JP6925872B2 - 基板液処理装置、処理液供給方法及び記憶媒体 - Google Patents
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Description
4 制御部(制御装置)
30 基板保持部(基板保持機構)
40 ノズル
711 供給ライン
713 流量制御機構
714 流量計
715 流量制御弁(定圧弁)
716 電空レギュレータ
717 開閉弁
Claims (11)
- 基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部により保持された前記基板に処理液を供給するノズルと、
一端がノズルに、他端が処理液供給源に接続された供給ラインと、
前記供給ラインに設けられた流量計及び流量制御弁を有する流量制御機構と、
前記供給ラインに設けられた開閉弁と、
前記流量制御機構及び前記開閉弁の動作を制御する制御部と、
を備え、
前記流量制御機構は、前記流量計の検出値が、前記制御部から与えられた流量目標値と一致するように流量制御弁が調節されるように構成され、
前記制御部は、前記開閉弁を開状態とし、前記ノズルから前記処理液を前記基板に供給させるともに、前記流量制御機構に第1流量を前記流量目標値として与え、
前記制御部は、前記開閉弁を開状態から閉状態に移行させて、前記ノズルから前記処理液を前記基板に供給させている状態から前記処理液の供給を停止させるときに、前記開閉弁の開状態から閉状態への移行が開始されるまでに、前記流量制御機構に前記第1流量よりも小さい第2流量を前記流量目標値として与える停止制御を行い、
前記制御部は、前記停止制御において、前記開閉弁を開状態から閉状態に移行させる制御信号を前記開閉弁に送信すると同時に、前記流量制御機構に前記第2流量を前記流量目標値として与える制御信号を送信する、
ことを特徴とする基板液処理装置。 - 前記制御部は、前記停止制御において、前記開閉弁を開状態から閉状態に移行させる制御信号を前記開閉弁に送信する直前に、前記流量制御機構に前記第2流量を前記流量目標値として与える制御信号を送信する、請求項1記載の基板液処理装置。
- 前記流量制御機構の前記流量制御弁は、操作ポートを有する定圧弁として形成され、前記定圧弁の二次側圧力は、前記操作ポートに与えられる空気圧に応じて変化させることができ、前記流量制御機構は、前記定圧弁の前記操作ポートに操作空気圧を与える電空レギュレータをさらに有し、前記制御部は、前記電空レギュレータに、前記流量目標値に応じた操作空気圧を前記定圧弁に与えさせる、請求項1または2記載の基板液処理装置。
- 前記開閉弁は閉弁速度を低減する機構を有している、請求項1から3のうちのいずれか一項に記載の基板液処理装置。
- 前記ノズルを撮影するカメラをさらに備え、
前記制御部は、前記ノズルからの前記処理液の供給を停止した直後に前記カメラによって過去に撮影された前記ノズルの画像から把握される前記ノズルからの液垂れの状況に基づいて、前記停止制御を行う必要性の有無の判断、または、前記停止制御における前記第2流量の決定若しくは変更を行う、請求項1から4のうちのいずれか一項に記載の基板液処理装置。 - 前記制御部は、前記処理液の種類毎に、前記停止制御を行う必要性の有無及び前記停止制御において用いるべき前記第2流量の値が記録されたデータベースを有し、前記制御部は、前記データベースを参照して、前記停止制御を行うか否かを決定するとともに、前記停止制御を行う場合には前記第2流量の値を決定する、請求項1から4のうちのいずれか一項に記載の基板液処理装置。
- 基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部により保持された前記基板に処理液を供給するノズルと、
一端がノズルに、他端が処理液供給源に接続された供給ラインと、
前記供給ラインに設けられた流量計及び流量制御弁を有する流量制御機構と、
前記供給ラインに設けられた開閉弁と、
前記流量制御機構及び前記開閉弁の動作を制御する制御部と、
を備え、
前記流量制御機構は、前記流量計の検出値が、前記制御部から与えられた流量目標値と一致するように流量制御弁が調節されるように構成され、
前記制御部は、前記開閉弁を開状態とし、前記ノズルから前記処理液を前記基板に供給させるともに、前記流量制御機構に第1流量を前記流量目標値として与え、
前記制御部は、前記開閉弁を開状態から閉状態に移行させて、前記ノズルから前記処理液を前記基板に供給させている状態から前記処理液の供給を停止させるときに、前記開閉弁の開状態から閉状態への移行が開始されるまでに、前記流量制御機構に前記第1流量よりも小さい第2流量を前記流量目標値として与える停止制御を行い、
