JP6786162B2 - 塗布装置、及び塗布方法 - Google Patents

Description

本発明は、塗布装置、及び塗布方法に関する。

ステージに載置された基板に対向する位置にノズルを配置し、基板とノズルを相対移動させながらノズルから液状体を吐出させることにより、基板上に液状体を塗布する塗布装置が知られている。上述のような塗布装置の場合、例えば、ノズルのメンテナンス、あるいは、塗布に使用する液状体を交換する際に、ノズルの交換が行われる。例えば、複数のノズルを基板の移動経路上に切り替えて配置する塗布装置が提案されている（例えば、下記の特許文献１参照）

特開２００８−１６００４４号公報

ノズルの交換は、塗布装置の動作を停止して行うため、生産性を低下させる。このため、迅速にノズルの交換を行うことが可能な塗布装置が望まれている。

以上のような事情に鑑み、本発明は、迅速にノズルの交換を行うことが可能な塗布装置、及び塗布方法を提供することを目的とする。

本発明の第１の態様においては、塗布装置が提供される。塗布装置は、基板を載置するステージを備える。塗布装置は、液状体を吐出可能な複数のノズルから１つを選択して支持し、かつ、支持したノズルを昇降させる昇降駆動部を備えるノズル支持部を備える。塗布装置は、ノズル支持部とステージとを相対的に移動させる駆動部を備える。塗布装置は、ノズル支持部に対してノズルの受け渡しを行う複数のノズル受け渡し機構を備える。

本発明の第２の態様においては、塗布方法が提供される。塗布方法は、基板に液状体を塗布する方法である。塗布方法は、基板をステージに載置することを含む。塗布方法は、液状体を吐出可能な複数のノズルをそれぞれ保持する複数の受け渡し機構により、ノズルを昇降させる昇降駆動部を備えるノズル支持部に対してノズルの受け渡しを行うことで複数のノズルから１つを選択して、ノズル支持部に支持することを含む。塗布方法は、ノズル支持部とステージとを相対的に移動させながら、基板にノズルにより液状体を塗布することを含む。

本発明によれば、迅速にノズルの交換を行うことができる。

第１実施形態に係る塗布装置の一例を示す上面図である。 図１のＡ−Ａ線に沿った断面の断面図である。 図１のＢ−Ｂ線に沿った断面の断面図である。 実施形態に係る塗布方法の一例を示すフローチャートである。 （Ａ）及び（Ｂ）は、塗布装置の動作の一例を示す図である。 図５に続いて、（Ａ）及び（Ｂ）は塗布装置の動作の一例を示す図である。 図６に続いて、（Ａ）及び（Ｂ）は塗布装置の動作の一例を示す図である。 （Ａ）及び（Ｂ）は、ノズル支持部及びノズル受け渡し機構のノズル保持部の第１の例を示す図である。 ノズル支持部及びノズル受け渡し機構のノズル保持部の第２の例を示す図である。 ノズル支持部及びノズル受け渡し機構のノズル保持部の第３の例を示す図である。 （Ａ）及び（Ｂ）は、位置決め部の一例を示す図である。 第２実施形態に係る塗布装置の一例を示す図である。 第３実施形態に係る塗布装置の一例を示す図である。 第４実施形態に係る塗布装置の一例を示す上面図である。 （Ａ）は、第４実施形態のノズルを示す図である。（Ｂ）は、第４実施形態のノズル及びガントリを示す図である。 （Ａ）は、第４実施形態のノズル受け渡し機構を示す図である。（Ｂ）は、ノズル保持部の拡大図である。 （Ａ）及び（Ｂ）は、塗布装置の動作の一例を示す図である。 図１７に続いて、（Ａ）及び（Ｂ）は、塗布装置の動作の一例を示す図である。 図１８に続いて、（Ａ）及び（Ｂ）は、塗布装置の動作の一例を示す図である。 ノズル受け渡し機構の他の例を示す図である。

［第１実施形態］
第１実施形態について説明する。以下の説明において、適宜、図１などに示すＸＹＺ直交座標系を参照する。このＸＹＺ直交座標系は、Ｘ方向およびＹ方向が水平方向（横方向）であり、Ｚ方向が鉛直方向である。また、各方向において、適宜、矢印の先端と同じ側を＋側（例、＋Ｚ側）、矢印の先端と反対側を−側（例、−Ｚ側）と称す。例えば、鉛直方向（Ｚ方向）において、上方が＋Ｚ側であり、下方が−Ｚ側である。なお、図面においては、実施形態を説明するため、一部または全部を模式的に記載するとともに、一部分を大きくまたは強調して記載する等適宜縮尺を変更して表現した部分を含む。

図１は、第１実施形態に係る塗布装置の一例を示す上面図である。図２は、図１のＡ−Ａ線に沿った断面を−Ｙ方向から見た断面図である。図３は、図１のＢ−Ｂ線に沿った断面を−Ｙ方向から見た断面図である。本実施形態の塗布装置１は、基板Ｓに液状体Ｌ（図７（Ｂ）参照）を塗布する。塗布装置１は、例えば、フレーム２と、制御部３と、ステージ４と、ステージ駆動部５（駆動部）と、ノズルＮＺと、ノズル支持部６と、ノズル受け渡し機構７と、を備える。

フレーム２は、各部を支持する。フレーム２は、例えば、ステージ支持部９と、ガントリ１０と、を含む（図２及び図３参照）。ステージ支持部９は、例えば、ステージ４をＸ方向と平行な方向に移動可能に支持する。ステージ支持部９は、例えば、脚部９ａと、基台９ｂと、を備える。脚部９ａは、床面に設置され、基台９ｂを下方から支持する。脚部９ａは、例えば、４つの部材で構成され、基台９ｂの四つの角部の下方に配置される。基台９ｂは、例えば、上方から見て矩形状である。基台９ｂは、ステージ４を下方から、ガイド（図示せず）等を介して、Ｘ方向と平行な方向に移動可能に支持する。

ガントリ１０は、一対の支柱部１０ａと、架橋部１０ｂとを有する（図１〜図３参照）。支柱部１０ａはステージ４をＹ方向に挟んで２つ設けられている（図１参照）。各支柱部１０ａは、それぞれ、鉛直方向に延びており、床面に設置される（図２及び図３参照）。各支柱部１０ａは、架橋部１０ｂを支持する。架橋部１０ｂは、Ｙ方向と平行な方向に延びている。架橋部１０ｂは、その両端が、それぞれ、各支柱部１０ａの上端側（＋Ｚ側）の面に接続されている（図１参照）。架橋部１０ｂは、後に説明するノズル支持部６を支持する。なお、ガントリ１０は移動可能でもよい。例えば、ガントリ１０は、基台９ｂに対してＸ方向に移動可能な構成でもよい。

制御部３は、各部を制御する。制御部３は、塗布装置１の各部と通信可能に接続される。制御部３は、例えば、ＣＰＵ（図示せず）、ハードディスクやメモリなどの記憶装置（図示せず）を備えるコンピュータ装置である。制御部３は、例えば、塗布装置１の各部を制御するプログラムを実行可能である。このプログラムは、例えば、予め記憶装置に記憶される。なお、制御部３は、例えば、キーボード、マウス、タッチパネル等の入力装置と接続されてもよいし、また、ディスプレイ等の表示装置と接続されてもよい。

ステージ４は、基板Ｓを載置する。ステージ４は、基台９ｂの上方に、基台９ｂにＸ方向に移動可能に支持される。ステージ４は、例えば、上方から見て矩形状である（図１参照）。ステージ４は、例えば、ＸＹ平面（水平面）と平行な上面を含む。上面は、例えば、定盤で形成される。基板Ｓは、上面に載置されることにより、基板ＳはＸＹ平面と平行（水平面）な面に配置される。基板Ｓは、例えば、ステージ４に設けられる位置決め機構（図示せず）により位置決めされて、上面に設けられる吸着部（図示せず）により吸着されることにより、上面に支持される。

ステージ駆動部５は、ステージ４を駆動する。ステージ駆動部５は、例えば、電動モータ等である。ステージ駆動部５は、例えば、ステージ４を基台９ｂに対して、Ｘ方向と平行な方向に移動させる。ステージ４は、ステージ駆動部５の駆動により、後に説明するノズル支持部６に対して、相対的に移動する。ステージ駆動部５は、例えば、制御部３と通信可能に接続され、駆動のタイミング、駆動量、駆動方向、駆動の速度などが制御部３に制御され、ステージ４を所定位置に移動させる。なお、ステージ駆動部５は、制御部３に接続されなくてもよい。例えば、ステージ駆動部５は、ステージ４のユーザが手動により駆動する構成でもよい。

ノズルＮＺは、基板Ｓに液状体Ｌを塗布する。本実施形態では、塗布装置１は、複数のノズルＮＺ（ＮＺ１、ＮＺ２）を備える。例えば、図１に示す例では、ノズルＮＺ１は、ノズル支持部６に支持され塗布可能な状態であり、ノズルＮＺ２は後に説明するノズル受け渡し機構７Ｂに支持されるノズルＮＺ１との交換用のノズルである。例えば、ノズルＮＺ１、ＮＺ２は、それぞれ、スリットノズルである。ノズルＮＺ１、ＮＺ２は、それぞれ、液状体Ｌを吐出する吐出口ＯＰ（図２（Ｂ）参照）を有する。例えば、吐出口ＯＰは、例えば、下方向に向いたスリット状の開口である。

