑啉化合物、蒽化合物、三芳基胺化合物、㗁唑化合物以外之(G)增感劑,可列舉:N-芳基-α-胺基酸化合物、經烷基胺基取代之芳香族酮化合物、二烷基胺基苯甲酸酯化合物、吡唑啉衍生物、蒽衍生物、三苯基胺衍生物、N-芳基胺基酸之酯化合物、鹵化合物等。
作為N-芳基-α-胺基酸化合物,例如可列舉:N-苯基甘胺酸、N-甲基-N-苯基甘胺酸、N-乙基-N-苯基甘胺酸等。尤其N-苯基甘胺酸之增感效果高,較佳。
作為經烷基胺基取代之芳香族酮化合物,可列舉:米其勒酮[4,4'-雙(二甲胺基)二苯甲酮]、4,4'-雙(二乙胺基)二苯甲酮、4-甲氧基-4'-二甲胺基二苯甲酮等。
作為二烷基胺基苯甲酸酯化合物,例如可列舉:二甲胺基苯甲酸乙酯、二乙胺基苯甲酸乙酯、對二甲胺基苯甲酸乙酯、4-(二甲胺基)苯甲酸2-乙基己酯等。
作為吡唑啉衍生物,就密接性及光阻圖案之矩形性之觀點而言,較佳為:5-(4-第三丁基苯基)-3-(4-第三丁基苯乙烯基)-1-苯基-2-吡唑啉、5-(4-第三丁基苯基)-1-苯基-3-(4-苯基苯基)-4,5-二氫-1H-吡唑、1-苯基-3-(4-異丙基苯乙烯基)-5-(4-異丙基苯基)-吡唑啉、1-苯基-3-(4-第三丁基-苯乙烯基)-5-(4-第三丁基)-吡唑啉、1-苯基-3-(4-甲氧基苯乙烯基)-5-(4-甲氧基苯基)-吡唑啉、1-苯基-3-(3,5-二甲氧基苯乙烯基)-5-(3,5-二甲氧基苯基)-吡唑啉、1-苯基-3-(3,4-二甲氧基苯乙烯基)-5-(3,4-二甲氧基苯基)-吡唑啉、1-苯基-3-(2,6-二甲氧基苯乙烯基)-5-(2,6-二甲氧基苯基)-吡唑啉、1-苯基-3-(2,5-二甲氧基苯乙烯基)-5-(2,5-二甲氧基苯基)-吡唑啉、1-苯基-3-(2,3-二甲氧基苯乙烯基)-5-(2,3-二甲氧基苯基)-吡唑啉、1-苯基-3-(2,4-二甲氧基苯乙烯基)-5-(2,4-二甲氧基苯基)-吡唑啉、1-苯基-3,5-雙(4-第三丁基-苯基)-吡唑啉、1-苯基-3,5-雙(4-甲氧基-苯基)-吡唑啉、1-苯基-3-(4-甲氧基-苯基)-5-(4-第三丁基-苯基)-吡唑啉、1-苯基-3-(4-第三丁基-苯基)-5-(4-甲氧基-苯基)-吡唑啉、1-苯基-3-(4-異丙基-苯基)-5-(4-第三丁基-苯基)-吡唑啉、1-苯基-3-(4-第三丁基-苯基)-5-(4-異丙基-苯基)-吡唑啉、1-苯基-3-(4-甲氧基-苯基)-5-(4-異丙基-苯基)-吡唑啉、1-苯基-3-(4-異丙基-苯基)-5-(4-甲氧基-苯基)-吡唑啉、1,5-二苯基-3-(4-第三丁基-苯基)-吡唑啉、1,3-二苯基-5-(4-第三丁基-苯基)-吡唑啉、1,5-二苯基-3-(4-異丙基-苯基)-吡唑啉、1,3-二苯基-5-(4-異丙基-苯基)-吡唑啉、1,5-二苯基-3-(4-甲氧基-苯基)-吡唑啉、1,3-二苯基-5-(4-甲氧基-苯基)-吡唑啉、1-苯基-3,5-雙(4-第三丁基-苯基)-吡唑啉、1,5-二苯基-3-(4-第三丁基-苯基)-吡唑啉。
較佳為1-苯基-3-(4-聯苯基)-5-(4-第三丁基-苯基)-吡唑啉、1-苯基-3-(4-聯苯基)-5-(4-第三辛基-苯基)-吡唑啉。
作為蒽化合物,較佳為蒽、9,10-二烷氧基蒽、9,10-二甲氧基蒽、9,10-二乙氧基蒽、9,10-二丁氧基蒽。其中,就感度之觀點而言,更佳為9,10-二丁氧基蒽。作為三芳基胺化合物,可列舉:於分子中具有三苯基胺骨架之化合物。作為三芳基胺化合物,較佳為下述式(2)所示之化合物。
[化1]
上述通式(2)中,R1
、R2
及R3
分別獨立表示碳數1~10之直鏈狀或支鏈狀之烷基或碳數1~4之直鏈狀或支鏈狀之烷氧基。n4、n5及n6表示以n4+n5+n6之值成為1以上之方式選擇之0~5之整數。再者,於n4為2以上之情形時,存在複數個之R1
可相同,亦可不同,於n5為2以上之情形時,存在複數個之R2
可相同,亦可不同,於n6為2以上之情形時,存在複數個之R3
可相同,亦可不同。
作為通式(2)所表示之化合物,就解像度與密接性之觀點而言,較佳為R2
為碳數1~10之直鏈狀或支鏈狀之烷基,n4及n6為0,n5為1。更佳為R2
為碳數1~4之直鏈狀或支鏈狀之烷基,n4及n6為0,n5為1。
作為㗁唑化合物,可列舉:於分子中具有㗁唑骨架之化合物。就感度之觀點而言,較佳為5-第三丁基-2-[5-(5-第三丁基-1,3-苯并㗁唑-2-基)噻吩-2-基]-1,3-苯并㗁唑、2-[4-(1,3-苯并㗁唑-2-基)萘-1-基]-1,3-苯并㗁唑。
作為N-芳基胺基酸之酯化合物,例如可列舉:N-苯基甘胺酸之甲酯、N-苯基甘胺酸之乙酯、N-苯基甘胺酸之正丙酯、N-苯基甘胺酸之異丙酯、N-苯基甘胺酸之1-丁酯、N-苯基甘胺酸之2-丁酯、N-苯基甘胺酸之第三丁酯、N-苯基甘胺酸之戊酯、N-苯基甘胺酸之己酯、N-苯基甘胺酸之戊酯、N-苯基甘胺酸之辛酯等。
作為鹵化合物,例如可列舉:溴戊烷、溴異戊烷、1,2-二溴-2-甲基丙烷、1,2-二溴乙烷、溴化二苯甲烷、苄基溴、二溴甲烷、三溴甲基苯碸、四溴化碳、磷酸三(2,3-二溴丙基)酯、三氯乙醯胺、碘戊烷、碘異丁烷、1,1,1-三氯-2,2-雙(對氯苯基)乙烷、氯化三口井化合物、二烯丙基錪化合物等,尤佳為三溴甲基苯碸。
(H)添加劑
本發明中所謂「(H)添加劑」係指為了對感光性樹脂組合物賦予所期望之功能而調配之成分,包含上述(A)成分、(B)成分、(C)成分、(D)成分、(E)成分、(F)成分、(G)成分、(I)成分及(J)成分以外者。
就防止基板泛紅之觀點而言,(H)添加劑含有羧基苯并***類。相對於上述(A)成分~(J)成分之總量含有0.01~5質量%之羧基苯并***類。就將感光性樹脂積層體層壓至覆銅積層板等基板,經過時間後進行顯影時防止基板泛紅之觀點而言,該調配量必須為0.01質量%以上,該調配量較佳為0.03質量%以上,更佳為0.05質量%以上。另一方面,就獲得較高之解像性之觀點而言,該調配量必須為5質量%以下,該調配量較佳為3質量%以下,更佳為1質量%以下。
