RU2746730C1

RU2746730C1 - Method for producing composite metal-diamond coating on the surface of medical device, dispersed system for precipitation of metal-diamond coating and method for its producing

Info

Publication number: RU2746730C1
Application number: RU2020125478A
Authority: RU
Inventors: Сергей Константинович Есаулов; Целина Вацлавовна Есаулова; Елена Владимировна Миняева
Original assignee: Сергей Константинович Есаулов; Целина Вацлавовна Есаулова; Елена Владимировна Миняева
Priority date: 2020-07-23
Filing date: 2020-07-23
Publication date: 2021-04-19

Abstract

FIELD: chemistry; medicine.

SUBSTANCE: invention relates to the production of a composite metal-diamond coating, a dispersed system and its production, it can be used for medical devices. The method for producing the said coating involves the precipitation of at least one layer of a metal membrane by chemical or electrochemical precipitation from a solution or electrolyte, respectively, containing an ion source of the precipitated substance and a dispersed system. Before and after the precipitation of each of the layers, the surface is treated with water washing, drying, chemical treatment, mechanical treatment, heat treatment, or several of them. The dispersed system consists of a mixture of a liquid dispersed medium in the form of water, a solid dispersed phase, and a stabilizer. As a solid dispersed phase, a mixture of dispersed particles of a synthetic carbon diamond-containing substance and a substance selected from a group containing diamond, graphene, fullerene, astralen, reduced graphene oxide, carbine, carbon nanotubes, pyrographite, boron carbide, tungsten carbide, silicon carbide, titanium carbide, boron nitride, zirconium nitride, titanium nitride, carbon-boron nitride, titanium carbon nitride, zirconium carbon nitride, zirconium dioxide, yttrium oxide, aluminum oxide, or combinations thereof is used.

EFFECT: invention provides a composite metal-diamond coating with higher operational and technical characteristics due to increased corrosion resistance, micro-hardness, wear resistance, adhesion, as well as producing a dispersed system with increased aggregate stability.

6 cl, 3 dwg

Description

Изобретение относится к способу получения металл-алмазного покрытия посредством химического или электрохимического осаждения из раствора или электролита и может найти широкое применение для медицинских изделий, например, стоматологии, кардиохирургии для искусственного клапана сердца, эндопротезировании суставов, протезировании нижних и верхних конечностей, а также изготовление медицинских инструментов и различных технических приспособлений для оказания медицинской помощи пациентам. В настоящее время создание композиционных металл-алмазных покрытий, которые обладают высокими эксплуатационно-техническими характеристиками, за счет повышения коррозионной стойкости, микротвердости, износостойкости, адгезии к поверхности металла основы и нанесенному слою, снижения коэффициента трения и повышения качества нанесения покрытия, является одной их актуальных проблем.The invention relates to a method for producing a metal-diamond coating by means of chemical or electrochemical deposition from a solution or electrolyte and can be widely used for medical devices, for example, dentistry, cardiac surgery for an artificial heart valve, arthroplasty, prosthetics of the lower and upper extremities, as well as the manufacture of medical instruments and various technical devices for the provision of medical care to patients. Currently, the creation of composite metal-diamond coatings that have high operational and technical characteristics by increasing corrosion resistance, microhardness, wear resistance, adhesion to the base metal surface and the applied layer, reducing the friction coefficient and improving the quality of coating is one of their topical problems.

Известен способ нанесения гальванического покрытия на съемные зубные протезы, RU №2404294, 20.12.2012 г.A known method of applying a galvanic coating to removable dentures, RU No. 2404294, 20.12.2012

Способ нанесения гальванического покрытия на съемные зубные протезы включает предварительное гальваническое золочение протезов, выполненных из кобальтохромовых или никельхромовых сплавов из электролита золочения, содержащего дицианоаурат калия и лимонную кислоту и последующего осаждения палладия из электролита, содержащего палладий двухлористый, аммоний хлористый, натрий азотнокислый, аммоний сульфаминовокислый, аммиак водный.The method of applying galvanic coating on removable dentures includes preliminary galvanic gilding of dentures made of cobalt-chromium or nickel-chromium alloys from a gilding electrolyte containing potassium dicyanoaurate and citric acid and the subsequent deposition of palladium from an electrolyte containing palladium dichloride, ammonium chloride, ammonium nitrate ammonia water.

Способ позволяет устранить неприятные вкусовые ощущения из-за одновременного использования сплавов нержавеющей стали и палладий содержащих сплавов [1].The method allows you to eliminate unpleasant taste sensations due to the simultaneous use of stainless steel alloys and palladium-containing alloys [1].

Известен способ получения электрохимического хром-алмазного покрытия RU №2585608, 27.05.2016 г. A known method of producing an electrochemical chromium-diamond coating RU No. 2585608, 05/27/2016

Способ получения из электролита хромирования, содержащего взвесь частиц алмаза, представляющих собой смесь нанодисперсных алмазов детонационного синтеза (ДНА) с размером монокристаллов 2…20 нм и алмазов статического синтеза (АСС) с размером монокристаллов 2…250 нм, при суммарной концентрации смеси алмазов в электролите 2…30 г/л [2].A method of obtaining from a chromium plating electrolyte containing a suspension of diamond particles, which is a mixture of nanodispersed detonation synthesis diamonds (DND) with a single crystal size of 2 ... 20 nm and static synthesis diamonds (АСС) with a single crystal size of 2 ... 250 nm, with a total concentration of a mixture of diamonds in the electrolyte 2 ... 30 g / l [2].

Известно композиционное металл-алмазное покрытие, способ его получения, алмазосодержащая добавка электролита и способ ее получения, RU №2699699, 09.09.2019 г.Known is a composite metal-diamond coating, a method for its production, a diamond-containing electrolyte additive and a method for its production, RU No. 2699699, 09.09.2019.

Композиционное металл-алмазное покрытие выполнено в виде двухслойной металлической пленки и содержит первый слой осажденного металла, выбранного из определенной группы, и нанесенный на него второй слой из металла указанной группы с диспергированными в нем частицами синтетического углеродного алмазосодержащего вещества.The composite metal-diamond coating is made in the form of a two-layer metal film and contains a first layer of a deposited metal selected from a specific group, and a second layer of a metal of the specified group with particles of a synthetic carbon diamond-containing substance dispersed therein.

Способ его получения заключается в осаждении на поверхность изделия первого слоя посредством химического или электрохимического осаждения ионов осаждаемого металла выбранного из определенной группы, а затем осаждают второй слой из металла указанной группы и дисперсную систему, состоящую из смеси жидкой дисперсной среды, твердой дисперсной фазы и стабилизатора, при этом в качестве дисперсной среды используют воду, а в качестве твердой дисперсной фазы используют частицы синтетического углеродного алмазосодержащего вещества, а в качестве стабилизатора используют неорганические электролиты, органические электролиты или их смесь.The method for its production consists in deposition on the surface of the article of the first layer by means of chemical or electrochemical deposition of the ions of the deposited metal selected from a certain group, and then the second layer is deposited from the metal of the specified group and a dispersed system consisting of a mixture of a liquid dispersed medium, a solid dispersed phase and a stabilizer, in this case, water is used as a dispersed medium, and particles of a synthetic carbon diamond-containing substance are used as a solid dispersed phase, and inorganic electrolytes, organic electrolytes or their mixture are used as a stabilizer.

Алмазосодержащая добавка электролита состоит из смеси жидкой дисперсной среды, твердой дисперсной фазы и стабилизатора, где в качестве твердой дисперсной фазы используют частицы синтетического углеродного алмазосодержащего вещества, а в качестве стабилизатора используют неорганические электролиты, органические электролиты или их смесь.The diamond-containing electrolyte additive consists of a mixture of a liquid dispersed medium, a solid dispersed phase and a stabilizer, where particles of a synthetic carbon diamond-containing substance are used as a solid dispersed phase, and inorganic electrolytes, organic electrolytes or their mixture are used as a stabilizer.

