TWI233620B - Electrically conductive paste and semiconductor device produced by using it - Google Patents

Electrically conductive paste and semiconductor device produced by using it Download PDF

Info

Publication number
TWI233620B
TWI233620B TW091114049A TW91114049A TWI233620B TW I233620 B TWI233620 B TW I233620B TW 091114049 A TW091114049 A TW 091114049A TW 91114049 A TW91114049 A TW 91114049A TW I233620 B TWI233620 B TW I233620B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
weight
conductive adhesive
silver powder
patent application
particle size
Prior art date
Application number
TW091114049A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuto Onami
Toshiro Takeda
Akira Fukuizumi
Yoshihiro Nakajima
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co
Nec Electronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co, Nec Electronics Corp filed Critical Sumitomo Bakelite Co
Application granted granted Critical
Publication of TWI233620B publication Critical patent/TWI233620B/zh

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/20Conductive material dispersed in non-conductive organic material
    • H01B1/22Conductive material dispersed in non-conductive organic material the conductive material comprising metals or alloys
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L24/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/29001Core members of the layer connector
    • H01L2224/29099Material
    • H01L2224/29198Material with a principal constituent of the material being a combination of two or more materials in the form of a matrix with a filler, i.e. being a hybrid material, e.g. segmented structures, foams
    • H01L2224/29298Fillers
    • H01L2224/29499Shape or distribution of the fillers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45117Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 400°C and less than 950°C
    • H01L2224/45124Aluminium (Al) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45144Gold (Au) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/013Alloys
    • H01L2924/0132Binary Alloys
    • H01L2924/01322Eutectic Alloys, i.e. obtained by a liquid transforming into two solid phases
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/102Material of the semiconductor or solid state bodies
    • H01L2924/1025Semiconducting materials
    • H01L2924/10251Elemental semiconductors, i.e. Group IV
    • H01L2924/10253Silicon [Si]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/12Passive devices, e.g. 2 terminal devices
    • H01L2924/1204Optical Diode
    • H01L2924/12042LASER
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/13Discrete devices, e.g. 3 terminal devices
    • H01L2924/1304Transistor
    • H01L2924/1306Field-effect transistor [FET]
    • H01L2924/13091Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor [MOSFET]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/49117Conductor or circuit manufacturing
    • Y10T29/49169Assembling electrical component directly to terminal or elongated conductor

Landscapes

  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Die Bonding (AREA)
  • Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Description