ノズルＮＺ１、ＮＺ２は、それぞれ、対応するノズル受け渡し機構７の送液部１９に接続される。ノズルＮＺ１は、ノズル受け渡し機構７Ａの送液部１９に接続され、ノズル支持部６及びノズル受け渡し機構７Ａのいずれかに支持される。ノズルＮＺ２は、ノズル受け渡し機構７Ｂの送液部１９に接続され、ノズル支持部６及びノズル受け渡し機構７Ａのいずれかに支持される。ノズルＮＺ１、ＮＺ２は、それぞれ、例えば、パイプなどの配管（図示せず）により、対応する送液部１９に接続される。ノズルＮＺ１、ＮＺ２は、塗布の際、送液部１９からの液状体Ｌの供給により、吐出口ＯＰから液状体Ｌを吐出して、基板Ｓに液状体Ｌを塗布する。ノズル受け渡し機構７、送液部１９については、後に説明する。

なお、ノズルＮＺは、スリットノズルに限定されず、任意である。例えば、ノズルＮＺは、インクジェット方式のノズル、バーコーター、ディスペンサーノズル等でもよい。また、複数のノズルＮＺは、それぞれ、異なる種類のノズルでもよい。また、複数のノズルＮＺは、用途が異なるノズルを含んでもよい。例えば、ノズルＮＺ１及びノズルＮＺ２は、互いに異なる種類の液状体Ｌの塗布に用いてもよい。また、複数のノズルＮＺ１、ＮＺ２は、それぞれ、送液部１９に接続されなくてもよい。例えば、複数のノズルＮＺ１、ＮＺ２は、それぞれ、塗布の際に、送液部１９に接続してもよい。

ノズル支持部６は、複数のノズルＮＺから１つを選択して支持し、かつ、支持したノズルＮＺを昇降させる。ノズル支持部６は、例えば、ガイド部１２と、支持部１３と、ノズル保持部１４、昇降駆動部１５と、を備える。ノズル支持部６は、例えば、ガントリ１０に支持される。

ガイド部１２は、例えば、ガントリ１０の架橋部１０ｂに支持される。ガイド部１２は、支持部１３を鉛直方向に移動可能に支持する。支持部１３は、ノズル保持部１４を支持する。ガイド部１２は、例えば、支持部１３、ノズル保持部１４及びノズルＮＺを、鉛直方向（Ｚ方向と平行な方向）に移動可能に支持する。

ノズル保持部１４は、ノズルＮＺを保持する。ノズル保持部１４は、位置決めしてノズルＮＺを保持する。ノズル保持部１４は、保持したノズルＮＺを開放可能に形成される。ノズル保持部１４は、例えば、支持部１３に取り付けられている。ノズル保持部１４は、後に説明するノズル受け渡し機構７との間でノズルＮＺの受け渡しが可能に構成される。ノズル保持部１４は、例えば、後に説明するノズル受け渡し機構７からノズルＮＺが受けとる際には、ノズルＮＺを受けとって保持し、また、ノズル受け渡し機構７にノズルＮＺを受け渡す際には、支持するノズルＮＺを開放してノズル受け渡し機構７に渡す。なお、ノズル保持部１４のノズルＮＺの保持及び開放の機構については、後に図８〜図１１において説明する。また、ノズルＮＺの位置決めの機構については、後に図１１において説明する。

昇降駆動部１５は、ノズルＮＺを昇降させる。昇降駆動部１５は、支持部１３に接続される。昇降駆動部１５は、例えば、支持部１３を昇降させることにより、ノズル保持部１４に保持されたノズルＮＺを基板Ｓに対して昇降させる。昇降駆動部１５は、例えば、電動モータ等である。昇降駆動部１５は、支持部１３を所定位置に移動可能である。例えば、昇降駆動部１５は、塗布の際、ノズルＮＺの吐出口ＯＰと基板Ｓとの間隔が所定の間隔になるように、支持部１３を駆動する。昇降駆動部１５は、例えば、制御部３と通信可能に接続され、その駆動が制御部３に制御される。昇降駆動部１５は、例えば、駆動のタイミング、駆動量、駆動方向、駆動の速度などが制御部３に制御される。なお、昇降駆動部１５は、制御部３に接続されなくてもよい。例えば、昇降駆動部１５は、ユーザが手動で昇降を制御する構成でもよい。また、昇降駆動部１５はなくてもよい。例えば、ノズル支持部６は、ユーザが人力により支持部１３を昇降させる構成でもよい。

上記のように構成されたノズル支持部６は、ノズルＮＺ１、ＮＺ２からノズルＮＺ１あるいはノズルＮＺ２を選択してノズル保持部１４により支持する。例えば、図１に示す例では、ノズル支持部６は、ノズルＮＺ１、ＮＺ２からノズルＮＺ１を選択して、支持している。また、ノズル支持部６は、支持したノズルＮＺ１を、塗布等の際、昇降駆動部１５の駆動により昇降させ、所定の位置に配置する。

次に、ノズル受け渡し機構７について説明する。ノズル受け渡し機構７は、ノズル支持部６に対してノズルＮＺの受け渡しを行う。塗布装置１は、例えば、複数のノズル受け渡し機構７（７Ａ、７Ｂ）を備える。ノズル受け渡し機構７Ａ、７Ｂは、それぞれ、例えば、旋回部１８と、送液部１９と、を備える。ノズル受け渡し機構７Ａ、７Ｂは、それぞれ、ステージ４近傍に配置される。例えば、ノズル受け渡し機構７Ａ、７Ｂは、それぞれ、ステージ４の−Ｙ側及び＋Ｙ側に配置される。

本実施形態では、ノズル受け渡し機構７Ａ、７Ｂは、それぞれ、同様の構成である。以下の説明では、ノズル受け渡し機構７Ａを例に説明をする。

旋回部１８は、上下方向（鉛直方向）を軸としてノズルＮＺを旋回可能に保持する。旋回部１８は、例えば、軸部２０と、支持部２１と、旋回駆動部２２と、ノズル保持部２３と、を備える。

軸部２０は、鉛直方向に延びている。軸部２０は、例えば、床面に固定される。なお、軸部２０は、床面以外に固定されてもよい。例えば、軸部２０はフレーム２（例、基台９ｂ）に固定されてもよい。軸部２０は、支持部２１を、取り付け部材（図示せず）を介して、軸部２０の鉛直方向の軸まわりに回転可能に支持する。

支持部２１は、ノズル保持部２３を支持する。支持部２１は、軸部２０の軸周りに旋回する。支持部２１は、旋回駆動部２２に接続され、旋回駆動部２２の駆動により旋回する。軸部２０及び支持部２１は、ノズルＮＺがノズル保持部２３に保持された状態において、支持部２１を旋回した際に、ノズルＮＺの下端が、ステージ４に載置された基板Ｓに干渉しないよう、ステージ４に載置された基板Ｓの上方に配置されるように、形成されている（図２に示すノズル受け渡し機構７Ｂを参照）。

旋回駆動部２２は、支持部２１を駆動して、旋回させる。旋回駆動部２２は、例えば、電動モータ等である。旋回駆動部２２は、例えば、制御部３と通信可能に接続され、その駆動が制御部３に制御される。旋回駆動部２２は、例えば、駆動のタイミング、駆動量、駆動方向、駆動の速度などが制御部３に制御され、支持部２１を所定位置に移動させる。なお、旋回駆動部２２は、制御部３に接続されなくてもよい。例えば、旋回駆動部２２は、ユーザが手動で旋回を制御する構成でもよい。また、旋回駆動部２２はなくてもよい。例えば、ノズル受け渡し機構７は、ユーザが人力により支持部２１を旋回させる構成でもよい。

ノズル保持部２３は、ノズルＮＺを保持する。ノズル保持部２３は、保持したノズルＮＺを開放可能に構成される。ノズル保持部２３は、例えば、ノズル支持部６のノズル保持部１４との間でノズルＮＺの受け渡しが可能に構成される。ノズルＮＺの受け渡しについては、後に説明する。なお、ノズル保持部２３のノズルＮＺの保持及び開放の機構については、後に図８〜図１１において説明する。

送液部１９は、ノズルＮＺに液状体Ｌを供給する。送液部１９は、例えば、ポンプである。送液部１９は、例えば、図３に示すように、ワゴン２５に形成されている。ワゴン２５は、例えば、ステージ４の側方（Ｙ方向と平行な方向）に配置される。ワゴン２５は、例えば、旋回部１８に対してステージ４から離れる側（−Ｙ側）の近傍に配置される。ワゴン２５は、例えば、複数の車輪２５ａと、収容部２５ｂと、送液部１９と、を備える。ワゴン２５は、収容部２５ｂの下部に設けられる複数の車輪２５ａにより移動可能に形成されている。収容部２５ｂは、箱体に形成され、内部に物品を収容可能である。例えば、収容部２５ｂの内部には、液状体Ｌを格納する複数の容器２７が収容されている。送液部１９は、例えば、収容部２５ｂの上部の管部２５ｃに配置される。送液部１９は、例えば、収容部２５ｂに収容される容器２７と、管部２５ｃを介して、パイプなどの配管（図示せず）により接続される。また、送液部１９は、例えば、複数のノズルＮＺのうちの、対応する所定のノズルＮＺとパイプなどの配管（図示せず）により接続される。例えば、ノズル受け渡し機構７Ａの送液部１９は、ノズルＮＺ１に接続され、ノズル受け渡し機構７Ｂの送液部１９は、ノズルＮＺ２に接続される。なお、ノズルＮＺ１と送液部１９までの配管の長さと、ノズルＮＺ２と送液部１９までの配管の長さは、ほぼ同一に設定される。この場合、送液部１９の制御をノズルＮＺ１とノズルＮＺ２で同様にすることができる。