Способ получения алмазосодержащей добавки включает отжиг в инертной среде порошка алмазосодержащей шихты, затем обработку различными химическими веществами, обработку ультразвуком, вакуумом, гидродинамическим воздействием и отмыванием продукта водой с добавлением стабилизатора [3].The method of obtaining a diamond-containing additive includes annealing in an inert medium of a powder of a diamond-containing mixture, then processing with various chemicals, treatment with ultrasound, vacuum, hydrodynamic action and washing the product with water with the addition of a stabilizer [3].

Известно композиционное металл-алмазное покрытие, способ его получения, дисперсная система для осаждения композиционного металл-алмазного покрытия и способ ее получения, RU №2706931, 21.11.2019 г.Known composite metal-diamond coating, a method for its production, a dispersed system for the deposition of a composite metal-diamond coating and a method for its production, RU No. 2706931, 21.11.2019

Композиционное металл-алмазное покрытие выполнено в виде образованной на поверхности изделия металлической пленки и содержит два слоя осажденного металла, выбранного из определенной группы, с диспергированными в них частицами синтетического углеродного алмазосодержащего вещества.The composite metal-diamond coating is made in the form of a metal film formed on the surface of the product and contains two layers of deposited metal selected from a certain group, with particles of a synthetic carbon diamond-containing substance dispersed therein.

Способ его получения заключается в том, что осаждают первый слой посредством химического или электрохимического осаждения из раствора или электролита соответственно, содержащего источник ионов осаждаемого металла, выбранного из определенной группы, и дисперсную систему, состоящую из смеси жидкой дисперсной среды, твердой дисперсной фазы и стабилизатора, при этом в качестве дисперсной среды используют воду, а в качестве твердой дисперсной фазы используют частицы синтетического углеродного алмазосодержащего вещества, при этом стабилизатор выбран из группы, включающий низкомолекулярный электролит, коллоидное поверхностно-активное вещество или их сочетание, затем осаждают второй слой аналогичным образом, при этом до и после осаждения каждого из слоев проводят обработку поверхности промывкой водой, сушкой, обработкой химическими веществами, обработкой механическим способом, термической обработкой или несколькими из них.The method for its production consists in the fact that the first layer is deposited by means of chemical or electrochemical deposition from a solution or electrolyte, respectively, containing a source of ions of the deposited metal selected from a certain group, and a dispersed system consisting of a mixture of a liquid dispersed medium, a solid dispersed phase and a stabilizer, in this case, water is used as a dispersed medium, and particles of a synthetic carbon diamond-containing substance are used as a solid dispersed phase, while the stabilizer is selected from the group including a low molecular weight electrolyte, a colloidal surfactant or a combination thereof, then the second layer is deposited in a similar manner, when Before and after the deposition of each of the layers, the surface is treated by washing with water, drying, chemical treatment, mechanical treatment, heat treatment, or several of them.

Дисперсная система для получения композиционного металл-алмазного покрытия состоит из смеси жидкой дисперсной среды, твердой дисперсной фазы и стабилизатора, где в качестве твердой дисперсной фазы используют частицы синтетического углеродного алмазосодержащего вещества, а в качестве стабилизатора используют низкомолекулярный электролит, например, органический электролит, неорганический электролит, при этом коллоидное поверхностно-активное вещество представляет собой анионное ПАВ.A disperse system for obtaining a composite metal-diamond coating consists of a mixture of a liquid dispersed medium, a solid dispersed phase and a stabilizer, where particles of a synthetic carbon diamond-containing substance are used as a solid dispersed phase, and a low molecular weight electrolyte is used as a stabilizer, for example, an organic electrolyte, an inorganic electrolyte , while the colloidal surfactant is an anionic surfactant.

Способ получения дисперсной системы включает отжиг в инертной среде порошка алмазосодержащей шихты, затем обработку различными химическими веществами, обработку ультразвуком, вакуумом, гидродинамическим воздействием и отмыванием продукта водой с добавлением упомянутого стабилизатора [4].The method of obtaining a dispersed system includes annealing in an inert medium of a powder of a diamond-containing mixture, then treatment with various chemicals, treatment with ultrasound, vacuum, hydrodynamic action and washing the product with water with the addition of the mentioned stabilizer [4].

Данное решение [4] принято в качестве прототипаThis decision [4] was taken as a prototype

Известные решения [1, 2, 3, 4] имеют ряд недостатков.The known solutions [1, 2, 3, 4] have a number of disadvantages.

Недостатки решения [1]:Disadvantages of solution [1]:

1. Способ в качестве первого слоя или подслоя используется слой золота, хотя можно было использовать менее дорогой слой никель хрома или слой никель-серебро;1. The method uses a gold layer as the first layer or sublayer, although a less expensive nickel-chromium layer or a nickel-silver layer could be used;

2. Способ рассматривает осаждение только двух веществ золота и палладия;2. The method considers the deposition of only two substances, gold and palladium;

3. Способ нанесения и электролит не предусматривают получение покрытия в виде сплавов осаждаемых металлов;3. The method of application and the electrolyte do not provide for obtaining a coating in the form of alloys of the deposited metals;

4. Способ получения нанесения и электролит не используют источник ионов осаждаемого металла в виде: железа, никеля, хрома, титана, вольфрама, молибдена, ванадия, кобальта меди, серебра, платины, родия, циркония, ниобия, рения, гафния, иттрия, а также их сплавов;4. The method of obtaining the deposition and the electrolyte do not use a source of ions of the deposited metal in the form of: iron, nickel, chromium, titanium, tungsten, molybdenum, vanadium, cobalt, copper, silver, platinum, rhodium, zirconium, niobium, rhenium, hafnium, yttrium, and also their alloys;

5. Способ получения не использует дисперсные частицы и дисперсную систему для осаждения композиционного покрытия.5. The method of obtaining does not use dispersed particles and a dispersed system for the deposition of a composite coating.

Недостатки решения [2]:Disadvantages of solution [2]:

1. Способ получения хром-алмазного покрытия осуществляют только из электролита хромирования;1. The method of obtaining a chromium-diamond coating is carried out only from a chromium plating electrolyte;

2. Способ получения использует только смесь нанодисперсных алмазов детонационного синтеза (ДНА) с размером монокристаллов 2…20 нм и алмазов статического синтеза (АСС) с размером монокристаллов 2…250 нм;2. The production method uses only a mixture of nanodispersed detonation synthesis diamonds (DND) with a single crystal size of 2 ... 20 nm and static synthesis diamonds (АСС) with a single crystal size of 2 ... 250 nm;

3. Способ не использует стабилизатор дисперсной системы для повышения ее агрегативной устойчивости за счет предотвращения слипания частиц ДНА и АСС;3. The method does not use a stabilizer of the dispersed system to increase its aggregate stability by preventing the adhesion of DND and ACC particles;

4. Хром-алмазное покрытие представляет собой только однослойное покрытие в виде металлической пленки, содержащей диспергированные в указанной металлической пленке частицы ДНА и АСС.4. Chromium-diamond coating is only a single-layer coating in the form of a metal film containing particles of DND and ACC dispersed in the specified metal film.