1233620 五、 發明說明 (1: ) 發 明 屬 之 技術 領 域 本 發 明 係 關於 導 電 膠及使 用該膠而成之半導體 裝 置。 更 詳 細 來 說 本發 明 係 關於將 1C、LSI等之半導體 元件接 著 於 金 屬 膜 等 ,同 時使 用於半 導體元件與外部電極 等 之導 電 連 接 之 可 罪 性高 的 導 電膠及使用該膠而成之半導i 體; 裝置 〇 習 知技 術 藉 著 電 子 業界 最 近 之顯著 發展,半導體元件已 進 化爲 電 晶 體 、 1C 、 LSI、 超LSI,而於該等之半導體元件 中 之電 路 積 體 度 急 劇 地增大 同時可 大量生產,伴隨使用 該 等之 半 導 體 製 品 的 普及 該 量產中 之操作性提昇及成本 降 低則 變 成 了 重 要 之 課題 〇 又 在另一 方面,在使用習知含 鉛 之焊 錫 所 進 行 之 半 導體 元 件 之對於 金屬膜之接著或外部 電 極之 連 接 方 面 由 於地球 環 保問題 而要求不含對人體有 害 之鉛 的 導 電 性 替 代材料 0 習 知普通 以Au-Si共結晶法接 合半導 體 元件於金 屬 薄膜 等 之 導體, 其次以密封焊接來封 裝 ,而 成 爲 一 般 的 半 導體 製 品 。然而 ,從量產時之操作性 成本 面 來 看 已 開 發樹 脂 密 封法並 於現今使其一般化, 作 爲於安 裝 步 驟 中 之 Au - Si 共 •結晶法 之改良,並提出以樹 脂 膠即 導 電 膠 之 方 法 。又 隨 著半導 體之高密度化、大容 量 化, 對 於 樹 脂 膠 本身之 導 電 性或熱 傳導性,則要求與習 知 之焊 錫 金 屬 相 當 之特性 〇 特 別地, 於功率M0SFET中, 爲 了使 元 件 表 面 之 發 熱散 逸 > 同時提 高轉換機能,必須無 限 制地 降 低在 接 通 狀 態之 電 阻 ,而硏 究藉由取代連線銲接 -3- 之 金屬 板 1233620 五、 發明說明 ( 2 : ) 來 與 外 部電 極 的 連 接 〇 再 者 於近年 來 由 於對半導體元件之 可 靠 性提昇 之 要 求 5 於 樹 脂封 裝 體 中 5 即使在負荷高溫高 濕 條 件或冷 熱 循 環 之狀 態 下, 均 要 求無 損及半導體元件之 連: 接 可靠性 〇 該 等 具有 高 可 靠 性之導電膠方面,正 硏 究 著將熱 可 塑 性 樹 脂 溶 解於 有 機 溶 劑 ,並高度塡充銀粉 等 之金屬塡 料來作 爲 基 材 之方法 等 〇 然 而*爲了確保局的 熱 傳 導性或 電 傳 導 性 加 入多 旦 里 的 金 屬 塡料而使黏度變高 9 一 方面降 低 了 塗 布 操 作性, 或 者 一 方面爲了黏度降低而加 入之有 機 溶 劑 5 在 加 熱時 揮 發 而成 爲空隙之原因,使 連 接 部之熱 傳 導 性 降 低 將造 成 電 阻 阻 質增加的問題。 雖 然 該等 之 導 電 膠 一般係以分料、印 刷 沖壓等 之 方 法 塗 布 於 連接 :部 ;位之後,加熱硬化來使J ,但是有 不 受 連 接 面 積 大小 影 響 之 優 異塗布操作性係爲 所 期 待的。 近年 來 半 導 體元 件 之 高 積 體化之進展,對於 較 狹 窄區域 之 塗 布 已 成 爲 必須 該 結 果 爲要求可使用細的 噴 嘴 來塗布 〇 例 如 5 以 習 知導 電 膠 雖 然 可使用至0 . 3mm直 徑 之 噴嘴來 塗 布 但使用 小於 0 • 3 mm 直 :徑之噴嘴則因塡充材 類 之接觸 而 產 生 塡 充材 之網 巨 堵 塞 而有無法均勻塗布 的 缺 點。於 近年 來 則 已 變 成必 須 使用 0 • 1mm直徑之噴嘴來 塗 布 ,另外 5 亦 要 求 任何 同一 種 膠 均 可 適用於大口徑噴嘴 〇 如 示 於特 開 2000 - 1 1 4445號公報等, 雖 然 報導爲 了 提 局 功 率 M0SFET 之 轉 換 機能,以導電膠連 -4- 接 引 線框架 之 金 屬 1233620 五、發明說明(3) 板與小晶片表面之範例,但是使用通常之環氧樹脂膠或聚 亞胺系膠,一方面熱傳導性、電傳導性不足,一方面即使 於初期得到滿足之値,但曝曬於壓力鍋測試等之高溫高濕 條件、同時置於冷熱循環等之條件下,則有使接通電阻値 上升等之不合適,而希望該等方面之改善。又,於特開平 2000 - 223634號公報,雖然顯示以金凸塊連接方法,但不 利於成本面。 【發明所預解決之課題】 本發明之目的爲提供一種導電膠及用該膠而成之半導體 裝置,其係具備媲美於焊錫之熱傳導性與電傳導性、即使 於高溫高濕下或冷熱循環後特性變化少、塗布操作性優異 、再者於塗布時適用於從小口徑之噴嘴至大口徑之噴嘴而 得之導電膠及用該膠而成之半導體裝置。 【用於解決課題之手段】 本發明者等,爲了解決上述課題而重複專心一意之硏究 的結果,在包含80重量%以上於粒徑分布曲線之特定位 置具有2個尖峰之銀粉與低於20重量%熱固性樹脂之導 電膠中,以低剪切應力所測定之黏度與以高剪切應力所測 定之黏度個別在特定之範圍內,而且兩黏度之比在特定之 範圍內,加熱而得之硬化物的拉伸彈性率爲0.1〜2. 5GPa 之導電膠,係被發現具有媲美於焊錫之熱傳導性與電傳導 性、即使於高溫高濕下或冷熱循環後特性變化少、塗布操 作性優異、於塗布時適用於從小口徑之噴嘴至大口徑之噴 1233620 五、發明說明(4) 嘴而得到,並基於該發現之知識而達致本發明之完成。 即,本發明係 (1 ) 一種導電膠,其係由(A )銀粉及(B )熱固性樹 脂所構成之導電膠,其特徵爲於該膠中所佔之銀粉比例爲 80重量%以上,以雷射繞射粒徑分布測定裝置所測定之銀 粉的粒徑分布,具有於0.5〜2 // m之間的一個尖峰、於 2〜1 0 // m之間的另一個尖峰,使用E型黏度測定裝置,於 25°C、迴轉數0.5rpm所測定之黏度爲35〜135Pa · s、於 2 5°C、迴轉數2.5rpm所測定之黏度爲10〜3 0Pa · s,於 〇. 5 r pm所測定之黏度除以於2.5 r pm所測定之黏度之商數 爲3 . 5〜4. 5,加熱而得之硬化物於25 °C之拉伸彈性率爲 〇·1〜2.5GPa ; (2 )如第1項記載之導電膠,其中該粒徑分布爲 低於0.5// m : 8〜12重量% 0.5〜1 . 0 // m : 24〜28 重量 〇/〇 1 . 0〜2 . 0 // m : 20〜24 重量 % 2.0〜4.0// m: 9〜13 重量 % 4.0 〜7 . 0 // m ·· 1〇 〜14 重量 % 7 . 0〜10 # m : 9〜13重量% 10〜15 // m : 2〜6重量% 15 〜20 // m : 1〜4 重量 °/〇 20 // m以上:〇〜2重量% ; (3 )如第1項記載之導電膠,其中熱固性樹脂爲選自 於2 5 t爲液狀之環氧樹脂及具有不飽和雙鍵之丙烯酸酯化 1233620 五、發明說明(5) 合物及/或甲基丙燃酸酯化合物1種以上之樹脂; (4)如第1項記載之導電膠,其中以純水、於12〇 C、213kPa下,卒取硬化物5小時之所萃取的氯化物離子 星爲平均lg硬化物爲50//g以γ ! (5 )如第1項記載之導電膠,其中於熱固性樹脂於 1 70°C之膠化時間爲60秒以下; (6) —種半導體裝置,其特徵爲使用記載於第丨項〜第 5項之任一項之導電膠製作而成。 【發明之實例】 · 本發明之導電膠係由(A )銀粉及(b )熱固性樹脂所構 成之導電膠,其中於該膠中所佔之銀粉比例爲80重量% 以上,以雷射繞射粒徑分布測定裝置所測定之銀粉的粒徑 分布’具有於0.5〜2//m之間的一個尖峰、於2〜10//m之 間的另一個尖峰,以E型黏度測定裝置、於2 5 °C、迴轉數 0.5rpm所測定之黏度爲35〜135Pa· s、於25°C、迴轉數 2 · 5 rpm所測定之黏度爲1 0〜30Pa · s,於0 · 5 rpm所測定之 黏度除以於2.5 rpm所測定之黏度之商數爲3. 