TWI227034B - Substrate processing apparatus and method - Google Patents

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1227034 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（ [發明之目的] [發明所屬之技術領域及其領域之習知技術] 本發明’係關於例如對於LCD玻璃基板等之基板施予 抗敍劑塗佈，露光及顯像處理等多數處理的，處理装置及 處理方法。 [習知技術] 在製造液晶顯示裝置LCD時，對於基板即LCD玻璃基 板，成膜給定膜之後，塗佈光致抗蝕劑以形成抗蝕劑膜， 並與電路圖案對應地將抗蝕劑膜露光，將之予以顯像處理 等’易言之，藉所謂之光刻技術來形成電路圖案。 依照此光刻技術，被處理體即LCD基板，乃經過附著 (疏水化）處理—抗蝕劑塗佈—預烘烤—露光—顯像—後烘 烤等之一連系處理，以在抗蝕劑層形成給定之電路圖案。 以往，這種處理，係將用來進行各處理之處理單元， 在意識處理流程之形態下配置在運送路之兩側，將藉由可 行走於運送路之運送裝置來進行基板之搬入•搬出於各單 兀之處理方框，配置多數個而成一處理系統，藉由此處理 系統來進行處理。這種處理系統，係沿著用來運送基板之 運送路，而_行地並設有用來進行洗淨處理，抗蝕劑塗佈 處理，顯像處理的液處理系統單元，以及進行加熱•冷卻 處理或附著處理之熱處理系統單元。 然而，近來，對於LCD基板強烈地要求大型化，以致 出現了一邊大到lm之巨大者。由於具有如上一般之平面 配置之處理系統會導致覆蓋區（f00tprint)變成極大者， 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ---^-----^------- (請先閱讀背面之注意事項再本頁) II衣 太 線 4 1227034 A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 - ------------- ----— 瓜 __五、發明說明（2 ) 以從有效地利用每單位面積之製造。維持管理成本極高之 淨化室的觀點觀之，強烈地要求覆蓋區之縮小。 又，如最近所顯示，電路之高積體化。微細化之要求 高漲起來，工程變成複雜化，以致單元增加，為此處理系 統之覆蓋區也正在變大，但若依照各單元單純沿運送路並 設之習知構成的話，欲將覆蓋區縮小時，單元數之增加卻 受限，一方面，當增加單元數以期提高生產率時，覆蓋區 即變大。就是說，單元數之增加與覆蓋區之削減雖說相反 者仁可同時滿足相反之兩個條件，才可充份對應於高度 化複雜化之基板處理的要求，且，強烈地盼離那種裝置 之出現。 [發明應達成之技術性課題] 本發明係鑑於這種事情而做者，#目的係在於，提供 -種可使覆蓋區變小而且備有多數個處理單元之基板處理 裝置、及其基板處理方法。 又，其他目的係在於提供一種，一面將覆蓋區抑低， 一面同時使單元數增加的基板處理裝置。 按照本發明之第一觀點，提供一基板處理裝置，其係 用來對基板施予給定處理者，包含有： 第處理單元群，其係備有用來施行由多數工程所成 之連串第一處理的多數個處理單元； 第一處理單几群，其係備有用來施行由多數工程所成 之連串第二處理的多數個處理單元；及 同之運送手段，其係用以進行對於前述第一及第二 ---.-----訂------- (請先閱讀背面之注意事項再^!^本頁) -衣 線

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、發明說明 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 處理單元群之各處理單元的基板之運送。用來1;:,發明之第二觀點，提供一基板處理裝置，其令 子基板施予給定處理者，包含有： ^處理單元群，其係備有絲施行衫數工程所4 、串第一處理的多數個處理單元； 处里單元群，其係備有用來施行由多數工程所4 之連串第二處理的多數個處理單元； /、同之運送手段，其係用以進行對於前述第一及第二 處理單元群之各處理單元的基板之運送；及 、、擇手4又其係用以選擇該用第一處理單元群及第二 <理單元群中之那_個’來處理前述基板。按照本發明之第三觀點，提供一基板處理裝置，其％ 用來對基板施予給定處理者，包含有： 第處理單疋群，其係備有用來施行由多數工程所治 之連串第一處理的多數個處理單元； 第二處理單元群，其係備有用來施行由多數工程所治 之一連串第二處理的多數個處理單元；共同之運送手段，其係用以進行對於前述第一及第二處理單元群之各處理單元的基板之運送；及 前述第一及第二處理單元群，分別備有：水平處理方框，其係水平地配置有多數個處理單元； 及 垂直處理方框，其係將多數個處理單元配置成向垂崖 方向推起來； 本紙張尺錢财0目家標準（CNS)A4規格⑵0 X 297公董） (請先閱讀背面之注意事項再 --- 〔再本頁一 訂---------線

6 1227034 A7 五、發明說明（4 ) 前述運送手段，備有： 水平方向運送裝置，其係向水平方向可移動地設置著 ，以便對於前述水平處理方框進行基板之交接；及 垂直方向運送裝置，其係向垂直方向可移動地設置著 ，以便對於前述垂直處理方框進行基板之交接。 按照本發明之第四觀點，提供一基板處理方法，其係 藉基板處理襞置對於基板施行給定處理之方法者，就是， 對於各基板，選擇用第一處理單元群及第二處理單元群中 之那一個來處理，各基板即用其所選擇的一方之處理單元 群來處理； 該基板處理裝置，包含有： 第一處理單元群，其係備有用來施行由多數工程所成 之一連串第一處理的多數個處理單元； 第二處理單元群，其係備有用來施行由多數工程所成 之一連串第二處理的多數個處理單元； 共同之運送手段，其係用以進行對於前述第一及第二 處理單元群的基板之運送。 按照上述本發明之第一乃至第四觀點，由於設置_對 於第一及第二處理單元群（其分別用以進行獨立的一連串 處理）進行基板運送的共同運送手段，所以較之每一*** 設置運送手段之習知構成，更可使運送手段減少，同時' 可使裝置之覆蓋區變小。 此時，若設置一用來選擇應該用第一處理單元群及第 二處理單元中之那一個來處理基板的選擇手段，對於各基 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（2〗0 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再 —.-----訂-------- 頁) .線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 7 1227034

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板，選擇應該第一處理群及第二處理群之那一個來声王 然後對於各基板用其所選擇的一方之處理單元群來， 理，則可分別獨立地對於基板用第一處理單元群及=二處 理單元群施行給定之處理。 一處 按照本發明之第五觀點，提供一基板處理裝置， 將塗佈液塗佈於基板以形成薄膜，同時將與電路圖案對= 地露光之前述薄膜予以顯像之處理装置者，包含有Y -.多數個旋轉系統單元，其係使基板旋轉以用來處理者 多數個熱處理系統單元，其係在不使基板旋轉下予以 加熱•冷卻處理； 運送袭置其係用以運送基板，將之搬出•搬入於前 述各單元；及 運送路，其係形成前述裝置之移動徑路；其中： 前述旋轉系統單元，係沿著前述運送路而並設著；前 述f處理系統單元係堆起成多段以構成熱系處理單元方框 刖m理單元方框，係多數配置在前述運送路上或 其延長線上之給定部分的周圍。 、按照本發明之第六觀點，提供_基板處理裝置，其係 將塗佈液塗佈於基板以形成薄膜，同時，將與電路圖案對 應地露光之前述薄膜予以顯像之處理裝置者，包含有： 夕數個液處理系統單元，其係將給定液供給基板上以 進行處理； 夕數個熱處理系統單元，其係對於基板進行熱處理；

