TWI609062B - 黏著劑層及黏著膜 - Google Patents

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Description

黏著劑層及黏著膜
本發明涉及用於光學構件的層間貼合等的黏著劑層以及黏著膜。更詳細而言，本發明提供一種雖然是厚度為1μm~20μm的薄膜但兼備高黏著力、高附著性的性能和抗靜電性能的黏著劑層、以及使用該黏著劑層的黏著膜。
為了藉由黏著劑層將偏光板、相位差板等光學構件貼合在液晶單元等被黏附體上，已提出了各種黏著膜(例如，參照專利文獻1~2)。
專利文獻1中記載了一種將丙烯酸丁酯等作為主要成分的單體，並含有丙烯醯胺化合物等的光學用黏著劑組合物。
專利文獻2中記載了一種將具有碳原子數為4~8的烷基的(甲基)丙烯酸酯作為主要成分的單體，並具有含羧基的單體及含氮乙烯基單體的光學用黏著劑組合物。
另外，為了提高黏著劑層的折射率，經過反復研究提出了多種黏著膜(例如，參照專利文獻3~8)。
專利文獻3中記載了一種具有芳環並含有折射率為1.51~1.75的增黏劑的光學用黏著劑組合物。
專利文獻4中記載了一種使用了含共聚合性聚合物的黏著 劑組合物的黏著片，該共聚合性聚合物是含芳環的丙烯酸改性單體的共聚合性聚合物。
專利文獻5中記載了一種具有含芳環的增黏樹脂和芳香族磷酸酯類增塑劑的光學用黏著劑組合物。
專利文獻6中記載了一種由黏著劑組合物固化而成的黏著劑，該黏著劑組合物包括：丙烯酸類樹脂；以及含一個乙烯性不飽和基團的芳香族化合物。
專利文獻7中記載了一種藉由含芳香族單體的丙烯酸類黏著劑將相位差膜和雙折射板相互固定而成的光學元件。
專利文獻8中記載了一種含有聚胺酯樹脂的黏著劑組合物，該聚胺酯樹脂是使芳香族二異氰酸酯和芳香族聚酯二醇反應而成。
近年來，為了實現光學構件的薄膜化，要求用於光學構件的層間貼合的黏著膜是黏著劑層為厚度20μm以下薄層的黏著膜。
通常，黏著劑層的黏著力與黏著劑層的厚度大致成比例，因此，若將黏著劑層的厚度變薄，則隨之會降低黏著力。
但是，近年來要求黏著膜具有如下性能：即使將黏著劑層的厚度變薄，也具有與以往的黏著膜(黏著劑層是厚度約為30μm的厚層)同等的黏著力，並且對於高溫、高濕環境下長時間放置後的耐久性，也具有與以往的黏著膜同等以上的性能。
另外，從能夠將黏著劑層的厚度變薄並能夠形成無需實施時效處理(在恆溫下實施熟化)的黏著劑層的觀點出發，要求形 成為NCF(Non Carrier Film，非承載膜)的形態，其具有包括去掉了黏著膜的基材後的黏著劑層的“脫模膜/黏著劑層/脫模膜”的構件構成。
另外，在以往的黏著膜中，由於在被黏附體上貼合黏著膜後實施時效處理，因此，能夠提高被黏附體和黏著劑層之間的附著性。
但是，採用NCF形態的黏著膜已經完成了黏著劑層的時效處理，因此被黏附體與黏著劑層之間的附著性不足。基於此，存在需要對被黏附體的表面進行電暈處理等表面處理的問題。
因此需要一種滿足這些要求和克服這些問題的黏著膜。
【先前技術文獻】
【專利文獻】
專利文獻1：日本特開2012-177022號公報
專利文獻2：日本特開2012-201734號公報
專利文獻3：日本特開2007-084762號公報
專利文獻4：日本特開2011-153169號公報
專利文獻5：日本特開2012-167188號公報
專利文獻6：日本特開2012-021148號公報
專利文獻7：日本特開2006-293281號公報
專利文獻8：日本特開2009-091522號公報
本發明是鑒於上述情況而完成的發明，其課題在於，提供一種雖然是厚度為1μm~20μm的薄膜但兼備高黏著力、高附著性的性能和抗靜電性能的黏著劑層、以及使用該黏著劑層的黏著膜。
為了解決上述課題，本發明的技術思想在於：在使包括丙烯酸類聚合物的黏著劑組合物進行交聯而成的黏著劑層中，將烷基碳原子數為C1~C14的(甲基)丙烯酸烷基酯單體中的至少一種作為主要成分的單體、並含有作為其他共聚合性單體之可共聚的含氮乙烯基單體中的至少一種以上而進行共聚和交聯，藉由含有離子化合物以形成兼備堅韌的黏著力和高附著性的性能和抗靜電性能的黏著劑層。