作為羧基苯并***類,例如可列舉:4-羧基-1,2,3-苯并***、5-羧基-1,2,3-苯并***、含有可經取代之胺基甲基之1-[N,N-雙(2-乙基己基)胺基甲基]-5-羧基苯并***、1-[N,N-雙(2-乙基己基)胺基甲基]-4-羧基苯并***、1-[N,N-雙(異丙基)胺基甲基]-5-羧基苯并***、1-[N-氫-N-3-(2-乙基己氧基)-1-丙基胺基甲基]-5-羧基苯并***、1-[N,N-雙(1-辛基)胺基甲基]-5-羧基苯并***、1-[N,N-雙(2-羥基丙基)胺基甲基]-5-羧基苯并***、1-[N,N-雙(1-丁基)胺基甲基]-5-羧基苯并***等。該等之中,就防止泛紅之性能之觀點而言,較佳為1-[N,N-雙(1-丁基)胺基甲基]-5-羧基苯并***。羧基之取代位置有時於合成過程中混合存在5位與6位,其任一者均較佳。例如可使用5位取代體與6位取代體之0.5:1.5~1.5:0.5(質量比)之混合物,尤其1:1(質量比)混合物。有時亦僅記為「1-N-二丁基胺基甲基羧基苯并***」而表示5位取代體與6位取代體之混合物。作為羧基苯并***,例如亦可使用日本專利特開2008-175957號公報中記載之化合物。另外,亦可使用2-巰基苯并咪唑、1H-四唑、1-甲基-5-巰基-1H-四唑、2-胺基-5-巰基-1,3,4-噻二唑、3-胺基-5-巰基-1,2,4-***、3-巰基-1,2,4-***、3-巰基***、4,5-二苯基-1,3-二唑-2-基、5-胺基-1H-四唑等。
作為可於上述感光性樹脂組合物中作為(H)成分而添加之其他添加劑,可列舉:著色劑、自由基聚合抑制劑、羧基苯并***類以外之苯并***類、雙酚A之環氧化合物類、塑化劑等。
作為著色劑,可列舉:品紅、酞菁綠、金黃胺鹼、副品紅(para magenta)、結晶紫、甲基橙、尼羅藍2B、維多利亞藍、孔雀綠(例如保土谷化學(股)製造 Aizen(註冊商標) MALACHITE GREEN)、鹼性藍20、鑽石綠(例如保土谷化學(股)製造 Aizen(註冊商標) DIAMOND GREEN GH)、1,4-雙(4-甲基苯基胺基)-9,10-蒽醌(例如Orient Chemical Industries(股)製造,OPLAS GREEN533)、1,4-雙(丁基胺基)蒽醌(例如Orient Chemical Industries(股)製造,OIL BLUE 2N)、1,4-雙(異丙基胺基)-9,10-蒽醌(例如Orient Chemical Industries(股)製造,OIL BLUE 630)等。
再者,著色劑相對於上述(A)成分~(J)成分之總量之比例較佳為0.01~10質量%,更佳為0.1~5質量%,進而較佳為0.5~2質量%,尤佳為0.5~1質量%。
作為著色劑,例如可含有隱色染料或螢烷染料。藉由含有該等,感光性樹脂組合物層之曝光部分顯色,故而就視認性之方面而言較佳,又,於檢查機等讀取用於曝光之對位標記之情形時,若曝光部與未曝光部之對比度較大,則易於識別,故而有利。
作為隱色染料,可列舉:三(4-二甲胺基苯基)甲烷[隱色結晶紫]、雙(4-二甲胺基苯基)苯基甲烷[隱色孔雀綠]等。尤其就對比度良好之觀點而言,作為隱色染料,較佳為使用隱色結晶紫。感光性樹脂組合物中之隱色染料之含量相對於上述(A)成分~(J)成分之總量,較佳為0.1~10質量%。於該含量為0.1質量%以上之情形時,就使曝光部分與未曝光部分之對比度變得良好之觀點而言較佳,該含量更佳為0.2質量%以上,尤佳為0.4質量%以上。另一方面,於該含量為10質量%以下之情形時,就維持保存穩定性之觀點而言較佳,該含量更佳為2質量%以下,尤佳為1質量%以下。
又,於感光性樹脂組合物中組合使用隱色染料與鹵化合物之情形時,就使密接性及對比度最適化之觀點而言較佳。鹵化合物可源自作為(C)成分而於上文敍述之有機鹵化合物,尤佳為三溴甲基苯碸。
作為自由基聚合抑制劑,例如可列舉:對甲氧基苯酚、對苯二酚、鄰苯三酚、萘胺、第三丁基鄰苯二酚、氯化亞銅、2,6-二-第三丁基-對甲酚、2,2'-亞甲基雙(4-甲基-6-第三丁基苯酚)、2,2'-亞甲基雙(4-乙基-6-第三丁基苯酚)、亞硝基苯基羥基胺鋁鹽、二苯基亞硝基胺等。為了不損害感光性樹脂組合物之感度,較佳為亞硝基苯基羥基胺鋁鹽。
作為羧基苯并***類以外之苯并***類,例如可列舉:1,2,3-苯并***、1-氯-1,2,3-苯并***、雙(N-2-乙基己基)胺基亞甲基-1,2,3-苯并***、雙(N-2-乙基己基)胺基亞甲基-1,2,3-甲苯基***、雙(N-2-羥基乙基)胺基亞甲基-1,2,3-苯并***等。
作為雙酚A之環氧化合物類,可列舉:以聚丙二醇修飾雙酚A而使末端環氧化之化合物等。
再者,自由基聚合抑制劑、羧基苯并***類以外之苯并***類、羧基苯并***類及雙酚A之環氧化合物類之總含量相對於上述(A)成分~(J)成分之總量,較佳為0.001~3質量%,更佳為0.01~1質量%。於該含量為0.001質量%以上之情形時,就對感光性樹脂組合物賦予保存穩定性之觀點而言較佳,另一方面,於該含量為3質量%以下之情形時,就維持感光性樹脂組合物之感度且抑制染料之脫色及顯色之觀點而言較佳。
作為塑化劑,例如可列舉:鄰苯二甲酸二乙酯等鄰苯二甲酸酯類、鄰甲苯磺醯胺、對甲苯磺醯胺、檸檬酸三丁酯、檸檬酸三乙酯、乙醯基檸檬酸三乙酯、乙醯基檸檬酸三正丙酯、乙醯基檸檬酸三正丁酯、聚乙二醇、聚丙二醇、聚乙二醇烷基醚、聚丙二醇烷基醚等。又,亦可列舉:ADEKANOL SDX-1569、ADEKANOL SDX-1570、ADEKANOL SDX-1571、ADEKANOL SDX-479(以上旭電化(股)製造)、Newpol BP-23P、Newpol BP-3P、Newpol BP-5P、Newpol BPE-20T、Newpol BPE-60、Newpol BPE-100、Newpol BPE-180(以上三洋化成(股)製造)、Uniol DB-400、Uniol DAB-800、Uniol DA-350F、Uniol DA-400、Uniol DA-700(以上日本油脂(股)製造)、BA-P4U Glycol、BA-P8 Glycol(以上日本乳化劑(股)製造)等具有雙酚骨架之化合物。
