TWI439414B - Method for producing hexafluorophosphate - Google Patents
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Description
本發明係關於極適用於電池用電解液、有機合成反應觸媒之六氟化磷酸鹽之製造方法。
六氟化磷酸鹽DPF6
,(D=Li,Na,K等)係使用為電池的電解液。當D=Ag時,為使於光聚合反應起始.增殖反應所必須的酸產生的反離子而受到矚目。D=NH4
時,適用為製造醫藥中間體所使用之原料。
固體狀的六氟化磷酸鹽DPF6
,一般而言係對水不安定的化合物,於反應系中有水分存在時,會生成副產物氧氟化磷酸鹽(DPOa
Fb
),六氟化磷酸鹽會進而被分解為DF或DF.c(HF)。其中特別是六氟化磷酸鋰及六氟化磷酸銀等,放置於空氣中時,會因為極微量的水分而產生白煙(POF3
及HF),同時慢慢地進行分解。僅數十ppm的水分亦會引起這樣的分解,而水分會轉變為2倍當量以上的酸分(HF、HPO2
F2
、H2
PO3
F等)。
因此,以往一般係使無水氟化氫與鹵化磷,例如五氯化磷(PCl5
)進行反應,使其生成五氟化磷(PF5
),進而使其與無水氟化氫中所產生之PF5
與氟化金屬(DF或DF.c(HF))進行反應而得。
然而於該方法中,因使用五氯化磷此一因吸濕性而具發煙性的固體,於反應時產生大量的氯化氫氣體,而有必
須進行該氣體的處理等不佳之作業性之缺點。
另外,已知解離後之六氟化磷酸陰離子(PF6 -
),於水溶液中呈現安定狀態。這是因為存在有如水般安定的配位化合物時,會與水分子形成錯合物之故。然而於溶液中藉由水的存在而安定的六氟化磷酸陰離子,難以以無水物之固體六氟化磷酸鹽的形式而取出。
例如使NaPF6
溶解於水中後,會以安定的PF6 -
形式存在,但將其以再結晶等方法取出其結晶時,並非以無水物之NaPF6
形式,而係以水合物之NaPF6
.H2
O的狀態下而析出。進而為脫去該NaPF6
.H2
O的水分而進行加熱或於減壓下乾燥時,六氟化磷酸的一部分竟分解為氧氟化磷酸鹽。相同的情況亦出現於NH4
PF6
、AgPF6
、LiPF6
,特別顯著的是LiPF6
、AgPF6
,僅存在少量的水合物,亦會使其分解為氧氟化磷酸鹽。因此,目前尚未出現以水溶液系合成LiPF6
、NaPF6
、NH4
PF6
、AgPF6
之報告。
如此對水不安定之六氟化磷酸鹽DPF6
,當D=K時(鉀)時(KPF6
),便於少量的水分存在下,可成功地以固體狀態而取出結晶。例如,於下述之專利文件1中,記載有使無水氟化氫與五酸化磷進行反應而製造六氟化磷酸溶液後,再使其與氟化鉀及氫氧化鉀等鉀鹽進行反應之製造方法。
然而以該方法由於五酸化磷與無水氟化氫之反應相當激烈,非常危險且極難以控制反應。且吸濕性極強的五酸化磷亦具有不易操作此一作業性不佳之缺點。
於下述之專利文件2中,即便使用無水氟化氫,只要使用60~97重量%的氟酸,藉由使其與磷酸的鉀化合物(磷酸二氫鉀或聚磷酸鉀),便可合成六氟化磷酸鉀。但該方法除了不似五酸化磷般激烈的反應之外,記載有於氟酸中添加鉀鹽時,反應進行同時溶液的溫度亦會上升。而六氟化磷酸銣、六氟化磷酸銫亦藉由應用該方法而可能被合成,但因磷酸二氫銣、磷酸二氫銫、聚磷酸銣、聚磷酸銫不易取得,難以稱之為實用的方法。
另外,六氟化磷酸(HPF6
),根據下述之專利文件3,可如下述化學反應式4或5般進行合成。因HPF6
以水為配位而呈現安定化之故。
H3
PO4
+6HF → HPF6
+4H2
O (式4)
P2
O5
+12HF → 2HPF6
+5H2
O (式5)
然而以該技術無法進行以結晶(固體)狀態而取出HPF6
,僅探討HPF6
為溶液形式。
下述之專利文件4中,利用HPF6
而產生PF5
氣體,但以該技術亦無法進行以結晶(固體)狀態而取出。
進而於下述之專利文件3、專利文件4中,雖然有HPF6
.6H2
O、HPF6
.4H2
O、HPF6
.2H2