另外，為了解決上述課題，本發明提供一種黏著劑層，其是使黏著劑組合物進行交聯而成的黏著劑層，其中，該黏著劑組合物包含共聚物和離子化合物，該共聚物包含：烷基碳原子數為C1~C14的(甲基)丙烯酸烷基酯單體中的至少一種以上；含芳基的(甲基)丙烯酸酯單體中的至少一種以上；以及其他共聚合性單體，該其他共聚合性單體包含：含氮乙烯基單體中的至少一種以上；以及含羧基的共聚合性乙烯基單體和/或含羥基的共聚合性乙烯基單體中的至少一種以上，該黏著劑層的厚度為1μm~20μm，並且在厚度5μm時的黏著力為3.0(N/25mm)以上。
另外，較佳為該黏著劑組合物包含： 重均分子量為20萬~200萬的共聚物，其是相對於組合70~95重量份的(A)烷基碳原子數為C1~C14的(甲基)丙烯酸烷基酯單體中的至少一種以上和5~30重量份的(B)含芳基的(甲基)丙烯酸酯單體中的至少一種以上而成的合計100重量份，配合5~50重量份的(C)含氮乙烯基單體中的一種以上和0.1~5重量份的(D)含羧基的共聚合性乙烯基單體和/或含羥基的共聚合性乙烯基單體中的至少一種以上而獲得單體混合物，並使該單體混合物共聚而成；0.1~5.0重量份的(E)熔點為30~50℃的離子化合物；以及0.01~5重量份的(F)交聯劑。
另外，在前述黏著劑組合物中，相對於前述(A)和前述(B)的合計100重量份，較佳為含羧基的共聚合性乙烯基單體中的一種以上的含量為2.0重量份以下和/或含羥基的共聚合性乙烯基單體中的一種以上的含量為5.0重量份以下。
另外，該黏著劑層的折射率較佳為1.47~1.50。
另外，本發明提供一種在脫模膜的單面形成有該黏著劑層並具有脫模膜/黏著劑層/脫模膜的構成的黏著膜。
另外，本發明提供一種在基材的單面層疊前述黏著劑層而成的黏著膜。
另外，本發明提供一種使用了前述黏著膜的偏光板和顯示面板貼合用黏著膜。
另外，本發明提供一種使用了黏著膜的觸控面板用膜。
另外，本發明提供一種使用了上述黏著膜的電子紙用膜。
另外，本發明提供一種帶有黏著劑層的光學膜，其在光學膜的至少一個面上層疊上述黏著劑層。
根據本發明，能夠滿足以往技術中的要求事項以及克服以往技術中存在的問題，能夠提供一種雖然是厚度1μm~20μm薄膜但兼備高黏著力、高附著性的性能以及抗靜電性能的黏著劑層，還提供使用該黏著劑層的黏著膜。
下面基於較佳的實施方式說明本發明。
本發明的黏著劑層是使黏著劑組合物進行交聯而成的黏著劑層，其中，該黏著劑組合物包含共聚物和離子化合物，該共聚物包含：烷基碳原子數為C1~C14的(甲基)丙烯酸烷基酯單體中的至少一種以上；含芳基的(甲基)丙烯酸酯單體中的至少一種以上；以及其他共聚合性單體，該其他共聚合性單體包含：含氮乙烯基單體中的一種以上；以及含羧基的共聚合性乙烯基單體和/或含羥基的共聚合性乙烯基單體中的至少一種以上，該黏著劑層的厚度為1μm~20μm，並且在厚度5μm時的黏著力為3.0(N/25mm)以上。
另外，在需要更高黏著力的用途中，較佳為本發明的黏著劑層在厚度5μm時的黏著力為4.0(N/25mm)以上。
作為烷基碳原子數為C1~C14的(甲基)丙烯酸烷基酯單體，可以舉出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸十三烷基酯、(甲基)丙烯酸十四烷基酯、(甲基)丙烯酸環戊酯、(甲基)丙烯酸環己酯等中的至少一種以上。(甲基)丙烯酸烷基酯單體中的烷基可以是直鏈、支鏈、環狀中的任意一種。相對於(A)烷基碳原子數為C1~C14的(甲基)丙烯酸酯單體和(B)含芳基的(甲基)丙烯酸酯單體的合計100重量份，較佳為(A)烷基碳原子數為C1~C14的(甲基)丙烯酸酯單體的含量為70~95重量份。
作為含芳基的(甲基)丙烯酸酯單體，可以舉出(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸萘酯、(甲基)丙烯酸苯氧乙酯、(甲基)丙烯酸苯氧丁酯、(甲基)丙烯酸2-(1-萘氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(2-萘氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸6-(1-萘氧基)己酯、(甲基)丙烯酸6-(2-萘氧基)己酯、(甲基)丙烯酸8-(1-萘氧基)辛酯、(甲基)丙烯酸8-(2-萘氧基)辛酯等。為了得到折射率高的黏著劑層，較佳為配合至少一種以上的含芳基的(甲基)丙烯酸酯單體。