5〜4.5,加熱 而得之硬化物於25°C之拉伸彈性率爲0.1〜2.5GPa。 於本發明之導電膠中,於膠中所佔之銀粉比例低於80 重量% ,則熱傳導性與電傳導性恐怕會降低。 用於本發明之銀粉’其以雷射繞射粒徑分布測定裝置所 測定之粒徑分布,於〇 · 5〜2 // m之間具有一個尖峰,於 2〜10/im之間具有另外之尖峰。於銀粉之粒徑分布中,由 1233620 五、發明說明(6) 於在0.5〜2/zm之間與2〜10/zm之間,個別平均存在一個 尖峰,即使銀粉含有量爲80重量%以上之導電膠亦具有 良好之分料性,使用從內徑小之噴嘴至內徑大之噴嘴之分 料器,可不發生噴嘴堵塞、不產生液滴地、穩定地來打點 塗布導電膠。用於本發明之銀粉的粒徑分布係以於0.5〜2 // m間之尖峰爲陡峭的、於2〜1 0 // m間之尖峰爲寬廣的爲 佳。再者,亦以於0 . 5〜2// m間之尖峰較高於2〜10// m間 之尖峰爲佳。 用於本發明之銀粉的粒徑分布係以 低於0.5// m : 8〜12重量% 0.5〜1 .0// m : 24 〜28 重量 % 1 . 0〜2.0 // m : 20〜24 重量 °/〇 2 · 0〜4.0 # m : 9〜13 重量 % 4.0〜7 . 0 # m : 10〜14 重量 % 7 . 0 〜10 // m : 9 〜13 重量 °/〇 10〜1 5 // m : 2〜6重量% 15〜20 # m : 1〜4重量?6 20// m以上:0〜2重量% 爲佳。藉由使用具有上述粒徑分布之銀粉’即使導電膠 之銀粉含有量爲80重量%以上,可抑制導電膠之黏度上 升,並適用於從0 . 1 mm內徑之極細噴嘴至1 mm內徑之極粗 噴嘴,而可得到具有安定之分料性的導電膠。藉由使用具 有上述之粒徑分布之銀粉而得到良好之分料性的理由雖不 1233620 五、 發明說明 ( 7、 ) 淸 楚 5 推 壬A δ冊 原 因 爲 於導電膠中銀粉粒子形成最 密充 塡 構 造 同 時抑制 導 電 膠 之黏度上升。 於本 發 明 之 導 電 膠中,雖然對於熱固性樹脂 並無特別 之 限 制 9 但 是 以 々ΒΒ 培 白 於25°C爲液狀之環氧樹脂及 具有 不 飽 和 雙 鍵 之 丙 烯 酸 酯 化 合物及/或甲基丙烯酸酯化合物 1 種 以 上 之 樹 脂 爲 佳 〇 用 於本發明之環氧樹脂方面, 可舉 例 有 以 雙 酚 A 雙 酚 F 、 苯酚酚醛淸漆、甲酚酚醛淸 漆類 與 環 氧 氯 丙烷 之 反 應 所得 之聚縮水甘油醚、丁二醇二 縮水甘油 醚 季 戊 二 醇 二 縮 水甘油醚等之脂肪族環氧化物 、二 縮 水甘 油 乙 內 醯 脲 等 之 雜 環環氧化物、二氧化乙烯基 環己 院 二 氧 化 二 環 戊 二 烯 環狀脂肪族二環氧-己二酸 酯等 之 環 狀 脂 肪 族 環 氧 化 物 等 。該等之環氧樹脂係可使用」 單獨 1 種 或者 % 亦可組合 2 種以上來使用。又,即使於 25〇C 爲 固 體 之 樹 脂 藉 由 與 液 狀樹脂混合,可使用作爲於 2 5〇C 爲 液 狀 之 環 氧 樹 脂 〇 對 於 用 於 本 發 明 之環氧樹脂之硬化劑並無特 別之 限 制 5 可 舉 例 以 己 二 酸 二 醯肼、十二酸二醯肼、異酞 酸二 醯 肼 > 對 羥 基 安 息 香 酸 二 醯肼等之羧酸二醯肼、雙氰 胺、 雙 酚 A 、 雙 酚 F 雙丨 m S 、四甲基雙酚A、四甲基雙酌 卜F、 四 甲 基 雙 酚 S 1 、 二 羥 基 二 苯醚、二羥基二苯甲酮、兒茶酚 間 苯 酚 對 苯 二 酚 Ή 聯苯、四甲基聯苯、亞乙基 雙酚 甲 基 亞 乙 基 雙 ( 甲 酚 ) 、環亞己基雙酚、或酚、甲 酚、 二 甲 酚 等 之 1 價酚類與甲 〗醛,於稀薄水溶液中、強酸 冬 性下反 應 而 1233620 五、發明說明(8) 得之苯酚酚醛淸漆樹脂;1價酚類與丙烯醛、乙二醛等之 多官能基醛類之於酸性下之初期縮合物、或兒茶酚、間苯 二酚、對苯二酚等之多價酚類與甲醛於酸性下之初期縮合 物、2 -甲基咪唑、2 -乙基咪唑、2 -苯基咪唑、2 -苯基- 4-甲基咪唑、2 -苯基-4-甲基-5-羥甲基咪唑、2 -苯基-4, 5-二羥甲基咪唑、2 -十一烷基咪唑等之咪唑類、或添加三畊 或異氰酸來賦予保存安定性之2,4 -二胺- 6- {2 -甲基咪唑-(1)卜乙基-s-三畊、其異氰酸添加物等。該等之硬化劑 係可單獨使用1種,或亦可組合2種以上來使用。 對於用於本發明之具有不飽和雙鍵之丙烯酸酯化合物或 甲基丙烯酸酯化合物並無特別之限制,可舉例環狀脂肪族 (甲基)丙烯酸酯、脂肪族(甲基)丙烯酸酯、芳香族( 甲基)丙烯酸酯、脂肪族二羧酸(甲基)丙烯酸酯、芳香 族二羧酸(甲基)丙烯酸酯等。 對於用於本發明之具有不飽和雙鍵之丙烯酸酯化合物或 甲基丙烯酸酯化合物之自由基聚合起始劑並無特別之限制 ,可舉例過氧化甲基乙基甲酮、過氧化甲基環己酮、過氧 化乙醯醋酸甲酯、過氧化乙醯丙酮、1,1-雙(過氧化第三 丁基)-3, 3,5 -三甲基環己烷、1,1-雙(過氧化第三己基 )環己烷、1,1-雙(過氧化第三己基)-3,3,5-三甲基環 己烷、1,卜雙(過氧化第三丁基)環己烷、2,2 -雙(4,4-過氧化二第三丁基環己基)丙烷、1,1_雙(過氧化第三丁 基)環十二烷、正丁基-4, 4 -雙(過氧化第三丁基)戊酯 -10- 1233620 五、發明說明(9) 、2,2 -雙(過氧化第三丁基)丁烷、1,1-雙(過氧化第三 丁基)-2 -甲基環己烷、氫過氧化第三丁烷、氫過氧化萜 烷、氫過氧化-1,1,3,3 -四甲基丁烷、氫過氧化第三己烷 、過氧化二異丙苯、2, 5 -二甲基- 2,5-雙(過氧化第三丁 基)己烷、雙(過氧化第三丁基)二異丙苯、過 氧化第三丁基二異丙苯、過氧化二第三丁基、2,5 -二甲基 -2,5 -雙(過氧化第三丁基)己-3-烯、過氧化異烯丁醯酸 、過氧化-3,5,5-三甲基己醯酸、過氧化辛醯酸、過氧化 十二醯酸、過氧化桂皮酸、過氧化間甲苯甲醯酸、過氧化 苯甲醯酸、二羧酸二過氧化丙酯、二羧酸過氧化雙(4 -第 三丁基環己基)酯、二羧酸二過氧化3 -甲氧丁酯、二羧酸 二過氧化2 -乙基己酯、二羧酸二過氧化第二丁酯、二羧酸 二過氧化(3 -甲基-3-甲氧丁基)酯、α,α 雙(過氧化 新癸醯基)二異丙苯、新癸酸過氧化二異丙苯酯、新癸酸 過氧化-1,1,3,3 -四甲基丁酯、新癸酸過氧化-1-環己基-1-甲基乙酯、新癸酸過氧化第三己酯、新癸酸過氧化第三 丁酯、特戊酸過氧化第三己酯、特戊酸過氧化第三丁酯、 2, 5 -二甲基-2, 5 -雙(過氧化2 -乙基己醇基)己烷、己酸 過氧化-1,1,3,3-四甲基丁基-2-乙酯、2-乙基己酸過氧化 -1-環己基-1-甲基乙酯、2 -乙基己酸過氧化第三己酯、過 氧化第三丁基-2-乙基己酯、異丁酸過氧化第三基酯、馬 來酸過氧化第三丁酯、十二烷基酸過氧化第三丁酯、 3,5, 5 -三甲基己酸過氧化第三丁酯、一羧酸過氧化第三丁 -11- 1233620 五、發明說明(1〇) 基異丙酯、一羧酸過氧化第三丁基-2-乙基己酯、2,5·二 甲基-2, 5-雙(過氧化苯醯基)己烷、乙酸過氧化第三丁 醋、苯甲酸過氧化第三己酯、間甲苯甲醯基苯甲酸過氧化 第三丁酯、苯甲酸過氧化第三丁酯、異酞酸雙(過氧化第 三丁基)酯、一羧酸過氧化第三丁基烯丙酯、3,3’,4,4,-四(過氧化第三丁基羧基)二苯甲酮等。該等自由基聚合 起始劑可單獨地使用,或者,亦可組合2種以上來使用。 