JP5486594B2 - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
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Description
まずドライフィルムレジストからポリエチレンフィルム等の保護層を剥離する。次いで、ラミネーターを用いて銅張り積層板等の基板上に、該基板、感光性樹脂層、支持体の順序になるよう、感光性樹脂層及び支持体を積層する。次いで、配線パターンを有するフォトマスクを介して、該感光性樹脂層を露光することによって、露光部分を重合硬化させる。次いでポリエチレンテレフタレート等からなる支持体を剥離する。次いで、弱アルカリ性を有する水溶液等の現像液により感光性樹脂層の未露光部分を溶解又は分散除去して、基板上にレジストパターンを形成させる。次いで、形成されたレジストパターンを保護マスクとして公知のエッチング処理又はパターンめっき処理を行う。最後に、該レジストパターンを基板から剥離して導体パターンを有する基板、すなわちプリント配線板を製造する。
しかしながら、従来のドライフィルムレジストでは、上記の電極形成において基材が、銅等の一般的な金属と異なり平滑なITO膜、SnO2膜等であるために密着性が悪い。さらに、エッチング時には強酸性に晒されるため、基材からレジストが剥がれ、サイドエッチングが進行し、高い精度のエッチング加工ができないという問題がある。これを克服するためにシランカップリング剤のような密着助剤が導入されている。
また、以下の特許文献2には、1分子内に2個以上のメルカプト基を有する多官能チオール化合物0.001〜5質量部を含む感光性樹脂組成物が記載されているが、その用途として、銅基材に対する密着助剤としての効果が開示してあるだけで、ITO膜との密着性や保存安定性向上効果については何ら開示されていない。
すなわち、本本発明は以下の通りのものである。
[3]前記(E)一般式(I)で表されるチオール化合物が、該式中、R1が芳香族性を有する複素環化合物である、前記[2]に記載の感光性樹脂組成物。
[11]前記[8]に記載の感光性樹脂積層体を鉄系合金上にラミネートするラミネート工程、該積層体に露光を行う露光工程、及び該露光された積層体に現像を行う現像工程を含むことを特徴とするレジストパターン形成方法。
[12]
前記[11]に記載のパターン形成方法で得られたレジストパターンに従って前記鉄系合金をエッチングすることを特徴とする鉄系合金構造体の製造方法。
<(A)アルカリ可溶性樹脂>
アルカリ可溶性樹脂とは、カルボキシル基を含有したビニル系樹脂のことであり、例えば、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリルアミド等の共重合体である。
(A)アルカリ可溶性樹脂は、カルボキシル基を含有し、酸当量が100〜600であることが好ましい。酸当量とは、その中に1当量のカルボキシル基を有するアルカリ可溶性樹脂の質量を言う。
酸当量は、より好ましくは250以上450以下である。酸当量は、現像耐性が向上し、解像度及び密着性が向上する点から、100以上が好ましく、現像性及び剥離性が向上する点から600以下が好ましい。酸当量の測定は、平沼産業(株)製平沼自動滴定装置(COM−555)を使用し、0.1mol/Lの水酸化ナトリウムを用いて電位差滴定法により行われる。
アルカリ可溶性樹脂は、下記の2種類の単量体の中より、各々一種又はそれ以上の単量体を共重合させることにより得られる。
第二の単量体は、非酸性で、分子中に重合性不飽和基を少なくとも一個有する単量体である。例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、iso−プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、iso−ブチル(メタ)アクリレート、tert−ブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、ビニルアルコールのエステル類、例えば、酢酸ビニル、(メタ)アクリロニトリル、スチレン、及びスチレン誘導体が挙げられる。中でも、メチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、スチレン、ベンジル(メタ)アクリレートが好ましい。現像後のレジストフット部の裾浮きの観点からベンジル(メタ)アクリレートが好ましい。
第一の単量体と第二の単量体の好ましい組み合わせとしては以下の様な組み合わせを挙げることができる。すなわち、アクリル酸ブチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸の共重合体、スチレン、メタクリル酸メチル、メタクリル酸の共重合体、スチレン、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸の共重合体、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸の共重合体、メタクリル酸ベンジル、アクリル酸―2−エチルヘキシル、メタクリル酸の共重合体などが挙げられる。
