TWI760311B - 著色感光性組成物、硬化膜、彩色濾光片、遮光膜、固體攝影元件、圖像顯示裝置以及硬化膜的製造方法 - Google Patents

著色感光性組成物、硬化膜、彩色濾光片、遮光膜、固體攝影元件、圖像顯示裝置以及硬化膜的製造方法 Download PDF

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Abstract

本發明提供一種可於低溫環境下硬化的著色感光性組成物、以及使用所述著色感光性組成物的硬化膜、彩色濾光片、遮光膜、固體攝影元件、圖像顯示裝置以及硬化膜的製造方法。所述著色感光性組成物含有著色劑、聚合性化合物、以及光聚合起始劑，關於所述光聚合起始劑，使所述光聚合起始劑以0.001質量%溶解於乙腈中而成的溶液在波長340 nm下的吸光度為0.45以上。

Description

著色感光性組成物、硬化膜、彩色濾光片、遮光膜、固體攝影元件、圖像顯示裝置以及硬化膜的製造方法
本發明是有關於一種著色感光性組成物、硬化膜、彩色濾光片、遮光膜、固體攝影元件、圖像顯示裝置以及硬化膜的製造方法。
彩色濾光片為對固體攝影元件及圖像顯示裝置等而言不可或缺的構成零件。
另外，固體攝影元件及圖像顯示裝置等有時會因可見光的反射而產生雜訊(noise)。因此，藉由在固體攝影元件及圖像顯示裝置等中設置遮光膜以謀求抑制雜訊的產生。
關於形成作為此種彩色濾光片或遮光膜的硬化膜的方法，例如已知有使用包含著色劑、聚合性化合物、以及光聚合起始劑的著色感光性組成物而形成著色感光性組成物層，並對其進行曝光來形成的方法。
例如，專利文獻1中，作為光聚合起始劑而使用豔佳固 (IRGACURE)(註冊商標)-OXE01(巴斯夫(BASF)公司製造)、豔佳固(IRGACURE)(註冊商標)-OXE02(巴斯夫(BASF)公司製造)等。
[現有技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2013-164471號公報
當對所述般的著色感光性組成物層進行曝光而形成硬化膜(包含圖案(以下相同))時，通常大多情況下實施用於促進硬化的加熱處理(例如，曝光後的200℃左右的後烘烤)。
且說，近年來，於更低溫度的環境下對硬化膜進行硬化的要求提高。
本發明者等人對含有專利文獻1中所記載的光聚合起始劑的著色感光性組成物進行了研究，結果於不伴隨高溫環境下的加熱處理的情況下，有時硬化變得不充分。
硬化不充分的硬化膜有耐熱性、耐光性、耐溶劑性、耐濕性、及相對於支撐體的密接性等特性差而成為問題的情況。
因此，本發明的目的在於提供一種可於低溫環境下硬化的著色感光性組成物、以及使用所述著色感光性組成物的硬化膜、彩色濾光片、遮光膜、固體攝影元件、圖像顯示裝置以及硬化膜的製造方法。
本發明者等人進行了努力研究，結果發現藉由使用特定的聚合起始劑，可達成所述目的。
即，本發明提供以下的[1]~[29]。
[1]一種著色感光性組成物，其含有：著色劑、聚合性化合物、以及光聚合起始劑；且關於所述光聚合起始劑，使所述光聚合起始劑以0.001質量%溶解於乙腈中而成的溶液在波長340nm下的吸光度為0.45以上。
[2]如所述[1]所述的著色感光性組成物，其中所述光聚合起始劑為下述式(I)所表示的化合物。
Figure 105127849-A0305-02-0004-1
式(I)中，Ra表示烷基、醯基、芳基或雜環基，Rb表示烷基、芳基或雜環基，多個Rc分別獨立地表示氫原子、烷基、或-ORh所表示的基。Rh表示拉電子基、或烷基醚基。其中，多個Rc中的至少任一者表示-ORh所表示的基。
[3]如所述[2]所述的著色感光性組成物，其中所述Ra為雜環 基。
[4]如所述[2]或[3]所述的著色感光性組成物，其中多個所述Rc中的一個或兩個為所述-ORh所表示的基。
[5]如所述[2]至[4]中任一項所述的著色感光性組成物，其中所述-ORh所表示的基中的Rh表示拉電子基，該拉電子基為至少一個氫原子經氟原子取代的碳數1~20的烷基。
[6]如所述[2]至[4]中任一項所述的著色感光性組成物，其中所述-ORh所表示的基中的Rh表示烷基醚基。
[7]如所述[1]至[6]中任一項所述的著色感光性組成物，其中所述聚合性化合物具有五個以上的乙烯性不飽和雙鍵。
[8]如所述[1]至[7]中任一項所述的著色感光性組成物，其更含有樹脂。
[9]如所述[1]至[8]中任一項所述的著色感光性組成物，其更含有界面活性劑。
[10]如所述[1]至[9]中任一項所述的著色感光性組成物，其更含有紫外線吸收劑。
[11]如所述[1]至[10]中任一項所述的著色感光性組成物，其更含有聚合抑制劑。
[12]如所述[11]所述的著色感光性組成物，其中所述聚合抑制劑為酚系聚合抑制劑。
[13]如所述[11]所述的著色感光性組成物，其中併用兩種以上的酚系聚合抑制劑來作為所述聚合抑制劑。
[14]如所述[11]所述的著色感光性組成物，其中併用酚系聚合抑制劑與受阻胺系聚合抑制劑來作為所述聚合抑制劑。
[15]如所述[1]至[14]中任一項所述的著色感光性組成物，其中所述著色劑包含鈦黑。
[16]如所述[15]所述的著色感光性組成物，其中所述鈦黑為氮化鈦。
[17]如所述[1]至[16]中任一項所述的著色感光性組成物，其中所述著色劑包含氮氧化鈮。
[18]如所述[1]至[17]中任一項所述的著色感光性組成物，其更含有有機溶劑。
[19]如所述[18]所述的著色感光性組成物，其中併用兩種以上的有機溶劑來作為所述有機溶劑。
[20]一種硬化膜，其是使如所述[1]至[19]中任一項所述的著色感光性組成物硬化而成。
[21]一種彩色濾光片，其是使如所述[1]至[19]中任一項所述的著色感光性組成物硬化而成。
[22]一種遮光膜，其是使如所述[1]至[19]中任一項所述的著色感光性組成物硬化而成。
[23]一種固體攝影元件，其具有如所述[20]所述的硬化膜。
[24]一種圖像顯示裝置，其具有如所述[20]所述的硬化膜。
[25]一種硬化膜的製造方法，其至少包括以下步驟：使用如所述[1]至[19]中任一項所述的著色感光性組成物而於支撐體上形 成著色感光性組成物層的步驟；以及對所述著色感光性組成物層進行曝光而形成硬化膜的步驟。
[26]如所述[25]所述的硬化膜的製造方法，其更包括對所述硬化膜實施加熱處理的步驟，且所述加熱處理的溫度為120℃以下。
[27]如所述[25]所述的硬化膜的製造方法，其更包括對所述硬化膜實施加熱處理的步驟，且所述加熱處理的溫度為80℃以下。
[28]如所述[25]所述的硬化膜的製造方法，其更包括對所述硬化膜實施加熱處理的步驟，且所述加熱處理的溫度為50℃以下。
[29]如所述[25]至[28]中任一項所述的硬化膜的製造方法，其中所述支撐體於形成有所述硬化膜的面上具有環氧樹脂層。
根據本發明，可提供一種可於低溫環境下硬化的著色感光性組成物、以及使用所述著色感光性組成物的硬化膜、彩色濾光片、遮光膜、固體攝影元件、圖像顯示裝置以及硬化膜的製造方法。
以下，對本發明的內容詳細地進行說明。
本說明書中的基(原子團)的表述中，未記載經取代及未經取代的表述則是包含不具有取代基的基(原子團)並且亦包含具有取代基的基(原子團)的表述。例如，所謂「烷基」，不僅包含 不具有取代基的烷基(未經取代的烷基)，而且亦包含具有取代基的烷基(經取代的烷基)。
本說明書中所謂「光」，是指光化射線或放射線。另外，所謂「光化射線」或「放射線」，例如是指水銀燈的明線光譜、準分子雷射所代表的遠紫外線、極紫外線((Extreme Ultraviolet，EUV)光)、X射線、電子束等。
本說明書中所謂「曝光」，只要未作特別說明，則不僅是指利用水銀燈、準分子雷射所代表的遠紫外線、X射線、EUV光等進行的曝光，利用電子束、離子束等粒子束進行的描畫亦包含於曝光中。
本說明書中使用「~」表示的數值範圍是指包含「~」的前後所記載的數值作為下限值及上限值的範圍。
本說明書中，所謂「總固體成分」，是指自組成物的所有組成中去除溶劑而得的成分的總質量。
本說明書中，「(甲基)丙烯酸酯」表示丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯的兩者、或任一者，「(甲基)丙烯酸」表示丙烯酸及甲基丙烯酸的兩者、或任一者，「(甲基)烯丙基」表示烯丙基及甲基烯丙基的兩者、或任一者，「(甲基)丙烯醯基」表示丙烯醯基及甲基丙烯醯基的兩者、或任一者。
本說明書中「步驟」這一用語不僅是指獨立的步驟，即便於無法與其他步驟明確地加以區分的情況下，只要達成該步驟的所期望的作用，則亦包含於本用語中。
本說明書中，重量平均分子量(Mw)及數量平均分子量(Mn)作為藉由凝膠滲透層析儀(Gel Permeation Chromatograph，GPC)測定所得的聚苯乙烯換算值來定義。更詳細而言，Mw及Mn可於以下條件下測定。
管柱種類：TSKgel Super AWM-H(東曹(Tosoh)(股)製造，6.0mm內徑(Inner Diameter，ID)×15.0cm)
展開溶媒：10mmol/L溴化鋰N-甲基吡咯啶酮(N-methyl pyrrolidinone，NMP)溶液
管柱溫度：25℃
流量(樣品注入量)：0.6mL/min
裝置名：HLC-8220(東曹(Tosoh)(股)製造)
校準曲線基礎樹脂：聚苯乙烯樹脂
[著色感光性組成物]
本發明的著色感光性組成物(以下，亦簡稱為「著色組成物」)為如下的著色感光性組成物，其含有著色劑、聚合性化合物、以及光聚合起始劑，關於所述光聚合起始劑，使所述光聚合起始劑以0.001質量%溶解於乙腈中而成的溶液在波長340nm下的吸光度為0.45以上。
藉由使用本發明的著色組成物，可於低溫環境下硬化。即，使用本發明的著色組成物而獲得的硬化膜即便於不伴隨高溫的加熱處理的情況下，耐熱性、耐光性、耐溶劑性、耐濕性、及相對於支撐體的密接性等亦變得良好。
其理由推測如下。即，本發明中所使用的光聚合起始劑的吸光度比較高，故起始劑效率變得良好，即便不實施高溫的加熱處理，對於膜整體而言亦可充分地進行硬化。結果，僅藉由曝光而往往變得不充分的支撐體附近的硬化亦得以進行，相對於支撐體的密接性變得良好。另外，由於膜整體的硬化充分地進行，故耐熱性、耐光性、耐溶劑性、及耐濕性等特性亦優異。
所述效果於使用本發明的著色組成物而形成圖案(著色圖案)的情況下亦可同樣地獲得。
而且，於形成線性圖案的情況下，線性圖案的直線性亦優異。認為其原因在於：即便不實施高溫的加熱處理，曝光部分的硬化亦充分地進行，因此線性圖案的線寬變得均勻。
以下，首先對本發明的著色組成物中含有的各成分詳細地進行說明。
[著色劑]
本發明的著色組成物含有著色劑。著色劑可為顏料，亦可為染料。
相對於著色組成物的總固體成分，著色劑的含量較佳為1質量%~80質量%。下限較佳為5質量%以上，更佳為10質量%以上，進而佳為20質量%以上。上限較佳為75質量%以下，更佳為70質量%以下。
若將著色劑的濃度設計得高，則曝光的光無法到達層的下層，有時會變得硬化不良，但本發明的著色組成物為高感度且聚 合效率高，故即便為20質量%以上的高濃度亦可硬化，因此較佳。特別是於低溫的情況下，該效果變得顯著。
<顏料>
作為顏料，可列舉現有公知的各種無機顏料或有機顏料。
作為無機顏料，例如可列舉：鐵、鈷、鋁、鎘、鉛、銅、鈦、鎂、鉻、鋅、銻等的金屬氧化物；所述金屬的複合氧化物等。
作為有機顏料，可列舉以下者。其中，本發明並不限定於該些。
顏色索引(colour index，C.I.)顏料黃(Pigment Yellow)1、2、3、4、5、6、10、11、12、13、14、15、16、17、18、20、24、31、32、34、35、35：1、36、36：1、37、37：1、40、42、43、53、55、60、61、62、63、65、73、74、77、81、83、86、93、94、95、97、98、100、101、104、106、108、109、110、113、114、115、116、117、118、119、120、123、125、126、127、128、129、137、138、139、147、148、150、151、152、153、154、155、156、161、162、164、166、167、168、169、170、171、172、173、174、175、176、177、179、180、181、182、185、187、188、193、194、199、213、214等，C.I.顏料橙(Pigment Orange)2、5，13，16、17：1、31、34、36、38、43、46、48、49、51、52、55、59、60、61、62、64，71、73等，C.I.顏料紅(Pigment Red)1、2、3、4、5、6、7、9、10、 14、17、22、23、31、38、41、48：1、48：2、48：3、48：4、49、49：1、49：2、52：1、52：2、53：1、57：1、60：1、63：1、66、67、81：1、81：2、81：3、83、88、90、105、112、119、122、123、144、146、149、150、155、166、168、169、170、171、172、175、176、177、178、179、184、185、187、188、190、200、202、206、207、208、209、210、216、220、224、226、242、246、254、255、264、270、272、279等，C.I.顏料綠(Pigment Green)7、10、36、37、58、59等，C.I.顏料紫(Pigment Violet)1、19、23、27、32、37、42等，C.I.顏料藍(Pigment Blue)1、2、15、15：1、15：2、15：3、15：4、15：6、16、22、60、64、66、79、80等。
該些有機顏料可單獨使用，或者為了提高顏色純度而加以各種組合而使用。
(黑色顏料)
本發明中亦可使用黑色顏料作為顏料。以下，對黑色顏料進一步詳細地進行說明。
黑色顏料可使用各種公知的黑色顏料。特別是就可以少量來實現高的光學濃度的觀點而言，可列舉碳黑、鈦黑、及金屬顏料等。作為金屬顏料，例如可列舉包含選自由Co、Cr、Cu、Mn、Ru、Fe、Ni、Sn、Ti、及Ag所組成的群組中的一種或兩種以上的金屬元素的金屬氧化物或金屬氮化物。
作為黑色顏料，就可以少量來實現高的光學濃度的觀點而言，較佳為碳黑、鈦黑、氧化鈦、氧化鐵、氧化錳、石墨、包含銀及/或錫的金屬顏料等，其中，較佳為包含碳黑及鈦黑中的至少一種，特別是就因曝光而導致的與硬化效率有關的起始劑的光吸收波長區域的吸收少的觀點而言，較佳為鈦黑。作為碳黑的具體例，可列舉作為市售品的C.I.顏料黑1等有機顏料、C.I.顏料黑7等無機顏料，但並不限定於該些。
(其他顏料)
本發明中除作為黑色顏料而記載的顏料以外，亦可使用具有紅外線吸收性的顏料來作為顏料。
作為具有紅外線吸收性的顏料，較佳為鎢化合物、金屬硼化物等，其中，就紅外區域的波長中的遮光性優異的方面而言，較佳為鎢化合物。特別是就因曝光而導致的與硬化效率有關的起始劑的光吸收波長區域、與可見光區域的透光性優異的觀點而言，較佳為鎢化合物。
該些顏料亦可併用兩種以上，或者亦可與後述的染料併用。為了調整色調、及/或提高所期望的波長區域的遮光性，例如可列舉將所述紅色、綠色、黃色、橙色、紫色、及藍色等的彩色顏料或後述的染料與黑色顏料、或具有紅外線遮光性的顏料混合的態樣。較佳為於黑色顏料、或具有紅外線遮光性的顏料中包含紅色顏料或染料、與紫色顏料或染料，特佳為於黑色顏料、或具有紅外線遮光性的顏料中包含紅色顏料。
黑色顏料較佳為含有鈦黑及/或氮氧化鈮。
所謂鈦黑是指含有鈦原子的黑色粒子。較佳為低次氧化鈦、氮氧化鈦或氮化鈦等。出於提高分散性、抑制凝聚性等目的，可視需要對鈦黑粒子的表面進行修飾。可利用氧化矽、氧化鈦、氧化鍺、氧化鋁、氧化鎂、或氧化鋯進行包覆，另外，亦可進行利用如日本專利特開2007-302836號公報中所表示的撥水性物質的處理。
鈦黑典型的是鈦黑粒子，較佳為每個粒子的一次粒子徑及平均一次粒子徑均小的粒子。氮氧化鈮亦相同。
具體而言，較佳為平均一次粒子徑為10nm~45nm的範圍的粒子。
再者，顏料的平均一次粒子徑可使用穿透式電子顯微鏡(Transmission Electron Microscope，TEM)來測定。作為穿透式電子顯微鏡，例如可使用日立高新技術(Hitachi High-technologies)公司製造的穿透式顯微鏡HT7700。
測量使用穿透式電子顯微鏡而獲得的粒子像的最大長度(Dmax：粒子圖像的輪廓上的2點的最大長度)、及最大長度垂直長度(DV-max：以與最大長度平行的2條直線夾持圖像時，垂直地連結2直線間的最短長度)，將其相乘平均值(Dmax×DV-max)1/2作為粒子徑。利用該方法測定100個粒子的粒子徑，將其算術平均值設為平均粒子徑來作為顏料的平均一次粒子徑。
鈦黑及氮氧化鈮的比表面積並無特別限制，為了使利用 撥水劑對鈦黑及氮氧化鈮進行表面處理後的撥水性成為規定性能，藉由布厄特(Brunauer-Emmett-Teller，BET)法測定的值較佳為5m2/g以上且150m2/g以下，更佳為20m2/g以上且120m2/g以下。
作為鈦黑的市售品的例子，可列舉：鈦黑10S、12S、13R、13M、13M-C、13R-N、13M-T(商品名，三菱材料(股)製造)，迪拉庫(Tilack)D(商品名，赤穗化成(股)製造)，氮化鈦50nm(商品名，和光純藥(股)製造)等。
本發明中，作為著色劑，較佳為使用氮氧化鈦、氮化鈦或氮氧化鈮，就所獲得的硬化膜的耐濕性更優異的理由而言，更佳為氮化鈦或氮氧化鈮，進而佳為氮氧化鈮。認為其原因在於：該些著色劑為疏水性。
進而，亦較佳為將選自由氮氧化鈦、氮化鈦及氮氧化鈮所組成的群組中的兩種以上混合使用。此時，混合比並無特別限定，例如於使用兩種的情況下，若將一者設為A且將另一者設為B，則質量比(A/B)較佳為1/99~99/1，更佳為5/95~95/5。
進而，亦較佳為以包含鈦黑及Si原子的被分散體的形式含有鈦黑。
該形態中，鈦黑以被分散體的形式而被含有於組成物中，被分散體中的Si原子與Ti原子的含有比(Si/Ti)以質量換算計較佳為0.05以上，更佳為0.05~0.5，進而佳為0.07~0.4。
此處，所述被分散體包含鈦黑為一次粒子的狀態者、鈦黑為 凝聚體(二次粒子)的狀態者這兩者。
為了變更被分散體的Si/Ti(例如，設為0.05以上)，可使用以下般的方法。
首先，使用分散機對氧化鈦與二氧化矽粒子進行分散，藉此獲得分散物，於高溫(例如，850℃~1000℃)下對該分散物進行還原處理，藉此可獲得以鈦黑粒子為主成分且含有Si與Ti的被分散體。所述還原處理亦可於氨等還原性氣體的環境下進行。
氧化鈦可列舉TTO-51N(商品名，石原產業製造)等。進而，亦可較佳地使用藉由日本專利特開2012-055840號公報中記載的利用電漿的奈米尺寸的微粒子的製造方法而製作的微粒子氧化鈦。就可減小所獲得的所述被分散體的一次粒子徑的理由而言，較佳為使用一次粒子徑小的粒子作為氧化鈦。作為氧化鈦，並不限定於所述的氧化鈦，氧化鈦的一次粒子徑較佳為5nm~100nm，更佳為5nm~70nm，進而佳為10nm~50nm。
二氧化矽粒子的市售品可列舉埃洛希爾(AEROSIL)(註冊商標)90、130、150、200、255、300、380(商品名，贏創(Evonik)製造)等。
氧化鈦與二氧化矽粒子的分散中亦可使用分散劑。作為分散劑，可列舉後述分散劑的欄中所說明者。
所述分散可於溶劑中進行。作為溶劑，可列舉水、有機溶劑。且可列舉後述有機溶劑的欄中所說明者。
Si/Ti被調整為例如0.05以上等的鈦黑例如可藉由日本專利 特開2008-266045公報的段落編號[0005]及段落編號[0016]~段落編號[0021]中記載的方法來製作。
藉由將包含鈦黑及Si原子的被分散體中的Si原子與Ti原子的含有比(Si/Ti)調整為較佳的範圍(例如0.05以上)，於使用包含該被分散體的組成物形成遮光膜時，遮光膜的形成區域外的源自組成物的殘渣物減少。再者，殘渣物包含源自鈦黑粒子、樹脂成分等組成物的成分。
殘渣物減少的理由仍未明確，推測為如上所述的被分散體有成為小粒子徑的傾向(例如，粒子徑為30nm以下)，進而該被分散體的包含Si原子的成分增加，藉此膜整體與基底的吸附性降低，該情況有助於提高遮光膜的形成中的未硬化的組成物(特別是鈦黑)的顯影去除性。
另外，對於自紫外光至紅外光為止的廣範圍的波長區域的光而言，鈦黑的遮光性優異，因此使用所述包含鈦黑及Si原子的被分散體(較佳為Si/Ti以質量換算計為0.05以上者)形成的遮光膜發揮優異的遮光性。
再者，被分散體中的Si原子與Ti原子的含有比(Si/Ti)例如可使用日本專利特開2013-249417號公報的段落0033中記載的方法(1-1)或方法(1-2)進行測定。
另外，關於使組成物硬化而獲得的遮光膜中所含有的被分散體，為了判斷該被分散體中的Si原子與Ti原子的含有比(Si/Ti)是否為0.05以上而使用日本專利特開2013-249417號公報的段落 0035中記載的方法(2)。
包含鈦黑及Si原子的被分散體中，鈦黑可使用所述鈦黑。
另外，該被分散體中，出於調整分散性、著色性等目的，亦可將包含Cu、Fe、Mn、V、Ni等的複合氧化物、氧化鈷、氧化鐵、碳黑、苯胺黑等的黑色顏料的一種或兩種以上加以組合而以被分散體的形式與鈦黑併用。
該情況下，較佳為包含鈦黑的被分散體於所有被分散體中佔50質量%以上。
另外，該被分散體中，以遮光性的調整等為目的，只要不損及本發明的效果，則亦可視需要與鈦黑一同併用其他著色劑(有機顏料及染料等)。
以下，對將Si原子導入至被分散體時所使用的材料進行敍述。於將Si原子導入至被分散體時，只要使用二氧化矽等含有Si的物質即可。
作為可使用的二氧化矽，可列舉沈降二氧化矽、氣相二氧化矽、膠體二氧化矽、及合成二氧化矽等，只要適宜選擇使用該些即可。
進而，於形成遮光膜時，二氧化矽粒子的粒子徑若為小於膜厚的粒子徑，則遮光性更優異，因此較佳為使用微粒子類型的二氧化矽作為二氧化矽粒子。再者，作為微粒子類型的二氧化矽的例子，例如可列舉日本專利特開2013-249417號公報的段落0039 中記載的二氧化矽，將該些內容併入至本說明書中。
另外，所述被分散體的製造方法中，使用氧化鈮代替氧化鈦，除此以外亦可以相同的方式製作包含氮氧化鈮及Si原子的被分散體。該情況下，例如可使用市售的五氧化鈮(Niobium Pentoxide)粉末(Nb2O5，世泰科(H.C.Starck)公司)作為原材料。另外，作為原材料的氧化鈮亦可藉由如下方式製作，即於日本專利特開2012-055840號公報中記載的利用電漿的奈米尺寸的微粒子的製造方法中，使用金屬鈮粉末代替Ti粉末來作為原材料，除此以外以相同的方式進行，且適宜地對裝置的處理參數進行調節。
另外，作為顏料，亦可使用鎢化合物、金屬硼化物。
以下，對鎢化合物、及金屬硼化物進行詳細敘述。
本發明的著色組成物可使用鎢化合物、及/或金屬硼化物。
鎢化合物、及金屬硼化物為相對於紅外線(波長為約800nm~1200nm的光)而言吸收高(即，相對於紅外線的遮光性(遮蔽性)高)、相對於可見光而言吸收低的紅外線遮蔽材。因此，本發明的著色組成物藉由含有鎢化合物、及/或金屬硼化物，可形成紅外區域中的遮光性高、可見光區域中的透光性高的圖案。
另外，鎢化合物、及金屬硼化物相對於用於圖像形成的高壓水銀燈、KrF、ArF等曝光中所使用的較可見區域而言為短波的光的吸收小。因此，藉由與後述的聚合性化合物、鹼可溶性樹脂、及光聚合起始劑組合，可獲得優異的圖案，並且形成圖案時，可進一步抑制顯影殘渣。
作為鎢化合物，可列舉氧化鎢系化合物、硼化鎢系化合物、硫化鎢系化合物等，較佳為下述通式(組成式)(I)所表示的氧化鎢系化合物。
MxWyOz‧‧‧(I)
M表示金屬，W表示鎢，O表示氧。
0.001≦x/y≦1.1
