TW201511845A - 液體處理裝置、液體處理方法及記憶媒體 - Google Patents

Abstract

本發明旨在提供一種具有複數之基板固持部之液體處理裝置，可抑制大型化，並抑制對噴嘴供給處理液之配管之負載。其中，該液體處理裝置包含：複數之基板固持部，沿左右方向排列，分別水平地固持著基板；移動部，設置成沿前後方向遠離該基板固持部之列，可沿左右方向任意移動；噴嘴待命部，相對於該基板固持部之列，設於該移動部之移動路側，以使對由該基板固持部所固持之基板供給處理液之噴嘴待命；及旋轉臂，於一端側設置以可任意裝卸之方式固持該噴嘴之噴嘴固持部，為在該噴嘴待命部與用來對基板供給處理液之供給位置之間，與該移動部協同搬運該噴嘴，另一端側以可任意水平旋轉之方式設於該移動部。

Description

液體處理裝置、液體處理方法及記憶媒體

本發明，係關於對基板供給處理液，進行液體處理之液體處理裝置、液體處理方法、及包含進行該方法之電腦程式之記憶媒體。

半導體製造程序之光微影程序中，藉由液體處理裝置，對作為基板之半導體晶圓（以下，稱晶圓）之表面供給光阻液等處理液，進行處理。作為液體處理裝置，有時為提高處理能力，設置複數其中具有基板固持部之杯體，可於各杯體並行處理晶圓。又，為削減裝置之製造成本，於此等複數之杯體間共有噴嘴，以搬運機構在該複數之杯體間移動噴嘴。專利文獻1中記載如此之液體處理裝置。

近年來有人探討使該晶圓之直徑大型化，使其為450mm。如此增大晶圓之直徑後，對應此，液體處理裝置即易於大型化，但可設置該液體處理裝置之空間有限。因如此之情事，業界尋求可防止較專利文獻1之裝置更大型化之液體處理裝置。且使用其直徑小於450mm，例如300mm之晶圓時，為抑制裝置之設置空間，亦尋求裝置之小型化。

專利文獻2中，揭示構成噴嘴之搬運機構之臂，接受於噴嘴待命部待命之噴嘴群組中，經選擇之噴嘴，進行處理之液體處理裝置，該臂，與該噴嘴待命部一齊設在旋轉台上。又，因該旋轉台之旋轉，臂輪流朝向2個杯體，進行處理。然而，因該旋轉該臂可存取之範圍有限，故相對於1個臂設置之杯體之數量受到限制。且若如此使噴嘴群組之待命部移動，連接待命之噴嘴群組，為對噴嘴群組供給處理液而連接之所有軟管，即會在此待命部移動時摩擦裝置之地板或其他各部。其結果，有加速引起該各配管劣化之虞。

專利文獻3中，揭示使噴嘴群組待命之待命部沿杯體之排列方向移動，位於處理基板之杯體之正面，多關節臂自如此定位之待命部接受噴嘴之液體處理裝置。此專利文獻3之裝置中，亦與專利文獻2之裝置相同，有因待命部移動，連接該噴嘴群組之配管擦傷之問題。液體處理裝置中，為防止該配管之壽命減短，亦要求關於抑制配管之彎曲，藉此抑制對配管施加之負載。【先前技術文獻】【專利文獻】

【專利文獻1】日本特開2011－14849【專利文獻2】日本特開2012－54406【專利文獻3】日本特開2010－34210（圖8）

[發明所欲解決之課題]

鑒於如此之情事，本發明之目的，係在具有複數之基板固持部之液體處理裝置中，抑制大型化，並抑制對噴嘴供給處理液之配管之負載。 [解決課題之手段]

本發明之液體處理裝置，包含：複數之基板固持部，沿左右方向排列，分別水平地固持著基板；移動部，沿前後方向遠離該基板固持部之列而設置，可沿左右方向任意移動；噴嘴待命部，相對於該基板固持部之列，設於該移動部之移動路側，用以使對於該基板固持部所固持之基板供給處理液的噴嘴待命；及旋轉臂，於其一端側設置以可任意裝卸之方式固持該噴嘴之噴嘴固持部，而其另一端側以可任意水平旋轉之方式設於該移動部，俾與該移動部協同，在該噴嘴待命部與用來對基板供給處理液的供給位置之間，搬運該噴嘴。 [發明之效果]

依本發明，在沿前後方向，遠離沿左右方向排列之複數之基板固持部之列，沿左右方向移動之移動部，設有其另一端側可任意水平旋轉之旋轉臂，噴嘴待命部相對於基板固持部之列，設於該移動部之移動路側。藉此，不需沿杯體之排列方向設置噴嘴待命部，可抑制此排列方向之長度，抑制裝置之大型化。且藉由該旋轉部之旋轉搬運噴嘴，故可變更連接該噴嘴之配管之方向。因此可抑制因搬運噴嘴配管大幅彎曲，藉此抑制對該配管施加之負載。

參照圖，同時說明關於作為本發明之液體處理裝置之實施形態之光阻塗布裝置1。圖1、圖2，分別係光阻塗布裝置1之橫剖俯視圖、縱剖側視圖。光阻塗布裝置1包含框體11，於該框體11內沿橫方向，具有在直線上排列之3個杯體2。於框體11之側壁，為對各杯體2傳遞作為基板之晶圓W，形成3個搬運口12。各搬運口12由可任意昇降之閘門13開合。

圖3，係顯示框體11內各部之立體圖。於框體11內，設有基台14，該杯體2設於該基台14。有時分別作為2A、2B、2C，說明自框體11內之內側（後方側）朝框體11內之前方側（搬運口12側）觀察，左側之杯體、中央之杯體、右側之杯體。為便於說明，有時記載杯體2之排列方向為左右方向（圖1中作為Y方向表示）。且有時記載與Y方向正交之水平之方向，為前後方向（圖1中作為X方向表示）。