Недостатки решения [3]:Disadvantages of solution [3]:

1. Композиционное металл-алмазное покрытие только во втором слое содержит дисперсные частицы синтетического углеродного алмазосодержащего вещества;1. Composite metal-diamond coating only in the second layer contains dispersed particles of synthetic carbon diamond-containing substances;

2. В качестве дисперсных частиц используют только синтетическое углеродное алмазосодержащее вещество или алмазную шихту;2. Only synthetic carbon diamond-containing substance or diamond charge is used as dispersed particles;

3. Способ получения композиционного металл-алмазного покрытия рассматривает только двухслойную металлическую пленку, при этом первый слой содержит только металлическую пленку осажденного металла, выбранного из определенной группы, и нанесенный на него второй слой из металла указанной группы с диспергированными в нем частицами синтетического углеродного алмазосодержащего вещества;3. The method of obtaining a composite metal-diamond coating considers only a two-layer metal film, while the first layer contains only a metal film of a deposited metal selected from a certain group, and a second layer of a metal of the specified group with particles of a synthetic carbon diamond-containing substance dispersed therein ;

4. Способ получения в качестве стабилизатора содержит только неорганические и органические электролиты и не использует широкий класс поверхностно-активных веществ;4. The method of obtaining as a stabilizer contains only inorganic and organic electrolytes and does not use a wide class of surfactants;

5. Алмазосодержащая добавка электролита также качестве стабилизатора содержит только неорганические и органические электролиты и не использует широкий класс поверхностно-активных веществ.5. The diamond-containing electrolyte additive also contains only inorganic and organic electrolytes as a stabilizer and does not use a wide class of surfactants.

Недостатки решения [4]:Disadvantages of solution [4]:

1. В качестве дисперсных частиц используют только синтетическое углеродное алмазосодержащее вещество или алмазную шихту;1. Only synthetic carbon diamond-containing substance or diamond charge is used as dispersed particles;

2. Способ получения композиционного металл-алмазного покрытия рассматривает только двухслойную металлическую пленку с диспергированными в них частицами синтетического углеродного алмазосодержащего вещества;2. The method of obtaining a composite metal-diamond coating considers only a two-layer metal film with particles of a synthetic carbon diamond-containing substance dispersed therein;

3. Способ получения в качестве стабилизатора не использует широкий класс поверхностно-активных веществ, например, неионогенное ПАВ, катионное ПАВ, амфотерное ПАВ или их смеси;3. The method of obtaining as a stabilizer does not use a wide class of surfactants, for example, nonionic surfactants, cationic surfactants, amphoteric surfactants or mixtures thereof;

4. Композиционное металл-алмазное покрытие и способ его получения не используют в качестве твердой дисперсной фазы диспергированные частицы вещества, например, алмаз, графен, фуллерен, астрален, карбин, углеродные нанотрубки, пирографит или их различные сочетания, карбид бора, карбид вольфрама, карбид кремния, карбид титана, нитрид бора, нитрид циркония, нитрид титана, нитрид углерода-бора, карбонитрид титана, карбонитрид циркония, диоксид циркония, оксид иттрия, оксид алюминия или их различные сочетания;4. Composite metal-diamond coating and its production method do not use dispersed particles of matter as a solid dispersed phase, for example, diamond, graphene, fullerene, astralen, carbyne, carbon nanotubes, pyrographite or their various combinations, boron carbide, tungsten carbide, carbide silicon, titanium carbide, boron nitride, zirconium nitride, titanium nitride, carbon-boron nitride, titanium carbonitride, zirconium carbonitride, zirconium dioxide, yttrium oxide, alumina, or various combinations thereof;

5. В дисперсной системе и способе ее получения не используют диспергированные частицы вещества, например, алмаз, графен, фуллерен, астрален, карбин, углеродные нанотрубки, пирографит, карбид бора, карбид вольфрама, карбид кремния, карбид титана, нитрид бора, нитрид циркония, нитрид титана, нитрид углерода-бора, карбонитрид титана, карбонитрид циркония, диоксид циркония, оксид иттрия, оксид алюминия или их различные сочетания;5. The dispersed system and the method for its production do not use dispersed particles of matter, for example, diamond, graphene, fullerene, astralen, carbyne, carbon nanotubes, pyrographite, boron carbide, tungsten carbide, silicon carbide, titanium carbide, boron nitride, zirconium nitride, titanium nitride, carbon-boron nitride, titanium carbonitride, zirconium carbonitride, zirconium dioxide, yttrium oxide, alumina, or various combinations thereof;

6. В дисперсной системе и способе ее получения не используют в качестве стабилизатора, например, неионогенное ПАВ, катионное ПАВ, амфотерное ПАВ или их смеси.6. In the dispersed system and the method of its production, for example, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, an amphoteric surfactant, or mixtures thereof, are not used as a stabilizer.

Известные указанные выше решения обладают рядом существенных недостатков и не обладают требуемыми в настоящее время эксплуатационно-техническими характеристиками по коррозионной стойкости, микротвердости, износостойкости, адгезии к поверхности металла основы, необходимости уменьшения коэффициента трения.The known solutions indicated above have a number of significant drawbacks and do not possess the currently required operational and technical characteristics in terms of corrosion resistance, microhardness, wear resistance, adhesion to the base metal surface, the need to reduce the coefficient of friction.

Задачей предлагаемого изобретения является создание способа получения композиционного металл-алмазного покрытия на поверхности медицинского изделия дисперсной системы для осаждения композиционного металл-алмазного покрытия из раствора или электролита и способа ее получения для достижения более высоких эксплуатационно-технических характеристик за счет повышения коррозионной стойкости, микротвердости, износостойкости, адгезии к поверхности металла основы и нанесенному слою, необходимости снижения коэффициента трения, упрощения технологии и повышения качества нанесения покрытия, использование стабилизирующих веществ в дисперсной системе для повышения ее агрегативной устойчивости за счет предотвращения слипания диспергированных частиц вещества выбранных из указанной группы.The objective of the present invention is to create a method for producing a composite metal-diamond coating on the surface of a medical product of a dispersed system for the deposition of a composite metal-diamond coating from a solution or electrolyte and a method for its production to achieve higher performance characteristics by increasing corrosion resistance, microhardness, wear resistance , adhesion to the surface of the base metal and the applied layer, the need to reduce the coefficient of friction, simplify the technology and improve the quality of coating, the use of stabilizing substances in the dispersed system to increase its aggregate stability by preventing adhesion of dispersed particles of the substance selected from this group.