2.2≦z/y≦3.0
作為M的金屬，例如可列舉：鹼金屬、鹼土金屬、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Sn、Pb、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi等，較佳為鹼金屬。M的金屬可為一種，亦可為兩種以上。
M較佳為鹼金屬，更佳為Rb或Cs，進而佳為Cs。
藉由x/y為0.001以上，可充分地遮蔽紅外線，藉由x/y為1.1以下，可進一步可靠地避免於鎢化合物中生成雜質相的情況。
藉由z/y為2.2以上，可進一步提高作為材料的化學穩定性，藉由z/y為3.0以下，可充分地遮蔽紅外線。
作為所述通式(I)所表示的氧化鎢系化合物的具體例，可列舉：Cs0.33WO3、Rb0.33WO3、K0.33WO3、Ba0.33WO3等，較佳為Cs0.33WO3或Rb0.33WO3，更佳為Cs0.33WO3。
鎢化合物較佳為微粒子。鎢微粒子的平均一次粒子徑較佳為800nm以下，更佳為400nm以下，進而佳為200nm以下。藉由平均一次粒子徑為此種範圍，鎢微粒子藉由光散射而難以阻斷可見光，因此可使可見光區域中的透光性更可靠。就避免光散射的觀點而言，平均一次粒子徑越小越佳，就製造時的操作容易性等理由而言，鎢微粒子的平均一次粒子徑通常為1nm以上。
另外，鎢化合物可使用兩種以上。
鎢化合物可作為市售品而獲得，於鎢化合物例如為氧化鎢系化合物的情況下，氧化鎢系化合物可藉由在惰性氣體環境或還原性氣體環境中對鎢化合物進行熱處理的方法而獲得(參照日本專利第4096205號公報)。
另外，氧化鎢系化合物例如可作為住友金屬礦山股份有限公司製造的YMF-02等鎢微粒子的分散物而獲得。
另外，作為金屬硼化物，可列舉：硼化鑭(LaB6)、硼化鐠(PrB6)、硼化釹(NdB6)、硼化鈰(CeB6)、硼化釔(YB6)、硼化鈦(TiB2)、硼化鋯(ZrB2)、硼化鉿(HfB2)、硼化釩(VB2)、硼化鉭(TaB2)、硼化鉻(CrB、CrB2)、硼化鉬(MoB2、Mo2B5、MoB)、硼化鎢(W2B5)等的一種或兩種以上，較佳為硼化鑭(LaB6)。
金屬硼化物較佳為微粒子。金屬硼化物微粒子的平均一次粒子徑較佳為800nm以下，更佳為300nm以下，進而佳為100nm以下。藉由平均一次粒子徑為此種範圍，金屬硼化物微粒子藉由光散射而難以阻斷可見光，因此可使可見光區域中的透光性更可靠。就避免光散射的觀點而言，平均一次粒子徑越小越佳，就製造時的操作容易性等理由而言，金屬硼化物微粒子的平均一次粒子徑通常為1nm以上。
另外，金屬硼化物可使用兩種以上。
金屬硼化物可作為市售品而獲得，例如可作為住友金屬礦山股份有限公司製造的KHF-7等金屬硼化物微粒子的分散物而獲得。
<染料>
作為染料，例如可使用在日本專利特開昭64-90403號公報、日本專利特開昭64-91102號公報、日本專利特開平1-94301號公報、日本專利特開平6-11614號公報、日本專利特登2592207號、美國專利4808501號說明書、美國專利5667920號說明書、美國專利505950號說明書、美國專利5667920號說明書、日本專利特開平5-333207號公報、日本專利特開平6-35183號公報、日本專利特開平6-51115號公報、日本專利特開平6-194828號公報等中所揭示的色素。若以化學結構的形式來區分，則可使用吡唑偶氮化合物、吡咯亞甲基化合物、苯胺基偶氮化合物、三苯基甲烷化合物、蒽醌化合物、苯亞甲基化合物、氧雜菁化合物、吡唑并三 唑偶氮化合物、吡啶酮偶氮化合物、花青化合物、啡噻嗪化合物、吡咯并吡唑偶氮甲鹼(pyrrolopyrazole azomethine)化合物等。另外，作為染料，亦可使用色素多聚物。作為色素多聚物，可列舉日本專利特開2011-213925號公報、日本專利特開2013-041097號公報中所記載的化合物。另外，亦可使用於分子內具有聚合性基的聚合性染料，作為市售品，例如可列舉和光純藥股份有限公司製造的RDW系列(例如RDW-K01及RDW-R56等)。
另外，本發明中，作為著色劑，可使用於波長800nm~900nm的範圍具有最大吸收的著色劑。
作為具有此種分光特性的著色劑，例如可列舉吡咯并吡咯化合物、銅化合物、花青化合物、酞菁化合物、亞銨(iminium)化合物、硫醇錯合物系化合物、過渡金屬氧化物系化合物、方酸內鎓鹽(squarylium)化合物、萘酞菁(naphthalocyanine)化合物、誇特銳烯(quaterrylene)化合物、二硫醇金屬錯合物系化合物、克酮酸(croconium)化合物等。
酞菁化合物、萘酞菁化合物、亞銨化合物、花青化合物、方酸內鎓鹽化合物及克酮酸化合物亦可使用日本專利特開2010-111750號公報的段落0010~段落0081中揭示的化合物，將該內容併入至本說明書中。花青化合物例如可參考「功能性色素，大河原信/松岡賢/北尾悌次郎/平嶋恆亮‧著，講談社科技」，將該內容併入至本申請案說明書中。
作為具有所述分光特性的著色劑，亦可使用日本專利特 開平07-164729號公報的段落0004~段落0016中揭示的化合物、日本專利特開2002-146254號公報的段落0027~段落0062中揭示的化合物、日本專利特開2011-164583號公報的段落0034~段落0067中揭示的包含含有Cu及/或P的氧化物的微晶且數量平均凝聚粒子徑為5nm~200nm的近紅外線吸收粒子。
本發明中，於波長800nm~900nm的範圍具有最大吸收的著色劑較佳為吡咯并吡咯化合物。吡咯并吡咯化合物可為顏料，亦可為染料，就容易獲得可形成耐熱性優異的膜的著色組成物的理由而言，較佳為顏料。
關於吡咯并吡咯化合物的詳細情況，可參考日本專利特開2009-263614號公報的段落編號0017~段落編號0047的記載，將該內容併入至本說明書中。另外，作為其具體例，可列舉日本專利特開2009-263614號公報的段落編號0049~段落編號0058中記載的化合物等，將該內容併入至本說明書中。
[顏料衍生物]
本發明的著色組成物可含有顏料衍生物。顏料衍生物較佳為具有有機顏料的一部分經酸性基、鹼性基或鄰苯二甲醯亞胺甲基取代而成的結構的化合物。作為顏料衍生物，就著色劑A的分散性及分散穩定性的觀點而言，較佳為具有酸性基或鹼性基的顏料衍生物。特佳為具有鹼性基的顏料衍生物。另外，所述樹脂(分散劑)與顏料衍生物的組合較佳為分散劑為酸性分散劑且顏料衍生物為具有鹼性基的化合物的組合。
作為用於構成顏料衍生物的有機顏料，可列舉二酮基吡咯并吡咯系顏料、偶氮系顏料、酞菁系顏料、蒽醌系顏料、喹吖啶酮系顏料、二噁嗪系顏料、紫環酮系顏料、苝系顏料、硫代靛藍系顏料、異吲哚啉系顏料、異吲哚啉酮系顏料、喹酞酮(quinophthalone)系顏料、苯乙烯系顏料、金屬錯合物系顏料等。
另外，作為顏料衍生物所具有的酸性基，較佳為磺酸基、羧酸基及其鹽，進而佳為羧酸基及磺酸基，特佳為磺酸基。作為顏料衍生物所具有的鹼性基，較佳為胺基，特佳為三級胺基。
於本發明的著色組成物含有顏料衍生物的情況下，相對於著色組成物的質量，顏料衍生物的含量較佳為1質量%~30質量%，進而佳為3質量%~20質量%。顏料衍生物可僅使用一種，亦可併用兩種以上。
[聚合性化合物]
本發明的著色組成物含有聚合性化合物。
聚合性化合物較佳為包含一個以上的具有乙烯性不飽和鍵的基的化合物，更佳為包含兩個以上的具有乙烯性不飽和鍵的基的化合物，進而佳為包含三個以上的具有乙烯性不飽和鍵的基的化合物，特佳為包含五個以上的具有乙烯性不飽和鍵的基的化合物。上限例如為十五個以下。作為具有乙烯性不飽和鍵的基，例如可列舉乙烯基、(甲基)烯丙基、(甲基)丙烯醯基等。
聚合性化合物例如亦可為單體、預聚物即二聚物、三聚物及寡聚物、或者該些的混合物以及該些的多聚物等化學形態的 任一種。較佳為單體。
聚合性化合物的分子量較佳為100~3000，更佳為250~1500。
聚合性化合物較佳為三官能~十五官能的(甲基)丙烯酸酯化合物，更佳為三官能~六官能的(甲基)丙烯酸酯化合物。
作為單體及預聚物的例子，可列舉不飽和羧酸(例如，丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、丁烯酸、異丁烯酸、馬來酸等)；其酯類；其醯胺類；該些的多聚物等，較佳為不飽和羧酸與脂肪族多元醇化合物的酯、及不飽和羧酸與脂肪族多元胺化合物的醯胺類、以及該些的多聚物。另外，亦較佳地使用具有羥基、胺基、巰基等親核性取代基的不飽和羧酸酯或醯胺類，與單官能或多官能異氰酸酯類或環氧類的加成反應物；與單官能或多官能的羧酸的脫水縮合反應物等。另外，亦較佳為具有異氰酸酯基或環氧基等親電子性取代基的不飽和羧酸酯或醯胺類、與單官能或多官能的醇類、胺類、硫醇類的反應物；具有鹵素基或甲苯磺醯氧基等脫離性取代基的不飽和羧酸酯或醯胺類、與單官能或多官能的醇類、胺類、硫醇類的反應物等。另外，亦可使用代替所述不飽和羧酸而置換為不飽和膦酸、苯乙烯等乙烯基苯衍生物、乙烯基醚、烯丙基醚等的化合物群組。
作為該些的具體化合物，本發明中亦可較佳地使用日本專利特開2009-288705號公報的段落編號[0095]~段落編號[0108]中所記載的化合物。
本發明中，作為聚合性化合物，亦較佳為包含一個以上的具有乙烯性不飽和鍵的基且於常壓下具有100℃以上的沸點的化合物。作為其例子，例如可參考日本專利特開2013-29760號公報的段落0227、日本專利特開2008-292970號公報的段落編號0254~段落編號0257中記載的化合物，將該內容併入至本申請案說明書中。
聚合性化合物較佳為二季戊四醇三丙烯酸酯(市售品為卡亞拉得(KAYARAD)D-330；日本化藥股份有限公司製造)、二季戊四醇四丙烯酸酯(市售品為卡亞拉得(KAYARAD)D-320；日本化藥股份有限公司製造)、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯(市售品為卡亞拉得(KAYARAD)D-310；日本化藥股份有限公司製造)、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯(市售品為卡亞拉得(KAYARAD)DPHA，日本化藥股份有限公司製造；A-DPH-12E，新中村化學公司製造)、及該些的(甲基)丙烯醯基介隔乙二醇殘基、丙二醇殘基的結構(例如，由沙多瑪(Sartomer)公司市售的SR454、SR499)。亦可使用該些的寡聚物類型。另外，亦可使用NK酯(NK Ester)A-TMMT(季戊四醇四丙烯酸酯，新中村化學(股)製造)、卡亞拉得(KAYARAD)RP-1040(日本化藥股份有限公司製造)等。
以下示出較佳的聚合性化合物的態樣。
聚合性化合物亦可具有羧基、磺酸基、磷酸基等酸基。作為具有酸基的聚合性化合物，較佳為脂肪族多羥基化合物與不 飽和羧酸的酯，更佳為使非芳香族羧酸酐與脂肪族多羥基化合物的未反應的羥基進行反應而具有酸基的聚合性化合物，特佳為該酯中脂肪族多羥基化合物為季戊四醇及/或二季戊四醇者。作為市售品，例如可列舉東亞合成股份有限公司製造的亞羅尼斯(Aronix)TO-2349、M-305、M-510、M-520等。
具有酸基的聚合性化合物的較佳酸價為0.1mgKOH/g~40mgKOH/g，特佳為5mgKOH/g~30mgKOH/g。若聚合性化合物的酸價為0.1mgKOH/g以上，則顯影溶解特性良好，若為40mgKOH/g以下，則於製造及/或操作方面有利。進而，光聚合性能良好，硬化性優異。
聚合性化合物中，具有己內酯結構的化合物亦為較佳態樣。
作為具有己內酯結構的化合物，只要於分子內具有己內酯結構，則並無特別限定，例如可列舉ε-己內酯改質多官能(甲基)丙烯酸酯，所述ε-己內酯改質多官能(甲基)丙烯酸酯是藉由將三羥甲基乙烷、二-三羥甲基乙烷、三羥甲基丙烷、二-三羥甲基丙烷、季戊四醇、二季戊四醇、三季戊四醇、甘油、二丙三醇、三羥甲基三聚氰胺等多元醇，與(甲基)丙烯酸及ε-己內酯進行酯化而獲得。其中，較佳為下述通式(Z-1)所表示的具有己內酯結構的化合物。
[化2]
Figure 105127849-A0305-02-0029-3
通式(Z-1)中，6個R全部為下述通式(Z-2)所表示的基，或者6個R中的1個~5個為下述通式(Z-2)所表示的基，其餘為下述通式(Z-3)所表示的基。
Figure 105127849-A0305-02-0029-4
通式(Z-2)中，R1表示氫原子或甲基，m表示1或2的數，「*」表示結合鍵。
Figure 105127849-A0305-02-0029-5
通式(Z-3)中，R1表示氫原子或甲基，「*」表示結合鍵。
具有己內酯結構的聚合性化合物例如由日本化藥(股) 以卡亞拉得(KAYARAD)DPCA系列來市售，可列舉：DPCA-20(所述式(Z-1)~式(Z-3)中m=1、式(Z-2)所表示的基的數量=2、且R1全部為氫原子的化合物)、DPCA-30(所述式(Z-1)~式(Z-3)中m=1、式(Z-2)所表示的基的數量=3、且R1全部為氫原子的化合物)、DPCA-60(所述式(Z-1)~式(Z-3)中m=1、式(Z-2)所表示的基的數量=6、且R1全部為氫原子的化合物)、DPCA-120(所述式(Z-1)~式(Z-3)中m=2、式(Z-2)所表示的基的數量=6、且R1全部為氫原子的化合物)等。
聚合性化合物亦可使用下述通式(Z-4)或通式(Z-5)所表示的化合物。
Figure 105127849-A0305-02-0030-6
通式(Z-4)及通式(Z-5)中，E分別獨立地表示-((CH2)yCH2O)-、或-((CH2)yCH(CH3)O)-，y分別獨立地表示0~10的整數，X分別獨立地表示(甲基)丙烯醯基、氫原子、或羧基。
通式(Z-4)中，(甲基)丙烯醯基的合計為3個或4個，m分 別獨立地表示0~10的整數，各m的合計為0~40的整數。
通式(Z-5)中，(甲基)丙烯醯基的合計為5個或6個，n分別獨立地表示0~10的整數，各n的合計為0~60的整數。
通式(Z-4)中，m較佳為0~6的整數，更佳為0~4的整數。
另外，各m的合計較佳為2~40的整數，更佳為2~16的整數，特佳為4~8的整數。
通式(Z-5)中，n較佳為0~6的整數，更佳為0~4的整數。
另外，各n的合計較佳為3~60的整數，更佳為3~24的整數，特佳為6~12的整數。
另外，通式(Z-4)或通式(Z-5)中的-((CH2)yCH2O)-或-((CH2)yCH(CH3)O)-較佳為氧原子側的末端鍵結於X上的形態。
通式(Z-4)或通式(Z-5)所表示的化合物可單獨使用一種，亦可併用兩種以上。特佳為通式(Z-5)中6個X全部為丙烯醯基的形態，以及通式(Z-5)中6個X全部為丙烯醯基的化合物、與6個X中的至少一個為氫原子的化合物的混合物的態樣。藉由設為此種構成，可進一步提高顯影性。
另外，通式(Z-4)或通式(Z-5)所表示的化合物於聚合性化合物中的總含量較佳為20質量%以上，更佳為50質量%以上。
通式(Z-4)或通式(Z-5)所表示的化合物可由作為現有公知的步驟的以下步驟來合成，即：藉由使環氧乙烷或環氧丙 烷與季戊四醇或二季戊四醇進行開環加成反應而鍵結開環骨架的步驟；以及例如使(甲基)丙烯醯氯與開環骨架的末端羥基進行反應而導入(甲基)丙烯醯基的步驟。各步驟為熟知的步驟，發明所屬技術領域中具有通常知識者可容易地合成通式(Z-4)或通式(Z-5)所表示的化合物。
通式(Z-4)或通式(Z-5)所表示的化合物中，更佳為季戊四醇衍生物及/或二季戊四醇衍生物。
具體而言，可列舉下述式(a)~式(f)所表示的化合物(以下，亦稱為「例示化合物(a)~例示化合物(f)」)，其中，較佳為例示化合物(a)、例示化合物(b)、例示化合物(e)、例示化合物(f)。
[化6]
Figure 105127849-A0305-02-0033-7
[化7]
Figure 105127849-A0305-02-0034-9
作為通式(Z-4)、通式(Z-5)所表示的聚合性化合物的市售品，例如可列舉沙多瑪(Sartomer)公司製造的具有4個伸乙基氧基鏈的四官能丙烯酸酯即SR-494、日本化藥股份有限公司製造的具有6個伸戊基氧基鏈的六官能丙烯酸酯即DPCA-60、具有3個伸異丁基氧基鏈的三官能丙烯酸酯即TPA-330等。
作為聚合性化合物，如日本專利特公昭48-41708號公報、日本專利特開昭51-37193號公報、日本專利特公平2-32293號公報、日本專利特公平2-16765號公報中所記載般的胺基甲酸酯丙烯酸酯類、以及日本專利特公昭58-49860號公報、日本專利 特公昭56-17654號公報、日本專利特公昭62-39417號公報、日本專利特公昭62-39418號公報記載的具有環氧乙烷系骨架的胺基甲酸酯化合物類亦較佳。另外，藉由使用日本專利特開昭63-277653號公報、日本專利特開昭63-260909號公報、日本專利特開平1-105238號公報中所記載的於分子內具有胺基結構或硫醚結構的加成聚合性化合物類，可獲得感光速度非常優異的著色組成物。
作為市售品，可列舉胺基甲酸酯寡聚物UAS-10、UAB-140(山陽國策紙漿公司製造)，UA-7200(新中村化學公司製造)，DPHA-40H(日本化藥公司製造)，UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、AI-600(共榮社製造)等。
另外，本發明中所使用的聚合性化合物的溶解度參數(Solubility Parameter，SP)值例如為9.50以上，較佳為10.40以上，更佳為10.60以上。
再者，本說明書中只要未作特別說明，則SP值是利用Hoy法求出(H.L.Hoy Journal of Painting,1970,Vol.42,76-118)。另外，關於SP值，省略單位而示出，其單位為cal1/2cm-3/2。
本發明的著色組成物中，相對於著色組成物的總固體成分，聚合性化合物的含量較佳為0.1質量%~40質量%。下限例如更佳為0.5質量%以上，進而佳為1質量%以上。上限例如更佳為30質量%以下，進而佳為20質量%以下。聚合性化合物可為單獨一種，亦可併用兩種以上。於併用兩種以上的情況下，較佳為合計量成為所述範圍。
再者，本發明的著色組成物中，後述的鹼可溶性樹脂(B)相對於聚合性化合物(M)的質量比(B/M)較佳為0.3~3.0，就耐溶劑性、耐濕性、及密接性更優異的觀點而言，更佳為0.5~2.5。
[光聚合起始劑]
本發明的著色組成物含有光聚合起始劑。使本發明中所使用的光聚合起始劑以0.001質量%溶解於乙腈中而成的溶液在波長340nm下的吸光度為0.45以上。藉此，本發明的著色組成物可於低溫環境下硬化。
所述吸光度較佳為0.48以上，更佳為0.50以上。上限並無特別限定，例如為2.0以下。
再者，本發明中，吸光度是利用紫外可見近紅外分光光度計U-4100(日立高新技術(Hitachi High-technologies)公司製造)來測定。
作為本發明中所使用的光聚合起始劑，只要為滿足所述吸光度的光聚合起始劑，則並無特別限定，例如可較佳地列舉下述式(I)所表示的化合物或下述式(J)所表示的化合物。
再者，關於作為下述式(I)或式(II)中的雙鍵的置換方式的幾何異構體，於表示的情況方面，即便記載了異構體的其中一種，只要無特別說明，則可為E體、Z體，亦可為該些的混合物。
<式(I)所表示的化合物>
[化8]
Figure 105127849-A0305-02-0037-10
式(I)中，Ra表示烷基、醯基、芳基或雜環基，Rb表示烷基、芳基或雜環基，多個Rc分別獨立地表示氫原子、烷基、或-ORh所表示的基。Rh表示拉電子基、或烷基醚基。其中，多個Rc中的至少任一者表示-ORh所表示的基。
式(I)中，Ra表示烷基、醯基、芳基或雜環基，較佳為芳基或雜環基，更佳為雜環基。
烷基的碳數較佳為1~20，更佳為1~15，進而佳為1~10，特佳為1~4。烷基可為直鏈、分支、環狀的任一種，較佳為直鏈或分支。
醯基的碳數較佳為2~20，更佳為2~15。作為醯基，可列舉乙醯基、苯甲醯基等。
芳基的碳數較佳為6~20，更佳為6~15，進而佳為6~10。芳基可為單環，亦可為縮合環。
雜環基較佳為5員環或6員環。雜環基可為單環，亦可為縮合環。縮合數較佳為2~8，更佳為2~6，進而佳為3~5，特佳為3~4。構成雜環基的碳原子的數量較佳為3~40，更佳為3~30，進而佳為3~20。構成雜環基的雜原子的數量較佳為1~3。構成 雜環基的雜原子較佳為氮原子、氧原子或硫原子，更佳為氮原子。
Ra所表示的所述基可未經取代，亦可具有取代基。作為取代基，可列舉烷基、芳基、雜環基、硝基、氰基、鹵素原子、-ORX1、-SRX1、-CORX1、-COORX1、-OCORX1、-NRX1RX2、-NHCORX1、-CONRX1RX2、-NHCONRX1RX2、-NHCOORX1、-SO2RX1、-SO2ORX1、-NHSO2RX1等。RX1及RX2分別獨立地表示氫原子、烷基、芳基或雜環基。
鹵素原子可列舉氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等，較佳為氟原子。
作為取代基的烷基、以及RX1及RX2所表示的烷基的碳數較佳為1~20。烷基可為直鏈、分支、環狀的任一種，較佳為直鏈或分支。烷基中氫原子的一部分或全部可經鹵素原子(較佳為氟原子)取代。另外，烷基中氫原子的一部分或全部可經所述取代基取代。
作為取代基的芳基、以及RX1及RX2所表示的芳基的碳數較佳為6~20，更佳為6~15，進而佳為6~10。芳基可為單環，亦可為縮合環。另外，芳基中氫原子的一部分或全部可經所述取代基取代。
作為取代基的雜環基、以及RX1及RX2所表示的雜環基較佳為5員環或6員環。雜環基可為單環，亦可為縮合環。構成雜環基的碳原子的數量較佳為3~30，更佳為3~18，進而佳為3~12。構成雜環基的雜原子的數量較佳為1~3。構成雜環基的雜原子較 佳為氮原子、氧原子或硫原子。另外，雜環基中氫原子的一部分或全部可經所述取代基取代。
Ra所表示的雜環基較佳為下述式(II)所表示的基。
Figure 105127849-A0305-02-0039-11
式(II)中，Ar1及Ar2分別獨立地表示可具有取代基的芳香族烴環，R3分別獨立地表示烷基或芳基，*表示鍵結位置。
式(II)中，Ar1及Ar2分別獨立地表示可具有取代基的芳香族烴環。
芳香族烴環可為單環，亦可為縮合環。構成芳香族烴環的環的碳原子數較佳為6~20，更佳為6~15，特佳為6~10。芳香族烴環較佳為苯環及萘環。其中，較佳為Ar1及Ar2的至少一者為苯環，更佳為Ar1為苯環。Ar1較佳為苯環或萘環，更佳為萘環。
作為Ar1及Ar2可具有的取代基，可列舉Ra中說明的取代基。
Ar1較佳為未經取代。Ar1可未經取代，亦可具有取代基。作為取代基，較佳為-CORX1。RX1較佳為烷基、芳基或雜環基，更佳為芳基。芳基可具有取代基，亦可未經取代。作為取代基，可列 舉碳數1~10的烷基等。
式(II)中，R3表示烷基或芳基，較佳為烷基。烷基及芳基可未經取代，亦可具有取代基。作為取代基，可列舉所述Ra中說明的取代基。
烷基的碳數較佳為1~20，更佳為1~15，進而佳為1~10。烷基可為直鏈、分支、環狀的任一種，較佳為直鏈或分支。
芳基的碳數較佳為6~20，更佳為6~15，進而佳為6~10。芳基可為單環，亦可為縮合環。
式(I)中，Rb表示烷基、芳基或雜環基，較佳為烷基或芳基，更佳為烷基。烷基、芳基及雜環基與Ra中說明的基為相同含義。該些基可未經取代，亦可具有取代基。作為取代基，可列舉Ra中說明的取代基。
式(I)中，多個Rc分別獨立地表示氫原子、烷基、或-ORh所表示的基。Rh表示拉電子基、或烷基醚基。其中，多個Rc中的至少任一者表示-ORh所表示的基。