藉由將這些含芳基的(甲基)丙烯酸酯單體與作為主要成分的單體即烷基碳原子數為C1~C14的(甲基)丙烯酸烷基酯單體加以混合，能夠使所得到的黏著劑層的折射率提高而進行調整，減小光學構件間的折射率差，降低全反射，由此能夠提高全光線透過率。
另外，在本發明的黏著劑層中，相對於組合前述(A)和前述(B)而成的主要成分即(甲基)丙烯酸酯單體100重量份，較佳為(B)含芳基的(甲基)丙烯酸酯單體的含量為5~30重量份。
作為含氮乙烯基單體，例如可以舉出N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基己內醯胺、(甲基)丙烯醯啉等環狀氮乙烯基化合物；N-乙基-N-甲基(甲基)丙烯醯胺、N-甲基-N-丙基(甲基)丙烯醯胺、N-甲基-N-異丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二異丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二丁基(甲基)丙烯醯胺等二烷基取代(甲基)丙烯醯胺；(甲基)丙烯酸N-乙基-N-甲基胺乙酯、(甲基)丙烯酸N-甲基-N-丙基胺乙酯、(甲基)丙烯酸N-甲基-N-異丙基胺乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺甲酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺丙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺丁酯、(甲基)丙烯酸N,N-二丙基胺乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二丁基胺乙酯等(甲基)丙烯酸二烷基胺酯；N-乙基-N-甲基胺丙基(甲基)丙烯醯胺、N-甲基-N-丙基胺丙基(甲基)丙烯醯胺、N-甲基-N-異丙基胺丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基胺丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基胺丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二丙基胺丙基(甲基) 丙烯醯胺、N,N-二甲基胺乙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基胺乙基(甲基)丙烯醯胺等二烷基取代胺基烷基(甲基)丙烯醯胺等中的至少一種以上。
為了能夠與後述(D)的化合物區別，作為上述含氮乙烯基單體，較佳為不含有羥基，更佳為不含有羥基和羧基。作為這種單體，較佳為上述例示的單體，例如，含有N,N-二烷基取代胺基或N,N-二烷基取代醯胺基的丙烯酸類單體；N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基己內醯胺等N-乙烯基取代內醯胺類；N-(甲基)丙烯醯啉等N-(甲基)丙烯醯基取代環狀胺類。
另外，在本發明的黏著劑層中，黏著劑組合物所含有的含氮乙烯基單體，能夠賦予黏著劑層必要的黏著力和耐久性。在本發明的黏著劑層中，相對於100重量份的組合前述(A)和前述(B)而成的作為主要成分的(甲基)丙烯酸酯單體，較佳為黏著劑組合物中含有的含氮乙烯基單體的含量為5~50重量份。
另外，在本發明的黏著劑層中，作為黏著劑組合物含有的含氮乙烯基單體，特別較佳為使用N-乙烯基吡咯烷酮、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二異丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二丁基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基胺丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基胺丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基胺乙基(甲基)丙烯醯胺、N-乙烯基己內醯胺等。