相對於上述(A)成分~(J)成分之總量之塑化劑之含量較佳為1~50質量%,更佳為1~30質量%。於該含量為1質量%以上之情形時,就抑制顯影時間之延遲且對硬化膜賦予柔軟性之觀點而言較佳0,另一方面,於該含量為50質量%以下之情形時,就抑制硬化不足及冷流之觀點而言較佳。
<感光性樹脂積層體>
本實施形態之感光性樹脂積層體具備支持膜、及於支持膜上設置之含有感光性樹脂組合物之感光性樹脂組合物層。
另一實施形態係提供一種於支持膜上積層有包含如上述之感光性樹脂組合物之感光性樹脂組合物層之感光性樹脂積層體。視需要,感光性樹脂積層體亦可於感光性樹脂組合物層之支持膜側之相反側之表面具有保護層。
作為支持膜,較佳為使自曝光光源放射之光透過之透明者。作為此種支持膜,例如可列舉:聚對苯二甲酸乙二酯膜、聚乙烯醇膜、聚氯乙烯膜、氯乙烯共聚物膜、聚偏二氯乙烯膜、偏二氯乙烯共聚合膜、聚甲基丙烯酸甲酯共聚物膜、聚苯乙烯膜、聚丙烯腈膜、苯乙烯共聚物膜、聚醯胺膜、纖維素衍生物膜等。該等膜亦可視需要而使用經延伸者,較佳為霧度5以下者。膜之厚度越薄,對提高圖像形成性及經濟性越有利,但為了維持感光性樹脂積層體之強度,較佳為使用10~30 μm者。
感光性樹脂積層體中所使用之保護層之重要特性為:關於與感光性樹脂組合物層之密接力,保護層充分小於支持膜而可容易地剝離。例如可較佳地使用聚乙烯膜或聚丙烯膜作為保護層。又,亦可使用例如日本專利特開昭59-202457號公報中所示之剝離性優異之膜。保護層之膜厚較佳為10~100 μm,更佳為10~50 μm。
於保護層中使用聚乙烯之情形時,於聚乙烯膜表面存在稱為魚眼之凝膠,有時其會轉印至感光性樹脂組合物層。若魚眼轉印至感光性樹脂組合物層,則有時於層壓時夾帶空氣而形成空隙,從而導致光阻圖案之缺損。就防止魚眼之觀點而言,保護層之材質較佳為延伸聚丙烯。作為具體例,可列舉王子製紙(股)製造之ALPHAN E-200A。
感光性樹脂積層體中之感光性樹脂組合物層之厚度根據用途而有所不同,較佳為5 μm~100 μm,更佳為7 μm~60 μm,越薄則解像度越提高,又越厚則膜強度越提高。
<感光性樹脂積層體之製造方法>
對於感光性樹脂積層體之製造方法進行說明。
本實施形態之感光性樹脂積層體之製造方法包括:調合液製造步驟,其製造上述感光性樹脂組合物調合液;及塗佈、乾燥步驟,其係將感光性樹脂組合物調合液塗佈於支持膜上並使之乾燥,形成感光性樹脂組合物層從而製造上述感光性樹脂積層體。
作為依序積層支持膜、感光性樹脂組合物層及視需要之保護層而製作感光性樹脂積層體之方法,可採用已知之方法。例如,將用於感光性樹脂組合物層之感光性樹脂組合物與供使該等溶解之溶劑混合而製成均勻之溶液(感光性樹脂組合物調合液)。
作為較佳之溶劑,可列舉:酮類,例如丙酮、甲基乙基酮(MEK)等;及醇類,例如甲醇、乙醇、異丙醇等。較佳為以感光性樹脂組合物調合液之黏度於25℃下成為500 mPa・秒~4000 mPa・秒之方式於感光性樹脂組合物中添加溶劑。
然後,首先使用棒式塗佈機或輥式塗佈機將該感光性樹脂組合物調合液塗佈於支持膜上,繼而使之乾燥而於支持膜上積層包含感光性樹脂組合物之感光性樹脂組合物層。繼而視需要,於感光性樹脂組合物層上層壓保護層,藉此可製作感光性樹脂積層體。
<光阻圖案形成方法>
另一態樣係提供一種光阻圖案形成方法,其包括於基材上層壓上述感光性樹脂積層體,加以曝光並顯影之步驟。以下,對使用本實施形態之感光性樹脂積層體形成光阻圖案之方法之一例進行說明。作為光阻圖案,可列舉:電路基板(印刷配線板)、軟性基板、引線框架基板、COF(覆晶膜)用基板、半導體封裝體用基板、液晶面板用透明電極、液晶面板用TFT(thin-film transistor,薄膜電晶體)配線、有機EL(Electroluminescence,電致發光)顯示器用配線、PDP(電漿顯示面板)用電極等中形成之光阻圖案。
光阻圖案可經以下之各步驟而形成。
本實施形態之光阻圖案形成方法包括:於基材上層壓感光性樹脂積層體之步驟、對感光性樹脂組合物層進行曝光之步驟、及將曝光後之感光性樹脂組合物層進行顯影之步驟。
(1)層壓步驟
一面剝離感光性樹脂組合物層之保護層,一面使用熱輥貼合機使感光性樹脂積層體密接於覆銅積層板、軟性基板等基板上。層壓條件只要於先前公知之條件下適宜設定即可。
(2)曝光步驟
使具有所期望之圖案(例如配線圖案)之遮罩膜密接於感光性樹脂積層體之支持膜上並使用活性光源進行曝光、或藉由直接繪圖而曝光與所期望之圖案對應之繪圖圖案。較佳為藉由繪圖圖案之直接繪圖而進行曝光。作為曝光波長,可適宜使用i射線、h射線、g射線、該等之混合等。本實施形態之感光性樹脂組合物於藉由i射線或h射線,尤其h射線進行曝光時,於可實現高感度及高解像度之方面上有利。又,藉此,本實施形態之感光性樹脂組合物尤其於直接繪圖中有用。曝光條件只要於先前公知之條件下適宜設定即可。
(3)顯影步驟
曝光後,剝離感光性樹脂組合物層上之支持膜,繼而使用鹼性水溶液之顯影液,將未曝光部顯影去除,而於基板上形成光阻圖案。作為鹼性水溶液,可使用Na2
CO3
或K2
CO3
之水溶液。鹼性水溶液係匹配感光性樹脂組合物層之特性而適宜選擇,通常為約0.2~2質量%之濃度且約20~40℃之Na2
CO3
水溶液。
經過上述各步驟可獲得光阻圖案,但根據情形,亦可進而進行約100~300℃之加熱步驟。藉由實施該加熱步驟,可進一步提高耐化學品性。加熱中可使用熱風、紅外線或遠紅外線之方式之加熱爐。
本實施形態之金屬配線之形成方法包括藉由上述方法形成光阻圖案之步驟、使用光阻圖案形成金屬配線(導體圖案)之步驟、及剝離光阻圖案之步驟。
另一態樣係提供一種包括將上述感光性樹脂積層體層壓至基材並進行曝光、顯影、鍍覆之步驟之電路基板之製造方法;及包括將上述感光性樹脂積層體層壓至基材並進行曝光、顯影、蝕刻之步驟之電路基板之製造方法。電路基板可藉由進而對依據如關於光阻圖案形成方法所述之順序形成有光阻圖案之基材進行蝕刻或鍍覆而製造。尤其於電路基板之製造中藉由繪圖圖案之直接繪圖而進行曝光時,由於不需要製作遮罩,故而就生產性之觀點而言有利。蝕刻及鍍覆可分別藉由以下方式實施。