Rc所表示的烷基的碳數較佳為1~20，更佳為1~15，進而佳為1~10，特佳為1~4。烷基可為直鏈、分支、環狀的任一種，較佳為直鏈或分支。
作為-ORh中的Rh所表示的拉電子基，例如可列舉硝基、氰基、氟原子、至少一個氫原子經氟原子取代的碳數1~20的烷基等。
該些中，較佳為至少一個氫原子經氟原子取代的碳數1~20 的烷基。該烷基較佳為碳數為1~15，更佳為1~10，進而佳為1~4，可為直鏈、分支、環狀的任一種，較佳為直鏈或分支。
-ORh中的Rh所表示的烷基醚基是指經烷氧基取代的烷基。烷基醚基中的烷基、及烷基醚基中的烷氧基中的烷基較佳為碳數為1~20，更佳為1~15，進而佳為1~10，特佳為1~4。烷基可為直鏈、分支、環狀的任一種，較佳為直鏈或分支。
烷基醚基的碳數的總數較佳為2~8，更佳為2~6，進而佳為2~4。
多個Rc中的一個或兩個較佳為-ORh所表示的基。此時，於-ORh中的Rh為拉電子基(例如，為至少一個氫原子經氟原子取代的碳數1~20的烷基)的情況下，剩餘的Rc較佳為氫原子。另一方面，於-ORh中的Rh為烷基醚基的情況下，剩餘的Rc較佳為一個為烷基、其他為氫原子。
另外，Rc所鍵結的苯環中，相對於Rc未鍵結的一個碳，Rc所表示的烷基、或-ORh所表示的基較佳為位於鄰位或對位。
作為式(I)所表示的光聚合起始劑的具體例，例如可列舉下述化合物。
[化10]
Figure 105127849-A0305-02-0042-13
Figure 105127849-A0305-02-0042-14
<式(J)所表示的化合物>
[化12]
Figure 105127849-A0305-02-0043-15
式(J)中，Ra表示烷基、醯基、芳基或雜環基，Rb表示烷基、芳基或雜環基，Rd1~Rd5分別獨立地表示氫原子、烷基、或-SRi所表示的基。Ri表示拉電子基、烷基醚基、具有苯并呋喃骨架的基、或具有苯并噻吩骨架的基。
其中，Rd1~Rd5的至少任一者表示-SRi所表示的基。
式(J)中的Ra與所述式(I)中的Ra為相同含義。
式(J)中的Rb與所述式(I)中的Rb為相同含義。
式(J)中的Rd1~Rd5所表示的烷基與所述式(I)中的Rc所表示的烷基為相同含義。
式(J)中的Rd1~Rd5所表示的-SRi中的Ri所表示的拉電子基及烷基醚基與所述式(I)中的Rc所表示的-ORh中的Rh所表示的拉電子基及烷基醚基為相同含義。
作為式(J)中的Rd1~Rd5所表示的-SRi中的Ri所表示的具有苯并呋喃骨架的基及具有苯并噻吩骨架的基，例如可較佳 地列舉下述式(k)所表示的基。
Figure 105127849-A0305-02-0044-16
式(k)中，Ara表示二價芳香環基，A表示氧原子或硫原子，Re表示氫原子或一價有機基，Rf1~Rf4分別獨立地表示氫原子或一價有機基，*表示鍵結位置。
作為式(k)中的Ara所表示的二價芳香環基，例如可列舉可具有取代基的伸苯基及伸萘基等碳數6~20的伸芳基，較佳為下述式(m)所表示的基。
Figure 105127849-A0305-02-0044-17
式(m)中的Rg1~Rg4分別獨立地表示氫原子或一價有機基(例如碳數1~4的烷基)。*表示鍵結位置。
式(m)中的Rg1及Rg4可與式(J)中的Rd1~Rd5連結而形成環。
即，所述式(J)中的Rd1~Rd5可與式(m)中的Rg1或Rg4連結而形成環。
返回至式(k)的說明。
作為式(k)中的Re所表示的一價有機基，例如可列舉烷基。烷基的碳數較佳為1~20，更佳為1~15，進而佳為1~10，特佳為1~4。烷基可為直鏈狀、分支狀及環狀的任一種，較佳為直鏈狀或分支狀。
作為式(k)中的Re，較佳為氫原子或碳數1~4的烷基。
作為式(k)中的Rf1~Rf4所表示的一價有機基，例如可列舉烷基及烯基。烷基及烯基的碳數較佳為1~20，更佳為1~15，進而佳為1~10，特佳為1~4。烷基及烯基可為直鏈狀、分支狀及環狀的任一種，較佳為直鏈狀或分支狀。
Rf1~Rf4可相鄰彼此連結而形成苯環等環。
作為Rf1及Rf2，較佳為氫原子。
作為Rf3及Rf4，較佳為氫原子、或相互連結而形成苯環。
作為以上說明的式(J)的較佳態樣之一，較佳為Rd1~Rd5中的Rd3為-SRi所表示的基。
另外，-SRi的Ri較佳為具有苯并呋喃骨架的基或具有苯并噻吩骨架的基，更佳為式(k)所表示的基。
此時，式(k)中的Ara較佳為式(m)所表示的基。
此時，較佳為式(m)中的Rg1~Rg4均為氫原子、或者Rg1與式(J)中的Rd2連結而形成環。
作為式(J)所表示的光聚合起始劑的具體例，例如可列舉下述化合物。
Figure 105127849-A0305-02-0046-18
[化16]
Figure 105127849-A0305-02-0047-20
本發明中，作為光聚合起始劑，亦可使用具有苯并呋喃骨架的肟化合物。作為具體例，可列舉國際公開第2015/036910號中所記載的OE-01~OE-75中以0.001質量%溶解於乙腈中而成的溶液在波長340nm下的吸光度為0.45以上者。
市售品並無特別限定，可列舉豔佳固(IRGACURE)-OXE03(巴斯夫(BASF)公司製造)、艾迪科克魯茲(Adeka Cruise)NCI-831(艾迪科(ADEKA)(股)製造)。
相對於著色組成物的總固體成分，光聚合起始劑的含量較佳為0.1質量%~30質量%，更佳為0.5質量%~20質量%，進而佳為1質量%~10質量%，特佳為1質量%~5質量%。
本發明的著色組成物可僅包含一種光聚合起始劑，亦可包含兩種以上。於包含兩種以上的情況下，較佳為其合計量成為所述範圍。
[樹脂]
本發明的著色組成物較佳為包含樹脂。樹脂例如是於使著色劑於組成物中分散的用途、黏合劑的用途中調配。再者，將主要用以使著色劑分散的樹脂亦稱為分散劑。其中，樹脂的此種用途為一例，亦可出於此種用途以外的目的而使用。
樹脂的重量平均分子量(Mw)較佳為2,000~2,000,000。上限較佳為1,000,000以下，更佳為500,000以下。下限較佳為3,000以上，更佳為5,000以上。
本發明的著色組成物中，樹脂的含量較佳為著色組成物的總固體成分的10質量%~80質量%，更佳為20質量%~60質量%。本發明的著色組成物可僅包含一種樹脂，亦可包含兩種以上。於包含兩種以上的情況下，較佳為其合計量成為所述範圍。
就本發明的效果更優異的理由而言，本發明的著色組成物中所含有的樹脂較佳為酸價為50.0mgKOH/g以下，更佳為31.5mgKOH/g以下。下限並無特別限定，例如更佳為5.0mgKOH/g以上。
此種樹脂較佳為後述的鹼可溶性樹脂。
所謂酸價，為藉由中和化合物所需要的氫氧化鉀的量(mg)的測定而得者。調整單體所具有的酸基的數量、單體的分子量、單體的組成比等，並控制樹脂所具有的酸基的數量，藉此可獲得所期望的酸價的樹脂。
<分散劑>
本發明的著色組成物可含有分散劑作為樹脂。
分散劑較佳為包含選自酸性樹脂、鹼性樹脂及兩性樹脂中的一種以上。
本發明中，所謂酸性樹脂，是指具有酸基且酸價為5mgKOH/g以上、胺價小於5mgKOH/g的樹脂。酸性樹脂較佳為不具有鹼性基。
作為酸性樹脂所具有的酸基，例如可列舉羧基、磷酸基、磺酸基、酚性羥基等，較佳為羧基。
酸性樹脂可使用嵌段共聚物、無規共聚物、接枝共聚物的任一種。
酸性樹脂的酸價較佳為5mgKOH/g~200mgKOH/g，更佳為10mgKOH/g~150mgKOH/g，進而佳為50mgKOH/g~150mgKOH/g。
本發明中，所謂鹼性樹脂，是指具有鹼性基且胺價為5mgKOH/g以上、酸價小於5mgKOH/g的樹脂。鹼性樹脂較佳為不具有酸基。
作為鹼性樹脂所具有的鹼性基，較佳為胺基。鹼性樹脂可使用嵌段共聚物、無規共聚物、接枝共聚物的任一種。
鹼性樹脂的胺價較佳為5mgKOH/g~200mgKOH/g，更佳為5mgKOH/g~150mgKOH/g，進而佳為5mgKOH/g~100mgKOH/g。
本發明中，所謂兩性樹脂，是指具有酸基與鹼性基且酸價為5mgKOH/g以上、胺價為5mgKOH/g以上的樹脂。作為酸基， 可列舉所述者，較佳為羧基。作為鹼性基，較佳為胺基。兩性樹脂可使用嵌段共聚物、無規共聚物、接枝共聚物的任一種。
兩性樹脂較佳為酸價為5mgKOH/g以上、胺價為5mgKOH/g以上。酸價較佳為5mgKOH/g~200mgKOH/g，更佳為10mgKOH/g~200mgKOH/g，進而佳為30mgKOH/g~200mgKOH/g，特佳為30mgKOH/g~180mgKOH/g。胺價較佳為5mgKOH/g~200mgKOH/g，更佳為10mgKOH/g~150mgKOH/g，特佳為10mgKOH/g~130mgKOH/g。
兩性樹脂的酸價與胺價的比率較佳為酸價：胺價=1：3~3：1，更佳為1：2~2：1。若酸價與胺價的比率為所述範圍，則可更有效地達成著色劑的分散性與顯影性的兼顧。
於併用酸性樹脂與鹼性樹脂及兩性樹脂的情況下，相對於酸性樹脂100質量份，較佳為鹼性樹脂為10質量份~150質量份，兩性樹脂為30質量份~170質量份。鹼性樹脂更佳為30質量份~130質量份，進而佳為50質量份~110質量份。兩性樹脂更佳為50質量份~150質量份，進而佳為90質量份~150質量份。根據該態樣，可更有效地獲得所述效果。另外，相對於著色組成物的總固體成分，酸性樹脂較佳為含有1質量%~30質量%，更佳為1質量%~20質量%。另外，相對於著色組成物的總固體成分，鹼性樹脂較佳為含有1質量%~30質量%，更佳為1質量%~20質量%。另外，相對於著色組成物的總固體成分，兩性樹脂較佳為含有1質量%~30質量%，更佳為1質量%~20質量%。
樹脂亦可作為市售品而獲得，作為此種具體例，可列舉：楠本化成股份有限公司製造的「DA-7301」；畢克化學(BYK Chemie)公司製造的「迪斯帕畢克(Disperbyk)-101(聚醯胺胺磷酸鹽)、107(羧酸酯)、110(包含酸基的共聚物)、111(磷酸系分散劑)、130(聚醯胺)、161、162、163、164、165、166、170、190(高分子共聚物)」、「畢克(BYK)-P104、P105(高分子量不飽和多羧酸)」；埃夫卡(EFKA)公司製造的「埃夫卡(EFKA)4047、4050、4010、4165(聚胺基甲酸酯系)、埃夫卡(EFKA)4330~埃夫卡(EFKA)4340(嵌段共聚物)、4400~4402(改質聚丙烯酸酯)、5010(聚酯醯胺)、5765(高分子量多羧酸鹽)、6220(脂肪酸聚酯)、6745(酞菁衍生物)、6750(偶氮顏料衍生物)」；味之素精細化學(Ajinomoto Fine-Techno)公司製造的「阿吉斯帕(Ajisper)PB821、PB822、PB880、PB881」；共榮社化學公司製造的「弗洛蘭(Flowlen)TG-710(胺基甲酸酯寡聚物)」、「珀利弗洛(Polyflow)No.50E、No.300(丙烯酸系共聚物)」；楠本化成公司製造的「帝司巴隆(Disparlon)KS-860、873SN、874、#2150(脂肪族多元羧酸)、#7004(聚醚酯)、DA-703-50、DA-705、DA-725」；花王公司製造的「戴默爾(Demol)RN、N(萘磺酸福馬林縮聚物)、MS、C、SN-B(芳香族磺酸福馬林縮聚物)」、「荷摩蓋諾爾(Homogenol)L-18(高分子多羧酸)」、「艾瑪爾根(Emulgen)920、930、935、985(聚氧伸乙基壬基苯基醚)」、「阿塞他明(Acetamin)86(硬脂基胺乙酸酯)」；日本路博潤(Lubrizol) (股)製造的「索爾斯帕斯(Solsperse)5000(酞菁衍生物)、22000(偶氮顏料衍生物)、13240(聚酯胺)、3000、12000、17000、20000、27000(於末端部具有功能部的高分子)、24000、28000、32000、38500(接枝共聚物)」；日光化學公司製造的「尼考爾(Nikkol)T106(聚氧伸乙基脫水山梨糖醇單油酸酯)、MYS-IEX(聚氧伸乙基單硬脂酸酯)」；川研精細化學(股)製造的「西諾科特(Hinoact)T-8000E」等；信越化學工業(股)製造的「有機矽氧烷聚合物KP341」；裕商(股)製造的「W001：陽離子系界面活性劑」；聚氧伸乙基月桂基醚、聚氧伸乙基硬脂基醚、聚氧伸乙基油烯基醚、聚氧伸乙基辛基苯基醚、聚氧伸乙基壬基苯基醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、脫水山梨糖醇脂肪酸酯等非離子系界面活性劑；「W004、W005、W017」等陰離子系界面活性劑；森下產業(股)製造的「埃夫卡(EFKA)-46、埃夫卡(EFKA)-47、埃夫卡(EFKA)-47EA、埃夫卡(EFKA)聚合物100、埃夫卡(EFKA)聚合物400、埃夫卡(EFKA)聚合物401、埃夫卡(EFKA)聚合物450」、聖諾普科(San Nopco)(股)製造的「迪斯帕斯愛德(Disperse Aid)6、迪斯帕斯愛德(Disperse Aid)8、迪斯帕斯愛德(Disperse Aid)15、迪斯帕斯愛德(Disperse Aid)9100」等高分子分散劑；艾迪科(ADEKA)(股)製造的「艾迪科普魯洛尼克(Adeka Pluronic)L31、F38、L42、L44、L61、L64、F68、L72、P95、F77、P84、F87、P94、L101、P103、F108、L121、P-123」、以及三洋化成(股)製造的「伊歐奈特(Ionet)(商品名)S-20」 等。另外，亦可使用壓克力倍斯(Acrybase)FFS-6752、壓克力倍斯(Acrybase)FFS-187、壓克力庫亞(Acrycure)-RD-F8、賽庫洛瑪(Cyclomer)P。
另外，作為兩性樹脂的市售品，例如可列舉：畢克化學(BYK Chemie)公司製造的迪斯帕畢克(DISPERBYK)-130、迪斯帕畢克(DISPERBYK)-140、迪斯帕畢克(DISPERBYK)-142、迪斯帕畢克(DISPERBYK)-145、迪斯帕畢克(DISPERBYK)-180、迪斯帕畢克(DISPERBYK)-187、迪斯帕畢克(DISPERBYK)-191、迪斯帕畢克(DISPERBYK)-2001、迪斯帕畢克(DISPERBYK)-2010、迪斯帕畢克(DISPERBYK)-2012、迪斯帕畢克(DISPERBYK)-2025、畢克(BYK)-9076，味之素精細化學(Ajinomoto Fine-Techno)公司製造的阿吉斯帕(Ajisper)PB821、阿吉斯帕(Ajisper)PB822、阿吉斯帕(Ajisper)PB881等。
用作分散劑的樹脂較佳為包含具有酸基的重複單元。藉由樹脂包含具有酸基的重複單元，於藉由光微影而形成著色圖案時，可進一步減少於著色畫素的基底所產生的殘渣。
具有酸基的重複單元可使用具有酸基的單體來構成。作為源自酸基的單體，可列舉具有羧基的乙烯基單體、具有磺酸基的乙烯基單體、具有磷酸基的乙烯基單體等。
作為具有羧基的乙烯基單體，可列舉(甲基)丙烯酸、乙烯基苯甲酸、馬來酸、馬來酸單烷基酯、富馬酸、衣康酸、丁烯酸、肉桂酸、丙烯酸二聚物等。另外，亦可利用(甲基)丙烯酸2-羥基乙 酯等具有羥基的單體與馬來酸酐、鄰苯二甲酸酐、琥珀酸酐、環己烷二羧酸酐般的環狀酐的加成反應物、ω-羧基-聚己內酯單(甲基)丙烯酸酯等。另外，亦可使用馬來酸酐、衣康酸酐、檸康酸酐等含酐的單體作為羧基的前驅物。其中，就未曝光部的顯影去除性的觀點而言，較佳為(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯等具有羥基的單體與馬來酸酐、鄰苯二甲酸酐、琥珀酸酐、環己烷二羧酸酐般的環狀酐的加成反應物。
作為具有磺酸基的乙烯基單體，可列舉2-丙烯醯胺-2-甲基丙磺酸等。
作為具有磷酸基的乙烯基單體，可列舉磷酸單(2-丙烯醯基氧基乙酯)、磷酸單(1-甲基-2-丙烯醯基氧基乙酯)等。
另外，作為具有酸基的重複單元，可參考日本專利特開2008-165059號公報的段落編號0067~段落編號0069的記載，將該內容包含於本說明書中。
另外，用作分散劑的樹脂亦較佳為接枝共聚物。接枝共聚物藉由接枝鏈而具有與溶劑的親和性，故著色劑的分散性、及經時後的分散穩定性優異。另外，組成物中，藉由接枝鏈的存在而具有與聚合性化合物及鹼可溶性樹脂等的親和性，因此可難以於鹼顯影中產生殘渣。
再者，本發明中，所謂接枝共聚物，是指具有接枝鏈的樹脂。另外，所謂接枝鏈，是表示自聚合物的主鏈的根部直至從主鏈分支的基的末端為止。
本發明中，作為接枝共聚物，較佳為具有除氫原子以外的原子數為40~10000的範圍的接枝鏈的樹脂。
另外，每一條接枝鏈的除氫原子以外的原子數較佳為40~10000，更佳為50~2000，進而佳為60~500。
作為接枝共聚物的主鏈結構，可列舉(甲基)丙烯酸樹脂、聚酯樹脂、聚胺基甲酸酯樹脂、聚脲樹脂、聚醯胺樹脂、聚醚樹脂等。其中，較佳為(甲基)丙烯酸樹脂。
作為接枝共聚物的接枝鏈，為了提高接枝部位與溶劑的相互作用性，藉此提高分散性，較佳為具有聚(甲基)丙烯酸、聚酯、或聚醚的接枝鏈，更佳為具有聚酯或聚醚的接枝鏈。
接枝共聚物中，相對於接枝共聚物的總質量，以質量換算計較佳為以2質量%~90質量%的範圍包含具有接枝鏈的重複單元，更佳為以5質量%~30質量%的範圍包含具有接枝鏈的重複單元。若具有接枝鏈的重複單元的含量為該範圍內，則著色劑的分散性良好。
作為藉由自由基聚合來製造接枝共聚物時所使用的巨分子單體，可使用公知的巨分子單體，可列舉東亞合成(股)製造的巨分子單體AA-6(末端基為甲基丙烯醯基的聚甲基丙烯酸甲酯)、AS-6(末端基為甲基丙烯醯基的聚苯乙烯)、AN-6S(末端基為甲基丙烯醯基的苯乙烯與丙烯腈的共聚物)、AB-6(末端基為甲基丙烯醯基的聚丙烯酸丁酯)、大賽璐(Daicel)化學工業(股)製造的皮拉克賽爾(Placcel)FM5(甲基丙烯酸2-羥基乙酯的ε- 己內酯5莫耳當量加成品)、FA10L(丙烯酸2-羥基乙酯的ε-己內酯10莫耳當量加成品)、及日本專利特開平2-272009號公報中記載的聚酯系巨分子單體等。
本發明中，作為接枝共聚物，亦可較佳地使用於主鏈及側鏈的至少一者包含氮原子的寡聚亞胺(oligoimine)系接枝共聚物。
作為寡聚亞胺系接枝共聚物，較佳為具有重複單元與側鏈、且於主鏈及側鏈的至少一者具有鹼性氮原子的樹脂，所述重複單元含有具有pKa 14以下的官能基的部分結構X，所述側鏈包含原子數40~10,000的寡聚物鏈或聚合物鏈Y。
此處，所謂鹼性氮原子，只要為呈鹼性的氮原子，則並無特別限制。寡聚亞胺系接枝共聚物較佳為含有具有鹼強度pKb 14以下的氮原子的結構，更佳為含有具有pKb 10以下的氮原子的結構。
本發明中所謂鹼強度pKb，是指水溫25℃下的pKb，且為用於定量地表示鹼的強度的指標之一，與鹼性度常數為相同含義。鹼強度pKb與後述的酸強度pKa處於pKb=14-pKa的關係。
寡聚亞胺系接枝共聚物特佳為具有重複單元(i)與側鏈(ii)，所述重複單元(i)為選自聚(低級伸烷基亞胺)系重複單元、聚烯丙基胺系重複單元、聚二烯丙基胺系重複單元、間二甲苯二胺-表氯醇縮聚物系重複單元、及聚乙烯基胺系重複單元中的至少一種具有鹼性氮原子的重複單元，並含有鍵結於鹼性氮原子、且具有pKa 14以下的官能基的部分結構X，所述側鏈(ii)包含原 子數40~10,000的寡聚物鏈或聚合物鏈Y。
作為寡聚亞胺系接枝共聚物，可列舉包含下述通式(I-1)所表示的重複單元、及通式(I-2)所表示的重複單元的樹脂。
Figure 105127849-A0305-02-0057-21
通式(I-1)及通式(I-2)中，R1及R2分別獨立地表示氫原子、鹵素原子或烷基，a分別獨立地表示1~5的整數，*表示重複單元間的連結部，X表示具有pKa 14以下的官能基的基，Y表示原子數40~10,000的寡聚物鏈或聚合物鏈。
寡聚亞胺系接枝共聚物較佳為進而包含通式(I-3)所表示的重複單元。根據該態樣，顏料體的分散穩定性進一步提高。
Figure 105127849-A0305-02-0057-22
通式(I-3)中，R1、R2及a與通式(I-1)中的R1、R2及a為相同含義。Y'表示具有陰離子基的原子數40~10,000的寡聚物鏈或聚合物鏈。通式(I-3)所表示的重複單元可藉由將具有與胺反應而形成鹽的基的寡聚物或聚合物添加至在主鏈部具有一級胺基或二級胺基的樹脂並使其反應來形成。
通式(I-1)、通式(I-2)及通式(I-3)中，R1及R2較佳為氫原子。就原料獲得性的觀點而言，a較佳為2。
寡聚亞胺系接枝共聚物除通式(I-1)、通式(I-2)及通式(I-3)所表示的重複單元以外，亦可包含含有一級胺基或三級胺基的低級伸烷基亞胺作為重複單元。再者，低級伸烷基亞胺重複單元中的氮原子進而亦可鍵結有X、Y或Y'所示的基。
於寡聚亞胺系接枝共聚物中所含的所有重複單元中，通式(I-1)所表示的重複單元較佳為含有1莫耳%~80莫耳%，最佳為含有3莫耳%~50莫耳%。
於寡聚亞胺系接枝共聚物中所含的所有重複單元中，通式(I-2)所表示的重複單元較佳為含有10莫耳%~90莫耳%，最佳為含有30莫耳%~70莫耳%。
就分散穩定性及親疏水性的平衡的觀點而言，重複單元(I-1)及重複單元(I-2)的含有比[(I-1)：(I-2)]較佳為以莫耳比計為10：1~1：10的範圍，更佳為1：1~1：10的範圍。
再者，視需要而併用的通式(I-3)所表示的重複單元中，包含原子數40~10,000的寡聚物鏈或聚合物鏈Y'的部分結構以離 子的形式鍵結於主鏈的氮原子上，寡聚亞胺系接枝共聚物中所含的所有重複單元中，就效果的觀點而言，較佳為含有0.5莫耳%~20莫耳%，最佳為含有1莫耳%~10莫耳%。再者，聚合物鏈Y'以離子的形式進行鍵結可藉由紅外分光法或鹼滴定來確認。
(具有pKa 14以下的官能基的部分結構X)
部分結構X具有水溫25℃下的pKa為14以下的官能基。此處所述的「pKa」是指「化學便覽(II)」(修訂4版、1993年、日本化學會編、丸善股份有限公司)中所記載的定義。
「pKa 14以下的官能基」只要為物性滿足該條件者，則其結構等並無特別限定，可列舉為公知的官能基且pKa滿足所述範圍者，特佳為pKa為12以下的官能基，最佳為pKa為11以下的官能基。作為部分結構X，具體而言，例如可列舉：羧酸基(pKa：3~5左右)、磺酸基(pKa：-3~-2左右)、-COCH2CO-(pKa：8~10左右)、-COCH2CN(pKa：8~11左右)、-CONHCO-、酚性羥基、-RFCH2OH或-(RF)2CHOH(RF表示全氟烷基。pKa：9~11左右)、磺醯胺基(pKa：9~11左右)等，特佳為羧酸基(pKa：3~5左右)、磺酸基(pKa：-3~-2左右)、-COCH2CO-(pKa：8~10左右)。
部分結構X較佳為直接鍵結於鹼性氮原子。鹼性氮原子與部分結構X可以不僅進行共價鍵結而且進行離子鍵結來形成鹽的態樣加以連結。
作為部分結構X，特佳為具有下述通式(V-1)、通式(V-2) 或通式(V-3)所表示的結構者。
Figure 105127849-A0305-02-0060-23
通式(V-1)、通式(V-2)中，U表示單鍵或二價連結基。d及e分別獨立地表示0或1。通式(V-3)中，Q表示醯基或烷氧基羰基。
作為U所表示的二價連結基，例如可列舉可具有氧原子的伸烷基、伸芳基、伸烷基氧基等，特佳為碳數1~30的伸烷基或碳數6~20的伸芳基，最佳為碳數1~20的伸烷基或碳數6~15的伸芳基。另外，就生產性的觀點而言，d較佳為1，且e較佳為0。
Q表示醯基或烷氧基羰基。作為Q中的醯基，較佳為碳數1~30的醯基，特佳為乙醯基。作為Q中的烷氧基羰基，就製造的容易性、原料(X的前驅物X')的獲得性的觀點而言，Q較佳為乙醯基。
(原子數40~10,000的寡聚物鏈或聚合物鏈Y)
作為原子數40~10,000的寡聚物鏈或聚合物鏈Y，可列舉可與寡聚亞胺系接枝共聚物的主鏈部連結的聚酯、聚醯胺、聚醯亞 胺、聚(甲基)丙烯酸酯等公知的聚合物鏈。Y中的與寡聚亞胺系接枝共聚物的鍵結部位較佳為Y的末端。
