CN103132014A - 镀膜件及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种镀膜件，包括基材及形成于基材上的镀膜层，该镀膜层至少包括一第一颜色层及一第二颜色层，该第一颜色层与第二颜色层具有不同的颜色，该第一颜色层位于该基材与该第二颜色层之间，该第二颜色层上形成有若干开孔，该第一颜色层由所述开孔局部裸露，使该镀膜件呈现两种不同的颜色。本发明还提供一种上述镀膜件的制备方法。

Description

镀膜件及其制备方法
技术领域
本发明涉及一种镀膜件及其制备方法，尤其涉及一种双色镀膜件及其制备方法。
背景技术
目前往往在电子产品的表面镀覆薄膜达到表面装饰的目的，现有技术中采用多层镀膜如在基材表面溅射金属与金属氧化物层，根据光的干涉原理，控制金属氧化物的厚度，可以获得多种颜色的金属化基材。但是这种方法制备的基材，当表面的金属氧化物层在某一厚度范围时只能对应一种颜色，无法一次得到表面为双色（两种颜色）的基材。
为了在电子产品的表面达到双色效果，一般先采用真空镀膜处理，在基材上得到第一种颜色膜层，使用遮蔽物对第一种颜色膜层进行局部遮蔽保护，没有覆盖遮蔽物的区域形成一图纹区；进行退镀处理，去除图纹区的第一种颜色膜层；对基材再次进行遮蔽保护，仅使图纹区对应的基材露出；再对基材进行真空镀膜处理，在已经褪去第一种颜色膜层而露出的基材表面得到第二种颜色膜层，去掉遮蔽物，这样就得到了表面具有两种颜色的基材。该方法需要退镀、两次真空镀膜、两次遮蔽保护，工艺繁琐，而且两次遮蔽保护容易出现定位不准，使得容易在两种颜色膜层的交界处出现锯齿纹，导致图纹精细度差，良率低。
发明内容
有鉴于此，本发明提供一种可同时呈现两种颜色、图纹精细度高的镀膜件。
另外，本发明还提供一种上述镀膜件的制备方法。
一种镀膜件，包括基材及形成于基材上的镀膜层，该镀膜层至少包括一第一颜色层及一第二颜色层，该第一颜色层与第二颜色层具有不同的颜色，该第一颜色层位于该基材与该第二颜色层之间，该第二颜色层上形成有若干开孔，该第一颜色层由所述开孔局部裸露，使该镀膜件呈现两种不同的颜色。
一种镀膜件的制备方法，包括：
通过真空镀膜方式在基材表面形成一第一颜色层及一第二颜色层，该第一颜色层位于该基材与该第二颜色层之间，该第一颜色层与第二颜色层具有不同的颜色；
用遮蔽物对该基材进行遮蔽保护，使第二颜色层的部分区域被遮蔽；
将经遮蔽处理的基材浸入退镀液中，使第二颜色层未被遮蔽的部分被退除而形成开孔，该第一颜色层由所述开孔局部裸露；
去除遮蔽物。
所述镀膜件的制备方法，通过一次镀膜即可达到双色效果，较现有技术中通过两次镀膜得到双色效果的方法，工艺更为简单。而且，该制备方法中只有一次遮蔽，遮蔽保护定位准确度高，图纹精细度高，良率高。由本发明的方法制备的镀膜件，颜色组合丰富，色彩艳丽，表面性能更稳定。
附图说明
图1是本发明一较佳实施例镀膜件的剖视示意图。
图2是本发明另一较佳实施例镀膜件的剖视示意图。
主要元件符号说明
镀膜件 10
基材 11
镀膜层 13
第一颜色层 131
过渡层 132
第二颜色层 133
开孔 135
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。
具体实施方式
请参阅图1，本发明较佳实施例的镀膜件10包括基材11及形成于基材11上的镀膜层13。所述镀膜层13至少包括一第一颜色层131及一第二颜色层133，该第一颜色层131与第二颜色层133具有不同的颜色。该第一颜色层131位于该基材11与该第二颜色层133之间。该第二颜色层133上形成有若干开孔135，该第一颜色层131由所述开孔135局部裸露，使该镀膜件10呈现两种不同的颜色。所述开孔135的组合可形成所需的图纹。
所述基材11的材质可为不锈钢、钛合金、镁合金、铝合金、玻璃及塑料中的一种，优选为不锈钢或钛合金。
所述第一颜色层131与第二颜色层133的材料不同。
所述第一颜色层131、第二颜色层133可为但不局限于以下材料：