送液部１９は、容器２７に格納された液状体Ｌを所定量ノズルＮＺに対して送液する。送液部１９は、制御部３と通信可能に接続され、制御部３によりその動作が制御される。送液部１９は、例えば、ノズルＮＺに液状体Ｌを供給するタイミング、ノズルＮＺに供給する液状体Ｌの量などが、制御部３により制御される。送液部１９は、例えば、制御部３の制御により駆動し、容器２７に格納された液状体Ｌを所定の量、ノズルＮＺに供給する。これにより、塗布の際、ノズル支持部６に支持されるノズルＮＺは、送液部１９の液状体Ｌの供給により、吐出口ＯＰから所定量の液状体Ｌを基板Ｓに対して吐出して、液状体Ｌを基板Ｓに塗布する。

なお、送液部１９及び容器２７のうち少なくとも一つは、ワゴン２５に形成されなくてもよい。また、塗布装置１がワゴン２５を備えるか否かは、任意である。

以上のように構成されるノズル受け渡し機構７Ａ、７Ｂは、それぞれ、受け渡し位置Ｐ１Ａ、Ｐ１Ｂと、待機位置Ｐ２Ａ、Ｐ２Ｂとの間を移動して、受け渡し位置Ｐ１Ａ、Ｐ１Ｂで、ノズル支持部６に対してノズルＮＺの受け渡しを行い、待機位置Ｐ２Ａ、Ｐ２Ｂで待機する（図５（Ａ）、図６（Ａ）参照）。なお、本実施形態のノズル受け渡し機構７Ａ、７Ｂは、それぞれ、旋回による水平のみの移動により、受け渡し位置Ｐ１Ａ、Ｐ１Ｂと、待機位置Ｐ２Ａ、Ｐ２Ｂとの間を移動可能に形成されている。この場合、迅速にノズルＮＺの受け渡しをすることができる。

受け渡し位置Ｐ１Ａ、Ｐ１Ｂは、それぞれ、ノズル支持部６とノズル受け渡し機構７Ａ、７Ｂとの間で、ノズルＮＺの受け渡しが可能な位置に設定される。例えば、ノズル受け渡し機構７Ａ、７Ｂは、それぞれ、受け渡し位置Ｐ１Ａ、Ｐ１Ｂにおいて、支持部２１の長手方向が、ステージ４の移動方向と直交する方向（Ｙ方向と平行な方向）になるように形成されている。

待機位置Ｐ２Ａ、Ｐ２Ｂは、それぞれ、ノズル受け渡し機構７Ａ、７ＢがノズルＮＺを保持したときに、ノズルＮＺがステージ４の上方から外れた位置に設定される。ノズル受け渡し機構７Ａ、７Ｂは、それぞれ、待機位置Ｐ２Ａ、Ｐ２Ｂにおいて、支持部２１の長手方向が、Ｘ方向と平行な方向になるように形成される。例えば、ノズル受け渡し機構７Ａ、７Ｂは、それぞれ、待機位置Ｐ２Ａ、Ｐ２Ｂにおいて、ノズルＮＺのメンテナンスなどが行われる。

以下、塗布装置１の動作に基づいて、本実施形態に係る塗布方法を説明する。図４は、実施形態に係る塗布方法のフローチャートである。図５〜図７は、塗布装置１の動作の一例を示す図である。なお、図４を説明する際、適宜、図１〜図３、及び図５〜図７を参照する。

本塗布方法は、基板Ｓに液状体Ｌを塗布する方法である。本塗布方法は、例えば、図４に示すステップＳ１において、ノズルＮＺを保持していないノズル受け渡し機構７Ａを、ノズル支持部６に対して進出させる。例えば、図５（Ａ）に示すように、ノズルＮＺを保持していない待機位置Ｐ２Ａに位置するノズル受け渡し機構７Ａは、制御部３の制御により旋回駆動部２２が駆動して、旋回部１８が旋回することにより、受け渡し位置Ｐ１Ａに移動する。ノズル受け渡し機構７Ａは、旋回による水平のみの移動により、受け渡し位置Ｐ１Ａと待機位置Ｐ２Ａとの間を移動可能に形成されているので、迅速に移動することができる。

続いて、図４に示すステップＳ２において、ノズル受け渡し機構７ＡによりノズルＮＺを保持する。例えば、受け渡し位置Ｐ１Ａにおいて、ノズル受け渡し機構７Ａは、ノズル支持部６が保持している状態のノズルＮＺ１を、ノズル保持部２３で保持する。この時、ノズルＮＺ１は、ノズル支持部６のノズル保持部１４及びノズル受け渡し機構７Ａのノズル保持部２３の両方の保持機構により保持される。

続いて、図４に示すステップＳ３において、ノズル支持部６によるノズルＮＺの保持を開放する。例えば、ノズル支持部６は、ノズル受け渡し機構７ＡがノズルＮＺ１を保持している状態で、ノズルＮＺ１を開放し、ノズルＮＺ１がノズル受け渡し機構７Ａに渡される。ノズルＮＺ１は、ノズル支持部６とノズル受け渡し機構７Ａとのいずれかに保持された状態で、受け渡しが行われるので、確実にノズルＮＺの受け渡しを行うことができる。

続いて、図４に示すステップＳ４において、ノズル受け渡し機構７Ａを退避する。ノズル支持部６に選択されないノズルＮＺ１は、ノズル受け渡し機構７Ａによりステージの上方から退避する。例えば、図５（Ｂ）に示すように、ノズル受け渡し機構７Ａは、ノズルＮＺ１を保持している状態で、制御部３の制御により旋回駆動部２２が駆動して、待機位置Ｐ２Ａに移動する。例えば、待機位置Ｐ２Ａにおいて、ノズル受け渡し機構７Ａに保持されたノズルＮＺ１は、ノズルの交換、ノズルのメンテナンスなどが行われる。

続いて、図４に示すステップＳ５において、ノズルＮＺ２を保持している別のノズル受け渡し機構７Ｂを、ノズル支持部６に対して進出させる。例えば、図６（Ａ）に示すように、ノズルＮＺ２を保持している待機位置Ｐ２Ｂに位置するノズル受け渡し機構７Ｂは、制御部３の制御により旋回駆動部２２が駆動して、旋回部１８が旋回することにより、受け渡し位置Ｐ１Ｂに移動する。ノズル受け渡し機構７Ｂは、旋回による水平方向のみの移動により、受け渡し位置Ｐ１Ｂと待機位置Ｐ２Ｂとの間を移動可能に形成されているので、迅速に移動することができる。

続いて、図４に示すステップＳ６において、ノズル支持部６によりノズルＮＺ２を保持する。例えば、受け渡し位置Ｐ２Ａにおいて、ノズル支持部６は、ノズル受け渡し機構７Ｂが保持している状態のノズルＮＺ２を、ノズル保持部１４で保持する。この時、ノズルＮＺは、ノズル支持部６のノズル保持部１４及びノズル受け渡し機構７Ｂのノズル保持部２３の両方の保持機構により保持される。

続いて、図４に示すステップＳ７において、ノズル受け渡し機構７ＢによるノズルＮＺ２の保持を開放する。例えば、ノズル受け渡し機構７Ｂは、ノズル支持部６がノズルＮＺを保持している状態で、ノズルＮＺ２を開放し、ノズルＮＺ２がノズル支持部６に渡される。ノズルＮＺ２は、ノズル支持部６とノズル受け渡し機構７Ａとのいずれかに保持された状態で、受け渡しが行われるので、確実にノズルＮＺの受け渡しを行うことができる。

続いて、図４に示すステップＳ８において、ノズル受け渡し機構７Ｂを退避する。例えば、図６（Ｂ）に示すように、ノズル受け渡し機構７Ｂは、制御部３の制御により旋回駆動部２２が駆動して、待機位置Ｐ２Ｂに移動し待機する。なお、ステップＳ８を行うか否かは任意である。

続いて、図４に示すステップＳ９において、ステージ４上に基板Ｓを載置する。例えば、図７（Ａ）に示すように、基板Ｓをステージ４に位置決めして載置する。なお、基板Ｓの載置は、例えば、ユーザが人力により行ってもよいし、搬送装置等の装置により行ってもよい。

続いて、図４に示すステップＳ１０において、ステージ４を移動させて基板Ｓ上に液状体Ｌを塗布する。例えば、図７（Ｂ）に示すように、ステージ４とノズル支持部６とを相対的に移動させて、基板Ｓ上に液状体Ｌを塗布する。例えば、まず、制御部３の制御により、昇降駆動部１５は、ノズルＮＺ２の下端と基板Ｓと間隔が所定の間隔になるように、支持部１３を駆動することにより、ノズルＮＺ２を移動する。次に、制御部３の制御により、ステージ駆動部５はステージ４を−Ｘ方向に移動させながら、送液部１９が所定の量の液状体ＬをノズルＮＺ２に供給する。これにより、ノズルＮＺ２は、液状体Ｌを吐出口ＯＰから吐出して、基板Ｓ上に液状体Ｌを塗布する。基板Ｓへの液状体Ｌの塗布が終了の後、基板Ｓを搬出する。基板Ｓの搬出は、例えば、ユーザが手動により行ってもよいし、搬送装置などにより行ってもよい。なお、ステップＳ９によるステージ４上の基板Ｓの載置は、例えば、上記したステップＳ１の開始前に行ってもよい。

次に、ノズル支持部６のノズル保持部１４及びノズル受け渡し機構７のノズル保持部２３について説明する。図８〜図１０は、それぞれ、ノズル支持部６及びノズル受け渡し機構７のノズル保持部の第１の例〜第３の例を示す図である。