Y較佳為與鹼性氮原子鍵結。鹼性氮原子與Y的鍵結方式為共價鍵結、離子鍵結、或共價鍵結及離子鍵結的混合。鹼性氮原子與Y的鍵結方式的比率較佳為共價鍵結：離子鍵結=100：0~0：100，更佳為95：5~5：95，最佳為90：10~10：90。Y較佳為與鹼性氮原子形成醯胺鍵或羧酸鹽而進行離子鍵結。
作為寡聚物鏈或聚合物鏈Y的原子數，就分散性、分散穩定性、顯影性的觀點而言，較佳為50~5,000，更佳為60~3,000。
Y的數量平均分子量可藉由利用GPC法的聚苯乙烯換算值來測定。Y的數量平均分子量特佳為1,000~50,000，就分散性、分散穩定性、顯影性的觀點而言，最佳為1,000~30,000。
Y所示的側鏈結構較佳為相對於主鏈連鏈而於樹脂1分子中連結兩個以上，最佳為連結五個以上。
關於Y的詳細情況，可參考日本專利特開2013-064979號公報的段落編號0086~段落編號0098的記載，將該些內容併入至本說明書中。
所述寡聚亞胺系接枝共聚物可利用日本專利特開2013-064979號公報的段落編號0110~段落編號0117中記載的方法來合成。
所述寡聚亞胺系接枝共聚物的具體例例如可列舉以下。另外，可列舉日本專利特開2013-064979號公報的段落編號0099~ 段落編號0109、段落編號0119~段落編號0124中所記載的樹脂，將該些內容併入至本說明書中。
Figure 105127849-A0305-02-0062-24
本發明中，作為接枝共聚物，亦可使用包含下述式(1)~式(4)的任一者所表示的重複單元的共聚物。該接枝共聚物可特佳地用作黑色顏料的分散劑。
[化21]
Figure 105127849-A0305-02-0063-25
式(1)~式(4)中，W1、W2、W3、及W4分別獨立地表示氧原子或NH。W1、W2、W3、及W4較佳為氧原子。
式(1)~式(4)中，X1、X2、X3、X4、及X5分別獨立地表示氫原子或一價有機基。作為X1、X2、X3、X4、及X5，就合成方面的制約的觀點而言，較佳為分別獨立地為氫原子或碳數1~12的烷基，更佳為分別獨立地為氫原子或甲基，特佳為甲基。
式(1)~式(4)中，Y1、Y2、Y3、及Y4分別獨立地表示二價連結基，連結基於結構方面並無特別制約。作為Y1、Y2、Y3、及Y4所表示的二價連結基，具體而言可列舉下述(Y-1)~(Y-21)的連結基等作為例子。下述所示的結構中，A、B分別是指與式(1)~式(4)中的左末端基、右末端基的鍵結部位。
[化22]
Figure 105127849-A0305-02-0064-27
式(1)~式(4)中，Z1、Z2、Z3、及Z4分別獨立地表示一價有機基。有機基的結構並無特別限定，具體而言可列舉：烷基、羥基、烷氧基、芳基氧基、雜芳基氧基、烷基硫醚基、芳基硫醚基、雜芳基硫醚基及胺基等。該些中，作為Z1、Z2、Z3、及Z4所表示的有機基，特別是就提高分散性的觀點而言，較佳為具有立體排斥效果的基，較佳為分別獨立地為碳數5至24的烷基 或烷氧基，其中，特佳為分別獨立地為碳數5至24的分支烷基、碳數5至24的環狀烷基、或碳數5至24的烷氧基。再者，烷氧基中所含的烷基可為直鏈狀、分支鏈狀、環狀的任一種。
式(1)~式(4)中，n、m、p及q分別獨立地為1至500的整數。
另外，式(1)及式(2)中，j及k分別獨立地表示2~8的整數。就分散穩定性、顯影性的觀點而言，式(1)及式(2)中的j及k較佳為4~6的整數，最佳為5。
式(3)中，R3表示分支或直鏈的伸烷基，較佳為碳數1~10的伸烷基，更佳為碳數2或3的伸烷基。當p為2~500時，存在多個的R3彼此可相同亦可不同。
式(4)中，R4表示氫原子或一價有機基，該一價有機基於結構方面並無特別限定。R4較佳為可列舉氫原子、烷基、芳基、及雜芳基，進而佳為氫原子、或烷基。於R4為烷基的情況下，作為烷基，較佳為碳數1~20的直鏈狀烷基、碳數3~20的分支狀烷基、或碳數5~20的環狀烷基，更佳為碳數1~20的直鏈狀烷基，特佳為碳數1~6的直鏈狀烷基。式(4)中，當q為2~500時，於接枝共聚物中存在多個的X5及R4彼此可相同亦可不同。
作為式(1)所表示的重複單元，就分散穩定性、顯影性的觀點而言，更佳為下述式(1A)所表示的重複單元。
另外，作為式(2)所表示的重複單元，就分散穩定性、顯影性的觀點而言，更佳為下述式(2A)所表示的重複單元。
另外，作為式(3)所表示的重複單元，就分散穩定性、顯影性的觀點而言，更佳為下述式(3A)或式(3B)所表示的重複單元。
Figure 105127849-A0305-02-0066-28
式(1A)中，X1、Y1、Z1及n與式(1)中的X1、Y1、Z1及n為相同含義，較佳範圍亦相同。
式(2A)中，X2、Y2、Z2及m與式(2)中的X2、Y2、Z2及m為相同含義，較佳範圍亦相同。
式(3A)或式(3B)中，X3、Y3、Z3及p與式(3)中的X3、Y3、Z3及p為相同含義，較佳範圍亦相同。
另外，所述接枝共聚物亦較佳為除所述式(1)~式(4) 所表示的重複單元以外亦具有疏水性重複單元。其中，本發明中，疏水性重複單元為不具有酸基(例如，羧酸基、磺酸基、磷酸基、酚性羥基等)的重複單元。
疏水性重複單元較佳為源自(對應於)ClogP值為1.2以上的化合物(單體)的重複單元，更佳為源自ClogP值為1.2~8的化合物的重複單元。
ClogP值是利用可自日光化學信息系統股份有限公司(Daylight Chemical Information System,Inc.)獲得的程式「CLOGP」進行計算而得的值。該程式提供藉由漢施、里奧(Hansch,Leo)的片段法(fragment approach)(參照下述文獻)算出的「計算logP」的值。片段法是基於化合物的化學結構將化學結構分割為部分結構(片段)，並將相對於該片段分配的logP貢獻值加以合計，藉此推算化合物的logP值。其詳細情況記載於以下的文獻中。本發明中是使用藉由程式CLOGP v4.82計算的ClogP值。
A.J.里奧(A.J.Leo)的「綜合醫藥化學(Comprehensive Medicinal Chemistry)」第4卷，C.漢施(C.Hansch)、P.G.賽門(P.G.Sammnens)、J.B.泰勒(J.B.Taylor)與C.A.拉姆登(C.A.Ramsden)編輯、第295頁、培格曼出版社(Pergamon Press)、1990；C.漢施(C.Hansch)與A.J.里奧(A.J.Leo)的「化學和生物中的相關分析用的取代基常數(SUbstituent Constants For Correlation Analysis in Chemistry and Biology)」、約翰威立父子出版公司(John Wiley & Sons)；A.J.里奧(A.J.Leo)「由結構計算logPoct (Calculating logPoct from structure)」、化學評論(Chem.Rev.)93、1281-1306、1993。
logP是指分配係數P(Partition Coefficient)的常用對數，是以定量的數值表示某有機化合物於油(通常為1-辛醇)與水的兩相系的平衡下如何分配的物性值，由以下的式子表示。
logP=log(Coil/Cwater)
式中，Coil表示油相中的化合物的莫耳濃度，Cwater表示水相中的化合物的莫耳濃度。
logP的值若以0為中心向正數變大，則是指油溶性增大，若為負數且絕對值變大，則是指水溶性增大，與有機化合物的水溶性處於負相關關係，被廣泛利用為評估有機化合物的親疏水性的參數。
接枝共聚物較佳為具有選自源自下述通式(i)~通式(iii)所表示的單體的重複單元中的一種以上的重複單元作為疏水性重複單元。
[化24]
Figure 105127849-A0305-02-0069-29
所述式(i)~式(iii)中，R1、R2、及R3分別獨立地表示氫原子、鹵素原子(例如，氟原子、氯原子、溴原子等)、或碳原子數為1~6的烷基(例如，甲基、乙基、丙基等)。
R1、R2、及R3更佳為氫原子、或碳原子數為1~3的烷基，最佳為氫原子或甲基。R2及R3特佳為氫原子。
X表示氧原子(-O-)或亞胺基(-NH-)，較佳為氧原子。
L為單鍵或二價連結基。作為二價連結基，可列舉：二價脂肪族基(例如，伸烷基、經取代的伸烷基、伸烯基、經取代的伸烯基、伸炔基、經取代的伸炔基)、二價芳香族基(例如，伸芳基、經取代的伸芳基)、二價雜環基、氧原子(-O-)、硫原子(-S-)、亞胺基(-NH-)、經取代的亞胺基(-NR31-，此處R31為脂肪族基、芳香族基或雜環基)、羰基(-CO-)、或該些的組合等。
L較佳為單鍵、伸烷基或包含氧伸烷基結構的二價連結基。氧伸烷基結構更佳為氧伸乙基結構或氧伸丙基結構。另外，L亦可包含重複含有2個以上的氧伸烷基結構的聚氧伸烷基結構。作為聚氧伸烷基結構，較佳為聚氧伸乙基結構或聚氧伸丙基結構。聚氧伸乙基結構由-(OCH2CH2)n-表示，n較佳為2以上的整數，更 佳為2~10的整數。
作為Z，可列舉：脂肪族基(例如，烷基、經取代的烷基、不飽和烷基、經取代的不飽和烷基)、芳香族基(例如，伸芳基、經取代的伸芳基)、雜環基、氧原子(-O-)、硫原子(-S-)、亞胺基(-NH-)、經取代的亞胺基(-NR31-，此處R31為脂肪族基、芳香族基或雜環基)、羰基(-CO-)、或該些的組合等。
脂肪族基亦可具有環狀結構或分支結構。脂肪族基的碳原子數較佳為1~20，更佳為1~15，進而佳為1~10。脂肪族基中可進而包含集合環烴基、交聯環式烴基，集合環烴基的例子包含雙環己基、全氫萘基、聯苯基、4-環己基苯基等。作為交聯環式烴環，例如可列舉：蒎烷、莰烷、降蒎烷、降莰烷、雙環辛烷環(雙環[2.2.2]辛烷環、雙環[3.2.1]辛烷環等)等二環式烴環，癸烷(Homobredane)、金剛烷、三環[5.2.1.02,6]癸烷、三環[4.3.1.12,5]十一烷環等三環式烴環，四環[4.4.0.12,5.17,10]十二烷、全氫-1,4-甲橋-5,8-甲橋萘環等四環式烴環等。另外，交聯環式烴環亦包含縮合環式烴環，例如全氫萘(十氫萘)、全氫蒽、全氫菲、全氫苊、全氫茀、全氫茚、全氫萉環等5員環烷烴環~8員環烷烴環的多個縮合而成的縮合環。
較不飽和脂肪族基而言，脂肪族基較佳為飽和脂肪族基。另外，脂肪族基亦可具有取代基。取代基的例子可列舉：鹵素原子、芳香族基及雜環基。其中，脂肪族基並不具有酸基作為取代基。
芳香族基的碳原子數較佳為6~20，更佳為6~15，進 而佳為6~10。另外，芳香族基亦可具有取代基。取代基的例子可列舉：鹵素原子、脂肪族基、芳香族基及雜環基。其中，芳香族基並不具有酸基作為取代基。
雜環基較佳為具有5員環或6員環作為雜環。亦可於雜環縮合其他雜環、脂肪族環或芳香族環。另外，雜環基亦可具有取代基。作為取代基的例子，可列舉：鹵素原子、羥基、側氧基(=O)、硫酮基(=S)、亞胺基(=NH)、經取代的亞胺基(=N-R32，此處R32為脂肪族基、芳香族基或雜環基)、脂肪族基、芳香族基及雜環基。其中，雜環基並不具有酸基作為取代基。
所述式(iii)中，R4、R5、及R6分別獨立地表示氫原子、鹵素原子(例如，氟原子、氯原子、溴原子等)、或碳原子數為1~6的烷基(例如，甲基、乙基、丙基等)、Z或-L-Z。此處，L及Z與所述的L及Z為相同含義。R4、R5、及R6較佳為氫原子、或碳數為1~3的烷基，更佳為氫原子。
所述通式(i)所表示的單體較佳為R1、R2、及R3為氫原子或甲基、L為單鍵或伸烷基或包含氧伸烷基結構的二價連結基、X為氧原子或亞胺基、Z為脂肪族基、雜環基或芳香族基的化合物。所述通式(ii)所表示的單體較佳為R1為氫原子或甲基、L為伸烷基、Z為脂肪族基、雜環基或芳香族基的化合物。所述通式(iii)所表示的單體較佳為R4、R5、及R6為氫原子或甲基、Z為脂肪族基、雜環基或芳香族基的化合物。
作為式(i)~式(iii)所表示的具代表性的化合物的例 子，可列舉選自丙烯酸酯類、甲基丙烯酸酯類、苯乙烯類等中的自由基聚合性化合物。再者，作為式(i)~式(iii)所表示的化合物的例子，可參照日本專利特開2013-249417號公報的段落0089~段落0093中記載的化合物，將該些內容併入至本說明書中。
接枝共聚物中，相對於接枝共聚物的總質量，以質量換算計較佳為以10質量%~90質量%的範圍包含疏水性重複單元，更佳為以20質量%~80質量%的範圍包含疏水性重複單元。含量為所述範圍的情況下可進行充分的圖案形成。
所述接枝共聚物較佳為除所述式(1)~式(4)所表示的重複單元以外亦包含具有可與著色劑等形成相互作用的官能基的重複單元。
作為所述酸基，例如有羧酸基、磺酸基、磷酸基、或酚性羥基等，較佳為羧酸基、磺酸基、及磷酸基中的至少一種，特佳者為對黑色顏料等著色劑的吸附力良好、且其分散性高的羧酸基。
接枝共聚物可包含一種或兩種以上的具有酸基的重複單元。
接枝共聚物可含有具有酸基的重複單元，亦可不含有具有酸基的重複單元，於含有的情況下，相對於接枝共聚物的總質量，具有酸基的重複單元的含量以質量換算計較佳為以5質量%~80質量%為宜，更佳為10質量%~60質量%。
作為所述鹼性基，例如有一級胺基、二級胺基、三級胺 基、包含N原子的雜環基、醯胺基等，特佳者為對著色劑的吸附力良好、且其分散性高的三級胺基。接枝共聚物可具有一種或兩種以上的該些鹼性基。
接枝共聚物可含有具有鹼性基的重複單元，亦可不含有具有鹼性基的重複單元，於含有的情況下，相對於接枝共聚物的總質量，具有鹼性基的重複單元的含量以質量換算計較佳為0.01質量%~50質量%，就抑制對顯影性的阻礙的觀點而言，更佳為0.01質量%~30質量%。
作為所述配位性基、及具有反應性的官能基，例如可列舉：乙醯基乙醯氧基、三烷氧基矽烷基、異氰酸酯基、酸酐基、酸性氯化物基等。特佳者為對著色劑的吸附力良好且分散性高的乙醯基乙醯氧基。接枝共聚物可具有一種或兩種以上的該些基。
接枝共聚物可含有具有配位性基的重複單元、或包含具有反應性的官能基的重複單元，亦可不含有具有配位性基的重複單元、或包含具有反應性的官能基的重複單元，於含有的情況下，相對於接枝共聚物的總質量，該些重複單元的含量以質量換算計較佳為10質量%~80質量%，就抑制對顯影性的阻礙的觀點而言，更佳為20質量%~60質量%。
於接枝共聚物具有於接枝鏈以外可與著色劑產生相互作用的官能基的情況下，對於該些官能基以何種方式導入並無特別限定，接枝共聚物較佳為具有選自源自下述通式(iv)~通式(vi)所表示的單體的重複單元中的一種以上的重複單元。
Figure 105127849-A0305-02-0074-30
通式(iv)~通式(vi)中，R11、R12、及R13分別獨立地表示氫原子、鹵素原子(例如，氟原子、氯原子、溴原子等)、或碳原子數為1~6的烷基(例如，甲基、乙基、丙基等)。
通式(iv)~通式(vi)中，R11、R12、及R13更佳為分別獨立地為氫原子、或碳原子數為1~3的烷基，最佳為分別獨立地為氫原子或甲基。通式(iv)中，R12及R13特佳為分別為氫原子。
通式(iv)中的X1表示氧原子(-O-)或亞胺基(-NH-)，較佳為氧原子。
通式(v)中的Y表示次甲基或氮原子。
通式(iv)~通式(v)中的L1表示單鍵或二價連結基。作為二價連結基的例子，可列舉：二價脂肪族基(例如，伸烷基、經取代的伸烷基、伸烯基、經取代的伸烯基、伸炔基、及經取代的伸炔基)、二價芳香族基(例如，伸芳基、及經取代的伸芳基)、二價雜環基、氧原子(-O-)、硫原子(-S-)、亞胺基(-NH-)、經取代的亞胺基鍵(-NR31'-，此處R31'為脂肪族基、芳香族基或雜環 基)、羰基鍵(-CO-)、或該些的組合等。
L1較佳為單鍵、伸烷基或包含氧伸烷基結構的二價連結基。氧伸烷基結構更佳為氧伸乙基結構或氧伸丙基結構。另外，L1亦可包含重複含有2個以上的氧伸烷基結構的聚氧伸烷基結構。作為聚氧伸烷基結構，較佳為聚氧伸乙基結構或聚氧伸丙基結構。聚氧伸乙基結構由-(OCH2CH2)n-表示，n較佳為2以上的整數，更佳為2~10的整數。
通式(iv)~通式(vi)中，Z1表示於接枝鏈以外可與著色劑產生相互作用的官能基，較佳為羧酸基、三級胺基，更佳為羧酸基。
通式(vi)中，R14、R15、及R16分別獨立地表示氫原子、鹵素原子(例如，氟原子、氯原子、溴原子等)、碳原子數為1~6的烷基(例如，甲基、乙基、丙基等)、-Z1、或-L1-Z1。此處，L1及Z1與所述中的L1及Z1為相同含義，較佳例亦相同。作為R14、R15、及R16，較佳為分別獨立地為氫原子、或碳數為1~3的烷基，更佳為分別獨立地為氫原子。
通式(iv)所表示的單體較佳為R11、R12、及R13分別獨立地為氫原子或甲基、L1為伸烷基或包含氧伸烷基結構的二價連結基、X1為氧原子或亞胺基、Z1為羧酸基的化合物。通式(v)所表示的單體較佳為R1為氫原子或甲基、L1為伸烷基、Z1為羧酸基、Y為次甲基的化合物。通式(vi)所表示的單體較佳為R14、R15、及R16分別獨立地為氫原子或甲基、L1為單鍵或伸烷基、Z1 為羧酸基的化合物。
作為所述接枝共聚物的具體例，可列舉以下。另外，可參照日本專利特開2013-249417號公報的段落0127~段落0129中記載的高分子化合物，並將該些內容併入至本說明書中。
Figure 105127849-A0305-02-0076-31
<鹼可溶性樹脂>
本發明的著色組成物較佳為含有鹼可溶性樹脂作為樹脂。藉由含有鹼可溶性樹脂，顯影性及圖案形成性得到提高。再者，鹼可溶性樹脂亦可用作分散劑及/或黏合劑。
鹼可溶性樹脂的分子量並無特別限定，重量平均分子量(Mw)較佳為5,000~100,000。另外，數量平均分子量(Mn)較佳為1,000~20,000。
作為鹼可溶性樹脂，可自如下鹼可溶性樹脂中適宜選擇，所述鹼可溶性樹脂為線狀有機高分子聚合物，且於分子(較佳為以 丙烯酸系共聚物、苯乙烯系共聚物為主鏈的分子)中具有至少一個促進鹼可溶性的基。
作為鹼可溶性樹脂，就耐熱性的觀點而言，較佳為聚羥基苯乙烯系樹脂、聚矽氧烷系樹脂、丙烯酸系樹脂、丙烯醯胺系樹脂、丙烯酸/丙烯醯胺共聚物樹脂，就控制顯影性的觀點而言，較佳為丙烯酸系樹脂、丙烯醯胺系樹脂、丙烯酸/丙烯醯胺共聚物樹脂。
作為促進鹼可溶性的基(以下，亦稱為酸基)，例如可列舉羧基、磷酸基、磺酸基、酚性羥基等，較佳為於有機溶劑中可溶且可藉由弱鹼性水溶液顯影者，可列舉(甲基)丙烯酸基作為特佳者。該些酸基可僅為一種，亦可為兩種以上。
鹼可溶性樹脂的製造中例如可應用利用公知的自由基聚合法的方法。藉由自由基聚合法製造鹼可溶性樹脂時的溫度、壓力、自由基起始劑的種類及其量、溶媒的種類等的聚合條件對於發明所屬技術領域中具有通常知識者而言可容易地設定，並且亦可實驗性地決定條件。
作為鹼可溶性樹脂，較佳為於側鏈上具有羧酸的聚合物，可列舉甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸共聚物、衣康酸共聚物、丁烯酸共聚物、馬來酸共聚物、部分酯化馬來酸共聚物、酚醛清漆型樹脂等鹼可溶性酚樹脂等，以及於側鏈上具有羧基的酸性纖維素衍生物、於具有羥基的聚合物中加成有酸酐而成者。特別是(甲基)丙烯酸、和可與其進行共聚的其他單體的共聚物作為鹼可溶 性樹脂而較佳。作為可與(甲基)丙烯酸進行共聚的其他單體，可列舉(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸芳基酯、乙烯基化合物等。作為(甲基)丙烯酸烷基酯及(甲基)丙烯酸芳基酯，可列舉(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸甲苯酯、(甲基)丙烯酸萘酯、(甲基)丙烯酸環己酯等，作為乙烯基化合物，可列舉苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、丙烯腈、乙酸乙烯酯、N-乙烯基吡咯啶酮、甲基丙烯酸四氫糠酯、聚苯乙烯巨分子單體、聚甲基丙烯酸甲酯巨分子單體等，作為日本專利特開平10-300922號公報中記載的N位取代馬來醯亞胺單體，可列舉N-苯基馬來醯亞胺、N-環己基馬來醯亞胺等。再者，該些可與(甲基)丙烯酸進行共聚的其他單體可僅為一種，亦可為兩種以上。
另外，為了提高本發明中的著色組成物的交聯效率，亦可使用具有聚合性基的鹼可溶性樹脂。作為聚合性基，可列舉(甲基)烯丙基、(甲基)丙烯醯基等。具有聚合性基的鹼可溶性樹脂中，於側鏈含有聚合性基的鹼可溶性樹脂等有用。
作為含有聚合性基的鹼可溶性樹脂，可列舉戴娜爾(Dianal)NR系列(三菱麗陽股份有限公司製造)，佛陀瑪(Photomer)6173(含COOH的聚胺基甲酸酯丙烯酸寡聚物，鑽石三葉草有限公司(Diamond Shamrock Co.Ltd.,)製造)，比斯克(Biscoat)R-264、 KS抗蝕劑106(均為大阪有機化學工業股份有限公司製造)，賽庫洛瑪(Cyclomer)P系列(例如，ACA230AA)、普拉賽爾(Placcel)CF200系列(均為大賽璐(Daicel)化學工業股份有限公司製造)，艾巴克力(Ebecryl)3800(大賽璐UCB股份有限公司製造)，壓克力庫亞(Acrycure)RD-F8(日本觸媒公司製造)等。
鹼可溶性樹脂可較佳地使用(甲基)丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸/(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯共聚物、包含(甲基)丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸/其他單體的多元共聚物。另外，亦可較佳地使用將(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯共聚而成者、日本專利特開平7-140654號公報中記載的(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯/聚苯乙烯巨分子單體/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物、丙烯酸2-羥基-3-苯氧基丙酯/聚甲基丙烯酸甲酯巨分子單體/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸2-羥基乙酯/聚苯乙烯巨分子單體/甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸2-羥基乙酯/聚苯乙烯巨分子單體/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸共聚物等。
另外，作為市售品，例如亦可使用FF-426(藤倉化成公司製造)等。
鹼可溶性樹脂亦較佳為包含如下的聚合物(a)，所述聚合物(a)是將包含下述通式(ED1)所示的化合物及/或下述通式(ED2)所表示的化合物(以下，有時將該些化合物亦稱為「醚二聚物」)的單體成分加以聚合而成。
Figure 105127849-A0305-02-0080-32
通式(ED1)中，R1及R2分別獨立地表示氫原子或可具有取代基的碳數1~25的烴基。
Figure 105127849-A0305-02-0080-33
通式(ED2)中，R表示氫原子或碳數1~30的有機基。作為通式(ED2)的具體例，可參考日本專利特開2010-168539號公報的記載。