O之符號,但這些物質並非以結晶(固體)狀態而記載,可自文意中讀出其為溶液中之配位數。亦即,一般認為自六氟化磷酸陰離子(PF6 -
)水溶液中,將六氟化磷酸容易地以結晶(固體)方式取出是非常困難的。
專利文件1:USP2488299號公報
專利文件2:特公平5-72324號公報專利文件3:特開2004-75413號公報專利文件4:特表2005-507849號公報
本發明係為解決如前所述之問題點而提案者,其目的在於提供可低價製造原料容易取得,反應可控制且作業性優異之六氟化磷酸鹽(APF6
:A=Li,Na,K,Rb,Cs,NH4
,Ag)之六氟化磷酸鹽製造的方法。
為解決前述之課題,本發明者們進行專心研究後,使用Hx
POy
Fz
、氟酸水溶液、MF.r(HF)等三種做為原料,再藉由使這些原料的添加比例與濃度最適當化,而使其即便於水溶液系中,亦可低價製造六氟化磷酸鹽(MPF6
:M=Li,Na,K,Rb,Cs,NH4
,Ag)。
本發明係至少以Hx
POy
Fz
水溶液、氟酸水溶液、MF.r(HF)為原料之六氟化磷酸鹽(MPF6
:M為至少一種選自Li,Na,K,Rb,Cs,NH4
,Ag所成群者)之製造方法。
(其中r≧0,0≦x≦3,0≦y≦4,0≦z≦6)
根據本發明,因可使用低價的原料,非常容易進行處理,而可進行簡易且低價之六氟化磷酸鹽MPF6
(M=Li,Na,K,Rb,Cs,NH4
,Ag)之合成。
於本發明中,可使用Hx
POy
Fz
水溶液、氟酸水溶液、MF.r(HF)等至少三種為原料而合成MPF6
(M為選自
Na,K,Rb,Cs,NH4
,Ag所成群之任何一種)。其中,r≧0,0≦x≦3,0≦y≦4,0≦z≦6,但以0≦x≦3,0≦y≦3,0≦z≦5為佳,0≦z≦3最佳。另外,雖是自明之事,使用以預先所期望的組成進行混合後之Hx
POy
Fz
水溶液與氟酸水溶液,可達成目的。
實施本發明時以根據下述二種方法為佳。
首先第一種方法係根據下述之化學反應式1,使Hx
POy
Fz
水溶液與氟酸水溶液進行反應後,取出暫時成為固體之六氟化磷酸水合物結晶(HPF6
·qH2
O)。接著遵循下述之化學反應式2,根據所取出之HPF6
·qH2
O與MF.r(HF)之反應而生成MPF6
。(其中,q≧1,p係使用化學量論以上。)
Hx
POy
Fz
+pHF → HPF6
.qH2
O (式1)
HPF6
.qH2
O+MF.r(HF) → MPF6
+(r+1)HF+qH2
O (式2)
第二種方法係根據下述之化學反應式3,使Hx
POy
Fz
水溶液與氟酸水溶液、MF.r(HF)同時進行反應而合成MPF6
。
MF.r(HF)+Hx
POy
Fz
+sHF → MPF6
+yH2
O (式3)
(其中,s、y為1以上,s係使用化學量論以上。)
本發明所使用之Hx
POy
Fz
水溶液可舉出例如將P2
O5
、H3
PO4
、HPO3
、H4
P2
O7
、H5
P3
O10
、H6
P4
O13
、H2
PO3
F、HPO2
F2
、POF3
、PF5
等五價磷化合物中之一種以上溶於水或氟酸之任何一種,或是藉於POCl3
、POBr3
等氧鹵素化磷與HF之反應所生成者,或因EPF6
(E=H,Li,Na,K
,Rb,Cs,Ag)之分解所產生者。進而,亦可為將上述之化學式1~3中未反應者,或是化學式1~3之濾液等進行濃縮而回收後之Hx
POy
Fz
等進行再利用。其中,以0≦x≦1,1≦y≦3,0≦z≦5為佳,進而以0≦z≦3最佳。
於前述之Hx
POy
Fz
水溶液中,Hx
POy
Fz
之濃度以50~98重量%為佳。濃度低時,系中的水分量會變多,與回收率低下有關。濃度高時,由於太過接近固體及吸濕性等點,處理會變得困難。進而因即便不形成固體,黏性亦會增高,以75~85重量%特佳。另外,若於此範圍時,x=3,y=4,z=0之原磷酸為一般之食品添加用等,而可以低價取得高純度品。
於前述之化學反應式1、化學反應式2、化學反應式3反應時所使用之氟酸濃度並未特別限定,但氟酸濃度過低時,不易生成PF6 -