ノズル支持部６のノズル保持部１４及びノズル受け渡し機構７のノズル保持部２３は、それぞれ、互いにノズルＮＺの受け渡しが可能であれば、構成は任意である。ノズル支持部６のノズルＮＺの保持機構は、例えば、図８〜図１０に示す第１の例〜第３の例のいずれの構成を用いてもよい。

まず、図８（Ａ）及び（Ｂ）に示すノズル支持部６のノズル保持部１４Ａ、及びノズル受け渡し機構７のノズル保持部２３Ａの第１の例について説明する。第１の例のノズル支持部６のノズル保持部１４Ａ、及びノズル受け渡し機構７のノズル保持部２３Ａは、それぞれ、ノズルＮＺをノズルＮＺの長手方向で挟み込むことにより、ノズルＮＺを保持する。ノズル支持部６のノズル保持部１４Ａ及びノズル受け渡し機構７のノズル保持部２３Ａは、それぞれ、把持部３０を備える。

ノズル支持部６の把持部３０は、例えば、図８（Ａ）に示すように、ノズルＮＺを長手方向（Ｙ方向と平行な方向）に挟みこむことが可能に形成される一対の把持部材である。一対の把持部材は、ノズルＮＺの長手方向にノズルＮＺを挟んで配置される。一対の把持部材は、それぞれ、凹部３０ａを有している。凹部３０ａは、ノズルＮＺの長手方向の端部を挿入可能に形成されている。一対の把持部材は、支持部１３に支持される。一対の把持部材は、図示しないガイドを介して、支持部１３に対してノズルＮＺの長手方向と平行な方向に移動可能に、支持部１３に支持される。一対の把持部材は、ノズルＮＺを保持する際、ノズルＮＺに近づく方向に移動することにより、ノズルＮＺの長手方向の端部が凹部３０ａに挿入され、ノズルＮＺを押圧することでノズルＮＺを支持する。また、一対の把持部材は、ノズルＮＺを保持から解放する際、ノズルＮＺに離れる方向に移動することにより、ノズルＮＺの長手方向の端部が凹部３０ａからはずれることで、ノズルＮＺを解放する。

次に、ノズル受け渡し機構７の把持部３０は、一対の把持部材が支持部２１に支持される。ノズル受け渡し機構７の把持部３０は、配置される位置が異なる以外は、ノズル支持部６の把持部３０と同様に構成される。ノズル受け渡し機構７の把持部３０は、ノズルＮＺの長手方向から挟んで保持し、把持部３０によりノズルＮＺの挟み込みを解除することにより、保持したノズルＮＺを開放する。

ノズル支持部６の把持部３０とノズル受け渡し機構７の把持部３０とは、図８（Ｂ）に示すように、それぞれ、ノズルＮＺの受け渡しをする位置Ｐ１Ａ、Ｐ１Ｂ（図５（Ａ）、図６（Ａ）参照）において、異なる高さになるように形成されている。例えば、図８（Ｂ）に示す例では、位置Ｐ１Ａ、Ｐ１Ｂにおいて、ノズル支持部６の把持部３０は、ノズル受け渡し機構７の把持部３０に対して、下方に位置するように形成されている。なお、位置Ｐ１Ａ、Ｐ１Ｂにおいて、ノズル支持部６の把持部３０は、ノズル受け渡し機構７の把持部３０に対して、上方に位置するように形成されていてもよい。

第１の例では、ノズル支持部６の把持部３０とノズル受け渡し機構７の把持部３０とが、図８（Ｂ）に示すように、それぞれ、ノズルＮＺの受け渡しをする位置Ｐ１（図５（Ａ）、図６（Ａ）参照）において、異なる高さになるように形成されているので、ノズル支持部６の把持部３０及びノズル受け渡し機構７の把持部３０において、それぞれのノズル保持動作及びノズル開放動作は、干渉せず、独立して行うことができる。これにより、ノズル支持部６及びノズル受け渡し機構７の一方がノズルＮＺを保持した状態で、他方がノズルＮＺを開放することができる。

続いて、図９に示すノズル支持部６のノズル保持部１４及びノズル受け渡し機構７のノズル保持部２３の第２の例について説明する。第２の例のノズル支持部６のノズル保持部１４Ｂ及びノズル受け渡し機構７のノズル保持部２３Ｂは、それぞれ、把持部３２を備え、ノズルＮＺに設けられた被把持部３１を、把持部３２により挟み込むことでノズルＮＺを保持する。

図９に示すように、ノズルＮＺには、被把持部３１が設けられている。被把持部３１は、ノズルＮＺの短手方向（Ｘ方向と平行な方向）の両側のそれぞれの面に設けられている。被把持部３１は、例えば、突出部３１ａを有するフランジ部材である。ノズル支持部６に近い側（−Ｘ側）に設けられた被把持部３１は、ノズル支持部６の把持部３２に挟み込まれる。また、ノズル支持部６に対して離れた側（＋Ｘ側）に設けられた被把持部３１は、ノズル受け渡し機構７の把持部３２に挟み込まれる。

ノズル支持部６の把持部３２は、例えば、図９に示すように、被把持部３１の突出部３１ａをノズルＮＺの長手方向（Ｙ方向と平行な方向）に挟みこむことが可能に形成される、一対の把持部材である。一対の把持部材は、被把持部３１をノズルＮＺの長手方向を挟んで配置される。一対の把持部材は、それぞれ、凹部３２ａを有している。凹部３２ａは、被把持部３１の突出部３１ａを挿入可能に形成されている。一対の把持部材は、支持部１３に支持される。一対の把持部材は、図示しないガイドを介して、支持部１３に対してノズルＮＺの長手方向と平行な方向に移動可能に、支持部１３に支持される。一対の把持部材は、ノズルＮＺを保持する際、ノズルＮＺに近づく方向に移動することにより、ノズルＮＺのノズル支持部６側の突出部３１ａが凹部３２ａに挿入され、突出部３１ａを押圧することでノズルＮＺを支持する。また、一対の把持部材は、ノズルＮＺを保持から解放する際、ノズルＮＺから離れる方向に移動することにより、突出部３１ａが凹部３２ａからはずれることで、ノズルＮＺを開放する。

ノズル受け渡し機構７の把持部３２は、一対の把持部材が支持部２１に支持される点以外は、ノズル支持部６の把持部３２と同様に構成され、ノズルＮＺのノズル支持部６から離れた側の突出部３１ａを長手方向から挟むことによりノズルＮＺを保持し、把持部３２によりノズルＮＺの挟み込みを解除することにより、保持したノズルＮＺを開放する。

本例では、被把持部３１は、ノズルＮＺの短手方向のそれぞれの面に設けられているので、ノズル支持部６の把持部３２及びノズル受け渡し機構７の把持部３２は、位置Ｐ１（図５（Ａ）、図６（Ａ）参照）において、ノズルＮＺの短手方向に対して反対側において、それぞれのノズル保持動作及びノズル開放動作を、干渉せず、独立して行うことができる。これにより、ノズル支持部６及びノズル受け渡し機構７の一方がノズルＮＺを保持した状態で、他方がノズルＮＺを開放することができるので、ノズルＮＺの受け渡しを確実に行うことができる。

なお、被把持部３１及び把持部３２は、それぞれ、被把持部３１を把持部３２により把持（保持）可能であれば、任意の構成を用いることができる。また、把持部３２は、例えば、駆動部（不図示）により行われてもよい。

続いて、図１０に示すノズル支持部６のノズル保持部１４及びノズル受け渡し機構７のノズル保持部２３の第３の例について説明する。第３の例のノズル支持部６のノズル保持部１４Ｃ及びノズル受け渡し機構７のノズル保持部２３Ｃは、それぞれ、電磁石部３８を備え、ノズルＮＺに設けられた被吸着部３７を電磁石部３８が吸着することで、ノズルＮＺを保持する。

図１０に示すように、ノズルＮＺには、それぞれ、被吸着部３７が設けられている。被吸着部３７は、ノズルＮＺの短手方向（Ｘ方向と平行な方向）のそれぞれの面に設けられている。被吸着部３７は、電磁石部３８に吸着可能な鉄などの磁性材料により形成される。

ノズル支持部６の電磁石部３８は、例えば、磁性材料で形成される芯のまわりにコイルが巻かれ、通電することによって一時的に磁力を発生させる磁石である。ノズル支持部６の電磁石部３８は、電源（図示せず）及びスイッチ３９に接続され、通電および遮断の切り替えが行われる。電磁石部３８は、支持部１３に支持される。電磁石部３８は、スイッチ３９で通電することにより、磁力が発生して被吸着部３７を吸着して、ノズルＮＺを保持する。電磁石部３８は、スイッチ３９で遮断することにより、磁力がなくなり被吸着部３７との吸着が解除されて、ノズルＮＺを開放する。スイッチ３９による通電および遮断の切り替えは、例えば、制御部３により制御される。なお、スイッチ３９による通電および遮断の切り替えは、ユーザが手動により行う構成でもよい。

ノズル受け渡し機構７のノズル保持部２３Ｃは、電磁石部３８が支持部２１に支持される点以外は、ノズル支持部６のノズル保持部１４Ｃと同様に構成され、ノズルＮＺに設けられた被吸着部３７に電磁石部３８が吸着することによりノズルＮＺを保持し、電磁石部３８による被吸着部３７の吸着を解除することにより、保持したノズルＮＺを開放する。

