TW201317381A - 殼體的製備方法及由該方法所製備的殼體 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種多色的殼體的製備方法,其包括如下步驟:提供金屬基體;對該金屬基體進行磁控濺射處理以形成第一色彩層;在該第一色彩層的表面高溫油墨噴塗,使該第一色彩層的表面被油墨層所覆蓋;使用鐳射在油墨層上進行圖案繪製,形成一圖案區域;藉由磁控濺射在油墨層上形成第二色彩層;對所述油墨層進行脫油墨處理,去除油墨層,同時將附著在該油墨層上的第二色彩層去除,露出油墨層下的第一色彩層和形成圖案區域的第二色彩層。本發明還提供一種由上述方法所製備的殼體。

Description

殼體的製備方法及由該方法所製備的殼體
本發明涉及一種殼體的製備方法及由該方法所製得的殼體。
磁控濺射處理技術係利用輝光放電,將工作氣體氬氣離化,產生的氬離子在高電壓和磁場作用下被加速,從而轟擊靶材表面,能量交換後,靶材表面的原子脫離原晶格而逸出,轉移到所要濺射的基體表面而成膜,達到表面防護及裝飾效果。磁控濺射處理技術被廣泛應用於機動車工業、建材、輕工、家用電器等工業領域以及3C產品,五金和工藝品的表面防護和裝飾。然而,常規的磁控濺射技術只能在同一產品上實現單一的顏色,無法滿足當前追求產品顏色豐富多彩的市場需求,導致磁控濺射技術應用受到限制,亟需開發出可以在同一個產品上產生多種顏色圖案、個性化、色彩絢麗的迎合市場需求的磁控濺射處理技術。現有雙色工藝存在一些缺陷,如絲網印刷時候會產生一些鋸齒紋,使得圖紋精細度差,並且無法實現立體面上製作,因為步驟繁瑣,所以會導致產品良率低。
鑒於此,有必要提供一種簡單高效的雙色殼體的製備方法。
另外,還有必要提供一種上述方法所製備的殼體。
一種殼體的製備方法,其包括如下步驟:
提供金屬基體;
對該金屬基體進行磁控濺射處理以形成第一色彩層;
在該第一色彩層的表面高溫油墨噴塗並烘乾,使該第一色彩層的表面被油墨層所覆蓋;
使用鐳射在油墨層上進行圖案繪製,去除部分油墨層後,形成一圖案區域;
藉由磁控濺射在形成有圖案區域的油墨層上形成第二色彩層;
對藉由鐳射去除部分油墨層後,並覆蓋有第二色彩層的剩餘油墨層進行脫油墨處理,去除油墨層的同時將附著在該油墨層上的第二色彩層去除,露出油墨層下的第一色彩層和形成圖案區域的第二色彩層。
另,本發明還提供一種由上述方式所製備的殼體。
該殼體包括一金屬基材;
在金屬基材上形成有第一色彩層;
在第一色彩層上形成有一形成圖案的第二色彩層。
本發明採用磁控濺射、油墨及鐳射雕刻相結合的技術方式,使得可在具有立體結構的產品上實現雙色或者多色效果,該方法降低了雙色殼體的製作成本、提高了良率及良好的外觀效果。以該方法所製得的殼體,不同顏色層之間無鋸齒紋,紋飾精細度高,表面色彩絢麗,且良率高。提升殼體的競爭力。
參見圖1,本發明殼體10的製備方法,其包括如下步驟:
(1)提供金屬基體11,本實施例的金屬基體11優選為不銹鋼,也可為Al,Zn或Cu的合金等。
(2)對金屬基體11進行預處理,該預處理包括對金屬基體11進行脫脂/除油、三道水洗等步驟。
脫脂/除油使用常規的金屬基體11脫脂除油劑,該金屬基體11脫脂除油劑的濃度為10ml/L,處理溫度為60℃。
三道水洗,分別為自來水洗、自來水洗及純水洗。
(3)參見圖2,對該金屬基體11進行第一次磁控濺射處理,使金屬基體11表面形成第一色彩層13。形成該第一色彩層13的具體操作及工藝參數如下:開啟已置於所述鍍膜機內的一靶材電源,該靶材可為鈦靶或鉻靶,設置其功率為8-10kw,通入工作氣體氬氣,並向鍍膜室內通入流量為60-170sccm的反應氣體乙炔,沉積色彩層的時間為20-30min,該色彩層可為碳化鈦和碳化鉻,該第一色彩層13的厚度為0.5-1.0μm。
(5)參見圖3,在上述第一色彩層13的表面進行高溫油墨噴塗並烘乾,使該第一色彩層13表面上整體區域形成油墨層15,該油墨層15的形成採用噴塗、高速印刷等方式,烘乾溫度為60-70℃,烘乾時間為1h,該油墨層15厚度為3-5um。
(6)參見圖4,形成圖案區域17,使用鐳射在油墨層15上進行所需的圖案繪製,所選用的雷射器為YAG1.06um雷射器,波長1.06um,鐳射平均功率設置20~50W,聚焦光斑直徑0.5-1.0mm,功率密度8MW/cm2。藉由鐳射將形成在第一色彩層13上的部分油墨層15去除,具體去除部分的形狀和大小可根據所需的圖案來確定,使得油墨層下部的第一色彩層13裸露於外部,形成一圖案區域17。
(8)參見圖5,對經過上述形成圖案區域17的金屬基體11進行磁控濺射處理,在該油墨層15和圖案區域17上形成第二色彩層19。
具體操作及工藝參數如下:開啟已置於所述鍍膜機內的一靶材電源,該靶材可為鉻或鈦靶,設置其功率為8~10kw,通入工作氣體氬氣,並向鍍膜室內通入流量為30~50sccm的反應氣體氮氣,沉積色彩層的時間為20~30min,該色彩層為氮化鉻或鈦化鉻層,該第二色彩層19的厚度為0.5~1.0μm。
(8)再一次參見圖1,對所述藉由鐳射去除後覆蓋有第二色彩層19的剩餘油墨層15進行有機剝漆脫油墨處理,去除油墨層153的同時,可將附著在該油墨層13上的第二色彩層19去除,露出油墨層13下的第一色彩層和形成圖案區域的第二色彩層。採用東莞四輝表面處理科技有限公司提供的SH-167脫膜劑。使用方法為:將該型號脫模劑倒入可加熱不銹鋼槽中,加入約鋼槽容量2/3的純水,加熱到40-50℃,在充分攪拌下緩緩加入SH-167脫膜劑10-15%,加純水至體積,攪拌均勻,升溫至60-80℃即可使用。時間3-8分鐘,脫除後將該金屬基體11取出用清水沖洗乾淨。
另,參見圖1,本發明還提供了一種藉由上述方法所製備的殼體10。該殼體10包括一金屬基材11;在金屬基材11上形成有第一色彩層13;在第一色彩層13上形成有一形成圖案的第二色彩層19。
本發明採用磁控濺射、高溫油墨及鐳射雕刻相結合的技術方式,使得可在立體結構的產品上實現雙色或者多色效果,該方法降低了雙色PVD製作成本,提高了雙色PVD產品的良率及良好的外觀效果,減少了化學處理製程,減輕生產對環境造成的污染。以該方法所製得的殼體,不同顏色層之間無鋸齒紋,紋飾精細度高,表面色彩絢麗,且良率高。提升殼體的競爭力。
10...殼體
11...基體
13...第一色彩層
15...油墨層
17...圖案區域
19...第二色彩層
圖1係本發明較佳實施例的殼體的剖視圖。
圖2係圖1的製備過程中形成有第一色彩層的示意圖。
圖3係圖1的製備過程中形成有油墨層的示意圖。
圖4係圖1的製備過程中在油墨層上形成圖案區域的示意圖。
圖5係圖1的製備過程中形成有第二色彩層的示意圖。
10...殼體
11...基體
13...第一色彩層
15...油墨層
17...圖案區域
19...第二色彩層