本紙張尺度賴t目目豕標準(CNS)A4規格⑵g X 297公爱） ί請先閱讀背面之注意事項 ΒΙ衣.丨丨 再^^本頁) L-----^---------^

8 1227034 A7 ^—--—-2Z____ — 五、發明說明（6) 運送I置，其係用以運送基板，將之搬出•搬入於前 述各單元；及 運送路，其係形成前述裝置之移動徑路；其中： 前述液處理系統單元係沿著前述運送路而並設著；前 述熱處理系統單元係堆起成多段以構成熱系處理單元方框 :前述熱系處理單元方框，係多數配置在前述運送路上或 j 其延長線上之給定部分的周圍。 按照本發明之第七觀點，提供一基板處理裝置，其係 對於基板施予包括多數之液處理及附隨於該液處理之熱處 理在内之一連串處理的處理裝置者，包含有： 多數個液處理系統單元，其係對於基板進行液處理； 多數個液處理系統單元，其係對於基板進行附隨於前 述多數液處理之熱處理； 運送裝置，其係用以運送基板，將之搬出•搬入於前 述各單元；及 運送路，其係形成前述裝置之移動彳i路；其中： 前述液處理系統單元係沿著前述運送路而並設著；前 述熱處理系統單元係堆起成多段以構成熱處理單元方框； 前述熱系處理單元方框，係多數配置在前述運送路上或其 延長線上之給定部分的周圍。 、 如第五觀點乃至第七觀點所顯示，由於沿著運送路設 置旋轉系單元乃至液處理系單元，將熱處理系單元堆起成 多段以構成熱系處理單元方框，使這種熱系單元方框多數 配置在運送路上或其延長線上之給定部分的周圍，所以可 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規------ (請先閱讀背面之注意事項再本頁) I#衣 再 訂---------線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 9 1227034 A7 B7 五、發明說明（7 一面抑低覆蓋區，一面，使單元數增加。 按照本發明之第八觀點，提供一基板處理裝置，其係 對於被處理基板施行由包含液處理及熱處理在内之多數工 程所成的處理之處理裝置者，包含有： 第一處理部，其係配置有沿著一向水平延伸之水平運 送路而對被處理基板施行液處理之多數個液處理系處理單 元’並藉由移動於前述水平運送路之第一運送裝置，對於 沿著前述水平運送路而設的各處理單元進行被處理基板之 運送；及 第二處理部，其係配置有沿著一向垂直延伸之垂直運 送路而向上下方向對被處理基板施行熱處理之多數個熱處 理單元’並藉由移動於前述垂直運送路之第二運送裝置， 對於沿著前述垂直運送路而設的各處理單元進行被處理基 板之運送。 像這樣，由於備有：沿著水平運送路設有多數處理單 元，並藉由一移動於水平運送路之第一運送裝置，對於沿 著水平運送路而設的各處理單元進行被處理基板之運送的 第一處理部；及沿著水平運送路來設置多數個處理單元， 並藉由移動於垂直運送路之第二運送裝置，對沿著垂直運 送路而設的各處理單元進行處理基板之運送； 所以可將不妨礙重疊成上下之處理單元配置於第二處 理部’藉此使覆蓋區變小，而且，一如將第一運送裝置沿 著水平運送路向水平移動，將第二運送裝置沿著垂直運送 送路向垂直移動那樣，可達成運送裝置之機能分離，因而 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（2】0 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再本頁) -L-----訂---------線 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 10 [227034 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（11 ) 蝕劑塗佈處理單元（CT)24b，在那裡實施抗蝕劑液塗佈， 其後藉由抗蝕劑處理方框27b内之子臂（未圖示），將其運 送至減壓乾燥單元（VD)25b進行減壓乾燥，進行藉由子臂 運送至周緣抗蝕劑除去單元（ER)26b，在那裡除去基板G 周緣之多餘坑蝕劑，其後藉由垂直方向運送裝置46從抗蝕 劑處理方框27b搬出基板G。 處理方框33，係設在垂直運送路43及45之間，從下依 次在垂直方向運送裝置44及46間交接基板G，且，堆起用 來冷卻基板G之擴展冷卻單元（EXT · COL)，用來加熱處 理基板G之兩個熱板單元（HP)、及對於基板G施行疏水化 處理之附著處理單元（AD)，而成。 在第一處理區域36與第二處理區域37之間，配置有將 共同之四個熱處理單元向上下堆起於第一及第二處理單元 群2a、2b而成之處理方框32。處理方框32，係從下依次在 水平方向運送裝置42與垂直方向運送裝置44間交接基板G ’且堆起用來冷卻G之擴展冷卻單元（EXT · COL)，兩個 熱板單元（HP)，及附著處理單元（ad),而成。 第一處理單元2a之處理方框28a，及第二處理單元群2b 之處理方框28b，係對向地設置者，在它們之間沿著垂直 方向而形成有垂直運送路47，而且，沿著垂直運送路47而 設有可移動的垂直方向運送裝置48，藉此構成第三處理區 域38。又，此第三處理區域38係配置成，使共同於第一及 第二處理單元群2a、2b之兩個處理方框34、35 ,沿著與處 理方框28a及28b之對向著之方向正交之方向，夾著垂直運 --------訂--------- (請先閱讀背面之注意事項再本頁)

14 1227034 A7 B7 五、發明說明（l2 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 送路47而對向。處理方框28a、28b，均為將用來加熱處理 基板之4個熱板單元（HP)堆起而成者。又，處理方框34、35 ，均為從下依次，將擴展冷卻單元（EXTCOL)、冷卻單元 (COL)及二個熱板單元（Hp)堆起而成者。而且，於處理方 框34之擴展•冷卻單元（Εχτ · c〇L)，在垂直方向運送裝 置46及48間進行基板g之交接，並於處理方框35之擴展· 冷卻單元（EXT · COL)，在垂直方向運送裝置48及後述之 水平方向運送裝置50間進行基板G之交接。 第一處理單元群2a之顯像處理單元（DEV)29a、3〇a、 31&及第二處理單元群21)之顯像處理單元（£^¥)296、3仳 、3 lb，係對向地設置著，而在它們之間沿著水平方向而 形成水平運送路49,更且沿著此水平運送49而設置可移動 之水平方向運送裝置5〇，藉此構成第四處理區域39。又， 水平方向運送裝置50，係設成可在與介面站3間進行基板 G之交接。 如第1圖所示，包含運送路及運送裝置之運送系統， 係形成直線狀；第一處理單元群2a及第二處理單元群2b， 係以同一順序排列完全同一之單元，並失著直線狀之運送 系統，對稱地設置著。因此，第一處理單元群2a及第二 理單元群2b，可使用共同之處理單元來進行完全同一内 之處理。不用說，也可進行不同内容之處理。 又，在各處理單元，一如第2圖所示，設有搬出· 入口 10,其係藉各處理方框之運送裝置來取出和放入者 此搬出•搬入口 10，可藉未圖示之光閘來開閉。 處容 搬 (請先閱讀背面之注意事項 ---- <再55|:本頁) 訂---------線

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五、發明說明（i3 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 楚- Γ上，處理站2 ’第一處理單元群2"之各處理單元， 处里早7L群2b之各處理單元，由共同之處理單元所成 之處理方框32、33、34、、S # w⑽ 抑一 J5(共通處理單元群2C)之各處理 早' 及運运裝置42、44、46、48、％，係如第3圖所示 ’被叹成#由控制器來控制。此控制器7〇更作為選擇手段 來作用纟係用以選擇應藉第一處理單元群^及第二群以 中之那一個來處理基板G。 水平方向運送裝置42、50，係具有同一構造，而如第 4圖所示，包含有··⑨著運送路而可移動之裝置本體71 ; 對於虞置本體71可上下移動及旋迴動之基座構件72 ;及沿 著水平方向分別獨立地可移動於基座構件72上之上下二張 基板支持構73a。而且，基座構件72之中央部與裝置本體71 ，係藉連結部74來連結起來。藉由内裝於裝置本體71之驅 動源（例如馬達），透過連結部74來旋迴動基座構件72。在 這種機構下，可用兩速度來進行基板G之水平方向之移動 及旋迴動。又，基座構件72也被設成可藉内裝於裝置本體 71内之驅動源（例如馬達），而向垂直方向移動，並可進行 運送位置之上下方向之微調整。 垂直方向運送裝置44、46及48，係具有同一構造，而 一如第5圖所示，包含有：筒狀支持體81，其係向垂直方 向延伸，並且有垂直壁81a、8 lb及它們之間的側面開口部 81c ;及晶圓交接部82，其係沿著筒狀支持體81，向垂直 方向升降自如地設在其内側。筒狀支持體81，係在馬達等 驅動源83之施轉驅動力下成為可旋轉，並隨著其旋轉而一 (請先閱讀背面之注意事項再^||^本頁) I I I I I 訂1111111- *^

本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 16 1227034 A7 B7 五、發明說明（Η ) 體地旋轉晶圓交接部82。 晶圓交接部82，包含有··運送基台90 ;及沿著運送基 σ 90而可向刖後移動的兩條晶圓保持臂91、92。此等臂91 、92 ’具有可通過筒狀支持體81之側面開口部81e的大小 ’此晶圓交接部82，係藉馬達84使皮帶85驅動，藉此升降 。又，符號86為驅動滑輪；87為從動滑動。可藉由此種機 構’以南速度來進行基板G之垂直方向的移動及旋迴動。 其次，就如此構成的抗蝕劑塗佈顯像處理裝置1〇〇中 之處理動，說明之。 若於第一處理單元群2a及第二處理單元群2b進行同一 内容之處理時，例如一如第6圖所示，首先，從卡式站 入基板G於處理站2(步驟S1)。其次，於第一處理單元群2a 及第二處理單元群2b之中檢出可運送基板G之一方，藉由 作為選擇手段工作之控制器7〇來控制水平方向運送裝置42 以便根據此檢出結果搬入基板G於可運送之處理單元群 ，其後，藉所選擇之處理單元群來進行一連串之處理。具 體言之，判斷第一處理單元群以是否容許基板G之搬入（步 驟S2);若容許搬入時，搬入基板G於第一處理單元群2a( v驟83) ’在苐一處理單元群2&進行基板〇之處理（步驟μ) 。一方面，若第一處理單元群2a沒空，不容許基板α之搬 入時，判斷第二處理單元群孔是否容許基板G之搬入（步 驟S5);若容許搬入時，搬入基板於第二處理單元群沘（步 驟），於第一處理單元群2b進行基板G之處理（步驟§7)。 若於第一處理單元群2a及第二處理單元群2b進行不 本紙張尺度·㈣國家標準（CNS]A4規格⑵Qx 297公爱） (請先閱讀背面之注意事項再本頁) 訂---------線