本例では、被吸着部３７は、ノズルＮＺの短手方向のそれぞれの面に設けられているので、ノズル支持部６の電磁石部３８及びノズル受け渡し機構７の電磁石部３８は、位置Ｐ１（図５（Ａ）、図６（Ａ）参照）において、ノズルＮＺの短手方向に対して反対側において、それぞれのノズル保持動作及びノズル開放動作を、干渉せず、独立して行うことができる。これにより、ノズル支持部６及びノズル受け渡し機構７の一方がノズルＮＺを保持した状態で、他方がノズルＮＺを開放することができる。

次に、位置決め部４１について説明する。図１１（Ａ）及び（Ｂ）は、位置決め部の一例を示す図であり、（Ａ）は上方から見た図であり、（Ｂ）は側方から見た図である。

以下、図８（Ａ）及び（Ｂ）に示すノズル支持部６のノズル保持部１４Ａの位置決め部４１を例に説明する。位置決め部４１は、例えば、図１１（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、支持面４２と、２つの凸部４３と、２つの凹部４４と、を備える。支持面４２は、例えば、矩形平板状である。支持面４２は、例えば、支持部１３の２つの面のうちのノズルＮＺを保持する側（＋Ｘ側）の面に設けられる。支持面４２の＋Ｘ側の面は、ノズルＮＺがノズル保持部１４Ａに保持されたときに、ノズルＮＺの−Ｘ側の面に密着するように形成される。

２つの凸部４３は、支持面４２の＋Ｘ側の面の、支持面４２の高さ方向における中央部分に、Ｙ方向と平行な方向に並んで形成される。２つの凸部４３は、例えば、円錐状（テーパー状）である。２つの凹部４４は、ノズルＮＺの−Ｘ側の面に、Ｙ方向と平行な方向に並んで形成され、ノズルＮＺがノズル保持部１４Ａに保持されたときに、２つの凸部４３が嵌め合わされるように形成される。

なお、凸部４３および凹部４４の個数は、それぞれ、２つでなくてもよく、例えば、凸部４３および凹部４４の個数は、３つ以上でもよい。なお、凸部４３の形状は、円錐状（テーパー状）に限定されず、任意である。例えば、凸部４３の形状は、円柱状でもよいし、矩形柱状でもよい。

位置決め部４１は、ノズルＮＺがノズル保持部１４Ａに保持されたときに、支持面４２がノズルＮＺの−Ｘ側の面と密着することにより、ノズルＮＺのＹ軸まわり及びＺ軸まわりの移動を規制し、且つ、２つの凸部４３と２つの凹部４４とが嵌め合わされることにより、ノズルＮＺのＸ軸まわりの移動を制限する。これにより、位置決め部４１は、ノズルＮＺがノズル保持部１４Ａに保持されたときに、ノズルＮＺを所定位置に位置決めすることができる。また、２つの凸部は、円錐状（テーパー状）であるので、ノズル受け渡し機構７がノズルＮＺをノズル支持部６に対して受け渡しをする際、ノズルＮＺの位置が若干ずれていても、ノズルＮＺを位置決めすることができる。

なお、図９に示すノズル保持部１４Ｂに位置決め部４１を設ける場合、例えば、支持面４２及び２つの凸部４３は、把持部３２の上方または下方に配置され、２つの凹部４４は、ノズルＮＺがノズル保持部１４Ｂに保持されたときに、２つの凸部４３が嵌め合わされる位置に配置される。

また、図１０に示すノズル保持部１４Ｃに位置決め部４１を設ける場合、例えば、支持面４２及び２つの凸部４３は、電磁石部３８の上方または下方に配置され、２つの凹部４４は、ノズルＮＺがノズル保持部１４Ｃに保持されたときに、２つの凸部４３が嵌め合わされる位置に配置される。

なお、図８〜図１０に示すノズル受け渡し機構７に位置決め部４１を設けてもよい。例えば、図８に示すノズル受け渡し機構７のノズル保持部２３Ａに位置決め部４１を設ける場合、支持面４２及び２つの凸部４３は、ノズル保持部２３Ａの支持部２１に配置され、２つの凹部４４は、ノズルＮＺがノズル保持部１４Ａに保持されたときに、２つの凸部４３が嵌め合わされる位置に配置される。また、図９に示すノズル受け渡し機構７のノズル保持部２３Ｂに位置決め部４１を設ける場合、例えば、支持面４２及び２つの凸部４３は、ノズル保持部２３Ｂの把持部３２の上方または下方に配置され、２つの凹部４４は、ノズルＮＺがノズル保持部１４Ａに保持されたときに、２つの凸部４３が嵌め合わされる位置に配置される。また、図１０に示すノズル受け渡し機構７のノズル保持部２３Ｃに位置決め部４１を設ける場合、例えば、支持面４２及び２つの凸部４３は、電磁石部３８の上方または下方に配置され、２つの凹部４４は、ノズルＮＺがノズル保持部１４Ａに保持されたときに、２つの凸部４３が嵌め合わされる位置に配置される。

このように、本実施形態の塗布装置１および塗布方法は、ノズル支持部６に対してノズルＮＺの受け渡しを行うことで複数のノズルＮＺから１つを選択するので、ノズル支持部６を複数のノズルＮＺで共用することができる。これにより、装置のコストを抑制することができ、また、装置の構成をシンプルでコンパクトにすることができる。また、複数のノズルＮＺでノズル支持部６を共用するので、ノズルの交換による、ノズル支持部６のノズルの支持機構、あるいはノズルの駆動機構の調整に要する時間を抑制することができ、迅速にノズルの交換を行うことができる。

以上のように、本実施形態の塗布装置１及び塗布方法は、迅速にノズルの交換を行うことができる。

［第２実施形態］
第２実施形態について説明する。本実施形態において、上述の実施形態と同様の構成については、同じ符号を付してその説明を省略あるいは簡略化する。

図１２（Ａ）及び（Ｂ）は、第２実施形態に係る塗布装置１Ａを示す図であり、（Ａ）はＸ方向から見た図であり、（Ｂ）は上方から見た図である。本実施形態の塗布装置１Ａは、メンテナンス部４６を備える。塗布装置１Ａは、ワゴン２５Ａ、メンテナンス部４６以外は、第１実施形態の塗布装置１と同様の構成である。なお、図１２において、塗布装置１Ａのメンテナンス部４６以外は、図示を省略あるいは簡略化している。

メンテナンス部４６は、ノズルＮＺのメンテナンスを行う部分である。例えば、塗布装置１Ａのワゴン２５Ａは、メンテナンス部４６を備える。ワゴン２５Ａは、メンテナンス部４６を備える点以外は、第１実施形態のワゴン２５と同様の構成である。なお、ワゴン２５Ａは、ノズル受け渡し機構７Ａ、７Ｂの近傍に２つ配置される。

メンテナンス部４６は、ワゴン２５Ａの上部に配置される。メンテナンス部４６は、例えば、待機位置Ｐ２Ａ、Ｐ２Ｂに位置するノズル受け渡し機構７Ａ、７Ｂに保持された状態のノズルＮＺがアクセス可能に形成されている。例えば、本実施形態では、ワゴン２５Ａが移動することにより、ノズル受け渡し機構７Ａ、７Ｂに保持された状態のノズルＮＺがワゴン２５Ａのメンテナンス部４６にアクセス可能である。

メンテナンス部４６は、例えば、ノズルＮＺの先端を洗浄する洗浄部（図示せず）と、ノズルＮＺから液状体Ｌを予備的に吐出するための予備吐出部（図示せず）と、ノズルＮＺの先端を払拭する払拭部（図示せず）と、を備える。なお、メンテナンス部４６は、これらのうち少なくとも１つを備えていればよい。

洗浄部は、例えば、ノズルＮＺを洗浄するための洗浄液を保持する容器を備える。予備吐出部は、ノズルＮＺから予備吐出した液状体Ｌを受けるための容器を備える。払拭部は、例えば、ノズルＮＺの先端に対して移動することによりノズルＮＺを払拭する払拭部材を備える。

以上のように、本実施形態の塗布装置１Ａは、メンテナンス部４６を備えるので、ノズルＮＺのメンテナンスを塗布動作中に行うことができる。これにより、塗布装置１Ａは、生産性の低下を抑制することができる。また、本実施形態の塗布装置１Ａは、ワゴン２５Ａがメンテナンス部４６を備えるので、メンテナンス部４６の構成をシンプルにすることができる。また、メンテナンス部４６及び送液部１９はワゴン２５Ａを共用するので、塗布装置１Ａの装置サイズをコンパクトにすることができる。

［第３実施形態］
第３実施形態について説明する。本実施形態において、上述の実施形態と同様の構成については、同じ符号を付してその説明を省略あるいは簡略化する。

図１３は、第３実施形態に係る塗布装置１Ｂを示す上面図である。本実施形態の塗布装置１Ｂは、例えば、フレーム２と、制御部３（図示せず）と、ステージ４と、ステージ駆動部５（駆動部）と、４つのノズルＮＺ（ＮＺ１〜ＮＺ４）と、２つのノズル支持部６（６Ａ、６Ｂ）と、４つのノズル受け渡し機構７（７Ａ〜７Ｄ）と、を備える。なお、制御部３、ステージ４、及びステージ駆動部５（駆動部）は、第１実施形態の同様であるので、説明を省略あるいは簡略化する。

本実施形態のフレーム２は、ステージ支持部９Ｂと、ガントリ１０と、を備える。本実施形態のステージ支持部９Ｂは、第１実施形態のステージ支持部９よりもＸ方向に長く形成される以外は、第１実施形態と同様の構成である。ステージ４は、ステージ支持部９ＢのＸ方向と平行な方向の両端部の間を移動する。ガントリ１０は、第１実施形態のガントリ１０と同様の構成である。

