TWI710792B - 投影光學系統、曝光裝置及物品之製造方法 - Google Patents

投影光學系統、曝光裝置及物品之製造方法 Download PDF

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Abstract

本發明提供投影光學系統係將來自物面的光按照第1平面鏡、第1凹面鏡、凸面鏡、第2凹面鏡、第2平面鏡的順序反射而成像於像面，前述投影光學系統具有：第1光學系統，配置於前述物面與前述第1平面鏡之間，校正與被定義為鉛直方向的第1方向正交的第2方向的前述投影光學系統的倍率；第2光學系統，配置於前述第2平面鏡與前述像面之間，校正與前述第1方向及前述第2方向正交的第3方向的前述投影光學系統的倍率，前述第1光學系統包括沿著前述第1方向排列的在前述第2方向及前述第3方向具有不同折光率的第1透鏡及第2透鏡，前述第2光學系統包括沿前述第1方向排列的在前述第2方向及前述第3方向具有不同折光率的第3透鏡及第4透鏡，還具有：第1旋轉部，使前述第1透鏡及前述第2透鏡的一方繞與前述第1方向平行的第1軸旋轉；第2旋轉部，使第3透鏡及第4透鏡的一方繞與前述第1方向平行的第2軸旋轉。

Description

投影光學系統、曝光裝置及物品之製造方法
本發明涉及投影光學系統、曝光裝置以及物品之製造方法。
半導體裝置、平板顯示器(FPD)等裝置是經由光刻程序製造的。光刻程序包括將遮罩或者倍縮光罩(原版)的圖案投影到塗敷有抗蝕層(感光劑)的玻璃板、晶圓等基板並對上述基板進行曝光的曝光程序。在FPD的製造中，一般使用具有包括反射鏡的投影光學系統(所謂Offner光學系統)的曝光裝置。 在曝光裝置中，透過多個光刻程序在基板上重疊形成多個圖案。因此，對基板上的圖案高精度地重疊遮罩的圖案而對基板進行曝光變得重要。但是，有時由於經過多個光刻程序使得遮罩、基板發生伸縮而在基板上的圖案與遮罩的圖案之間產生倍率誤差。在該情況下，在基板上重疊形成多個圖案時，在多個圖案之間產生重疊誤差。 因此，在日本特許第5595001號公報中提出了能夠在抑制像散的發生的同時校正這樣的倍率誤差的投影光學系統。另外，在日本特許第4547714號公報中還提出了能夠在實質上抑制副作用的同時校正像散的投影光學系統。
然而，日本特許第5595001號公報公開的投影光學系統雖然能夠抑制校正倍率的方向(例如縱橫方向)上的像散的發生，但無法校正相對於校正倍率的方向傾斜的方向上的像散。另外，日本特許第4547714號公報公開的投影光學系統並非Offner光學系統而是2次成像系統，所以導致光學系統以及具有該光學系統的曝光裝置的大型化、裝置佔用面積(Footprint)的擴大等。在曝光裝置所使用的投影光學系統中，要求不使光學系統大型化，而能夠高精度地校正倍率、像散。 本發明提供對於校正倍率、像散有利的投影光學系統。 作為本發明的一個方案的投影光學系統，將來自物面的光按照第1平面鏡、第1凹面鏡、凸面鏡、第2凹面鏡、第2平面鏡的順序反射而成像於像面，前述投影光學系統具有：第1光學系統，配置於前述物面與前述第1平面鏡之間，校正與被定義為鉛直方向的第1方向正交的第2方向上的前述投影光學系統的倍率；以及第2光學系統，配置於前述第2平面鏡與前述像面之間，校正與前述第1方向及前述第2方向正交的第3方向上的前述投影光學系統的倍率，前述第1光學系統包括沿著前述第1方向排列的在前述第2方向以及前述第3方向上具有不同的折光率(power)的第1透鏡以及第2透鏡，前述第2光學系統包括沿著前述第1方向排列的在前述第2方向以及前述第3方向上具有不同的折光率的第3透鏡以及第4透鏡，前述投影光學系統還具有：第1旋轉部，使前述第1透鏡及前述第2透鏡的一方繞與前述第1方向平行的第1軸旋轉；以及第2旋轉部，使前述第3透鏡及前述第4透鏡的一方繞與前述第1方向平行的第2軸旋轉。 本發明的進一步的目的或者其他方案透過以下參照附圖說明的優選的實施方式將變得更加明確。 根據本發明，例如，能夠提供對於校正倍率、像散而有利的投影光學系統。
以下，參照圖式，說明本發明的優選的實施方式。此外，在各圖中，對同一構材附加同一參照編號，省略重複的說明。 ＜第1實施方式＞ 圖1是示出第1實施方式中的曝光裝置EX的結構的概略圖。曝光裝置EX是在作為半導體裝置、平板顯示器(FPD)的製造程序的光刻程序中使用的光刻裝置。曝光裝置EX例如是同步地掃描遮罩9(原版)和基板17而將形成於遮罩9的圖案轉印到基板17的掃描型的曝光裝置(掃描器)。 曝光裝置EX如圖1所示，具有照明光學系統IL、投影光學系統PO以及控制部CU。另外，曝光裝置EX具有：遮罩載台(未圖示)，其能夠以保持配置於投影光學系統PO的物面OP的遮罩9的方式移動；以及基板載台(未圖示)，其能夠以保持配置於投影光學系統PO的像面IP的基板17的方式移動。此外，在本實施方式中，將Z軸(的負方向)定義為鉛直方向，對與Z軸正交並且相互正交的方向定義X軸以及Y軸。在本實施方式中，Y方向是掃描方向，X方向是與掃描方向正交的方向。 控制部CU例如由包括CPU、記憶體等的計算機(資訊處理裝置)構成，依照記憶於記憶部(未圖示)的程式，總括地控制曝光裝置EX的各部分。控制部CU控制對基板17進行曝光的曝光處理以及與曝光處理關聯的各種處理。 照明光學系統IL例如包括第1聚焦透鏡3、蠅眼透鏡4、第2聚焦透鏡5、狹縫界定構材6、成像光學系統7以及平面鏡8，用來自光源LS的光對遮罩9進行照明。