作為含有羧基的共聚合性乙烯基單體(含有羧基的單體)，例如可以舉出(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧乙酯、(甲 基)丙烯酸羧戊酯、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基六氫鄰苯二甲酸、2-(甲基)丙烯醯氧基丙基六氫鄰苯二甲酸、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基鄰苯二甲酸、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基琥珀酸、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基馬來酸、羧基聚己酸內酯單(甲基)丙烯酸酯、2-(甲基)丙烯醯氧基乙基四氫鄰苯二甲酸等中的至少一種以上。
另外，在本發明的黏著劑層中，黏著劑組合物所含有的含羧基的單體能夠賦予黏著劑層必要的凝聚力。在本發明的黏著劑層中，相對於100重量份的組合前述(A)和前述(B)而成的作為主要成分的(甲基)丙烯酸酯單體，較佳為黏著劑組合物中含有的含羧基的單體的含量為0.1~5重量份。
作為含羥基的共聚合性乙烯基單體(含羥基的單體)，例如可以舉出(甲基)丙烯酸8-羥基辛酯、(甲基)丙烯酸6-羥基己酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸羥基乙酯等(甲基)丙烯酸羥基烷基酯類，N-羥基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥乙基(甲基)丙烯醯胺等含羥基的(甲基)丙烯醯胺類等中的至少一種以上。
另外，在本發明的黏著劑層中，黏著劑組合物所含的含羥基的單體，能夠作為用於減少含羧基的單體含量的共聚合性單體來使用，該含羧基的單體使所得到的黏著劑層對透明導電性膜的ITO表面等易腐蝕的被黏附體的腐蝕性產生影響。因此，含羥基的單體能夠有助於提高黏著劑層的黏著力並且減少腐蝕性。在本發明的黏著劑層中，相對於100重量份的組合前述(A)和前述(B)而成的作為主要成分的(甲基)丙烯酸酯單體，較 佳為黏著劑組合物中含有的含羥基的單體的含量為0.1~5重量份。
對用於本發明的黏著劑層的黏著劑組合物的共聚物而言，較佳為使下述單體混合物共聚而成，該單體混合物是：相對於100重量份的作為主要成分的(甲基)丙烯酸酯單體，配合5~50重量份的(C)含氮乙烯基單體中的一種以上和0.1~5重量份的(D)含羧基的共聚合性乙烯基單體和/或含羥基的共聚合性乙烯基單體中的至少一種以上而成的單體混合物，其中，該作為主要成分的(甲基)丙烯酸酯單體含有70~95重量份的(A)烷基碳原子數為C1~C14的(甲基)丙烯酸烷基酯單體中的至少一種以上和5~30重量份的(B)含芳基的(甲基)丙烯酸酯單體中的至少一種以上。
另外，相對於100重量份的組合前述(A)和前述(B)而成的作為主要成分的(甲基)丙烯酸酯單體，較佳為含有0.1~5.0重量份的(E)熔點為30~50℃的離子化合物以及0.01~5重量份的(F)交聯劑。
另外，相對於100重量份的組合前述(A)和前述(B)而成的作為主要成分的(甲基)丙烯酸酯單體，較佳為含羧基的共聚合性乙烯基單體中的一種以上的含量為2.0重量份以下和/或含羥基的共聚合性乙烯基單體中的一種以上的含量為5.0重量份以下。
對共聚物的聚合方法沒有特別的限定，可以使用溶液聚合法、乳液聚合法等適宜的公知的聚合方法。共聚物的重均分子量較佳為20萬~200萬。
上述共聚物較佳為丙烯酸類聚合物，較佳為含有(甲基)丙烯酸酯單體或(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯醯胺類等丙烯酸類單體50~100重量%。
在上述黏著劑組合物中，藉由對上述共聚物配合交聯劑、適宜的任意添加劑，能夠調整所需的物理性質等特性。