Claims (7)

  1. 一種殼體的製備方法,其包括如下步驟:
    提供金屬基體;
    對該金屬基體進行磁控濺射處理以形成第一色彩層;
    在該第一色彩層的表面高溫油墨噴塗並烘乾,使該第一色彩層的表面被油墨層所覆蓋;
    使用鐳射在油墨層上進行圖案繪製,去除部分油墨層後,形成一圖案區域;
    藉由磁控濺射在形成有圖案區域的油墨層上形成第二色彩層;
    對藉由鐳射去除部分油墨層後,並覆蓋有第二色彩層的剩餘油墨層進行脫油墨處理,去除油墨層的同時將附著在該油墨層上的第二色彩層去除,露出油墨層下的第一色彩層和形成圖案區域的第二色彩層。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之殼體的製備方法,其中所述磁控濺射處理的工藝參數如下:開啟已置於所述鍍膜機內的一靶材電源,該靶材可為鈦靶或鉻靶,設置功率為8-10kw,通入工作氣體氬氣,並向鍍膜室內通入流量為60-170sccm的反應氣體乙炔,形成黑色膜層17,沉積色彩層的時間為20-30min,該色彩層可為碳化鈦和碳化鉻,色彩層的厚度為0.5-1.0μm。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之殼體的製備方法,其中所述高溫油墨噴塗的烘乾溫度為60-70℃,烘乾時間為1H。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之殼體的製備方法,其中所述在油墨層上進行所需的圖案繪製的雷射器工藝參數:所選用的雷射器雷射器為YAG1.06um雷射器,其設置波長1.06um,鐳射平均功率設置20~50W,聚焦光斑直徑0.5-1.0mm,功率密度8MW/cm2。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之殼體的製備方法,其中所述金屬基體為不銹鋼或Al、Zn或Cu的合金等。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之殼體的製備方法,其中所述製備方法還包括在磁控濺射處理前對金屬基體進行預處理,該預處理包括對金屬基體進行脫脂/除油、水洗步驟。
  7. 一種殼體,所述殼體由權利要求1-6任意一項所述的方法製備,所述殼體包括一金屬基材,在金屬基材上形成有第一色彩層,在第一色彩層上形成有第二色彩層,該第二色彩層形成一圖案。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103547102A (zh) * 2013-09-25 2014-01-29 业成光电(深圳)有限公司 盖板及其制作方法