各杯體2相互相同，圖4顯示杯體2之縱剖側視圖。杯體2於上方具有開口部20，於其內部具有作為基板固持部之旋轉吸盤21。旋轉吸盤21吸附晶圓W之背面中央部，水平地固持著晶圓W。旋轉吸盤21連接旋轉驅動部22，因此旋轉驅動部22旋轉吸盤21旋轉，晶圓W繞著垂直軸旋轉。自後述之光阻噴吐噴嘴41，對晶圓W之表面中心部供給光阻液，因該旋轉之離心力光阻液伸展至晶圓W之周緣部。以所謂旋轉塗佈法於該晶圓W之表面形成光阻膜。

該杯體2，如上述形成光阻膜時，承接自旋轉之晶圓W飛散，或灑落之廢液，並具有為將該廢液朝光阻塗布裝置1外排出而引導之角色。杯體2之下方側呈凹部狀形成，作為環狀之液承接部23構成，連接排液路24。圖中25係排氣管，因排氣管25之側壁，氣體與液體分離。圖中15，係插設於排氣管25之阻尼器，控制排氣流量。

圖中26，係杯體2之朝上方內側延伸之傾斜壁。圖中27係引導構件，於晶圓W之下方側，具有朝該晶圓W之外側下降之傾斜面。傾斜壁26及引導構件27，具有將附著之廢液朝該液承接部23引導之角色。杯體2，包含3根銷（圖4中僅顯示2根）28，與使銷28昇降之昇降部29。此昇降之銷28，在未圖示之晶圓W之搬運機構，與旋轉吸盤21之間傳遞晶圓W。

於杯體2之外側後方之後方區域30，噴嘴待命部3固定設在該基台14上。亦即，噴嘴待命部3，相對於各旋轉吸盤21，其位置被固定。藉由固定噴嘴待命部3，可防止先前技術之項目中所述，待命之各光阻噴吐噴嘴41（41A～41J）之配管，因噴嘴待命部3之移動，摩擦裝置1各部，或彎曲。結果，可防止其壽命降低。且無需設置使噴嘴待命部3移動之移動機構，故可實現裝置之小型化。此例中，噴嘴待命部3，俯視觀察呈V字狀形成，配置該V字之突端於圖1、2中朝右側。圖5係噴嘴待命部3之縱剖側視圖。於噴嘴待命部3之上部，10個待命用孔31，沿例如噴嘴待命部3之外形，亦即沿V字，相互隔著間隔排列。光阻噴吐噴嘴41A～41J之前端部42分別進入各待命用孔31，此等噴嘴41A～41J待命。

此光阻塗布裝置1中，光阻噴吐噴嘴41中，經選擇之1根光阻噴吐噴嘴，由後述之噴嘴搬運機構5固持，於杯體2A～2C間搬運，對各杯體2A～2C之晶圓W進行光阻塗布處理。如此1根光阻噴吐噴嘴由噴嘴搬運機構5固持之期間，其他9根光阻噴吐噴嘴於噴嘴待命部3待命。此待命中，自設於待命用孔31內之未圖示之稀釋劑供給部，對光阻噴吐噴嘴之前端部42供給稀釋劑，進行噴嘴之清洗處理。且進行用來調整自待命之光阻噴吐噴嘴對晶圓W供給之光阻液之狀態之噴吐（假注液），此噴吐之光阻液，以連接待命用孔31之未圖示之排液路去除。

亦參照圖6說明關於光阻噴吐噴嘴41。光阻噴吐噴嘴41A～41J相互相同，圖6中作為代表顯示光阻噴吐噴嘴41A。如上述各光阻噴吐噴嘴41包含前端部42，自設於此前端部42之噴吐口49朝垂直下方噴吐光阻液。前端部42之上側，構成由噴嘴搬運機構5固持之本體部43。於噴嘴待命部3光阻噴吐噴嘴41待命之狀態下，此本體部43位於噴嘴待命部3之上方，如後述噴嘴搬運機構5，接受此本體部43。本體部43及前端部42，相較於後述之配管44構成為硬質。

圖2中，自待命之本體部43之左側，軟管44之一端連接該本體部43。於本體部43，形成用來自該配管44對該前端部42供給光阻液之流路。且於該噴吐口49之上方中本體部43之上部，形成作為被固持部之圓形之搬運用凹部45。又，於搬運用凹部45之側壁，沿該搬運用凹部45之周圍，設有多數之卡合用凹部46。

如圖2所示，各配管44之上游側，朝各光阻噴吐噴嘴41之左側後朝下方側，更朝右側延伸，在基台14上被固定。圖2中47，係如此進行固定之固定構件。亦即，於較此固定構件47更下游側，配管44可任意彎曲。如圖5所示，配管44之上游端連接光阻液供給機構48A～48J。圖2及圖3中，省略較固定構件47更上游側之配管44之圖示。

如此，將配管44設置成：於噴嘴待命部3光阻噴吐噴嘴41待命時，配管44自光阻噴吐噴嘴41沿Y方向，亦即相對於旋轉吸盤21之列平行延伸。藉由如此構成，可於杯體2之後方區域30以狹窄之空間配置各配管44，防止裝置1大型化。且關於連接不對晶圓W進行處理之光阻噴吐噴嘴之配管44，不繞著垂直軸彎曲即可，可防止配管44之壽命降低。

該光阻液供給機構48A～48J，包含光阻液之儲存部、將該儲存部之光阻液朝下游側壓送之泵、控制壓送之光阻液之流量之質量流量控制器、閥等。按照自後述之控制部10輸出之控制信號，相互獨立地控制自供給機構48A～48J朝光阻噴吐噴嘴41A～41J光阻液之供給與否。於光阻液供給機構48A～48J之該各儲存部，儲存相互不同種類之光阻液。亦即，光阻噴吐噴嘴41A～41J，對晶圓W供給相互不同之光阻液。