(A)アルカリ可溶性高分子の感光性樹脂組成物の配合量は感光性樹脂組成物の全固形分質量100質量%とした場合の40〜90質量%の範囲であり、好ましくは50〜70質量%である。エッジフューズ性の観点から40質量%以上であり、現像時間の観点から70質量%以下である。
(B)エチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、少なくとも一つの末端エチレン性不飽和基を光重合性モノマーであって、具体的な例としては、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、2−ジ(p−ヒドロキシフェニル)プロパン(メタ)アクリレート、グリセロールトリ(メタ)アクリレートトリメチロールトリ(メタ)アクリレート、ポリオキシプロピルトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ポリオキシエチルトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、トリメチルプロパントリグリシジルエーテルトリ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAエチレングリコール付加ジ(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート等が挙げられる。
また、ウレタン化合物も挙げられ、例えばヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネートがある。これらは、単独で使用しても、2種類以上併用しても構わない。
(C)光重合開始剤としては、一般に知られているものが使用できる。(C)光重合開始剤の含有量は、0.1〜20質量%の範囲であり、好ましい範囲は0.5〜10質量%である。十分な感度を得るという観点から、0.1質量%以上が好ましく、一方、レジスト底面にまで光を充分に透過させ、良好な高解像性を得るという観点から、20質量%以下である。
光重合開始剤としては、2−エチルアントラキノン、オクタエチルアントラキノン、1,2−ベンズアントラキノン、2,3−ベンズアントラキノン、2−フェニルアントラキノン、2,3−ジフェニルアントラキノン、1−クロロアントラキノン、2−クロロアントラキノン、2−メチルアントラキノン、1,4−ナフトキノン、9,10−フェナントラキノン、2−メチル−1,4−ナフトキノン、9,10−フェナントラキノン、2−メチル−1,4−ナフトキノン、2,3−ジメチルアントラキノン、3−クロロ−2−メチルアントラキノンなどのキノン類、芳香族ケトン類、例えば、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン 4,4´−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4´−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、ベンゾイン又はベンゾインエーテル類、ベンゾイン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン、ジアルキルケタール類、ベンジルジメチルケタール、ベンジルジエチルケタール、チオキサントン類、ジエチルチオキサントン、クロルチオキサントン、ジアルキルアミノ安息香酸エステル類、ジメチルアミノ安息香酸エチル、オキシムエステル類、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−O−ベンゾイルオキシム、1−フェニル−1,2−プロパンジオン−2−(O−エトキシカルボニル)オキシム、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル二量体、2−(o−クロロフェニル)−4,5−ビス−(m−メトキシフェニル)イミダゾリル二量体、2−(p−メトキシフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾリル二量体、アクリジン化合物、9−フェニルアクリジン、ピラゾリン類、1−フェニル−3−スチリル−5−フェニル−ピラゾリン、1−(4−tert−ブチル−フェニル)−3−スチリル−5−フェニル−ピラゾリン、1−フェニル−3−(4−tert−ブチル−スチリル)−5−(4−tert−ブチル−フェニル)−ピラゾリンなどが挙げられる。これらの化合物は単独で使用しても、2種類以上併用しても構わない。
(D)エポキシシラン化合物とは、分子内に有機材料と反応結合するエポキシ基、及び無機材料と反応結合する加水分解性のアルコキシ基を同時に有する有機ケイ素化合物であり、中でも密着性の観点から、下記一般式(IV):
本発明に含まれる感光性樹脂組成物は、(E)チオール化合物を0.005〜1.0質量%含有し、これによって保存安定性を向上させる効果が期待できる。本願において、保存安定性とは感光性樹脂積層体を露光した際のコントラストに、経時変化が無いことを意味する。