作為交聯劑，例如可以舉出六亞甲基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、二苯甲烷二異氰酸酯、甲苯二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯等二異氰酸酯類的縮二脲改性體或異氰脲酸酯改性體；與三羥甲基丙烷或甘油等三價以上的多元醇的加成物等的聚異氰酸酯化合物；金屬類螯合物；環氧化合物等中的至少一種以上。另外，也可以藉由紫外線等光交聯來使黏著劑進行交聯。
在使用交聯劑來使共聚物交聯的情況下，較佳為共聚物具有能夠與交聯劑進行交聯反應的官能團(根據交聯劑的種類可以選擇羥基或羧基等)，而且較佳為含有在側鏈具有這些官能團的單體。另外，較佳為黏著劑組合物含有0.01~5重量份的(F)交聯劑。另外，重量份的基準與上述共聚物中的(A)至(D)相同。
本發明的黏著劑組合物，為了賦予其抗靜電性，較佳為含有抗靜電劑。對抗靜電劑而言，較佳為在常溫(例如30℃)下是固體。更具體而言，抗靜電劑是熔點為30~50℃的離子化合物。抗靜電劑可以是含有丙烯醯基的4級銨鹽型離子化合物。
由於這些抗靜電劑的熔點低且具有長鏈烷基的緣故，推測 它們與丙烯酸類聚合物的親和性高。
作為熔點是30~50℃的離子化合物的抗靜電劑，是具有陽離子和陰離子的離子化合物，可以舉出：陽離子為吡啶鎓陽離子、咪唑鎓陽離子、嘧啶鎓陽離子、吡唑鎓陽離子、吡咯鎓陽離子、銨基陽離子等的含氮鎓陽離子、或者磷鎓陽離子、硫鎓陽離子等的化合物；陰離子為六氟磷酸根(PF6 -)、硫氰酸根(SCN-)、烷基苯磺酸根(RC6H4SO3 -)、高氯酸根(ClO4 -)、四氟硼酸根(BF4 -)等的無機或有機陰離子的化合物。藉由對烷基的鏈長或取代基的位置、個數等的選擇，能夠得到熔點為30~50℃的物質。較佳為陽離子為含4級氮鎓陽離子，可以舉出：1-烷基吡啶鎓(2~6位的碳原子既可以具有取代基也可以是未取代)等的4級吡啶鎓陽離子、1,3-二烷基咪唑鎓(2、4、5位的碳原子既可以具有取代基也可以是未取代)等的4級咪唑鎓陽離子、四烷基銨等的4級銨陽離子等。
作為前述含有丙烯醯基的4級銨鹽型離子化合物，是具有陽離子和陰離子的離子化合物，可以舉出：陽離子為(甲基)丙烯醯氧基烷基三烷基銨(R3N+-CnH2n-OCOCQ=CH2，其中，Q=H或CH3，R=烷基)等的含有(甲基)丙烯醯基的4級銨；陰離子為六氟磷酸根(PF6 -)、硫氰酸根(SCN-)、有機磺酸根(RSO3 -)、高氯酸根(ClO4 -)、四氟硼酸根(BF4 -)、含有F的醯亞胺根(RF 2N-)等的無機或有機陰離子的化合物。作為含有F的醯亞胺根(RF 2N-)的RF，可以舉出三氟甲磺醯基、五氟乙磺醯基等的全氟烷基磺醯基、氟磺醯基。作為含有F的醯亞胺根，可以舉出雙(氟磺醯基)醯亞胺根[(FSO2)2N-]、雙(三氟甲磺醯基) 醯亞胺根[(CF3SO2)2N-]、雙(五氟乙磺醯基)醯亞胺根[(C2F5SO2)2N-]等的雙磺醯基醯亞胺根。
對熔點為30~50℃的離子化合物的抗靜電劑並沒有特別的限制。作為具有吡啶鎓陽離子的熔點為30~50℃的離子化合物的具體例子，可以舉出1-辛基吡啶鎓十二烷基苯磺酸鹽、1-十二烷基吡啶鎓硫氰酸鹽、3-甲基-1-十二烷基吡啶鎓六氟磷酸鹽、1-十二烷基吡啶鎓十二烷基苯磺酸鹽、4-甲基-1-辛基吡啶鎓六氟磷酸鹽等。
另外，作為前述含有丙烯醯基的4級銨鹽型離子化合物的具體例子，可以舉出(甲基)丙烯酸二甲胺基甲酯六氟磷酸甲基鹽[(CH3)3N+CH2OCOCQ=CH2˙PF6 -、其中，Q=H或CH3]、(甲基)丙烯酸二甲胺基乙酯雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺甲基鹽[(CH3)3N+(CH2)2OCOCQ=CH2˙(CF3SO2)2N-，其中，Q=H或CH3]、(甲基)丙烯酸二甲胺基甲酯雙(氟磺醯基)醯亞胺甲基鹽[(CH3)3N+CH2OCOCQ=CH2˙(FSO2)2N-，其中，Q=H或CH3]等。
另外，相對於100重量份的組合前述(A)和前述(B)而成的作為主要成分的(甲基)丙烯酸酯單體，較佳為熔點為30~50℃的離子化合物的含量是0.1~5.0重量份。
作為其他任意成分，可以適宜地配合矽烷偶聯劑、抗氧化劑、表面活性劑、固化促進劑、增塑劑、填充劑、交聯催化劑、交聯抑制劑、固化抑制劑、加工助劑、防老化劑等公知的添加劑。這些添加劑可以單獨使用或並用兩種以上使用。
本發明的黏著劑層可以藉由在基材或脫模膜上塗布上述黏著劑組合物後，使黏著劑組合物交聯而得到。