光源LS例如包括水銀燈1和橢圓鏡2。狹縫界定構材6界定遮罩9的照明範圍(即對遮罩9進行照明的狹縫光的剖面形狀)。成像光學系統7配置成使由狹縫界定構材6界定的狹縫成像於物面OP。平面鏡8在照明光學系統IL中使光路徑折彎。 投影光學系統PO將遮罩9的圖案投影到基板17並對基板17進行曝光。投影光學系統PO雖然也可以由等倍成像光學系統、放大成像光學系統以及縮小成像光學系統中的任意光學系統構成，但在本實施方式中，構成為等倍成像光學系統。另外，投影光學系統PO在物面側以及像面側主光線為平行的。換言之，投影光學系統PO在物面OP以及像面IP是遠心的。 投影光學系統PO在從物面OP至像面IP的光路徑中，包括從物面側起依次配置的第1平面鏡11、第1凹面鏡12、凸面鏡13、第2凹面鏡14以及第2平面鏡15。投影光學系統PO使來自物面OP的光按照第1平面鏡11、第1凹面鏡12、凸面鏡13、第2凹面鏡14、第2平面鏡15的順序反射而成像於像面IP。 在投影光學系統PO中，物面OP與第1平面鏡11之間的光路徑、和第2平面鏡15與像面IP之間的光路徑平行。另外，包括第1平面鏡11的反射面的平面、和包括第2平面鏡15的反射面的平面成90度角度。在本實施方式中，第1平面鏡11和第2平面鏡15分體地構成，但也可以第1平面鏡11和第2平面鏡15一體地構成。同樣地，在本實施方式中，第1凹面鏡12和第2凹面鏡14分體地構成，但也可以第1凹面鏡12和第2凹面鏡14一體地構成。 投影光學系統PO如圖1所示，包括配置於物面OP與第1平面鏡11之間的光路徑的第1透鏡群10。第1透鏡群10是校正沿著物面OP與第1平面鏡11之間的光路徑的方向上，即與被定義為鉛直方向的第1方向(Z方向)正交的第2方向(Y方向)上的投影光學系統OP的倍率的第1光學系統。第1透鏡群10作為沿著第1方向排列的在第2方向以及第3方向上具有不同的折光率(power)的第1透鏡以及第2透鏡而包括柱面透鏡10a以及柱面透鏡10b。如圖2A所示，柱面透鏡10a包括在Y方向上具有曲率的凸柱面，柱面透鏡10b包括在Y方向上具有曲率的凹柱面。柱面透鏡10a和柱面透鏡10b被配置成在Z方向上隔開間隔、並且能夠變更Z方向的間隔。另外，柱面透鏡10a和柱面透鏡10b是將使各個柱面平行地相向的狀態(相互具有的折光率的方向一致的狀態)作為基準狀態來配置的。 另外，投影光學系統PO如圖1所示，包括配置於第2平面鏡15與像面IP之間的光路徑的第2透鏡群16。第2透鏡群16是校正沿著第2平面鏡15與像面IP之間的光路徑的方向上，即與被定義為鉛直方向的第1方向(Z方向)以及第2方向(Y方向)正交的第3方向(X方向)上的投影光學系統OP的倍率的第2光學系統。第2透鏡群16作為沿著第1方向排列的在第2方向以及第3方向上具有不同的折光率的第3透鏡以及第4透鏡，包括柱面透鏡16a以及柱面透鏡16b。如圖2B所示，柱面透鏡16a包括在X方向上具有曲率的凸柱面，柱面透鏡16b包括在X方向上具有曲率的凹柱面。柱面透鏡16a和柱面透鏡16b被配置成在Z方向上隔開間隔、並且能夠變更Z方向的間隔。另外，柱面透鏡16a和柱面透鏡16b是將使各個柱面平行地相向的狀態(相互具有的折光率的方向一致的狀態)作為基準狀態來配置的。 投影光學系統PO包括實現為了透過第1透鏡群10校正投影光學系統PO的Y方向的倍率而變更柱面透鏡10a和柱面透鏡10b在Z方向上的間隔的功能的第1驅動機構40。第1驅動機構40為了變更柱面透鏡10a和柱面透鏡10b在Z方向上的間隔，使柱面透鏡10a以及10b的一方在Z方向上移動。 另外，投影光學系統PO包括實現為了透過第2透鏡群16校正投影光學系統PO的X方向的倍率而變更柱面透鏡16a與柱面透鏡16b在Z方向上的間隔的功能的第2驅動機構50。第2驅動機構50為了變更柱面透鏡16a與柱面透鏡16b在Z方向上的間隔，使柱面透鏡16a以及16b的一方在Z方向上移動。 在本實施方式中，透過第1透鏡群10校正投影光學系統PO的X方向的倍率，透過第2透鏡群16校正投影光學系統PO的Y方向的倍率，但不限定於此。具體而言，也可以透過第1透鏡群10校正投影光學系統PO的Y方向的倍率，透過第2透鏡群16校正投影光學系統PO的X方向的倍率。在該情況下，只要第1透鏡群10包括圖2B所示的柱面透鏡16a以及16b，第2透鏡群16包括圖2A所示的柱面透鏡10a以及10b即可。 本實施方式構成為能夠使柱面透鏡10a以及10b的一方以及柱面透鏡16a以及16b的一方旋轉，以使得能夠使用第1透鏡群10以及第2透鏡群16校正投影光學系統PO的像散。在本實施方式中，用第1驅動機構40實現使柱面透鏡10a以及10b的一方旋轉的功能，用第2驅動機構50實現使柱面透鏡16a以及16b的一方旋轉的功能。具體而言，第1驅動機構40(第1旋轉部)如圖2A所示，使柱面透鏡10a以及10b的一方繞與Z方向(物面OP與第1平面鏡11之間的光路徑)平行的第1軸旋轉。另外，第2驅動機構50(第2旋轉部)如圖2B所示，使柱面透鏡16a以及16b的一方繞與Z方向(第2平面鏡15與像面IP之間的光路徑)平行的第2軸旋轉。此外，在本實施方式中，用第1驅動機構40使柱面透鏡10a以及10b的一方旋轉，用第2驅動機構50使柱面透鏡16a以及16b的一方旋轉，但不限定於此。也可以與第1驅動機構40區別地設置使柱面透鏡10a以及10b的一方旋轉的第1旋轉部，與第2驅動機構50區別地設置使柱面透鏡16a以及16b的一方旋轉的第2旋轉部。 