經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 17 五、發明說明（！5 ) 谷之處理時，例如隨處理之内容而預先標示於基板G， 將之檢出藉此選擇要搬入之處理單元。例如，如第撃 :’首先’從卡式站搬人基板G於處理站2(步驟sn)。其 次，檢出基板G之標示（步驟S12)。判斷所檢出之標示是否 對應於第-處理單元群㈣（步驟S13);若對應於第—處 理早，群’搬人基板G於第—處理單元群&(步驟si4) ，於第處理單元群2a進行基板g之處理（步驟S15)。一方 面，若標示不對應於第一處理單元群2a時，判斷標示是否 對應於第二處理單元群21)者（步驟⑽）；^對應於第二處 理單元群2b時，搬人基板G於第二處理單元群⑪(步驟叫 ，於第二處理單元群孔進行基板G之處理（步驟Μ”。 如此進行之後，為了在任一處理單元群進行一連串之 處理，而藉控制器70來控制各運送裝置，以便可在最初投 入之處理單元進行一連串之處理。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 其次，就具體處理例，一邊參考第8圖一邊說明之。 在此，說明第一處理單元2a之處理。首先，藉卡式站1中 之運送機構11來取出卡匣C之基板G ,並交接於水平方向 運送裝置42，進而搬入於第一處理區域36(步驟S21)。在 第一處理區域36，最初藉紫外線照射單元（Uv)21a來進行 表面改質•洗淨處理（步驟S22);其次，藉擦洗淨單元 (SCR)22a、23a來施行擦洗洗淨（步驟S23)。 其後’藉水平方向運送裝置42，將基板G運送至處理 方框32之擴展•冷卻單元（Εχτ · COL)，接著藉第二處理 區域37之垂直方向運送裝置44來運送至處理方框32或處理 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 18 1227034 A7 B7 五、發明說明（16) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 方框33之熱板單元（HP)以施行脫水焙烤（步驟S24);藉由 處理方框32或處理方框33之擴展•冷卻單元（EXT · COL) 冷卻成給定溫度（步驟S25)。接著將基板G運送至處理方框 32或處理方框33之附著處理單元（AD)，並為了提高抗蝕 劑之固定性而施行疏水化處理（HMOS處理）（步驟S26)。其 後，將基板G運送至擴展•冷卻單元（ΕΧΊΓ · c〇L)，冷卻 成給定溫度（步驟S27);接著，藉垂直運送裝置44來運送 至抗蝕劑處理方框27a。於抗蝕劑處理方框27a，首先藉抗 姓劑塗佈處理單元（CT)24a，對於基板G實施抗蝕劑液塗 佈，接著，藉抗|虫劑處理方框27a内之子臂（未圖示）來運 送至減壓乾燥單元（VD)25a而加以減壓乾燥，進而由子臂 運送至周緣抗餘劑除去單元（ER)26a以除去基板G周緣之 多餘抗蝕劑（步驟S28)。待周緣抗蝕劑之除去終了之後， 藉由垂直方向運送裝置46從抗蝕劑處理方框27a搬出基板 G °其所以像這樣在抗蝕劑塗佈處理單元（CT)24a之後面 設置減壓乾燥單元（VD)25a，是因為：雖在預烘處理一塗 佈有抗蝕劑之基板之後和顯像處理後之後烘烤處理之後， 有時候會將升降銷，固定銷等之形狀復製於基板G，但若 不像這樣用減壓乾壓單元（VD)來加熱而直接進行減壓乾 燥’藉此慢慢地放出抗蝕劑中之溶劑時，即不會產生如加 熱乾燥時一般之急遽的乾燥，在不給不良影響於抗蝕劑之 狀態下可使抗蝕劑之乾燥促進，可有效地防止基板上產生 複製之故。 像這樣塗佈處理終了之後，藉由垂直方向運送裝置46 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（21〇 x 297公釐） 19 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1227034 A7 B7 五、發明說明（17) ，將基板G運送至第三處理區域38中之處理方框34的擴展 冷卻單元（EXT · COL)。將配置在擴展•冷卻單元（EXT · COL)之基板G，藉垂直方向運送裝置48來運送至處理方框 28a或處理方框34、35之任一熱板單元（HP)，加以預烘烤 處理（步驟S29);其後，運送至處理方框34、35之任一冷 卻單元（COL)，加以冷卻成給定溫度（步驟S30)。 其後，藉由垂直方向運送裝置48,將基板G運送至處 理方框35之擴展•冷卻單元（Εχτ · COL)。將配置在擴展 •冷卻單元（EXT · COL)之基板G，藉第四處理區域39之 水平方向運送裝置50來運送至介面站3,而配置在擴展台61 。然後，藉由運送機構64，將擴展台61上之基板G運送到 路光裝置200(步驟S3 1)，在那裡露光給定之圖案。 露光終了後，藉由運送機構64再度送回基板G至介面 站3(步驟S32)，進而藉由運送機構64將之搬入於處理站2 。具體言之，藉由第四處理區域39之水平方向運送裝置5〇 從介面站3之擴展台61接收基板g。然後，藉由水平方向 運送裝置50，將基板g運送至顯像處理單元（DEV)29a、3〇a 、3 1 a之任一，在那裡加以顯像處理，形成給定之電路圖 案（步驟S33)。 藉由水平方向運送裝置50 ,將所顯像處理之基板〇運 送至第三處理區域38中之處理方框35的擴展•冷卻單元 (EXT · COL)，並藉由垂直方向運送裝置48運送至處理方 框28a或處理方框28a或處理方框34、35中之任一熱板單元 (HP)後，進行後烘烤處理（步驟S34);其後被運送至

-20 - 1227034 A7 B7 五、發明說明（l8 ) 方框34、35之任一冷卻單s(c〇L)，冷卻成給定溫度（步驟 S35) 〇 其後，基板G，經過處理方框34之擴展•冷卻單元（ΕχΐΓ • COL) ’處理方框33之擴展•冷卻單元（Εχτ · c〇l卜及 處理方框32之擴展•冷卻單元（Εχτ · c〇L)後，被第一處 理方框36之水平方向運送裝置42向卡式Mi運送，藉由運 送機構11將之搬出收容在卡式站丨上之給定卡匣（步驟S36)。 關於藉第二處理單元群來進行之處理，也可與上述第 處理單元群2a之處理完全同樣地進行。但，省略處理之 一部等，進行與第一處理單元群2&來進行之處理不同之處 理也可。 若依如上述之本實施形態，則由於在進行分別獨立的 一連串處理之第1及第二處理單元群2a、2b之間，設置對 於此等各處理單元進行基板（}之運送的共同運送裝置42、 44、46、48、50，所以較之每一系統設置運送裝置之習知 裝置構成，更可使運送裝置減少，從而可使抗蝕劑塗布顯 像處理裝置之覆蓋區變小。又，如果把本實施形態之系統 視為一個系統的話，由於設有多數液處理系統之單元，而 可顯著地提高生產率。 又，由於作成藉由當做選擇手段作用之控制器7〇，選 擇應由第一處理單元群2a及第二處理單元群孔之那一個來 處理基板G，並作成用其所選擇的一方之處理單元群，對 於各基板進行處理，所以可用第一處理單元群“及第二處 理單元群2b ,分別獨立地對於基板G施行抗蝕劑塗佈顯像 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐）

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、發明說明（19 ) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 處理。 直線:者所包含運送路及運送裝置之運送系統係形4 Ϊ Γ二Γ徑路單純，能以高生產率來進行處理。 由於第-處理單元群2a及第二 :::排列完全同-之單元，並被設置成夾著直線 达=形成對稱，所以可用第—處理單群域第二處理單 70 ’以並行且高成產率來進行同-内容之處理。又， 也I用第一處理單元群2a及第二處理單元群2b來進行不同 内今之處理，同時可實現高變化之處理。 m又依照上述之例，雖在第—處理單元群2a及第二處 理早70群2b以完全同一之順序排列完全同一之處理單元， 但處理單元之種類可以不同，其排列順序相異也可。又， 雖將第-處理單元群2a及第二處理單元群2b分開配置在運 送系統之兩側，但配置成混雜之狀態也可。再者，依照上 述之例#在第-處理單元群2a及第二處理單元群^之處 理内容為同-時，檢出第一處理單元群23及第二處理單元 群2b之處理内容為同一時，檢出第一處理單元群2a及第二 處理單元群中可運送基板G之—方，根據此檢出結果搬入 基板G於可運送之處理單元群，而在第一處理單元&及第 二處理單元群2b之處理内為不同時，隨處理之内容而在基 板G預先加以標示’然後選擇藉著檢出該標示而搬入之處 理早兀，但並不限於此，例如將只收容有藉第一處理單元 群2a來進行處理之基板G的卡£c，及只收容有藉第二處 理單元群2b來進行基板G的卡匣c ’分開設置，從此 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱） --------t---------^ (請先閱讀背面之注意事項再本頁)

22 1227034 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 五、發明說明（20 ) 基板G交替地搬入於處理站2也可。 (第二實施形態） 其次，就本發明之第三實施形態說明之。 第9圖為一平面圖，係顯示本發明第二實施形態之[CD 基板的抗蝕劑塗佈顯像處理裝置。此抗蝕劑塗佈顯像處理 裝置300，係對於LCD基板塗佈抗蝕劑液之後，一旦交接 於露光裝置400，接收由此露光裝置4〇〇所露光處理後之基 板，進行顯像處理。 為了進行這種一連串之處理，而此抗蝕劑塗佈顯像處 理裝置300包含有：搬入·搬出部1〇3，其係用以進rLcd 基板G之搬入•搬出（負載/卸載）；第一液處理系統處理部 104，其係使基板g旋轉以用來進行洗淨處理；第一熱處 理系統處理部105，其係對於基板G主要進行加熱•冷卻 處理等之熱處理；第二液處理系統處理部丨〇6，其係一面 使基板G旋轉，一面進行抗蝕劑液之塗佈（c〇ating)、減壓 乾燥及周緣抗蝕劑除去處理，且，一面使基板〇旋轉一面 進行顯像處理；第二熱處理系統處理部丨〇7，其係對於基 板進行加熱•冷卻處理；及介面部（1下）1〇8，其係在與露 光裝置之間進行基板G之交接。 搬入·搬出部103，包含有卡匣載置台11〇及運送部 (CS)lll。在卡匣載置台11〇上，載置有二種之卡匣ei、 。例如，在第一卡匣C1收納有處理前之基板G ,而在第二 卡HC2則收納有處理後之基板g。 又，在運送部ill，設有第一子臂機構113，此臂113 本紙張尺度適用中關家標準（CNS)A4規格⑵Q χ 297公爱） (請先閱讀背面之注意事項再本頁) I.-----訂---------線