通式(ED1)中，R1及R2所表示的可具有取代基的碳數1~25的烴基並無特別限制，例如可列舉甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第三丁基、第三戊基、硬脂基、月桂基、2-乙基己基等直鏈狀或分支狀的烷基；苯基等芳基；環己基、第三丁基環己基、二環戊二烯基、三環癸基、異冰片基、金剛烷基、2-甲基-2-金剛烷基等脂環式基；1-甲氧基乙基、1-乙氧基乙基 等經烷氧基取代的烷基；苄基等經芳基取代的烷基等。該些中，就耐熱性的方面而言，特佳為甲基、乙基、環己基、苄基等般的難以藉由酸或熱而脫離的一級或二級碳的取代基。
作為醚二聚物的具體例，例如可參考日本專利特開2013-29760號公報的段落0317，將該內容併入至本說明書中。醚二聚物可僅為一種，亦可為兩種以上。源自通式(ED)所示的化合物的結構體亦可使其他單體共聚。
鹼可溶性樹脂亦可包含源自下述式(X)所示的化合物的結構單元。
Figure 105127849-A0305-02-0081-34
式(X)中，R1表示氫原子或甲基，R2表示碳數2~10的伸烷基，R3表示氫原子或可包含苯環的碳數1~20的烷基。n表示1~15的整數。
所述式(X)中，R2的伸烷基的碳數較佳為2~3。另外，R3的烷基的碳數為1~20，更佳為1~10，R3的烷基可包含苯環。作為R3所表示的包含苯環的烷基，可列舉苄基、2-苯基(異)丙基等。
作為鹼可溶性樹脂的具體例，可列舉以下。
Figure 105127849-A0305-02-0082-35
鹼可溶性樹脂可參考日本專利特開2012-208494號公報的段落0558~段落0571(對應的美國專利申請公開第2012/0235099號說明書的[0685]~[0700])以後的記載，將該些內容併入至本申請案說明書中。
進而，亦可使用日本專利特開2012-32767號公報中記載的段落編號0029~段落編號0063中記載的共聚物(B)及實施例中所使用的鹼可溶性樹脂、日本專利特開2012-208474號公報的段落編號0088~段落編號0098中記載的黏合劑樹脂及實施例中所使用的黏合劑樹脂、日本專利特開2012-137531號公報的段落編號0022~段落編號0032中記載的黏合劑樹脂及實施例中所使用的黏 合劑樹脂、日本專利特開2013-024934號公報的段落編號0132~段落編號0143中記載的黏合劑樹脂及實施例中所使用的黏合劑樹脂、日本專利特開2011-242752號公報的段落編號0092~段落編號0098及實施例中所使用的黏合劑樹脂、日本專利特開2012-032770號公報的段落編號0030~段落編號0072中記載的黏合劑樹脂。將該些內容併入至本申請案說明書中。
鹼可溶性樹脂的酸價較佳為30mgKOH/g~500mgKOH/g。下限更佳為50mgKOH/g以上，進而佳為70mgKOH/g以上。上限更佳為400mgKOH/g以下，進而佳為200mgKOH/g以下，特佳為150mgKOH/g以下，尤佳為120mgKOH/g以下。
相對於著色組成物的總固體成分，鹼可溶性樹脂的含量較佳為0.1質量%~20質量%。下限較佳為0.5質量%以上，更佳為1質量%以上，進而佳為2質量%以上，特佳為3質量%以上。上限更佳為12質量%以下，進而佳為10質量%以下。本發明的著色組成物可僅包含一種鹼可溶性樹脂，亦可包含兩種以上。於包含兩種以上的情況下，較佳為其合計量成為所述範圍。
[有機溶劑]
本發明的著色組成物亦可含有有機溶劑。
有機溶劑若滿足各成分的溶解性及著色組成物的塗佈性等，則基本上並無特別限制，較佳為考慮聚合性化合物、鹼可溶性樹脂等的溶解性、塗佈性、安全性來選擇。
作為有機溶劑，酯類例如可較佳地列舉：乙酸乙酯、乙 酸正丁酯、乙酸異丁酯、乙酸環己酯、甲酸戊酯、乙酸異戊酯、丙酸丁酯、丁酸異丙酯、丁酸乙酯、丁酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、氧基乙酸烷基酯(例：氧基乙酸甲酯、氧基乙酸乙酯、氧基乙酸丁酯(例如，甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯等))、3-氧基丙酸烷基酯類(例：3-氧基丙酸甲酯、3-氧基丙酸乙酯等(例如，3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯等))、2-氧基丙酸烷基酯類(例：2-氧基丙酸甲酯、2-氧基丙酸乙酯、2-氧基丙酸丙酯等(例如，2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯))、2-氧基-2-甲基丙酸甲酯及2-氧基-2-甲基丙酸乙酯(例如，2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯等)、丙酮酸甲酯、丙酮酸乙酯、丙酮酸丙酯、乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯、2-氧代丁酸甲酯、2-氧代丁酸乙酯等；以及醚類例如可較佳地列舉：二乙二醇二甲醚、四氫呋喃、乙二醇單甲醚、乙二醇單***、甲基溶纖劑乙酸酯、乙基溶纖劑乙酸酯、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單***、二乙二醇單丁醚、丙二醇單甲醚(MFG)、丙二醇單甲醚乙酸酯(Propylene glycol monomethyl ether acetate，PGMEA)、丙二醇單***乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯等；以及酮類例如可較佳地列舉：甲基乙基酮、環己酮、環戊酮、2-庚酮、3-庚酮等；以及芳香族烴類例如可較佳地列舉：甲苯、二甲苯等。
就所獲得的著色圖案的直線性更優異的理由而言，或就聚合性化合物、鹼可溶性樹脂等的溶解性、塗佈面狀的改良等的觀點而言，本發明的著色組成物較佳為併用兩種以上的該些有機溶劑。
該情況下，特佳為使用選自所述3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙基溶纖劑乙酸酯、乳酸乙酯、二乙二醇二甲醚、乙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、2-庚酮、環己酮、乙基卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯、丙二醇單甲醚(MFG)、及丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)中的兩種以上而構成的混合溶液。
本發明中，有機溶劑的過氧化物的含有率較佳為0.8mmol/L以下，更佳為實質上不含過氧化物。
就塗佈性的觀點而言，有機溶劑於著色組成物中的含量較佳為設為著色組成物的總固體成分濃度成為5質量%~80質量%的量，進而佳為5質量%~60質量%，特佳為10質量%~50質量%。
本發明的著色組成物可僅使用一種有機溶劑，如上所述，較佳為併用兩種以上。於併用兩種以上的情況下，較佳為其合計量成為所述範圍。
[界面活性劑]
就進一步提高塗佈性的觀點而言，本發明的著色組成物中亦可添加各種界面活性劑。作為界面活性劑，可使用氟系界面活性劑、非離子系界面活性劑、陽離子系界面活性劑、陰離子系界面 活性劑、矽酮系界面活性劑等各種界面活性劑。
例如，藉由含有氟系界面活性劑，製備成塗佈液時的溶液特性(特別是流動性)進一步提高。即，於使用含有氟系界面活性劑的著色組成物而形成膜的情況下，藉由使被塗佈面與塗佈液的界面張力下降，從而對被塗佈面的潤濕性得到改善，且對被塗佈面的塗佈性提高。因此，就即便於以少量的液量來形成數μm左右的薄膜的情況下，亦可更佳地進行厚度不均小的均勻厚度的膜形成的方面而言有效。
氟系界面活性劑中的氟含有率較佳為3質量%~40質量%，更佳為5質量%~30質量%，特佳為7質量%~25質量%。氟含有率為該範圍內的氟系界面活性劑於塗佈膜的厚度的均勻性及省液性等方面有效果，且著色組成物中的溶解性亦良好。
作為氟系界面活性劑，例如可列舉：美佳法(Megafac)F171、美佳法(Megafac)F172、美佳法(Megafac)F173、美佳法(Megafac)F176、美佳法(Mcgafac)F177、美佳法(Megafac)F141、美佳法(Megafac)F142、美佳法(Megafac)F143、美佳法(Megafac)F144、美佳法(Megafac)R30、美佳法(Megafac)F437、美佳法(Megafac)F475、美佳法(Megafac)F479、美佳法(Megafac)F482、美佳法(Megafac)F554、美佳法(Megafac)F780、美佳法(Megafac)F781(以上為迪愛生(DIC)(股)製造)；弗洛德(Fluorad)FC430、弗洛德(Fluorad)FC431、弗洛德(Fluorad)FC171(以上為住友3M(股)製造)；沙福隆(Surflon)S-382、 沙福隆(Surflon)SC-101、沙福隆(Surflon)SC-103、沙福隆(Surflon)SC-104、沙福隆(Surflon)SC-105、沙福隆(Surflon)SC1068、沙福隆(Surflon)SC-381、沙福隆(Surflon)SC-383、沙福隆(Surflon)S393、沙福隆(Surflon)KH-40(以上為旭硝子(股)製造)；PF636、PF656、PF6320、PF6520、PF7002(歐諾法(OMNOVA)公司製造)等。
亦可使用嵌段聚合物作為氟系界面活性劑，作為具體例，例如可列舉日本專利特開2011-89090號公報中所記載的化合物。
另外，亦可列舉下述式所表示的化合物(F-1)作為氟系界面活性劑。
再者，化合物(F-1)中，式中(A)及(B)所表示的結構單元的量分別為62莫耳%及38莫耳%。
式(B)所表示的結構單元中，a、b及c滿足a+c=14、b=17的關係。
下述化合物的重量平均分子量例如為15,311。
Figure 105127849-A0305-02-0087-36
另外，亦可例示下述化合物作為氟系界面活性劑。下述化合物的重量平均分子量例如為14,000。
Figure 105127849-A0305-02-0088-37
作為非離子系界面活性劑，具體而言可列舉丙三醇、三羥甲基丙烷、三羥甲基乙烷以及該些的乙氧基化物及丙氧基化物(例如，丙三醇丙氧基化物、甘油乙氧基化物等)、聚氧伸乙基月桂基醚、聚氧伸乙基硬脂基醚、聚氧伸乙基油烯基醚、聚氧伸乙基辛基苯基醚、聚氧伸乙基壬基苯基醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、脫水山梨糖醇脂肪酸酯(巴斯夫(BASF)公司製造的普魯洛尼克(Pluronic)L10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2、特托羅尼克(Tetronic)304、701、704、901、904、150R1)、索爾斯帕斯(Solsperse)20000(日本路博潤(Lubrizol)(股))等。另外，亦可使用竹本油脂(股)製造的皮奧寧(Pionin)D-6112-W，和光純藥工業公司製造的NCW-101、NCW-1001、 NCW-1002。
作為陽離子系界面活性劑，具體而言可列舉酞菁衍生物(商品名：埃夫卡(EFKA)-745，森下產業(股)製造)，有機矽氧烷聚合物KP341(信越化學工業(股)製造)，(甲基)丙烯酸系(共)聚合體珀利弗洛(Polyflow)No.75、No.90、No.95(共榮社化學(股)製造)，W001(裕商(股)製造)等。
作為陰離子系界面活性劑，具體而言可列舉W004、W005、W017(裕商(股)製造)等。
作為矽酮系界面活性劑，例如可列舉東麗道康寧(Toray Dow Corning)(股)製造的「東麗矽酮(Toray Silicone)DC3PA」、「東麗矽酮(Toray Silicone)SH7PA」、「東麗矽酮(Toray Silicone)DC11PA」、「東麗矽酮(Toray Silicone)SH21PA」、「東麗矽酮(Toray Silicone)SH28PA」、「東麗矽酮(Toray Silicone)SH29PA」、「東麗矽酮(Toray Silicone)SH30PA」、「東麗矽酮(Toray Silicone)SH8400」，邁圖高新材料(Momentive Performance Materials)公司製造的「TSF-4440」、「TSF-4300」、「TSF-4445」、「TSF-4460」、「TSF-4452」，信越矽酮股份有限公司製造的「KP341」、「KF6001」、「KF6002」，畢克化學(BYK Chemie)公司製造的「BYK307」、「BYK323」、「BYK330」等。
於本發明的著色組成物含有界面活性劑的情況下，相對於著色組成物的總質量，界面活性劑的含量較佳為0.001質量%~2.0質量%，更佳為0.005質量%~1.0質量%。
本發明的著色組成物可僅包含一種界面活性劑，亦可包含兩種以上。於包含兩種以上的情況下，較佳為其合計量成為所述範圍。
[紫外線吸收劑]
本發明的著色組成物較佳為進而含有紫外線吸收劑。本發明中所使用的光聚合起始劑的光反應性高，故有時亦於未曝光的部位進行反應，藉由含有紫外線吸收劑，可抑制未曝光的部位的反應。
作為紫外線吸收劑，例如可列舉水楊酸酯系、二苯甲酮系、苯并***系、氰基丙烯酸酯系、鎳螯合物系等，較佳為苯并***系化合物。
作為苯并***系化合物，例如可列舉2-(2H-苯并***-2-基)-4,6-雙(1-甲基-1-苯基乙基)苯酚、2-(2'-羥基-5'-甲基苯基)苯并***、2-(2'-羥基-3'-第三丁基-5'-甲基苯基)-5-氯苯并***、2-[2-羥基-3,5-雙(α,α-二甲基苄基)苯基]-2H-苯并***等。該些中，特佳為2-(2H-苯并***-2-基)-4,6-雙(1-甲基-1-苯基乙基)苯酚。作為市售的苯并***系化合物，可使用巴斯夫(BASF)公司製造的帝奴彬(TINUVIN)900、帝奴彬(TINUVIN)928、帝奴彬(TINUVIN)P、帝奴彬(TINUVIN)234、帝奴彬(TINUVIN)326、帝奴彬(TINUVIN)329等。
除此以外，作為本發明中可使用的紫外線吸收劑，可列舉苯基水楊酸酯、4-第三丁基苯基水楊酸酯、2,4-二-第三丁基苯基-3',5'- 二-第三丁基-4'-羥基苯甲酸酯、2,4-二羥基二苯甲酮、2-羥基-4-甲氧基二苯甲酮、2-羥基-4-正辛基氧基二苯甲酮、乙基-2-氰基-3,3-二苯基丙烯酸酯、2,2'-羥基-4-甲氧基二苯甲酮、鎳二丁基二硫代胺基甲酸酯、雙(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶)-癸二酸酯、4-羥基-2,2,6,6-四甲基哌啶縮合物、琥珀酸-雙(2,2,6,6-四甲基-4-哌啶)酯、7-{[4-氯-6-(二乙基胺基)-1,3,5-三嗪-2-基]胺基}-3-苯基香豆素等。該些紫外線吸收劑可併用兩種以上，並可以吸收所期望的波長區域的光的方式進行調整。
相對於總固體成分，本發明的著色組成物中的紫外線吸收劑的調配量較佳為1質量%~20質量%，更佳為2質量%~15質量%，進而佳為3質量%~10質量%。
[矽烷偶合劑]
本發明的著色組成物較佳為更含有矽烷偶合劑。矽烷偶合劑使著色組成物層與鄰接的層或基板之間的密接性提高。
所謂矽烷偶合劑是指於分子中具有水解性基與其以外的官能基的化合物。再者，烷氧基等水解性基鍵結於矽原子。
所謂水解性基是指直接鍵結於矽原子且可藉由水解反應及/或縮合反應而生成矽氧烷鍵的取代基。作為水解性基，例如可列舉鹵素原子、烷氧基、醯基氧基、烯基氧基。於水解性基具有碳原子的情況下，其碳數較佳為6以下，更佳為4以下。特佳為碳數4以下的烷氧基或碳數4以下的烯基氧基。進而佳為碳數2以下的烷氧基或碳數4以下的烯基氧基。
矽烷偶合劑較佳為具有以下的式(Z)所表示的基。＊表示鍵結位置。
式(Z)*-Si-(RZ1)3
式(Z)中，RZ1表示水解性基，其定義如上所述。
矽烷偶合劑亦可具有硬化性官能基。硬化性官能基可為熱硬化性的官能基，亦可為光硬化性的官能基。硬化性官能基例如可列舉選自(甲基)丙烯醯基氧基、環氧基、氧雜環丁基、異氰酸基、羥基、胺基、羧基、硫醇基、烷氧基矽烷基、羥甲基、乙烯基、(甲基)丙烯醯胺基、苯乙烯基及馬來醯亞胺基中的一種以上。就本發明的效果更優異的方面而言，較佳為具有選自由(甲基)丙烯醯基氧基、環氧基、及氧雜環丁基所組成的群組中的一種以上的硬化性官能基。硬化性官能基可直接鍵結於矽原子，亦可經由連結基而鍵結於矽原子。
再者，作為所述矽烷偶合劑中所含的硬化性官能基的較佳態樣，亦可列舉自由基聚合性基。
矽烷偶合劑的分子量並無特別限制，就操作性的方面而言，多數情況下為100~1000，就本發明的效果更優異的方面而言，較佳為150以上，更佳為150~1000。
作為矽烷偶合劑的較佳態樣之一，可列舉式(W)所表示的矽烷偶合劑X。
式(W)RZ2-Lz-Si-(RZ1)3
RZ1表示水解性基，定義如上所述。
RZ2表示硬化性官能基，定義如上所述，較佳範圍亦如上所述。
Lz表示單鍵或二價連結基。二價連結基的定義與所述通式(iv)~通式(v)中的L1所表示的二價連結基為相同含義。
作為矽烷偶合劑X，可列舉：N-β-胺基乙基-γ-胺基丙基-甲基二甲氧基矽烷(信越化學工業公司製造，商品名：KBM-602)、N-β-胺基乙基-γ-胺基丙基-三甲氧基矽烷(信越化學工業公司製造，商品名：KBM-603)、N-β-胺基乙基-γ-胺基丙基-三乙氧基矽烷(信越化學工業公司製造，商品名：KBE-602)、γ-胺基丙基-三甲氧基矽烷(信越化學工業公司製造，商品名：KBM-903)、γ-胺基丙基-三乙氧基矽烷(信越化學工業公司製造，商品名：KBE-903)、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷(信越化學工業公司製造，商品名：KBM-503)、縮水甘油氧基辛基三甲氧基矽烷(信越化學工業公司製造，商品名：KBM-4803)、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷(信越化學工業公司製造，商品名：KBM-303)、3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷(信越化學工業公司製造，商品名：KBM-403)、3-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷(信越化學工業公司製造，商品名：KBE-403)等。
作為矽烷偶合劑的另一較佳態樣，可列舉分子內至少具 有矽原子與氮原子及硬化性官能基且具有鍵結於矽原子的水解性基的矽烷偶合劑Y。
該矽烷偶合劑Y只要於分子內具有至少一個矽原子即可，矽原子可與以下的原子、取代基鍵結。該些可為相同的原子、取代基，亦可不同。可鍵結的原子、取代基可列舉氫原子、鹵素原子、羥基、碳數1至20的烷基、烯基、炔基、芳基、可經烷基及/或芳基取代的胺基、矽烷基、碳數1至20的烷氧基、芳氧基等。該些取代基亦可進而經矽烷基、烯基、炔基、芳基、烷氧基、芳氧基、硫代烷氧基、可經烷基及/或芳基取代的胺基、鹵素原子、磺醯胺基、烷氧基羰基、醯胺基、脲基、銨基、烷基銨基、羧基或其鹽、磺基或其鹽等取代。
再者，至少一個水解性基鍵結於矽原子。水解性基的定義如上所述。
矽烷偶合劑Y中亦可包含式(Z)所表示的基。
矽烷偶合劑Y於分子內具有至少一個以上的氮原子，且氮原子較佳為作為二級胺基或三級胺基的形態存在，即，較佳為氮原子具有至少一個有機基作為取代基。再者，作為胺基的結構，可作為含氮雜環的部分結構的形態存在於分子內，亦可以苯胺等取代胺基的形式存在。
此處，作為有機基，可列舉烷基、烯基、炔基、芳基、或該些的組合等。該些亦可進而具有取代基，作為可導入的取代基，可列舉：矽烷基、烯基、炔基、芳基、烷氧基、芳氧基、硫代烷 氧基、胺基、鹵素原子、磺醯胺基、烷氧基羰基、羰基氧基、醯胺基、脲基、伸烷基氧基、銨基、烷基銨基、羧基或其鹽、磺基等。
另外，氮原子較佳為經由任意的有機連結基而與硬化性官能基鍵結。作為較佳的有機連結基，可列舉可導入至所述氮原子及與其鍵結的有機基的取代基。
矽烷偶合劑Y中所含的硬化性官能基的定義如上所述，較佳範圍亦如上所述。
矽烷偶合劑Y只要於一分子中具有至少一個以上的硬化性官能基即可，亦可採用具有2個以上的硬化性官能基的態樣，就感度、穩定性的觀點而言，較佳為具有2個~20個硬化性官能基，進而佳為具有4個~15個，最佳為於分子內具有6個~10個硬化性官能基的態樣。
矽烷偶合劑X及矽烷偶合劑Y的分子量並無特別限制，可列舉所述範圍(較佳為150以上)。
相對於本發明的著色組成物中的總固體成分，本發明的著色組成物中的矽烷偶合劑的含量較佳為0.1質量%~10質量%，更佳為0.5質量%~8質量%，進而佳為1.0質量%~6質量%。
本發明的著色組成物可包含單獨一種矽烷偶合劑，亦可包含兩種以上。於組成物包含兩種以上的矽烷偶合劑的情況下，只要其合計量處於所述範圍內即可。
[聚合抑制劑]
本發明的著色組成物較佳為含有聚合抑制劑。藉此，使用本發明的著色組成物而獲得的著色圖案即便於不伴隨高溫的加熱處理的情況下，其直線性亦更優異。
認為其原因在於：藉由本發明的著色組成物含有聚合抑制劑，過剩的光聚合起始劑被捕獲(trap)，結果未曝光部的硬化等得到抑制，故所獲得的著色圖案的線寬變得更均勻。
作為聚合抑制劑，可列舉公知的聚合抑制劑，例如可列舉酚系聚合抑制劑、醌系聚合抑制劑、受阻胺系聚合抑制劑、啡噻嗪系聚合抑制劑、及硝基苯系聚合抑制劑等。
該些中，就所獲得的著色圖案的直線性更優異的理由而言，較佳為酚系聚合抑制劑及/或受阻胺系聚合抑制劑，更佳為酚系聚合抑制劑。
作為酚系聚合抑制劑，具體而言，例如可列舉苯酚、4-甲氧基苯酚、對苯二酚(hydroquinone)、2-第三丁基對苯二酚、鄰苯二酚、4-第三丁基-鄰苯二酚、2,6-二-第三丁基苯酚、2,6-二-第三丁基-4-甲基苯酚、2,6-二-第三丁基-4-乙基苯酚、4-羥基甲基-2,6-二-第三丁基苯酚、季戊四醇四(3,5-二-第三丁基-4-羥基氫化肉桂酸酯)、及4-甲氧基-1-萘酚、1,4-二羥基萘等。
作為酚系聚合抑制劑，較佳為下述通式(IH-1)所示的酚系聚合抑制劑。
[化33]
Figure 105127849-A0305-02-0097-38
通式(IH-1)中，R1~R5分別獨立地表示氫原子、烷基、烯基、羥基、胺基、芳基、烷氧基、羧基、烷氧基羰基、或醯基。R1~R5亦可分別連結而形成環。
作為通式(IH-1)中的R1~R5，較佳為氫原子、碳數1~5的烷基(例如，甲基及乙基等)、碳數1~5的烷氧基(例如，甲氧基及乙氧基等)、碳數2~4的烯基(例如，乙烯基等)、或苯基。
特別是，R1及R5更佳為氫原子或第三丁基，R2及R4更佳為氫原子，R3更佳為氫原子、碳數1~5的烷基或碳數1~5的烷氧基。
作為醌系聚合抑制劑，例如可列舉1,4-苯醌、1,2-苯醌、1,4-萘醌等。
作為受阻胺系聚合抑制劑，例如可較佳地列舉下述通式(IH-2)所表示的聚合抑制劑。
[化34]
Figure 105127849-A0305-02-0098-39
通式(IH-2)中的R6表示氫原子、羥基、胺基、烷氧基、烷氧基羰基、或醯基。其中，較佳為氫原子或羥基，更佳為羥基。
另外，通式(IH-2)中的R7~R10分別獨立地表示氫原子或烷基。作為R7~R10所表示的烷基，較佳為碳數1~5的烷基，更佳為甲基或乙基。
於使用聚合抑制劑的情況下，就所獲得的著色圖案的直線性更優異的理由而言，更佳為併用兩種以上的聚合抑制劑，進而佳為併用兩種以上的酚系聚合抑制劑，或併用酚系聚合抑制劑與受阻胺系聚合抑制劑，特佳為併用酚系聚合抑制劑與受阻胺系聚合抑制劑。
於本發明的著色組成物含有聚合抑制劑的情況下，相對於著色組成物的總固體成分，聚合抑制劑的含量(於使用兩種以上的聚合抑制劑的情況下為其合計量)例如為0.001質量%~0.100質量%，就所獲得的著色圖案的直線性更優異的理由而言，較佳為0.003質量%~0.010質量%，更佳為0.003質量%以上且小於0.010質量%。