Решение данной задачи достигается тем, что способ получения композиционного металл-алмазного покрытия на поверхности медицинского изделия, включающий осаждение металла и твердой дисперсной фазы в виде металлической пленки, отличающийся тем, что на поверхность изделия осаждают, как минимум, один слой посредством химического или электрохимического осаждения из раствора или электролита соответственно, содержащего источник ионов осаждаемого вещества, выбранный из группы: железо, никель, хром, титан, кобальт, вольфрам, магний, молибден, ванадий, цирконий, ниобий, гафний, иттрий, медь, золото, серебро, платина, палладий, родий, или их различные сочетания и дисперсную систему, состоящую из смеси: жидкой дисперсной среды, твердой дисперсной фазы и стабилизатора, причем в качестве дисперсной среды используют воду, в качестве твердой дисперсной фазы используют смесь диспергированных частиц синтетического углеродного алмазосодержащего вещества и вещества, выбранного из группы, содержащей алмаз, графен, фуллерен, астрален, восстановленный оксид графена, карбин, углеродные нанотрубки, пирографит, карбид бора, карбид вольфрама, карбид кремния, карбид титана, нитрид бора, нитрид циркония, нитрид титана, нитрид углерода-бора, карбонитрид титана, карбонитрид циркония, диоксид циркония, оксид иттрия, оксид алюминия или их различные сочетания, а стабилизатор вводят в дисперсную систему в количестве 0,01-12 г/л дисперсной системы и выбирают из группы, содержащей низкомолекулярный электролит, коллоидное поверхностно-активное вещество или их сочетание, затем, при необходимости, осаждают как минимум один следующий слой посредством химического или электрохимического осаждения из раствора или электролита соответственно, содержащего источник ионов осаждаемого вещества, выбранный из указанной группы и указанную дисперсную систему, причем при осаждении из раствора или электролита, концентрация указанных диспергированных частиц вещества в дисперсной системе составляет от 0,05 до 25 г/л электролита, а размер частиц составляет от 1 до 300 нм, при этом до и после осаждения каждого из слоев производят обработку поверхности промывкой водой, сушкой, обработкой химическими веществами путем обезжиривания, травления, анодного декапирования, сенсибилизации, активирования или несколькими из них, механическую обработку, термическую обработку или несколькими из них.The solution to this problem is achieved by the fact that a method for obtaining a composite metal-diamond coating on the surface of a medical product, including the deposition of a metal and a solid dispersed phase in the form of a metal film, characterized in that at least one layer is deposited on the surface of the product by means of chemical or electrochemical deposition from a solution or electrolyte, respectively, containing a source of ions of the deposited substance selected from the group: iron, nickel, chromium, titanium, cobalt, tungsten, magnesium, molybdenum, vanadium, zirconium, niobium, hafnium, yttrium, copper, gold, silver, platinum, palladium, rhodium, or their various combinations and a dispersed system consisting of a mixture: a liquid dispersed medium, a solid dispersed phase and a stabilizer, and water is used as a dispersed medium, a mixture of dispersed particles of a synthetic carbon diamond-containing substance and a substance is used as a solid dispersed phase, selected from a group containing a diamond, g rafen, fullerene, astralen, reduced graphene oxide, carbyne, carbon nanotubes, pyrographite, boron carbide, tungsten carbide, silicon carbide, titanium carbide, boron nitride, zirconium nitride, titanium nitride, carbon-boron nitride, titanium carbonitride, zirconium carbonitride, dioxide zirconium, yttrium oxide, aluminum oxide or their various combinations, and the stabilizer is introduced into the dispersed system in an amount of 0.01-12 g / l of the dispersed system and is selected from the group containing a low molecular weight electrolyte, a colloidal surfactant or a combination thereof, then, if necessary, at least one next layer is deposited by means of chemical or electrochemical deposition from a solution or electrolyte, respectively, containing a source of ions of the deposited substance selected from the specified group and the specified dispersed system, and when deposited from a solution or electrolyte, the concentration of said dispersed particles of the substance in the dispersed system is from 0.05 to 25 g / l electr it, and the particle size is from 1 to 300 nm, while before and after the deposition of each of the layers, the surface is treated by washing with water, drying, processing with chemicals by degreasing, etching, anodic pickling, sensitization, activation or several of them, mechanical treatment , heat treatment or several of them.

Химическое осаждение покрытия осуществляют методом вытеснения, методом гальванической пары, методом химического восстановления или сочетанием методов.Chemical deposition of the coating is carried out by the displacement method, the galvanic pair method, the chemical reduction method, or a combination of methods.

Метод вытеснения основан на вытеснении ионов металла из раствора более активным металлом, например, осаждение меди на железную пластинку, помещенную в раствор сульфата меди.The displacement method is based on the displacement of metal ions from a solution by a more active metal, for example, the deposition of copper on an iron plate placed in a solution of copper sulfate.

Метод гальванической пары основан на создании гальванической пары между металлом основы и более активным металлом, например, при осаждении серебра на медную пластинку создают гальваническую пару с помощью более активного металла алюминия и магния. В этом случае более активный металл отдает свои электроны меди и на отрицательно заряженной медной поверхности ионы Ag⁺восстанавливаются до металла.The galvanic pair method is based on the creation of a galvanic pair between the base metal and a more active metal, for example, when silver is deposited on a copper plate, a galvanic pair is created using the more active metal aluminum and magnesium. In this case, the more active metal donates its electrons to copper, and on a negatively charged copper surface, Ag ⁺ ions are reduced to metal.

Метод химического восстановления заключается в том, что металлические покрытия получают в результате восстановления ионов металла из водных растворов, содержащих восстановитель. В настоящее время существуют способы получения покрытий методом химического восстановления более чем для 20 различных металлов. В основе метода химического восстановления лежит реакция взаимодействия ионов металла с растворенным восстановителем на поверхности металла. Окисление восстановителя и восстановление ионов металла протекают с заметной скоростью на металлах, проявляющих автокаталитические свойства, то есть металл, образовавшийся в результате химического восстановления из раствора, катализирует в дальнейшем реакцию окисления восстановителя. Автокаталитическими свойствами обладают: никель, железо, медь, серебро, золото, палладий, платина. Существует общеизвестный ряд активности металлов в окислительно-восстановительных реакциях в водных растворах Li-Rb-K-Ba-Sr-Ca-Na-Mg-Al-Mn-Cr-Zn-Fe-Cd-Co-Ni-Sn-Pb-H-Sb-Bi-Cu-Hg-Ag-Pd-Pt-Au. В данном ряду слева-направо происходит ослабление восстановительной способности металлов, а справа-налево происходит ослабление окислительной способности катионов металлов в водном растворе.The method of chemical reduction consists in the fact that metal coatings are obtained as a result of the reduction of metal ions from aqueous solutions containing a reducing agent. Currently, there are methods for producing coatings by chemical reduction for more than 20 different metals. The method of chemical reduction is based on the reaction of interaction of metal ions with a dissolved reducing agent on the metal surface. The oxidation of the reducing agent and the reduction of metal ions proceed at a noticeable rate on metals exhibiting autocatalytic properties, that is, the metal formed as a result of chemical reduction from the solution further catalyzes the oxidation reaction of the reducing agent. Autocatalytic properties are possessed by: nickel, iron, copper, silver, gold, palladium, platinum. There is a well-known series of activity of metals in redox reactions in aqueous solutions Li-Rb-K-Ba-Sr-Ca-Na-Mg-Al-Mn-Cr-Zn-Fe-Cd-Co-Ni-Sn-Pb-H -Sb-Bi-Cu-Hg-Ag-Pd-Pt-Au. In this row, from left to right, the reducing ability of metals decreases, and from right to left, the oxidizing ability of metal cations in an aqueous solution decreases.