接著，說明關於設於光阻塗布裝置1之噴嘴搬運機構5。此噴嘴搬運機構5，以導軌51、水平移動部52、垂直移動部53、前後伸長臂54及旋轉臂55構成。該導軌51，於噴嘴待命部3之後方側沿左右方向呈直線狀鋪設，水平移動部52可沿此導軌51順著左右方向任意移動。該垂直移動部53，以可任意昇降之方式設於此水平移動部52之側方。又，自垂直移動部53上，前後伸長臂54可於框體11內朝前方側延伸，在此前後伸長臂54之前端部上設置該旋轉臂55之基端部。

形成旋轉臂55，俾自該前後伸長臂54之前端部沿水平方向延伸。於該旋轉臂55之基端部，設置沿垂直方向形成之旋轉軸56（參照圖1、3），旋轉臂55可繞著此旋轉軸56任意旋轉。如後述，藉由俯視觀察逆時針地旋轉，旋轉臂55自杯體2之後方區域30，朝處理晶圓W之杯體2，搬運光阻噴吐噴嘴41。

於旋轉臂55之背面之前端側，設有噴嘴固持部57。噴嘴固持部57，構成為圓形之突起。參照該圖6說明即知，於噴嘴固持部57之內部設有空間58。又，於噴嘴固持部57之側壁，沿周方向設有多數可對應該空間58之壓力於該側壁之表面任意伸出沒入之卡合突起59。圖6中，僅顯示2個卡合突起59。

圖6中61、62，分別係氣體供給部、排氣部，按照來自控制部10之控制信號，分別對該空間58供給氣體、自空間58排氣，藉此調整空間58之壓力，進行該卡合突起59之該伸出沒入。省略於圖6以外氣體供給部61及排氣部62之圖示。卡合突起59沒入噴嘴固持部57之側壁表面之狀態下，噴嘴固持部57進入光阻噴吐噴嘴41之搬運用凹部45內，或噴嘴固持部57自搬運用凹部45退避。噴嘴固持部57進入搬運用凹部45內之狀態下，卡合突起59自噴嘴固持部57之側壁表面突出後，即卡合卡合用凹部46。藉此，旋轉臂55，可固持光阻噴吐噴嘴41A～41J。圖4中，顯示固持光阻噴吐噴嘴41A之狀態。

如該圖4所示，於旋轉臂55之前端部，設有相機支持部63，俾沿旋轉臂55之延長方向延伸，隔著此相機支持部63於旋轉臂55設置相機64。如圖4以虛線之箭頭所示，相機64之光軸，朝旋轉臂55之基端側之斜下方，相機64，可拍攝由旋轉臂55固持之光阻噴吐噴嘴41之前端部42及其下方區域。後述之控制部10，在結束自光阻噴吐噴嘴41對晶圓W光阻液之噴吐後，以相機64取得影像，根據該影像，判定有無自該光阻噴吐噴嘴41之液垂滴。

於旋轉臂55之前端，設有噴嘴65及噴嘴66。沿旋轉臂55之寬方向隔著間隔設置此等噴嘴65、66，俾不妨礙以該相機64進行之上述之拍攝。此等噴嘴65、66，分別朝垂直下方向噴吐稀釋劑、純水。該稀釋劑及純水，係在對晶圓W供給光阻液前，為提高晶圓W之光阻液之可潤濕性而對晶圓W供給之所謂預濕用處理液，對晶圓W供給稀釋劑或純水中任一者。圖1中67、68，係連接噴嘴65、66之配管，其上游側，分別連接未圖示之稀釋劑之供給源、純水之供給源。

圖1～圖3所示之33，係自形成光阻膜之晶圓W之周緣部上，對該周緣部噴吐稀釋劑，去除該周緣部之光阻膜之膜去除用噴嘴，設於每一杯體2。34係臂，以其前端部支持膜去除用噴嘴33。35係設於臂34之基部，使該臂34繞著垂直軸旋轉之旋轉部。除上述之噴吐稀釋劑時外，該膜去除用噴嘴33退避至杯體2之外側。

於光阻塗布裝置1，設有電腦所構成之控制部10。控制部10，包含不圖示之程式儲存部。於此程式儲存部，儲存有為進行以後述之作用說明之光阻塗布處理而組裝有命令之例如軟體所構成之程式。此程式由控制部10讀取，藉此，控制部10對光阻塗布裝置1各部輸出控制信號。藉此，可進行以銷28在晶圓W之搬運機構與杯體2之間傳遞晶圓W、搬運光阻噴吐噴嘴41、噴吐光阻液、稀釋劑及純水、以相機64進行拍攝、判定有無液垂滴等各動作，如後述，對晶圓W進行光阻塗布處理。此程式，以例如儲存於硬碟、光碟、磁光碟或記憶卡等記憶媒體之狀態，由程式儲存部儲存。

例如，光阻塗布裝置1中，自先搬運至杯體2之晶圓W依序進行處理。且光阻塗布裝置1之使用者，可以設於控制部10之未圖示之操作部，於例如每一晶圓W之批次，設定藉由41A～41J中的哪一光阻噴吐噴嘴進行處理。且可於每一該批次，設定以稀釋劑或純水中哪一種進行預濕。

又，此光阻塗布裝置1中，藉由垂直移動部53之垂直移動動作、水平移動部52之水平移動動作、旋轉臂55之旋轉動作之協同，將各光阻噴吐噴嘴41A～41J，自噴嘴待命部3搬運至各杯體2之晶圓W之中心部上的光阻液噴吐位置。於圖7，作為一例，顯示將光阻噴吐噴嘴41E搬運至杯體2B之晶圓W之中心部上之狀態。為說明光阻塗布裝置1之優點，於圖8顯示比較例之光阻塗布裝置100。作為此光阻塗布裝置100相對於光阻塗布裝置1之差異點，不設置旋轉臂55，前後伸長臂54相對較長而朝前方側延伸，移動部101於其下方沿前後方向移動，於此移動部101設置噴嘴固持部57。藉由如此構成，光阻塗布裝置100中，與光阻塗布裝置1相同，可將光阻噴吐噴嘴41A～41J，自噴嘴待命部3搬運至各杯體2之晶圓W之中心部上。惟在待命時與搬運至杯體2上時，光阻噴吐噴嘴41繞著垂直軸之方向不變更。圖8中與圖7相同，顯示將光阻噴吐噴嘴41E，搬運至杯體2B之晶圓W之中心部上之狀態。