於本發明的著色組成物含有聚合抑制劑的情況下，聚合 抑制劑與光聚合起始劑的質量比(聚合抑制劑/光聚合起始劑)例如為0.001~0.100，就所獲得的著色圖案的直線性更優異、且所獲得的硬化膜(包含圖案)相對於支撐體的密接性亦更優異的理由而言，較佳為0.003~0.030。
[其他添加劑]
本發明的著色組成物中可視需要而調配各種添加物，例如填充劑、密接促進劑、抗氧化劑、及抗凝劑等。該些添加物可列舉日本專利特開2004-295116號公報的段落0155~段落0156中記載的添加物，將該些內容併入至本申請案說明書中。
本發明的著色組成物例如可含有日本專利特開2004-295116號公報的段落0078中記載的增感劑及光穩定劑、以及所述公報的段落0081中記載的熱聚合防止劑等。
[著色感光性組成物的製備方法]
本發明的著色組成物可將所述成分混合而製備。
製備著色組成物時，可批量調配構成著色組成物的各成分，亦可將各成分溶解或分散於溶劑中後逐次調配。另外，調配時的投入順序及作業條件等並未受到特別制約。例如，可將全部成分同時溶解或分散於溶劑中來製備組成物，視需要，亦可預先將各成分適宜製成兩種以上的溶液或分散液，使用時(塗佈時)將該些混合而製備成組成物。
出於去除異物及減少缺陷等目的，本發明的著色組成物較佳為使用過濾器進行過濾。作為過濾器，若為自先前以來便用於過 濾用途等的過濾器，則可無特別限定地使用。例如可列舉：利用聚四氟乙烯(polytetrafluoroethylene，PTFE)等氟樹脂、尼龍-6、尼龍-6,6等聚醯胺系樹脂、聚乙烯、聚丙烯(polypropylene，PP)等聚烯烴樹脂(包含高密度、超高分子量者)等的過濾器。該些原材料中，較佳為聚丙烯(包含高密度聚丙烯)。
過濾器的孔徑合適的是0.01μm~7.0μm左右，較佳為0.01μm~3.0μm左右，進而佳為0.05μm~0.5μm左右。藉由設為該範圍，可將於後述步驟中阻礙均勻及平滑的著色組成物的製備的微細的異物確實地去除。
於使用過濾器時，亦可將不同的過濾器加以組合。此時，利用第1過濾器的過濾可僅進行一次，亦可進行兩次以上。
另外，亦可於所述範圍內將不同孔徑的第1過濾器加以組合。此處的孔徑可參照過濾器生產商的公稱值。作為市售的過濾器，例如可自日本頗爾(Pall)股份有限公司(DFA4201NXEY等)、愛多邦得科東洋(Advantec Toyo)股份有限公司、日本應特格(Entegris)股份有限公司(原日本密科理(Mykrolis)股份有限公司)或北澤微濾器(Kitz Microfilter)股份有限公司等提供的各種過濾器中進行選擇。
第2過濾器可使用利用與所述第1過濾器相同的材料等形成的過濾器。
例如，利用第1過濾器的過濾可對分散液進行，亦可混合其他成分後進行第2過濾。
[硬化膜(彩色濾光片、遮光膜)]
其次，對本發明的硬化膜進行說明。
本發明的硬化膜是使本發明的著色組成物硬化而成(使用本發明的著色組成物而形成)。本發明的硬化膜可較佳地用作彩色濾光片或遮光膜。即，本發明的彩色濾光片及遮光膜是使本發明的著色組成物硬化而成(使用本發明的著色組成物而形成)。
彩色濾光片可較佳地用於電荷耦合元件(Charge Coupled Device，CCD)及互補金屬氧化物半導體(Complementary Metal Oxide Semiconductor，CMOS)等固體攝影元件，特別適於超過100萬畫素般的高解析度的CCD及CMOS等。彩色濾光片例如可配置於構成CCD或CMOS的各畫素的光接收部、與用於聚光的微透鏡之間而使用。
另外，彩色濾光片可較佳地用於有機電致發光(有機EL(Electroluminescence))元件用途。作為有機EL元件，較佳為白色有機EL元件。有機EL元件較佳為串聯結構。關於有機EL元件的串聯結構，記載於日本專利特開2003-45676號公報，三上明義監修的「有機EL技術開發的最前線-高亮度．高精度．長壽命化．專有技術集-」，技術資訊協會，第326~328頁，2008年等中。有機EL元件的串聯結構例如可列舉：於基板的一面，於具備光反射性的下部電極與具備光透過性的上部電極之間設置有機EL層的結構等。下部電極較佳為由在可見光的波長區域中具有充分的反射率的材料構成。有機EL層較佳為包含多個發光層，且具有由 該些多個發光層積層而成的積層結構(串聯結構)。有機EL層例如可於多個發光層中包含紅色發光層、綠色發光層及藍色發光層。而且，較佳為一併具有多個發光層與用於使該些發光層發光的多個發光輔助層。有機EL層例如可設為發光層與發光輔助層交替地積層的積層結構。具有此種結構的有機EL層的有機EL元件可發出白色光。該情況下，有機EL元件發出的白色光的光譜較佳為於藍色區域(430nm-485nm)、綠色區域(530nm-580nm)及黃色區域(580nm-620nm)具有強烈的最大發光峰值者。除了該些發光峰值以外，更佳為進而於紅色區域(650nm-700nm)具有最大發光峰值者。藉由將發出白色光的有機EL元件(白色有機EL元件)與本發明的彩色濾光片組合，獲得於色彩再現性方面優異的分光，且可顯示更清晰的影像及圖像等。
彩色濾光片中的著色圖案(著色畫素)的膜厚較佳為2.0μm以下，更佳為1.0μm以下，進而佳為0.7μm以下。下限例如可設為0.1μm以上，亦可設為0.2μm以上。
另外，著色圖案(著色畫素)的尺寸(圖案寬度)較佳為2.5μm以下，更佳為2.0μm以下，特佳為1.7μm以下。下限例如可設為0.1μm以上，亦可設為0.2μm以上。
遮光膜可形成於圖像顯示裝置及感測器模組等裝置內的各種構件(例如，紅外光截止濾光片、固體攝影元件的外周部、晶圓級透鏡外周部、固體攝影元件背面等)等中來使用。
另外，亦可於紅外光截止濾光片的表面上的至少一部分形成 遮光膜，而製成附遮光膜的紅外光截止濾光片。
遮光膜的厚度並無特別限制，較佳為0.2μm~25μm，更佳為1.0μm~10μm。所述厚度為平均厚度，是測定遮光膜的任意五點以上的厚度，並對該些厚度進行算術平均而得的值。
遮光膜的反射率較佳為10%以下，更佳為8%以下，進而佳為6%以下，特佳為4%以下。再者，遮光膜的反射率是於入射角度5°的條件下對遮光膜入射400nm~700nm的光，藉由日立高新技術(Hitachi High-technologies)製造的分光器UV4100(商品名)測定其反射率而得的值。
[硬化膜的製造方法]
其次，對本發明的硬化膜的製造方法進行說明。
本發明的硬化膜的製造方法至少包括：使用本發明的著色組成物而於支撐體上形成著色感光性組成物層的步驟；以及對著色感光性組成物層進行曝光的步驟(曝光步驟)。此時，於將曝光步驟設為以圖案狀對著色感光性組成物層進行曝光的步驟的情況下，本發明的硬化膜的製造方法亦可進而包括於該曝光步驟後，對未曝光部進行顯影去除而形成著色圖案的步驟(顯影步驟)。
且說，現有的硬化膜的製造方法中，就促進硬化的觀點而言，有於曝光後(或者顯影後或顯影後的乾燥後)在例如200℃左右的環境下對硬化膜實施加熱處理(後烘烤)的情況，近年來，於低溫環境下對硬化膜進行硬化的要求提高。
因此，藉由使用本發明的著色組成物，即便不實施高溫的加 熱處理，對於膜整體而言亦可充分地進行硬化，故不需要高溫的加熱處理。
即，本發明的製造方法亦可更包括對硬化膜實施加熱處理的步驟，該加熱處理的溫度較佳為120℃以下，更佳為80℃以下，進而佳為50℃以下。該溫度的下限並無特別限定，例如為30℃以上。
再者，對硬化膜的加熱中，可使用加熱板、對流烘箱(熱風循環式乾燥機)、高頻加熱機等加熱機構，並藉由連續式或批次式來進行。
另外，加熱處理的時間較佳為3分鐘~180分鐘，更佳為5分鐘~120分鐘。
[形成著色感光性組成物層的步驟]
形成著色感光性組成物層的步驟中，使用本發明的著色組成物，於支撐體上形成著色感光性組成物層(以下，亦簡稱為「著色組成物層」)。
作為支撐體，例如可列舉玻璃、矽、聚碳酸酯、聚酯、芳香族聚醯胺、聚醯胺醯亞胺、聚醯亞胺等的透明基板。於該些透明基板上亦可形成有用於驅動有機EL元件的薄膜電晶體。
另外，可使用在基板上設置有電荷耦合元件(CCD)及互補金屬氧化物半導體(CMOS)等固體攝影元件(光接收元件)的固體攝影元件用基板。
作為本發明的著色組成物朝支撐體上的應用方法，可使用狹 縫塗佈、噴墨法、旋轉塗佈、噴霧塗佈、流延塗佈、輥塗佈、網版印刷法等各種方法。
就著色感光性組成物層的膜厚均勻的方面而言，較佳為旋轉塗佈、噴霧塗佈。於著色感光性組成物層的下層表面不平坦的情況下，就膜厚均勻的方面而言，較佳為噴霧塗佈、噴墨法。
若膜厚均勻，則可均勻地進行硬化，可抑制部分硬化不良所致的膜剝離，或者進行使用顯影液的處理時的部分的顯影不良。特別是於低溫環境下的硬化時，該效果顯著。
另外，本發明中，較佳為於形成有著色組成物層的支撐體上形成環氧樹脂層，即，使用具有環氧樹脂層的支撐體。藉此，使用本發明的著色組成物而獲得的硬化膜相對於支撐體(該情況下為環氧樹脂層)的密接性更優異。
構成環氧樹脂層的環氧樹脂並無特別限定，例如可適宜使用現有公知的雙酚A型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、苯酚酚醛清漆型環氧樹脂、甲酚酚醛清漆型環氧樹脂、脂肪族環氧樹脂等。
再者，亦可對形成於支撐體上的著色組成物層實施加熱處理(預烘烤)，就與所述相同的理由而言，此時的溫度較佳為120℃以下，更佳為80℃以下，進而佳為50℃以下。
預烘烤時間較佳為10秒~300秒，更佳為40秒~250秒。加熱可使用加熱板、烘箱等進行。
[曝光步驟]
其次，對形成於支撐體上的著色組成物層進行曝光。藉此形 成硬化膜。此時，於在後述步驟中進行顯影的情況下，較佳為以圖案狀進行曝光。例如，使用步進機等曝光裝置，介隔具有規定的遮罩圖案的遮罩對形成於支撐體上的著色組成物層進行曝光，藉此可進行圖案曝光。藉此可對曝光部分進行硬化。
作為可於曝光時使用的放射線(光)，可較佳地(特佳為i射線)使用g射線、i射線等紫外線。照射量(曝光量)例如較佳為30mJ/cm2~1500mJ/cm2，更佳為50mJ/cm2~1000mJ/cm2，最佳為80mJ/cm2~500mJ/cm2。
硬化膜的膜厚較佳為1.0μm以下，更佳為0.1μm~0.9μm，進而佳為0.2μm~0.8μm。藉由將膜厚設為1.0μm以下，容易獲得高解析性、高密接性。
[顯影步驟]
其次，對未曝光部進行顯影去除而可形成著色圖案。未曝光部的顯影去除可使用顯影液來進行。藉此，使曝光步驟中的未曝光部的著色組成物層溶出至顯影液中，而僅殘留進行了光硬化的部分。
作為顯影液，理想的是不對基底的固體攝影元件及電路等造成損傷的有機鹼性顯影液。
顯影液的溫度例如較佳為20℃~30℃。顯影時間較佳為20秒~180秒。
作為用於顯影液的鹼劑，例如可列舉氨水、乙基胺、二乙基胺、二甲基乙醇胺、氫氧化四甲基銨、氫氧化四乙基銨、氫 氧化四丙基銨、氫氧化四丁基銨、氫氧化苄基三甲基銨、膽鹼、吡咯、哌啶、1,8-二氮雜雙環-[5,4,0]-7-十一烯等有機鹼性化合物。可將下述鹼性水溶液較佳地用作顯影液，所述鹼性水溶液是以濃度成為0.001質量%~10質量%、較佳為0.01質量%~1質量%的方式使用純水對該些鹼劑進行稀釋而成。
另外，亦可於顯影液中使用無機鹼。作為無機鹼，例如較佳為氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、碳酸氫鈉、矽酸鈉、偏矽酸鈉等。
另外，亦可於顯影液中使用界面活性劑。作為界面活性劑的例子，可列舉所述著色組成物的說明中記載的界面活性劑，較佳為非離子系界面活性劑。
再者，於使用包含此種鹼性水溶液的顯影液的情況下，較佳為通常於顯影後使用純水進行清洗(淋洗)。
[固體攝影元件]
本發明的固體攝影元件包括所述本發明的硬化膜(彩色濾光片、遮光膜等)。作為本發明的固體攝影元件的構成，只要為包括本發明的硬化膜且作為固體攝影元件而發揮功能的構成，則並無特別限定，例如可列舉以下般的構成。
為如下構成：於支撐體上具有構成固體攝影元件(CCD影像感測器、CMOS影像感測器等)的光接收區域的多個光電二極體及包含多晶矽等的傳送電極，於光電二極體及傳送電極上具有僅光電二極體的光接收部開口的遮光膜，於遮光膜上具有以覆 蓋遮光膜整個面及光電二極體光接收部的方式形成的包含氮化矽等的器件保護膜，並且於器件保護膜上具有彩色濾光片。
進而，亦可為於器件保護層上且彩色濾光片之下(靠近支撐體的一側)具有聚光機構(例如微透鏡等，以下相同)的構成、於彩色濾光片上具有聚光機構的構成等。
[圖像顯示裝置]
本發明的硬化膜(彩色濾光片、遮光膜等)可用於液晶顯示裝置及有機電致發光顯示裝置等圖像顯示裝置中。
關於顯示裝置的定義及各顯示裝置的詳細情況等，例如記載於「電子顯示器器件(佐佐木昭夫著，工業調查會(股)1990年發行)」、「顯示器器件(伊吹順章著，產業圖書(股)1989年發行)」等中。另外，關於液晶顯示裝置，例如記載於「下一代液晶顯示器技術(內田龍男編輯，工業調查會(股)1994年發行)」中。對於本發明可應用的液晶顯示裝置並無特別限制，例如可應用於所述「下一代液晶顯示器技術」中記載的多種方式的液晶顯示裝置。
本發明的彩色濾光片亦可用於彩色薄膜電晶體(Thin Film Transistor，TFT)方式的液晶顯示裝置。關於彩色TFT方式的液晶顯示裝置，例如是記載於「彩色TFT液晶顯示器(共立出版(股)，1996年發行)」中。進而，本發明亦可應用於共面切換(In Plane Switching，IPS)等橫向電場驅動方式、多象限垂直配向(Multi-domain Vertical Alignment，MVA)等畫素分割方式等視 角經擴大的液晶顯示裝置、超扭轉向列(Super-Twisted Nematic，STN)、扭轉向列(Twisted Nematic，TN)、垂直配向(Vertical Alignment，VA)、光學補償傾斜(Optically Compensated Splay，OCS)、邊緣場切換(fringe field switching，FFS)、及反射式光學補償彎曲(Reflective Optically Compensated Bend，R-OCB)等。
另外，本發明的彩色濾光片亦可供於明亮且高精細的彩色濾光片陣列(Color-filter On Array，COA)方式。於COA方式的液晶顯示裝置中，對彩色濾光片的要求特性除了上文所述般的通常的要求特性以外，有時亦需要對層間絕緣膜的要求特性、即低介電常數及耐剝離液性。本發明的彩色濾光片因耐光性等優異，故可提供一種解析度高且長期耐久性優異的COA方式的液晶顯示裝置。再者，為了滿足低介電常數的要求特性，亦可於彩色濾光片層上設置樹脂被膜。
關於該些圖像顯示方式，例如是記載於「EL、電漿顯示面板(Plasma Display Panel，PDP)、液晶顯示器(Liquid Crystal Display，LCD)顯示器-技術與市場的最新動向-(東麗研究中心(Toray Research Center)調查研究部門，2001年發行)」的第43頁等中。
本發明的液晶顯示裝置除了本發明的彩色濾光片以外，亦包括電極基板、偏光膜、相位差膜、背光、間隔件(spacer)、視角保障膜等各種構件。本發明的彩色濾光片可應用於由該些公知的構件所構成的液晶顯示裝置中。關於該些構件，例如是記載 於「'94液晶顯示器周邊材料-化學品的市場(島健太郎，CMC(股)，1994年發行)」、「2003液晶相關市場的現狀與將來展望(下卷)(表良吉，富士凱美萊總研(股)，2003年發行)」中。
關於背光，是記載於「國際資訊顯示學會會議記錄(SID(Society for Information Display)meeting Digest)」1380(2005)(A.今野(A.Konno)等人)及「月刊顯示器」的2005年12月號的第18~24頁(島康裕)、該文獻第25~30頁(八木隆明)等中。
[紅外線感測器]
本發明的紅外線感測器包括本發明的硬化膜。作為本發明的紅外線感測器的構成，只要為包括本發明的硬化膜且作為固體攝影元件而發揮功能的構成，則並無特別限定，例如可列舉以下般的構成。
為如下構成：於基板上具有構成固體攝影元件(CCD感測器、CMOS感測器、有機CMOS感測器等)的光接收區域的多個光電二極體及包含多晶矽等的傳送電極，於光電二極體及傳送電極上具有僅光電二極體的光接收部開口且包含鎢等的遮光膜，於遮光膜上具有以覆蓋遮光膜整個面及光電二極體光接收部的方式形成的包含氮化矽等的器件保護膜，並且於器件保護膜上具有本發明的硬化膜。
進而，亦可為於器件保護層上且本發明的硬化膜之下(靠近基板的一側)具有聚光機構(例如微透鏡等，以下相同)的構成、及於本發明的硬化膜上具有聚光機構的構成等。
[實施例]
以下，藉由實施例對本發明進一步具體地進行說明，本發明只要不超出其主旨，則並不限定於以下的實施例。再者，只要未作特別說明，則「%」及「份」為質量基準。
<鈦黑TB-1的製作>
秤量120g的BET比表面積為110m2/g的氧化鈦(「TTO-51N」商品名，石原產業製造)、25g的BET比表面積為300m2/g的二氧化矽粒子(「埃洛希爾(AEROSIL)(註冊商標)300」，贏創(Evonik)製造)、及100g的分散劑(「迪斯帕畢克(Disperbyk)190」商品名，畢克化學(BYK Chemie)公司製造)，添加71g的離子電***換水，使用倉紡(KURABO)製造的梅澤斯塔(MAZERSTAR)KK-400W，以公轉轉數1360rpm、自轉轉數1047rpm進行30分鐘處理，藉此獲得均勻的混合物水溶液。將該水溶液填充於石英容器中，使用小型旋轉窯(rotary kiln)(本山股份有限公司製造)，於氧氣環境中加熱至920℃後，以氮氣來置換環境，於同溫度下以100mL/min的流量流通氨氣5小時，藉此實施氮化還原處理。使用研缽將結束後回收的粉末加以粉碎，獲得包含Si原子、且粉末狀的比表面積為85m2/g的鈦黑TB-1[包含鈦黑粒子及Si原子的被分散體]。
鈦黑TB-1中的鈦黑粒子相當於氮氧化鈦。
<實施例1>
將下述表1所示的成分混合後，使用孔徑0.45μm的尼龍製 過濾器(日本頗爾(Pall)(股)製造，DFA4201NXEY)進行過濾，從而製備著色組成物。更詳細而言，首先使用攪拌機(依格(IKA)公司製造的尤羅斯塔(EUROSTAR))，將鈦黑、分散劑及溶劑混合15分鐘，同樣地進行過濾而獲得分散物後，將剩餘的成分添加並混合於該分散物中，獲得著色組成物。
各成分的濃度如下所述。
Figure 105127849-A0305-02-0112-40
該情況下，相對於所獲得的著色組成物的總固體成分，光聚合起始劑的含量為0.1%。
<實施例2~實施例3>
將光聚合起始劑I-1的含量(相對於總固體成分)自0.1%變更為1%或5%，除此以外，與實施例1同樣地進行而獲得著色組成物。
<實施例4~實施例6>
使用鹼可溶性樹脂B-2~鹼可溶性樹脂B-4代替鹼可溶性樹脂B-1，除此以外，與實施例2同樣地進行而獲得著色組成物。
<實施例7~實施例8>
以鹼可溶性樹脂(B)相對於聚合性化合物(M)的質量比(B/M)自0.9成為1.5或2.0的方式使聚合性化合物(M)的含量減少，除此以外，與實施例2同樣地進行而獲得著色組成物。
<實施例9~實施例16>
使用光聚合起始劑I-2代替光聚合起始劑I-1，除此以外，與實施例1~實施例8同樣地進行而獲得著色組成物。
<實施例17>
將著色劑自鈦黑TB-1變更為氮化鈦，除此以外，與實施例2同樣地進行而獲得著色組成物。
再者，作為氮化鈦，使用和光純藥(股)製造的「氮化鈦50nm」(以下相同)。
<實施例18~實施例19>
將著色劑自鈦黑TB-1變更為氮化鈦或氮氧化鈮，除此以外，與實施例10同樣地進行而獲得著色組成物。
再者，作為氮氧化鈮，使用依據日本專利特開2012-96945號公報而製備的氮氧化鈮(以下相同)。
<實施例20>
將著色劑自鈦黑TB-1變更為氮氧化鈮，且以鹼可溶性樹脂(B)相對於聚合性化合物(M)的質量比(B/M)自0.9成為1.9的方式使聚合性化合物(M)的含量減少，除此以外，與實施例2同樣地進行而獲得著色組成物。
<實施例21~實施例23>
將著色劑自鈦黑TB-1的單獨使用變更為PR254與PY139的併用、PG36與PY139的併用、或PB15：6與PV23的併用，除此以外，與實施例10同樣地進行而獲得著色組成物。
將PR254與PY139的質量比(PR254/PY139)、PG36與PY139的質量比(PG36/PY139)、及PB15：6與PV23的質量比(PB15：6/PV23)均設為2/1。
再者，PR254表示顏料紅254，PY139表示顏料黃139，PG36表示顏料綠36，PB15：6表示顏料藍15：6，PV23表示顏料紫23(以上為巴斯夫(BASF)公司製造)。
<實施例24~實施例25>
將下述表2所示的成分混合後，使用孔徑0.45μm的尼龍製過濾器(日本頗爾(Pall)(股)製造，DFA4201NXEY)進行過濾，從而製備著色組成物。
各成分的濃度如下所述。
Figure 105127849-A0305-02-0114-41
該情況下，相對於所獲得的著色組成物的總固體成分，光聚合起始劑的含量為1.0%。
<實施例26~實施例28>
進而，以相對於著色組成物的總固體成分的含量成為0.003%、0.004%或0.005%的量添加聚合抑制劑Ih-1，除此以外，與實施例17同樣地進行而獲得著色組成物。
<實施例29~實施例32>
進而，以相對於著色組成物的總固體成分的含量成為0.010%、0.020%、0.030%或0.040%的量添加聚合抑制劑Ih-1，除此以外，與實施例19同樣地進行而獲得著色組成物。
<實施例33>
使用光聚合起始劑I-2代替光聚合起始劑I-1，且使用聚合抑制劑Ih-2代替聚合抑制劑Ih-1，除此以外，與實施例26同樣地進行而獲得著色組成物。
<實施例34~實施例36>
將聚合抑制劑變更為聚合抑制劑Ih-3(相對於著色組成物的總固體成分的含量：0.003%)的單獨使用、聚合抑制劑Ih-1(相對於著色組成物的總固體成分的含量：0.0015%)與聚合抑制劑Ih-2(相對於著色組成物的總固體成分的含量：0.0015%)的併用、聚合抑制劑Ih-1(相對於著色組成物的總固體成分的含量：0.0015%)與聚合抑制劑Ih-3(相對於著色組成物的總固體成分的含量：0.0015%)的併用，除此以外，與實施例29~實施例32同 樣地進行而獲得著色組成物。
<實施例37>
將聚合抑制劑變更為聚合抑制劑Ih-1(相對於著色組成物的總固體成分的含量：0.0015%)與聚合抑制劑Ih-3(相對於著色組成物的總固體成分的含量：0.0015%)的併用，除此以外，與實施例26~實施例28同樣地進行而獲得著色組成物。
<實施例38>
將著色劑變更為鈦黑TB-1，除此以外，與實施例37同樣地進行而獲得著色組成物。
<實施例39>
將溶劑變更為PGMEA與環己酮的併用，除此以外，與實施例37同樣地進行而獲得著色組成物。
再者，將PGMEA與環己酮的質量比(PGMEA/環己酮)設為50/50。
<實施例40>
將著色劑變更為氮氧化鈮，且將溶劑變更為PGMEA與MFG的併用，除此以外，與實施例37同樣地進行而獲得著色組成物。
再者，將PGMEA與MFG的質量比(PGMEA/MFG)設為80/20。
<比較例1~比較例2>
使用光聚合起始劑I-3或光聚合起始劑I-4代替光聚合起始劑I-1，除此以外，與實施例2同樣地進行而獲得著色組成物。
<比較例3>
使用光聚合起始劑I-3代替光聚合起始劑I-1，除此以外，與實施例24同樣地進行而獲得著色組成物。
<比較例4>
使用光聚合起始劑I-4代替光聚合起始劑I-1，除此以外，與實施例25同樣地進行而獲得著色組成物。