Для химического или электрохимического осаждения используют водный раствор и электролит, содержащий вещества, выбранные из группы: неорганическая соль - сульфат, хлорид или цианид, неорганическое цианистое комплексное соединение, неорганическая или органическая кислота, и, при необходимости, дополнительные ингредиенты, выбранные из группы: хромовый ангидрид, дихромат калия, дихромат натрия, дихромат аммония, бисульфат натрия, углекислый натрий, сернокислый натрий, гидроксид натрия, аммиак, гидроксид аммония, гидразин, сульфат гидразина, хлорид гидразиния, гидрокарбонат аммония, гипопосфит натрия, гипопосфит кальция, борогидрид, боразол, гидразинборан, а также ионы металлов в низшей степени окисления Fe²⁺, Sn²⁺, Ti³⁺, Cr²⁺, Mn²⁺, Ce³⁺, Cu⁺, титанат натрия, дицианоаргентат калия, дицианоурат калия, цианид натрия, цианид калия, цианид меди, дицианоаргентат калия, дицианоурат калия, нитрат аммония, нитрат натрия, ацетат натрия, ацетат аммония, ацетат хрома, ацетат никеля, фторид хрома, хлорид никеля, фосфинат аммония, цитрат магния, цитрат натрия, сахарин, фтористый хромил, тиомочевина, сегнетова соль, гликоль, клей глютиновый, динатриевая соль этилендиаминтетрауксусной кислоты, фталимид, фторид натрия, ванадиевая кислота, берилливая кислота, висмутовая кислота, фенолфталеин, бутандиол, трихлорэтиламид, лаурилсульфат натрия, монофосфат цинка, нитрат цинка, молибдат натрия, сульфат родия или их сочетания, сульфаты могут быть выбраны из группы: сульфат натрия, сульфат меди, сульфат магния, сульфат никеля, сульфат железа, сульфат хрома, сульфат аммония, сульфат кобальта (II, III), сульфат титана (II, III, IV), сульфат родия (III), дисульфид вольфрама, сульфат ванадия, сульфат циркония (IV), триоксид-дисульфат диниобия, сульфат гафния, сульфат иттрия или их смесь, хлориды могут быть выбраны их группы: хлорид натрия, хлорид аммония, хлорид железа, хлорид никеля, хлорид хрома (II, III, IV), хлорид вольфрама, хлорид кобальта (II, III), хлорид ванадия, хлорид ниобия (III, IV, V), хлорид циркония (II, III, IV), хлорид рения (III, IV, V, VI), хлорид иттрия, хлорид меди (I, II), хлорид магния, хлорид золота (I, II, III), хлорид серебра, хлорид платины (II, IV), хлорид палладия, хлорид родия (III), или их смесь, в качестве неорганической или органической кислоты используют: серную, соляную, хромовую, борную, фтороводородную, цианистоводородную, угольную, азотистую, сероводородную, хлорноватистую, фосфорную, сульфаминовую, ортофосфорную, фосфорноватистую, акриловую, метакриловую, лимонную, щавелевую, уксусную, муравьиную или их смесь.For chemical or electrochemical deposition, an aqueous solution and an electrolyte are used containing substances selected from the group: inorganic salt - sulfate, chloride or cyanide, inorganic cyanide complex compound, inorganic or organic acid, and, if necessary, additional ingredients selected from the group: chromic anhydride, potassium dichromate, sodium dichromate, ammonium dichromate, sodium bisulfate, sodium carbonate, sodium sulfate, sodium hydroxide, ammonia, ammonium hydroxide, hydrazine, hydrazine sulfate, hydrazinium chloride, ammonium bicarbonate, sodium hypophosphite, boron hydrophosphite, calcium bicarbonate, bicarbonate , as well as metal ions in the lowest oxidation state Fe ²⁺ , Sn ²⁺ , Ti ³⁺ , Cr ²⁺ , Mn ²⁺ , Ce ³⁺ , Cu ⁺ , sodium titanate, potassium dicyanoargentate, potassium dicyanourate, sodium cyanide, potassium cyanide , copper cyanide, potassium dicyanoargentate, potassium dicyanourate, ammonium nitrate, sodium nitrate, sodium acetate, ammonium acetate, chromium acetate, nickel acetate, fluoro chromium read, nickel chloride, ammonium phosphinate, magnesium citrate, sodium citrate, saccharin, chromyl fluoride, thiourea, Rochelle salt, glycol, glutinic glue, disodium salt of ethylenediaminetetraacetic acid, phthalimide, sodium fluoride, vanadlic acid, phenylphthalate , butanediol, trichlorethylamide, sodium lauryl sulfate, zinc monophosphate, zinc nitrate, sodium molybdate, rhodium sulfate or combinations thereof, sulfates can be selected from the group: sodium sulfate, copper sulfate, magnesium sulfate, nickel sulfate, iron sulfate, chromium sulfate, ammonium sulfate , cobalt (II, III) sulfate, titanium sulfate (II, III, IV), rhodium (III) sulfate, tungsten disulfide, vanadium sulfate, zirconium (IV) sulfate, diniobium trioxide disulfate, hafnium sulfate, yttrium sulfate or a mixture thereof , chlorides can be selected from their groups: sodium chloride, ammonium chloride, ferric chloride, nickel chloride, chromium (II, III, IV) chloride, tungsten chloride, cobalt (II, III) chloride, vanadium chloride, niobium chloride Ia (III, IV, V), zirconium chloride (II, III, IV), rhenium chloride (III, IV, V, VI), yttrium chloride, copper (I, II) chloride, magnesium chloride, gold chloride (I, II, III), silver chloride, platinum chloride (II, IV), palladium chloride, rhodium (III) chloride, or their mixture, as inorganic or organic acids are used: sulfuric, hydrochloric, chromic, boric, hydrofluoric, hydrocyanic, coal , nitrogenous, hydrogen sulfide, hypochlorous, phosphoric, sulfamic, orthophosphoric, hypophosphorous, acrylic, methacrylic, lemon, oxalic, acetic, formic, or a mixture thereof.

В качестве неорганической или органической кислоты используют: серную, соляную, хромовую, борную, фтороводородную, цианистоводородную, угольную, азотистую, сероводородную, хлорноватистую, ортофосфорную, акриловую, метакриловую, лимонную, щавелевую, уксусную, муравьиную или их смесь.As an inorganic or organic acid, the following are used: sulfuric, hydrochloric, chromic, boric, hydrogen fluoride, hydrocyanic, carbonic, nitrogenous, hydrogen sulfide, hypochlorous, orthophosphoric, acrylic, methacrylic, citric, oxalic, acetic, formic, or a mixture thereof.

Неорганические и органические кислоты добавляются в раствор и электролит для выбора и корректировки оптимального значения водородного показателя рН являющегося мерой активности ионов водорода в электролите, количественно выражающих их кислотность.Inorganic and organic acids are added to the solution and electrolyte to select and adjust the optimal pH value, which is a measure of the activity of hydrogen ions in the electrolyte, quantitatively expressing their acidity.

Дисперсная система представляет собой смесь, состоящую, как минимум из двух веществ, которые совершенно или практически не смешиваются друг с другом и не реагируют друг с другом химически.A dispersed system is a mixture of at least two substances that are completely or practically immiscible with each other and do not chemically react with each other.

Как уже отмечалось выше дисперсная система состоит из смеси: жидкой дисперсной среды, твердой дисперсной фазы и стабилизатора, где в качестве дисперсной среды используют воду, в качестве твердой дисперсной фазы смесь диспергированных частиц из указанной группы, в качестве стабилизатора используют вещество, выбранное из группы: низкомолекулярный электролит, коллоидное поверхностно-активное вещество (ПАВ) или их сочетание.As noted above, a dispersed system consists of a mixture: a liquid dispersed medium, a solid dispersed phase and a stabilizer, where water is used as a dispersed medium, a mixture of dispersed particles from this group is used as a solid dispersed phase, a substance selected from the group is used as a stabilizer: low molecular weight electrolyte, colloidal surfactant (surfactant), or a combination thereof.

Стабилизатор, это вещество, добавление которого в дисперсную систему повышает ее агрегативную устойчивость, то есть препятствует слипанию дисперсных частиц из указанной группы, обеспечивает равномерное коллоидальное распределение твердой дисперсной фазы в жидкой дисперсной среде, предотвращает оседание дисперсных частиц из указанной группы, что приводит к упрощению технологии и повышению качества нанесения покрытия.A stabilizer is a substance, the addition of which to a dispersed system increases its aggregate stability, that is, prevents sticking of dispersed particles from this group, ensures uniform colloidal distribution of a solid dispersed phase in a liquid dispersed medium, prevents sedimentation of dispersed particles from this group, which leads to a simplification of the technology and improving the quality of the coating.

Низкомолекулярный электролит может быть выбран из группы: неорганический электролит, органический электролит, в качестве неорганического электролита могут быть выбраны кислоты из группы: серная, соляная, борная, фтороводородная, ортофосфорная, хромовая, цианистоводородная, угольная, азотистая, сероводородная или их смесь, или из группы гидроксидов: натрия, калия, аммония или их смесь, органические электролиты могут быть выбраны из группы кислот: уксусная, муравьиная, лимонная, щавелевая, акриловая, метакриловая или их смесь.A low molecular weight electrolyte can be selected from the group: inorganic electrolyte, organic electrolyte; as an inorganic electrolyte, acids can be selected from the group: sulfuric, hydrochloric, boric, hydrofluoric, phosphoric, chromic, hydrocyanic, coal, nitrogenous, hydrogen sulfide, or a mixture thereof, or from groups of hydroxides: sodium, potassium, ammonium or their mixture, organic electrolytes can be selected from the group of acids: acetic, formic, citric, oxalic, acrylic, methacrylic, or their mixture.