如上述配管44自杯體2之後方側延伸，自待命中之光阻噴吐噴嘴41A～41J之左側連接。因此，光阻塗布裝置100中，如圖8所示，搬運光阻噴吐噴嘴41至杯體2上後，配管44於搬運之光阻噴吐噴嘴41之附近，朝後方側相對較大幅地彎曲。因此，發生對配管44施加之負載大，該配管44之壽命短之問題。相對於此，如圖7所示，光阻塗布裝置1中，藉由旋轉臂55，光阻噴吐噴嘴41之繞著垂直軸之方向，自待命狀態時之方向變更，而被搬運至杯體2之晶圓W上。藉此，位在該晶圓W上時，可抑制配管44中於光阻噴吐噴嘴41之附近之彎曲，抑制對該配管44施加之負載。

且配管44若於光阻噴吐噴嘴41之附近大幅彎曲，此彎曲部即會磨損，有因此磨損自該彎曲部產生之微粒，附著彎曲部之下方之晶圓W之虞。就可抑制如此之問題之發生之點而言，光阻塗布裝置1之構成亦有效。且如後述光阻塗布裝置1之旋轉臂55之動作，亦可避開杯體2B之晶圓W上而搬運光阻噴吐噴嘴41，用以防止對該杯體2B內之晶圓W之液垂滴。

接著，參照圖9～圖20，同時揭示光阻塗布裝置1之動作之一例。此例中依杯體2A、2C、2B之順序，搬運相互相同批次之晶圓W，依此順序對晶圓W進行光阻塗布處理。且由裝置1之使用者預先設定，俾以稀釋劑進行預濕，光阻噴吐噴嘴則使用41A。且以下之程序中雖根據相機64拍攝之影像，判定有無來自光阻噴吐噴嘴41A之前端部42之液垂滴，但係說明關於判定無液垂滴之情形。且各圖中簡化顯示關於相機支持部63。

例如於以圖9之虛線所示之位置待命之噴嘴搬運機構5之水平移動部52移動至既定之位置，且該噴嘴搬運機構5之旋轉臂55旋轉，如圖9以實線所示，該旋轉臂55之噴嘴固持部57，位在光阻噴吐噴嘴41A上。因噴嘴搬運機構5之垂直移動部53旋轉臂55下降，噴嘴固持部57進入光阻噴吐噴嘴41A之搬運用凹部45，如以圖6所說明，噴嘴固持部57之卡合突起59與搬運用凹部45卡合，光阻噴吐噴嘴41A由旋轉臂55固持。

旋轉臂55上昇，光阻噴吐噴嘴41A自噴嘴待命部3之待命用孔31被送出後，為對杯體2A之晶圓W進行處理，該水平移動部52朝該杯體2A之後方移動而停止（圖10），旋轉臂55俯視觀察逆時針旋轉，稀釋劑噴吐噴嘴65位在晶圓W之中心部上後，旋轉臂55之旋轉即停止（圖11）。自稀釋劑噴吐噴嘴65對晶圓W之中心部供給稀釋劑，晶圓W旋轉，因離心力，稀釋劑遍佈於晶圓W之周緣部。與此晶圓W之旋轉並行，水平移動部52朝杯體2B側稍微移動，且旋轉臂55俯視觀察逆時針旋轉，光阻噴吐噴嘴41A位在該晶圓W之中心部上（圖12）。接著，晶圓W旋轉，自光阻噴吐噴嘴41A對晶圓W噴吐光阻液，光阻液因離心力遍佈於晶圓W之周緣部，形成光阻膜40。

停止噴吐光阻液後，即進行以相機64進行之拍攝，判定有無來自光阻噴吐噴嘴41A之液垂滴。判定後，旋轉臂55俯視觀察順時針旋轉，光阻噴吐噴嘴41A朝杯體2之後方區域30移動（圖13）。此旋轉中，例如水平移動部52呈靜止狀態，俾光阻噴吐噴嘴41A之噴吐口49，不通過杯體2B之開口部20上。光阻噴吐噴嘴41A位於後方區域30後，水平移動部52，即朝杯體2C之後方移動（圖14）。為防止旋轉臂55與圖1所示之裝置1之框體11接觸，此移動中旋轉臂55開始該俯視觀察逆時針之旋轉，稀釋劑噴吐噴嘴65位在杯體2C之晶圓W之中心部上後，即停止旋轉臂55之旋轉及水平移動部52之移動（圖15）。藉此，光阻噴吐噴嘴41A之噴吐口49自杯體2A之開口部20上朝杯體2C之開口部20上移動，俾繞過杯體2B之開口部20上。

與杯體2A之晶圓W之處理時相同，對杯體2C之晶圓W供給稀釋劑，且晶圓W旋轉。然後，進行水平移動部52更朝杯體2C側移動，及旋轉臂55俯視觀察逆時針旋轉，光阻噴吐噴嘴41A位在晶圓W之中心部上後，即停止此等水平移動部52之移動及旋轉臂55之旋轉（圖16）。然後，對晶圓W之中心部噴吐光阻液，形成光阻膜40。

停止噴吐光阻液後，即進行以相機64進行之拍攝，判定有無液垂滴。判定後，旋轉臂55俯視觀察順時針旋轉，同時水平移動部52朝杯體2B側移動，光阻噴吐噴嘴41位在後方區域30後，即停止旋轉臂55之旋轉。為對杯體2B之晶圓W進行處理，水平移動部52朝杯體2B側持續移動，位於既定之位置後，水平移動部52即停止（圖17）。