(E)チオール化合物としては、芳香族性を有しない炭素原子にメルカプト基が結合した化合物、芳香族性を有する基にメルカプト基が結合した化合物を挙げることができる。
芳香族性を有しない炭素原子にメルカプト基が結合した化合物としては、例えば、オクタンチオール、ヘキサンジチオール 、デカンジチオール 、1,4−ブタンジオールビスチオプロピオネート、1,4−ブタンジオールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオプロピオネート、トリメチロールプロパン、トリスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリス(3−メルカプトブチレート)、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート、トリメルカプトプロピオン酸トリス、(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラキス−3−メルカプトブチレートを挙げることができる。
芳香族性を有する基にメルカプト基が結合した化合物としては、下記一般式(I):
上記芳香族性を有する基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、イミダゾイル基、トリアゾイル基、テトラゾイル基、ベンゾイミダゾイル基、ベンゾトリアゾイル基、ベンゾテトラゾイル基、オキサゾイル基、ベンゾオキサゾイル基、チアゾイル基、ベンゾチアゾイル基、チアジアゾイル基、トリアジン基、ピリジル基、ピロリル基、フリル基、チエニル基、キノリル基が挙げられる。
このような上記一般式(I)で表されるチオール化合物としては、例えば、2−クロロチオフェノール、3−クロロチオフェノール、4−クロロチオフェノール、2−アミノチオフェノール、3−アミノチオフェノール、4−アミノチオフェノール、2−ブロモチオフェノール、3-ブロモチオフェノール、4-ブロモチオフェノール、2−フロロチオフェノール、3-フロロチオフェノール、4-フロロチオフェノール、1,2−ジメルカプトベンゼン、1,3−ジメルカプトベンゼン、1,4−ジメルカプトベンゼン、2,3−ジメチルチオフェノール、2,4−ジメチルチオフェノール、2,5−ジメチルチオフェノール、2,6−ジメチルチオフェノール、2,3−ジフルオロチオフェノール、2,4−ジフルオロチオフェノール、2,5−ジフルオロチオフェノール、2,6−ジフルオロチオフェノール、2,3−ジクロロチオフェノール、2,4−ジクロロチオフェノール、2,5−ジクロロチオフェノール、2,6−ジクロロチオフェノール、3,4−ジメトキシチオフェノール、3−クロロ−4−フルオロチオフェノール、4−イソプロピルチオフェノール、3,5−(トリフルオロメチル)ベンゼンチオール、2−メルカプト安息香酸、2−アミノ−4−クロロチオフェノール、4−アセトアミドチオフェノール、2−クロロ−4−フルオロチオフェノール、4−クロロ−2,5−ジメチルチオフェノール、1,3,5−トリメルカプトベンゼン、5−ブロモ−1,3―ジメルカプトベンゼン2,3,5,6−テトラフルオロチオフェノール、2−メルカプトピリジン、3−メルカプトピリジン、4−メルカプトピリジン、2−メルカプトピリジン−N−オキシド、5−メトキシ−2−ベンズイミダゾールチオール、5−アミノ−2−メルカプトベンズイミダゾール、2−メルカプト−1−メチルイミダゾール、2−メルカプト−5−メチルベンズイミダゾール、2−メルカプト−5−ニトロベンズイミダゾール、4−ヒドロキシ−2−メルカプト−6−(トリフルオロメチル)ピリミジン、4−メルカプトピラゾロ[3,4d]ピリミジン、4,6−ジアミノ−2−メルカプトピリミジン、4,6−ジヒドロキシ−2−メルカプトピリミジン、2−メルカプト−4,6−ジメチルピリミジン、5−フェニル−1,3,4−オキサジアゾール−2−チオール、4,5−ジフェニル−2−メルカプトオキサゾール、2‐ベンゾオキサゾールチオール、3−フェニル−1,2,4−トリアゾール−5−チオール、5−メルカプト−1−メチルテトラゾール、1−フェニル−5−メルカプト一1H−テトラゾール、2−メルカプトイミダゾリンが挙げられる。
(E)上記一般式(I)で表されるチオール化合物の感光性樹脂組成物の配合量は感光性樹脂組成物の全固形分質量100質量%とした場合、0.005〜1.0質量%の範囲であり、好ましくは0.01〜0.1質量%の範囲であり、より好ましくは0.03〜0.08質量%である。保存安定性を維持する観点から0.005質量%以上であり、一方、解像度の観点から1.0質量%以下である。
本願発明に係る感光性樹脂組成物は、ロイコ染料、又はフルオラン染料や着色物質を含有してもよい。これらの染料を含むことにより露光部分が発色するので視認性の点で好ましい。また、これらの染料を含むことは、検査機などが露光のための位置合わせマーカーを読み取る場合、露光部と未露光部のコントラストが大きい方が認識しやすく有利である。