本發明之導電膠係使用Ε型黏度測定裝置、於25°C、 〇· 5rpm迴轉數所測定之黏度爲 35〜135 Pa · s,而以 50〜110 Pa· s爲較佳;於25°C、2.5rpm迴轉數所測定之 黏度爲10〜30 Pa· s,而以15〜25 Pa· s爲較佳;於251 、0.5rpm迴轉數所測定之黏度除以於25°C、2.5rpm迴轉 數所測定之黏度所得之商數爲3.5〜4.5,而以3. 6〜4.2爲 較佳。不論於25°C、0.5rpm迴轉數所測定之黏度低於35 Pa · s或超過135 Pa · s,均恐怕會降低導電膠之塗布操 作性。於25°C、2.5 r pm迴轉數所測定之黏度低於10 Pa · s或超過30 Pa · s,均恐怕會降低導電膠之塗布操作性。 於0.5rpm迴轉數所測定之黏度除以於2.5rpm迴轉數所測 定之黏度所得之商數低於3 . 5或超過4.5,均恐怕會降低 導電膠之塗布操作性。 本發明之導電膠係其加熱而得之硬化物於25 °C之拉伸彈 性率爲0.1〜2.5 GPa,而以0.3〜2.0 Gpa爲較佳。對於用 於硬化之加熱條件並無特別之限制,例如,可於1 70°C下 -12- 1233620 五、發明說明(11) 、保持30分鐘來硬化。於25°C之拉伸彈性率爲0.1〜2. 5 GPa,則於承受高溫高濕下或冷熱循環等之負荷時,可維 持不會引起剝離之優異特性。拉伸彈性率低於0 . 1 GPa, 則恐怕會使接著強度降低、於承受高溫高濕下或冷熱循環 等之負荷時引起連接部位之剝離、降低熱傳導性或電傳導 性。拉伸強度超過2 . 5GPa,則由於在冷熱循環時所產生之 應力,連接部位恐怕會慢慢地剝離。 本發明之導電膠係於以純水、於120°C、213 kPa下, 萃取該硬化物5小時的時候所萃取之氯化物離子的量以平 均lg硬化物爲50// g以下爲佳,而以20// g以下爲較佳 。所萃取之氯化物離子量爲平均lg硬化物超過50/zg,則 恐怕會產生半導體元件表面之金屬腐蝕,而降低半導體之 可靠性。 用於本發明之熱固性樹脂係以於1 70°C之膠化時間爲60 秒以下爲佳,熱固性樹脂之於1 70°C的膠化時間爲60秒以 下,則導電膠成爲快速硬化性,可進行加熱板硬化等之線 上硬化,而可提昇生產性。 於本發明之導電膠中,於必要時,可配合矽烷偶合劑、 鈦酸鹽偶合劑、顏料、染料、消泡劑、界面活性劑、溶劑 等之添加劑。對於本發明之導電膠之製造方法並無特別之 限制,例如,可預先混合各成分,使用三輥等來捏合而得 之後,於真空下脫離氣泡。 使用本發明之導電膠來製作半導體裝置之方法,係可使 1 1233620 五、發明說明(12) 用公認之方法。例如’使用市售之晶片接合機,於引線框 架之既定部位分料塗布導電膠後,安裝晶片,並於加熱板 上加熱硬化。然後,連接排線,並藉由使用環氧樹脂來傳 遞成形,而製作半導體裝置。 【實例】 以下,雖然舉出實例來更詳細地說明本發明,但本發明 爲不受該等實例所限制者。 還有,於實例及比較例中,測定及評估係由下述之方法 來進行。 (1 )銀粉之粒徑分析 使用雷射繞射粒徑分布測定裝置來測定。 (2)黏度 使用E型黏度計(3°濾錐)、於25°C、於0·5 rpm迴轉 數與2 . 5 rpm迴轉數測定。以於0.5 rpm迴轉述所測定之 黏度除以於2.5 rpm迴轉述所測定之黏度之商數作爲搖變 指數。 (3 )膠化時間 以J IS K 6901 4.8爲基準、測定於170°C之膠化時間。 (4 )接著強度 使用導電膠並安裝2 X 2mm之矽晶片於銅框上’於170 t之烤箱中硬化30分鐘。硬化後’使用安裝強度測定裝 置,於25°C及250°C,測定晶片抗切強度。 (5 )拉伸彈性率 -14- 1233620 五、發明說明(13) 於鐵氟龍板上塗布導電膠成爲lOmni寬、150ιώιώ長、 100_厚,於170°C之烤箱中硬化30分鐘之後,於25°C、 使用拉伸試驗機,由以lOOnrn試驗長、1mm/分拉伸速度所 測定而得之應力-應.變曲線之初期斜率,算出拉伸彈性率 〇 (6 )氯化物離子萃取量 於鐵氟龍板上塗布導電膠,於170°C之烤箱中硬化30分 鐘之後,使用振動硏磨機來微粉碎硬化樹脂。精秤約2g 微粉碎後之硬化樹脂試樣,加入20mL純水並以120°C、 213 kPa之條件過濾經5小時萃取之液體,以離子層析儀 測定氯化物離子,換算成爲平均1 g硬化物之含量。 (7)熱傳導率 使導電膠硬化,製作lnm左右厚度之試樣。以理學電機 (株)製LF/TCM FA8510B,以雷射照射法求得熱擴散率, 由比熱、密度値算出熱傳導率。 (8 )體積電阻率 製作約40 // m後、4mm寬之導電膠硬化物,於40mm間隔 以測試器測定電阻値後,由試樣之截面積算出體積電阻率 〇 (9 )耐濕可靠性 於16 pin DIP (雙線上封裝)之引導框架上,使用導電 膠來安裝於矽晶片表面施加鋁配線之模擬元件,於 170 °C之烤箱中硬化3 0分鐘。再者,使用金線接合或環氧樹 脂成形複合物[住友貝克來特(股)製,EME- 6600CS],以 -15- 1233620 五、發明說明(14) 175t、2分鐘之條件進行傳遞成形,以125°C、25 3 kPa 之條件,針對已於175°C硬化4小時後之封裝進行加壓烘 烤處理500小時後,檢查烘烤的不良率。 (1 0 )電阻變化率 於16 pin DIP (雙線上封裝)之鉛箔板上,使用導電膠 來安裝已於矽晶片表面施加鋁配線之模擬元件,於接合墊 間以導電膠來形成電路,並於170°C之烤箱中硬化30分鐘 。再者,與耐濕可靠性試驗相同地成形、後硬化並測定膠 之電阻初期値,求得重複-65°C / 30分鐘與150°C / 30分鐘 之冷熱循環300次後之電阻變化率。 (1 1 )分料性 於壓式自動分料機中使用0.1mm內徑之噴嘴來實施 1,〇〇〇打點塗布,即檢查能無堵塞地打點數。 於表1顯示使用於實例及比較例之銀粉的粒徑分布及尖 峰位置。 -16- 1233620 五、發明說明(1 5 ) 表1 粒徑範圍 銀粉(重量% ) a 1 a2 a3 A4 a5 低於0 • 5 μ m 10.5 11.7 9.0 10.7 12.7 0.5-1 .0 // m 25.8 26.4 26.6 27.2 30.2 1 .0-2 .0 // m 22.3 22.1 20.8 23.2 22.6 2.0〜4 .0 μ m 10.7 9.5 11.8 12.6 10.2 4.0 〜7 .0 μ m 12.1 11.7 12.6 12.1 9.2 7.0-10// m 10.8 11.8 10.3 11.3 9.1 10-15// m 4.2 5.1 5.7 2.9 2.6 15〜20 # m 2.8 1.5 3.1 0 2.2 20 β m 以上 0.8 0.2 0.1 0 1 .2 尖峰位置 陡峭 0.7 1 .1 0.6 1.3 1.4 (β m) 寬廣 5.2 8.6 5.3 無 Μ ^\\\ 【實例1】 混合18.2重量份雙酚F型環氧樹脂[5, 0 00 mPa · s黏度 、170環氧基當量]、9.8重量份第三丁苯基縮水甘油醚 [ 400 mPa · s黏度]、1 ·0重量份雙酚F、0.3重量份氰胍 及0.7重量份2-苯基-4-甲基-5-羥甲基咪唑,添加130重 量份銀粉a 1,使用三輥捏合40分鐘之後,於真空室中以 267 Pa脫氣泡30分鐘,而得到導電膠。 所得之導電膠之於0.5 rpm迴轉數所測定之黏度爲 54 P a · s,而於2 . 5 r p m迴轉數所測定之黏度爲1 5 P a · s, -17- 1233620 五、發明說明(16) 搖變指數爲3.6。於17CTC下之膠化時間爲50秒。晶片之 接著強度於25°C下爲39N以上、於250°C下爲14.7N。拉 伸彈性率爲1.7GPa,氯化物離子萃取量爲平均lg硬化物 爲8//g。熱傳導率爲3.6W/m.°C。