例如，在使柱面透鏡10a以及10b中的柱面透鏡10a繞與Z方向平行的第1軸旋轉時，在與X方向以及Y方向不同的第4方向(傾斜45度方向)上發生曲率成分。由此，如圖3A所示，發生第4方向的倍率成分、第4方向的像散以及與XY平面內的第4方向正交的第5方向(傾斜135度方向)的像散成分。另外，在使柱面透鏡16a以及16b中的柱面透鏡16a繞與Z方向平行的第2軸旋轉時，如圖3B所示，發生第4方向的倍率成分、第4方向的像散以及第5方向的像散成分。 投影光學系統PO在本實施方式中是以凸面鏡13為中心而對稱的光學系統。因此，透過將物面附近以及像面附近的處於對稱的關係的光學系統，即柱面透鏡驅動到對稱的位置，畸變成分被相互的柱面透鏡抵消。另外，在將旋轉的柱面透鏡的柱面的曲率的方向從X方向變更為Y方向時，透過使上述柱面透鏡旋轉而發生的倍率成分以及像散成分的正負發生反轉。進而，在將旋轉的柱面透鏡的柱面的形狀從凸變更為凹時，透過使上述柱面透鏡旋轉而發生的倍率成分以及像散成分的正負發生反轉。 因此，在本實施方式中，使包括在X方向上具有曲率的凸柱面的柱面透鏡10a繞第1軸順時針旋轉，使包括在Y方向上具有曲率的凸柱面的柱面透鏡16a繞第2軸順時針旋轉。由此，如圖3C所示，能夠一邊抑制倍率成分的發生，一邊使得發生傾斜45度方向的像散成分(從第2方向(Y方向)以及第3方向(X方向)旋轉了45度的方向的像散)。 因此，能夠用控制部CU控制第1驅動機構40以及第2驅動機構50(所驅動的柱面透鏡10a以及16a的旋轉)，以使得透過校正投影光學系統PO的倍率而產生的投影光學系統PO的像散抵消。例如，求出為了抵消透過將投影光學系統PO的倍率校正為目標值而產生的像散所需的柱面透鏡10a以及16a各自的旋轉量，根據上述旋轉量，控制第1驅動機構40以及第2驅動機構50。此時，使柱面透鏡10a和柱面透鏡16a同時旋轉即可。由此，能夠高精度地校正投影光學系統PO的倍率、像散。 另外，在本實施方式中，使包括在X方向上具有曲率的凸柱面的柱面透鏡10a、以及包括在Y方向上具有曲率的凸柱面的柱面透鏡16a旋轉，但不限定於此。如上所述，即使使包括在X方向上具有曲率的凹柱面的柱面透鏡10b、以及包括在Y方向上具有曲率的凹柱面的柱面透鏡16b旋轉，透過使旋轉方向成為逆時針從而得到同樣的效果。 進而，成為使柱面透鏡10a以及10b的一方旋轉的軸的第1軸、和成為使柱面透鏡16a以及16b的一方旋轉的軸的第2軸在同一直線上存在即可。由此，能夠進一步抑制透過使柱面透鏡10a以及10b的一方以及柱面透鏡16a以及16b的一方旋轉而發生的倍率成分。 另外，在本實施方式中，設想用致動器等驅動機構使柱面透鏡10a以及10b的一方、柱面透鏡16a以及16b的一方旋轉的情況而進行了說明，但不限定於此。例如，也可以以使透過校正投影光學系統PO的倍率而產生的投影光學系統PO的像散抵消的方式，按照使柱面透鏡10a以及10b的一方、柱面透鏡16a以及16b的一方從基準狀態旋轉的狀態配置。換言之，這樣的狀態的投影光學系統、具有該投影光學系統的曝光裝置也構成本發明的一個方案。此外，在該情況下，為了按照使柱面透鏡10a以及10b的一方、柱面透鏡16a以及16b的一方從基準狀態旋轉的狀態固定，使用螺釘、黏接劑等固定構材即可。 ＜第2實施方式＞ 參照圖4，說明第2實施方式中的曝光裝置。第2實施方式中的曝光裝置相比於第1實施方式中的曝光裝置EX，投影光學系統PO的結構不同。圖4是示出本實施方式中的投影光學系統PO的結構的概略圖。 在本實施方式中，投影光學系統PO在從物面OP至像面IP的光路徑中包括從物面側依次配置的第1平面鏡22、第1凹面鏡23、凸面鏡24、第2凹面鏡25以及第2平面鏡26。投影光學系統PO將來自物面OP的光按照第1平面鏡22、第1凹面鏡23、凸面鏡24、第2凹面鏡25、第2平面鏡26的順序反射而成像於像面IP。 在投影光學系統PO中，物面OP與第1平面鏡22之間的光路徑、和第2平面鏡26與像面IP之間的光路徑是平行的。另外，包括第1平面鏡22的反射面的平面、和包括第2平面鏡26的反射面的平面成90度的角度。在本實施方式中，第1平面鏡22和第2平面鏡26分體地構成，但第1平面鏡22和第2平面鏡26也可以一體地構成。同樣地，在本實施方式中，第1凹面鏡23和第2凹面鏡25分體地構成，但第1凹面鏡23和第2凹面鏡25也可以一體地構成。 投影光學系統PO如圖4所示包括配置於物面OP與第1平面鏡22之間的光路徑的第1透鏡群21。第1透鏡群21是校正沿著物面OP與第1平面鏡22之間的光路徑的方向上，即與被定義為鉛直方向的第1方向(Z方向)正交的第2方向(Y方向)上的投影光學系統OP的倍率的第1光學系統。第1透鏡群21作為沿著第1方向排列的在第2方向以及第3方向上具有不同的折光率的第1透鏡以及第2透鏡而包括柱面透鏡21a以及柱面透鏡21b。柱面透鏡21a包括在Y方向上具有曲率的凸柱面，柱面透鏡21b包括在Y方向上具有曲率的凹柱面。柱面透鏡21a和柱面透鏡21b被配置成在Z方向上隔開間隔、並且能夠變更Z方向的間隔。另外，柱面透鏡21a和柱面透鏡21b是將使各個柱面平行地相向的狀態(相互具有的折光率的方向一致的狀態)作為基準狀態來配置的。 另外，投影光學系統PO如圖4所示包括配置於第2平面鏡26與像面IP之間的光路徑的第2透鏡群28。第2透鏡群28是校正與被定義為鉛直方向的第1方向(Z方向)以及第2方向(Y方向)正交的第3方向(X方向)上的投影光學系統OP的倍率的第2光學系統。