ロイコ染料としては、トリス(4−ジメチルアミノフェニル)メタン[ロイコクリスタルバイオレット]、ビス(4−ジメチルアミノフェニル)フェニルメタン[ロイコマラカイトグリーン]が挙げられる。中でも、コントラストが良好となる観点から、ロイコ染料としては、ロイコクリスタルバイオレットを用いることが好ましい。ロイコ染料を含有する場合の含有量は、感光性樹脂組成物中に0.1〜10質量%含むことが好ましい。当該含有量は、露光部分と未露光部分のコントラストの観点から、0.1質量%以上が好ましく、また、保存安定性を維持という観点から、10質量%以下が好ましい。
着色物質としては、例えば、フクシン、フタロシアニングリーン、オーラミン塩基、パラマジエンタ、クリスタルバイオレット、メチルオレンジ、ナイルブルー2B、ビクトリアブルー、マラカイトグリーン(保土ヶ谷化学(株)製 アイゼン(登録商標) MALACHITE GREEN)、ベイシックブルー20、ダイアモンドグリーン(保土ヶ谷化学(株)製 アイゼン(登録商標) DIAMOND GREEN GH)が挙げられる。着色物質を含有する場合の添加量は、感光性樹脂組成物中に0.001〜1質量%含むことが好ましい。0.001質量%以上の含有量は、取扱い性向上という観点から、そして1質量%以下の含有量は、保存安定性を維持するという観点から、好ましい。
ラジカル重合禁止剤としては、例えば、p−メトキシフェノール、ハイドロキノン、ピロガロール、ナフチルアミン、tert−ブチルカテコール、塩化第一銅、2,6−ジ−tert−ブチル−p−クレゾール、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−tert−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−エチル−6−tert−ブチルフェノール)、ニトロソフェニルヒドロキシアミンアルミニウム塩、ジフェニルニトロソアミンなどが挙げられる。
カルボキシベンゾトリアゾール類としては、例えば、4−カルボキシ−1,2,3−ベンゾトリアゾール、5−カルボキシ−1,2,3−ベンゾトリアゾール、N−(N,N−ジ−2−エチルヘキシル)アミノメチレンカルボキシベンゾトリアゾール、N−(N,N−ジ−2−ヒドロキシエチル)アミノメチレンカルボキシベンゾトリアゾール、N−(N,N−ジ−2−エチルヘキシル)アミノエチレンカルボキシベンゾトリアゾールなどが挙げられる。
可塑剤の含有量としては、感光性樹脂組成物中に、5〜50質量%含むことが好ましく、より好ましくは、5〜30質量%である。当該含有量は、現像時間の遅延を抑え、硬化膜に柔軟性を付与するという観点から、5質量%以上が好ましく、一方、硬化不足やコールドフローを抑えるという観点から、50質量%以下が好ましい。
感光性樹脂組成物を溶解する溶剤としては、メチルエチルケトン(MEK)に代表されるケトン類、メタノール、エタノール又はイソプロパノールに代表されるアルコール類などが挙げられる。当該溶剤は、支持フィルム上に塗布する感光性樹脂組成物の溶液の粘度が25℃で500〜4,000mPa・sとなるように、感光性樹脂組成物に添加することが好ましい。
感光性樹脂積層体は、感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂層と支持フィルムを含む。必要により、感光性樹脂層の支持フィルム側とは反対側の表面に保護層を有してもよい。ここで用いられる支持フィルムとしては、露光光源から放射される光を透過する透明なものが望ましい。このような支持フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、塩化ビニル共重合体フィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、塩化ビニリデン共重合フィルム、ポリメタクリル酸メチル共重合体フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリアクリロニトリルフィルム、スチレン共重合体フィルム、ポリアミドフィルム、セルロース誘導体フィルムなどが挙げられる。これらのフィルムは、必要に応じて延伸されたものも使用可能である。ヘーズは5以下のものが好ましい。フィルムの厚みは、薄い方が画像形成性及び経済性の面で有利であるが、強度を維持するために10〜30μmのものが好ましく用いられる。
乾燥後の感光性樹脂層の厚さは、1〜100μmであることが好ましく、より好ましくは、2〜50μm、さらに好ましくは、3〜15μmである。当該厚さは、テント性の観点から、3μm以上が好ましく、解像性の観点から、15μm以下が好ましい。
次いで必要により、感光性樹脂層上に保護層をラミネートすることにより感光性樹脂積層体を作製することができる。
以下、本発明の感光性樹脂積層体を用いたITO電極の形成方法(パターン形成)について説明する。
尚、本発明の感光性樹脂積層体はITO以外にも鉄系合金のエッチング(ケミカルミリング)に好適に用いることができる。鉄系合金としては、鉄−クロム−ニッケルなどの合金、42アロイ、SUSなどを挙げることができる。鉄系合金はリードフレームや電子機器躯体などに使用されうる。