陰離子,因反而優先生成HPO2
F2 -
陰離子等陰離子,而以40重量%以上為佳。另外,自便於處理之點而言,以85重量%以下為佳。以50重量%以上,75重量%為佳,55重量%以上為佳,75重量%以下特佳。
本發明中,重要係使Hx
POy
Fz
與HF及MF.r(HF)之至少2種以上進行反應後,氟酸水溶液中之氟酸濃度保持於40重量%以上。未達40重量%時,過剩的水會促進PF6
陰離子之水解。因此,反應後之水溶液中氟酸濃度以40重量%以上,未達80重量%為佳,進而自回收率及過濾等便於處理之點而言,以45重量%以上未達65重量%
特佳。另外,於前述之化學反應式1中,因所使用之Hx
POy
Fz
水溶液或HF水溶液會進而因反應而生成水分,但結晶水會與固體分離,故會較反應前使氟酸濃度變高。
針對前述之氟並未特別限定其等級,可將市售之工業用等級.一般等級.半導體等級,直接或調整為適當濃度後再使用。其中以使用雜質量少之半導體等級為佳,但自成本面而言,以工業用等級、一般等級為佳。雜質濃度以各金屬雜質為1重量ppm以下即可。
另外,MF.r(HF)之製法亦無特別限定,M=包含Li,Na,K,Rb,Cs,Ag之氧化物.氫氧化物.碳酸鹽.鹽化物等,或使NH3
與氟酸或氟化銨反應後者,進而使用這些物質與過剩的氟酸進行反應而產生之金屬氟化物MF.r(HF)。加之,亦可將下述之化學反應式6反應所生成之副產物MF.r(HF)再利用。
MPF6
+HF → PF6
+MF.r(HF) (式6)
(其中,HF係使用化學量論以上。)
五鹽化磷及五氧化磷因係吸濕性大之固體而不易進行處理,特別係製造設備方面於原料投入等其作業性差,有不易進行機械化等問題。反之LiF、LiF·(HF)、NaF、NaF.(HF)、KF.(HF)、RbF.(HF)、CsF等並無五鹽化磷及五氧化磷般劇烈的吸濕性,因其微流動性佳之結晶,而容易進行原料之投入。另外,Hx
POy
Fz
與HF於室溫下均為液體(水溶液),與使用五鹽化磷及五氧化磷為原料相較之下,於製造設備之原料投入等,其作業性飛躍地向
上提升,而具有易於機械化之利點。此點可當然地使六氟化磷酸鹽之生產性向上提升。
於前述之化學反應式1或化學反應式3中,相對於Hx
POy
Fz
,HF的添加比例若為1當量以上則無問題,但因添加比例過少時會使反應後之氟酸濃度變低,而以1.5當量以上為佳。若增加添加比例可使反應後之氟酸濃度增高,但因於工業上不經濟,而以未達10當量為佳。另外,所生成之MPF6
之溶解度會隨著HF濃度的增加而變低,而可提高回收率。然而即便溶解度變低,亦會因HF的量大而使MPF6
之溶解量增加而減低回收率,因此以2當量以上,7.5當量以下特佳。
另外,於前述之化學反應式2或化學反應式3中,相對於Hx
POy
Fz
,MF.r(HF)的添加比例若為1~3當量則可進行定量地反應,但添加比例變多時,MF.r(HF)會與HF進行反應,而因生成r值大之化合物,系中之氟酸濃度降低亦減低回收率,而以1.01~2當量為佳,考慮工業性.經濟性,以1.05~1.5當量特佳。
於前述之化學反應式1中,並未特別限定原料的添加方法,可使用使一起加入Hx
POy
Fz
水溶液與氟酸水溶液之方法、將Hx
POy
Fz
水溶液與氟酸水溶液同時滴下之方法、將Hx
POy
Fz
水溶液或氟酸水溶液任一個先加入反應容器中,再滴入另一個等任何一種方法。但於Hx
POy
Fz
水溶液及氟酸水溶液之反應中,因反應時幾乎不會生熱,考慮生產性後,以一起加入Hx
POy
Fz
水溶液與氟酸水溶液之方法為
佳。
於前述之化學反應式3中,亦未特別限定原料的添加方法,可使用一起加入使MF.r(HF)溶解後之Hx
POy
Fz
水溶液與氟酸水溶液之方法、將使MF.r(HF)溶解後之Hx
POy
Fz
水溶液與氟酸水溶液同時滴下之方法、將使MF.r(HF)溶解後之Hx
POy
Fz
水溶液或氟酸水溶液任一個先加入反應容器中,再滴入另一個等任何一種方法。或可使用先將MF.r(HF)置入反應容器中,再一起加入Hx
POy
Fz