旋轉臂55俯視觀察逆時針旋轉，稀釋劑噴吐噴嘴65位在杯體2B之晶圓W之中心部上後，旋轉臂55之旋轉即停止（圖18）。與對杯體2A、2C之晶圓W之處理時相同，杯體2B之晶圓W旋轉，且對該晶圓W噴吐，塗布稀釋劑。然後，進行水平移動部52朝杯體2C側移動及旋轉臂55逆時針旋轉，光阻噴吐噴嘴41A位在該晶圓W之中心部上後，此等移動及旋轉即停止（圖19）。又，對該晶圓W之中心部噴吐光阻液，形成光阻膜40。

進行以相機64進行之拍攝，判定有無來自光阻噴吐噴嘴41A之液垂滴。然後，旋轉臂55俯視觀察順時針旋轉，光阻噴吐噴嘴41A，自杯體2B之開口部20上朝後方區域30退避，於該後方區域30待命（圖20）。此旋轉臂55旋轉時，例如水平移動部52靜止，俾光阻噴吐噴嘴41A之噴吐口49不通過杯體2C之開口部20上。

於形成光阻膜40之各杯體2之晶圓W之周緣部，分別供給光阻液，再經過既定之時間後，自膜去除用噴嘴33供給稀釋劑，去除該周緣部中之光阻膜。圖20中，顯示就杯體2A之晶圓W，如此去除周緣部之光阻膜40之狀態。使去除周緣部之光阻膜40之晶圓W，停止其旋轉，以搬運機構自光阻塗布裝置1送出之。

將設定為以光阻噴吐噴嘴41A以外之其他光阻噴吐噴嘴進行處理之批次之晶圓W，搬運至光阻塗布裝置1時，藉由噴嘴搬運機構5各水平移動部52、垂直移動部53、旋轉臂55之協同，該光阻噴吐噴嘴41A之前端部42，***光阻噴吐噴嘴41A待命之噴嘴待命部3之待命用孔31。又，解除以圖6說明之旋轉臂55之噴嘴固持部57與光阻噴吐噴嘴41之卡合，載置光阻噴吐噴嘴41A於噴嘴待命部3，解除以旋轉臂55固持光阻噴吐噴嘴41A。然後，藉由噴嘴搬運機構5各水平移動部52、垂直移動部53、旋轉臂55之協同作業，與固持光阻噴吐噴嘴41A時相同，該其他光阻噴吐噴嘴由旋轉臂55固持，對該批次之晶圓W進行處理。

雖已說明關於判定無來自光阻噴吐噴嘴41A之液垂滴之情形，但判定液垂滴發生時，中斷例如於上述之光阻塗布裝置1之處理。又，控制部10輸出旨在液垂滴發生之警報，通報給使用者。該警報，係例如既定之聲音或既定之畫面之表示。

依此光阻塗布裝置1，噴嘴待命部3設於杯體2之後方側之後方區域30，於此噴嘴待命部3與各杯體2之開口部20之間，噴嘴搬運機構5，搬運光阻噴吐噴嘴41A～41J中，經選擇之噴嘴。該噴嘴搬運機構5中，水平移動部52沿作為杯體2之排列方向之左右方向移動，相對於此水平移動部52以可任意旋轉之方式設置之旋轉臂55，繞著垂直之旋轉軸56旋轉，搬運該光阻噴吐噴嘴。藉此，可抑制沿杯體2之排列方向之大小，抑制裝置1之大型化，並如以圖7、圖8所說明，抑制連接光阻噴吐噴嘴41之配管44大幅彎曲，防止配管44之壽命減短。

且以光阻噴吐噴嘴41，對杯體2A之晶圓W塗布光阻後，經由後方區域30搬運該光阻噴吐噴嘴41至杯體2C之開口部20上，俾該光阻噴吐噴嘴41之噴吐口49不通過鄰接之杯體2B之開口部20上。藉此，在搬運光阻噴吐噴嘴41至杯體2C之開口部20上之途中，即使自該噴嘴41發生液垂滴，亦可防止此液落下至杯體2B之晶圓W。因此，可提高自晶圓W製造之產品之良率。上述之光阻塗布裝置1中，自杯體2C朝2A搬運光阻噴吐噴嘴41時，亦與自杯體2A朝2C搬運光阻噴吐噴嘴41時相同，進行搬運，俾由旋轉臂55固持之光阻噴吐噴嘴41之噴吐口49避開杯體2B之開口部20上。此例中，噴吐口49雖繞過杯體2B之開口部20上，但只要可繞過杯體2B之晶圓W上，即可獲得上述之效果，故繞過該晶圓W上即可。

於鄰接之杯體2間搬運光阻噴吐噴嘴41時，亦可使光阻噴吐噴嘴41，不通過後方區域30而在該杯體2間搬運。亦即，例如上述之處理中，自杯體2C朝杯體2B搬運光阻噴吐噴嘴41A時，亦可在停止對杯體2C之晶圓W噴吐光阻液後，不通過後方區域30而搬運光阻噴吐噴嘴41A至杯體2B之晶圓W上。

雖已說明搬運光阻噴吐噴嘴41A至杯體2A、2B之開口部20上時，在水平移動部52之移動停止之狀態下，旋轉臂55旋轉，但亦可與搬運光阻噴吐噴嘴41A至杯體2C之開口部20上時相同，與水平移動部52之移動並行使旋轉臂55旋轉。

上述之例中，相機64雖設於噴嘴搬運機構5，與旋轉臂55一齊移動，但不限於如此構成。圖21，顯示於後方區域30，配置固定其位置之相機64之例。若對1個杯體2之晶圓W噴吐光阻，如此圖21所示，即將光阻噴吐噴嘴41搬運至相機64可拍攝之區域，拍攝光阻噴吐噴嘴41之前端部42與其下方區域。其後，搬運光阻噴吐噴嘴41至其次進行處理之杯體2。