在用於光學構件的層間貼合等情況下，希望黏著劑層是厚度薄的黏著劑層，較佳為前述黏著劑層的厚度為1μm~20μm。而且，通常黏著劑層的黏著力與黏著劑層的厚度大致成比例，但較佳為厚度5μm時的黏著力為3.0(N/25mm)以上。另外，在需要更高黏著力的用途中，較佳為本發明的黏著劑層在厚度5μm時的黏著力為4.0(N/25mm)以上。另外，當黏著劑層的厚度不為5μm的情況下，“厚度5μm時的黏著力”(N/25mm)是將黏著劑層的厚度設定為T(μm)、將黏著劑層的黏著力設定為F(N/25mm)，並藉由算式“(厚度5μm時的黏著力)=5F/T”來推算。
在將本發明的黏著劑層作為光學構件貼合在例如偏光板(偏光膜)時，希望黏著劑層對偏光板的黏著力為上述下限值以上。通常，偏光膜是以吸附了碘的聚乙烯醇(PVA)的膜作為主體，並在其表面設置了經過皂化處理過的三乙醯基纖維素(TAC)、聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)等的保護層而成。因此，希望本發明的黏著劑層對皂化處理過的三乙醯基纖維素(TAC)等的被黏附體的黏著力是上述下限值以上。
當將本發明的黏著劑層用於光學構件的層間貼合等的情況下，為了減少黏著劑層與光學構件的介面上的光線反射，希望折射率差盡可能小。因此，上述黏著劑層的折射率較佳為1.47~1.50。
較佳為使前述黏著劑組合物交聯而成的黏著劑層 的表面電阻率為5.0×10+11Ω/□以下。另外，較佳為使前述黏著劑組合物交聯而成的黏著劑層的剝離靜電壓為±0~0.5kV。另外，在本發明中，所謂“±0~0.5kV”的意思是指“0~-0.5kV”和“0~+0.5kV”、即“-0.5~+0.5kV”。若表面電阻率大則對剝離時因帶電而產生的靜電進行釋放的性能差，因此，藉由使表面電阻率足夠小，能夠降低伴隨從被黏附體剝離黏著劑層時發生的靜電所產生的剝離靜電壓，能夠抑制對被黏附體的電控制電路等的影響。
本發明的黏著膜可藉由在基材或脫模膜的單面形成本發明的黏著劑層來製備。
作為用於形成黏著劑層的基材膜或保護黏著面的脫模膜(隔膜)，可以使用聚酯膜等樹脂膜等。
對基材膜而言，可在樹脂膜的與形成有黏著劑層一側相反的面上，實施藉由矽酮類、氟類的脫模劑或塗層劑、二氧化矽微粒等進行的防污處理，可實施藉由抗靜電劑的塗布或混入等進行的抗靜電處理。
對剝離膜而言，在與黏著劑層的黏著面進行貼合一側的面上，實施藉由矽酮類、氟類的脫模劑等進行的脫模處理。
藉由在一個黏著劑層的兩面分別貼合脫模膜的實施了脫模處理的面，能夠形成“脫模膜/黏著劑層/脫模膜”的構成。在此情況下，藉由將兩側的脫模膜依次或同時剝離而露出黏著面，從而能夠與光學膜等光學構件貼合。作為光學膜，可以舉出偏光膜、相位差膜、防反射膜、防眩(anti-glare)膜、紫外線 吸收膜、紅外線吸收膜、光學補償膜、增亮膜等。
本發明的黏著膜能夠用於偏光板和顯示面板的貼合。作為顯示面板可以舉出液晶顯示裝置、有機EL等，但並不局限於這些。
另外，本發明的黏著膜可用於以偏光板為主的液晶顯示器的週邊構件用各種光學膜、觸控面板用各種光學膜、電子紙用各種光學膜、有機EL用各種光學膜等的貼合中。
另外，可在這些光學膜的至少單面上層疊上述黏著劑層而製備帶有黏著劑層的光學膜。具體地，可以舉出“光學膜/黏著劑層/光學膜”、“光學膜/黏著劑層/脫模膜”、“光學膜/黏著劑層”、“光學膜/黏著劑層/光學膜/黏著劑層/光學膜”、“光學膜/黏著劑層/光學膜/黏著劑層/脫模膜”、“脫模膜/黏著劑層/光學膜/黏著劑層/脫模膜”等的構成。
例如，如“光學膜/黏著劑層/脫模膜”，在具有由脫模膜保護的黏著劑層的情況下，藉由剝掉脫模膜而露出像“光學膜/黏著劑層”那樣的黏著劑層，並與其他光學膜進行貼合，能夠得到將黏著劑層用於層間貼合的如“光學膜/黏著劑層/光學膜”的構成。
【實施例】
下面，藉由實施例具體說明本發明。
<丙烯酸共聚物的製造>
[實施例1]
向具有攪拌機、溫度計、回流冷凝器和氮導入管的反應裝置中導入氮氣，從而將反應裝置內的空氣置換為氮氣。然後， 向反應裝置內加入丙烯酸丁酯90重量份、丙烯酸苯氧乙酯10重量份、二乙基丙烯醯胺10重量份、丙烯酸1.0重量份、丙烯酸4-羥基丁酯1.0重量份和溶劑(乙酸乙酯)60重量份。然後，經過2小時滴入0.1重量份的作為聚合引發劑的偶氮二異丁腈，在65℃下使其反應6小時，得到了重均分子量為50萬的用於實施例1的丙烯酸共聚物溶液1。取丙烯酸共聚物的一部分，用作後述的酸值測定試樣。
