TW201526147A - 基板處理模組、包括該基板處理模組之基板處理裝置以及基板轉移方法 - Google Patents

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Abstract

一種基板處理模組、包括該基板處理模組之基板處理裝置、以及基板轉移方法。基板處理模組包括：腔室，該腔室在其一側上形成有通道且允許基板經由該通道進入或退出；第一基座，其安裝於該腔室內、在其一上表面中形成有至少一個通孔且允許該基板置放於其上；第二基座，其安裝於該腔室內且允許該基板置放於其上；旋轉構件，其提供於該腔室內且基於預設位置來旋轉；固持器，其連接至該旋轉構件且具有安裝表面，該安裝表面允許該基板置放於其上；以及固持器驅動模組，其驅動該旋轉構件以使該固持器移動至對應於該第一基座之備用位置或移動至對應於該第二基座之傳送位置。

Description

基板處理模組、包括該基板處理模組之基板處理裝置以及基板轉移方法 【相關申請案之交互參照】
本申請案主張2013年12月20日向韓國智慧財產局申請之韓國專利申請案第10-2013-0160268號之權益，該案之揭露內容以引用方式併入本文中。
本揭露內容係關於基板處理模組、包括該基板處理模組之基板處理裝置以及基板轉移方法，且更特定而言係關於允許腔室內的基板量增加之基板處理模組以及包括該基板處理模組之基板襯裡裝置。
一般而言，在基於化學氣相沈積製程之基板處理裝置中，使用轉移機械臂將兩個或兩個以上晶圓轉移至一腔室之基座以便在該單個腔室內處理該兩個或兩個以上晶圓。
[先前技術文獻]
(專利文獻1)日期為2007年8月13日之韓國專利特許公開案第2007-0080767號。
本揭露內容之一態樣可提供一種用於同時對複數個基板執行處理之基板處理模組、一種包括該基板處理模組之基板處理裝置，以及一種基板轉移方法。
本揭露內容之一態樣亦可提供一種用於有效地將複數個基板裝載至一腔室中或自該腔室卸載複數個基板之基板處理模組、一種包括該基板處理模組之基板處理裝置，以及一種基板轉移方法。
經由下文中結合隨附圖式來描述的實施例，本發明之其他態樣將變得顯而易見。
根據本揭露內容之一態樣，一種基板處理模組可包括：一腔室，該腔室在其一側上形成有一通道且允許一基板經由該通道進入或退出；一第一基座，其安裝於該腔室內、安置於該通道前方、在其一上表面中以貫穿方式形成有至少一個通孔且允許該基板在一製程期間置放於其上；一第二基座，其安裝於該腔室內、安置於該第一基座後方且允許該基板在一製程期間置放於其上；一旋轉構件，其提供於該腔室內且基於一預設位置來旋轉；一固持器，其連接至該旋轉構件、與該旋轉構件一起旋轉且具有一安裝表面，該安裝表面允許該基板置放於其上；以及一固持器驅動模組，其連接至該旋轉構件並驅動該旋轉構件以使該固持器移動至一對應於該第一基座之位置的備用位置或移動至一對應於該第二基座之位置的傳送位置。
根據本揭露內容之另一態樣，一種基板處理模組可包括：一腔室，其具有由一隔板分割的一第一製程 空間及一第二製程空間且在其一側上形成有一第一通道及一第二通道且允許基板分別進入並退出該第一製程空間及該第二製程空間；第一基座及第三基座，其安裝於該腔室內、分別安置於該第一通道前方及該第二通道前方、在其上表面上以貫穿方式形成有至少一個通孔，且允許該等基板在一製程期間置放於其上；第二基座及第四基座，其安裝於該腔室內、分別安置於該第一基座後方及該第三基座後方，且允許該等基板在一製程期間置放於其上；一第一旋轉構件及一第二旋轉構件，其安裝於該腔室內且分別基於預設位置來旋轉；一第一固持器，其連接至該第一旋轉構件以與該第一旋轉構件一起旋轉且具有一安裝表面，該安裝表面允許該等基板置放於其上；一第二固持器，其連接至該第二旋轉構件以與該第二旋轉構件一起旋轉且具有一安裝表面，該安裝表面允許該等基板置放於其上；一第一固持器驅動模組，其連接至該第一旋轉構件以驅動該第一旋轉構件，且將該第一固持器移動至一對應於該第一基座之第一備用位置或對應於該第二基座之第一傳送位置；一第二固持器驅動模組，其連接至該第二旋轉構件以驅動該第二旋轉構件，且將該第二固持器移動至一對應於該第三基座之第二備用位置或對應於該第四基座之第二傳送位置；至少一個頂銷，其分別安裝於該第一基座及該第三基座下方，且移動穿過該至少一個通孔；以及一頂銷驅動模組，其連接至該至少一個頂銷且使該至少一個頂銷在一頂銷容納高度與一頂銷裝載高度之間移動，其中該至少一個 