US9423700B2
(en )
2016-08-23
Lithography apparatus, lithography method, lithography system, storage medium, and article manufacturing method
JP5132920B2
(ja )
2013-01-30
塗布・現像装置および基板搬送方法、ならびにコンピュータプログラム
JP6405290B2
(ja )
2018-10-17
基板処理装置、基板処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体
KR101935713B1
(ko )
2019-01-04
리소그래피 장치, 리소그래피 시스템 및 물품의 제조 방법
WO2007032372A1
(ja )
2007-03-22
基板処理装置、基板処理方法、基板処理プログラム、及びそのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体
US6445441B1
(en )
2002-09-03
Exposure apparatus, semiconductor manufacturing apparatus, and semiconductor manufacturing method
JP2005294460A
(ja )
2005-10-20
塗布、現像装置
WO2007032369A1
(ja )
2007-03-22
基板処理装置、基板処理方法、基板処理プログラム、及びそのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体
WO2007032370A1
(ja )
2007-03-22
基板処理装置、基板処理方法、基板処理プログラム、及びそのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体
WO2007145315A1
(ja )
2007-12-21
基板処理システムおよび基板搬送方法
TW202312239A
(zh )
2023-03-16
處理裝置、搬送方法及物品之製造方法
JP2829909B2
(ja )
1998-12-02
レジスト処理方法及びレジスト処理装置
JP6157573B2
(ja )
2017-07-05
パターン形成装置、塗布現像装置、それらを用いた基板搬送方法およびデバイスの製造方法
EP1737022B1
(en )
2007-12-19
Substrate processing system and substrate processing method
JP2000049088A
(ja )
2000-02-18
露光装置およびデバイス製造方法
JP2008300578A
(ja )
2008-12-11
露光装置およびデバイス製造方法
TWI804574B
(zh )
2023-06-11
基板處理裝置
JP2005317686A
(ja )
2005-11-10
レジスト処理方法およびレジスト処理装置
JP2013016704A
(ja )
2013-01-24
パターン形成装置、塗布現像装置、それらを用いた基板搬送方法およびデバイスの製造方法
JP2023183679A
(ja )
2023-12-28
基板処理システム及び基板処理方法
JP2002208548A
(ja )
2002-07-26
レジストパターン形成方法
JP2009076579A
(ja )
2009-04-09
物体処理システム、物体処理方法、露光装置、露光方法、塗布現像装置、塗布現像方法及びデバイス製造方法
CN114068357A
(zh )
2022-02-18
基板处理装置和搬送时间表制作方法
JP2003115446A
(ja )
2003-04-18
処理方法及び処理装置
JP2006032718A
(ja )
2006-02-02
露光装置、基板処理装置、リソグラフィシステム及びデバイス製造方法