[實施例2~5和比較例1~3]
除了如表1的(A)、(B)、(C)、(D-1)(D-2)中所述地分別調整了各單體的組成以外，與上述用於實施例1的丙烯酸共聚物溶液1同樣地進行操作，得到了用於實施例2~5和比較例1~3的丙烯酸共聚物溶液。在此，雖沒有特別示出測定結果，但實施例2~5和比較例1~3的丙烯酸共聚物溶液中含有的共聚物的重均分子量在20萬~200萬的範圍內。
<黏著劑組合物、黏著劑層和黏著膜的製備>
[實施例1]
在如上述製造的實施例1的丙烯酸共聚物溶液1中，加入1.5重量份的1-辛基吡啶鎓十二烷基苯磺酸鹽、0.1重量份的Coronate L-45(甲苯二異氰酸酯(TDI)化合物的加成物)和0.1重量份的鋁螯合物(三乙醯丙酮鋁)並進行攪拌混合，得到了實施例1的黏著劑組合物。將該黏著劑組合物塗布於由塗有矽酮樹脂的聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜構成的剝離膜上，然後在90℃下進行乾燥而去除溶劑。然後，藉由在23℃、50%RH的環境下實施7天的時效處理，獲得了在剝離膜的單面上具有使 黏著劑組合物交聯而成的黏著劑層的實施例1的黏著膜。
[實施例2~5和比較例1~3]
除了如表1的(E)、(F)所述地分別調整了添加劑的組成以外，與上述實施例1的黏著膜同樣地進行操作，得到了實施例2~5和比較例1~3的黏著膜。
表1中，括弧內的數值表示以(A)組和(B)組的合計重量設為100重量份而求出的(C)組~(F)組的重量份的數值，以作為(C)組~(F)組的添加比例。
並且，表2中顯示了與表1中使用的各成分的簡稱對應的化合物名稱。在此，Coronate(註冊商標)L-45為日本聚胺酯工業(股)公司的商品名稱，D-110N為三井化學(股)公司的商品名稱。TDI指甲苯二異氰酸酯，XDI指苯二甲基二異氰酸酯。
<試驗方法和評價>
從實施例1~5和比較例1~3的黏著膜剝掉剝離膜(塗有矽酮樹脂的PET膜)而露出黏著劑層，並將黏著劑層轉移至偏光板(膜)的單面上。
<黏著力的測定方法>
將黏著劑層轉移至厚度180μm的偏光板(膜)的單面，從而得到了作為試樣的黏著膜(帶有黏著劑層的光學膜)。
用壓緊輥將該黏著膜貼合在用丙酮清洗過的鈉鈣玻璃的 非錫面上。然後，在50℃、0.5MPa×20分鐘的條件下進行高壓鍋處理後，回到23℃×50%RH的環境，藉由拉伸試驗機測定經過1小時後的黏著膜的剝離強度。根據JIS Z0237《黏著帶、黏著片試驗方法》進行測定，將以300mm/min的速度向180°方向剝離時的剝離強度作為黏著膜的黏著劑層的黏著力。
<附著性的試驗方法>
用目視確認測定黏著力後的試樣的黏著膜的黏著劑層，並以從基材層的偏光板(膜)脫落的狀態，判斷其附著性。
○：黏著劑層完全沒有從基材層脫落。
△：黏著劑層的一部分從基材層分離而脫落。
×：黏著劑層從基材層脫落而附著在被黏附體的玻璃上。
<耐久性的試驗方法>
將藉由與黏著力的測定同樣的方法製備的10cm見方的黏著膜，用同樣的方法貼合在鈉鈣玻璃的非錫面上，從而獲得了試樣。將該試樣放置在60℃×90%RH的環境下250小時後，取出至23℃×50%RH的環境，用目視觀察1小時後的黏著膜的狀態，從而判斷耐久性。
○：黏著膜完全沒有產生剝離和發泡
△：黏著膜的一部分產生了剝離和發泡。
×：黏著膜的整體產生了剝離和發泡。
<折射率的測定方法>
用阿貝折射儀(製造商：ERMA，型號：ER-2S)測定23℃下的黏著劑層的折射率。
<表面電阻率的測定方法>
在老化後、貼合偏光板之前，剝掉剝離膜(塗有矽酮樹脂的PET膜)而使黏著劑層外露，採用電阻率儀(商品名稱為“Hiresta UP-HT450”，(股)公司三菱化學分析技術(Mitsubishi Chemical Analytech Co.,Ltd.)製造)，測定了黏著劑層的表面電阻率。
將評價結果示於表3中。另外，在表面電阻率中，藉由“mE+n”來表示“m×10+n”(其中，m為任意的實數，n為正整數)。