(基材)
ITO膜とは、インジウムとスズの酸化物の薄膜で透明な電極として使用される。通常、スパッタや蒸着などの方法により、ガラス基材や透明樹脂基材たとえば、ポリエチレンテレフタレート(PET)やポリエチレンテレナフタレート(PEN)、ポリカーボネート(PC)に製膜される。膜厚は、20nm〜300nmが一般的で用途に応じて適宜調節される。またITOに類する透明電極として用いられる化合物としては、IZO、SnO2などが挙げられる。
感光性樹脂組成物の保護層を剥がしながら、ラミネーターで感光性樹脂積層体の感光性樹脂層をガラス基板表面に加熱圧着しラミネートする。この時の加熱温度は一般的に40〜160℃である。また、該加熱圧着を二回以上行うことにより、得られるレジストパターンの基板に対する密着性が向上する。この時、圧着は二連のロールを備えた二段式ラミネーターを使用してもよいし、何回か繰り返してロールに通し圧着してもよい。
所望の配線パターンを有するマスクフィルムを支持体上に密着させ活性光源を用いて露光を施す。用いられる活性光線源としては、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、紫外線蛍光灯、カーボンアーク灯、キセノンランプなどが挙げられる。また、より微細なレジストパターンを得るためには平行光光源を用いるのがより好ましい。ゴミや異物の影響を極力少なくしたい場合には、フォトマスクを支持体上から数十um以上数百um以上浮かせた状態で露光(プロキシミティー露光)する場合もある。
露光後、感光性樹脂層上の支持体を剥離し、続いてアルカリ水溶液の現像液を用いて未露光部を現像除去してレジスト画像を得る。アルカリ水溶液としては、Na2CO3又はK2CO3の水溶液を用いる。アルカリ水溶液は、感光性樹脂層の特性に合わせて適宜選択されるが、約0.2〜2質量%の濃度、約20〜40℃のNa2CO3水溶液が一般的である。該アルカリ水溶液中には、表面活性剤、消泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶剤などを混入させてもよい。基材への影響を考慮してテトラアンモニウムヒドロキシド(TMAH)水溶液などアミン系のアルカリ水溶液を用いることもできる。現像速度に応じて濃度を適宜選択することができる。
上記の各工程を経てレジストパターンを得ることができるが、場合により、さらに約100〜300℃の加熱工程を行うこともできる。この加熱工程を実施することにより、更なる耐薬品性向上が可能となる。加熱には熱風、赤外線、遠赤外線の方式の加熱炉を用いることができる。
現像により露出した基板のITO膜をエッチングする。通常30〜60℃の塩化第二銅―塩酸水溶液又は塩化第二鉄―塩酸水溶液等の酸性エッチング液を用いて、導体パターンを形成する。上記エッチング液以外にも、ITO膜や下地の種類に応じてシュウ酸水溶液を用いることもできる。
その後、現像液よりも強いアルカリ性を有する水溶液を用いてレジストパターンを基板から剥離する。剥離用のアルカリ水溶液についても特に制限はないが、濃度約2〜5質量%、温度約40〜70℃のNaOH、KOHの水溶液が一般に用いられる。剥離液に、少量の水溶性溶媒を加えることもできる。
(実施例1〜10、比較例1〜3)
まず、実施例及び比較例の評価用サンプルの作製方法を説明し、次いで、得られたサンプルについての評価方法及びその評価結果を示す。
実施例及び比較例における評価用サンプルは次の様にして作製した。
<感光性樹脂積層体の作製>
以下の表1に示す組成(但し、各成分の数字は固形分としての配合量(質量部)を示す。)の感光性樹脂組成物及び溶媒をよく攪拌、混合して感光性樹脂組成物調合液とし、支持体としての16μm厚のポリエチレンテレフタラートフィルムの表面にバーコーターを用いて均一に塗布し、95℃の乾燥機中で2.5分間乾燥して感光性樹脂層を形成した。感光性樹脂組成層の厚みは25μmであった。
次いで、感光性樹脂層のポリエチレンテレフタラートフィルムを積層していない表面上に、保護層として21μm厚のポリエチレンフィルムを張り合わせて感光性樹脂積層体を得た。
90nmのITO膜を積層した0.7mm厚のガラス基材(ジオマテック(株)製)を用意した。
感光性樹脂組成積層体のポリエチレンフィルムを剥がしながら、ホットロールラミネーター(大成ラミネーター(株)製、VA−400III )により、ロール温度110℃でラミネートした。エアー圧は0.40MPaとし、ラミネート速度は1.5m/minとした。
クロムガラスフォトマスクを用いて、オーク製作所製高精度露光機EXM−1066−H−01(ghi線、23W、ギャップ露光方式 150um)により150mJ/cm2の露光量で露光した。なお、クロムガラスフォトマスクには、露光部と未露光部の幅が1:1の比率のラインパターンマスクを用いた。
