JP5118407B2 - 光学系、露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
第1の実施形態は屈折光学素子が球面レンズであり、屈折光学素子の光線有効部が光軸を含まない軸外に存在する光学系の構成例である。
k:円錐係数
h:光軸からの高さ
r:曲率半径
A,B,C,D,E,F,G:非球面係数
第2の実施形態は屈折光学素子がパワーを持たない非球面レンズであり、屈折光学素子の光線有効部が光軸を含まない軸外に存在する光学系の構成例である。
第3の実施形態は拡大投影倍率を有する反射屈折光学系の構成例である。
第4の実施形態は、本発明を図18のようなレンズ鏡筒を構成する光学系に適用した例である。
図19は、本発明の光学系を搭載した露光装置を示している。
次に、本実施形態の露光装置を利用した半導体デバイスの製造プロセスについて説明する。
P 基板
MST レチクルステージ
PST 基板ステージ
IL 照明光学系
PL 投影光学系
AS アライメントスコープ
EX 露光機
EL 露光光
1 第1屈折光学部材
2 台形ミラー
3 第1凹ミラー
3’第2凹ミラー
4 メニスカスレンズ
5 凸ミラー
6 第2屈折光学部材
7a アクチュエータ
7b アクチュエータ
8a コントローラ
8b コントローラ
9 CPU
10 センサ
Claims (9)
- 物体面の像を像面に投影する光学系であって、
前記物体面側に配置された少なくとも1つの第1屈折光学部材を含み、かつ、前記像面側に配置された少なくとも1つの第2屈折光学部材を含み、
前記第1屈折光学部材及び前記第2屈折光学部材を光軸方向に対して垂直な方向に移動することによって、前記光学系の非点隔差及びディストーションを独立して調整を行う調整手段を有し、
前記調整手段は、
ある像高において前記第1屈折光学部材の前記光軸方向に対して垂直な方向への移動によるディストーションの発生量と前記第2屈折光学部材の前記光軸方向に対して垂直な方向への移動によるディストーションの発生量とが異符号となり合計のディストーションの発生量が一方の発生量より小さくなるように、前記第1屈折光学部材及び前記第2屈折光学部材を移動して、前記光学系の非点隔差を調整し、
または、
ある像高において前記第1屈折光学部材の前記光軸方向に対して垂直な方向への移動による非点隔差の発生量と前記第2屈折光学部材の前記光軸方向に対して垂直な方向への移動による非点隔差の発生量とが異符号となり合計の非点隔差の発生量が一方の発生量より小さくなるように、前記第1屈折光学部材及び前記第2屈折光学部材を移動して、前記光学系のディストーションを調整する
ことを特徴とする光学系。 - 前記調整手段は、前記光学系の非点隔差及びディストーションの少なくともいずれかを計測する計測手段と、前記計測手段の計測結果から前記第1屈折光学部材及び前記第2屈折光学部材の前記光軸方向に対して垂直な方向への移動量を算出する算出手段と、前記算出手段により算出された移動量に基づいて前記第1屈折光学部材及び前記第2屈折光学部材を駆動する駆動手段と、を有することを特徴とする請求項1に記載の光学系。
- 前記光学系は、前記物体面から像面に至る光路に少なくとも第1凹反射面、凸反射面、第2凹反射面が配置され、
前記第1屈折光学部材は前記物体面と前記第1凹反射面との間に配置され、
前記第2屈折光学部材は前記第2凹反射面と前記像面との間に配置されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の光学系。 - 前記第1屈折光学部材及び前記第2屈折光学部材は、光線有効部が光軸を含まない軸外に存在する球面レンズから構成されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記第1屈折光学部材及び前記第2屈折光学部材は、光線有効部が光軸を含まない軸外に存在する非球面レンズから構成されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の光学系。
- 前記第1屈折光学部材及び前記第2屈折光学部材を同時に移動させたときの前記光学系のディストーションは、前記第1屈折光学部材及び前記第2屈折光学部材を移動させたときに発生するディストーションの1/2以下となることを特徴とする請求項1に記載の光学系。
- 前記第1屈折光学部材及び前記第2屈折光学部材を同時に移動させたときの前記光学系の非点隔差は、前記第1屈折光学部材及び前記第2屈折光学部材を移動させたときに発生する非点隔差の1/2以下となることを特徴とする請求項1に記載の光学系。
- 請求項1乃至7のいずれか1項に記載の光学系を有し、
原版のパターンを前記光学系を介して基板に露光することを特徴とする露光装置。 - 請求項8に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
露光された前記基板を現像するステップと、を有することを特徴とするデバイス製造方法。
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