２つのノズル支持部６Ａ、６Ｂは、それぞれ、例えば、ガントリ１０の架橋部１０ｂに支持される。例えば、ノズル支持部６Ａは、ガントリ１０の架橋部１０ｂの＋Ｘ側に支持され、ノズル支持部６Ｂは、ガントリ１０の架橋部１０ｂの−Ｘ側に支持される。

ノズル支持部６Ａは、第１実施形態のノズル支持部６と同様の構成であり、複数のノズルＮＺ１、ＮＺ２から１つを選択して支持し、かつ、支持したノズルＮＺを昇降させる。ノズル支持部６Ｂは、複数のノズルＮＺ３、ＮＺ４から１つを選択して支持し、かつ、支持したノズルＮＺを昇降させる。ノズル支持部６Ｂは、ガントリ１０に支持される位置、及び支持するノズルＮＺが異なること以外は、第１実施形態のノズル支持部６と同様の構成である。また、ノズル支持部６Ａ、６Ｂの動作は、それぞれ、第１実施形態のノズル支持部６と同様である。

ノズル受け渡し機構７Ａ〜７Ｄは、それぞれ、ステージ支持部９Ｂの近傍に配置される。例えば、ノズル受け渡し機構７Ａ、ＡＣは、ステージ支持部９Ｂの−Ｙ側に、Ｘ方向と平行な方向に並んで形成される。例えば、ノズル受け渡し機構７Ｂ、７Ｄは、ステージ支持部９Ｂの＋Ｙ側に、Ｘ方向と平行な方向に並んで形成される。ノズル受け渡し機構７Ａ〜ＡＤは、それぞれ、配置される位置が異なる点以外は、第１実施形態のノズル受け渡し機構７Ａと同様の構成である。ノズル受け渡し機構７Ａ、７Ｂは、それぞれ、ノズル支持部６Ａとの間でノズルＮＺの受け渡しが可能に形成されている。また、ノズル受け渡し機構７Ｃ、ＡＤは、それぞれ、ノズル支持部６Ｂに対してノズルＮＺの受け渡しが可能に形成されている。ノズル受け渡し機構７Ａ〜７Ｄの動作は、それぞれ、第１実施形態のノズル受け渡し機構７と同様である。

ノズルＮＺ１〜ＮＺ４は、それぞれ、第１実施形態と同様のスリットノズルである。ノズルＮＺ１は、ノズル受け渡し機構７Ａの送液部１９に接続され、ノズル支持部６及びノズル受け渡し機構７Ａのいずれかに支持される。また、ノズルＮＺ２は、ノズル受け渡し機構７Ｂの送液部１９に接続され、ノズル支持部６及びノズル受け渡し機構７Ｂのいずれかに支持される。また、ノズルＮＺ３は、ノズル受け渡し機構７Ｃの送液部１９に接続され、ノズル支持部６及びノズル受け渡し機構７Ｃのいずれかに支持される。また、ノズルＮＺ４は、ノズル受け渡し機構７Ｄの送液部１９に接続され、ノズル支持部６及びノズル受け渡し機構７Ｄのいずれかに支持される。

次に、塗布装置１Ｂの動作について説明する。本実施形態の塗布装置１Ｂは、４つのノズルＮＺ１〜ＮＺ４のいずれか１つをノズル支持部６Ａあるいはノズル支持部６Ｂで選択して、基板Ｓに塗布する点が第１実施形態と異なっており、これ以外の動作については、第１実施形態の塗布装置１の動作と同様である。

本実施形態の塗布装置１Ｂは、ノズルＮＺ１〜ＮＺ４から１つを選択して、ノズル支持部６Ａあるいはノズル支持部６Ｂに支持する。例えば、ノズルＮＺ１、ＮＺ２のいずれかが選択される場合、ノズルＮＺ１、ＮＺ２は、対応するノズル受け渡し機構７Ａ、７Ｂにより、ノズル支持部６Ａに渡され、ノズル支持部６Ａに支持される。また、ノズルＮＺ３、ＮＺ４のいずれかが選択される場合、ノズルＮＺ３、ＮＺ４は、対応するノズル受け渡し機構７Ｃ、７Ｄにより、ノズル支持部６Ｂに渡され、ノズル支持部６Ｂに支持される。

ノズル支持部６Ａあるいはノズル支持部６Ｂに支持されたノズルＮＺは、対応する昇降駆動部１５により、ノズルＮＺの下端が基板Ｓに対して所定の距離になるように移動する。続いて、制御部３の制御により、ステージ駆動部５が駆動し、ステージ４が＋Ｘ方向又は−Ｘ方向と平行な方向に移動しながら、ノズルＮＺは、対応する送液部１９によりに液状体Ｌが供給されて、吐出口ＯＰから液状体Ｌを吐出する。これにより、塗布装置１Ｂは、基板Ｓに液状体Ｌを塗布する。

ノズル支持部６Ａあるいはノズル支持部６Ｂに支持されたノズルＮＺは、交換する際、対応するノズル受け渡し機構７Ａ〜７Ｄのいずれかに渡される。この際、ノズル支持部６Ａ及びノズル支持部６Ｂは、それぞれ、ノズルＮＺを支持していない状態である。続いて、最初に戻り、塗布装置１Ｂは、複数のノズルＮＺ１〜ＮＺ４から１つを選択して、ノズル支持部６Ａあるいはノズル支持部６Ｂに支持し、次の塗布が行われる。

以上のように、本実施形態の塗布装置１Ｂは、４つのノズルＮＺが交換可能に形成されているので、使用可能なノズルを多くすることができる。

［第４実施形態］
第４実施形態について説明する。本実施形態において、上述の実施形態と同様の構成については、同じ符号を付してその説明を省略あるいは簡略化する。以下、本実施形態と上記実施形態の相違点を中心に説明する。

図１４は、第４実施形態に係る塗布装置の一例を示す上面図である。本実施形態の塗布装置１Ｃは、例えば、フレーム２、制御部３、ステージ４、ステージ駆動部５（駆動部）、ノズルＮＺ、ノズル支持部６Ｃ（ガントリ１０の支柱部１０ｃ）、ノズル受け渡し機構７（７Ａ、７Ｂ）、及びワゴン２５を備える。制御部３、ステージ４、ステージ駆動部５、及びワゴン２５は、第１実施形態と同様である。

フレーム２は、各部を支持する。フレーム２は、例えば、ステージ支持部９（図２参照）と、ガントリ１０と、を含む。ステージ支持部９は、第１実施形態と同様である。

図１５（Ａ）は、第４実施形態のノズルを示す図である。第４実施形態のノズルＮＺは、上部にアダプタ５５が取り付けられている。ノズルＮＺは、アダプタ５５が取り付けられている以外は、第１実施形態と同様である。アダプタ５５は、長手方向（Ｙ方向と平行な方向）の長さが、ノズルＮＺよりも長く形成されている。アダプタ５５の下面（下部）には、アダプタ５５を、後に説明するガントリ１０の支柱部１０ｃに位置決めする位置決め部５６が設けられている。位置決め部５６は、アダプタ５５の下面に設けられる凹部５６ａと、支柱部１０ｃの上面に設けられる凸部５６ｂ（図１５（Ｂ）参照）と、を備える。凹部５６ａは、アダプタ５５の下部の＋Ｙ側及び−Ｙ側に設けられている。各凹部５６ａは、下方に開口される。各凹部５６ａには、ノズルＮＺがガントリ１０（支柱部１０ｃ（ノズル支持部６Ｃ））に設置される際、支柱部１０ｃの凸部５６ｂがはめ込まれ、その結果、ノズルＮＺは支柱部１０ｃに対して位置決めされる。

アダプタ５５の上面には、被支持部５７が設けられている。被支持部５７は、後に説明するノズル受け渡し機構７のノズル保持部２３Ｄ（図１６（Ａ）参照）に支持される。被支持部５７は、例えば、一対のＬ字状の部材（Ｌ字状部材）で構成されている。被支持部５７は、例えば、一対のＬ字状の部材が、Ｙ方向と平行な方向（ノズルＮＺの長手方向と平行な方向）に沿って配置される。＋Ｙ側のＬ字状部材は−Ｙ側に突出した突出部５７ａを有し、−Ｙ側のＬ字状部材は＋Ｙ側に突出した突出部５７ａを有している。各Ｌ字状部材の突出部５７ａの下面（下部）には、ノズル保持部２３Ｄに位置決めする位置決め部６０の凹部６０ａが設けられている。凹部６０ａは、例えば、円錐状（テーパー状）である。各位置決め部６０は、凹部６０ａと、後に説明するノズル保持部２３Ｄの突出部６５の上面に設けられる凸部６０ｂ(図１６（Ｂ）参照)と、を備える。各凹部６０ａは、下方に開口される。各凹部６０ａは、ノズルＮＺがノズル受け渡し機構７に保持される際、ノズル受け渡し機構７の支持部Ｑの凸部６０ｂがはめ込まれ、その結果、ノズルＮＺは、ノズル受け渡し機構７の支持部２１に対して位置決めされる。