第2透鏡群28作為沿著第1方向排列的在第2方向以及第3方向上具有不同的折光率的第3透鏡以及第4透鏡包括柱面透鏡28a以及柱面透鏡28b。柱面透鏡28a包括在X方向上具有曲率的凸柱面，柱面透鏡28b包括在X方向上具有曲率的凹柱面。柱面透鏡28a和柱面透鏡28b被配置成在Z方向上隔開間隔、並且能夠變更Z方向的間隔。另外，柱面透鏡28a和柱面透鏡28b是將使各個柱面平行地相向的狀態(相互具有的折光率的方向一致的狀態)作為基準狀態來配置的。 進而，投影光學系統PO如圖4所示包括配置於第2平面鏡26與像面IP之間的光路徑、詳細而言第2平面鏡26與第2透鏡群28之間的光路徑的第3透鏡群27。此外，第3透鏡群27也可以配置於物面IP與第1平面鏡21之間的光路徑。第3透鏡群27是在第2方向(Y方向)以及第3方向(X方向)上以同一倍率(各向同性倍率)校正投影光學系統PO的倍率的第3光學系統。第3透鏡群27包括被配置成在Z方向上隔開間隔並且能夠變更Z方向的間隔的平凸透鏡27a以及平凹透鏡27b。另外，平凸透鏡27a和平凹透鏡27b以使各個球面平行地相向的狀態配置。 投影光學系統PO包括實現為了透過第1透鏡群21校正投影光學系統PO的Y方向的倍率而變更柱面透鏡21a和柱面透鏡21b在Z方向上的間隔的功能的第1驅動機構60。第1驅動機構60為了變更柱面透鏡21a和柱面透鏡21b在Z方向上的間隔，使柱面透鏡21a以及21b的一方在Z方向上移動。另外，第1驅動機構60在本實施方式中還具有使柱面透鏡21a以及21b的一方繞與Z方向(物面OP與第1平面鏡22之間的光路徑)平行的第1軸旋轉的功能。 另外，投影光學系統PO包括實現為了透過第2透鏡群28校正投影光學系統PO的X方向的倍率而變更柱面透鏡28a與柱面透鏡28b在Z方向上的間隔的功能的第2驅動機構70。第2驅動機構70為了變更柱面透鏡28a與柱面透鏡28b在Z方向上的間隔，使柱面透鏡28a以及28b的一方在Z方向上移動。另外，第2驅動機構70在本實施方式中還具有使柱面透鏡28a以及28b的一方繞與Z方向(第2平面鏡26與像面IP之間的光路徑)平行的第2軸旋轉的功能。 進而，投影光學系統PO包括實現為了透過第3透鏡群27校正投影光學系統PO的X方向以及Y方向的倍率而變更平凸透鏡27a與平凹透鏡27b在Z方向上的間隔的功能的第3驅動機構80。第3驅動機構80為了變更平凸透鏡27a與平凹透鏡27b在Z方向上的間隔，使平凸透鏡27a以及27b的一方在Z方向上移動。 圖5是示出在驅動構成第1透鏡群21、第2透鏡群28以及第3透鏡群27的各個透鏡群的各透鏡時發生的像散以及倍率成分的發生量的圖。如圖5所示，在第1透鏡群21中，在變更柱面透鏡21a與柱面透鏡21b在Z方向上的間隔時，在X方向和Y方向上發生像散量A，在Y方向上發生倍率成分量-D。另一方面，在使柱面透鏡21a以及21b的一方繞與Z方向平行的第1軸旋轉時，在傾斜45度方向和傾斜135度方向上發生像散量B，在傾斜45度方向上發生倍率成分量E，在傾斜135度方向上發生倍率成分量F。 另外，如圖5所示，在第2透鏡群28中，變更柱面透鏡28a與柱面透鏡28b在Z方向上的間隔時，在X方向和Y方向上發生像散量A，在X方向上發生倍率成分量-C。另一方面，在使柱面透鏡28a以及28b的一方繞與Z方向平行的第2軸旋轉時，在傾斜45度方向和傾斜135度方向上發生像散量B，在傾斜45度方向上發生倍率成分量-E，在傾斜135度方向上發生倍率成分量-F。 另外，如圖5所示，在第3透鏡群27中，變更平凸透鏡27a與平凹透鏡27b在Z方向上的間隔時，在X方向上發生倍率成分量-C，在Y方向上發生倍率成分量-D。 在此，說明使用第1透鏡群21、第2透鏡群28以及第3透鏡群27在X方向和Y方向上發生像散量2A的方法。首先，在第1透鏡群21中，以在X方向和Y方向上發生像散量A的方式，變更柱面透鏡21a與柱面透鏡21b在Z方向上的間隔。此時，作為在第1透鏡群21中發生的其他成分，在Y方向上發生倍率成分量-D。 接下來，在第2透鏡群28中，以在X方向和Y方向上發生像散量A的方式，變更柱面透鏡28a與柱面透鏡28b在Z方向上的間隔。此時，作為在第2透鏡群28中發生的其他成分，在X方向上發生倍率成分量-C。 接下來，在第3透鏡群27中，為了抵消在第1透鏡群21中發生的Y方向的倍率成分，以在Y方向上發生倍率成分量D的方式，變更平凸透鏡27a與平凹透鏡27b在Z方向上的間隔。此時，作為在第3透鏡群27中發生的其他成分，在X方向上發生倍率成分量C。因此，在第2透鏡群28中發生的X方向的倍率成分也能夠抵消。其結果，在X方向和Y方向上僅發生像散量2A。 接下來，說明使用第1透鏡群21以及第2透鏡群28在傾斜45度方向和傾斜135度方向上發生像散量2B的方法。首先，在第1透鏡群21中，以在傾斜45度方向和傾斜135度方向上發生像散量B的方式，使柱面透鏡21a以及21b的一方繞與Z方向平行的第1軸旋轉。此時，作為在第1透鏡群21中發生的其他成分，在傾斜45度方向上發生倍率成分量E，在傾斜135度方向上發生倍率成分量F。 接下來，在第2透鏡群28中，以在傾斜45度方向和傾斜135度方向上發生像散量B的方式，使柱面透鏡28a以及28b的一方繞與Z方向平行的第2軸旋轉。此時，作為在第2透鏡群28中發生的其他成分，在傾斜45度方向上發生倍率成分量-E，在傾斜135度方向上發生倍率成分量-F。