頂銷之一上端在該頂銷容納高度處定位成高於該第一基座及該第三基座，且該安裝表面在該頂銷裝載高度處定位成低於該第一基座及該第三基座之上表面。
根據本揭露內容之另一態樣，一種基板處理裝置可包括：一負載鎖定腔室，其允許一自外部轉移來的基板置放於其上且具有一自一真空狀態改變至一大氣壓狀態之內部；一基板處理模組，其對該基板執行處理；以及一基板轉移模組，其安置於該負載鎖定腔室與該基板處理模組之間且具有一基板轉移機械臂，該基板轉移機械臂在該負載鎖定腔室與該基板處理模組之間轉移該基板，其中該基板處理模組包括：一腔室，該腔室在其一側上形成有一通道且允許一基板經由該通道進入或退出；一第一基座，其安裝於該腔室內、安置於該通道前方、在其一上表面中以貫穿方式形成有至少一個通孔且允許該基板在一製程期間置放於其上；一第二基座，其安裝於該腔室內、安置於該第一基座後方且允許該基板在一製程期間置放於其上；一旋轉構件，其提供於該腔室內且基於一預設位置來旋轉；一固持器，其連接至該旋轉構件、與該旋轉構件一起旋轉且具有一安裝表面，該安裝表面允許該基板置放於其上；以及一固持器驅動模組，其連接至該旋轉構件並驅動該旋轉構件以使該固持器移動至一對應於該第一基座之備用位置或移動至一對應於該第二基座之傳送位置。
根據本揭露內容之另一態樣，一種用於藉由使用前述基板處理模組來轉移一基板之基板轉移方法可包 括：一第一安裝操作，其將一第一基板置放於一第一基座上；一第一改變操作，其將位於一備用位置之一固持器自一固持器裝載高度改變至一固持器容納高度；一第一移動操作，其使該固持器旋轉以移動至一傳送位置；一第二改變操作，其將位於該傳送位置之該固持器自該固持器容納高度改變至該固持器裝載高度；以及一第二安裝操作，其將一第二基板置放於該第一基座上。
1‧‧‧基板處理裝置
2‧‧‧製程設備
3‧‧‧設備前端模組(EFEM)
4‧‧‧介面壁
50‧‧‧框架
60‧‧‧裝載口
70‧‧‧框架機械臂
102‧‧‧基板轉移模組
104‧‧‧基板轉移機械臂
106‧‧‧負載鎖定腔室
110‧‧‧基板處理模組
120‧‧‧腔室
120a‧‧‧第一製程空間
120b‧‧‧第二製程空間
122‧‧‧隔板
124‧‧‧排出口
130‧‧‧通道
131‧‧‧第一通道
132‧‧‧第二通道
140‧‧‧基座
141‧‧‧第一基座
142‧‧‧第二基座
143‧‧‧第三基座
144‧‧‧第四基座
145‧‧‧通孔
146‧‧‧支撐軸桿
147‧‧‧支撐表面
148‧‧‧容納凹部
149‧‧‧***凹部
150‧‧‧固持器
151‧‧‧第一固持器
152‧‧‧第二固持器
155‧‧‧叉狀物
156‧‧‧臂
157‧‧‧可旋轉軸桿
157a‧‧‧第一可旋轉軸桿
157b‧‧‧第二可旋轉軸桿
158‧‧‧支撐板
159‧‧‧固持器驅動模組
161‧‧‧頂銷
162‧‧‧頂銷驅動模組
170‧‧‧閘閥
W、W1、W2‧‧‧基板
自結合隨附圖式進行的以下詳細描述，將更清楚地理解本揭露內容之以上及其他態樣、特徵及其他優點，在該等圖式中；圖1為示意性地例示根據本揭露內容之示範性實施例之基板處理裝置的視圖；圖2為示意性地例示圖1中所例示之基板處理模組的視圖；圖3為沿著圖2之線A-A取得的剖視圖；圖4為沿著圖2之線B-B取得的剖視圖；圖5為例示圖2中所例示之基座的視圖；圖6為例示圖2中所例示之固持器的視圖；以及圖7A至圖8E為例示圖2中所例示之固持器之操作的視圖。