水溶液與氟酸水溶液之方法、及先將MF.r(HF)置入反應容器中,再將Hx
POy
Fz
水溶液與氟酸水溶液同時滴下之方法。另外在這些溶液中亦可使用預先溶解後之MPF6
溶液。
但於Hx
POy
Fz
水溶液及氟酸水溶液之反應中,於反應時幾乎不會生熱,但因MF.r(HF)與HF反應時會產生些許的熱,而以使用使HF冷卻至5~15℃後,於攪拌同時緩慢加入MF.r(HF)之MF.r(HF)/HF水溶液為佳。該MF.r(HF)/HF水溶液與Hx
POy
Fz
水溶液之反應中,因反應時幾乎不會產生熱,考慮生產性後,以一起加入Hx
POy
Fz
水溶液與使MF.r(HF)溶解後之氟酸水溶液之方法為佳。
於上述之化學反應式2中,使取出之HPF6
.qH2
O結晶(固體)與MF.r(HF)進行反應後而合成MPF6
(M=Na,K,Rb,Cs,NH4
,Ag),此時之反應方法亦未特別加以限制。此時亦可進行於HPF6
.qH2
O結晶、MF.k
(HF)中,加入水或HF之任何一個,進行攪拌使其溶解後,再將這些溶液一次或是同時滴下,或是將其中一種加入另外一種之中的任何一種方法。
然而,因進行如化學反應式2之反應的同時會生成水及HF,而不需一定要添加水或HF,僅需將各種固體置入反應容器中並加以攪拌即可。但因液體量的增加與溶解度有密切的關係,由於液體量較少者為佳,其中以將各種固體置入反應容器中並加以攪拌之方法為最佳。
於上述之化學反應式1~3中並未特別限定反應溫度,但反應溫度到達70℃以上時,上述之化學反應式1、3中會引起逆反應之水解反應,化學反應式2中亦會引起PF6 -
之水解反應,而成為回收率降低之原因。另外因反應溫度高時會引起HF的飛散,以於50℃以下進行為佳。而由於於低溫下反應速度會變慢,而以-40℃以上為佳。考慮生產性時,以於-20℃~+30℃之範圍下進行反應為特佳。
於上述之化學反應式1~3中亦未特別限定晶析溫度,雖然愈低溫時愈增加其回收率,但於附帶設備或生產性等方面會牽涉到成本增加的問題。因而以-40℃以上,+30℃以下為佳,-20℃以上,+20℃以下更佳,-5℃以上,+20℃以下最佳。另外,因HPF6
.qH2
O之溶解度高,於0℃以上無法獲得結晶。亦即,HPF6
.qH2
O之生成係於反應後HF濃度為40重量%以上,且溫度為0℃以下時才可以結晶狀態取出HPF6
.qH2
O。因此進行HPF6
.
qH2
O之晶析時,非常重要的是使溫度為-50℃以上,0℃以下,其中以-40℃以上,-5℃以下為佳。
於化學反應式1~3之反應或晶析時間未特別加以限定,但時間短時有可能使回收率減低。反之,長時間則造成生產性減低。因此,反應或晶析時間以0.5小時以上未達72小時,1小時以上48小時以下為佳,1.5小時以上8小時以下更佳,其中,以2小時以上6小時以下最佳。
於化學反應式1,反應後例如藉由晶析,而將HPF6
.qH2
O結晶(固體)自反應系中取出為本發明的特徵。其中,q為1以上,以2以上為佳,6以上更佳。亦即因該HPF6
.qH2
O結晶(固體)為水合物,反應系中之水分會向結晶側移動,而使溶液中之氟酸濃度增高。進而藉由於該濾液中加入高濃度的HF,呈現初期的濃度或接近初期的濃度,因而使母液可連續地使用於下一次的反應,而可降低成本。
反應時以進行攪拌為佳,但並未限定攪拌的程度。
將進行前述一連串操作所得之HPF6
.qH2
O或MPF6
進行固液分離。固液分離之方法可舉出過濾法,過濾方法有自然過濾、加壓過濾、瀘心過濾等,可採用周知的一般性過濾方法。
化學反應式2或3之固液分離後,以藉由洗淨操作而提高MPF6
純度為佳。洗淨操作的方法可將MPF6
再次分散於洗淨劑之方法,於分離裝置內直接導入洗淨劑使MPF6
與其接觸之方法等周知之方法,單獨或組合使用。
另外於過濾後之濾液中,有時會含有剩餘的MPF6
鹽溶液或大量的酸。此時,對濾液進行蒸餾等而回收MPF6
鹽溶液或酸時,可獲得因減低廢水處理之負荷而降低成本,及回收有價物質的雙重效果。
此處之洗淨劑並無特別限定,可使用無水HF、高濃度HF、稀HF、純水等任何一種。進而為達中和酸之目的,亦可以相同陽離子之鹼鹽(例如合成KPF6