因此，作為在第1透鏡群21以及第2透鏡群28的各個中發生的其他成分的傾斜45度方向的倍率成分以及傾斜135度的倍率成分被抵消，在傾斜45度方向和傾斜135度方向上僅發生像散量2B。 接下來，說明使用第1透鏡群21、第2透鏡群28以及第3透鏡群27在X方向上發生倍率成分量2C的方法。首先，在第2透鏡群28中，以在X方向上發生倍率成分量C的方式，變更柱面透鏡28a與柱面透鏡28b在Z方向上的間隔。此時，作為在第2透鏡群28中發生的其他成分，在X方向和Y方向上發生像散量-A。 接下來，在第3透鏡群27中，以在X方向上發生倍率成分量C的方式，變更平凸透鏡27a與平凹透鏡27b在Z方向上的間隔。此時，作為在第3透鏡群27中發生的其他成分，在Y方向上發生倍率成分量D。 接下來，在第1透鏡群21中，為了抵消在第3透鏡群27中發生的Y方向的倍率成分，以在Y方向上發生倍率成分量-D的方式，變更柱面透鏡21a與柱面透鏡21b在Z方向上的間隔。此時，作為在第1透鏡群21中發生的其他成分，在X方向和Y方向上發生像散量A。因此，殘存的X方向和Y方向的像散量-A也被抵消，僅發生X方向的倍率成分量2C。 接下來，說明使用第1透鏡群21、第2透鏡群28以及第3透鏡群27在Y方向上發生倍率成分量2D的方法。首先，在第1透鏡群21中，以在Y方向上發生倍率成分量D的方式，變更柱面透鏡21a與柱面透鏡21b在Z方向上的間隔。此時，作為在第1透鏡群21中發生的其他成分，在X方向和Y方向上發生像散量-A。 接下來，在第3透鏡群27中，以在X方向上發生倍率成分量D的方式，變更平凸透鏡27a與平凹透鏡27b在Z方向上的間隔。此時，作為在第3透鏡群27中發生的其他成分，在X方向上發生倍率成分量C。 接下來，在第2透鏡群28中，為了抵消在第3透鏡群27中發生的X方向的倍率成分，以在X方向上發生倍率成分量-C的方式，變更柱面透鏡28a與柱面透鏡28b在Z方向上的間隔。此時，作為在第2透鏡群28中發生的其他成分，在X方向和Y方向上發生像散量A。因此，殘存的X方向和Y方向的像散量-A也被抵消，僅發生Y方向的倍率成分量2D。 透過組合上述4個方法，能夠同時並且獨立地校正X方向和Y方向的像散成分、傾斜45度方向和傾斜135度方向的像散成分、X方向的倍率成分以及Y方向的倍率成分這4個成分(像差)。換言之，使用第1透鏡群21、第2透鏡群28以及第3透鏡群27，能夠使投影光學系統PO的倍率成為目標值、且使投影光學系統PO的像散成為目標值。具體而言，以使投影光學系統PO的倍率成為目標值、且使投影光學系統PO的像散成為目標值的方式，在控制部CU中控制第1透鏡群21、第2透鏡群28以及第3透鏡群27的各透鏡的驅動，即以下的(1)至(5)。 (1)柱面透鏡21a與柱面透鏡21b在Z方向上的間隔 (2)柱面透鏡28a與柱面透鏡28b在Z方向上的間隔 (3)平凸透鏡27a與平凹透鏡27b在Z方向上的間隔 (4)柱面透鏡21a以及21b的一方的旋轉角 (5)柱面透鏡28a以及28b的一方的旋轉角 以下，參照圖6，說明投影光學系統PO的像散的校正(調整)。如上所述，透過控制部CU總括地控制曝光裝置EX的各部分，進行投影光學系統PO的像散的校正。 在S602中，使用設置於曝光裝置EX的測量部(未圖示)，測量經由投影光學系統PO的多個圖案(X方向和Y方向、傾斜45度方向和傾斜135度方向)的焦點位置。 在S604中，根據S602中的測量結果，求出投影光學系統PO的像散。具體而言，根據在第1程序中測量出的X方向和Y方向的圖案的焦點位置差，求出X方向和Y方向的像散量，根據傾斜45度方向和傾斜135度方向的圖案的焦點位置差，求出傾斜45度方向和傾斜135度方向的像散量。 在S606中，判定在S604中求出的像散是否超過預先設定的容許值。當在S604中求出的像散未超過預先設定的容許值的情況下，結束投影光學系統PO的像散的校正。另一方面，當在S604中求出的像散超過預先設定的容許值的情況下，轉移到S608。 在S608中，根據在S604中求出的像散，求出第1透鏡群21、第2透鏡群27以及第3透鏡群28的各透鏡的驅動量以及旋轉量。具體而言，根據X方向和Y方向的像散量，求出柱面透鏡21a以及21b的一方的Z方向的驅動量、柱面透鏡28a以及28b的一方的Z方向的驅動量、以及平凸透鏡27a以及平凹透鏡27b的一方的Z方向的驅動量。另外，根據傾斜45度方向和傾斜135度方向的像散量，求出柱面透鏡21a以及21b的一方的旋轉量、以及柱面透鏡28a以及28b的一方的旋轉量。 在S610中，根據在S608中求出的驅動量以及旋轉量，進行第1透鏡群21、第2透鏡群27以及第3透鏡群38的各透鏡的驅動以及旋轉。然後，轉移到S602，再次測量經由投影光學系統PO的多個圖案的焦點位置，根據其測量結果，求出投影光學系統PO的像散(S604)，判定上述像散是否超過容許值(S606)。 這樣，根據第1實施方式以及第2實施方式，不會使投影光學系統PO大型化(是所謂Offner光學系統)而能夠高精度地校正倍率、像散。 本發明的實施方式中的物品之製造方法例如適合於製造設備(半導體元件、磁記憶媒體、液晶顯示元件等)等物品。上述製造方法包括：使用曝光裝置EX對塗敷有感光劑的基板進行曝光的程序；以及使曝光的基板顯影的程序。另外，上述製造方法能夠包括其他公知的程序(氧化、成膜、蒸鍍、摻雜、平坦化、蝕刻、抗蝕層剝離、切割、接合、封裝等)。本實施方式中的物品之製造方法相比於以往在物品的性能、質量、生產率以及生產成本的至少1個中更有利。 以上，說明了本發明的優選的實施方式，但本發明當然不限定於這些實施方式，能夠在其要旨的範圍內進行各種變形以及變更。例如，在本實施方式中，以第1透鏡群以及第2透鏡群包括柱面透鏡的情況為例子進行了說明，但第1透鏡群以及第2透鏡群也可以代替柱面透鏡而包括複曲面透鏡。