下文中將參照隨附圖式來描述本揭露內容之示範性實施例。
然而，本揭露內容可以許多不同形式來舉例說明且不應被理解為限於本文中陳述之特定實施例。相反，提供此等實施例以使得本揭露內容將透徹且完整且將向熟習此項技術者全面地傳達本揭露內容之範疇。
在圖式中，為清晰起見可誇示元件之形狀及尺寸，且相同的參考數字將在全篇中用來表示相同或相似的元件。
下文中以示範性方式描述沈積製程，但本揭露內容可適用於包括沈積製程的各種製程。
圖1為示意性地例示根據本揭露內容之示範性實施例之基板處理裝置的視圖。基板處理裝置1包括製程設備2、設備前端模組(EFEM)3以及介面壁4。EFEM 3安裝於製程設備2前方以在容納基板之容器(未圖示)與製程設備之間轉移基板。
EFEM 3包括複數個裝載口60及框架50。框架50定位於裝載口60與製程設備2之間。藉由轉移單元(未圖示)將容納基板之容器置放於裝載口60上，轉移單元諸如架空轉移單元、架空輸送機單元或無人搬運車。
容器可為諸如前開式統一吊艙(FOUP)之氣密式容器。框架機械臂70安裝於框架50內，該框架機械臂70在置放於裝載口60上之容器與製程設備2之間轉移基板。開門器(未圖示)可安裝於框架50中，該開門器自動打開並關閉容器之門。此外，風扇過濾器單元(FFU)(未圖示)可提供於框架50中，該FFU供應潔淨空氣至框架50 之內部以使得潔淨空氣向下流動(亦即，自頂部至底部)。
在製程設備2中執行用於處理基板之預定製程。製程設備2包括基板轉移模組102、負載鎖定腔室106以及基板處理模組110。基板轉移模組102具有自上方觀察時為實質上多邊形的形狀，且負載鎖定腔室106及基板處理模組110安裝於基板轉移模組102的一側上。
在基板轉移模組102的各側當中，負載鎖定腔室106定位於與EFEM 3相鄰的一側上。基板暫時保留於負載鎖定腔室106內且被裝載至製程設備2中以經歷處理，且在處理完成之後，基板自製程設備2卸載且暫時保留於負載鎖定腔室106內。基板轉移模組102及基板處理模組110之內部維持於真空狀態，且負載鎖定腔室106變為處於真空狀態或具有大氣壓。負載鎖定腔室106防止外部污染物引入至基板轉移模組102及基板處理模組110之內部。此外，當轉移基板時，基板不曝露於空氣，從而防止氧化物膜在基板上生長。
閘閥(未圖示)安裝於負載鎖定腔室106與基板轉移模組102之間以及負載鎖定腔室106與EFEM 3之間。在EFEM 3與負載鎖定腔室106之間轉移基板時，提供於負載鎖定腔室106與基板轉移模組102之間的閘閥關閉，且在負載鎖定腔室106與基板轉移模組102之間轉移基板時，提供於負載鎖定腔室106與EFEM 3之間的閘閥關閉。
基板轉移模組102包括基板轉移機械臂 104。基板轉移機械臂104在負載鎖定腔室106與基板處理模組110之間轉移基板。當基板轉移模組102轉移基板時，基板轉移模組102係氣密封的以維持真空。維持真空吸為了防止基板曝露於污染物(例如，O2、顆粒物及其類似物)。
基板處理模組110經提供以將薄膜沈積於基板上。圖1例示三個基板處理模組110，但本揭露內容不限於此且可提供四個或四個以上基板處理模組110。此外，執行不同製程(例如，清洗或蝕刻)之模組可安裝於基板轉移模組102的一側上。
圖2為示意性地例示圖1中所例示之基板處理模組的視圖，且圖3為沿著圖2之線A-A取得的剖視圖。如圖2中所例示，基板處理模組110包括腔室120，其具有通道130，從而允許基板W經由該通道130進入並退出。腔室120提供製程空間，且在製程空間內執行用於基板W之製程。隔板122安裝於腔室120內，且腔室120之製程空間由隔板122分為第一製程空間120a及第二製程空間120b。