Коллоидное ПАВ может быть выбрано из группы: анионное ПАВ, катионное ПАВ, в качестве анионного ПАВ может быть выбрано вещество из группы: капринат натрия, додеканоат натрия, мористинат натрия, олеат натрия, олеат калия стеарат калия, лаурилсульфат натрия, лаурилсульфат калия, тетрадецилсульфат натрия, 4-додецилбензосульфонат натрия, в качестве катионного ПАВ может быть выбрано вещество из группы: додециламмоний хлорид, тетрадециламмоний хлорид, додецилметиламмоний хлорид, додецилдиметиламмоний хлорид, додецилтриметиламмоний хлорид, 1-додецилпиридиний хлорид или сочетания веществ из различных групп.Colloidal surfactant can be selected from the group: anionic surfactant, cationic surfactant, as the anionic surfactant, a substance can be selected from the group: sodium caprate, sodium dodecanoate, sodium moristinate, sodium oleate, potassium oleate potassium stearate, sodium lauryl sulfate, potassium lauryl sulfate, sodium tetraulfate , 4-dodecylbenzenesulfonate sodium, as a cationic surfactant can be selected from the group: dodecylammonium chloride, tetradecylammonium chloride, dodecylmethylammonium chloride, dodecyldimethylammonium chloride, dodecyltrimethylammonium chloride, 1-dodecylpyridinium compounds.

В случае, когда стабилизатор является ионогенным веществом, т.е. распадается в растворе на ионы, то обязательно действует электростатический фактор устойчивости. На поверхности частиц синтетического углеродного алмазосодержащего вещества образуется двойной электрический слой, возникает электрокинетический потенциал и соответствующие электростатические силы отталкивания, которые и препятствуют слипанию частиц. Стабилизирующее действие неорганических и органических электролитов ограничивается только электростатическим фактором устойчивости.In the case where the stabilizer is an ionic substance, i.e. decomposes into ions in solution, then the electrostatic stability factor necessarily acts. On the surface of the particles of the synthetic carbon diamond-containing substance, a double electric layer is formed, an electrokinetic potential and corresponding electrostatic repulsive forces arise, which prevent the particles from sticking together. The stabilizing effect of inorganic and organic electrolytes is limited only by the electrostatic stability factor.

Стабилизирующее действие коллоидных ПАВ определяется их способностью адсорбироваться на межфазной поверхности, образуя адсорбционную оболочку. ПАВ адсорбируясь на поверхности частиц, снижает поверхностную энергию, а длинноцепочные углеводородные радикалы, образуя структуру в адсорбционном слое, придают упругость и прочность защитной адсорбционно-сольватной оболочке с уменьшением поверхностного натяжения на границе частица-среда. Коллоидное ПАВ, имея дифильное строение, способно адсорбироваться как на полярных, так и на неполярных поверхностях, лиофилизируя их. В соответствии с правилом выравнивания полярностей Ребиндера стабилизирующее действие ПАВ тем существеннее, чем больше начальная разница в полярностях твердой частицы и жидкой дисперсионной среды. Поэтому, при использовании в качестве стабилизатора коллоидного ПАВ реализуется адсорбционно-сольватный фактор устойчивости.The stabilizing effect of colloidal surfactants is determined by their ability to adsorb on the interface, forming an adsorption shell. The surfactant adsorbed on the surface of particles reduces the surface energy, and long-chain hydrocarbon radicals, forming a structure in the adsorption layer, impart elasticity and strength to the protective adsorption-solvation shell with a decrease in surface tension at the particle-medium interface. Colloidal surfactant, having an amphiphilic structure, is capable of adsorbing both on polar and non-polar surfaces, lyophilizing them. In accordance with the Rebinder polarity equalization rule, the stabilizing effect of surfactants is the more significant, the greater the initial difference in the polarities of a solid particle and a liquid dispersion medium. Therefore, when a colloidal surfactant is used as a stabilizer, the adsorption-solvation factor of stability is realized.

Например, чтобы получить дисперсную систему частиц из указанной группы в воде может быть использован лаурилсульфат калия, который неполярным углеводородным радикалом адсорбируется на дисперсных частицах, а полярная группа, направленная в сторону воды, ею гидратируется и тем самым поверхность дисперсной частицы становится смачиваемой водой, то есть гидрофилизируется и дисперсная система стабилизируется. Подбор ПАВ для стабилизации дисперсных систем осуществляется на основе гидрофильно-липофильного баланса (ГЛБ). ГЛБ является числовой мерой того, в какой степени вещество является гидрофильным либо липофильным. Вещества с ГЛБ меньше 10 являются жирорастворимыми, а вещества с ГЛБ больше 10 являются водорастворимыми.For example, to obtain a dispersed system of particles from this group in water, potassium lauryl sulfate can be used, which is adsorbed by a non-polar hydrocarbon radical on dispersed particles, and the polar group directed towards water is hydrated by it, and thus the surface of the dispersed particle becomes wettable with water, that is hydrophilized and the dispersed system is stabilized. The selection of surfactants to stabilize dispersed systems is based on the hydrophilic-lipophilic balance (HLB). HLB is a numerical measure of the degree to which a substance is hydrophilic or lipophilic. Substances with an HLB less than 10 are fat-soluble, and substances with an HLB greater than 10 are water-soluble.

Например, если необходимо стабилизировать дисперсную систему полярных частиц в неполярной жидкости, то используют коллоидное ПАВ с низким значением ГЛБ, обычно 3-6, т.е. мало растворимые в воде.For example, if it is necessary to stabilize a dispersed system of polar particles in a non-polar liquid, then a colloidal surfactant with a low HLB value is used, usually 3-6, i.e. slightly soluble in water.

Например, если необходимо стабилизировать дисперсную систему неполярных частиц в полярной жидкости, то используют коллоидные ПАВ с высокими значениями ГЛБ, обычно 8-13, т.е. достаточно хорошо растворимыми в воде.For example, if it is necessary to stabilize a dispersed system of non-polar particles in a polar liquid, then colloidal surfactants with high HLB values are used, usually 8-13, i.e. fairly well soluble in water.

Следует отметить, что максимум стабилизирующих свойств наблюдается у ПАВ с 14-16 атомами углерода (максимум Донана).It should be noted that the maximum stabilizing properties is observed for surfactants with 14-16 carbon atoms (Donan maximum).

Обезжиривание электрохимическое или химическое проводят веществами, выбранными из группы содержащий водный раствор гидроксида натрия, гидроксида калия или солей щелочных металлов, органические растворители, поверхностно-активные вещества, электролиты электрохимического обезжиривания.Electrochemical or chemical degreasing is carried out with substances selected from the group containing an aqueous solution of sodium hydroxide, potassium hydroxide or alkali metal salts, organic solvents, surfactants, electrolytes for electrochemical degreasing.

В качестве органических растворителей могут быть полезны уайт-спирит, нефрас, бензол, толуол, трихлорэтилен, тетрахлорэтилен, фреон-113.White spirit, nefras, benzene, toluene, trichlorethylene, tetrachlorethylene, freon-113 can be useful as organic solvents.

В качестве поверхностно-активных веществ (ПАВ) для обезжиривания могут быть полезны алкилсульфанат, сульфанол, синтанол, синтамид.Alkyl sulfonate, sulfanol, sintanol, syntamide can be useful as surfactants for degreasing.

Например, электрохимическое обезжиривание осуществляют в растворе состава, г/л: тринатрийфосфат - 40-50, гидроксид натрия - 20-40, сода кальцинированная - 10-50, сульфанол - 5-8, стекло жидкое натриевое - 3-5, при температуре 30-80°С и плотности тока 2-10 А/дм² с обработкой на катоде 0,5-10 минут и обработкой на аноде 0,5-3 минуты, или обезжиривание без тока в течение 15-20 минут.For example, electrochemical degreasing is carried out in a solution of the composition, g / l: trisodium phosphate - 40-50, sodium hydroxide - 20-40, soda ash - 10-50, sulfanol - 5-8, liquid sodium glass - 3-5, at a temperature of 30 -80 ° C and a current density of 2-10 A / dm ² with processing at the cathode for 0.5-10 minutes and processing at the anode for 0.5-3 minutes, or degreasing without current for 15-20 minutes.