[評價]
準備於玻璃基板(益格(Eagle)XG，康寧(Corning)公司製造)上使用環氧樹脂(JER-827，日本環氧樹脂(Japan epoxy resin)公司製造)而形成環氧樹脂層的支撐體。
於該支撐體上，藉由噴霧方式以成為3.0μm的厚度的方式塗佈所獲得的著色組成物。繼而，使用i射線步進式曝光裝置FPA-3000i5+(佳能(Canon)(股)製造)，以1000mJ/cm2的曝光量進行曝光。曝光後使用潔淨烘箱CLH-21CDH(光洋熱(Koyo Thermo)(股)製造)，於低溫(50℃)的環境下進行120分鐘加熱處理，從而獲得評價基板。
其次，進行以下所說明的評價。將結果示於下述表1及表2中。再者，透過率的測定是於25℃的環境下進行。
(耐熱性)
關於所獲得的評價基板，使用紫外可見近紅外分光光度計UV3600(島津製作所製造的分光光度計)(參照：玻璃基板)，測定400nm~700nm的波長區域中的透過率。
繼而，對評價基板進行在加熱板上於260℃的環境下加熱5分鐘的試驗，之後與試驗前同樣地進行，測定透過率。
基於下述基準來評價400nm~700nm的所有區域中的試驗前後的透過率變動(於將試驗前的透過率設為T0、試驗後的透過率設為T1的情況下，為式｜T0-T1｜所表示的值)。若為A或B，則可評價為藉由低溫加熱而進行硬化者。
A：試驗前後的透過率變動為5%以下
B：試驗前後的透過率變動超過5%且為10%以下
C：試驗前後的透過率變動超過10%且為20%以下
D：試驗前後的透過率變動超過20%
(耐光性)
對所獲得的評價基板，進行使用氙氣燈以1.0×105勒克司(lux)的照度照射50小時的試驗，與所述耐熱性的評價同樣地進行，並基於下述基準來評價400nm~700nm的所有區域中的試驗前後的透過率變動。若為A或B，則可評價為藉由低溫加熱而進行硬化者。
A：試驗前後的透過率變動為5%以下
B：試驗前後的透過率變動超過5%且為10%以下
C：試驗前後的透過率變動超過10%且為20%以下
D：試驗前後的透過率變動超過20%
(耐溶劑性)
對所獲得的評價基板進行在室溫環境下於丙酮中浸漬5分鐘 的試驗，與所述耐熱性的評價同樣地進行，並基於下述基準來評價400nm~700nm的所有區域中的試驗前後的透過率變動。若為A或B，則可評價為藉由低溫加熱而進行硬化者。
A：試驗前後的透過率變動為5%以下
B：試驗前後的透過率變動超過5%且為10%以下
C：試驗前後的透過率變動超過10%且為20%以下
D：試驗前後的透過率變動超過20%
(耐濕性)
對所獲得的評價基板進行在溫度85℃、相對濕度80%的耐濕試驗機內靜置72小時的試驗，與所述耐熱性的評價同樣地進行，求出400nm~700nm的所有區域中的試驗前後的透過率變動(單位：%)。透過率變動的值越小，越可評價為藉由低溫加熱而進行硬化者。再者，透過率的測定是於在所述72小時的靜置後在溫度25℃、相對濕度50%的環境下暴露4小時後進行。
(密接性)
於所述支撐體上，藉由噴霧方式以成為3.0μm的厚度的方式塗佈所獲得的著色組成物。繼而，使用i射線步進式曝光裝置FPA-3000i5+(佳能(Canon)(股)製造)，介隔具有線形300μm(寬300μm、長4mm)的遮罩以1000mJ/cm2的曝光量進行曝光。曝光後使用潔淨烘箱CLH-21CDH(光洋熱(Koyo Thermo)(股)製造)，於低溫(50℃)的環境下進行120分鐘加熱處理，從而獲得密接性評價用的評價基板。
將該評價基板載置於旋轉‧噴淋顯影機(DW-30型，化學電子(Chemitronics)(股)製造)的水平旋轉台上，使用CD-2000(富士軟片電子材料(FUJIFILM Electronic Materials)(股)製造)並於23℃的環境下進行60秒鐘覆液式顯影，基於下述基準進行評價。若為A、B或C，則可評價為藉由低溫加熱而進行硬化者。
A：未觀測到圖案的剝離。
B：稍微觀測到圖案的剝離。
C：局部觀測到圖案的剝離。
D：圖案剝離而消失。
(直線性)
準備於玻璃基板(益格(Eagle)XG，康寧(Corning)公司製造)上使用環氧樹脂(JER-827，日本環氧樹脂(Japan epoxy resin)公司製造)而形成環氧樹脂層的支撐體。
於該支撐體上，藉由噴霧方式以膜厚成為3.0μm的方式塗佈所獲得的著色組成物。
繼而，使用i射線步進式曝光裝置FPA-3000i5+(佳能(Canon)(股)製造)，選擇365nm的波長，通過圖案具有20μm的線/空間圖案的遮罩並以50mJ/cm2~1200mJ/cm2的各種曝光量進行曝光。曝光後使用潔淨烘箱CLH-21CDH(光洋熱(Koyo Thermo)(股)製造)，於低溫(50℃)的環境下進行120分鐘加熱處理，從而獲得直線性評價用的評價基板。
之後，將形成有經曝光的塗佈膜的支撐體載置於旋轉‧噴淋 顯影機(DW-30型，化學電子(Chemitronics)(股)製造)的水平旋轉台上，使用CD-2000(富士軟片電子材料(FUJIFILM Electronic Materials)(股)製造)並於23℃的環境下進行60秒鐘覆液式顯影，從而於支撐體上形成著色圖案。
設為將形成有著色圖案的支撐體以真空夾頭的方式固定於所述水平旋轉台上的狀態後，以轉數50r.p.m.的條件旋轉，並且自其旋轉中心的上方自噴出噴嘴呈噴淋狀供給純水而進行淋洗處理，之後進行噴霧乾燥。
之後，使用測長掃描電子顯微鏡(Scanning Electron Microscope，SEM)「S-9260A」(日立高新技術(Hitachi High-technologies)(股)製造)，測定著色圖案的尺寸。將圖案尺寸成為20μm的曝光量設為最佳曝光量。利用該最佳曝光量進行解析的20μm(1：1)的線與空間圖案的觀測中，當利用測長SEM自圖案上部觀察時，於任意的點觀測線寬，將該測定偏差評價為3σ。值越小表示越良好的性能。
[表1]
Figure 105127849-A0305-02-0122-42
Figure 105127849-A0305-02-0123-43
所述實施例及比較例中使用的各成分如下所述。
(分散劑)
分散劑D-1的結構式如下所述。
Figure 105127849-A0305-02-0124-55
(M：聚合性化合物)
聚合性化合物A-1的結構式如下所述。
再者，聚合性化合物A-1中的各單體的混合比(質量比)自左側起依序為7：3。聚合性化合物A-1的SP值為10.62。
Figure 105127849-A0305-02-0124-56
(B：鹼可溶性樹脂)
鹼可溶性樹脂B-1~鹼可溶性樹脂B-4的結構式如下所述。
Figure 105127849-A0305-02-0125-57
(I：光聚合起始劑)
光聚合起始劑I-1~光聚合起始劑I-4的結構式如下所述。
再者，下述I-1為豔佳固(IRGACURE)-OXE03(巴斯夫(BASF)公司製造)，下述I-2為NCI-831(艾迪科(ADEKA)公司製造)，下述I-3為豔佳固(IRGACURE)-OXE01(巴斯夫(BASF)公司製造)，下述I-4為豔佳固(IRGACURE)-OXE02(巴斯夫(BASF)公司製造)。
另外，使光聚合起始劑0.001質量%溶解於乙腈中而成的溶液在波長340nm下的吸光度分別為I-1：0.50、I-2：0.48、I-3：0.41、I-4：0.44。
Figure 105127849-A0305-02-0126-58
Figure 105127849-A0305-02-0127-59
(界面活性劑)
界面活性劑W-1：下述式所表示的化合物(重量平均分子量(Mw)=15311)
其中，下述式中，式中(A)及(B)所表示的結構單元的量分別為62莫耳%及38莫耳%。式(B)所表示的結構單元中，a、b及c滿足a+c=14、b=17的關係。
[化39]
Figure 105127849-A0305-02-0128-61
(Ih：聚合抑制劑)
聚合抑制劑Ih-1~聚合抑制劑Ih-3如下所述。
Ih-1：4-甲氧基苯酚
Ih-2：2,6-二-第三丁基-4-甲基苯酚
Ih-3：4-羥基-2,2,6,6-四甲基哌啶1-氧基自由基
根據所述表1及表2所示的結果而明確般，可知使用光聚合起始劑I-1或光聚合起始劑I-2的實施例1~實施例40即便於低溫(50℃)的加熱下亦進行硬化。
相對於此，使用光聚合起始劑I-3或光聚合起始劑I-4的比較例1~比較例4於低溫(50℃)的加熱下硬化不充分。
再者，若將實施例1~實施例8與實施例9~實施例16加以對比，則使用光聚合起始劑I-1的實施例1~實施例8較使用光聚合起始劑I-2的實施例9~實施例16而言，表現出密接性良好的傾向。
另外，若將不含有聚合抑制劑的實施例1~實施例25加以對比，則使用氮化鈦或氮氧化鈮作為著色劑的實施例17~實 施例20較使用其他著色劑的實施例1~實施例16及實施例21~實施例25而言，耐濕性更良好，使用氮氧化鈮的實施例19~實施例20的耐濕性進一步良好。
該情況於使用一種聚合起始劑的實施例26~實施例34中亦看到相同的結果。
另外，若將使用聚合抑制劑Ih-1的實施例26~實施例32加以對比，則聚合抑制劑的含量為0.003%~0.010%的實施例26~實施例29較聚合抑制劑的含量為0.020%~0.040%的實施例30~實施例32而言，直線性優異。
進而，實施例26~實施例29中，相較於聚合抑制劑的含量為0.010%的實施例29而言，聚合抑制劑的含量小於0.010%的實施例26~實施例28的直線性更優異。
另外，若將使用聚合抑制劑Ih-1的實施例26~實施例32加以對比，則Ih/I比為0.003~0.030的範圍內的實施例26~實施例31較所述比為0.040的實施例32而言，可維持良好的直線性且密接性更良好。
另外，若將使用相同量(0.003%)的一種聚合抑制劑的實施例26與實施例33及實施例34加以對比，則使用酚系聚合抑制劑Ih-1及酚系聚合抑制劑Ih-2的實施例26及實施例33較使用受阻胺系聚合抑制劑Ih-3的實施例34而言，直線性更良好。
另外，若將使用相同量(0.003%)的聚合抑制劑的實施例26與實施例35~實施例38加以對比，則相較於僅使用聚合抑 制劑Ih-1的實施例26而言，併用聚合抑制劑Ih-1與聚合抑制劑Ih-2或聚合抑制劑Ih-3的實施例35~實施例38的直線性更良好。
進而，若將實施例35~實施例38加以對比，則相較於僅併用酚系聚合抑制劑(Ih-1及Ih-2)的實施例35而言，併用酚系聚合抑制劑(Ih-1)與受阻胺系聚合抑制劑(Ih-3)的實施例36~實施例38的直線性進一步良好。
另外，若將併用酚系聚合抑制劑(Ih-1)與受阻胺系聚合抑制劑(Ih-3)的實施例36~實施例40加以對比，則相較於僅使用一種有機溶劑的實施例36~實施例38而言，併用兩種有機溶劑的實施例39~實施例40的直線性更良好。
<實施例41~實施例47>
(含有銀錫合金的微粒子的製備)
以下，根據日本專利第4696098號公報中記載的方法來製作含有銀錫合金的分散液。
首先，秤取10.0g的錫膠體分散液(平均一次粒子徑20nm，固體成分10質量%，住友大阪水泥(Sumitomo Osaka Cement)製造)，向其中添加純水而製作300mL的A液。
另外，向純水中添加23.0g的葡萄糖與2.0g的酒石酸及40.0g的乙醇而製作總質量為500g的B液。
進而，向純水中添加15.0g的硝酸銀與50.0mL的濃氨水(NH3濃度：28質量%)而製作總質量為500g的C液。
繼而，將B液與C液混合而製成D溶液，自該D溶液 中秤取50.0g，將其添加至A液而獲得混合溶液。一面攪拌該混合溶液，一面向該混合溶液中緩慢滴加10g的0.05N氫氧化鈉水溶液，進而添加60.0g的10質量%酒石酸水溶液。繼而，使用磁攪拌器將該混合溶液攪拌1小時，之後藉由離心分離進行清洗，從而獲得粒子(固體成分)濃度為15質量%的分散液。
使用噴霧乾燥機(MDL-050B，藤崎電機公司製造)對所獲得的分散液進行乾燥，從而獲得含有銀錫合金的微粒子。微粒子是藉由重複所述處理而增加量來製作。
另外，對該分散液進行過濾而將粒子分離，使分離的粒子乾燥而製作粉末試樣，並利用粉末X射線繞射法對製作的粉末試樣中的生成相進行鑒定，結果確認到銀錫合金(Ag3Sn及/或Ag4Sn)及銀的存在。
(顏料分散物的製備)
使用攪拌機(依格(IKA)公司製造的尤羅斯塔(EUROSTAR))，將含有銀錫合金的微粒子、分散劑及有機溶劑混合15分鐘而獲得分散物。其次，使用新丸企業(Shinmaru Enterprises)(股)製造的NPM-Pilot以下述條件對所獲得的分散物進行分散處理而獲得顏料分散物。再者，是以分散劑(D)相對於含有銀錫合金的微粒子(P)的比率(D/P)成為0.3的方式進行。
(分散條件)
‧珠粒徑：Φ0.05mm(尼卡特(NIKKATO)製造的氧化鋯珠 粒，YTZ)
‧珠粒填充率：65體積%
‧磨機周速：13m/sec
‧分離器周速：13m/s
‧進行分散處理的混合液量：15kg
‧循環流量(泵供給量)：90kg/hour
‧處理液溫度：19℃~21℃
‧冷卻水：水
‧處理時間：22小時左右
使用所獲得的分散物，與實施例1同樣地進行而製備下述表3所示的實施例41的著色組成物。各成分的濃度如下所述。
Figure 105127849-A0305-02-0132-44
該情況下，相對於所獲得的著色組成物的總固體成分，光聚合起始劑的含量為0.1%。
進而，除鹼可溶性樹脂、及/或光聚合起始劑的變更(包含含量的變更)以外，與實施例41同樣地進行而製備下述表3所 示的實施例42~實施例47的著色組成物。
使用所獲得的實施例41~實施例47的著色組成物，與實施例1~實施例40同樣地進行評價(其中，除直線性的評價以外)。將結果示於下述表3。
[表3]
Figure 105127849-A0305-02-0134-45
如所述表3所示般，可知使用含有銀錫合金的微粒子作為著色劑的實施例41~實施例47中，與實施例1~實施例40同樣地，於低溫(50℃)的加熱下亦進行硬化。
<實施例4-A>
其次，作為支撐體，使用於玻璃基板上未形成環氧樹脂層的支撐體(即，僅玻璃基板)，除此以外，與實施例4同樣地進行而獲得密接性評價用的評價基板(以下，亦將其稱為「實施例4-A」)。
將該評價基板載置於旋轉‧噴淋顯影機(DW-30型，化學電子(Chemitronics)(股)製造)的水平旋轉台上，使用CD-2000(富士軟片電子材料(FUJIFILM Electronic Materials)(股)製造)並於23℃的環境下進行60秒鐘覆液式顯影，與所述(密接性)的評價同樣地進行評價，結果關於實施例4-A，與實施例4同樣地未觀測到圖案的剝離。
進而，使用CD-2000(富士軟片電子材料(FUJIFILM Electronic Materials)(股)製造)並於23℃的環境下進行60秒鐘覆液式顯影，重複5次所述處理，結果關於實施例4，未觀測到圖案的剝離，而關於實施例4-A，稍微觀測到圖案的剝離。
使用該評價基板而進行其他評價，結果實施例4-A獲得與實施例4同等的結果。
<實施例4-B>
使用碳黑(商品名「色素碳黑(color black)S170」，德固賽(Degussa)公司製造，平均一次粒子徑17nm，BET比表面積為 200m2/g，藉由氣黑(gas black)方式所製造的碳黑)代替鈦黑TB-1，除此以外，與實施例4同樣地進行而獲得密接性評價用的評價基板(以下，亦將其稱為「實施例4-B」)。
將該評價基板載置於旋轉‧噴淋顯影機(DW-30型，化學電子(Chemitronics)(股)製造)的水平旋轉台上，使用CD-2000(富士軟片電子材料(FUJIFILM Electronic Materials)(股)製造)並於23℃的環境下進行60秒鐘覆液式顯影，與所述(密接性)的評價同樣地進行評價，結果關於實施例4-B，與實施例4同樣地未觀測到圖案的剝離。
進而，使用CD-2000(富士軟片電子材料(FUJIFILM Electronic Materials)(股)製造)並於23℃的環境下進行60秒鐘覆液式顯影，重複5次所述處理，結果關於實施例4，未觀測到圖案的剝離，關於實施例4-B，稍微觀測到圖案的剝離。
使用該評價基板而進行其他評價，結果實施例4-B獲得與實施例4同等的結果。
<實施例4-C>
於獲得著色組成物時，進而添加0.25%的紫外線吸收劑(商品名「帝奴彬(TINUVIN)900」，巴斯夫(BASF)公司製造)，除此以外，與實施例4同樣地進行而獲得耐光性評價用的評價基板(以下，亦將其稱為「實施例4-C」)。
對所獲得的評價基板、及實施例4的評價基板，進行使用氙氣燈以1.0×105勒克司的照度照射70小時或90小時的試驗，結果 於70小時內未看到差異，於90小時的照射下，獲得實施例4-C的透過率變動更少的結果。
使用該評價基板而進行其他評價，結果實施例4-C獲得與實施例4同等的結果。
<實施例4-D>
將溶劑變更為PGMEA與環己酮的混合溶媒(質量比為1：1)，除此以外，與實施例4同樣地進行而獲得評價基板(以下，亦將其稱為「實施例4-D」)。
使用該評價基板而進行各評價，結果獲得與實施例4同等的結果。
<實施例4-E>
使用顏料紅254(汽巴精化(Ciba specialty chemicals)公司製造，商品名BK-CF)代替鈦黑TB-1，除此以外，與實施例4同樣地進行而獲得評價基板(以下，亦將其稱為「實施例4-E」)。
使用該評價基板而進行各評價，結果獲得與實施例4同等的結果。
<實施例4-F>
將鈦黑TB-1(25%)變更為鈦黑TB-1(20%)與顏料紅254(5%)，除此以外，與實施例4同樣地進行而獲得評價基板(以下，亦將其稱為「實施例4-F」)。
使用該評價基板而進行各評價，結果獲得與實施例4同等的結果。
另外，與實施例4相比，可知紅外線區域的波長中光的反射率及透過率低，遮光性優異。
根據所述結果推測，於變更著色劑的情況、或併用的情況下，亦可獲得本發明所期望的效果。
<實施例4-G>
將聚合性化合物變更為卡亞拉得(KAYARAD)DPHA(二季戊四醇六丙烯酸酯，日本化藥(股)製造)2.5%及PET-30(季戊四醇三丙烯酸酯，日本化藥(股)製造)1.0%，除此以外，與實施例4同樣地進行而獲得評價基板(以下，亦將其稱為「實施例4-G」)。
使用該評價基板而進行各評價，結果獲得與實施例4同等的結果。另外，與實施例4相比，可知顯影的速度快，顯影性優異。
<實施例48~實施例57>
以下述表4所示的著色劑的混合比(質量比)併用著色劑1與著色劑2，除此以外，與實施例1~實施例47同樣地進行，並使用下述表4中記載的成分而獲得著色組成物。
作為著色劑1，使用與在實施例1等中使用的鈦黑TB-1相同的鈦黑TB-1。作為著色劑2，使用與在實施例19等中使用的氮氧化鈮相同的氮氧化鈮。
<實施例58>
使用氮氧化鈮2作為著色劑2，除此以外，與實施例49同樣地進行而獲得著色組成物。
關於氮氧化鈮2，首先，藉由日本專利特開2012-055840號公報中記載的利用電漿的奈米尺寸的微粒子的製造方法來製造氧化鈮粒子，繼而，使用該製造的氧化鈮粒子並依據日本專利特開2012-96945號公報來製備。
更詳細而言，關於奈米尺寸的微粒子的製造，將原材料自Ti粉末變更為鈮粉末(三津和化學藥品股份有限公司製造，商品名：鈮(粉末)<-325mesh>)，且適宜調整裝置的處理參數，除此以外，與日本專利特開2012-055840號公報的記載同樣地進行而獲得粒徑15nm的氧化鈮微粒子。
繼而，將所得的氧化鈮微粒子於日本專利特開2012-96945號公報中記載的高溫的氨環境中還原，藉此獲得氮氧化鈮2。
<比較例5>
將光聚合起始劑自光聚合起始劑I-1(豔佳固(IRGACURE)-OXE03(巴斯夫(BASF)公司製造))變更為光聚合起始劑I-4(豔佳固(IRGACURE)-OXE02(巴斯夫(BASF)公司製造))，除此以外，與實施例49同樣地進行而獲得著色組成物。
<評價>
使用所獲得的實施例48~實施例58及比較例5的著色組成物，與實施例1~實施例47同樣地進行評價。將結果示於下述表4。
[表4]
Figure 105127849-A0305-02-0140-46
如所述表4所示般，可知實施例48~實施例58中，與實施例1~實施例47同樣地，於低溫(50℃)的加熱下亦進行硬化。
相對於此，比較例5於低溫(50℃)的加熱下硬化不充分。
<實施例59~實施例60>
將鈦黑TB-1變更為氮化鈦，除此以外，分別與實施例50及實施例52同樣地進行而製備實施例59~實施例60的著色組成物。使用實施例59~實施例60的著色組成物並進行與所述相同的評價，結果分別獲得與實施例50及實施例52相同的評價結果。
<實施例61~實施例62>
將氮氧化鈮變更為氮化鈦，除此以外，分別與實施例50及實施例52同樣地進行而製備實施例61~實施例62的著色組成物。使用實施例61~實施例62的著色組成物並進行與所述相同的評價，結果分別獲得與實施例50及實施例52相同的評價結果。
<實施例63>
將氮氧化鈮變更為碳黑，除此以外，與實施例50同樣地進行而製備實施例63的著色組成物。使用實施例63的著色組成物並進行與所述相同的評價，結果獲得與實施例50相同的評價結果。
<實施例64>
將鈦黑TB-1變更為碳黑，除此以外，與實施例50同樣地進行而製備實施例64的著色組成物。使用實施例64的著色組成物並進行與所述相同的評價，結果獲得與實施例50相同的評價結果。
<實施例65>
將氮氧化鈮變更為碳黑，且將鈦黑TB-1變更為氮化鈦，除此以外，與實施例50同樣地進行而製備實施例65的著色組成物。使用實施例65的著色組成物並進行與所述相同的評價，結果獲得與實施例50相同的評價結果。
<實施例66~實施例77>
將光聚合起始劑變更為下述OE-1、OE-3、OE6、OE7、OE11、OE62、或OE74(E體的單體、Z體的單體、或E體與Z體的混合物)，除此以外，與實施例1~實施例40同樣地進行而製備實施例66~實施例77的著色組成物。
使用實施例66~實施例77的著色組成物，以100mJ/cm2的曝光量進行曝光，除此以外，與實施例1~實施例40同樣地進行評價。將結果示於下述表5。
[化40]
Figure 105127849-A0305-02-0143-63
Figure 105127849-A0305-02-0143-64
[表5]
Figure 105127849-A0305-02-0144-47
如所述表5所示般，可知實施例66~實施例77中，於低曝光量(100mJ/cm2)及低溫(50℃)的加熱下亦進行硬化。
<實施例78>
將下述表6所示的成分混合後，使用孔徑0.45μm的尼龍製過濾器(日本頗爾(Pall)(股)製造，DFA4201NXEY)進行過濾，從而製備著色組成物。更詳細而言，首先使用攪拌機(依格(IKA)公司製造的尤羅斯塔(EUROSTAR))，將鈦黑、分散劑及溶劑混合15分鐘，同樣地進行過濾而獲得分散物後，將剩餘的成分添加並混合於該分散物中，獲得著色組成物。
各成分的濃度如下所述。
Figure 105127849-A0305-02-0145-49
該情況下，相對於所獲得的著色組成物的總固體成分，光聚合起始劑的含量為4.4%。
<實施例79~實施例88>
如下述表6所示般變更鹼可溶性樹脂、光聚合起始劑、有機溶劑、及B/M比，除此以外，與實施例78同樣地進行而製備實施 例79~實施例88的著色組成物。再者，於變更B/M比時，使聚合性化合物(M)的含量增加或減少。
<評價1>
使用實施例78~實施例88的著色組成物，與實施例1~實施例40同樣地進行評價。將結果示於下述表6。
[表6]
Figure 105127849-A0305-02-0147-48
如所述表6所示般，可知實施例78~實施例88中，於低溫(50℃)的加熱下亦進行硬化。
<評價2>