噴嘴待命部3，構成為噴嘴搬運機構5可接受光阻噴吐噴嘴41即可，不限於上述之形狀。圖22，顯示不包含噴嘴待命部3，代之以噴嘴待命部71之光阻塗布裝置1之概略圖。噴嘴待命部71除其形狀外，與噴嘴待命部3相同，俯視觀察呈圓弧狀形成。於噴嘴待命部71之上表面，隔著間隔排列有待命用孔31。此例中41A～41E之5根光阻噴吐噴嘴，於噴嘴待命部71待命。

各光阻噴吐噴嘴41A～41E於此噴嘴待命部71待命之狀態下，搬運用凹部45沿圖中以虛線72所示之圓弧排列。此虛線72，顯示旋轉軸56位於圖中點P時，因旋轉臂55旋轉噴嘴固持部57之軌跡。亦即，各光阻噴吐噴嘴41A～41E待命，俾各搬運用凹部45位在自位於點P之旋轉軸56俯視觀察等距離的位置。藉此，水平移動部52可不相對於每一傳遞之噴嘴變更位置，於相同位置傳遞各噴嘴41A～41E。

藉由如此構成，有設計及維修裝置時，可輕易確認、調整傳遞該噴嘴時水平移動部52之位置之優點。如該噴嘴待命部3，俯視觀察呈V字構成噴嘴待命部時，亦可與此噴嘴待命部71相同，設置待命用孔31，俾搬運用凹部45在圓弧上排列，令各光阻噴吐噴嘴41待命。

於圖23，作為噴嘴待命部之其他例，顯示噴嘴待命部74。俯視觀察呈直線狀形成此噴嘴待命部74，俾隨著自裝置1之前方側朝後方側，自杯體2B側往杯體2C側。圖中之虛線75，表示待命之光阻噴吐噴嘴41A～41E之排列方向，此例中與噴嘴待命部74之伸長方向一致。且上述之各例中，雖於噴嘴待命部之後方側設置噴嘴搬運機構5之導軌51，但不限於如此之配置。圖24，顯示於導軌51之後方側配置噴嘴待命部71之例。

且上述之例中，雖於光阻噴吐噴嘴41，設置搬運用凹部45，俾與設有噴吐口49之前端部42重疊，但搬運用凹部45之位置不限於如此之例。圖25所示之例中，沿橫方向較長地形成相對較硬質之噴嘴本體部43，在自待命於該噴嘴待命部76之前端部42上朝軟管44側偏離之位置，設置搬運用凹部45。

此圖25所示之噴嘴待命部76形成為：俯視觀察，呈沿前後方向延伸之直線狀，各待命用孔31，沿此噴嘴待命部76之伸長方向排列。各光阻噴吐噴嘴41A～41E於此噴嘴待命部76待命之狀態下，搬運用凹部45，沿以上述之虛線72表示之圓弧排列。藉此，與圖22之構成例相同，旋轉臂55，可在旋轉軸56位於點P之狀態下，將各光阻噴吐噴嘴41A～41E傳遞至噴嘴待命部76。

圖26、圖27顯示包含該噴嘴待命部76之光阻塗布裝置81。作為相對於光阻塗布裝置1此光阻塗布裝置81之差異點，可舉出不設置噴嘴搬運機構5，代之以噴嘴搬運機構82。噴嘴搬運機構82，包含導軌51與搬運基部83。搬運基部83，可沿導軌51任意移動，且可任意昇降。自搬運基部83沿水平方向延伸有第1臂84，自第1臂84之前端，沿水平方向延伸有第2臂85，自第2臂85之前端，沿水平方向延伸有第3臂86。又，第1臂84相對於基部83，第2臂85相對於第1臂84，第3臂86相對於第2臂85，分別可繞著垂直方向之旋轉軸87任意旋轉。

該第3臂86，相當於上述噴嘴搬運機構5之旋轉臂55，於下方具有噴嘴固持部57（省略圖示）。藉由第1～第3臂84～86之旋轉動作、與搬運基部83之水平移動動作及昇降動作，可將噴嘴待命部76之各光阻噴吐噴嘴41A～41E，搬運至各杯體2之晶圓W上。

圖28、圖29，分別顯示光阻塗布裝置91之俯視圖、側視圖。光阻塗布裝置91，包含於圖22說明之噴嘴待命部71。且不具有噴嘴搬運機構5，代之以噴嘴搬運機構92。此噴嘴搬運機構92，大致與噴嘴搬運機構5相同，作為差異點，可舉出導軌51設於框體11之頂棚面。亦即，水平移動部52於框體11之頂棚面移動。如圖29所示，垂直移動部53，設於此水平移動部52之下方，可相對於該水平移動部52任意昇降。於此垂直移動部53之下方以可任意旋轉之方式設置旋轉臂55之基端側，該旋轉臂55，可藉由其前端側之噴嘴固持部57，相對於噴嘴待命部71傳遞各光阻噴吐噴嘴41A～41E。

圖30、圖31，顯示光阻塗布裝置111。此光阻塗布裝置111中，設有噴嘴待命部76及噴嘴搬運機構112。噴嘴搬運機構112，包含導軌51及水平移動部52。此水平移動部52，包含朝前方側（杯體2側）延伸之臂113，此臂113可昇降。臂113中，設有可沿該臂113之長度方向任意移動之前後移動部114，前後移動部114中，設有可繞著垂直之旋轉軸115任意旋轉之旋轉臂116。旋轉臂116，相當於噴嘴搬運機構5之旋轉臂55，雖省略圖示，但於其下方具有噴嘴固持部57。藉由如此構成，旋轉臂116，可將噴嘴待命部76之各光阻噴吐噴嘴41A～41E搬運至各杯體2。