Например, обезжиривание холодное в растворе состава, г/л: гидроксид натрия - 20-20, гидроксид калия - 20-25, композиция NA-50 - 12-18, NA-51 -10-15, диоктадецилдиметиламмоний хлорид - 3-5, при катодной плотности тока 3-4 А/дм² и анодной плотности тока 2-3 А/дм². Обработка на катоде 5-10 минут, на аноде 2-3 минуты.For example, cold degreasing in a solution of the composition, g / l: sodium hydroxide - 20-20, potassium hydroxide - 20-25, composition NA-50 - 12-18, NA-51 -10-15, dioctadecyldimethylammonium chloride - 3-5, at a cathode current density of 3-4 A / dm ² and an anode current density of 2-3 A / dm ² . Treatment on the cathode 5-10 minutes, on the anode 2-3 minutes.

Травление осуществляют водными растворами серной кислоты, соляной кислоты, фосфорной кислоты, азотной кислоты, фтороводородной кислоты или их смесь, а также электролитами электрохимического травления, например, в растворе соляной кислоты 100-200 г/л в течение 1-5 минут.Etching is carried out with aqueous solutions of sulfuric acid, hydrochloric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrofluoric acid or a mixture thereof, as well as with electrochemical etching electrolytes, for example, in a solution of hydrochloric acid 100-200 g / l for 1-5 minutes.

Анодное декапирование осуществляют в электролите, содержащем источник ионов осаждаемого металла, или электролите декапирования.Anodic pickling is carried out in an electrolyte containing a source of ions of the deposited metal, or pickling electrolyte.

Декапирование (активация) представляет собой удаление тончайших окисных пленок с обрабатываемой поверхности изделия, которые образуются во время обезжиривания и промывки, а также обнажение структуры металла. Для декапирования могут быть полезны серная кислота, соляная кислота, цианид калия, цианид натрия.Dekapirovanie (activation) is the removal of the thinnest oxide films from the treated surface of the product, which are formed during degreasing and rinsing, as well as exposure of the metal structure. Sulfuric acid, hydrochloric acid, potassium cyanide, sodium cyanide can be useful for pickling.

Например, при хромировании обработку ведут в основном электролите в течение 0,5-1 минуту с силой тока 300-370 А, плотность тока 20-25 А/дм², или химическом растворе г/л: фтороводородная кислота (40%) - 15-20, азотная кислота (65%) - 40-50, вода - 25-30, при температуре 18-25°С в течение 1,5-2,0 минут.For example, when chrome plating, processing is carried out in the main electrolyte for 0.5-1 minute with a current strength of 300-370 A, a current density of 20-25 A / dm ² , or in a chemical solution g / l: hydrofluoric acid (40%) - 15 -20, nitric acid (65%) - 40-50, water - 25-30, at a temperature of 18-25 ° C for 1.5-2.0 minutes.

При осаждении никеля и железа декапирование проводят электролитах декапирования.When depositing nickel and iron, pickling is carried out with pickling electrolytes.

Например, состав для никелевого декапирования, г/л: сернокислый никель - 250-300, хлористый натрий - 10-20, хромовый ангидрид - 0,01-0,1, хлористый или сернокислый цинк -10-20.For example, the composition for nickel pickling, g / l: nickel sulphate - 250-300, sodium chloride - 10-20, chromic anhydride - 0.01-0.1, zinc chloride or sulphate -10-20.

Металлы: медь, вольфрам, титан, а также неметаллические материалы не являются катализаторами реакции окисления восстановителя, поэтому для придания каталитических свойств поверхности изделия ее подвергают обработке, включающей две последовательные стадии сенсибилизацию и активирование.Metals: copper, tungsten, titanium, as well as non-metallic materials are not catalysts for the oxidation reaction of the reducing agent; therefore, in order to impart catalytic properties to the surface of the product, it is subjected to processing, including two successive stages of sensitization and activation.

Сенсибилизацию (повышение чувствительности) осуществляют растворами солей металлов, выбранных из группы: Sn²⁺, Fe²⁺, Ti³⁺, Ge²⁺, в качестве растворителя используют воду, кислоту, этанол или их смеси. Эффективный способ сенсибилизации заключается в обработке поверхности изделия раствором хлорида олова или хлоридом железа.Sensitization (sensitization) is carried out with solutions of metal salts selected from the group: Sn ²⁺ , Fe ²⁺ , Ti ³⁺ , Ge ²⁺ , water, acid, ethanol or their mixtures are used as a solvent. An effective method of sensitization is to treat the surface of the product with a solution of tin chloride or ferric chloride.

Например, сенсибилизацию осуществляют из раствора состава: хлорид олова - 50 г/л, соляная кислота - 10 мл/л; или хлорид железа - 55 г/л, фтороводородная кислота - 5 мл/л.For example, sensitization is carried out from a solution of the composition: tin chloride - 50 g / l, hydrochloric acid - 10 ml / l; or ferric chloride - 55 g / l, hydrofluoric acid - 5 ml / l.

Активирование заключается в обработке растворами соединений каталитически активных металлов, выбранных из группы: палладий, платина, серебро, родий, в качестве растворителя используют воду, кислоту, аммиак, гидроксид натрия или их смеси. Распространение получили растворы, содержащие хлорид палладия или хлорид родия.Activation consists in the treatment with solutions of compounds of catalytically active metals selected from the group: palladium, platinum, silver, rhodium; water, acid, ammonia, sodium hydroxide or their mixtures are used as a solvent. Solutions containing palladium chloride or rhodium chloride have become widespread.

Например, активирование осуществляют из раствора состава: хлорид палладия - 0,25 г/л, соляная кислота - 10 мл/л; или хлорид родия - 0,1 г/л, соляная кислота - 8 мл/л.For example, activation is carried out from a solution of the composition: palladium chloride - 0.25 g / l, hydrochloric acid - 10 ml / l; or rhodium chloride - 0.1 g / l, hydrochloric acid - 8 ml / l.

Сушка изделия осуществляется в воздушной среде за счет обдува горячим воздухом температурой 20-70°С в течение от 10 минут до 1 часа.Drying of the product is carried out in air by blowing hot air at a temperature of 20-70 ° C for 10 minutes to 1 hour.

При необходимости изделие обрабатывается механическим способом, выбранным из группы: шлифование, полирование, пескоструйная обработка шлифовальным порошком или их различные сочетания.If necessary, the product is processed by a mechanical method selected from the group: grinding, polishing, sandblasting with grinding powder, or their various combinations.

Термическая обработка включает отжиг изделия в воздушной среде или вакууме при температуре 50-450°С в течение от 10 минут до 3 часов.Heat treatment includes annealing the product in air or vacuum at a temperature of 50-450 ° C for 10 minutes to 3 hours.

Термическая обработка включает также закалку током высокой частоты поверхностного слоя металлического изделия на глубину 0,1-1 мм до достижения твердости, например, 45-50 HRC.Heat treatment also includes high-frequency current hardening of the surface layer of the metal product to a depth of 0.1-1 mm to achieve a hardness of, for example, 45-50 HRC.