第一颜色层131可为碳化铬（CrC）、氮化铬（CrN）及氮氧化铬（CrON）中的一种。其中，为碳化铬时，呈银色；为氮化铬时，呈银色；为氮氧化铬时，呈绿色。第一颜色层131的厚度可为0.5μm-1.2μm。
第二颜色层133可为碳化钛（TiC）、氮化钛（TiN）及氮碳化钛（TiCN）中的一种。其中，为碳化钛时，呈黑色；为氮化钛时，呈金色；为氮碳化钛时，可呈玫瑰色、咖啡色等。第二颜色层133的厚度可为0.4μm-0.8μm。
请参阅图2，在其它实施例中，为了减少第一颜色层131与第二颜色层133之间的内应力，提高第二颜色层133的附着力，该镀膜层13还可包括一位于该第一颜色层131与该第二颜色层133之间的过渡层132，此时，该第二颜色层133直接形成于该过渡层132上。该过渡层132为钛层或铬层。所述开孔135贯穿该过渡层132。
所述镀膜层13可通过真空镀膜方式（比如磁控溅射）形成。
上述镀膜件10的制备方法，主要包括通过真空镀膜方式在基材11表面先形成该第一颜色层131再形成该第二颜色层133，该第一颜色层131与第二颜色层133具有不同的颜色；用遮蔽物对该基材11进行遮蔽保护，使第二颜色层133的部分区域被遮蔽；将经遮蔽处理的基材11浸入退镀液中，使第二颜色层133未被遮蔽的部分被退除而形成开孔135，使下面的第一颜色层131由所述开孔135局部裸露；去除遮蔽物，从而使镀膜件10表面呈现两种不同的颜色。
所述真空镀膜方式可为磁控溅射方法。
形成该第一颜色层131是在磁控溅射条件下，以铬为靶材，以乙炔（C2H2）、氧气（O2）及氮气（N2）中的一种或多种为反应气体，在靶材上施加电源是靶材物质溅射并沉积到基材11表面形成该第一颜色层131。形成该第一颜色层131的反应气体优选为乙炔。
形成该第二颜色层133是在磁控溅射条件下，以钛为靶材，以乙炔（C2H2）、氧气（O2）及氮气（N2）中的一种或多种为反应气体，在靶材上施加电源是靶材物质溅射并沉积到第一颜色层131上形成该第二颜色层133。
所述遮蔽物可以是通过印刷方式形成的油墨，也可为胶纸，优选为通过印刷方式形成的油墨。
该第一颜色层131与第二颜色层133的材料不同；所述退镀液仅对第二颜色层133起作用，而不会与第一颜色层131起反应，因此不会破坏第一颜色层131。
在其它实施例中，为了减少第一颜色层131与第二颜色层133之间的内应力，提高第二颜色层133的附着力，该镀膜件的制备方法还可在沉积该第一颜色层131之后、在沉积该第二颜色层133之前，在第一颜色层131上沉积一层由铬或钛组成的过渡层132的步骤。
所述将基材11浸入退镀液的步骤中，该过渡层132与所述开孔135对应的部分也被退除。
所述电源可以为现有的各种用于磁控溅射镀膜的电源，优选为中频电源。
所述的磁控溅射条件包括以惰性气体为溅射气体，该惰性气体可以为氩气，其流量可为150sccm(标准状态毫升/分钟)-250sccm；镀膜压力（即镀膜时镀膜室内的绝对压力）为0.3Pa-0.6Pa；镀膜温度为110℃-180℃。
下面通过一个具体实施例对本发明进行进一步详细说明。
实施例
1. 超声清洗
将不锈钢（316L型号）材质的基材11放入乙醇溶液中进行超声波清洗，以除去基材11表面的杂质和油污等，清洗完毕后烘干备用。
2. 镀膜
采用磁控溅射设备（深圳南方创新真空技术有限公司生产，型号为SM-1100H。该磁控溅射设备包括真空室、转架、磁控靶和偏压电源。磁控靶为对靶结构，包括一对铬靶及一对钛靶，每对靶之间形成有一定距离。基材固定在转架上，转架旋转时带动基材从每对铬靶之间经过。
沉积第一颜色层131：调节真空室内温度为150℃，向真空室通入氩气，氩气流量为200sccm，同时通入反应气体乙炔，乙炔的流量为60sccm-90sccm，控制真空室内镀膜压力为0.4Pa，开启铬靶的电源，调节电源功率为15 kW，调节施加于基材上的偏压为100V，对基材溅射60min，以于基材表面形成所述由碳化铬组成的第一颜色层，该第一颜色层为银色。
沉积过渡层：维持上述操作，不同的是，关闭铬靶电源，停止通入乙炔气体，开启钛靶电源，调节钛靶的电源功率为15kW，溅射5min，在第一颜色层上沉积一层由钛金属组成的过渡层。