準備於玻璃基板(益格(Eagle)XG，康寧(Corning)公司製造)上使用環氧樹脂(JER-827，日本環氧樹脂(Japan epoxy resin)公司製造)而形成環氧樹脂層的支撐體。
於該支撐體上，藉由旋轉方式以成為1.5μm的厚度的方式塗佈實施例78~實施例88的著色組成物。繼而，使用圖案具有10μm的接觸孔的遮罩，除此以外，與實施例1~實施例40同樣地進行曝光及顯影。結果，獲得測定偏差3σ為3以下的良好的圖案。將其稱作基板A。
<實施例89>
於實施例78的所述評價2中獲得的基板A上使用環氧樹脂(JER-827，日本環氧樹脂(Japan epoxy resin)公司製造)而形成環氧樹脂層，於其上使用實施例78的著色組成物，與所述評價2同樣地進行而形成圖案，結果獲得測定偏差3σ為3以下的良好的圖案。
<實施例90~實施例99>
使用實施例79~實施例88的著色組成物，與實施例89同樣地進行評價，結果獲得與實施例89相同的良好的結果。

Claims (23)

  1. 一種著色感光性組成物，其含有：著色劑、聚合性化合物、光聚合起始劑、鹼可溶性樹脂、分散劑以及聚合抑制劑；且包含氮化鈦或氮氧化鈮作為所述著色劑，關於所述光聚合起始劑，使所述光聚合起始劑以0.001質量%溶解於乙腈中而成的溶液在波長340nm下的吸光度為0.45以上，所述分散劑的酸價為5mgKOH/g~200mgKOH/g，所述聚合抑制劑包含酚系聚合抑制劑，所述光聚合起始劑為下述式(I)所表示的化合物，
    Figure 105127849-A0305-02-0150-50
     式(I)中，Ra表示烷基、醯基、芳基或雜環基，Rb表示烷基、芳基或雜環基，多個Rc分別獨立地表示氫原子、烷基或-ORh所表示的基；所述-ORh所表示的基中的Rh表示拉電子基，所述拉電子基為至少一個氫原子經氟原子取代的碳數1~20的烷基；其中，多個Rc中的至少任一者表示-ORh所表示的基。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的著色感光性組成物，其中所述Ra為雜環基。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的著色感光性組成物，其中多個所述Rc中的一個或兩個為所述-ORh所表示的基。
  4. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的著色感光性組成物，其中所述聚合性化合物具有五個以上的乙烯性不飽和雙鍵。
  5. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的著色感光性組成物，其更含有界面活性劑。
  6. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的著色感光性組成物，其更含有紫外線吸收劑。
  7. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的著色感光性組成物，其中併用兩種以上的酚系聚合抑制劑來作為所述聚合抑制劑。
  8. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的著色感光性組成物，其中併用酚系聚合抑制劑與受阻胺系聚合抑制劑來作為所述聚合抑制劑。
  9. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的著色感光性組成物，其更含有有機溶劑。
  10. 如申請專利範圍第9項所述的著色感光性組成物，其中併用兩種以上的有機溶劑來作為所述有機溶劑。
  11. 一種著色感光性組成物，其含有：著色劑、聚合性化合物、光聚合起始劑以及聚合抑制劑；且 關於所述光聚合起始劑，使所述光聚合起始劑以0.001質量%溶解於乙腈中而成的溶液在波長340nm下的吸光度為0.45以上，相對於所述著色感光性組成物的總固體成分，所述聚合抑制劑的含量為0.003質量%以上且小於0.010質量%，所述聚合抑制劑包含兩種以上的酚系聚合抑制劑、或包含酚系聚合抑制劑及受阻胺系聚合抑制劑，所述光聚合起始劑為下述式(I)所表示的化合物，
    Figure 105127849-A0305-02-0152-51
     式(I)中，Ra表示烷基、醯基、芳基或雜環基，Rb表示烷基、芳基或雜環基，多個Rc分別獨立地表示氫原子、烷基或-ORh所表示的基；所述-ORh所表示的基中的Rh表示拉電子基，所述拉電子基為至少一個氫原子經氟原子取代的碳數1~20的烷基；其中，多個Rc中的至少任一者表示-ORh所表示的基。
  12. 一種著色感光性組成物，其含有：著色劑、聚合性化合物、光聚合起始劑、鹼可溶性樹脂以及聚合抑制劑；且包含氮化鈦或氮氧化鈮作為所述著色劑， 關於所述光聚合起始劑，使所述光聚合起始劑以0.001質量%溶解於乙腈中而成的溶液在波長340nm下的吸光度為0.45以上，所述鹼可溶性樹脂相對於所述聚合性化合物的質量比為0.9~2.0，所述聚合抑制劑包含酚系聚合抑制劑，所述光聚合起始劑為下述式(I)所表示的化合物，
    Figure 105127849-A0305-02-0153-52
     式(I)中，Ra表示烷基、醯基、芳基或雜環基，Rb表示烷基、芳基或雜環基，多個Rc分別獨立地表示氫原子、烷基或-ORh所表示的基；所述-ORh所表示的基中的Rh表示拉電子基，所述拉電子基為至少一個氫原子經氟原子取代的碳數1~20的烷基；其中，多個Rc中的至少任一者表示-ORh所表示的基。
  13. 一種著色感光性組成物，其含有：著色劑、聚合性化合物以及光聚合起始劑；且包含氮化鈦或氮氧化鈮作為所述著色劑，關於所述光聚合起始劑，使所述光聚合起始劑以0.001質量%溶解於乙腈中而成的溶液在波長340nm下的吸光度為0.45以上， 所述光聚合起始劑為下述式(I)所表示的化合物，
    Figure 105127849-A0305-02-0154-53
     式(I)中，Ra表示式(II)所表示的基，Rb表示烷基、芳基或雜環基，多個Rc分別獨立地表示氫原子、烷基或-ORh所表示的基；Rh表示拉電子基或烷基醚基；其中，多個Rc中的至少任一者表示-ORh所表示的基，
    Figure 105127849-A0305-02-0154-54
     式(II)中，Ar1表示苯環，Ar2表示萘環，R3分別獨立地表示烷基或芳基，*表示鍵結位置。
  14. 一種硬化膜，其是使如申請專利範圍第1項至第13項中任一項所述的著色感光性組成物硬化而成。
  15. 一種彩色濾光片，其是使如申請專利範圍第1項至第13項中任一項所述的著色感光性組成物硬化而成。
  16. 一種遮光膜，其是使如申請專利範圍第1項至第13項中任一項所述的著色感光性組成物硬化而成。
  17. 一種固體攝影元件，其具有如申請專利範圍第14項所述的硬化膜。
  18. 一種圖像顯示裝置，其具有如申請專利範圍第14項所述的硬化膜。
  19. 一種硬化膜的製造方法，其至少包括以下步驟：使用如申請專利範圍第1項至第13項中任一項所述的著色感光性組成物而於支撐體上形成著色感光性組成物層的步驟；以及對所述著色感光性組成物層進行曝光而形成硬化膜的步驟。
  20. 如申請專利範圍第19項所述的硬化膜的製造方法，其更包括對所述硬化膜實施加熱處理的步驟，且所述加熱處理的溫度為120℃以下。
  21. 如申請專利範圍第19項所述的硬化膜的製造方法，其更包括對所述硬化膜實施加熱處理的步驟，且所述加熱處理的溫度為80℃以下。
  22. 如申請專利範圍第19項所述的硬化膜的製造方法，其更包括對所述硬化膜實施加熱處理的步驟，且所述加熱處理的溫度為50℃以下。
  23. 如申請專利範圍第19項至第22項中任一項所述的硬化膜的製造方法，其中所述支撐體於形成有所述硬化膜的面上具有環氧樹脂層。
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Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016158604A1 (ja) * 2015-03-31 2016-10-06 コニカミノルタ株式会社 近赤外線遮蔽フィルム、その製造方法及び粘着剤組成物
WO2017203979A1 (ja) * 2016-05-27 2017-11-30 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、硬化膜、カラーフィルタ、遮光膜、固体撮像素子、画像表示装置、及び硬化膜の製造方法
JP7482628B2 (ja) * 2017-03-16 2024-05-14 株式会社Adeka オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤
KR102300328B1 (ko) * 2017-03-29 2021-09-09 동우 화인켐 주식회사 흑색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 표시 장치
JP7006358B2 (ja) * 2018-02-21 2022-01-24 三菱ケミカル株式会社 感光性着色組成物、硬化物、着色スペーサー、及び画像表示装置
JP7016403B2 (ja) * 2018-03-13 2022-02-04 富士フイルム株式会社 硬化膜の製造方法、固体撮像素子の製造方法
JPWO2020066438A1 (ja) * 2018-09-26 2021-08-30 富士フイルム株式会社 着色感光性樹脂組成物、膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、構造体、固体撮像素子及び画像表示装置
KR102497175B1 (ko) * 2018-11-29 2023-02-07 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물, 이를 사용하여 제조된 컬러필터, 및 상기 컬러필터를 포함하는 표시장치
KR102632214B1 (ko) * 2019-10-09 2024-02-01 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 레지스트 하층막 형성 조성물
TWI817316B (zh) * 2021-01-12 2023-10-01 日商旭化成股份有限公司 聚醯亞胺前驅體樹脂組合物及其製造方法
JP2023068321A (ja) * 2021-11-02 2023-05-17 凸版印刷株式会社 赤外光パスフィルター用感光性着色組成物、赤外光パスフィルター、赤外光パスフィルター用感光性着色組成物の製造方法、および、赤外光パスフィルターの製造方法

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200625006A (en) * 2004-11-12 2006-07-16 Fuji Photo Film Co Ltd Pattern-forming composition, pattern-forming material, pattern-forming device, and pattern-forming method
TW200722918A (en) * 2005-09-14 2007-06-16 Fujifilm Corp Material for pattern formation, device for pattern formation, and methof for pattern formation
TW200745183A (en) * 2006-03-17 2007-12-16 Fujifilm Corp High-molecular compound and production method thereof, pigment dispersant, pigment dispersed composition, light-curable composition, and color filter and production method thereof
WO2010146883A1 (ja) * 2009-06-17 2010-12-23 東洋インキ製造株式会社 オキシムエステル化合物、ラジカル重合開始剤、重合性組成物、ネガ型レジストおよび画像パターン
TW201232178A (en) * 2010-12-20 2012-08-01 Asahi Glass Co Ltd Photosensitive resin composition, partition wall, color filter, and organic el element
JP2013114249A (ja) * 2011-12-01 2013-06-10 Toppan Printing Co Ltd 黒色感光性樹脂組成物およびカラーフィルタ
TW201329044A (zh) * 2011-12-07 2013-07-16 Basf Se 肟酯光起始劑
TW201402550A (zh) * 2012-05-09 2014-01-16 Basf Se 肟酯光起始劑
TW201531804A (zh) * 2014-02-04 2015-08-16 Nippon Steel & Sumikin Chem Co 遮光膜用感光性樹脂組成物及其硬化物

Family Cites Families (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0387744A (ja) * 1989-08-31 1991-04-12 Asahi Chem Ind Co Ltd 耐光性に優れた感光性樹脂組成物
JP2003241374A (ja) * 2002-02-14 2003-08-27 Dainippon Printing Co Ltd アルカリ可溶性グラフトポリマーからなる有機溶剤系着色レジスト用バインダー、有機溶剤系着色レジスト用顔料分散液、感光性着色組成物及び、カラーフィルター
JP2007079120A (ja) * 2005-09-14 2007-03-29 Fujifilm Corp 感光性組成物、パターン形成材料、感光性積層体、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法
EP2116527A4 (en) * 2007-01-23 2011-09-14 Fujifilm Corp OXIME COMPOUND, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, COLOR FILTER, METHOD FOR MANUFACTURING THE COLOR FILTER, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT
JP5241289B2 (ja) * 2008-03-31 2013-07-17 富士フイルム株式会社 重合性組成物、遮光性カラーフィルタ、および固体撮像素子
JP5512095B2 (ja) * 2008-04-28 2014-06-04 富士フイルム株式会社 感光性組成物、固体撮像素子用感光性組成物、固体撮像素子用遮光性カラーフィルタ、及び固体撮像素子
JP5469471B2 (ja) * 2009-01-30 2014-04-16 富士フイルム株式会社 着色光重合性組成物、着色パターンの形成方法、カラーフィルタ、および液晶表示装置、
JP2010256891A (ja) * 2009-04-01 2010-11-11 Toyo Ink Mfg Co Ltd 感光性着色組成物およびカラーフィルタ
JP5564825B2 (ja) * 2009-04-27 2014-08-06 凸版印刷株式会社 着色組成物、カラーフィルタの製造方法およびカラーフィルタ
KR101279586B1 (ko) * 2011-01-20 2013-06-27 한국과학기술연구원 플렉서블 광전극과 그 제조방법, 및 이를 이용한 염료감응 태양전지
CN103443155B (zh) * 2011-03-25 2015-09-16 东丽株式会社 黑色树脂组合物、树脂黑矩阵基板和触摸面板
JP6149353B2 (ja) * 2011-07-08 2017-06-21 住友化学株式会社 着色感光性樹脂組成物
JP5852830B2 (ja) * 2011-09-28 2016-02-03 富士フイルム株式会社 着色組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、その製造方法、及び固体撮像素子
JP5772642B2 (ja) 2012-02-09 2015-09-02 Jsr株式会社 硬化性樹脂組成物、表示素子用硬化膜、表示素子用硬化膜の形成方法及び表示素子
JP6112812B2 (ja) * 2012-09-25 2017-04-12 三菱マヒンドラ農機株式会社 汎用コンバイン
JP6281305B2 (ja) * 2013-02-12 2018-02-21 Jsr株式会社 着色組成物、着色硬化膜、表示素子及び固体撮像素子
JP2015001654A (ja) * 2013-06-17 2015-01-05 東レ株式会社 積層樹脂ブラックマトリクス基板の製造方法
JP6246086B2 (ja) * 2013-07-29 2017-12-13 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ、その製造方法、着色硬化性組成物、固体撮像素子、着色硬化性組成物およびキット
KR102282647B1 (ko) * 2013-09-10 2021-07-28 바스프 에스이 옥심 에스테르 광개시제
JP6260177B2 (ja) * 2013-09-30 2018-01-17 ブラザー工業株式会社 画像処理システム、画像処理方法、及び画像処理プログラム
JP6233775B2 (ja) * 2013-09-30 2017-11-22 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、その樹脂硬化物およびカラーフィルター
JP6268967B2 (ja) * 2013-11-19 2018-01-31 三菱ケミカル株式会社 着色樹脂組成物、カラーフィルタ、液晶表示装置及び有機ｅｌ表示装置
JP2015125402A (ja) * 2013-12-27 2015-07-06 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 カラーフィルタ用感光性着色組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法
JP2015143840A (ja) * 2013-12-27 2015-08-06 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 カラーフィルタ用感光性着色組成物、カラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法
JP6398774B2 (ja) * 2014-02-18 2018-10-03 Ａｇｃ株式会社 ネガ型感光性樹脂組成物、樹脂硬化膜、隔壁および光学素子
JP6420634B2 (ja) * 2014-03-26 2018-11-07 株式会社Adeka レジスト組成物、カラーレジスト組成物及び該組成物を用いたカラーフィルタ
WO2016104493A1 (ja) * 2014-12-24 2016-06-30 株式会社Ｄｎｐファインケミカル カラーフィルタ用色材分散液、カラーフィルタ用感光性着色樹脂組成物、カラーフィルタ、液晶表示装置、及び有機発光表示装置
WO2016129324A1 (ja) * 2015-02-09 2016-08-18 富士フイルム株式会社 硬化性組成物、遮光膜付き赤外光カットフィルタ、及び、固体撮像装置
WO2016143878A1 (ja) * 2015-03-11 2016-09-15 三菱化学株式会社 着色スペーサー形成用感光性着色組成物、硬化物、着色スペーサー、画像表示装置
TWI748947B (zh) * 2015-03-30 2021-12-11 日商住友化學股份有限公司 著色硬化性樹脂組合物
JP2016206378A (ja) * 2015-04-21 2016-12-08 Jsr株式会社 着色組成物、着色硬化膜及び固体撮像素子

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200625006A (en) * 2004-11-12 2006-07-16 Fuji Photo Film Co Ltd Pattern-forming composition, pattern-forming material, pattern-forming device, and pattern-forming method
TW200722918A (en) * 2005-09-14 2007-06-16 Fujifilm Corp Material for pattern formation, device for pattern formation, and methof for pattern formation
TW200745183A (en) * 2006-03-17 2007-12-16 Fujifilm Corp High-molecular compound and production method thereof, pigment dispersant, pigment dispersed composition, light-curable composition, and color filter and production method thereof
WO2010146883A1 (ja) * 2009-06-17 2010-12-23 東洋インキ製造株式会社 オキシムエステル化合物、ラジカル重合開始剤、重合性組成物、ネガ型レジストおよび画像パターン
TW201232178A (en) * 2010-12-20 2012-08-01 Asahi Glass Co Ltd Photosensitive resin composition, partition wall, color filter, and organic el element
JP2013114249A (ja) * 2011-12-01 2013-06-10 Toppan Printing Co Ltd 黒色感光性樹脂組成物およびカラーフィルタ
TW201329044A (zh) * 2011-12-07 2013-07-16 Basf Se 肟酯光起始劑
TW201402550A (zh) * 2012-05-09 2014-01-16 Basf Se 肟酯光起始劑
TW201531804A (zh) * 2014-02-04 2015-08-16 Nippon Steel & Sumikin Chem Co 遮光膜用感光性樹脂組成物及其硬化物

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