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經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（21 ) 備有可保持基板之臂114，且，使該臂114旋轉，進退，上 下移動，藉此取出第一卡匣c丨所收納之基板，交接於第 一液處理系統處理部104側。又一完成所有處理的基板， 即藉该第一子臂機構丨丨3，例如從第一液處理系統處理部 104側，被收納於第二卡匣c2。 第一液處理系統處理部1〇4，係備有從第一子臂機構 113接收基板〇之第一主臂機構115。此主臂機構115包含 有·基座117 ’其係行走於沿著γ方向延設的第一中央運 送路116 ;及臂118，其係在該基座U7上旋轉、進退、上 下驅動。 在第一主臂機構115之一方側，並設有沿著中央運送 116’例如用電刷來進行擦洗洗淨之兩個洗淨單元（8(：11)119 ，及洗淨單元（SCR)119。 第一主臂機構115，係將接收自搬入·搬出部ι〇3之基 板G搬入於處理單元112、119之任一，從處理單元112、119 之任一取出施有必要處理之基板G，同時，將所取出之基 板G搬入於其他外理單元，或運送至第一熱處理系統處理 部 105。 第一熱處理系統處理部105係配置成第一中央運送路 116串聯（在中央運送路116之延長線上）。在第一熱處理系 統處理部105 ’設有第二子臂機構113A該第二子臂機構 113A ’備有用來保持基板之臂114 ’使該臂114旋迴、進 退、上下移動，藉此將基板交接於後述周圍之處理單元的 給定裝置。 (請先閱讀背面之注意事項 · _ 再本頁 ------訂---------線

表纸張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 24 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 l227〇34 _ 之、發明說明（22 ) 一在第二子臂機構113A之周圍，設有第一熱系處理單 疋方框120、第二熱系處理單元方框121、第三熱系處理單 兀方框122及第四熱系處理單元方框123，以便包圍第二子 ’機構113A。在此等之中，第一熱系處理單元方框12〇， 包含有：擴展•冷卻單元（Εχτ · c〇L)，纟係從下方依次 I ，在上述第一液處理系統處理部104與第一熱處理系統處 | 心卩105之間進行基板G之交接時，|備作為中繼部用之 機能及基板冷卻機能；及兩脫水烘烤單元（Hp)，其係將基 板加熱後進行脫水烘烤處理。而用此等單元堆起而成。第 | 二熱系統理單元方框丨2卜係將擴展•冷卻單元（EXT.c〇l) 、冷卻單元（EXT· C0L)、冷卻單元c〇L、及用來進行疏 水化處理之附著處理單元（AD)堆起三段而成者；其中擴 展冷卻單^(Εχτ· COL)係被設成夾著第二子臂機構U3A 而與第一熱系處理單元方框120朝丫方向，並從下方依次 在第一液處理系統處理部106與第一熱處理系處理部1 〇5 之間進行基板G之交接時，兼備作為中繼部用之機能及基 板冷卻機能。又，第三及第四熱系處理單元方框122及123 ，均為將三個後烘烤處理用熱板單元（p〇ST)堆起三段而 成者；此第單元乃被設置成夾著第二子臂機構U3A而互 相朝X方向相向。又，第一熱系處理單元方框12〇,係連 接於第一液處理系統處理部104之第一中央運送路116，•第 一熱系處理單元方框121，係被作成第二液處理系統處理 部106之後述的第二中央運送路124。 第二子臂機構U3A係構成為··藉第一液處理系統處 (請先閱讀背面之注意事項再本頁) -I n 訂--------線

本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（21〇χ 297公釐） 25 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1227034 A7 _B7 五、發明說明（23 ) 理部104之第一主臂機構115來接收交接於第一熱系處理單 元方框120之擴展•冷卻單元（EXT · COL)之基板G，將之 搬入於其周圍之第一乃至第四熱系處理單元方框12〇〜123 之各單兀，同時從第一乃至第四熱系處理單元方框12〇〜 123之各處理單元取出施有必需處理之基板G，依次運送 至第一乃至第四熱系處理單元方框12〇〜123之另外處理單 兀或第三熱系處理單元方框122之擴展•冷卻單元（Εχτ· COL) ’或者，進行此之反操作。 又，於第10圖中例示：被設置成夾著第二子臂機構 113 A而互相在γ方向相向的第一熱系理單元方框;第 二熱系處理單元方框121之處理單元的堆起狀態；及子臂 機構113A。 一方面，第二液處理系統處理部1〇6，備有第二主臂 機構125，其係行走於沿著其係行走於沿著γ方向延設的 第二中央運送路124上者。此第二主臂機構125，備有：與 第主臂機構115同樣地構成之基座126 ;及臂127。 又，在此第二主臂機構125之一方側，設有抗蝕劑處 理方框130。此抗钱劑處理方框13〇,包含有：抗姓劑液塗 佈處理單元（CT) ’其係用以塗佈抗餘劑液於基板；減壓乾 燥處理早70 (VD)，其係用以乾燥處理塗佈有抗蝕劑液之 基板；及邊緣除去器_，其係用以去除乾燥後之基板周 緣部的無用抗餘劑。此等互相成為一體，沿著第二中央運 送路m而排列著。又，在第二主臂機構125之另—方側， 則〜著第一中央運送路124，而並設有用來顯像處理露光 本紙張尺度ΪΙ用中國國家標準（cks)A4規格⑵ο X 297 ---^-----訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再^^本頁)

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1227034 五、發明說明（24) 後之LCD基板的三個顯像處理單元（DvD)丨3]1。 第二主臂機構125，係用以搬入接收自第一熱處理系 統處理部105之基板G於抗蝕劑處理方框13〇，然後從抗姓 劑處理方框130取出施過處理之基板，將之運送至 處理系統處理部107側。又，將接收自第二熱處理系統處 理部107之基板搬入於顯像處理單元131，然後從顯像處理 單元131取出施過處理之基板，將之運送至第一熱處理系 統處理部105側。 第一熱處理糸統處理部10 7 ’係配置成與第二中央運 送路124串聯。在此第二熱處理系統處理部丨〇7，設有第二 子臂機構113B。此第三子臂機構113B，係與第二子臂機 構113A同樣，具有用來保持基板G之臂114，使此臂ιΐ4旋 迴、後退、上下移動，藉此可交接基板於後述周圍之處理 單元的給定裝置。 在第三子臂機構113B之周圍，設有第五熱系處理單 元方框132，第六熱系處理單元方框133，及第七熱系處理 單元方框134，以便包圍第三子臂機構113B。在此等熱系 處理單元方框之中，第五熱系處理單元方框132，係將擴 展單元（EXT)，及用來進行預烘烤處理的兩個預烘烤單元 (PRE)堆起三段而成，其與第二液處理系統處理部1〇6之第 二中央運送路124連接同時，被設置成夾著第三子臂機構 113B而與介面部（l.F.)l〇8在Y方向相向；其中擴展單元 (EXT)，係從下方依次，在上述第三液處理系統處理部 與第二熱處理系統處理部1〇7之間進行基板G之交換時， 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱） --------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再本頁) (再太 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 27 1227034 五、發明說明（25 作為中繼部作用。又’第六及第七熱系處理單元方框133 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制π 及，均為從下方价皮 ；〜丄干兀万框133 卻單元（COU ΓΓ 將用來進行基板〇之冷卻的冷 來進行預烘烤處理的二個 =起…成。然後，將此"六及二::: 早兀方框133及134，配讯忐十朴够 相在X方向相向。 成夹者第三子臂機構⑽而互 ★第三子臂機構113B，係藉第二液處料、統處理部106 之第二主臂機構125來接收_交接於第四熱系處理單元方 框132之擴展單元（EXT)的基板G，將之搬入於其周圍之第 五及至第七之熱系處理單元方框132〜134的各單元同時， 從第五及至第七熱系處理單元方框132〜134之各處理單元 取出一轭過必要處理之基板G，並移送至露光裝置4〇〇 侧之介面部（I_F.)108。又，第三子臂機構U3B，係透過介 面部（I.F.) 108從露光裝置4〇〇接收露光完成之基板G，將之 再運送至第二液處理系統處理部1 〇6。 介面部108(I.F·)係由運送·待機部137及交接部138所 成。運送•待機部137包含有：擴展•冷卻單元（EXT · COL) 台136，其係在第二熱處理系統處理部1〇7與介面部 (I.F.)l〇8間進行基板G之交接時，兼備作為中繼部用之機 能及基板冷卻機能；緩衝卡匣（BUT)l 35 ;及未圖示之第 四子臂機構。又，交接部138，備有交接台（未圖示），其 係在前述第四子臂機構與露光裝置400之間進行基板之交 接者。 其次，參考第11圖之平面圖及第12圖之側面圖，說明

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本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 28 1227034 A7 B7 五、發明說明（26) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 有關配5又在熱處理系統處理部1〇5、107的第二及第三子臂 機構113A、113B之構造。第二及第三子臂機構U3A、U3B ’係具有同―構造之水平定標型機器人，而-如第11圖及 第12圖所示，包含有：施迴板14〇 ,其係繞未圖示之旋迴 軸旋迴且上下移動；及上下兩個手142、144，其係用以保 持基板，向前後移動者。 又在上側之手142的基端部兩側，設有：一對第一 臂152、152,其係設有朝上方之支軸⑼、15〇，並可回動 地連結於此等支軸150、15〇 ;及一對第二臂i56、156，其 係透過支軸157、157可回動地連結於此等第一臂152、152 。第一臂152、152係設在第二臂156、156之下側，手142 即被吊下支持於第一臂152、152。一對第二臂156、156, 係可回動地連結於從上述旋迴板14〇向上方延伸之一對第 一旋轉軸155、155。 一方面，在下側之手144的基端部兩側，備有：一對 第三臂162、162,其係設有朝下方之支軸16〇、16〇，並可 回動地連結於此等支軸160、160;及一對第四臂166、166 ，其係透過支軸167、167可回動地連結於此等第三臂162 、162。第三臂162、162係設在第四臂166、166之上側； 即，藉第三臂162、162從下側支持手144。一對第四臂166 、166係可回動地連結於從上述旋迴板14〇向延伸之一對第 二旋轉驅動軸16 5、16 5。 如圖所示，第一旋轉驅動軸155及第二旋轉驅動軸165 係同軸地配置著；其中第一旋轉驅動軸155即向第二旋轉 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 請 先- 閱 讀 背· 之 注 意 事 訂 線