體積電阻率爲1.1X 10 _4 Ω · cm。於耐濕可靠性試驗中,無不良產生。電阻變 化率爲2 · 1 % 。於分料性試驗中,無噴嘴堵塞之發生。 【實例2〜8】 以示於表2之配合,與實例1同樣地進行,調製7種導 電膠並進行評估。 【比較例1】 除了使用銀粉a5來取代銀粉a 1之外,與實例1相同地 進行,調製導電膠並進行評估。 於所得之導電膠之0.5 r pm迴轉數所測定之黏度爲118 Pa· s,而於2.5 rpm迴轉述所測定之黏度爲32 Pa· s, 搖變指數爲3.7。於170°C下之膠化時間爲55秒。晶片之 接著強度於25°C下爲39N以上、於250°C下爲15.7N。拉 伸彈性率爲2.1GPa,氯化物離子萃取量爲平均lg硬化物 爲12#g。熱傳導率爲3.2W/m*°C。體積電阻率爲2.4X 1 0'4 Ω · cm。於耐濕可靠性試驗中,無不良產生。電阻變 化率爲1 · 3% 。於分料性試驗中,於1,〇〇〇打點中有7〇〇 打點無發生噴嘴堵塞之塗布。 【比較例2〜7】 以示於表4之配合,與實例1同樣地進行,調製6種導 -1 8- 1233620 五、發明說明(17) 電膠並進行評估。 實例1〜8之配合組成示於表2、評估結果示於表3、比 較例1〜7之配合組成示於表4、而評估結果示於表5。 表2 實例1 實例2 實例3 實例4 實例5 實例6 實例7 實例8 BPF型環氧樹脂 18.2 18.2 18.2 18.2 1.8 BPA型環氧樹脂 t-BuPhGE 9.8 5.0 8.8 9.8 1.0 配 雙酚F 1.0 4.8 1.0 1.0 0.1 合 氰胍 0.3 0.4 0.3 0.3 0.03 組 2P4MHZ 0.7 0.8 0.7 0.7 0.07 成 BAC-45 8.4 7.4 8.4 6.9 E-1800 1.0 8.4 7.4 8.4 6.9 重 丙烯酸十二烷酯 12.6 14.6 12.6 12.6 里 帕黑刻砂3M 0.6 0.6 0.6 0.6 份 銀粉al 130 140 140 130 \^♦ 銀粉a2 130 140 銀粉a3 130 150 銀粉a4 銀粉a5 -19- 1233620 五、發明說明(18)表3 實例1 實例2 實例3 實例4 實例5 實例6 實例7 實例8 黏度 0· 5rpm ( Pa · s) 54 76 78 90 68 96 107 95 黏度 2 · 5rpm ( Pa · s ) 15 20 21 23 18 24 26 25 搖變指數 3.6 3.8 3.7 3.9 3.8 4.0 4.1 3.8 膠化時間(秒) 50 55 55 50 15 13 20 10 接著強度 >39 >39 >39 >39 >39 >39 >39 >39 (N/晶片) 250〇C 14.7 13.5 20.3 16.7 13.7 13.3 16.2 16.6 拉伸彈性率(GPa) 1.7 1.9 1.2 1.5 0.8 0.6 1.0 0.3 氯化物離子萃取量 8 12 5 7 10 7 8 11 (β g) 熱傳導率 3.6 3.4 3.2 4.0 4.1 3.7 4.2 2.8. (W/ ( m · °C )) 體積電阻率(Ω · cm) 1.1 8.2 1.6 8.6 1.0 2.2 8.0 2.6 X 10*4 X10.5 X 10·4 X 10*5 ΧΙΟ.4 X 10·4 X 10.5 X 10·4 耐濕可靠性不良率 0 0 0 0 0 0 0 0 (% ) 電阻變化率(% ) 2.1 1.8 1.0 0.5 0.8 1.2 1.7 0.4 分料性 1000 1000 1000 1000 1000 1000 1000 1000 -20- 1233620 五、發明說明(19)表4 比較例1 比較例2 比較例3 比較例4 比較例5 比較例6 比較例7 BPF型環氧樹脂 18.2 18.2 18.2 BPA型環氧樹脂 18.2 t-BuPhGE 9.8 9.8 9.8 9.8 配 雙酚F 1.0 1.0 1.0 1.0 合 二氰二胺 0.3 0.3 0.3 0.3 組 2P4MHZ 0.7 0.7 0.7 0.7 成 BAC-45 8.4 7.4 8.4 E-1800 8.4 7.4 8.4 重 丙烯酸十二烷酯 12.6 14.6 12.6 量 帕黑刻砂3M 0.6 0.6 0.6 份 銀粉al 150 70 銀粉a2 銀粉a3 銀粉a4 130 140 銀粉a5 130 140 130 -21 - 1233620 五、發明說明(20) 表5 比較例1 比較例2 比較例3 比較例4 比較例5 比較例6 比較例7 黏度 0.5rpm (Pa · s ) 118 84 133 81 34 179 122 黏度 2.5rpm (Pa · s) 32 21 38 22 8 56 32 搖變指數 3.7 4.0 3.5 3.7 4.2 3.2 3.8 膠化時間(秒) 55 50 50 51 18 20 15 接著強度 25〇C >39 >39 >39 >39 >39 >39 >39 (N/晶片) 250〇C 15.7 11.8 10.8 11.8 7.8 5.9 11.8 拉伸彈性率(GPa) 2.1 2.2 2.6 1.9 0.3 3.2 0.9 氯化物離子萃取量 12 120 8 10 10 12 8 (#g) 熱傳導率 3.2 2.8 4.0 4.2 0.2 3.4 2.7 (W/ (m*°C)) 體積電阻率(Ω · cm) 2.4 2.6 9.2 1.3 2.1 1.4 2.3 X10·4 Χ10.4 Χ10*5 Χ10·4 Χ10.2 Χ10·4 Χ10·4 耐濕可靠性不良率 0 100 0 0 0 0 0 (% ) 電阻變化率(%) 1.3 2.8 5.0 1.0 3.2 250 1.7 分料性 700 800 620 490 液滴落 28 810 [注] BPF型環氧樹脂: :雙酚F型環氧樹脂, 5,000 mPa · s黏度、 170環氧當量。 ΒΡΑ型環氧樹脂: :雙酚Α型環氧樹脂, '6,800 mPa · s黏度、 1 90環氧當量。 -22- 1233620 五、發明說明(21 ) t-BuPhGE :第三丁苯基縮水甘油醚,400 mPa · s黏度、反應 性稀釋劑。 雙酚F :酚硬化劑。 氰胍:潛在性硬化劑。 2P4MHZ : 2 -苯基· 4 -甲基-5 -羥甲基咪唑、咪唑化合物。 BAC-45:丙烯酸酯末端液狀聚丁二烯、日石三菱(株)製。 丙烯酸十二烷酯:丙烯酸十二烷基酯。 帕黑刻砂3M : 1,1-雙(過氧化第三丁基)-3,3,5-三甲基環 己烷。 於實例1〜8中,可得具備媲美於焊錫之熱傳導性與電傳 導性、於高溫高濕下或冷熱循環後特性變化少之塗布性優 異的導電膠,但是於比較例1中,2.5 rpm之黏度變高, 分料性降低。於比較例2中,僅有一個銀粉a4之粒徑分 布之尖峰,且氯離子濃度亦變高,耐濕可靠性降低。於比 較例3中,不僅彈性率變高、電阻變化率變大,由於黏度 變高而產生噴嘴堵塞而使分料性降低。於比較例4中,僅 有一個銀粉a4之粒徑分布之尖峰,分料性降低。於比較 例5中,膠中之銀粉含有量少而黏度降低,於分料時膠會 從噴嘴滴落下來。於比較例6中,膠硬化物之彈性率變高 而電阻値大幅地提高,再者,黏度亦變高,分料性亦大幅 地降低。於比較例7中,由於使用僅有一個粒徑分布尖峰 之銀粉a5,發生噴嘴堵塞,分料性降低。 【發明效果】 -23- 1233620 五、發明說明(22) 本發明之導電膠,係具備媲美於焊錫之熱傳導性與電傳 導性、於高溫高濕下或冷熱循環後特性變化少、塗布性優 異、再者於塗布時可適用於從小口徑之噴嘴至大口徑之噴 嘴。又,使用本發明之導電膠所製作之半導體裝置係具有 高可靠性,而且可廉價地製造。 -24-