(4)蝕刻步驟或鍍覆步驟
對藉由上述顯影而露出之基材表面(例如覆銅積層板之情形時為銅表面)進行蝕刻或鍍覆,形成導體圖案。蝕刻及鍍覆之方法可分別適宜使用先前公知之方法。
(5)剝離步驟
其後,藉由具有較顯影液更強之鹼性之水溶液將光阻圖案自基板剝離。關於剝離用之鹼性水溶液,亦無特別限制,通常使用濃度約2~5質量%且約40~70℃之溫度之NaOH或KOH之水溶液。亦可於剝離液中添加少量之水溶性溶劑。
尤其於本實施形態中,藉由使用二苯基吡唑啉衍生物作為(G)光敏劑,而具有尤其優異之鍍覆後剝離性。
可依據如上述之順序而製造電路基板。
又,本實施形態之半導體封裝體之製造方法提供一種半導體封裝體之製造方法,其包括如下步驟:藉由上述光阻圖案形成方法而於作為基材之半導體封裝體用基板上形成光阻圖案之步驟、及對該形成有光阻圖案之半導體封裝體用基板進行蝕刻或鍍覆之步驟。半導體封裝體用基板及半導體封裝體之構成可適宜採用先前公知之任意者。又,光阻圖案之形成及蝕刻或鍍覆可分別依據如上述之順序而實施。
本實施形態之感光性樹脂積層體係適於製造電路基板(印刷配線板)、軟性基板、引線框架基板、COF(覆晶膜)用基板、半導體封裝體用基板、液晶面板用透明電極、液晶面板用TFT配線、有機EL顯示器用配線、PDP(電漿顯示面板)用電極等之導體圖案之感光性樹脂積層體。
如上所述,根據本實施形態,可提供一種可兼具對顯影液之溶解性即顯影性、及對基板尤其銅基板之密接性之感光性樹脂積層體及其製造方法。
再者,關於上述各種參數,若無特別說明,則依據下述實施例中之測定方法而測定。
[實施例]
說明高分子及單體之物性值之測定、以及實施例及比較例之評價用樣品之製作方法。繼而,揭示關於所得樣品之評價方法及其評價結果。
(1)物性值之測定或計算
<高分子之重量平均分子量或數量平均分子量之測定>
高分子之重量平均分子量或數量平均分子量係藉由日本分光(股)製造之凝膠滲透層析儀(GPC)(泵:Gulliver,PU-1580型,管柱:昭和電工(股)製造Shodex(註冊商標)(KF-807、KF-806M、KF-806M、KF-802.5)4根串聯,移動床溶劑:四氫呋喃,使用基於聚苯乙烯標準樣品(昭和電工(股)製造Shodex STANDARD SM-105)之校正曲線)作為聚苯乙烯換算而求得。
進而,高分子之分散度係作為重量平均分子量相對於數量平均分子量之比(重量平均分子量/數量平均分子量)而算出。
<酸當量>
於本說明書中,所謂酸當量係指於分子中具有1當量之羧基之聚合物之質量(克)。使用平沼產業(股)製造之平沼自動滴定裝置(COM-555),使用0.1 mol/L之氫氧化鈉水溶液,藉由電位差滴定法而測定酸當量。
(2)評價用樣品之製作方法
藉由以下方式製作實施例1~19及比較例1~4之評價用樣品。
<感光性樹脂積層體之製作>
將下述表1或2所示之成分(其中,各成分之數字表示作為固形物成分之調配量(質量份))及溶劑充分攪拌、混合,獲得感光性樹脂組合物調合液。表1及2中以記號表示之成分之名稱示於下述表3~表6。
作為支持膜,使用厚度16 μm之聚對苯二甲酸乙二酯膜(Toray(股)製造,FB-40)。使用棒式塗佈機,於支持膜之表面均勻塗佈該調合液,於95℃之乾燥機中乾燥3分鐘,形成感光性樹脂組合物層。感光性樹脂組合物層之乾燥厚度為25 μm。
繼而,於感光性樹脂組合物層之未積層聚對苯二甲酸乙二酯膜之側之表面上貼合作為保護層之19 μm厚之聚乙烯膜(Tamapoly股份有限公司製造,GF-818)。藉此,獲得依序積層有支持膜與感光性樹脂組合物層與保護層之感光性樹脂積層體。
<基板整面>
對積層有35 μm壓延銅箔之0.4 mm厚之覆銅積層板,以噴壓0.2 MPa噴霧研削材(日本Carlit(股)製造,Sakurundum R(註冊商標#220)),對表面進行研磨。
<層壓>
一面剝離感光性樹脂積層體之聚乙烯膜,一面藉由熱輥貼合機(旭化成(股)公司製造,AL-700)於輥溫度105℃下層壓至預熱至60℃之覆銅積層板。氣壓為0.35 MPa,層壓速度為1.5 m/分鐘。
<曝光>
使用組合物1~7製作之感光性樹脂組合物係藉由直接繪圖曝光機(Via Mechanics股份有限公司製造,DE-1DH,光源:GaN藍紫二極體,主波長405±5 nm),以照度85 mW/cm2
、60 mJ/cm2
進行曝光。
使用組合物8~15製作之感光性樹脂組合物係使用平行光曝光機(ORC MANUFACTURING股份有限公司製造,HMW-801),以曝光量160 mJ/cm2
進行曝光。
<顯影>
將曝光之評價基板之聚對苯二甲酸乙二酯膜剝離。其後,使用鹼性顯影機(FUJIKIKO製造,乾膜用顯影機)噴霧30℃之1質量% Na2
CO3
水溶液特定時間,將感光性樹脂組合物層之未曝光部分溶解去除。此時,以最小顯影時間之2倍時間進行顯影,製作硬化光阻部。再者,所謂最小顯影時間係指未曝光部分之感光性樹脂組合物層完全溶解所需之最少時間。
(3)樣品之評價方法
<鐵原子、鈣原子、鋁原子、鈉原子之含量之測定>
感光性樹脂組合物層之鐵含量之測定係藉由JIS K1200-6中記載之感應耦合電漿(ICP)發光分析法而進行。測定條件如下所示。
(1)裝置
感應耦合電漿質量分析計(ICP-MS):ICPMS-2030(島津製作所(股)製造)
(2)前處理
對所得感光性樹脂組合物層,自聚對苯二甲酸乙二酯膜側藉由直接繪圖曝光機(Via Mechanics股份有限公司製造,DE-1DH,光源:GaN藍紫二極體,主波長405±5 nm),以照度85 mW/cm2
、60 mJ/cm2
進行曝光。
繼而,剝離聚乙烯膜及聚對苯二甲酸乙二酯膜,稱取曝光之感光性樹脂組合物層1.000 g,使用電爐,使該感光性樹脂灰化。
其次,於自電爐取出之鉑坩堝中添加硝酸水溶液(和光純藥工業(股)製造;將特級硝酸及超純水以1:1混合之水溶液)5 ml,溶解上述灰化物。
繼而,添加超純水15 ml,獲得灰化物之水溶液。對藉由上述操作獲得之水溶液,利用JIS K1200-6中記載之感應耦合電漿(ICP)發光分析法進行測定,求得感光性樹脂組合物層中之鐵原子、鈣原子、鋁原子、鈉原子之含量(ppmw)。