1‧‧‧水銀燈 2‧‧‧橢圓鏡 3‧‧‧第1聚焦透鏡 4‧‧‧蠅眼透鏡 5‧‧‧第2聚焦透鏡 6‧‧‧狹縫界定構材 7‧‧‧成像光學系統 8‧‧‧平面鏡 9‧‧‧遮罩 10‧‧‧第1透鏡群 10a‧‧‧柱面透鏡 10b‧‧‧柱面透鏡 11‧‧‧第1平面鏡 12‧‧‧第1凹面鏡 13‧‧‧凸面鏡 14‧‧‧第2凹面鏡 15‧‧‧第2平面鏡 16‧‧‧第2透鏡群 16a‧‧‧柱面透鏡 16b‧‧‧柱面透鏡 17‧‧‧基板 21‧‧‧第1透鏡群 21a‧‧‧柱面透鏡 21b‧‧‧柱面透鏡 22‧‧‧第1平面鏡 23‧‧‧第1凹面鏡 24‧‧‧凸面鏡 25‧‧‧第2凹面鏡 26‧‧‧第2平面鏡 27‧‧‧第3透鏡群 27a‧‧‧平凸透鏡 27b‧‧‧平凹透鏡 28‧‧‧第2透鏡群 28a‧‧‧柱面透鏡 28b‧‧‧柱面透鏡 40‧‧‧第1驅動機構 50‧‧‧第2驅動機構 60‧‧‧第1驅動機構 70‧‧‧第2驅動機構 80‧‧‧第3驅動機構 CU‧‧‧控制部 EX‧‧‧曝光裝置 IL‧‧‧照明光學系統 IP‧‧‧像面 LS‧‧‧光源 OP‧‧‧物面 PO‧‧‧投影光學系統
圖1是示出本發明的第1實施方式中的曝光裝置的結構的概略圖。 圖2A以及圖2B是示出圖1所示的曝光裝置的第1透鏡群以及第2透鏡群各自的結構的一個例子的圖。 圖3A至圖3C是用於說明圖1所示的曝光裝置的投影光學系統的像散的校正的圖。 圖4是示出本發明的第2實施方式中的投影光學系統的結構的概略圖。 圖5是示出在驅動圖2A以及圖2B所示的投影光學系統的第1透鏡群、第2透鏡群以及第3透鏡群的各個時發生的像散以及倍率成分的發生量的圖。 圖6是用於說明圖2A以及圖2B所示的投影光學系統的像散的校正的流程圖。
1‧‧‧水銀燈
2‧‧‧橢圓鏡
3‧‧‧第1聚焦透鏡
4‧‧‧蠅眼透鏡
5‧‧‧第2聚焦透鏡
6‧‧‧狹縫界定構材
7‧‧‧成像光學系統
8‧‧‧平面鏡
9‧‧‧遮罩
10‧‧‧第1透鏡群
10a‧‧‧柱面透鏡
10b‧‧‧柱面透鏡
11‧‧‧第1平面鏡
12‧‧‧第1凹面鏡
13‧‧‧凸面鏡
14‧‧‧第2凹面鏡
15‧‧‧第2平面鏡
16‧‧‧第2透鏡群
16a‧‧‧柱面透鏡
16b‧‧‧柱面透鏡
17‧‧‧基板
40‧‧‧第1驅動機構
50‧‧‧第2驅動機構
CU‧‧‧控制部
EX‧‧‧曝光裝置
IL‧‧‧照明光學系統
IP‧‧‧像面
LS‧‧‧光源
OP‧‧‧物面
PO‧‧‧投影光學系統

Claims (15)

  1. 一種投影光學系統，將來自物面的光按照第1平面鏡、第1凹面鏡、凸面鏡、第2凹面鏡、第2平面鏡的順序反射而成像於像面，前述投影光學系統具有： 第1光學系統，配置於前述物面與前述第1平面鏡之間，校正與被定義為鉛直方向的第1方向正交的第2方向上的前述投影光學系統的倍率；以及 第2光學系統，配置於前述第2平面鏡與前述像面之間，校正與前述第1方向及前述第2方向正交的第3方向上的前述投影光學系統的倍率， 前述第1光學系統包括沿著前述第1方向排列的在前述第2方向以及前述第3方向上具有不同的折光率的第1透鏡以及第2透鏡， 前述第2光學系統包括沿著前述第1方向排列的在前述第2方向以及前述第3方向上具有不同的折光率的第3透鏡以及第4透鏡， 前述投影光學系統還具有： 第1旋轉部，使前述第1透鏡及前述第2透鏡的一方繞與前述第1方向平行的第1軸旋轉；以及 第2旋轉部，使前述第3透鏡及前述第4透鏡的一方繞與前述第1方向平行的第2軸旋轉。
  2. 根據申請專利範圍第1項的投影光學系統，其中，還具有： 控制部，控制前述第1旋轉部以及前述第2旋轉部，以使得抵消透過利用前述第1光學系統以及前述第2光學系統校正前述投影光學系統的倍率而產生的前述投影光學系統的像散。
  3. 根據申請專利範圍第2項的投影光學系統，其中， 前述控制部控制前述第1旋轉部以及前述第2旋轉部，以使得使前述第1透鏡以及前述第2透鏡的一方和前述第3透鏡以及前述第4透鏡的一方同時旋轉。
  4. 根據申請專利範圍第2項的投影光學系統，其中， 前述控制部求出為了抵消透過利用前述第1光學系統以及前述第2光學系統將前述投影光學系統的倍率校正為目標值而產生的前述投影光學系統的像散而所需的前述第1透鏡及前述第2透鏡的一方以及前述第3透鏡及前述第4透鏡的一方的各自的旋轉量，根據前述旋轉量控制前述第1旋轉部以及前述第2旋轉部。
  5. 根據申請專利範圍第2項的投影光學系統，其中， 前述像散包括從前述第2方向以及前述第3方向旋轉了45度的方向的像散。
  6. 根據申請專利範圍第1項的投影光學系統，其中， 前述第1軸和前述第2軸存在於同一直線上。
  7. 根據申請專利範圍第1項的投影光學系統，其中，還具有： 第3光學系統，該第3光學系統配置於前述物面與前述第1平面鏡之間或者前述第2平面鏡與前述像面之間，在前述第2方向以及前述第3方向上以同一倍率校正前述投影光學系統的倍率。