在實施例1~5的黏著膜中，5μm厚度的黏著劑層的黏著力為4.0N/25mm以上，黏著劑層的折射率在1.47~1.50的範圍內，並具有足以發揮抗靜電性能的5.0×10+11Ω/□以下的表面電阻率，而且附著性和耐久性也優異。即，實施例1~5的黏著膜能夠滿足所需要求及克服問題。
使用實施例1和實施例3的黏著劑組合物，並用相同的方法製備了黏著劑層厚度為3μm、5μm、10μm、15μm、20μm的黏著膜，並測定了黏著劑層的黏著力，將其結果示於表4中。可知使用了實施例1和實施例3的黏著劑組合物的黏著劑層的黏著力如眾所周知的那樣與黏著劑層的厚度大致成比例。
比較例1的黏著膜也許是因為黏著劑組合物中不具有含氮的單體，其厚度5μm的黏著劑層的黏著力弱。另外，由於不具有含芳基的(甲基)丙烯酸酯單體，黏著劑層的折射率低。另外，由於不含有離子化合物，因此表面電阻率高。而且，附著性和耐久性也差。
比較例2的黏著膜也許是因為黏著劑組合物中含有羧基的共聚合性乙烯基單體的配合量過多，厚度5μm的黏著劑層的黏著力弱。另外，由於不具有含芳基的(甲基)丙烯酸酯單體，黏著劑層的折射率低。另外，由於離子化合物不是熔點為30~50℃的離子化合物，因此表面電阻率稍高。而且，附著力和耐久性也差。
比較例3的黏著膜也許是因為黏著劑組合物中既不具有含羧基的共聚合性乙烯基單體也不具有含羥基的共聚合性乙烯基單體，其厚度5μm的黏著劑層的黏著力弱。另外，由於不含有離子化合物，因此表面電阻率高。而且，附著性和耐久性也差。
如此地，比較例1~3的黏著膜無法滿足以往所提出的要求以及克服以往存在的問題。

Claims (9)

  1. 一種黏著劑層，其是由含有丙烯酸類聚合物、交聯劑及抗靜電劑的黏著劑組合物進行交聯而成的黏著劑層，上述丙烯酸類聚合物為：(A)至少一種以上烷基碳原子數為C1~C14的(甲基)丙烯酸烷基酯單體合計70~95重量份，(B)至少一種以上含芳基的(甲基)丙烯酸酯單體合計5至30重量份，(C)相對於上述(A)、(B)合計作為100重量份，至少一種以上含氮乙烯基單體5~50重量份，以及(D)至少一種以上含羧基的共聚合性乙烯基單體0.1~2重量份和/或至少一種以上含羥基的共聚合性乙烯基單體0.1~5重量份，合併上述單體的混合物而共聚合成為重量平均分子量20萬~200萬的共聚物，其中，上述(C)含氮乙烯基單體係擇自一種以上的N-乙烯基吡咯烷酮、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二異丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二丁基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基胺丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基胺丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基胺乙基(甲基)丙烯醯胺、N-乙烯基己內醯胺或N-(甲基)丙烯醯啉，上述抗靜電劑為(E)熔點30~50℃的離子化合物，且黏著劑組合物不包含矽烷偶聯劑。
  2. 如申請專利範圍第1項之黏著劑層，其中，該黏著劑組合物包含：相對於上述(A)、(B)合計作為100重量份，0.1~5.0重量份的上述(E)熔點為30~50℃的離子化合物；以及0.01~5重量份的(F)交聯劑。
  3. 如申請專利範圍第1或2項之黏著劑層，其中，該黏著劑層的折射率為1.47~1.50。
  4. 一種黏著膜，其在脫模膜的單面形成如申請專利範圍第1至3項中任一項之黏著劑層而成，並具有脫模膜/黏著劑層/脫模膜的構成。
  5. 一種黏著膜，其在基材的單面上層疊有如申請專利範圍第1至3項中任一項之黏著劑層。
  6. 一種偏光板和顯示面板貼合用膜，其使用了如申請專利範圍第4或5項之黏著膜。
  7. 一種觸控面板用膜，其使用了如申請專利範圍第4或5項之黏著膜。
  8. 一種電子紙用膜，其使用了如申請專利範圍第4或5項之黏著膜。
  9. 一種帶有黏著劑層的光學膜，其在光學膜的至少一個面上層疊有如申請專利範圍第1至3項中任一項之黏著劑層。
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