腔室120可其一側上形成有通道130，且基板W經由通道130進入腔室120。亦即，第一通道131形成於腔室120之對應於第一製程空間120a的一側上，且第二通道132形成於腔室120之對應於第二製程空間120b的一側上。閘閥170可安裝於第一通道131及第二通道132之外側，且可藉由閘閥170打開或關閉第一通道131及第二通道132。如上文所論述，基板轉移機械臂104與基板 W一起經由第一通道131及第二通道132移動至腔室120之內部，將基板W安裝於如下文所描述之頂銷161或叉狀物155之上端上，且經由第一通道131及第二通道132自腔室120移動。此處，藉由閘閥170打開第一通道131及第二通道132。
如圖2及圖3中所例示，複數個基座140安裝於腔室120內。第一基座141及第二基座142在基板W被引入的方向上依序安置成平行的。第一基座141安置於對應於第一通道131之位置中，且第二基座142安置於第一基座141靠內之處。此外，第三基座143及第四基座144在基板W被引入的方向上依序安置成平行的。第三基座143安置於對應於第二通道132之位置中，且第四基座144安置於第三基座143靠內之處。
經由基板轉移機械臂104將基板W移動至腔室120之內部，且在執行製程時，將基板W置放於第一至第四基座141、142、143及144上。第一至第四基座141、142、143及144由支撐軸桿146支撐，且支撐軸桿146固定至腔室120之下表面。
如圖2中所例示，第一基座141及第三基座143分別定位於第一通道131及第二通道132前方(亦即，基板W經由第一通道131及第二通道132被引入至腔室120之內部的部分)。在單個基板W置放於每個基座上的狀態下起始製程，且此處可分別對基板W同時執行製程。因此，可針對四個基板W完成該等製程，藉此可提升生產力。
同時，如上文所描述，可經由基板轉移機械臂104將基板W轉移至腔室120之內部，基板轉移機械臂104將基板W置放於頂銷161或叉狀物155上。
如圖2及圖6中所例示，固持器150之叉狀物155可經由臂156連接至可旋轉軸桿157，且可基於可旋轉軸桿157之中心(或腔室120之預設位置)旋轉。此處，叉狀物155可具有圍繞基板W之邊緣的圓弧形狀，特定而言為弧形(或扇形)。另外，扇形可具有180度或更大的圓心角以在拾取並轉移基板W時提供穩定性。可旋轉軸桿157穿透腔室120之下壁，安裝於腔室120之預設中心，且在該預設中心上旋轉。可旋轉軸桿157連接至固持器驅動模組159，且藉由固持器驅動模組159使其升高或降低且旋轉。固持器151及152與可旋轉軸桿157一起升高且降低且旋轉。固持器驅動模組159固定至支撐板158，該支撐板158固定式地安裝於腔室120之下壁上。
可旋轉軸桿157提供於腔室120之內部空間中。可旋轉軸桿157基於基板W進入並退出通道130之方向在腔室120之寬度方向上定位於腔室120之端部，且在腔室120之縱向方向上安置於腔室120之中心。例如，腔室120之第一製程空間120a在基板進入第一通道131之方向上具有第一製程空間120a之寬度，且在垂直於進入方向的方向上具有第一製程空間120a之長度。此處，第一可旋轉軸桿157a安置於第一製程空間120a之長度的中心且安置於第一製程空間120a之寬度的兩端。第一可旋轉軸桿 157a至第一基座141之中心的距離與第一可旋轉軸桿157a至第二基座142之中心的距離可為相等的。因此，連接至第一可旋轉軸桿157a之第一固持器151可將基板W準確地自第一基座141移動至第二基座142。第一可旋轉軸桿157a與第一基座141之中心的距離可小於第一製程空間120a之寬度。目前為止已描述第一可旋轉軸桿157a，且此處，安裝於第二製程空間120b中之第二可旋轉軸桿157b可具有與第一可旋轉軸桿157a之組態及操作效果相同的組態及操作效果。