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103132014A (zh) * 2011-12-01 2013-06-05 深圳富泰宏精密工业有限公司 镀膜件及其制备方法
CN103612499A (zh) * 2013-11-11 2014-03-05 深圳市杰瑞表面技术有限公司 一种利用激光提高丝印套位精度的方法
CN104404448B (zh) * 2014-10-28 2015-12-02 深圳市鑫景源科技有限公司 一种双色真空镀膜工艺
CN104400960B (zh) * 2014-12-15 2017-03-22 联想(北京)有限公司 一种喷涂颜色的方法
CN107311694A (zh) * 2017-06-28 2017-11-03 瑞声科技(新加坡)有限公司 氧化锆陶瓷着色方法及移动通信设备外壳的制备方法
CN107871443A (zh) * 2017-11-14 2018-04-03 合肥联宝信息技术有限公司 标识制作方法及壳体
CN108277470A (zh) * 2018-04-04 2018-07-13 东莞市三诚嘉五金塑胶制品有限公司 一种pvd涂装工艺
CN109280874A (zh) * 2018-11-06 2019-01-29 赵宏达 基于金属或合金的不同颜色特性制作标识图案的方法
CN110493987A (zh) * 2019-08-12 2019-11-22 Oppo广东移动通信有限公司 壳体组件、制备壳体组件的方法和电子设备
CN113438836B (zh) * 2021-05-06 2023-08-25 Oppo广东移动通信有限公司 电子设备、壳体及其制备方法
CN113645790B (zh) * 2021-08-12 2023-02-28 Oppo广东移动通信有限公司 壳体与电子设备
CN114148105A (zh) * 2021-12-14 2022-03-08 蓝思科技(长沙)有限公司 一种带复杂图案工件的加工方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4414085A (en) * 1981-10-08 1983-11-08 Wickersham Charles E Method of depositing a high-emissivity layer
DE3726731A1 (de) * 1987-08-11 1989-02-23 Hartec Ges Fuer Hartstoffe Und Verfahren zum aufbringen von ueberzuegen auf gegenstaende mittels magnetfeldunterstuetzter kathodenzerstaeubung im vakuum
ATE115916T1 (de) * 1989-12-21 1995-01-15 Landis & Gyr Tech Innovat Vorrichtung zum aufkleben von marken aus einer prägefolie.
US6083628A (en) * 1994-11-04 2000-07-04 Sigma Laboratories Of Arizona, Inc. Hybrid polymer film
JPH09123606A (ja) * 1995-11-02 1997-05-13 Dainippon Printing Co Ltd レーザー印字用積層体およびその印字体
DE19744953A1 (de) * 1997-10-10 1999-04-15 Giesecke & Devrient Gmbh Sicherheitselement und Verfahren zu seiner Herstellung
DE19819571A1 (de) * 1998-04-30 1999-11-04 Giesecke & Devrient Gmbh Wertdokument mit Sicherheitselement
TW511423B (en) * 2001-09-25 2002-11-21 Benq Corp Soft circuit board for recognition and the manufacturing method thereof
CN101830092A (zh) * 2009-03-13 2010-09-15 中国科学院福建物质结构研究所 一种耐腐蚀的彩色装饰膜的制备方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103547102A (zh) * 2013-09-25 2014-01-29 业成光电(深圳)有限公司 盖板及其制作方法
CN103547102B (zh) * 2013-09-25 2016-08-17 业成光电(深圳)有限公司 盖板及其制作方法

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