29 1227034 五、發明說明（27) 驅動軸165之上方延伸。又，此等旋轉驅動軸155、165， 係設在子臂機構113A、113B之旋迴半徑内側且手142、144 之外側。又，在各旋轉驅動軸155、165，安裝有滑輪（未 圖示），其係安裝成藉由掛在此滑輪之定時皮帶，使各臂152 、156、162、166回動。 其次，一面參考第13圖之流程圖，一面說明前述構成 之塗佈顯像處理系統300的處理步驟之一例。 首先，將載置台110上之第一卡匣C1r所收納的未處 理基板G，從搬入•搬出部103透過運送部（cs)lu，交接 於第一液處理糸統處理部104之第一主臂機構115(步驟S41) 。其次，藉由激發物單元112，將此基板G有機物洗淨（步 驟S42);其後，藉由例如第一熱處理系統處理部1〇5第一 熱糸統系處理早元方框120之擴展•冷卻單元（ext · cOL) 來施行冷卻處理（步驟S43)。 其次，將施過冷卻處理之基板G，藉擦洗洗淨單元 (SCR)l 19來施行借助電刷之擦洗洗淨（步驟S44);其處理 終了後’在借助第二子臂機構113A之搬出•搬入動作下 ’用第一熱處理系統處理部105之第一熱系處理單元方框 120之熱板單元（HP)，來施行脫水烘烤處理（步驟S45);接 著，用第二熱系處理單元方框121之冷卻單元（COL)來施 予冷卻處理（步驟S46)。其後，為了提高抗蝕劑之固定性 ，而用附著處理單元（AD)對於基板施行表面之疏水化處 理（步驟S47);用第二熱系處理單元方框121之擴展•冷卻 單元（EXT · COL)來冷卻成給定之溫度（步驟S48)。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 請 先· 閱 讀 背， 面 之 注 意 事

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經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（28) 接著，藉由第二主臂機構125，將疏水化處理後之基 板導入於第二液處理系統處理部106，藉由抗蝕劑處理方 框130之抗蝕劑液塗佈處理單元（CT)，減壓乾燥處理單元 (VD)，及邊緣除去器（ER)，依次進行抗蝕劑塗佈、減壓 乾燥處理，及基板周緣之無用抗蝕劑液之去除（步驟S49)。 像這樣，透過第四熱系處理單元方框132之擴展單元 (EXT)，藉第三子臂機構113B，將抗蝕劑處理後之基板g 導入於第二熱處理系統處理部丨〇7，用該第二熱處理系統 處理部107之第五及至第七熱處理系統單元方框丨32、133 、134之任一預烘烤單元（pre)，來施行預烘烤處理（步驟 S50)。藉此揮發含在塗佈於基板g之抗蝕劑液的溶劑。接 著，用第二熱處理系統處理部107之第六或第七熱系處理 單元方框133、134之任一冷卻單元（COL)，將該基板G冷 卻至略室溫為止（步驟S51)。其後，藉由第三子臂機構ii3B ，將該基板G搬入於介面部108之擴展•冷卻台（EXT· COL) 136，同時透過介面部108來交接於露光裝置400(步驟S52) ;在那裡露光給定之圖案。 將進行露光處理後之基板G，***於標題器（Titler)139 以進行標題處理（步驟S53)。其後，將基板G，透過介面部 108及第二熱處理系統處理部107，導入於第二液處理系統 處理部106，進而用給定之顯像處理單元（DEV)l 31進行顯 像處理（步驟S54)。在此顯像處理單元131，即以旋轉基板 之狀態，將顯像液供給於基板上來進顯像。又，用漂洗液 洗掉顯像液之後，進行挣開乾燥。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） --------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再本頁)

31 1227034 A7 ___B7 五、發明說明（29 ) 將顯像處理後之基板G，導入於第一熱處理系統處理 #105内，用第二或第四熱系處理單元方框之後 烘烤單元（POST)施行後烘烤處理（步驟S55);接著用第二 熱系處理單元方框121之冷卻單元（c〇l)或第一或第二熱 系處理單元方框120、121之擴展•冷卻單元（Εχτ · c〇L) 冷卻或給定溫度（步驟S56)。 | 將完全施行了以上之處理後之基板G，從第二子臂機 構113A，透過第一主臂機構115交接於設在運送部Ul(c/S) 之第一子臂機構113，進而，藉第一子臂機構113來收容於 該載置在搬入•搬出部103之第二卡匣C2内（步驟S57)。 如上所示’於本實施形態之塗佈顯像處理系統3 〇〇， 包含有成為較大型旋轉系統單元即擦洗洗淨單元 (SCR)l 19，抗蝕劑處理方框130之抗蝕劑液塗佈處理單元 (CT) ’及顯像處理單元（dev) 131之液處理系統單元，係 沿中央運送路116，124而並設著，而比此等單元更小型之 熱處理系統單元，也就是脫水烘烤單元，預烘烤單元，後 烘烤單元（HP、PRE、POST)、冷卻單元（c〇L)、附著單元 (AD)等，係配置在位置於中央運送路116、124之延長線 上的子臂機構113A、113B之周圍，堆起三段而成。像這 樣’只要總滙熱處理系統之單元加以一體化，即可謀求省 空間化及處理之效率化，同時可配置多數之單元。即，可 一邊將覆蓋區抑低，一邊同時使單元數增加。又，將熱處 理系統之單元總滙起起來加以一體化的話，可在此處使電 配線和配管集中，所以可將各種線路配置成小型化。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再本頁) 訂---------線 辞 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 32 1227034

五、發明說明（3〇) 又，依照本實施職、，以旋轉系統之單元作為主構成 要素之液處理系統處理部，及由熱處理系統單元所成之熱 處理系統處理部，係透過中央運送路串行地連接起來，藉 此互相被區分。因此，可將自熱處理系統單元給與液處理 系統單元之熱性影響，抑制至最小限度。 再者，由於備有··液處理系統處理部1〇4、1〇6，其係 沿著向水平延伸之中央運送路116、124而配置有對於基板 G施行液處理之多數個液處理系統單元，藉由用來移動於 中央運送路116、124之主臂機構115、125，對於沿中央運 送路116、124而設的各處理單元，進行基板^之運送；及 熱理系統處理部1〇5、107，其係沿著向垂直延伸之垂直運 送路而配置有向上下方向層合之多數個熱系處理單元，藉 由用來移動於垂直運送路之子臂機構113A、113B，對於 垂直地層合之各熱系處理單元，進行基板G之運送； 而且，由於將不礙於上下重疊之熱系處理單元上下重 且同時，在子臂機構113A、113B之周圍配置重疊有處 理單元之熱系處理單元方框； 所以其份兒可顯著使覆蓋區變小同時，將礙於上下重 疊之液處理系統處理單元配置成水平，用主臂機構115、125 來運送，因此可使用能以高速度準行水平方向之移動者作 為主臂機構115、125，以及可使用能以高速度進行垂直方 向之移動者作為子臂機構113A、113B，從而可達成運送 裝置之機能分離，可維持高生產率。 更且又’於本實施形態，作為設在熱處理系統處理部 本纸張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（2]〇 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項 訂---------線