第一固持器151及第二固持器152可藉由旋轉分別定位於第一通道131及第二通道132前方(「備用位置」)或可定位於第一通道131及第二通道132後方(「傳送位置」)。亦即，第一固持器151及第二固持器152可旋轉以置放於對應於第一基座141及第三基座143之備用位置中，或置放於對應於第二基座142及第四基座144之傳送位置中。基板轉移機械臂104可將基板W置放於第一基座141及第三基座143之頂銷161之上端上。此外，基板轉移機械臂104可將基板W置放於定位於備用位置中的第一及第二固持器150上，且此處，將基板W置放於如下文所描述之支撐銷155a之上表面上。在接收基板W之後，固持器150可旋轉以自備用位置移動至傳送位置。
同時，當固持器150移動至傳送位置時，固持器151及152可能未定位於第一基座141及第三基座143中，基板W將被置放於固持器151及152上。此處，安置 於第一基座141及第三基座143下方的頂銷161分別以貫穿方式穿透通孔145以接收來自基板轉移機械臂104之基板W。以此方式，可將複數個基板W置放於第一至第四基座141、142、143及144上。下文中將更詳細地描述頂銷161之操作。
此外，當固持器151及152上升並下降時，基板W可置放於第一至第四基座141、142、143及144上或與第一至第四基座141、142、143及144之支撐表面147分離。下文中將更詳細地描述固持器151及152之上升及下降。
如圖2及圖3中所例示，腔室120在其底表面之邊緣上形成有至少一個排出口124，且該至少一個排出口124安置於第一至第四基座141、142、143及144之外側。在執行製程時，經由至少一個排出口124自腔室120向外排放副產物及未反應的氣體。
圖4為沿著圖2之線B-B取得的剖視圖。複數個通孔145經形成以穿透第一基座141及第三基座143之上表面。頂銷161可分別安裝於第一基座141及第三基座143下方，且移動穿過通孔145。亦即，當頂銷161之上端穿透通孔145以便自第一基座141及第三基座143之上表面突出時，頂銷161可定位於如下文所描述之頂銷容納高度處，且當頂銷161之上端定位於通孔145內或第一基座141及第三基座143下方時，頂銷161可定位於如下文所描述之頂銷裝載高度。處於頂銷容納高度的頂銷161 可分別接收來自基板轉移機械臂104之基板W，且當頂銷161移動至頂銷裝載高度時，所傳送之基板W被置放於第一基座141及第三基座143上。
圖5為例示圖2中所例示之基座的視圖。參考圖5，基座140具有支撐表面147，且支撐表面147與基板W之形狀實質上相同。***凹部149自支撐表面147凹陷，且如下文所描述，當固持器150下降時，支撐銷155a***至***凹部149中。類似地，容納凹部148經形成為凹陷得低於支撐表面147，且當固持器150下降時，叉狀物155容納於容納凹部148內。***凹部149可具有與支撐銷155a之大小及形狀實質上相同的大小及形狀，且容納凹部148可具有與叉狀物155之大小及形狀實質上相同的大小及形狀。基座140可包括用於在製程期間加熱置放於其上的基板W之加熱板(未圖示)。
圖6為例示圖2中所例示之固持器的視圖。固持器150包括叉狀物155及支撐銷155a。叉狀物155可具有內徑大於基板W之直徑的圓弧形狀。叉狀物155可具有圓心角等於或大於180°之圓弧形狀。換言之，叉狀物155可具有圍繞基板W之邊緣的圓弧形狀，特定而言為弧形。另外，扇形可具有等於或大於180°之圓心角以在拾取並轉移基板W時提供穩定性。支撐銷155a連接至叉狀物155且突出至叉狀物155之內側。支撐銷155a可至少提供於叉狀物155之中心及兩端。置放於固持器150上之基板W定位於叉狀物155靠內之處且置放於支撐銷155a之上表面 (或安裝表面)上。藉由以相等的120°角安置之三個支撐銷155a，可穩定地支撐基板W。固持器150可具有不同於本示範性實施例之形狀的任何形狀。