前記開閉弁は閉弁速度を低減する機構を有している、
ことを特徴とする基板液処理装置。 - 基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部により保持された前記基板に処理液を供給するノズルと、
一端がノズルに、他端が処理液供給源に接続された供給ラインと、
前記供給ラインに設けられた流量計及び流量制御弁を有する流量制御機構と、
前記供給ラインに設けられた開閉弁と、
前記ノズルを撮影するカメラと、
前記流量制御機構及び前記開閉弁の動作を制御する制御部と、
を備え、
前記流量制御機構は、前記流量計の検出値が、前記制御部から与えられた流量目標値と一致するように流量制御弁が調節されるように構成され、
前記制御部は、前記開閉弁を開状態とし、前記ノズルから前記処理液を前記基板に供給させるともに、前記流量制御機構に第1流量を前記流量目標値として与え、
前記制御部は、前記開閉弁を開状態から閉状態に移行させて、前記ノズルから前記処理液を前記基板に供給させている状態から前記処理液の供給を停止させるときに、前記開閉弁の開状態から閉状態への移行が開始されるまでに、前記流量制御機構に前記第1流量よりも小さい第2流量を前記流量目標値として与える停止制御を行い、
前記制御部は、前記ノズルからの前記処理液の供給を停止した直後に前記カメラによって過去に撮影された前記ノズルの画像から把握される前記ノズルからの液垂れの状況に基づいて、前記停止制御を行う必要性の有無の判断、または、前記停止制御における前記第2流量の決定若しくは変更を行う、
ことを特徴とする基板液処理装置。 - 基板を保持する基板保持部と、
前記基板保持部により保持された前記基板に処理液を供給するノズルと、
一端がノズルに、他端が処理液供給源に接続された供給ラインと、
前記供給ラインに設けられた流量計及び流量制御弁を有する流量制御機構と、
前記供給ラインに設けられた開閉弁と、
前記流量制御機構及び前記開閉弁の動作を制御する制御部と、
を備え、
前記流量制御機構は、前記流量計の検出値が、前記制御部から与えられた流量目標値と一致するように流量制御弁が調節されるように構成され、
前記制御部は、前記開閉弁を開状態とし、前記ノズルから前記処理液を前記基板に供給させるともに、前記流量制御機構に第1流量を前記流量目標値として与え、
前記制御部は、前記開閉弁を開状態から閉状態に移行させて、前記ノズルから前記処理液を前記基板に供給させている状態から前記処理液の供給を停止させるときに、前記開閉弁の開状態から閉状態への移行が開始されるまでに、前記流量制御機構に前記第1流量よりも小さい第2流量を前記流量目標値として与える停止制御を行い、
前記制御部は、前記処理液の種類毎に、前記停止制御を行う必要性の有無及び前記停止制御において用いるべき前記第2流量の値が記録されたデータベースを有し、前記制御部は、前記データベースを参照して、前記停止制御を行うか否かを決定するとともに、前記停止制御を行う場合には前記第2流量の値を決定する、
ことを特徴とする基板液処理装置。 - 基板を保持する基板保持部と、前記基板保持部により保持された前記基板に処理液を供給するノズルと、一端がノズルに、他端が処理液供給源に接続された供給ラインと、前記供給ラインに設けられた流量計及び流量制御弁を有する流量制御機構と、前記流量制御弁の下流側において前記供給ラインに設けられた開閉弁と、を備え、前記流量制御機構は、前記流量計の検出値が、当該流量制御機構に与えられた流量目標値と一致するように前記流量制御弁を調節するように構成されている基板液処理装置において、前記ノズルから前記基板に前記処理液を供給する処理液供給方法において、
前記ノズルから第1流量で前記処理液を前記基板に供給するときに、前記開閉弁を開状態とし、かつ、前記流量制御機構に前記第1流量を前記流量目標値として与え、
前記ノズルから前記第1流量で前記処理液を前記基板に供給している状態から前記ノズルからの前記処理液の供給を停止させるときに、前記開閉弁を開状態から閉状態に移行させるとともに、遅くとも前記開閉弁の開状態から閉状態への移行が開始されるまでに、前記流量制御機構に前記第1流量よりも小さい第2流量を前記流量目標値として与える停止制御を行う、
ことを特徴とする処理液供給方法。 - 基板液処理装置の動作を制御するためのコンピュータにより実行されたときに、前記コンピュータが前記基板液処理装置を制御して請求項10記載の処理液供給方法を実行させるプログラムが記録された記憶媒体。
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