此噴嘴搬運機構112中，例如接受光阻噴吐噴嘴41後，於待命部3交換光阻噴吐噴嘴止，如圖31所示，保持旋轉臂116之方向，俾相對於旋轉軸115固持之光阻噴吐噴嘴41位於前方側。因此如以光阻塗布裝置1所說明，在杯體2A之晶圓W之處理後接著進行杯體2C之晶圓W之處理時，例如旋轉臂116可不旋轉，藉由前後移動部114及水平移動部52之協同，繞過杯體2B之開口部20上，將光阻噴吐噴嘴41自杯體2A朝杯體2C搬運。

杯體2，不限於在直線上排列，亦可在曲線上排列。圖32，顯示如此排列之杯體2之一例。圖32之例中，導軌51，沿此排列方向，呈曲線狀形成，但只要可在噴嘴待命部71與各杯體2之間搬運各光阻噴吐噴嘴，亦可與上述之各例相同，呈直線狀形成。

圖33，亦顯示依本發明之光阻塗布裝置之構成例。此圖33之光阻塗布裝置中，不設置於上述之光阻塗布裝置1之噴嘴待命部3，代之以圖25所示之噴嘴待命部76。圖33中，顯示將光阻噴吐噴嘴41C傳遞至噴嘴待命部76時旋轉臂55及水平移動部52之各位置。亦即，定位噴嘴固持部57，俾重疊於光阻噴吐噴嘴41C之搬運用凹部45。圖34中，顯示為將光阻噴吐噴嘴41A傳遞至噴嘴待命部76，自圖33所示之位置旋轉之狀態之旋轉臂55。圖35中，顯示為將光阻噴吐噴嘴41A傳遞至噴嘴待命部76，水平移動部52自圖33及圖34所示之位置移動，噴嘴固持部57重疊於光阻噴吐噴嘴41A之搬運用凹部45之狀態。

圖35之旋轉臂55之方向，與圖34之旋轉臂55之方向相同。作為一例，雖已說明關於光阻噴吐噴嘴41A、41C之傳遞，但亦調整旋轉臂55之方向及水平移動部52之位置，傳遞其他光阻噴吐噴嘴。亦即，圖33～圖35所示之光阻塗布裝置1中，藉由水平移動部52及旋轉臂55之協同，噴嘴固持部57可移動至待命中各光阻噴吐噴嘴41A～41E之搬運用凹部45上，噴嘴搬運機構5固持各光阻噴吐噴嘴41A～41E。

且上述之各例中，雖於裝置設置3個杯體2，但亦可設置4個以上。且亦可僅設置2個杯體2。作為對晶圓W供給之處理液，不限於光阻液，亦可係例如抗反射膜形成用化學液，或絕緣膜形成用化學液，亦可係顯影液。

W‧‧‧晶圓
1‧‧‧光阻塗布裝置
2、2A～2C‧‧‧杯體
3‧‧‧噴嘴待命部
5‧‧‧噴嘴搬運機構
10‧‧‧控制部
11‧‧‧框體
12‧‧‧搬運口
13‧‧‧閘門
14‧‧‧基台
20‧‧‧開口部
21‧‧‧旋轉吸盤
27‧‧‧引導構件
28‧‧‧銷
30‧‧‧後方區域
33‧‧‧膜去除用噴嘴
34‧‧‧臂
35‧‧‧基部
41（41A～41J）‧‧‧光阻噴吐噴嘴
43‧‧‧本體部
44‧‧‧配管
45‧‧‧搬運用凹部
51‧‧‧導軌
52‧‧‧水平移動部
53‧‧‧垂直移動部
54‧‧‧前後伸長臂
55‧‧‧旋轉臂
56‧‧‧旋轉軸
57‧‧‧噴嘴固持部
63‧‧‧相機支持部
64‧‧‧相機
65、66‧‧‧噴嘴
67、68‧‧‧配管

【圖1】係依本發明之光阻塗布裝置之橫剖俯視圖。【圖2】係該光阻塗布裝置之縱剖側視圖。【圖3】係該光阻塗布裝置之立體圖。【圖4】係設於該光阻塗布裝置之杯體之縱剖側視圖。【圖5】係設於該光阻塗布裝置之噴嘴待命部之縱剖側視圖。【圖6】係設於該光阻塗布裝置之光阻噴吐噴嘴及噴嘴固持部之縱剖側視圖。【圖7】係該光阻塗布裝置中動作之說明圖。【圖8】係比較例之光阻塗布裝置中動作之說明圖。【圖9】係依本發明之光阻塗布裝置之動作之說明圖。【圖10】係該光阻塗布裝置中動作之說明圖。【圖11】係該光阻塗布裝置中動作之說明圖。【圖12】係該光阻塗布裝置中動作之說明圖。【圖13】係該光阻塗布裝置中動作之說明圖。【圖14】係該光阻塗布裝置中動作之說明圖。【圖15】係該光阻塗布裝置中動作之說明圖。【圖16】係該光阻塗布裝置中動作之說明圖。【圖17】係該光阻塗布裝置中動作之說明圖。【圖18】係該光阻塗布裝置中動作之說明圖。【圖19】係該光阻塗布裝置中動作之說明圖。【圖20】係該光阻塗布裝置中動作之說明圖。【圖21】係該光阻塗布裝置之變形例之俯視圖。【圖22】係該光阻塗布裝置之變形例之概略俯視圖。【圖23】係該光阻塗布裝置之變形例之概略俯視圖。【圖24】係該光阻塗布裝置之變形例之概略俯視圖。【圖25】係該光阻塗布裝置之變形例之概略俯視圖。【圖26】係該光阻塗布裝置之變形例之概略俯視圖。【圖27】係該光阻塗布裝置之變形例之概略俯視圖。【圖28】係該光阻塗布裝置之變形例之概略俯視圖。【圖29】係該光阻塗布裝置之變形例之概略側視圖。【圖30】係該光阻塗布裝置之變形例之概略俯視圖。【圖31】係該光阻塗布裝置之變形例之概略俯視圖。【圖32】係該光阻塗布裝置之變形例之概略俯視圖。【圖33】係該光阻塗布裝置之變形例之概略俯視圖。【圖34】係該光阻塗布裝置之變形例之概略俯視圖。【圖35】係該光阻塗布裝置之變形例之概略俯視圖。