ポリエチレンテレフタラートフィルムを剥離した後、30℃の1質量%Na2CO3水溶液を所定時間スプレーし、感光性樹脂層の未露光部分を溶解除去した。この際、未露光部分の感光性樹脂層が完全に溶解するのに要する最も少ない時間を最小現像時間をとし、その2倍の時間同条件で現像して硬化レジストパターンを作製した。
上述の硬化レジストパターン付着ガラス基板を50℃に加熱した塩化第二鉄―塩酸水溶液(ADEKA(株)製、アデカケルミカITO−400)中に5分間浸漬してエッチング加工を行い、エッチング後のガラス基板を水洗洗浄した。
次いで、50℃に加熱した3質量%のNaOH水溶液中にエッチング後のガラス基板を3分間浸漬して硬化レジストパターンを剥離した。
<密着性評価>
現像後に硬化レジストパターンのライン間幅を測定した。さらに、エッチング後の形成回路パターンのライン間幅を測定した。硬化レジストパターンのライン間幅とエッチング後の形成回路パターンのライン幅を比較し、サイドエッチ幅を算出した。サイドエッチ幅の値により、下記のようにランク分けした:
◎:サイドエッチ幅の値が8.5μm以下である;
○:サイドエッチ幅の値が8.5μmを超え12.0μm以下である;
×:サイドエッチ幅の値が12.0μmを超える。
感光性樹脂積層体からポリエチレンフィルムを剥がし、上記の露光量にて露光後15分経過した後、スペクトロメーター(日本電色工業(株)、NF333)を用いて、ポリエトレンテレフタラート側から露光部と未露光部のコントラストを測定した。また、温度23℃、湿度75%で3日間保存した同じ感光性樹脂積層体のコントラストを同手順で測定し、その差により下記のようにランク分けした:
◎:コントラストの差が0.8以下である;
○:コントラストの差が0.8を超え1.5以下である;
×:コントラストの差が1.5を超える。
実施例1〜10、及び比較例1〜3の評価結果を表1に示す。
Claims (12)
- (A)アルカリ可溶性樹脂40〜90質量%、(B)エチレン性不飽和二重結合を有する化合物5〜50質量%、(C)光重合開始剤1〜20質量%、(D)エポキシシラン化合物0.001〜2.5質量%、(E)チオール化合物0.005〜1.0質量%、及びロイコクリスタルバイオレットを含む感光性樹脂組成物。
- 前記(E)一般式(I)で表されるチオール化合物が、該式中、R1が芳香族性を有する複素環化合物である、請求項2に記載の感光性樹脂組成物。
- 前記(A)アルカリ可溶性高分子対前記(B)エチレン性不飽和二重結合を有する化合物の質量比が1.5〜1.8:1である、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
- 支持フィルム上に請求項1〜7のいずれか1項に記載の感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂層が積層された感光性樹脂積層体。
- 請求項8に記載の感光性樹脂積層体を透明電極上にラミネートするラミネート工程、該積層体に露光を行う露光工程、及び該露光された積層体に現像を行う現像工程を含むことを特徴とするレジストパターン形成方法。
- 請求項9に記載のパターン形成方法で得られたレジストパターンに従って前記透明電極をエッチングすることを特徴とする電極の製造方法。
- 請求項8に記載の感光性樹脂積層体を鉄系合金上にラミネートするラミネート工程、該積層体に露光を行う露光工程、及び該露光された積層体に現像を行う現像工程を含むことを特徴とするレジストパターン形成方法。
- 請求項11に記載のパターン形成方法で得られたレジストパターンに従って前記鉄系合金をエッチングすることを特徴とする鉄系合金構造体の製造方法。
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JP6230256B2 (ja) * | 2013-04-09 | 2017-11-15 | 日本合成化学工業株式会社 | アクリル系粘着剤、粘着シート、両面粘着シート、透明電極用粘着剤、タッチパネル及び画像表示装置、並びに粘着剤層含有積層体の製造方法 |
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TWI495956B (zh) * | 2014-01-28 | 2015-08-11 | Daxin Materials Corp | 感光性樹脂組合物、電子元件及其製造方法 |
JP6361191B2 (ja) * | 2014-03-14 | 2018-07-25 | 日立化成株式会社 | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びタッチパネルの製造方法 |
JP2016056323A (ja) * | 2014-09-12 | 2016-04-21 | 住友化学株式会社 | 硬化性樹脂組成物 |
EP3085661B1 (en) * | 2015-04-21 | 2017-12-27 | JSR Corporation | Method of producing microfluidic device |
JP6520490B2 (ja) * | 2015-07-08 | 2019-05-29 | 信越化学工業株式会社 | パターン形成方法 |