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五、 發明說明（31 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 05 107之基板運送裝置用之第二及第三子臂機構⑴A 、U3B，係因都是分別藉兩個臂152、i52及臂μ]、Μ〕 從兩邊支持用來保持基板G之兩手142、144，而能以高速 度且穩定地支持，高難，大型且矩形之⑽基板。又， 第一旋轉驅動軸155及第二旋轉驅動軸165，係互相配置於 同軸同時，位置在子臂機構丨丨3A、丨丨3B之旋迴半徑内側 且手142、144之外側，所以一邊防止手142、144與旋轉驅 動軸155、165之干擾，一邊可謀求臂機構之水型化。 像這種構造之基板運送用子臂機構113A、U3B，係 在如本貫施形悲那樣之抗餘劑塗佈顯像處理裝置3〇〇，特 別有益。即，依照本實施形態之抗蝕劑塗佈顯像處理裝置 300，如上所述，將熱系之單元總滙成一體化，藉此可謀 求省空間化及處理之效率化（一邊壓低覆蓋區，一邊使單 元數增加）。因此，如果可藉如第丨丨圖，第12圖所示之特 有構成來謀求子臂機構113A、113B之小型化的話，可更 促進具有前述構成之塗佈顯像處理系統300的覆蓋區之削 減’同時隨子臂機構113A、113B之高剛性，而可高速度 運送。如此，藉由使單元數之增加變為可能的抗蝕劑塗佈 顯像處理裝置300，更加促進生產率之提高。 第14圖係顯示第二及第三子臂機構ιΐ3Α、113B之變 形例。於本變形例，用以使下側之手144動作之第二旋轉 驅動軸165、165，係偏置於比用以使上側之手142動作之 第一旋轉驅動軸155、155更為前方側（沿X方向或Y方向偏 移之位置）以及第一旋轉驅動軸15 5、15 5之外側（對於旋迴 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再本頁) 再 士 訂---------線 辞 34 1227034 A7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制衣 五、發明說明（32 ) 台140之中心，直徑方向之外側）。又，其以外之構成係與 第11圖及第12圖之構成同一，所以附諸同一符號而省略其 說明。若依本變形例之構成，則除了可獲得與第n圖及第 12圖之構成同樣之作用效果以外，更因為第二旋轉驅動轴 165、165偏置於第一旋轉驅動軸155、155之外側，而呈現 更可確實地防止手142、144與旋轉驅動軸155、165之干 等效果。第15圖為一面圖，係顯示本發明之第二實施形態的變 形例。又，於第15圖中，關於與第9圖共同之部分，即附 加同一符號。 關於本變形例之抗蝕劑塗佈顯像處理裝置3〇〇A，包 含有：搬入·搬出部103，其係用以進行LCD基板〇之搬 入•搬出（負載及卸載”第一液處理系統處理部1〇4，其 係使基板G旋轉以用來進行洗淨處理；第一熱處理系統處 理部105 A，其係主要用以進行加熱•冷卻處理；第二液 處理系統處理部106A，其係使基板G旋轉以用來進行抗蝕 劑液之塗佈（coating)及周緣抗餘劑除去處理等；第二熱處 理系統處理部107A，其係用以進行加熱•冷卻處理，液 處理糸統/熱處理糸統用處理部109 ;及介面部（I ·ρ·) 1 〇8， 其係與露光裝置400之間，用以進行基板〇之交接。又， 液處理系統/熱處理系統兼用處理部1 〇9 ,包含有··第三熱 處理系統109A，其係用以進行加熱•冷卻處理；及第三 液處理系統處理部109B，其係使基板旋轉以用來進行顯 像處理。又，此等之中，搬入•搬出部1〇3，第一液處理 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（2]〇χ 297公釐 (請先閱讀背面之注意事項 1^^ I :再本頁 訂---------線 辞 -35 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制农 1227034 A7 ~^--- 五、發明說明（33 ) 系統處理部104,介面部（LF.)1〇8之構成，係與第9圖之例 完全相同，所以省略其說明。 第一熱處理系統處理部105A，備有第二子臂機構U3A ，其被配置成與第一中央運送路116串行（在中央運送路 116之延長線上）。在第二子臂機構113a之周圍，設有第一 熱系處理單元方框170，第二熱系處理單元方框171，第三 熱系處理單元方框172，俾從外側包圍第二子臂機構U3A 。在此之中，第一熱系處理單元方框17()，係從下方依次 將擴展•冷卻單元（EXT· C0L)，進行脫水烘烤處理之兩 個脫水烘烤單元（HP)、及進行疏化處理之附著處理單元 (AD)堆起四段而成，其中該擴展•冷卻單元（EXT · COL) 兼備：在上述第一液處理系統處理部1〇4與第一熱處理系 統處理部之間進行基板G之交接時作為中繼部作用之機能 ;及基板冷卻機能。第二熱系處理單元方框171，係從下 依次將用以冷卻基板之兩個冷卻單元（c〇L)，及附著處理 單元（AD)堆起三段而成。第三熱處理單元方框172，係將 擴展•冷卻單元（EXT · C0L)，冷卻單元（c〇L),及進行 預烘烤處理之兩個預烘烤單元（PRE)堆起四段而成，其中 該擴展•冷卻單元（EXT · COL)兼備··在第一熱處理系統 處理部105A與第二熱處理系處理部1〇7A之間進行基板G 之交接時作為中繼部作用之機能；及基板冷卻機能。又， 第一熱系處理單元方框170，係連接於第一液處理系統處 理部104之第一中央運送路116，其被設置成夾著第二子臂 機構113A而在Y方向與第三熱系處理單元172相向。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） --------訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再本頁)

36 1227034 A7 一 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（34) 第一熱處理糸處理部107A，係配置成與液處理系統丨 熱處理系統兼用處理部109之後述第二中央運送路124八串 行（在中央運送路124A之延長線上），且備有第三子臂機構 113B 〇 在第三子臂機構113B之周圍，設有第三熱系處理單 元方框172，第四熱系處理單元方框173，及第五熱系處理 單元方框174，俾從外側包圍第三子臂機構113B。即，第 三熱系處理單元方框172，係配置在第二子臂機構ι13Α與 第三子臂機構113B之間，而在第一熱處理系統處理部i〇5a 與第二熱處理系統處理部107A間被兼用。第四熱系處理 單元方框173，係將用來進行預烘烤處理之四個預烘烤單 元（PRE)堆起四段而成。又，第五熱系處理單元方框174， 係將下方依次，將擴展•冷卻單元（EXT · COL)、冷卻單 元（COL)，及用來進行後烘烤處理之後烘烤單元（p〇ST)堆 起上下三段而成，其中該擴展•冷卻單元（EXT · COL)兼 備：在第二熱處理系處理部107A與液處理系統/熱處理系 統兼用處理部10 9之間進行基板G之交接時作為中繼部作 用之機能；及基板冷卻機能。又，第五熱系處理單元方框 方框174，係連接於液處理系統/熱處理系統兼用處理部1〇9 之後述第二中央運路124A，其被設置成夾著第三子臂機 構113B而在Y方向與第三熱系處理單元方框172相向。 第二液處理系統處理部106A，係由抗|虫劑處理方框 130所成，並沿著第二及第三子臂機構ii3A、113B，及其 間之第三熱系處理單元方框172而並行地設置著，以成為 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（2】0 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再:本頁)

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37 [227034 A7 B7 五、發明說明（36) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 其說明。 如上所述’於關於本例之抗蝕劑塗佈顯像處理裝置 300A中，包含成為較大型之旋轉系統單元即擦洗洗淨單 元（SCR)119，抗蝕劑處理方框13〇之抗蝕劑液塗佈處理單 元（ct)，及顯像處理單元（DEV)131在内之液處理系統單 元’也同樣沿著中央運送路116、12A並行地設置著，且 ，熱系處理單元（HP、Pre、p〇ST、COL、AD)係在位置 於中央運送路116、124A之延長線上之子臂機構113A、113B 之周圍，被配置成堆起多段，所以可獲得與第9圖所示之 實施形態同樣之效果。 第16圖為一平面圖，係顯示本發第二實施形態之其他 實施例。又，於第16圖中，關於與第9圖共同之構成部分 ’即附加同一符號。 關於本例之抗蝕劑塗佈顯像處理裝置3〇〇B，包含有 •搬入•搬出部103，其係用以進行LCD基板G之搬入· 搬出（負載及卸載）；第一液處理系統處理部1〇4A，其係使 基板G旋轉以用來進行洗淨處理；第一熱處理系統處理部 105B，其係主要用以進行加熱•冷卻處理；第二液處理 統處理部106B，其係使基板G旋轉以用來進行抗蝕劑液 塗佈（coating)，並用來進行周緣抗蝕劑除去處理等，·第 熱處理系統處理部職，其係用以進行加熱•冷卻處 第三液處理系統處理部10%，其係使基板旋轉以用來進 > ”、、員像處理，及η面部（I F )1〇8，其係在與露光裝置糊 之間進行基板G之交接。又，搬入•搬出部1〇3及介面部 之 二 理 (請先閱讀背面之注意事項再本頁) il衣 再士 -----訂---------線 39 1227034 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（37) (I.F.)108之構成，係與第9圖之例完全同一，所以省略其 說明。 第一液處理糸統處理部1 〇4A，備有從第一子臂機構 113接收基板之第一主臂機構115，在第一主臂機構115之 一方侧’沿著中央運送路1丨6A並行地設有：例如由電刷 擦洗器所成之洗淨單元（SCR)i 19 ;及用來進行有機物洗 淨之激發物單元（Excimer) 112。 第一熱處理系統處理部1〇5，係配置成與第一中央運 送路116A串行（在中央運送路16之延長線上），在該第一熱 處理系統處理部105B，設有第二子臂機構113A。此第二 子臂機構113A，係基本上與第9圖所示者同樣地構成，並 具有可保持基板G之臂114，即，使該臂旋轉、進退及上 下移動，藉此可將基板交接於後述周圍之處理單元的給定 位置。 在第二子臂機構113A之周圍，設有第一熱系處理單 元方177、第二熱系處理單元方框178、及第三熱系處理單 元方框179，俾從外側包圍第二子臂機構U3A。在此等之 中’第一熱系處理單元方框177，係從下方依序將擴展· 冷卻單元（EXT · COL)，及用來進行脫水烘烤處理的兩個 脫水烘烤單元（HP)堆起三段而成，其中該擴展•冷卻單元 (EXT · COL)兼備：在上述第一液處理系統處理部1〇4A與 第一熱處理系統處理部105B之間進行基板G之交接時作為 中繼部作用之機能；及基板冷卻機能。第二熱系處理單元 方框178 ’係能下方依次將用來冷卻基板之兩個冷卻單元 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格⑵Q x 29<7公釐） (請先閱讀背面之注意事項 -^衣_丨卜 再本頁) ------訂---------線

40 1227034 A7 B7 五、發明說明（38 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (COL)及用來進行疏水化處理之附著處理單元（AD)堆起 二奴而成。第二熱系處理單元方框179，係將兩個擴展· 冷卻單元（EXT · C0L)，附著處理單元（AD)堆起三段而成 ’其中該擴展•冷卻單_χτ · c〇L)兼備：在第一熱處 理系統處理部105B與第二液處理系統處理部l〇6B間進行 基板G之交接時作為中繼部作用之機能；及基板冷卻機能 。又，第一熱系處理單元方框177係連接於第一液處理系 統處理部104A之第一中央運送路116A;第三熱系處理單 元方框179即連接於第二液處理系統處理部1〇6B之第二中 央運送路124B。此等第一及第三熱系處理單元方框177、 179，係設置成夾著第二子臂機構U3a而在γ方向互相相 向。 一方面’第二液處理系統處理1〇犯備有第二主臂機 構125 ’其係行走於沿著γ方向延設的第二中央運送路124B 上。此第二主臂機構125係與第一主臂機構115同樣地構成 ’而具基本上與第9圖所示者同樣構成之基座126及臂127 。又，在此第二主臂機構125之一方侧，設有抗蝕劑處理 方框130。 第二熱處理系統處理部107B，係配置成與第二中央 運送路124B串行（在中央運送路24之延長線上）。在此第二 熱處理系統處理部107B，設有第三子臂機構113B。該第 三子臂機構113B，係與第二子臂機構U3A同樣地構成， 並具有可保持基板G之臂114，使此臂114旋迴，進退及上 下移動，藉此可將基板交接於後述周圍之處理單元的給定 請 先- 閱 讀 背- 面 之 注 意 事