Claims (1)

1233620
曰 本 六、申請專利範圍 第9 1 1 1 4049號「導電膠及用該膠而成之半導體裝置」專利案 (93年10月6日修正) 六申請專利範圍: 1 · 一種導電膠,其係由(A )銀粉及(B )熱固性樹脂所構 成之導電膠,其特徵爲於該膠中所佔之銀粉比例爲80 重量%以上,以雷射繞射粒徑分布測定裝置所測定之銀 粉粒徑分布,具有於0.5〜2/zm間之一個尖峰、於2〜10 A m間之另一個尖峰,使用E型黏度測定裝置,於25 t 、0 . 5 rpm迴轉數所測定之黏度爲35〜1 35 Pa · s,於25. °C、2.5 rpni迴轉數所測定之黏度爲1〇〜30 Pa · s,於0.5 rpm所測定之黏度除以於2.5 rpm所測定之黏度之商數 爲3 · 5〜4 . 5,加熱而得之硬化物於25°C之拉伸彈性率爲 0 · 1〜2 · 5 GPa。 2 .如申請專利範圍第1項之導電膠,其中該粒徑分布爲 低於0 · 5 // m : 8〜12重量% 0.5〜1.0//m: 24 〜28 重量 % 1.0 〜2.0//m: 20 〜24 重量 % 2.0〜4.0//ιη: 9 〜13 重量 〇/〇 4.0〜7.0//m: 10 〜14 重量 % 7.0〜10//m: 9 〜13 重量 % 10〜15"m: 2〜6重量% 15〜20// m: 1〜4重量%2〇//〇1以上:0〜2重量% 。 1233620 六、申請專利範圍 3 ·如申請專利範圍第1項之導電膠,其中熱固性樹脂爲1 種以上選自於25t下爲液狀之環氧樹脂及具有不飽和雙 鍵之丙烯酸酯化合物及/或甲基丙烯酸酯化合物之樹脂 〇 4.如申請專利範圍第1項之導電膠,其中以純水、於12〇 °C、213 kPa下,萃取硬化物5小時,該時所萃取之氯 化物離子之量爲平均lg硬化物爲50//g以下。 5 ·如申請專利範圍第1項之導電膠,其中熱固性樹脂於 1 70°C下之膠化時間爲60秒以下。 6 · —種半導體裝置,其具備引線框架、藉由如申請專利範 圍第1至5項中任一項之導電膠在上述引線框架既定部 位固著之半導體晶片、上述半導體晶片與引線框架接續 之接合電線、與傳遞成形之樹脂。
TW091114049A 2001-06-28 2002-06-26 Electrically conductive paste and semiconductor device produced by using it TWI233620B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001197147A JP3854103B2 (ja) 2001-06-28 2001-06-28 導電性ペースト及び該ペーストを用いてなる半導体装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TWI233620B true TWI233620B (en) 2005-06-01