時,使用K2
CO3
或KHCO3
等)進行洗淨。如此可抑制進行鹼中和後於步驟中因酸而引起的腐蝕.對製品的金屬雜質污染等影響。
並未特別限定過濾.洗淨時之溫度,以-40℃以上,+30℃以下為佳,以-20℃以上,+20℃以下更佳,以-5℃以上,+20℃以下最佳。
將藉由固液分離而得之MPF6
進行乾燥為佳。乾燥方法可舉出風乾、溫熱乾燥、真空乾燥等。並未特別限制乾燥時間,一般為0.5小時~72小時。以於乾燥溫度未達120℃下進行為佳。於120℃以上之溫度進行乾燥時,乾燥設備昂貴,且大量的熱量會使所需的成本變高。另外,因溫度變高,可能使MPF6
因微量的水分而分解,固以85~110℃下進行為佳。
藉由上述方法可簡單製造水分含量1000重量ppm以下之MPF6
。此方法可使用低價的原料,又因製造方法簡單,因此可降低成本。
以上述化學反應式1~3之方法所得之六氟化磷酸鹽
(MPF6
,M=Li,Na,K,Rb,Cs,NH4
,Ag),亦可遵循下述之化學反應式7進行鹽交換。
MPF6
+JF.k(HF) → JPF6
+MF.k(HF) (式7)
(其中J=Li,Na,K,Rb,Cs,NH4
,Ag,k≧0)
此處並未限定進行鹽交換時所使用之溶媒,可使用無水HF、高濃度HF、稀HF、純水、有機溶媒等任何一種。這些溶媒中以無水HF、高濃度HF為佳。
化學反應式7中相對於MPF6
,JF.k(HF)之比例以1~2當量為佳,增加比例時,因未反應之JF.k(HF)會混入製品之JPF6
之中,而以1.0~1.1當量為佳。
並未限定所使用之溶媒量,但增加溶媒量會增加溶解量而減低回收率。然而,溶媒量過少時,有時未反應之JF.k(HF)或副生成之MF.k(HF),會混入製品之JPF6
之中。因此,溶媒量以相對於MPF6
重量之0.5~10倍為佳,1~5倍特佳。
進行鹽交換時亦未特別限定原料之添加方法。例如可舉出將MPF6
或JF.k(HF)以溶媒溶解後之溶液一次或同時間滴下之方法,及將其中一個加入另一個之中的方法。亦可使用先將溶媒置入反應容器中,再緩慢加入MPF6
或JF.k(HF)之方法。進而亦可反向進行該步驟。然而,為了不使原料等未反應物捲入已生成之JPF6
之中的方法,以預先使原料溶解後再進行反應為佳。
反應.晶析.過濾.洗淨.乾燥之方法亦無特別限制,可於前述之條件下進行。
以上述化學反應式1~3之方法所得之六氟化磷酸鹽,進而遵循前述之化學反應式7進行鹽交換時,可簡單地製造水分含量為1000重量ppm以下之MPF6
。
因上述一連串的步驟中均需使用氟酸水溶液,容器以使用氟樹脂、聚氯乙烯、聚乙烯製之物品、或以這些物質加襯後之物品為佳。
以下,將本發明例示以適當的實施例詳細地加以說明。但於該實施例中所記載之材料及混合量等,除無特別限定之記載,本發明之範圍並非僅限於其所限定之旨趣,以下所述僅做為說明例。
將160g之酸性氟化鉀(KF.(HF))與700g之半導體級75重量%氟酸(HF),與攪拌子一同置入3L氟樹脂(PFA)製之反應槽中,於冰浴下進行攪拌使KF(HF)溶解。再以分液漏斗測量175g之85重量%磷酸(H3
PO4
),於冰浴下以30分鐘時間使其緩慢滴下,並於6小時攪拌下使其進行反應。
其後,使其冷卻至-5℃進行晶析24小時。接著,將所得之沉澱物藉由抽吸過濾加以過濾。此時濾液中之HF濃度進行定量為55重量%。另外,將所回收之結晶以
400g之純水進行洗淨。之後於105℃下進行乾燥12小時。所得結晶之回收量為156g(回收率為56%)。進而,將所得之結晶進行XRD測定後,可得知其為KPF6
。另外針對所得KPF6
之水分含量,以水分計進行測定後為350重量ppm。(進行濾液之離子層析光譜分析後結果,僅檢出F-
陰離子及PF6-
陰離子。可取出之結晶為56%,但由於以純水洗淨後之洗淨濾液中溶解有100g之KPF6
,可知其幾乎以定量而進行反應。)
將實施例1之濾液於120℃下經24小時使其完全濃縮。濃縮後之液體為具些許黏性之白濁液體。將該液體加入3L-PFA製之反應槽中,再加入200g之75重量%H3