図１５（Ｂ）は、第４実施形態のノズル及びガントリを示す図である。本実施形態のガントリ１０は、一対の支柱部１０ｃを備える。一対の支柱部１０ｃはステージ４をＹ方向に挟んで２つ設けられている。各支柱部１０ｃは、ステージ支持部９に支持されている。各支柱部１０ｃは、鉛直方向に延びており、後に説明する昇降駆動部１５の駆動により鉛直方向に移動する。各支柱部１０ｃは、その上面（＋Ｚ側の面）でアダプタ５５を介してノズルＮＺを支持するノズル支持部６Ｃである。各支柱部１０ｃ（ノズル支持部６Ｃ）は、複数のノズルＮＺ（ＮＺ１、ＮＺ２）から１つを選択して支持し、後に説明するノズル受け渡し機構７との間でノズルＮＺの受け渡しが可能に構成されている。なお、支柱部１０ｃは、ステージ支持部９に支持されなくてもよい。例えば、支柱部１０ｃは、床面に支持されてもよいし、第１実施形態のガントリ１０の支柱部１０ａに支持されてもよい。

各支柱部１０ｃには、アダプタ５５の位置決めをする、位置決め部５６の凸部５６ｂが設けられている。各凸部５６ｂは、例えば、円錐状（テーパー状）である。各凸部５６ｂは、ノズルＮＺがガントリ１０（支柱部１０ｃ）に支持される際、アダプタ５５の凹部５６ａにはまり込み、ノズルＮＺは位置決めされる。なお、凹部５６ａ及び凸部５６ｂの個数は、それぞれ、２つでなくてもよく、例えば、凹部５６ａ及び凸部５６ｂの個数は、３つ以上でもよい。なお、凹部５６ａ及び凸部５６ｂの形状は、それぞれ、円錐状（テーパー状）に限定されず、任意である。例えば、凹部５６ａ及び凸部５６ｂの形状は、円柱状でもよいし、矩形柱状でもよい。

本実施形態の塗布装置１Ｃは、クランプ機構６２を備える(図１５（Ｂ）参照)。クランプ機構６２は、アダプタ５５と支柱部１０ｃとを固定する。クランプ機構６２は、＋Ｙ側及び−Ｙ側に設けられている。各クランプ機構６２は、例えば、支柱部１０ｃに取り付けられている。各クランプ機構６２は、例えば、アダプタ５５を支柱部１０ｃの上面に押し付けて固定する。各クランプ機構６２は、制御部３（図１４参照）の制御により、不図示の駆動部により駆動され、アダプタ５５と支柱部１０ｃとを固定する。また、各クランプ機構６２は、制御部３の制御により、不図示の駆動部により駆動され、アダプタ５５と支柱部１０ｃとの固定を開放する。なお、クランプ機構６２は、図１５（Ｂ）の例では、＋Ｙ側及び−Ｙ側に設けられているが、＋Ｙ側及び−Ｙ側の少なくとも一方に設けられてもよい。また、塗布装置１Ｃが、クランプ機構６２を備えるか否かは任意である。

また、各支柱部１０ｃは、昇降駆動部１５により鉛直方向に駆動する。昇降駆動部１５は、各支柱部１０ｃを鉛直方向に駆動することにより、支持するノズルＮＺを昇降させる。昇降駆動部１５は、例えば、電動モータ等である。昇降駆動部１５は、制御部３（図１４参照）に制御され、塗布時におけるノズルＮＺと基板Ｓとの距離の調整時（微調整時）、及び、ガントリ１０（支柱部１０ｃ）とノズルＮＺとノズル受け渡し機構７（７Ａ、７Ｂ）とにおけるノズルＮＺの受け渡し時などの際に、ノズルＮＺを昇降させる。

次に、図１４の説明に戻り、第４実施形態のノズル受け渡し機構７について説明する。ノズル受け渡し機構７は、複数のノズル受け渡し機構７Ａ、７Ｂを備える。ノズル受け渡し機構７Ａ、７Ｂは、それぞれ、ステージ４近傍に配置される。ノズル受け渡し機構７Ａは、ステージ４の−Ｙ側に配置され、ノズルＮＺ１を支持する。ノズル受け渡し機構７Ｂは、ステージ４の＋Ｙ側に配置され、ノズルＮＺ２を支持する。ノズル受け渡し機構７Ａ、７Ｂは、それぞれ、旋回部１８と、送液部１９と、を備える。各送液部１９は、第１実施形態と同様であり、対応するノズルＮＺに接続され、液状体Ｌ（図７（Ｂ）参照）を送液する。

図１６（Ａ）は、第４実施形態のノズル受け渡し機構を示す図である。図１６（Ａ）は、第４実施形態のノズル受け渡し機構７Ｂを−Ｙ方向から見た図である。なお、本実施形態では、ノズル受け渡し機構７Ａ、７Ｂは、それぞれ、同様の構成である。以下の説明では、ノズル受け渡し機構７Ｂを例に説明をする。

旋回部１８は、上下方向（鉛直方向）を軸としてノズルＮＺを旋回可能に保持する。旋回部１８は、例えば、軸部２０と、支持部２１と、旋回駆動部２２と、ノズル保持部２３Ｄと、を備える。軸部２０、支持部２１、及び旋回駆動部２２は、第１実施形態と同様である。旋回駆動部２２は、制御部３（図１４参照）に制御され、軸部２０に回転可能に支持される支持部２１を旋回させる。支持部２１は、旋回駆動部２２の駆動により、第１実施形態と同様に、水平方向に旋回する。なお、受け渡し機構７は、旋回駆動部２２を備えず、ユーザが人力により支持部２１を旋回させる構成でもよい。

ノズル保持部２３Ｄは、ノズルＮＺを保持する。ノズル保持部２３Ｄは、例えば、一対のＬ字状の部材（Ｌ字状部材）で構成されている。この一対のＬ字状部材は、Ｘ方向と平行な方向（支持部２１の長手方向と平行な方向）に並んで配置される。＋Ｘ側のＬ字状部材は＋Ｘ側に突出した突出部６５を有し、−Ｘ側のＬ字状部材は−Ｘ側に突出した突出部６５を有している。各突出部６５は、ノズルＮＺ（アダプタ５５）の被支持部５７の内側（中央側）に位置する。各突出部６５は、その上面で、ノズルＮＺの被支持部５７の突出部５７ａの下面を支持する。ノズル保持部２３Ｄは、ノズルＮＺの被支持部５７を支持することにより、ノズルＮＺを支持する。

図１６（Ｂ）は、本実施形態のノズル保持部２３Ｄの拡大図である。ノズル保持部２３Ｄは、各突出部６５の上面（上部）に、ノズルＮＺの位置決めをする位置決め部６０の凸部６０ｂが設けられている。各凸部６０ｂは、ノズルＮＺがノズル保持部２３Ｄに支持される際、アダプタ５５の被支持部５７の各凹部６０ａにはまり込み、ノズルＮＺは位置決めされる。なお、凹部６０ａ及び凸部６０ｂの個数は、それぞれ、２つでなくてもよく、例えば、凹部６０ａ及び凸部６０ｂの個数は、３つ以上でもよい。なお、凹部６０ａ及び凸部６０ｂの形状は、それぞれ、円錐状（テーパー状）に限定されず、任意である。例えば、凹部６０ａ及び凸部６０ｂの形状は、円柱状でもよいし、矩形柱状でもよい。ノズルＮＺの受け渡しについては、後に説明する。なお、ノズル保持部２３ＤのノズルＮＺの保持及び開放の機構については、後に説明する。

上記のように構成される本実施形態のノズル受け渡し機構７Ａ、７Ｂは、それぞれ、受け渡し位置Ｐ１Ａ、Ｐ１Ｂ（図１４参照）と、待機位置Ｐ２Ａ、Ｐ２Ｂとの間を移動して、受け渡し位置Ｐ１Ａ、Ｐ１Ｂで、ガントリ１０の支柱部１０ｃに対してノズルＮＺの受け渡しを行い、待機位置Ｐ２Ａ、Ｐ２Ｂで待機する。

受け渡し位置Ｐ１Ａ、Ｐ１Ｂは、それぞれ、ガントリ１０の支柱部１０ｃとノズル受け渡し機構７Ａ、７Ｂとの間で、ノズルＮＺの受け渡しが可能に設定される。例えば、ノズル受け渡し機構７Ａ、７Ｂは、それぞれ、受け渡し位置Ｐ１Ａ、Ｐ１Ｂにおいて、支持部２１の長手方向が、ステージ４の移動方向と直交する方向（Ｙ方向と平行な方向）になるように形成されている（図１４参照）。

待機位置Ｐ２Ａ、Ｐ２Ｂは、それぞれ、ノズル受け渡し機構７Ａ、７ＢがノズルＮＺを保持したときに、ノズルＮＺがステージ４の上方から外れた位置に設定される。ノズル受け渡し機構７Ａ、７Ｂは、それぞれ、待機位置Ｐ２Ａ、Ｐ２Ｂにおいて、支持部２１の長手方向が、Ｘ方向と平行な方向になるように形成される（図１４参照）。例えば、ノズル受け渡し機構７Ａ、７Ｂは、それぞれ、待機位置Ｐ２Ａ、Ｐ２Ｂにおいて、ノズルＮＺのメンテナンスなどが行われる。

次に、塗布装置１Ｃの動作について説明する。図１７〜図１９は、それぞれ、塗布装置１Ｃの動作を示す図である。塗布装置１Ｃの動作を説明する際、適宜、図１４〜図１６を参照する。

本実施形態の塗布装置１Ｃは、図１４に示すように、２つのノズルＮＺ１、ＮＺ２のいずれか１つをガントリ１０の支柱部１０ｃ（ノズル支持部６Ｃ）で選択して、基板Ｓに塗布する。例えば、ノズルＮＺ１、ＮＺ２のいずれかが選択される場合、ノズルＮＺ１、ＮＺ２は、対応するノズル受け渡し機構７Ａ、７Ｂにより、各支柱部１０ｃに支持される。なお、図１４は、支柱部１０ｃが、ノズルＮＺ１を支持する例を示している。