Family

ID=19034803

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW091114049A TWI233620B (en) 2001-06-28 2002-06-26 Electrically conductive paste and semiconductor device produced by using it

Country Status (6)

Country Link
US (1) US6733695B2 (zh)
JP (1) JP3854103B2 (zh)
CN (1) CN1201337C (zh)
DE (1) DE10228484B4 (zh)
SG (1) SG104973A1 (zh)
TW (1) TWI233620B (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI659431B (zh) * 2012-08-31 2019-05-11 德商賀利氏貴金屬公司 包含銀奈米粒子及球狀銀微米粒子之用於電極製備的導電膠
TWI700983B (zh) * 2007-08-03 2020-08-01 日商大自達電線股份有限公司 印刷配線板用屏蔽薄膜及印刷配線板

Families Citing this family (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004139838A (ja) * 2002-10-17 2004-05-13 Noritake Co Ltd 導体ペーストおよびその利用
TWI325739B (en) * 2003-01-23 2010-06-01 Panasonic Corp Electroconductive paste, its manufacturing method, circuit board using the same electroconductive paste, and its manufacturing method
JP2005002335A (ja) * 2003-05-21 2005-01-06 Japan Gore Tex Inc 接着フィルムおよびこれを使った半導体装置
JP4635423B2 (ja) * 2003-09-11 2011-02-23 住友ベークライト株式会社 半導体用樹脂ペースト及び半導体装置
JP2005240092A (ja) * 2004-02-26 2005-09-08 Dowa Mining Co Ltd 銀粉およびその製造方法
JP2005272627A (ja) * 2004-03-24 2005-10-06 Sumitomo Bakelite Co Ltd 樹脂組成物及び樹脂組成物を使用して作製した半導体装置
JP2005272709A (ja) * 2004-03-25 2005-10-06 Sumitomo Bakelite Co Ltd 樹脂組成物及び樹脂組成物を使用して作製した半導体装置
US20060086773A1 (en) * 2004-10-27 2006-04-27 Sanftleben Henry M Technique for optical inspection system verification
DE202005021556U1 (de) 2005-07-20 2008-08-28 Biolog Biotechnologie Und Logistik Gmbh Lösbarer elektrisch leitender Werkstoff auf der Basis funktionaler Saccharide und metallischer Partikel
WO2007042071A1 (de) * 2005-10-10 2007-04-19 Alphasem Ag Baugruppe mit wenigstens zwei in elektrisch leitender wirkverbindung stehenden komponenten und verfahren zum herstellen der baugruppe
JP5098175B2 (ja) * 2006-01-06 2012-12-12 住友ベークライト株式会社 樹脂組成物及び樹脂組成物を使用して作製した半導体装置
DE602006001393D1 (de) * 2006-03-06 2008-07-17 Umicore Ag & Co Kg Zusammensetzung zur Befestigung von Hochleistungshalbleiter
JP5027598B2 (ja) * 2007-09-10 2012-09-19 京セラケミカル株式会社 接着剤組成物およびそれを用いた半導体装置
JP5342453B2 (ja) * 2007-11-28 2013-11-13 パナソニック株式会社 導電性ペーストおよびこれを用いた電気電子機器
JP5257574B2 (ja) * 2007-12-10 2013-08-07 福田金属箔粉工業株式会社 無溶剤型導電性接着剤
JP2011524068A (ja) * 2008-05-28 2011-08-25 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー 光電池の導体に使用されるサブミクロン粒子を含む組成物
KR20110014676A (ko) * 2008-05-28 2011-02-11 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니 광전지용 전도체: 서브미크론 입자를 함유하는 조성물
KR20100109416A (ko) * 2009-03-31 2010-10-08 디아이씨 가부시끼가이샤 도전성 페이스트 조성물 및 그 제조 방법
CN102576766A (zh) * 2009-10-15 2012-07-11 日立化成工业株式会社 导电性粘接剂、太阳能电池及其制造方法、以及太阳能电池模块
JP5321445B2 (ja) * 2009-12-28 2013-10-23 住友ベークライト株式会社 半導体装置の製造方法
JP5580701B2 (ja) * 2010-09-13 2014-08-27 日東電工株式会社 ダイシング・ダイボンドフィルム
EP2431438B1 (en) * 2010-09-20 2012-11-28 Henkel AG & Co. KGaA Electrically conductive adhesives
TW201227761A (en) 2010-12-28 2012-07-01 Du Pont Improved thick film resistive heater compositions comprising ag & ruo2, and methods of making same
JP6144048B2 (ja) * 2011-01-27 2017-06-07 日立化成株式会社 導電性接着剤組成物及びその塗布方法、接続体、並びに太陽電池モジュール及びその製造方法
WO2012126391A1 (en) * 2011-03-22 2012-09-27 Nano And Advanced Materials Institute Limited HIGH PERFORMANCE DIE ATTACH ADHESIVES (DAAs) NANOMATERIALS FOR HIGH BRIGHTNESS LED
TWI608062B (zh) * 2011-05-31 2017-12-11 住友電木股份有限公司 樹脂組成物、使用它之半導體裝置及半導體裝置之製造方法
MY157634A (en) * 2011-06-21 2016-07-15 Sumitomo Metal Mining Co Silver Dust and Manufacturing Method Thereof
JP5814029B2 (ja) * 2011-07-26 2015-11-17 日東電工株式会社 半導体装置製造用の接着シート、及び、半導体装置製造用の接着シートを有する半導体装置
US9171804B2 (en) 2012-11-19 2015-10-27 Infineon Technologies Ag Method for fabricating an electronic component
EP2763141B1 (en) * 2013-02-01 2016-02-03 Heraeus Precious Metals North America Conshohocken LLC Low fire silver paste
JP6106148B2 (ja) * 2013-11-27 2017-03-29 日東電工株式会社 導電性粘着テープ、電子部材及び粘着剤
EP3104400B1 (en) * 2014-02-04 2022-08-31 Murata Manufacturing Co., Ltd. Manufacturing method of electronic component module
JP2017221863A (ja) * 2014-10-30 2017-12-21 シンクランド株式会社 目詰まり推測方法及びフィルタ監視システム
US11107601B2 (en) 2016-12-14 2021-08-31 Japan Science And Technology Agency Elastic conductor, paste for forming elastic conductor, and method for producing elastic conductor
DE112018002911T5 (de) * 2017-06-07 2020-02-20 Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. Thermisch leitende und elektrisch leitende Adhäsivzusammensetzung
CN109119381A (zh) * 2018-08-06 2019-01-01 上海长园维安微电子有限公司 一种提高n衬底单向负阻型tvs芯片封装良率的胶水
JP7420138B2 (ja) * 2020-02-13 2024-01-23 東レ株式会社 ペースト、基板、ディスプレイ、および基板の製造方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3778592B2 (ja) * 1995-04-19 2006-05-24 東洋紡績株式会社 金属めっき下地用導電性ペースト
JPH09176448A (ja) * 1995-12-25 1997-07-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd 導電ペースト
JPH09282941A (ja) * 1996-04-16 1997-10-31 Ube Ind Ltd 導電性ペースト並びにそれを用いた積層セラミック電子部品およびその製造方法
US5908881A (en) * 1996-11-29 1999-06-01 Sumitomo Bakelite Company Limited Heat-conductive paste
JPH11150135A (ja) * 1997-11-17 1999-06-02 Nec Corp 熱伝導性が良好な導電性ペースト及び電子部品
JP3416044B2 (ja) * 1997-12-25 2003-06-16 第一工業製薬株式会社 低温焼成基板用導電ペースト
JP3747995B2 (ja) * 1998-08-11 2006-02-22 住友ベークライト株式会社 導電性樹脂ペースト及びこれを用いた半導体装置
KR100369565B1 (ko) * 1999-12-17 2003-01-29 대주정밀화학 주식회사 전기발열체용 저항 페이스트 조성물