<顯影性之評價方法>
將感光性樹脂組合物層壓至基板後,測定經過15分鐘後之最少顯影時間,依據以下基準進行評價,將基準D作為不合格。
A(顯著良好):最少顯影時間未達17秒
B(良好):最少顯影時間為17秒以上且未達19秒
C(容許):最少顯影時間為19秒以上且未達21秒
D(不良):最少顯影時間為21秒以上
<密接性之評價方法>
將感光性樹脂組合物層壓至基板後,經過15分鐘後,使用上述顯影條件進行顯影,以光學顯微鏡觀察圖案,依據以下基準進行評價,將基準D作為不合格。
A(顯著良好):獨立圖案之最少密接線寬未達9 μm
B(良好):獨立圖案之最少密接線寬為9 μm以上且未達10 μm
C(容許):獨立圖案之最少密接線寬為10 μm以上且未達11 μm
D(不良):獨立圖案之最少密接線寬為11 μm以上
(4)評價結果
將實施例1~13及比較例1~2之評價結果示於下述表7~9。
自表7之結果,讀取以下內容。
首先,鐵原子之含量小於0.01 ppm之比較例1中,與基板之密接性較差,另一方面,鐵原子之含量大於10 ppm之比較例2中,顯影性較差。
相對於此,鐵原子之含量為0.01 ppm以上且10 ppm以下之實施例1~13中,顯影性及與基板之密接性之兩者均獲得良好之結果。
其中,鐵原子之含量為0.05 ppm以上且2.0 ppm以下之實施例7、8中,獲得尤其良好之結果。
自表8及表9之結果可知,關於鈣原子或鋁原子亦同樣地,小於0.005 ppm之比較例1中,與基板之密接性較差。另一方面,鈣原子或鋁原子之含量大於5 ppm之比較例2中,顯影性較差。
相對於此,鈣原子或鋁原子之含量為0.005 ppm以上且5 ppm以下之實施例1~13中,顯影性及與基板之密接性之兩者均獲得良好之結果。
其中,鈣原子或鋁原子之含量為0.03 ppm以上且1.0 ppm以下之實施例7、8中,獲得尤其良好之結果。
<密集配線解像性之評價方法>
關於實施例14~19及比較例3~4之感光性樹脂組合物,對密集配線解像性進行評價。
將感光性樹脂組合物層壓至基板後,經過15分鐘後,使用上述顯影條件進行顯影,以光學顯微鏡觀察圖案,將判定角度分為配線間殘渣及鄰接配線之接觸,依據以下基準進行評價,將基準D作為不合格。
A(顯著良好):1:1之L/S圖案之最小解像度未達13 μm
B(良好):1:1之L/S圖案之最小解像度為14 μm以上且未達15 μm
C(容許):1:1之L/S圖案之最小解像度為16 μm以上且未達17 μm
D(不良):1:1之L/S圖案之最小解像度為18 μm以上
(4)評價結果
實施例14~19及比較例3~4之評價結果示於下述表10~11。
自表10及表11之結果可知,關於鈉原子,小於1 ppm之比較例3中,配線間殘渣較差。另一方面,鈉原子之含量大於50 ppm之比較例4中,鄰接配線之接觸較差。
相對於此,鈉原子之含量為1 ppm以上且50 ppm以下之實施例14~19中,配線間殘渣及隣接配線之接觸之兩者均獲得良好之結果。
以上,說明了本發明之實施形態,但本發明並不限定於此,可於不脫離發明之主旨之範圍內進行適宜變更。
[產業上之可利用性]
本發明之感光性樹脂組合物積層體具有高感度及高解像度。故而,本發明之感光性樹脂組合物積層體可較佳地利用於電路基板(印刷配線板)、軟性基板、引線框架基板、COF(覆晶膜)用基板、半導體封裝體用基板、液晶面板用透明電極、液晶面板用TFT配線、有機EL顯示器用配線、PDP(電漿顯示面板)用電極等之導體圖案之製造中。
Claims (41)
- 一種感光性樹脂積層體,其特徵在於:其係具備使自曝光光源放射之光透過之透明支持膜、及於上述支持膜上形成之含有感光性樹脂組合物之感光性樹脂組合物層者,上述感光性樹脂組合物層上之上述支持膜係於曝光後可自上述感光性樹脂組合物層剝離者,且上述感光性樹脂組合物含有:(A)鹼可溶性高分子;(B)具有乙烯性不飽和雙鍵之化合物;(C)光聚合起始劑;及(D)鐵原子;上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.01ppm以上且10ppm以下,且上述(A)鹼可溶性高分子包含(甲基)丙烯酸共聚物,該(甲基)丙烯酸共聚物包含含有羧酸基(-COOH)之單體之聚合成分。
- 如請求項1之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.1ppm以上。
- 如請求項1之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.2ppm以上。
- 如請求項1之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.3ppm以上。
- 如請求項1之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.4ppm以上。
- 如請求項1之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.5ppm以上。
- 如請求項1之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.6ppm以上。
- 如請求項1之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.7ppm以上。
- 如請求項1之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.8ppm以上。
- 如請求項1之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.9ppm以上。
- 如請求項1之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為1.0ppm以上。
- 如請求項1之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為2.0ppm以上。