PO4
並使其溶解。於另一個容器加入550g之半導體級75重量%HF,以冰浴使其冷卻同時緩慢加入145g之KF.(HF),於攪拌下使其溶解。將該氟酸溶液、磷酸水溶液分別移至分液漏斗中,於冰浴攪拌下同時以15分鐘進行滴下。再將該溶液冷卻至-40℃進行晶析48小時。
接著,將所得之沉澱物藉由抽吸過濾加以過濾。此時濾液中之HF濃度進行定量為48重量%。另外,將所回收之結晶以400g之純水進行洗淨。之後於105℃下進行乾燥8小時。所得結晶之回收量為155g。進而將所得之結晶進行XRD測定後,可得知其為KPF6
。由此可知回收率為55%(洗淨液中未含有溶解之KPF6
)。另外針對所得
KPF6
之水分含量,以水分計進行測定後為500重量ppm。
將160g之KF.(HF)與940g之工業用級55重量%HF,與攪拌子一同置入3L-PFA製之反應槽中,於冰浴下進行攪拌使KF.(HF)溶解。再以別的容器測量175g之85重量% H3
PO4
,於20℃水浴中攪拌同時,將磷酸水溶液一次加入。維持原狀進行4小時反應.晶析。接著,將所得之沉澱物藉由抽吸過濾加以過濾。此時濾液中之HF濃度進行定量為42重量%。另外,將所回收之結晶以400g之純水進行洗淨。之後於105℃下進行乾燥24小時。將所得之結晶進行XRD測定後,可得知其為KPF6
。由所得結晶之回收量為53g可知其回收率為19%(洗淨液中未含有溶解之KPF6
)。進而,針對所得KPF6
之水分含量,以水分計進行測定後為200重量ppm。
將80g之酸性氟化銨(NH4
F.(HF))與115g之75重量% H3
PO4
,與攪拌子一同置入3L-PFA製之反應槽中,於冰浴下進行攪拌並加入500g之半導體級80重量% HF。維持原狀於冰浴下進行24小時反應.晶析。將所得之沉澱物藉由抽吸過濾加以過濾。此時濾液中之HF濃度進行定量為63重量%。另外,將所回收之結晶以400g之
純水進行洗淨。之後於95℃下進行乾燥24小時。將所得之結晶進行XRD測定後,可得知其為NH4
PF6
。由所得結晶之回收量為82g可知其回收率為58%(洗淨液中未含有溶解之NH4
PF6
)。針對所得NH4
PF6
之水分含量,以水分計進行測定後為800重量ppm。
將210g之氟化銫(CsF)與700g之半導體級75重量%HF,與攪拌子一同置入3L-PFA製之反應槽中,於冰浴下進行攪拌並使CsF溶解。再以分液漏斗測量175g之85重量% H3
PO4
,於冰浴下以30分鐘時間使其緩慢滴下,並於12小時攪拌下使其進行反應。再將該溶液冷卻至-5℃進行晶析36小時。將所得之沉澱物藉由抽吸過濾加以過濾。此時濾液中之HF濃度進行定量為55重量%。另外,將所回收之結晶以400g之純水進行洗淨。之後於105℃下進行乾燥12小時。將所得之結晶進行XRD測定後,可得知其為CsPF6
。由所得結晶之回收量為368g可知其回收率為96%(洗淨液中未含有溶解之CsPF6
)。針對所得CsPF6
之水分含量,以水分計進行測定後為200重量ppm。
將120g之偏磷酸HPO3
分散於50g之純水中而製成偏磷酸水溶液。再與160g之KF.(HF)及700g之工業
用級75重量%HF,與攪拌子一同置入3L-PFA製之反應槽中,於冰浴下進行攪拌並使KF.(HF)溶解。該這些溶液分別移至分液漏斗中,於20℃水浴中,以15分鐘同時滴入3L-PFA反應槽中,攪拌1小時使其進行反應。其後,冷卻至10℃進行晶析3小時。將所得之沉澱物藉由抽吸過濾加以過濾。此時濾液中之HF濃度進行定量為55重量%。將所回收之結晶以400g之純水進行洗淨。之後於100℃下進行乾燥18小時。將所得之結晶進行XRD測定後,可得知其為KPF6
。由所得結晶之回收量為134g可知其回收率為48%(洗淨液中未含有溶解之KPF6
)。針對所得KPF6
之水分含量,以水分計進行測定後為420重量ppm。
於3L-PFA製之反應槽中,與攪拌子一同置入600g之工業用級80重量% HF,於冰浴下進行攪拌,使120g之氧氟化磷(POF3