W‧‧‧晶圓

1‧‧‧光阻塗布裝置

2、2A~2C‧‧‧杯體

3‧‧‧噴嘴待命部

5‧‧‧噴嘴搬運機構

10‧‧‧控制部

11‧‧‧框體

12‧‧‧搬運口

13‧‧‧閘門

14‧‧‧基台

20‧‧‧開口部

21‧‧‧旋轉吸盤

27‧‧‧引導構件

28‧‧‧銷

30‧‧‧後方區域

33‧‧‧膜去除用噴嘴

34‧‧‧臂

35‧‧‧基部

41(41A~41J)‧‧‧光阻噴吐噴嘴

43‧‧‧本體部

44‧‧‧配管

45‧‧‧搬運用凹部

51‧‧‧導軌

52‧‧‧水平移動部

53‧‧‧垂直移動部

54‧‧‧前後伸長臂

55‧‧‧旋轉臂

56‧‧‧旋轉軸

57‧‧‧噴嘴固持部

63‧‧‧相機支持部

64‧‧‧相機

65、66‧‧‧噴嘴

67、68‧‧‧配管

Claims (12)

1. 一種液體處理裝置，包含：複數之基板固持部，沿左右方向排列，分別水平地固持著基板；移動部，沿前後方向遠離該基板固持部之列而設置，可沿左右方向任意移動；噴嘴待命部，相對於該基板固持部之列，設於該移動部之移動路側，用以使對於該基板固持部所固持之基板供給處理液的噴嘴待命；及旋轉臂，於其一端側設置以可任意裝卸之方式固持該噴嘴之噴嘴固持部，而其另一端側以可任意水平旋轉之方式設於該移動部，俾與該移動部協同，在該噴嘴待命部與用來對基板供給處理液的供給位置之間，搬運該噴嘴。
2. 如申請專利範圍第1項之液體處理裝置，其中於該噴嘴待命部有複數之噴嘴待命，由該噴嘴固持部將自該複數之噴嘴中所選擇之噴嘴予以固持。
3. 如申請專利範圍第1項之液體處理裝置，其中設置用來對該噴嘴供給該處理液之配管，該配管自於該噴嘴待命部待命之該噴嘴起，相對於該基板固持部之列平行延伸。
4. 如申請專利範圍第3項之液體處理裝置，其中將該噴嘴待命部設置成使其位置相對於各基板固持部為固定。
5. 如申請專利範圍第2至4項中任一項之液體處理裝置，其中該複數之噴嘴各自包含由該噴嘴固持部所固持之被固持部，各噴嘴於該噴嘴待命部待命，俾該移動部位於預先設定的噴嘴之傳遞位置時，各被固持部位於自該旋轉臂之旋轉軸起俯視觀察等距離之位置。
6. 如申請專利範圍第1至4項中任一項之液體處理裝置，其中設有控制部，其輸出控制信號以控制該旋轉臂的沿旋轉方向之方向、及該移動部之移動，設有3個以上該基板固持部，該控制部輸出控制信號，俾繞過由設於第1基板固持部與第2基板固持部之間的第3基板固持部所固持之基板上，使噴嘴從由第1基板固持部所固持之基板上，搬運至由第2基板固持部所固持之基板上。
7. 如申請專利範圍第1至4項中任一項之液體處理裝置，其中該移動部包含進退部，該進退部可在該移動部之移動路側與該基板固持部之列側之間任意移動，該旋轉臂之另一端側，設於該進退部。
8. 一種液體處理方法，包含下列程序：使一移動部沿左右方向移動，該移動部係設置成在前後方向遠離沿左右方向排列而分別用來固持基板的複數之基板固持部所構成之列；使將處理液供給至由該基板固持部所固持之基板的噴嘴，在噴嘴待命部待命，該噴嘴待命部相對於該基板固持部之列設於該移動部之移動路側； 於噴嘴固持部以可任意裝卸之方式固持著噴嘴，該噴嘴固持部係設於一旋轉臂的一端側，而該旋轉臂的另一端側以可任意水平旋轉之方式設於該移動部；及藉由該移動部之移動與旋轉臂之旋轉的協同作業，在該噴嘴待命部與用來對基板供給處理液的供給位置之間，搬運噴嘴。
9. 如申請專利範圍第8項之液體處理方法，更包含下列程序：複數之噴嘴於該噴嘴待命部待命，該噴嘴固持部，將由該複數之噴嘴中所選擇之噴嘴予以固持。
10. 如申請專利範圍第8項之液體處理方法，其中該基板固持部設有3個以上，該液體處理方法更包含下列程序：繞過由設於第1基板固持部與第2基板固持部之間的第3基板固持部所固持之基板上，使噴嘴從由第1基板固持部所固持之基板上，搬運至由第2基板固持部所固持之基板上。
11. 如申請專利範圍第8至10項中任一項之液體處理方法，其中該移動部包含進退部，該進退部可在該移動部之移動路側與該基板固持部之列側之間任意移動，且該旋轉臂之另一端側設於該進退部，在該噴嘴待命部與用來對基板供給處理液之供給位置之間搬運噴嘴之程序，包含以該進退部沿前後方向移動該旋轉臂之程序。
12. 一種記憶媒體，記憶有用於對基板進行液體處理之液體處理裝置的電腦程式，其特徵在於：該電腦程式，實施如申請專利範圍第8至10項中任一項之液體處理方法。