- 如請求項1之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為3.0ppm以上。
- 如請求項1至13中任一項之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為5.0ppm以下。
- 如請求項1至11中任一項之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為2.0ppm以下。
- 如請求項1至11中任一項之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為1.5ppm以下。
- 如請求項1至10中任一項之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為1.0ppm以下。
- 如請求項1至9中任一項之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.9ppm以下。
- 如請求項1至8中任一項之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.8ppm以下。
- 如請求項1至7中任一項之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.7ppm以下。
- 如請求項1至6中任一項之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.6ppm以下。
- 如請求項1至5中任一項之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.5ppm以下。
- 如請求項1至4中任一項之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.4ppm以下。
- 如請求項1至3中任一項之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.3ppm以下。
- 如請求項1或2之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.2ppm以下。
- 如請求項1之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.1ppm以下。
- 一種感光性樹脂積層體,其特徵在於:其係具備使自曝光光源放射之光透過之透明支持膜、及於上述支持膜上形成之含有感光性樹脂組合物之感光性樹脂組合物層者,上述感光性樹脂組合物層上之上述支持膜係於曝光後可自上述感光性樹脂組合物層剝離者,且上述感光性樹脂組合物含有:(A)鹼可溶性高分子;(B)具有乙烯性不飽和雙鍵之化合物;(C)光聚合起始劑;及(E)鈣原子;上述感光性樹脂組合物層中之鈣原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.005ppm以上且5ppm以下,且 上述(A)鹼可溶性高分子包含(甲基)丙烯酸共聚物,該(甲基)丙烯酸共聚物包含含有羧酸基(-COOH)之單體之聚合成分。
- 如請求項27之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鈣原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.02ppm以上且2.5ppm以下。
- 如請求項27之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鈣原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.03ppm以上且1ppm以下。
- 一種感光性樹脂積層體,其係具備使自曝光光源放射之光透過之透明支持膜、及於上述支持膜上形成之含有感光性樹脂組合物之感光性樹脂組合物層者,上述感光性樹脂組合物層上之上述支持膜係於曝光後可自上述感光性樹脂組合物層剝離者,且上述感光性樹脂組合物含有:(A)鹼可溶性高分子;(B)具有乙烯性不飽和雙鍵之化合物;(C)光聚合起始劑;及(F)鋁原子;上述感光性樹脂組合物層中之鋁原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.005ppm以上且5ppm以下,且 上述(A)鹼可溶性高分子包含(甲基)丙烯酸共聚物,該(甲基)丙烯酸共聚物包含含有羧酸基(-COOH)之單體之聚合成分。
- 如請求項30之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鋁原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.02ppm以上且2.5ppm以下。
- 如請求項30之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鋁原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.03ppm以上且1ppm以下。
- 一種感光性樹脂積層體,其係具備使自曝光光源放射之光透過之透明支持膜、及於上述支持膜上形成之含有感光性樹脂組合物之感光性樹脂組合物層者,上述感光性樹脂組合物層上之上述支持膜係於曝光後可自上述感光性樹脂組合物層剝離者,且上述感光性樹脂組合物含有:(A)鹼可溶性高分子;(B)具有乙烯性不飽和雙鍵之化合物;(C)光聚合起始劑;(D)鐵原子、鈣原子及鋁原子中之至少一種;上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子、鈣原子及鋁原子之含量之合計以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.02ppm以上且20ppm以下, 且上述(A)鹼可溶性高分子包含(甲基)丙烯酸共聚物,該(甲基)丙烯酸共聚物包含含有羧酸基(-COOH)之單體之聚合成分。