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI700983B (zh) * 2007-08-03 2020-08-01 日商大自達電線股份有限公司 印刷配線板用屏蔽薄膜及印刷配線板
TWI659431B (zh) * 2012-08-31 2019-05-11 德商賀利氏貴金屬公司 包含銀奈米粒子及球狀銀微米粒子之用於電極製備的導電膠
US10403769B2 (en) 2012-08-31 2019-09-03 Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG Electro-conductive paste comprising Ag nano-particles and spherical Ag micro-particles in the preparation of electrodes

Also Published As

Publication number Publication date
US20030122257A1 (en) 2003-07-03
DE10228484B4 (de) 2009-10-15
JP3854103B2 (ja) 2006-12-06
CN1201337C (zh) 2005-05-11
US6733695B2 (en) 2004-05-11
DE10228484A1 (de) 2003-01-16
JP2003016838A (ja) 2003-01-17
CN1395259A (zh) 2003-02-05
SG104973A1 (en) 2004-07-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI233620B (en) Electrically conductive paste and semiconductor device produced by using it
TWI532818B (zh) 連接材料與半導體裝置
US7851930B1 (en) Conductive adhesive compositions containing an alloy filler material for better dispense and thermal properties
US8835574B2 (en) Adhesive compositions for use in die attach applications
TWI439524B (zh) 接著劑組成物、使用該組成物的電子零件搭載基板以及半導體裝置
JP6260722B2 (ja) ペースト状接着剤組成物、半導体装置、半導体装置の製造方法、および放熱板の接着方法
JP4780041B2 (ja) 半導体用樹脂ペースト及び半導体装置
CN107207835A (zh) 导电性树脂组合物以及半导体装置
EP1274808B1 (en) Die-attaching paste and semiconductor device
JP5050929B2 (ja) 熱伝導性樹脂組成物、接着剤層、及びそれらを用いて作製した半導体装置
JP5200340B2 (ja) 液状樹脂組成物及び液状樹脂組成物を使用して作製した半導体装置
JP4635423B2 (ja) 半導体用樹脂ペースト及び半導体装置
JP2010517316A (ja) 充填された、スピンコート可能な材料で被覆された半導体ウエハー
US8722768B2 (en) Liquid resin composition and semiconductor device
JP2004168922A (ja) ダイアタッチペースト及び半導体装置
JP4894395B2 (ja) 液状樹脂組成物及び液状樹脂組成物を使用して作製した半導体装置
JP6772801B2 (ja) ペースト状接着剤組成物および電子装置
JP4595301B2 (ja) 半導体用樹脂ペースト及び半導体装置
JP2004172443A (ja) ダイアタッチペースト及び半導体装置
JP2004168907A (ja) ダイアタッチペースト及び半導体装置
JP2004168908A (ja) ダイアタッチペースト及び半導体装置
JP7351437B2 (ja) ダイアタッチ材用導電性樹脂組成物、高熱伝導性材料および半導体装置
JP6973589B2 (ja) ペースト状接着剤組成物および電子装置
JP2004168906A (ja) ダイアタッチペースト及び半導体装置
JP7201139B1 (ja) 銀含有ペースト

Legal Events

Date Code Title Description
MK4A Expiration of patent term of an invention patent