)被吸收。於使該POF3
溶解之溶液中,緩慢添加60g之氟化鈉(NaF),並於攪拌下使其溶解。使該溶液冷卻至-20℃進行晶析48小時。將所得之沉澱物藉由抽吸過濾加以過濾。此時濾液中之HF濃度進行定量為73重量%。另外,將所回收之結晶再放回3L-PFA製之反應槽中,加入100g之無水HF並使其分散,進行攪拌30分鐘。之後,將其靜置,取掉上清液,以3L/分鐘之速度導入N2
至反應槽中進行風乾。之後,於
100℃下進行乾燥6小時。將所得之結晶進行XRD測定後,可得知其為NaPF6
。由所得結晶之回收量為62g可知其回收率為32%(洗淨液之無水HF中未含有溶解之NaPF6
)。針對所得NaPF6
之水分含量,以水分計進行測定後為650重量ppm。
將2000g之半導體級75重量% HF,與攪拌子一同置入5L-PFA製之反應槽中,於冰浴下進行攪拌。再以分液漏斗測量420g之85重量% H3
PO4
,於冰浴下以15分鐘時間使其緩慢滴下,並於3小時攪拌下使其進行反應。再將該溶液冷卻至-40℃進行晶析48小時。將所得之沉澱物藉由抽吸過濾加以過濾。Wet狀態下之結晶重量為1080g。HPF6
(無結晶水)時,100回收率為532g,但實際重量多為加算入含水.含HF量。由此認為其形成具結晶水之HPF6
.qH2
O之型態。此時濾液中之HF濃度進行定量為71重量%。水以結晶水的型態未向結晶側移動時,計算所得之HF濃度為56重量%,由實際上為71重量%可知,其形成為含有結晶水之型態,且認為q為2以上。
其次,將330g之NaF置入2L-PFA製之反應槽中,於冰浴冷卻同時加入1050g之無水HF,調整為NaF/HF溶液。另外,將前述所得之HPF6
.qH2
O全部置入3L-PFA製之反應槽中,於冰浴下同時攪拌,以20分鐘加入
調整後之NaF/HF溶液。反應後,冷卻至-10℃進行晶析48小時。其次,緩慢取掉3L-PFA反應槽之上清液進行固液分離。進行分離後,以3L/分鐘之速度導入N2
至反應槽中進行風乾。之後於105℃下進行乾燥3小時。將所得之結晶進行XRD測定後,可得知其為NaPF6
。由所得結晶之回收量為205g可知其回收率為33%,針對所得NaPF6
之水分含量,以水分計進行測定後為420重量ppm。
為進行HF之再利用,於3L-PFA製之反應槽中,加入實施例8所回收之700g之71重量% HF瀘液,並補足140g之無水HF調整為840g之75重量% HF。取另一個聚乙烯容器量測120g之85重量% H3
PO4
,於冰浴攪拌下,一次加入氟酸中,再於冰浴下攪拌30分鐘。使該溶液冷卻至-20℃進行晶析24小時。將所得之沉澱物藉由抽吸過濾加以過濾。Wet狀態下之結晶重量為250g。再將該Wet狀態之結晶全量與攪拌子一同移至1L-PFA製之反應槽中。此時濾液中之HF濃度進行定量為72重量%。
其次,使進行KPF6
+HF → PF5
+KF·(HF)之反應後之HF溶液完全濃縮·乾固,回收125g之白色粉末。將該粉末進行XRD分析後,得知其為KPF6
與KF·(HF)之混合物,90%為KF·(HF)。將所得之KPF6
/KF·(HF)混合物緩慢加入上述之1L-PFA製之反應槽中,
於20℃下進行反應48小時。因反應初期均為固體而不易進行攪拌,至反應30分鐘後慢慢自結晶中生成H2
O/HF,而轉變為容易攪拌的狀態。
將所得之沉澱物藉由抽吸過濾加以過濾。將所回收之結晶以400g之純水進行洗淨。之後於105℃下進行乾燥24小時。將所得之結晶進行XRD測定後,可得知其為KPF6
。由所得結晶之回收量為105g可知其回收率為55%(洗淨液中未含有溶解之KPF6
)。針對所得KPF6
之水分含量,以水分計進行測定後為400重量ppm。
將120g之KF·(HF)與600g之工業用級50重量%HF及攪拌子一同置入3L-PFA製之反應槽中,於冰浴下進行攪拌使KF·(HF)溶解。再以其他容器測量120g之85重量% H3
PO4