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裝置。 在第二之子臂機構113B之周圍’設有第四熱系處理 單元方框180，第五熱系處理單元方框181、第六熱系處理 單元方框182 ’及第七熱系理單元方框183，俾從外側成圓 弧狀地包圍第三子臂機構i 13B。第四熱系處理單元方框 180，係從下方依次將擴展•冷卻單元（Εχτ · c〇L)，及 用來進行預烘烤處理之兩個預烘烤單元（PRE)堆起三段而 成，其中該擴展•冷卻單元（PRE)兼備：在第二液處理系 統處理部106B與第二熱處理系統處理部丨〇7B之間進行基 板G之交接時作為中繼部作用之機能；及基板冷卻機能。 又，第五熱系處理單元方框181，係將用來進行預烘烤處 理之三個預烘烤單元（PRE)上下堆起三段而成者。第六熱 系處理單元方框182，係將用來進行後烘烤處理之三個後 烘烤單元（POST)上下堆起而成者。第七熱系處理單元方 框1 83 ,係將下方依次將擴展•冷卻單元（Εχτ · c〇L)， 及用來進行後烘烤處理的兩個後烘烤單元（p〇ST)上下堆 起二段而成，其中該擴展•冷卻單元（Εχτ · c〇L)*備·· 在第二熱處理系統處理部107B與第三液處理系統處理部 109C間進行基板G之交接時作為中繼部作用之機能；及基 板冷卻機能。又，第四熱系處理單元方框18〇係連接於第 二液處理系統處理部106B之第二中央運送路124B ;第七 ”、、系處理|元183係連接於第三液處王里系統處理部1〇9C之 後述第二中央運送路191 ;此等第四及第七熱系處理單元 方框180、183係配設成夾著第三子臂機構ιΐ3Β互相在γ方 (請先閱讀背面之注意事項再 轉，： ------^---------線

本紙張尺度翻中^巧標準（CNS)A4規格⑵0 X 297公爱了 42 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1227034 Λ7 ' --------—-— _ 五、發明說明（4l ) 框130與顯像處理單元（DEV)131間之第二熱處理系統處理 部107B，所以可縮短從預烘烤處理經由露光處理到後烘 烤處理之基板運送時間。 又，本發明並不限定於前述實施形態，在不逸離其要 曰之範圍内可做各種變形實施。例如，依照上述實施形態 ，雖例示了將本發明適用於]LCD基板之抗蝕劑顯像處理裝 I 置之實施例，但並不限於此，也可適用於濾色器等其他基 板之塗佈•顯像•顯像處理系統，又也可適用於抗蝕劑塗 佈顯像處理裝置以外之其他基板處理裝置。 又，於上述第一實施形態，也與第二實施形態同樣， 具有將多段地堆起熱處系統單元而成之熱系處理單元方框 ，多數個配置在運送路延長線上之給定剖周圍的構造，所 以可奏呈與第二實施形態同樣之效果。 [發明之效果] 如上所說明，若依本發明，由於設置了對於第一及第 一處理單元群（用來進行各獨立的一連串處理）進行基板之 運送的共同運送手段，所以較之每系統均設置之習知裝置 構成，更可減少運送手段，可使裝置之覆蓋區（f00tprint) 變小。 若依本發明之其他觀點，由於沿著運送路而設置旋轉 系統單元或液處理系統單元，並將熱系處理單元堆起成多 ’又以構成熱系處理單元方框，且將這種熱系處理單元方框 多數個配置在運送路上或其延長線上之給定部分周圍，所 以一面可壓低覆蓋區，一面可使單元數增加。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再本頁) 訂---------線

44 1227034 A7 B7 五、發明說明（42 [圖式之簡單說明] 請 先- 閱 讀 背· 面 之 注 意 事 第1圖為平面圖，係顯示本發明第一實施形態之LCD 基板的抗餘劑塗佈顯像處理裝置。 第2圖為一側面圖，係顯示本發明第一實施形態之[CD 基板的抗蝕劑塗佈顯像處理裝置之内部。 第3圖為一方塊圖，係顯示本發明第一實施形態之[CD 基板的抗餘劑塗佈顯像處理裝置中處理台之控制系統。 第4圖為一側面圖，係顯示水平方向運送裝置之概略 構成。 I I 訂 第5圖為一斷面圖’係顯示水平方向運送裝置之概略 構成。 第6圖為一流程圖，係顯示本發明第一實施形態之lcd 基板的抗蝕劑塗佈顯像處理裝置中之選擇性基板搬入動作 例0 第7圖為一流程圖，係顯示本發明第一實施形態之lcd

基板的抗姓劑塗佈顯像處理裝置的，選擇性基板搬入動作 之其他例。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第8圖為一流程圖，係顯示本發明第一實施形態之[CD 基板的抗蝕劑塗佈顯像處理裝置之處理動作例。 第9圖為一平面圖，係顯示本發明第二實施形態之lcD 基板的抗餘劑塗佈顯像處理裝置。 第10圖為一側面圖，係顯示第9圖之抗蝕劑塗佈顯像 處理裝置之一部分。 第11圖為一平面圖，係顯示適用於第9圖之抗蝕劑塗 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公璧） 45 1227034 A7 _B7_五、發明說明（43 ) 佈顯像處理裝置的基板運送裝置。 第12圖為一正面圖，係顯示適用於第9圖之抗蝕劑塗 佈顯像處理裝置的基板運送裝置。 第13圖為一流程圖，係顯示適用了第9圖之抗蝕劑塗 佈顯像處理裝置的處理工程。 第14圖為一流程圖，係顯示第11圖、第12圖中所示之 基板運送裝置的變形例。 第15圖為一平面圖，係顯示本發明第二實施形態之 LCD基板的抗蝕劑塗佈顯像處理裝置之變形例。 第16圖為一平面圖，係顯示本發明第二實施形態之 LCD基板的抗蝕劑塗佈顯像處理裝置之其他變形例。 (請先閱讀背面之注意事項再本頁) -----訂---------線

經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 46 1227034 A7 B7 五、發明說明（44) 元件標號對照 1…卡式站 2…處理站 2a…第一處理單元群 2b…第二處理單元群 3…介面站 21a，21b···紫外線照射單 元（UV) 22a，22b，23a，23b···擦洗洗 淨單元（SCR) 24a，24b…抗蝕劑塗佈處 理單元 27a,27b…抗蝕劑處理方框 28a，28b，32,33,34,35 … 處理方框 29a，29b，30a,30b，31a，31b …顯像處理單元 42,44,46,48,50 …運送裝 置（運送手段） 70…控制器（選擇手段） 100,300,300A，300B …抗 蝕劑塗佈顯像處理裝置 104，106，106A，106B，109B， 109C···液處理系統處理部 105，105A，105B，107，107A， 107B，109A…熱處理系統 處理部 113，113A，113B…子臂機構 115，125，190···主臂機構 116，124，191…中央運送 路（運送路） G…LCD基板 請 閱 讀 背-， 之 注 意 事 項

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Claims (1)

1227034 六、申請專利範圍 種基板處理裝置，其係相對基板施^給定處理者 ’包含有： 第處理單疋群，其係備有用來施行由多數工程 所成之—料第—處理的多數個處理單元； 第一處理單70群，其係備有用來施行由多數工程 斤成之_連串第二處理的多數個處理單元；及 共同之運送手段，其係用以進行對於前述第一及 第二處理單元群之各處理單元的基板之運送。 如申叫專利|巳圍第！項所述之基板處理裝置，其中用前 述第一處理單元群及第二處理單元群來施行處理之内 容，係同一。 tj 3·如申請專利範圍第2項所述之基板處理裝置，其中前述 第一及第二處理單元群，係設置成夾著運送手段而對 稱。 4·如申請專利範圍第丨項所述之基板處理裝置，其中用前 述第一處理單元群及第二處理單元群來施行處理之内 心"，係互不相同。 5·如申請專利範圍第1項所述之基板處理裝置，其中前述 運送手段備有：向水平方向延伸之水平運送路；及水 平運送機構’其係沿著該水平運送路移動，在與各處 理單元之間交接基板。 6·如申請專利範圍第1項所述之基板處理裝置，其中前述 運送手段備有：向垂直方向延伸之垂直運送路；及垂 直運送機構，其係沿著該垂直運送路移動，在與各處 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（21Q χ 297公髮 48 理單元之間交接基板。 1227034 、申請專利範圍 I如申請專利範圍第1項所述之基板處理裝置，其中更備 用Χ載置可收納基板之基板收納容器的收納容器 載置^，及用以進行基板之搬入•搬出的搬入•搬出 部。 I 一種基板處理裝置，其係用以對基板施予給定處理者 ’包含有： 第處理單疋群，其係備有用來施行由多數工程 所成之一連串第一處理的多數個處理單元； 第二處理單元群，其係備有用來施行由多數工程 所成之一連串第二處理的多數個單元； 同之運送手段，其係用以進行對於前述第一及 第二處理單元群之各處理單元的基板之運送；及 選擇手"ί又，其係用以選擇該用第一處理單元群及 第二處理單元群中之那一 ^，來處理_述基板。 9. 如申請專利範圍第8項所述之基板處理裝置，其中用前 述第處理單几群及第二處理單元群來施行處理之内 容，係同一。 10. 如申請專利範圍第9項所述之基板處理裝置，其中前述 選擇手段，係用來檢出前述第一處理單元及第二處理 單7L群中可運送基板之一方，根據此檢出結果來控制 it運送手#又，以便將基板搬入於可運送之處理單元 11 ·如申凊專利範圍第8項所述之基板處理裝置，其中用 (210 X 297 公釐） 意 事 項 頁 群。 前 49 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1227034 厂 C8 ^ $帛4理單70群及第二處理單元群來施行處理之内 容’係互不相同。 12.如中請專利範圍第η項所述之基本處理裝置，其中前 4選擇手段’係用以判別基板究竟要進行前述第一 I 處理單兀群及第二處理單元群中之那一個處理，並根 «其結來控制前述運送手段，以便將基板搬入於所判 別之處理單元群。 | 如巾π專利範圍第8項所述之基板處理裝置，其中更備 用·用以載置可收納基板之基板收納容器的收納容器 | 載置及用以進行基板之搬入•搬出的搬入•搬出 部。 種基板處理裝置，其係用來對基板施予給定處理者 ’包含有： 第一處理單元群，其係備有用來施行由多數工程 所形之一連串第一處理的多數個處理單元； 第二處理單元群，其係備有用來施行由多數工程 所幵y之連串第一處理的多數個處理單元；及 共同之運送手段，其係用以進行對於前述第一及 第一處理單元群之各處理單元的基板之運送；其中 前述第一及第二處理單元群，分別備有： 水平處理方框，其係水平地配置有多數個處理單 元；及 垂直處理方框，其係將多數個處理單元配置成向 垂直方向堆起來； 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐）