WO2019142786A1 (ja) * | 2018-01-18 | 2019-07-25 | 旭化成株式会社 | 感光性樹脂積層体およびその製造方法 |
CN113845611B (zh) * | 2020-06-28 | 2024-04-19 | 常州强力先端电子材料有限公司 | 支链化改性树脂及包括其的光固化组合物 |
TWI797993B (zh) * | 2022-02-16 | 2023-04-01 | 長春人造樹脂廠股份有限公司 | 光阻膜及其應用 |
CN116093175B (zh) * | 2023-03-21 | 2023-11-03 | 泉州师范学院 | 一种大面积图案化锡金属栅线电极的常温制备方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005281624A (ja) * | 2004-03-30 | 2005-10-13 | Kyocera Chemical Corp | 封止用樹脂組成物および半導体装置 |
JP2007246586A (ja) * | 2006-03-14 | 2007-09-27 | Jsr Corp | 側鎖不飽和重合体、感放射線性樹脂組成物および液晶表示素子用スペーサー |
JP2007334290A (ja) * | 2006-05-17 | 2007-12-27 | Mitsubishi Chemicals Corp | 保護膜用感光性熱硬化性組成物、カラーフィルタ、及び液晶表示装置 |
WO2009038082A1 (ja) * | 2007-09-18 | 2009-03-26 | Asahi Kasei E-Materials Corporation | 感光性樹脂組成物及びその積層体 |
JP2009069465A (ja) * | 2007-09-13 | 2009-04-02 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
Family Cites Families (6)
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---|---|---|---|---|
JP4048791B2 (ja) * | 2002-02-18 | 2008-02-20 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物 |
CN101560323B (zh) * | 2003-04-02 | 2012-07-04 | 日产化学工业株式会社 | 含有环氧化合物和羧酸化合物的光刻用形成下层膜的组合物 |
WO2005101127A1 (ja) * | 2004-04-15 | 2005-10-27 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | レジスト組成物 |
JP4614858B2 (ja) * | 2005-10-05 | 2011-01-19 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | 感光性樹脂組成物およびその積層体 |
JP4986591B2 (ja) * | 2006-12-04 | 2012-07-25 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | 感光性樹脂組成物及びその用途 |
JP4901687B2 (ja) * | 2007-10-17 | 2012-03-21 | 日東電工株式会社 | 感光性樹脂組成物およびそれを用いて得られるカバー絶縁層を有するフレキシブルプリント配線回路基板 |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005281624A (ja) * | 2004-03-30 | 2005-10-13 | Kyocera Chemical Corp | 封止用樹脂組成物および半導体装置 |
JP2007246586A (ja) * | 2006-03-14 | 2007-09-27 | Jsr Corp | 側鎖不飽和重合体、感放射線性樹脂組成物および液晶表示素子用スペーサー |
JP2007334290A (ja) * | 2006-05-17 | 2007-12-27 | Mitsubishi Chemicals Corp | 保護膜用感光性熱硬化性組成物、カラーフィルタ、及び液晶表示装置 |
JP2009069465A (ja) * | 2007-09-13 | 2009-04-02 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
WO2009038082A1 (ja) * | 2007-09-18 | 2009-03-26 | Asahi Kasei E-Materials Corporation | 感光性樹脂組成物及びその積層体 |
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