圖7A至圖8E為例示圖2中所例示之固持器之操作的視圖。下文中將參考圖7A至圖8E來描述將基板W安裝於基座上之製程及自基座移除基板之方法。下文中將僅描述單個固持器15及兩個基座141及142，但是此等描述亦可以相同方式適用於剩餘的固持器152以及基座143及144。
參考圖7A至圖8E，可藉由頂銷驅動模組162來升高或降低頂銷161，且可藉由固持器驅動模組159來升高或降低叉狀物155及支撐銷155a。此外，當叉狀物155定位於容納高度處時，叉狀物155可旋轉以移動至傳送位置。
如圖7A中所例示，藉由基板轉移機械臂104經由第一通道131將基板W1置放於頂銷161之上端上。此處，頂銷161之上端高於第一基座141(「頂銷容納高度」)。在此情況下，第一固持器151之支撐銷155a之上表面(或安裝表面)低於第一基座141之支撐表面147(「固持器裝載高度」)，支撐銷155a***至***凹部149中，且叉狀物155容納於容納凹部148中。
如圖7B中所例示，藉由頂銷驅動模組162將頂銷161之上端移動至頂銷裝載高度。基板W1安裝於第一基座141之支撐表面147上。此處已描述基板W1置 放於頂銷161之上端上且頂銷161之上端移動至頂銷裝載高度，但本揭露內容不限於此，且在頂銷161之上端置放於低於第一基座141之支撐表面147之位置(「頂銷裝載高度」)中且叉狀物155及支撐銷155a定位成高於基座141(「固持器容納高度」)的狀態下，基板W1可置放於支撐銷155a之上表面上。在此情況下，可省略圖7A及圖7B之製程。
如圖7C中所例示，藉由固持器驅動模組159將第一固持器151升高至固持器容納高度。基板W1由第一固持器151之支撐銷155a支撐且與支撐銷155a一起定位於固持器容納高度。如圖7D中所例示，藉由固持器驅動模組159使第一固持器151旋轉以移動至傳送位置。
如圖7E中所例示，置放於傳送位置中之第一固持器151自固持器容納高度移動至固持器裝載高度。基板W1安裝於第二基座142之支撐表面147上。如圖7F及圖7G中所例示，藉由基板轉移機械臂104經由第一通道131將基板W2置放於頂銷161之上端上。在此情況下，頂銷161之上端定位於頂銷容納高度。藉由頂銷驅動模組162將頂銷161降低至頂銷裝載高度。
如上文所描述，當單個基板W置於兩個固持器中之每一者上時，藉由固持器將該等基板W傳送至第二基座142及第四基座144，且藉由頂銷161將兩個其他基板置放於第一基座141及第三基座143上。此後，分別對該等基板W同時執行製程。
下文中將參考圖8A至圖8E描述對基板W執行之製程完成之後自腔室120卸載基板W的製程。
如圖8A中所例示，藉由頂銷驅動模組162將第一基座141之頂銷161升高至頂銷容納高度。置放於第一基座141上之基板W2定位於頂銷容納高度，且藉由基板轉移機械臂104自腔室120卸載基板W。此後，第一基座141之頂銷161返回至頂銷裝載高度且等待基板W1。
如圖8B中所例示，藉由固持器驅動模組159使第一固持器151自固持器裝載高度移動至固持器容納高度。基板W2與第一固持器151之支撐銷155a一起定位於固持器容納高度。
如圖8C中所例示，第一固持器151自傳送位置旋轉以移動至備用位置。第一固持器151在備用位置中定位於固持器容納高度。在此情況下，基板W2定位於固持器容納高度，且可藉由基板轉移機械臂104自腔室120卸載基板W2。
如圖8D中所例示，可藉由固持器驅動模組159降低第一固持器151以使其定位於固持器裝載高度。基板W2安裝於第一基座141之支撐表面147上。如圖8E中所例示，藉由頂銷驅動模組162將第一基座141之頂銷161自頂銷裝載高度升高至頂銷容納高度。基板W2定位於頂銷容納高度，且藉由基板轉移機械臂104自腔室120卸載基板W2。
如上文所描述，第一固持器及第三固持器可 旋轉以將基板置放於備用位置或傳送位置中，且第一基座及第二基座之頂銷將基板定位於頂銷裝載高度或頂銷容納高度，從而允許複數個基板進入並退出腔室。