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剷述運送手段，備有： 水平方向運送裝置，其係水平方向可移動地設置 著，以便對於前述水平處理方框進行基板之交接； 垂直方向運送裝置，其係向垂直方向可移動地設 置著，以便對於前述垂直處理方框進行基板之交接。 15.如申請專利範圍第14項所述之基板處理裝置，其中： 前述水平處理方框，具有將液處理施予基板之多 數個液處理單元；前述垂直處理方框，具有將熱處理 施予基板之多數個熱處理單元。 16·如申請專利範圍第14項所述之基板處理裝置，其中： 前述水平處理方框係設置多數個，供對應於此等 水平方向運送裝置移動之運送路係配置成直線狀。 17. 如申請專利範圍第14項所述之基板處理裝置，其係對 於基板進行抗蝕劑塗佈及露光後之顯像的基板處理裝 置者；其中前述水平處理方框具有：對於基板塗佈抗 触劑之抗蝕劑塗佈處理單元；及/或用來進行顯像處理 之顯像處理單元。 18. 如申請專利範圍第17項所述之基板處理裝置，其中， 前述水平處理方框更具有用來洗淨基板之洗淨處理單 元。 19. 如申請專利範圍第17項或第18項所述之基板處理裝置 ，其中更具有介面部，其係在塗佈抗蝕劑於基板後在 與用來施行露光處理之露光裝置間交接基板。 20·如申請專利範圍第14項所述之基板處理裝置，其中更 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再^本頁) y 辞 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1227034 /、申Μ專利範圍 具有·用以載置可收納基板之基板收納容器的收納容 器载置部；及用以進行基板之搬入·搬出的搬入·搬 出部。 21·種基板處理方法，其係藉基板處理裝置對於基板施 行給定處理之方法者，就是： 對於各基板，選擇該用第一處理單元群及第二處 理單元群之那一個來處理，各基板即用其所選擇的一 方之處理單元群來處理； 前述基板處理裝置，包含有： 第一處理單元群，其係備有用來施行由多數工程 所成一連串第一處理的多數個處理單元； 第二處理單元群，其係備有用來施行由多數工程 所成一連串第二處理的多數個處理單元；及 共同之運送手段，其係用以進行對於前述第一及 第二處理單元群的基板之運送。 22. —種基板處理裝置，其係將塗佈液塗佈於基板以形成 薄膜’同時將與電路圖案對應地露光之前述薄膜予以 顯像之處理裝置者，包含有： 多數個旋轉系統單元，其係使基板旋轉以用來處 理； 多數個熱處理系統單元，其係在不使基板旋轉下 予以加熱•冷卻處理； 運送裝置，其係用以運送基板，將之搬出•搬入 於前述各單元；及 ^紙張尺度適用家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 52 ---^-----訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再9本頁) 太

1227034 六 申清專利範圍 中 運送路，其係形成前述前述裝置之移動徑路； 其 經 濟 部 智 慧 財 產 局 員 工 消 費 合 作 社 印 製 前述旋轉系統單元，係沿著前述運送路而並行地 設置著；前述熱處理系統單元係堆起成多段以構成熱 系處理單元方框；前述熱系處理單元方框，係多數配 置在前述運送路上或其延長線上之給定部分的周圍。 •如申％專利範圍第22項所述之基板處理裝置，其中·· 包含有由旋轉系統單元所成之旋轉系統處理部，及由 熱處理系統單元所成之熱處理系統處理部；前述旋轉 系統處理部及前述熱處理系統處理部，係透過運送路 串行地連接起來，藉此互相被區分。 24. 如申请專利範圍第22項所述之基板處理裝置，其中 前述旋轉系統單元至少包含有：薄膜形成單元， 其係將塗佈液塗佈於基板以形成薄膜；及顯像處理單 疋，其係用以顯像跟電路圖案露光之前述薄膜；又 前述熱處理系統單元，包含有多數個烘烤處理 ^其係於顯像處理之前及後對於基板進行供烤處 25. 如申請專利範圍第24項所述之基板處理裝置，其中前 述多數個烘烤處理單元，係集中地設在前述薄膜形成 單元與前述顯像處理單元之間。 26·如申請專利範圍第22項所述之基板處理裝置，其中 前述旋轉系統單元，至少包含有：洗淨處理裝置 ’其係用以進行基板之洗淨處理；薄膜形成單元，其 意 養 單 理

丨X 297公釐） 53 ^227034 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製

(請先閱讀背面之；^意事項再_本頁) * / n I §8S A' _請專利翻 ^ — 係將塗佈液㈣於基板以形成薄膜；及顯像處理單元 ，其係用以顯像同電路圖案對應地露光之前述薄膜· 前述熱處理系統單元，至少包含有··多數個供烤 處理單元，其係於洗淨處理後及顯像處理之前及後分 別對於基板進行烘烤處理；冷卻處理單元，其係對Z 基板進行冷卻處理；及附著單元，其係對於基板進行 附著處理。 27·如申請專利範圍第22項所述之基板處理裝置，其中前 述紅轉糸統早元只設在運送路之^_側。 28_如申凊專利範圍第22項所述之基板處理裝置，其中在 前述給定部分配置有子臂機構，其係用以對於前述多 數個熱系處理單元方框之各單元進行基板之取出和放 入0 29.—種基板處理裝置，其係將塗佈液塗佈於基板以形成 薄膜’同時，將與電路圖案對應地露光之前述薄膜予 以顯像之基板處理裝置者，包含有： 多數個液處理系統單元，其係將給定液供給基板 上以進行處理； 多數個熱處理系統單元，其係對於基板進行熱處 理； 運送裝置，其係用以運送基板，將之搬出•搬入 於前述各單元；及 運送路，其係形成前述裝置之移動徑路；其中： 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱） 訂 線

54 1227034 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 月,J述液處理系統單元係沿著前述運送路而並行地 設置著；前述熱處理系統單元係堆起成多段以構成熱 系處=單元方框；前述熱系處理單元方框，係多數配 置在剛述運送路上或其延長線上之給定部分的周圍。 30·如申明專利範圍第29項所述之基板處理裝置，其中在 前述給定部分配置有子臂機構，其係用對於前述多數 個熱系處理單元方框之各單元進行基板之取出和放入 〇 31·-種基板處理裝置’其係對於基板施行含多數之液處 理及附隨於該液處理之熱處理在内之一連串處理的基 板處理裝置者，包含有： 多數個液處理系統單元 理； 多數個熱處理系統單元 於前述多數液處理之熱處理 運送裝置，其係用以運送基板，將之搬出•搬入 於前述各單元；及 運送路，其係形成前述裝置之移動徑路；其中： 前述液處理系統單元，係沿著前述運送路而並行 地設置著；前述熱處理系統單元，係堆起成多段以構 成熱系處理單元方框；前述熱系處理單元方框，係多 數配置在則述運送路上或其延長線上之給定部分的周 圍。 32·—種基板處理裝置，其係對於被處理基板施行由包 其係對於基板進行液處 其係對於基板進行附隨 (請先閱讀背面之注意事項再1^|本頁) l 訂---------線 辞 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 55 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 1227034 __ C8 六、申請專利範圍 《處理及熱處理在内之多數工程所成的處理之基板處 I 理襞置者，包含有： ^第一處理部，其係配置有沿著一向水平延伸之水 平運送路，而對被處理基板施行液處理之多數個液處 I 糸先處理單元，並藉由移動於前述水平運送路之第 一運送裝置，對於沿著前述水平運送而設的各處理單 元進行被處理基板之運送；及 第二處理部，其係配置有沿著一向垂直延伸之垂 | 運4路而向上下方向對被處理基板施行熱處理之 多數個熱處理單元，並藉由移動於前述垂直運送路之 第一運送裝置，對於沿著前述垂直運送路而設的各處 理單元進行被處理基板之運送。

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