沉积第二颜色层：维持上述操作，不同的是，通入反应气体乙炔，乙炔流量为90sccm-150sccm，溅射60min，在过渡层上沉积一层由碳化钛组层的第二颜色层，该第二颜色层为黑色。
关闭钛靶、偏压电源并停止通入乙炔，冷却后取出镀覆好的基材。
3. 遮蔽保护
在基材上印刷油墨层，使第二颜色层部分区域从油墨层露出，其它区域被油墨层遮蔽保护。
4. 退镀部分第二颜色层
将做好遮蔽保护的基材浸入对含钛膜层有腐蚀作用而对含铬膜层没有腐蚀作用的退镀液中，使第二颜色层未被油墨层遮蔽的部分以及与该部分第二颜色层相对应的过渡层被退除而形成开孔，使得第一颜色层从所述开孔露出，由此使基材同时呈现两种色彩，即第一颜色层的银色及第二颜色层的黑色。
观察本实施例获得的镀膜件样品，所述开孔的边缘平整，没有发现毛边或锯齿纹，由所述开孔组成的图纹精细度高。
本发明的镀膜件10可为笔记型计算机、个人数字助理等电子装置的壳体，或为其他装饰类产品。
所述镀膜件的制备方法，通过一次镀膜即可达到双色效果，较现有技术中通过两次镀膜得到双色效果的方法，工艺更为简单。而且，该制备方法中只有一次遮蔽，遮蔽保护定位准确度高，图纹精细度高，良率高。由本发明的方法制备的产品，颜色组合丰富，色彩艳丽，表面性能更稳定。

Claims (13)

1.一种镀膜件，包括基材及形成于基材上的镀膜层，其特征在于：该镀膜层至少包括一第一颜色层及一第二颜色层，该第一颜色层与第二颜色层具有不同的颜色，该第一颜色层位于该基材与该第二颜色层之间，该第二颜色层上形成有若干开孔，该第一颜色层由所述开孔局部裸露，使该镀膜件呈现两种不同的颜色。
2.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：该第一颜色层与该第二颜色层的材料不同。
3.如权利要求2所述的镀膜件，其特征在于：该第一颜色层为碳化铬、氮化铬及氮氧化铬中的一种。
4.如权利要求2所述的镀膜件，其特征在于：该第二颜色层为碳化钛、氮化钛及氮碳化钛中的一种。
5.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：该基材为不锈钢、钛合金、镁合金、铝合金、玻璃及塑料中的一种。
6.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：该镀膜层还包括一位于该第一颜色层与该第二颜色层之间的过渡层，该过渡层为钛层或铬层。
7.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：该镀膜层通过磁控溅射方法形成。
8.一种镀膜件的制备方法，包括：
通过真空镀膜方式在基材表面形成一第一颜色层及一第二颜色层，该第一颜色层位于该基材与该第二颜色层之间，该第一颜色层与第二颜色层具有不同的颜色；
用遮蔽物对该基材进行遮蔽保护，使第二颜色层的部分区域被遮蔽；
将经遮蔽处理的基材浸入退镀液中，使第二颜色层未被遮蔽的部分被退除而形成开孔，该第一颜色层由所述开孔局部裸露；
去除遮蔽物。
9.如权利要求8所述的镀膜件的制备方法，其特征在于：形成该第一颜色层是在磁控溅射条件下，以铬为靶材，以乙炔、氧气及氮气中的一种或多种为反应气体，在靶材上施加电源是靶材物质溅射并沉积到基材表面形成该第一颜色层。
10.如权利要求8所述的镀膜件的制备方法，其特征在于：形成该第二颜色层是在磁控溅射条件下，以钛为靶材，以乙炔、氧气及氮气中的一种或多种为反应气体，在靶材上施加电源是靶材物质溅射并沉积到第一颜色层上形成该第二颜色层。
11.如权利要求8所述的镀膜件的制备方法，其特征在于：所述遮蔽物是胶纸或通过印刷方式形成的油墨。
12.如权利要求8所述的镀膜件的制备方法，其特征在于：该镀膜件的制备方法还包括在沉积该第一颜色层之后、沉积该第二颜色层之前，在第一颜色层上沉积一层由铬或钛组成的过渡层的步骤。
13.如权利要求12所述的镀膜件的制备方法，其特征在于：所述将基材浸入退镀液中的步骤，该过渡层与所述开孔对应的部分也被退除。
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