如上文所陳述，根據本揭露內容之示範性實施例，可有效地將複數個基板裝載至腔室中或自腔室卸載複數個基板。此外，可對複數個基板同時執行製程。
雖然已展示並描述示範性實施例，但是熟習此項技術者將顯而易見，在不脫離如所附申請專利範圍所界定之本發明之範疇的情況下，可作出修改及變更。
1‧‧‧基板處理裝置
2‧‧‧製程設備
3‧‧‧設備前端模組(EFEM)
4‧‧‧介面壁
50‧‧‧框架
60‧‧‧裝載口
70‧‧‧框架機械臂
102‧‧‧基板轉移模組
104‧‧‧基板轉移機械臂
106‧‧‧負載鎖定腔室
110‧‧‧基板處理模組

Claims (15)

  1. 一種基板處理模組，其包含：一腔室，該腔室在其一側上形成有一通道且允許一基板經由該通道進入或退出；一第一基座，其安裝於該腔室內、安置於該通道前方、在該第一基座一上表面中以一貫穿方式形成有至少一個通孔且允許該基板在一製程期間置放於其上；一第二基座，其安裝於該腔室內、安置於該第一基座後方且允許該基板在一製程期間置放於其上；一旋轉構件，其提供於該腔室內且基於一預設位置來旋轉；一固持器，其連接至該旋轉構件、與該旋轉構件一起旋轉且具有一安裝表面，該安裝表面允許該基板置放於其上；以及一固持器驅動模組，其連接至該旋轉構件並驅動該旋轉構件以使該固持器移動至一對應於該第一基座之備用位置或移動至一對應於該第二基座之傳送位置。
  2. 如請求項1之基板處理模組，其進一步包含：至少一個頂銷，其安裝於該第一基座下方且移動穿過該至少一個通孔；以及一頂銷驅動模組，其連接至該至少一個頂銷且使該等頂銷移動至一頂銷容納高度及一頂銷裝載高度， 其中該至少一個頂銷之一上端在該頂銷容納高度處定位成高於該第一基座，且該安裝表面在該頂銷裝載高度處定位成低於該第一基座之該上表面。
  3. 如請求項1之基板處理模組，其中，該旋轉構件安置於該腔室之長度的中心且安置於該腔室之寬度的端部。
  4. 如請求項1之基板處理模組，其中，該固持器驅動模組升高該旋轉構件以使該固持器移動至一固持器容納高度及一固持器裝載高度，該固持器在該固持器容納高度處定位成高於該第一基座及該第二基座，且該安裝表面在該固持器裝載高度處定位成低於該第一基座及該第二基座之該等上表面。
  5. 如請求項4之基板處理模組，其中，該固持器在置放於該固持器容納高度之一狀態下移動至該傳送位置。
  6. 如請求項4之基板處理模組，其中，該固持器包含：一叉狀物，其具有一弧形且對該腔室之一外側開放；以及一或多個支撐銷，其連接至該叉狀物，朝向該叉狀物之一內側突出且提供該安裝表面，其中該第一基座及該第二基座具有一或多個***凹部，當定位於上方之該固持器移動至該固持器裝載高度時，該一或多個支撐銷***至該一或多個***凹部中。
  7. 如請求項6之基板處理模組，其中，具有一扇形之該叉狀物之一圓心角等於或大於180°。
  8. 如請求項6之基板處理模組，其中，該第一基座及該第二基座具有支撐表面，該等支撐表面允許該等基板置放於其上，且該一或多個***凹部形成於該等支撐表面之邊緣上。
  9. 一種基板處理模組，其包含：一腔室，該腔室具有由一隔板分割的一第一製程空間及一第二製程空間且在其一側上形成有一第一通道及一第二通道且允許基板分別進入並退出該第一製程空間及該第二製程空間；第一基座及第三基座，其安裝於該腔室內、分別安置於該第一通道前方及該第二通道前方、在其上表面上以一貫穿方式形成有至少一個通孔，且允許該等基板在一製程期間置放於其上；第二基座及第四基座，其安裝於該腔室內、分別安置於該第一基座後方及該第三基座後方，且允許該等基板在一製程期間置放於其上；一第一旋轉構件及一第二旋轉構件，其安裝於該腔室內且分別基於預設位置來旋轉；一第一固持器，其連接至該第一旋轉構件以與該第一旋轉構件一起旋轉且具有一安裝表面，該安裝表面允許該等基板置放於其上； 