  8. 根據申請專利範圍第7項的投影光學系統，其中， 前述第1透鏡以及前述第2透鏡能夠變更前述第1方向上的間隔， 前述第3透鏡以及前述第4透鏡能夠變更前述第1方向上的間隔， 前述第3光學系統包括能夠變更前述第1方向上的間隔的平凸透鏡以及平凹透鏡， 前述投影光學系統還具有控制部，該控制部以使前述投影光學系統的倍率成為目標值、且使前述投影光學系統的像散成為目標值的方式，控制前述第1透鏡與前述第2透鏡在前述第1方向上的間隔、前述第3透鏡與前述第4透鏡在前述第1方向上的間隔、前述平凸透鏡與前述平凹透鏡在前述第1方向上的間隔、前述第1透鏡及前述第2透鏡的一方的旋轉角以及前述第3透鏡及前述第4透鏡的一方的旋轉角。
  9. 根據申請專利範圍第1項的投影光學系統，其中， 在前述物面以及前述像面是遠心的。
  10. 根據申請專利範圍第1項的投影光學系統，其中， 前述第1透鏡、前述第2透鏡、前述第3透鏡以及前述第4透鏡包括柱面透鏡或者複曲面透鏡。
  11. 一種投影光學系統，將來自物面的光按照第1平面鏡、第1凹面鏡、凸面鏡、第2凹面鏡、第2平面鏡的順序反射而成像於像面，前述投影光學系統具有： 第1光學系統，配置於前述物面與前述第1平面鏡之間，校正與被定義為鉛直方向的第1方向正交的第2方向上的前述投影光學系統的倍率；以及 第2光學系統，配置於前述第2平面鏡與前述像面之間，校正與前述第1方向及前述第2方向正交的第3方向上的前述投影光學系統的倍率， 前述第1光學系統包括沿著前述第1方向排列的在前述第1方向以及前述第2方向上具有不同的折光率的第1透鏡以及第2透鏡， 前述第2光學系統包括沿著前述第1方向排列的在前述第1方向以及前述第2方向上具有不同的折光率的第3透鏡以及第4透鏡， 前述第1透鏡以及前述第2透鏡的一方按照從相互具有的前述折光率的方向一致的基準狀態旋轉後的狀態配置、且前述第3透鏡以及前述第4透鏡的一方按照從相互具有的前述折光率的方向一致的基準狀態旋轉後的狀態配置，以抵消透過利用前述第1光學系統以及前述第2光學系統校正前述投影光學系統的倍率而產生的前述投影光學系統的像散。
  12. 一種曝光裝置，具有： 照明光學系統，用來自光源的光對遮罩進行照明；以及 投影光學系統，將前述遮罩的圖案的像投影到基板， 前述投影光學系統將來自前述遮罩的光按照第1平面鏡、第1凹面鏡、凸面鏡、第2凹面鏡、第2平面鏡的順序反射而成像於前述基板， 前述投影光學系統具有： 第1光學系統，配置於前述遮罩與前述第1平面鏡之間，校正與被定義為鉛直方向的第1方向正交的第2方向上的前述投影光學系統的倍率；以及 第2光學系統，配置於前述第2平面鏡與前述基板之間，校正與前述第1方向及前述第2方向正交的第3方向上的前述投影光學系統的倍率， 前述第1光學系統包括沿著前述第1方向排列的在前述第2方向以及前述第3方向上具有不同的折光率的第1透鏡以及第2透鏡， 前述第2光學系統包括沿著前述第1方向排列的在前述第2方向以及前述第3方向上具有不同的折光率的第3透鏡以及第4透鏡， 前述投影光學系統還具有： 第1旋轉部，使前述第1透鏡及前述第2透鏡的一方繞與前述第1方向平行的第1軸旋轉；以及 第2旋轉部，使前述第3透鏡及前述第4透鏡的一方繞與前述第1方向平行的第2軸旋轉。
  13. 一種曝光裝置，具有： 照明光學系統，用來自光源的光對遮罩進行照明；以及 投影光學系統，將前述遮罩的圖案的像投影到基板， 前述投影光學系統將來自前述遮罩的光按照第1平面鏡、第1凹面鏡、凸面鏡、第2凹面鏡、第2平面鏡的順序反射而成像於前述基板， 前述投影光學系統具有： 第1光學系統，配置於前述遮罩與前述第1平面鏡之間，校正與被定義為鉛直方向的第1方向正交的第2方向上的前述投影光學系統的倍率；以及 第2光學系統，配置於前述第2平面鏡與前述基板之間，校正與前述第1方向及前述第2方向正交的第3方向上的前述投影光學系統的倍率， 前述第1光學系統包括沿著前述第1方向排列的在前述第1方向以及前述第2方向上具有不同的折光率的第1透鏡以及第2透鏡， 前述第2光學系統包括沿著前述第1方向排列的在前述第1方向以及前述第2方向上具有不同的折光率的第3透鏡以及第4透鏡， 前述第1透鏡以及前述第2透鏡的一方按照從相互具有的前述折光率的方向一致的基準狀態旋轉後的狀態配置、且前述第3透鏡以及前述第4透鏡的一方按照從相互具有的前述折光率的方向一致的基準狀態旋轉後的狀態配置，以抵消透過利用前述第1光學系統以及前述第2光學系統校正前述投影光學系統的倍率而產生的前述投影光學系統的像散。
  14. 一種物品之製造方法，具有： 使用曝光裝置對基板進行曝光的程序； 使曝光的前述基板顯影的程序；以及 根據顯影的前述基板製造物品的程序， 前述曝光裝置具有： 照明光學系統，用來自光源的光對遮罩進行照明；以及 投影光學系統，將前述遮罩的圖案的像投影到前述基板， 前述投影光學系統將來自前述遮罩的光按照第1平面鏡、第1凹面鏡、凸面鏡、第2凹面鏡、第2平面鏡的順序反射而成像於前述基板， 前述投影光學系統具有： 第1光學系統，配置於前述遮罩與前述第1平面鏡之間，校正與被定義為鉛直方向的第1方向正交的第2方向上的前述投影光學系統的倍率；以及 第2光學系統，配置於前述第2平面鏡與前述基板之間，校正與前述第1方向及前述第2方向正交的第3方向上的前述投影光學系統的倍率， 前述第1光學系統包括沿著前述第1方向排列的在前述第2方向以及前述第3方向上具有不同的折光率的第1透鏡以及第2透鏡， 前述第2光學系統包括沿著前述第1方向排列的在前述第2方向以及前述第3方向上具有不同的折光率的第3透鏡以及第4透鏡， 前述投影光學系統還具有： 第1旋轉部，使前述第1透鏡及前述第2透鏡的一方繞與前述第1方向平行的第1軸旋轉；以及 第2旋轉部，使前述第3透鏡及前述第4透鏡的一方繞與前述第1方向平行的第2軸旋轉。