,於冰浴攪拌下並一次加入磷酸水溶液中。維持原狀進行反應·晶析48小時,但結晶並未全部析出。測定溶液HF濃度為36重量%。以離子層析光譜進行陰離子分析後,完全未檢出PF6-
陰離子,僅含有HPO2
F2 -
等氧磷酸陰離子及PO4 3-
。
本例係專利文件4所記載之方法。
於5L-PFA製之反應槽中,添加790g(9.4莫耳)之聚磷酸,1235g(61.7莫耳)之無水HF,藉由冷卻保持
於25℃並同時加以攪拌。再於25℃下進行攪拌3小時後,冷卻至-40℃進行晶析24小時但未獲得結晶。測定溶液中之HF濃度為11重量%。
由以上結果可知,藉由使反應後之HF濃度為40重量%以上,可簡單地合成MPF6
。進而於任何一種方法,均僅使用Hx
POy
Fz
水溶液、氟酸水溶液、MF.r(HF)等至少3種原料。z=0時為磷酸水溶液,且75重量%之H3
PO4
大量流通做為食品添加用。另外,氟酸水溶液亦大量被使用於半導體或工業用方面。加之因MF·r(HF)易藉由與氧化物、氫氧化物、碳酸鹽、氯化物等及氟酸等物反應而容易進行合成,各原料均容易取得,與至今之方法相比係一優異之方法。
根據本發明所得之MPF6
,可使用於今後被預料到更為發展的油電混合汽車電池的電解液。
根據本發明所製造之六氟化磷酸鹽,可被利用為電池用電解液及有機合成反應之觸媒等。
六氟化磷酸鹽MPF6
(M=Li,Na,K等)可使用為電池之電解液。進而當M=Ag時,可被利用為使於光聚合起始·增殖反應所必須的酸產生之反離子。M=NH4
時,適用為製造醫藥中間體所使用之原料。
Claims (11)
- 一種六氟化磷酸鹽(MPF6 :M為選自Li,Na,K,Rb,Cs,NH4 及Ag所成群之至少之任何一種)之製造方法,其係至少將Hx POy Fz 水溶液、氟酸水溶液、與MF‧r(HF)做為原料並藉由使進行反應而合成者,(其中r≧0,0≦x≦3,0≦y≦4,0≦z≦6)。
- 如申請專利範圍第1項之六氟化磷酸鹽之製造方法,其中遵循式1,使Hx POy Fz 水溶液與氟酸水溶液進行反應後,取出暫時成為固體之六氟化磷酸水合物結晶(HPF6 ‧qH2 O),接著遵循式2,根據所取出之HPF6 ‧qH2 O與MF‧r(HF)之反應而合成MPF6 ,Hx POy Fz +pHF → HPF6 ‧qH2 O (式1)(其中,q≧1,p>0,p+z>6)HPF6 ‧qH2 O+MF‧r(HF) → MPF6 +(r+1)HF+qH2 O (式2)。
- 如申請專利範圍第1項之六氟化磷酸鹽之製造方法,其中遵循式3,使Hx POy Fz 水溶液與氟酸水溶液、MF‧r(HF)同時進行反應而合成MPF6 ,MF‧r(HF)+Hx POy Fz +sHF → MPF6 +yH2 O (式3)(其中,s、y為1以上)。
- 如申請專利範圍第1項之六氟化磷酸鹽之製造方法,其中該Hx POy Fz 水溶液中Hx POy Fz 之濃度為50~98重量%。
- 如申請專利範圍第1項之六氟化磷酸鹽之製造方法,其中該Hx POy Fz 水溶液中Hx POy Fz 濃度為75~85重 量%。
- 如申請專利範圍第1項之六氟化磷酸鹽之製造方法,其中所使用之氟酸水溶液中氟酸濃度為40重量%以上。
- 如申請專利範圍第1項之六氟化磷酸鹽之製造方法,其中所使用之氟酸水溶液中氟酸濃度為50重量%以上75重量%以下。
- 如申請專利範圍第1項之六氟化磷酸鹽之製造方法,其中使Hx POy Fz 與HF、MF‧r(HF)之至少2種以上進行反應後,其氟酸水溶液中氟酸濃度保持於40重量%以上,未達80重量%。
- 如申請專利範圍第8項之六氟化磷酸鹽之製造方法,其中使Hx POy Fz 與HF、MF‧r(HF)之至少2種以上進行反應後,其氟酸水溶液中氟酸濃度保持於45重量%以上,未達65重量%。
- 如申請專利範圍第1項之六氟化磷酸鹽之製造方法,其係使HPF6 ‧qH2 O晶析。
- 如申請專利範圍第10項之六氟化磷酸鹽之製造方法,其中晶析係於-50℃以上0℃以下進行。
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