一第二固持器，其連接至該第二旋轉構件以與該第二旋轉構件一起旋轉且具有一安裝表面，該安裝表面允許該等基板置放於其上；一第一固持器驅動模組，其連接至該第一旋轉構件以驅動該第一旋轉構件，且將該第一固持器移動至一對應於該第一基座之第一備用位置或一對應於該第二基座之第一傳送位置；一第二固持器驅動模組，其連接至該第二旋轉構件以驅動該第二旋轉構件，且將該第二固持器移動至一對應於該第三基座之第二備用位置或一對應於該第四基座之第二傳送位置；至少一個頂銷，其分別安裝於該第一基座及該第三基座下方，且移動穿過該至少一個通孔；以及一頂銷驅動模組，其連接至該至少一個頂銷且使該至少一個頂銷在一頂銷容納高度與一頂銷裝載高度之間移動，其中該至少一個頂銷之一上端在該頂銷容納高度處定位成高於該第一基座及該第三基座，且該安裝表面在該頂銷裝載高度處定位成低於該第一基座及該第三基座之該等上表面。
  10. 一種基板處理裝置，其包含：一負載鎖定腔室，其允許一自外部轉移來的基板置放於其上且具有一自一真空狀態改變至一大氣壓狀態之內部； 一基板處理模組，其對該基板執行處理；以及一基板轉移模組，其安置於該負載鎖定腔室與該基板處理模組之間且具有一基板轉移機械臂，該基板轉移機械臂在該負載鎖定腔室與該基板處理模組之間轉移該基板，其中該基板處理模組包含：一腔室，該腔室在其一側上形成有一通道且允許一基板經由該通道進入或退出；一第一基座，其安裝於該腔室內、安置於該通道前方、在其一上表面中以一貫穿方式形成有至少一個通孔且允許該基板在一製程期間置放於其上；一第二基座，其安裝於該腔室內、安置於該第一基座後方且允許該基板在一製程期間置放於其上；一旋轉構件，其提供於該腔室內且基於一預設位置來旋轉；一固持器，其連接至該旋轉構件、與該旋轉構件一起旋轉且具有一安裝表面，該安裝表面允許該基板置放於其上；以及一固持器驅動模組，其連接至該旋轉構件並驅動該旋轉構件以使該固持器移動至一對應於該第一基座之備用位置或移動至一對應於該第二基座之傳送位置。
  11. 如請求項9之基板處理裝置，其中，該基板處理模組包含： 至少一個頂銷，其分別安裝於該第一基座及該第三基座下方，且移動穿過該至少一個通孔；以及一頂銷驅動模組，其連接至該至少一個頂銷且使該至少一個頂銷移動至一頂銷容納高度且移動至一頂銷裝載高度，在該頂銷容納高度處，該至少一個頂銷之一上端定位成高於該第一基座及該第三基座，在該頂銷裝載高度處，該安裝表面定位成低於該第一基座及該第三基座之該等上表面。
  12. 一種用於藉由使用如請求項1至8中任一項之基板處理模組來轉移基板之基板轉移方法，該基板轉移方法包含以下步驟：一第一安裝操作，其將一第一基板置放於一第一基座上；一第一改變操作，其將位於一備用位置之一固持器自一固持器裝載高度改變至一固持器容納高度；一第一移動操作，其使該固持器旋轉以移動至一傳送位置；一第二改變操作，其將位於該傳送位置之該固持器自該固持器容納高度改變至該固持器裝載高度；以及一第二安裝操作，其將一第二基板置放於該第一基座上。
  13. 如請求項12之基板轉移方法，其進一步包含：一第一釋放操作，其自該第一基座釋放該第二基板； 一第三改變操作，其將位於該傳送位置之該固持器自該固持器裝載高度移動至該固持器容納高度；一第二移動操作，其使該固持器旋轉以移動至該備用位置；一第四改變操作，其使位於該備用位置之該固持器自該固持器容納高度移動至該固持器裝載高度；以及一第一釋放操作，其自該第一基座之上部釋放該第一基板。
  14. 如請求項12之基板轉移方法，其中，該第一安裝操作為如下操作：將頂銷升高至一頂銷容納高度，將該第一基板置放於位於該頂銷容納高度的該等頂銷之上端上，且使該等頂銷移動至一頂銷裝載高度。
  15. 如請求項12之基板轉移方法，其中，該第二安裝操作為如下操作：將頂銷升高至一頂銷容納高度，將該第二基板置放於位於該頂銷容納高度的該等頂銷之上端上，且使該等頂銷移動至一頂銷裝載高度。
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