各支柱部１０ｃは、例えば、図１７（Ａ）に示すように、ノズルＮＺを各支柱部１０ｃの上面で、下方から、ノズルＮＺのアダプタ５５を支持することにより、ノズルＮＺを支持する。各支柱部１０ｃは、ノズルＮＺを下方から支持するので、ノズルＮＺを落下させずに確実に保持することができる。また、ノズルＮＺは、位置決め部５６により、各支柱部１０ｃに位置決めされた状態で支持される。ノズルＮＺは、アダプタ５５の下面（下部）の凹部５６ａに、各支柱部１０ｃの凸部５６ｂがはめ込まれて位置決めされる。クランプ機構６２は、ノズルＮＺが各支柱部１０ｃに位置決めされて支持された状態で、アダプタ５５と各支柱部１０ｃとを固定する。＋Ｙ側及び−Ｙ側のクランプ機構６２は、例えば、アダプタ５５の下面を各支柱部１０ｃの上面に押し付けて固定する。アダプタ５５と各支柱部１０ｃとは、クランプ機構６２により、確実に固定される。各クランプ機構６２は、制御部３（図１４参照）の制御により、不図示の駆動部により駆動され、アダプタ５５と各支柱部１０ｃとを固定する。塗布装置１Ｃは、制御部３の制御により昇降駆動部１５（図１４参照）を駆動して、基板ＳとノズルＮＺとの間の距離を微調整して、基板Ｓに塗布を行う。塗布装置１Ｃによる基板Ｓの塗布の動作は、第１実施形態と同様である。

次に、塗布装置１Ｃによる、各支柱部１０ｃに支持されたノズルＮＺを交換する動作を説明する。なお、以下の説明では、ノズル受け渡し機構７Ｂを用いてノズルを交換する例を説明するが、ノズル受け渡し機構７Ａについても同様である。

塗布装置１Ｃは、各支柱部１０ｃに支持されたノズルＮＺを交換する際、まず、図１７（Ｂ）に示すように、制御部３（図１４参照）は、昇降駆動部１５を駆動し、支柱部１０ｃを鉛直上方に移動させる。制御部３は、各支柱部１０ｃを鉛直上方の所定位置に移動させる。この所定位置は、各支柱部１０ｃとノズル受け渡し機構７（７Ａ、７Ｂ）との間で、ノズルＮＺの受け渡しが可能な位置である。例えば、この所定位置は、アダプタ５５の被支持部５７の下方に、ノズル受け渡し機構７のノズル保持部２３Ｄが配置可能な位置に設定される。

続いて、図１８（Ａ）に示すように、制御部３は、旋回駆動部２２を駆動し、ノズル受け渡し機構７の旋回部１８を旋回させる。制御部３は、旋回部１８を、受け渡し位置Ｐ１Ｂに移動させる。この受け渡し位置Ｐ１Ｂにおいて、旋回部１８は、各支柱部１０ｃの鉛直上方の所定位置に配置される。例えば、受け渡し位置Ｐ１Ｂにおいて、ノズル受け渡し機構７のノズル保持部２３Ｄは、アダプタ５５の被支持部５７の下方（直下）の位置に設定される。

続いて、図１８（Ｂ）に示すように、制御部３は、昇降駆動部１５を駆動し、各支柱部１０ｃを鉛直下方に移動させる。なお、制御部３は、この各支柱部１０ｃの鉛直下方の移動に先立ち、クランプ機構６２を駆動して、クランプ機構６２による支柱部１０ｃとアダプタ５５の固定を開放する。各支柱部１０ｃの鉛直下方の移動により、支柱部１０ｃとノズル受け渡し機構７Ｂとの間のノズルＮＺの受け渡しが行われる。各支柱部１０ｃを鉛直下方の移動により、ノズル保持部２３Ｄの凸部６０ｂが、アダプタ５５の被支持部５７の凹部６０ａにはまり込み、ノズルＮＺが位置決めされる。

続いて、図１９（Ａ）に示すように、制御部３は、昇降駆動部１５を駆動し、各支柱部１０ｃを、さらに鉛直下方に移動させる。これにより、ノズルＮＺは、ノズル受け渡し機構７Ｂのノズル保持部２３Ｄに位置決めされた状態で、各支柱部１０ｃからノズル受け渡し機構７に渡される。

続いて、図１９（Ｂ）に示すように、制御部３は、旋回駆動部２２を駆動し、ノズル受け渡し機構７Ａを待機位置Ｐ２Ａに移動させる。待機位置Ｐ２Ａ、Ｐ２Ｂにおいて、ノズルＮＺは、メンテナンスなどが行われる。

続いて、ノズル受け渡し機構７Ｂから支柱部１０ｃへノズルＮＺ１の受け渡しが行われることにより、ノズルＮＺの交換が行われる。ノズル受け渡し機構７Ｂから各支柱部１０ｃへの受け渡しの動作は、上記した各支柱部１０ｃからノズル受け渡し機構７Ａへのノズルの受け渡しの動作と反対の順番で行われる。

以上のように、本実施形態の塗布装置１Ｃは、迅速かつ確実にノズルの交換を行うことができる。

なお、本発明の技術範囲は、上述の実施形態などで説明した態様に限定されるものではない。上述の実施形態などで説明した要件の１つ以上は、省略されることがある。また、上述の実施形態などで説明した要件は、適宜組み合わせることができる。また、法令で許容される限りにおいて、上述の実施形態などで引用した全ての文献の開示を援用して本文の記載の一部とする。

例えば、上述の実施形態では、塗布装置１、１Ａ、１Ｂ、１Ｃが、ノズル支持部６に対して、ステージ４が移動する構成を例に説明したが、塗布装置１、１Ａ、１Ｂ、１Ｃの構成はこれに限定されない。例えば、塗布装置１、１Ａ、１Ｂ、１Ｃは、ステージ４に対して、ノズル支持部６が移動する構成でもよい。

例えば、ノズル受け渡し機構７は、上記の構成に限定されず、任意の構成を用いることができる。図２０は、ノズル受け渡し機構７の他の例を示す図である。例えば、図２０に示すように、ノズル受け渡し機構７は、駆動部５０の駆動により上下方向及び水平方向に移動可能に形成し、ノズル支持部６との間でノズルＮＺの受け渡しを行う構成にしてもよい。

１、１Ａ、１Ｂ、１Ｃ・・・塗布装置
４・・・ステージ
５・・・ステージ駆動部（駆動部）
６、６Ａ、６Ｂ、６Ｃ・・・ノズル支持部
７、７Ａ〜７Ｄ・・・ノズル受け渡し機構
Ｌ・・・液状体
Ｓ・・・基板
１５・・・昇降駆動部
１８・・・旋回部
１９・・・送液部
２０・・・軸部
２２・・・旋回駆動部
２５、２５Ａ・・・ワゴン
４６・・・メンテナンス部
ＮＺ、ＮＺ１〜ＮＺ４・・・ノズル
Ｐ１、Ｐ１Ａ、Ｐ１Ｂ・・・受け渡し位置
Ｐ２、Ｐ２Ａ、Ｐ２Ｂ・・・待機位置

Claims (12)

1. 基板を載置するステージと、
   液状体を吐出可能な複数のノズルから１つを選択して支持し、かつ、支持した前記ノズルを昇降させる昇降駆動部を備えるノズル支持部と、
   前記ノズル支持部と前記ステージとを相対的に移動させる駆動部と、
   前記ノズル支持部に対して前記ノズルの受け渡しを行う複数のノズル受け渡し機構と、を備える、塗布装置。
2. 前記ノズルは、スリットノズルである、請求項１に記載の塗布装置。
3. 前記ノズル受け渡し機構は、前記ノズル支持部に対して前記ノズルの受け渡しを行う受け渡し位置と、前記ノズルが前記ステージの上方から外れた待機位置との間を移動可能である、請求項１又は請求項２に記載の塗布装置。
4. 前記ノズル受け渡し機構は、上下方向を軸として前記ノズルを旋回可能に保持する旋回部を備える、請求項３に記載の塗布装置。
5. 前記ノズル受け渡し機構は、前記ノズルに液状体を供給する送液部を備える、請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の塗布装置。
6. 前記送液部は、前記ステージの側方に配置されて移動可能なワゴンに形成される、請求項５に記載の塗布装置。
7. 前記ワゴンは、前記ノズルをメンテナンス可能なメンテナンス部を備える、請求項６に記載の塗布装置。
8. 前記駆動部は、前記ノズル支持部に対して前記ステージを移動させる、請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の塗布装置。
9. 基板に液状体を塗布する方法であって、
   前記基板をステージに載置することと、
   液状体を吐出可能な複数のノズルをそれぞれ保持する複数の受け渡し機構により、前記ノズルを昇降させる昇降駆動部を備えるノズル支持部に対して前記ノズルの受け渡しを行うことで複数の前記ノズルから１つを選択して、前記ノズル支持部に支持することと、
   前記ノズル支持部と前記ステージとを相対的に移動させながら、前記基板に前記ノズルにより液状体を塗布することと、を含む、塗布方法。
10. 前記ノズル支持部に選択されない前記ノズルは、前記受け渡し機構により前記ステージの上方から退避することを含む、請求項９に記載の塗布方法。
11. 前記ノズルは、前記受け渡し機構に備える送液部から液状体が供給されることを含む、請求項９または請求項１０に記載の塗布方法。
12. 前記ノズル支持部に対して前記ステージを移動させることにより、前記基板に液状体を塗布することを含む、請求項９から請求項１１のいずれか一項に記載の塗布方法。

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