- 如請求項33之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子、鈣原子及鋁原子之含量之合計以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.07ppm以上且10ppm以下。
- 如請求項33之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鐵原子、鈣原子及鋁原子之含量之合計以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.11ppm以上且5ppm以下。
- 一種感光性樹脂積層體,其係具備使自曝光光源放射之光透過之透明支持膜、及於上述支持膜上形成之含有感光性樹脂組合物之感光性樹脂組合物層者,上述感光性樹脂組合物層上之上述支持膜係於曝光後可自上述感光性樹脂組合物層剝離者,且上述感光性樹脂組合物含有:(A)鹼可溶性高分子;(B)具有乙烯性不飽和雙鍵之化合物;(C)光聚合起始劑;及(I)鈉原子;上述感光性樹脂組合物層中之鈉原子之含量以上述感光性樹脂組合 物層為基準計為1ppm以上且50ppm以下,且上述(A)鹼可溶性高分子包含(甲基)丙烯酸共聚物,該(甲基)丙烯酸共聚物包含含有羧酸基(-COOH)之單體之聚合成分。
- 如請求項36之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鈉原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為1.5ppm以上且25ppm以下。
- 如請求項36之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之鈉原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為2ppm以上且10ppm以下。
- 一種感光性樹脂積層體,其係具備使自曝光光源放射之光透過之透明支持膜、及於上述支持膜上形成之含有感光性樹脂組合物之感光性樹脂組合物層者,上述感光性樹脂組合物層上之上述支持膜係於曝光後可自上述感光性樹脂組合物層剝離者,且上述感光性樹脂組合物含有:(A)鹼可溶性高分子;(B)具有乙烯性不飽和雙鍵之化合物;(C)光聚合起始劑;及(J)金屬原子;上述感光性樹脂組合物層中之金屬原子之含量以上述感光性樹脂組 合物層為基準計為0.005ppm以上且70ppm以下,且上述(A)鹼可溶性高分子包含(甲基)丙烯酸共聚物,該(甲基)丙烯酸共聚物包含含有羧酸基(-COOH)之單體之聚合成分。
- 如請求項39之感光性樹脂積層體,其中上述感光性樹脂組合物層中之金屬原子之含量以上述感光性樹脂組合物層為基準計為0.01ppm以上且5ppm以下。
- 如請求項39或40之感光性樹脂積層體,其含有鋁、鈣、鐵、鉀、鎂及鋅之至少一種作為上述金屬原子。
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Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW201602193A (zh) * | 2014-06-27 | 2016-01-16 | Fujifilm Corp | 熱鹼產生劑、熱硬化性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜的製造方法以及半導體裝置 |
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---|---|---|---|---|
KR100567641B1 (ko) * | 1996-06-06 | 2006-07-19 | 에이제토 엘렉토로닉 마티리알즈 가부시키가이샤 | 아미노방향족발색단의금속이온함량을감소시키는방법및이를금속함량이낮은포토레지스트용저부반사방지피복물의합성에사용하는방법 |
JPH10123707A (ja) * | 1996-10-17 | 1998-05-15 | Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The | 感光性樹脂組成物およびその用途 |
JP3766288B2 (ja) * | 2000-03-31 | 2006-04-12 | 株式会社東芝 | 複合部材の製造方法及び電子パッケージ |
US20020127494A1 (en) * | 2001-03-08 | 2002-09-12 | Sturni Lance C. | Process for preparing a multi-layer circuit assembly |
JP4080364B2 (ja) * | 2002-03-29 | 2008-04-23 | 大日本印刷株式会社 | ラジカル発生剤及び感光性樹脂組成物 |
JP2004045490A (ja) * | 2002-07-09 | 2004-02-12 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性樹脂転写材料を用いた金属酸化物構造体の製造方法 |
JP4259855B2 (ja) * | 2002-11-26 | 2009-04-30 | 旭化成エレクトロニクス株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
JP2004306018A (ja) * | 2003-03-26 | 2004-11-04 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 金属上への感光性樹脂膜の形成方法並びに半導体装置及び表示素子 |