  15. 一種物品之製造方法，具有： 使用曝光裝置對基板進行曝光的程序； 使曝光的前述基板顯影的程序；以及 根據顯影的前述基板製造物品的程序， 前述曝光裝置具有： 照明光學系統，用來自光源的光對遮罩進行照明；以及 投影光學系統，將前述遮罩的圖案的像投影到前述基板， 前述投影光學系統將來自前述遮罩的光按照第1平面鏡、第1凹面鏡、凸面鏡、第2凹面鏡、第2平面鏡的順序反射而成像於前述基板， 前述投影光學系統具有： 第1光學系統，配置於前述遮罩與前述第1平面鏡之間，校正與被定義為鉛直方向的第1方向正交的第2方向上的前述投影光學系統的倍率；以及 第2光學系統，配置於前述第2平面鏡與前述基板之間，校正與前述第1方向及前述第2方向正交的第3方向上的前述投影光學系統的倍率， 前述第1光學系統包括沿著前述第1方向排列的在前述第1方向以及前述第2方向上具有不同的折光率的第1透鏡以及第2透鏡， 前述第2光學系統包括沿著前述第1方向排列的在前述第1方向以及前述第2方向上具有不同的折光率的第3透鏡以及第4透鏡， 前述第1透鏡以及前述第2透鏡的一方按照從相互具有的前述折光率的方向一致的基準狀態旋轉後的狀態配置、且前述第3透鏡以及前述第4透鏡的一方按照從相互具有的前述折光率的方向一致的基準狀態旋轉後的狀態配置，以抵消透過利用前述第1光學系統以及前述第2光學系統校正前述投影光學系統的倍率而產生的前述投影光學系統的像散。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112859543B (zh) * 2021-02-02 2021-12-14 北京理工大学 一种折反式深紫外光刻物镜***设计方法
WO2023081041A1 (en) * 2021-11-02 2023-05-11 Corning Incorporated Magnification adjustable projection system using movable lens plates

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201118419A (en) * 2009-10-06 2011-06-01 Canon Kk projection optical system, exposure apparatus and device fabrication method
US9229205B2 (en) * 2011-08-24 2016-01-05 Canon Kabushiki Kaisha Projection optical system, exposure apparatus, and method of manufacturing device

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6411426B1 (en) 2000-04-25 2002-06-25 Asml, Us, Inc. Apparatus, system, and method for active compensation of aberrations in an optical system
JP3381257B2 (ja) 2001-05-31 2003-02-24 株式会社ニコン 投影露光方法
JP5118407B2 (ja) 2007-07-31 2013-01-16 キヤノン株式会社 光学系、露光装置及びデバイス製造方法
JP2011039172A (ja) * 2009-08-07 2011-02-24 Canon Inc 露光装置およびデバイス製造方法
JP5595015B2 (ja) * 2009-11-16 2014-09-24 キヤノン株式会社 投影光学系、露光装置およびデバイス製造方法
US20120293861A1 (en) 2011-05-18 2012-11-22 Elbit Systems Of America, Llc System and Method for Correcting Astigmatism Caused by an Aircraft Canopy
JP6410406B2 (ja) 2012-11-16 2018-10-24 キヤノン株式会社 投影光学系、露光装置および物品の製造方法
JP6748482B2 (ja) * 2016-05-25 2020-09-02 キヤノン株式会社 露光装置、および、物品の製造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201118419A (en) * 2009-10-06 2011-06-01 Canon Kk projection optical system, exposure apparatus and device fabrication method
US9229205B2 (en) * 2011-08-24 2016-01-05 Canon Kabushiki Kaisha Projection optical system, exposure apparatus, and method of manufacturing device

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