JP4422562B2 (ja) * | 2004-06-15 | 2010-02-24 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法 |
JP2006039231A (ja) * | 2004-07-27 | 2006-02-09 | Matsushita Electric Works Ltd | 光電気配線混載基板の製造方法 |
JP2006243564A (ja) * | 2005-03-04 | 2006-09-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物及び感光性フィルム、並びに、永久パターン及びその形成方法 |
WO2008126526A1 (ja) * | 2007-04-04 | 2008-10-23 | Asahi Kasei E-Materials Corporation | 感光性樹脂組成物および積層体 |
JP2009072964A (ja) * | 2007-09-19 | 2009-04-09 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 印刷用積層体の製造方法 |
JP5486594B2 (ja) * | 2009-05-20 | 2014-05-07 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
TWI491981B (zh) * | 2009-11-04 | 2015-07-11 | Sumitomo Chemical Co | Coloring the photosensitive resin composition |
JP2011213782A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Fujifilm Corp | ポリマー溶液の製造方法、ポリマーの精製方法 |
CN103339568A (zh) | 2011-01-25 | 2013-10-02 | 日立化成株式会社 | 感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀图案的制造方法以及印刷布线板的制造方法 |
JP2013057902A (ja) * | 2011-09-09 | 2013-03-28 | Asahi Kasei E-Materials Corp | 感光性樹脂組成物及び感光性樹脂積層体 |
CN104412161A (zh) * | 2012-06-28 | 2015-03-11 | 富士胶片株式会社 | 感光性树脂组合物、硬化物及其制造方法、树脂图案制造方法、硬化膜、液晶显示装置、有机el显示装置以及触摸屏显示装置 |
WO2014080908A1 (ja) * | 2012-11-26 | 2014-05-30 | 東レ株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物 |
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KR20150108744A (ko) * | 2014-03-18 | 2015-09-30 | 다이요 잉키 세이조 가부시키가이샤 | 경화성 수지 조성물, 드라이 필름, 경화물 및 프린트 배선판 |
JP5686217B1 (ja) * | 2014-04-30 | 2015-03-18 | 住友ベークライト株式会社 | 感光性樹脂材料および樹脂膜 |
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WO2015174468A1 (ja) | 2014-05-13 | 2015-11-19 | 日立化成株式会社 | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 |
JP6318260B2 (ja) * | 2014-09-24 | 2018-04-25 | 旭化成株式会社 | 感光性樹脂積層体、樹脂パターンの製造方法、硬化膜の製造方法及び表示装置の製造方法 |
JP2016110691A (ja) * | 2014-12-01 | 2016-06-20 | 大日本印刷株式会社 | 導電性基板の製造方法、及び導電性基板 |
CN106483760B (zh) * | 2015-09-02 | 2019-11-12 | 东京应化工业株式会社 | 感光性组合物、其制造方法、膜的形成方法、粘度增加抑制方法、光聚合引发剂及其制造方法 |
JP2017097060A (ja) * | 2015-11-19 | 2017-06-01 | 住友ベークライト株式会社 | 感光性樹脂組成物及び感光性樹脂パターンの製造方法 |
JP6858591B2 (ja) * | 2016-03-01 | 2021-04-14 | 株式会社Dnpファインケミカル | カラーフィルタ用着色組成物、カラーフィルタ及び表示装置 |
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Patent Citations (1)
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---|---|---|---|---|
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Also Published As
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Date | Code | Title | Description |
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GD4A | Issue of patent certificate for granted invention patent |