Следует отметить из уровня техники известно, что сплав представляет собой микроскопически однородный металлический материал, состоящий из смеси двух или большего числа химических элементов с преобладанием металлических компонентов. В качестве способа получения сплава может быть использовано химическое или электрохимическое осаждение из раствора или электролита соответственно, содержащего источник ионов осаждаемого вещества выбранного из группы: железо, никель, хром, титан, кобальт, вольфрам, магний, молибден, ванадий, цирконий, ниобий, гафний, иттрий медь, золото, серебро, платина, палладий, родий или их различные сочетания и дисперсную систему представляющую собой смесь диспергированных частиц синтетического углеродного алмазосодержащего вещества и веществ из группы, содержащей алмаз, графен, фуллерен, астрален, восстановленный оксид графена, карбин, углеродные нанотрубки, пирографит, карбид бора, карбид вольфрама, карбид кремния, карбид титана, нитрид бора, нитрид циркония, нитрид титана, нитрид углерода-бора, карбонитрид титана, карбонитрид циркония, диоксид циркония, оксид иттрия, оксид алюминия или их различные сочетания. Исходя из выше изложенного следует, что слой металл-алмазного покрытия может представлять собой сплав (гальванический) содержащий металл (один или несколько) и смесь диспергированных частиц вещества из указанной группы, например, сплав никель-СУАВ-алмаз-карбид вольфрама, или сплав никель-алмаз-хром-СУАВ-карбин-пирографит, или сплав никель-алмаз-хром-СУАВ-карбид бора-нитрид титана.It should be noted from the prior art that an alloy is a microscopically homogeneous metallic material consisting of a mixture of two or more chemical elements with a predominance of metallic components. As a method for producing an alloy, chemical or electrochemical deposition from a solution or electrolyte, respectively, containing a source of ions of the deposited substance selected from the group: iron, nickel, chromium, titanium, cobalt, tungsten, magnesium, molybdenum, vanadium, zirconium, niobium, hafnium can be used. , yttrium copper, gold, silver, platinum, palladium, rhodium or their various combinations and a dispersed system that is a mixture of dispersed particles of a synthetic carbon diamond-containing substance and substances from the group containing diamond, graphene, fullerene, astralen, reduced graphene oxide, carbyne, carbon nanotubes, pyrographite, boron carbide, tungsten carbide, silicon carbide, titanium carbide, boron nitride, zirconium nitride, titanium nitride, carbon-boron nitride, titanium carbonitride, zirconium carbonitride, zirconium dioxide, yttrium oxide, aluminum oxide, or various combinations thereof. Based on the above, it follows that the metal-diamond coating layer can be an alloy (galvanic) containing a metal (one or more) and a mixture of dispersed particles of a substance from this group, for example, a nickel-SUAB-diamond-tungsten carbide alloy, or a nickel alloy -diamond-chromium-SUAV-carbine-pyrographite, or nickel-diamond-chromium-SUAV-boron carbide-titanium nitride alloy.

Например, слой композиционного покрытия никель-алмаз осаждают посредством химического осаждения никеля на изделия из титановых сплавов осуществляют из раствора состава, г/л: никель сернокислый или никель хлористый - 20-30; СУАВ - 1-7; алмаз - 2-3; карбин -1-2; восстановленный оксид графена - 0,5-1; карбид титана - 2-3; нитрид бора -1-2; натрий уксуснокислый - 10-15; гипофосфит натрия - 23-30; тиомочевина - 0,001-0,003; кислота уксусная - 5-10, при рН 4,3-5,0, температуре 85-95°С, плотности загрузки 1-2 дм²/л, в течение 2-10 минут. Раствор гипофосфита натрия вводится непосредственно перед никилированием. Раствор допускается использовать и корректировать до накопления фосфитов до 50-60 г/л.For example, a nickel-diamond composite coating layer is deposited by chemical deposition of nickel on titanium alloy products from a solution of the composition, g / l: nickel sulfate or nickel chloride - 20-30; SUAV - 1-7; diamond - 2-3; carbyne -1-2; reduced graphene oxide - 0.5-1; titanium carbide - 2-3; boron nitride -1-2; sodium acetate - 10-15; sodium hypophosphite - 23-30; thiourea - 0.001-0.003; acetic acid - 5-10, at pH 4.3-5.0, temperature 85-95 ° C, loading density 1-2 dm ² / l, for 2-10 minutes. A solution of sodium hypophosphite is injected immediately before nickelization. The solution may be used and adjusted up to the accumulation of phosphites up to 50-60 g / l.

Например, химическое осаждение сплава никель-хром-ванадий-алмаз, также может осуществляться из раствора состава, г/л: хлорид никеля - 15-25; хлорид хрома - 10-15; хлорид ванадия - 3-5; фторид калия 2,5-10; гликолевая кислота - 25-35; СУАВ - 2-5; графен - 0,5-1; углеродные нанотрубки - 0,5-1; нитрид углерода-бора 2-3, при рН 2,8-3,2 - доводится серной или соляной кислотой, температуре 18-25°С, в течение 4-10 минут.For example, chemical deposition of a nickel-chromium-vanadium-diamond alloy can also be carried out from a solution of the composition, g / l: nickel chloride - 15-25; chromium chloride - 10-15; vanadium chloride - 3-5; potassium fluoride 2.5-10; glycolic acid - 25-35; SUAV - 2-5; graphene - 0.5-1; carbon nanotubes - 0.5-1; carbon-boron nitride 2-3, at pH 2.8-3.2 - adjusted with sulfuric or hydrochloric acid, at a temperature of 18-25 ° C, for 4-10 minutes.

Например, слой композиционного металл-алмазного покрытия осаждают посредством электрохимического осаждения сплава никель-железо-титан-ниобий-алмазного покрытия на изделия из стали (ХН80ТБЮ, ХН77ТЮРУ-ВД) осуществляют из электролита состава, г/л: сульфат никеля - 150-250; сульфат титана - 35-50; хлорид никеля - 25-60; хлорид железа -15-30; хлорид ниобия - 5-10; уксусная кислота - 5-10; 1,4 бутандиол - 0,15-0,2; сахарин - 1-1,5; СУАВ - 3-5; пирографит - 3-5; карбид вольфрама - 3-5; карбонитрид титана - 2-3; оксид иттрия - 0,2-0,5; оксид алюминия - 1-2, диоксид циркония - 1-2, плотность тока - 4-12 А/дм², при температуре 70-80°С, рН 2-3.For example, a layer of composite metal-diamond coating is deposited by electrochemical deposition of an alloy of nickel-iron-titanium-niobium-diamond coating on steel products (KhN80TBYU, KhN77TYURU-VD) is carried out from an electrolyte of composition, g / l: nickel sulfate - 150-250; titanium sulfate - 35-50; nickel chloride - 25-60; ferric chloride -15-30; niobium chloride - 5-10; acetic acid - 5-10; 1.4 butanediol - 0.15-0.2; saccharin - 1-1.5; SUAV - 3-5; pyrographite - 3-5; tungsten carbide - 3-5; titanium carbonitride - 2-3; yttrium oxide - 0.2-0.5; aluminum oxide - 1-2, zirconium dioxide - 1-2, current density - 4-12 A / dm ² , at a temperature of 70-80 ° C, pH 2-3.

Например, слой композиционного металл-алмазного покрытия осаждают посредством электрохимического осаждения сплава никель-магний-молибден-алмазного покрытия на изделия из титановых сплавов осуществляют из раствора состава, г/л: сульфат никеля - 140-150; сульфат натрия - 40-50; сульфат магния -20-25; молибдат натрия - 5-10; СУАВ-1-3; алмаз - 1-2; фуллерен - 0,1-03; астрален - 0,5-1; нитрид циркония - 1-2; диоксид циркония - 2-3, натрий хлористый - 5-10; натрий фтористый - 2-3; лимонная кислота - 20-25, при температуре 70-85°С, плотность тока - до 20 А/дм².For example, a layer of a composite metal-diamond coating is deposited by electrochemical deposition of an alloy of nickel-magnesium-molybdenum-diamond coating on titanium alloy products from a solution of the composition, g / l: nickel sulfate - 140-150; sodium sulfate - 40-50; magnesium sulfate -20-25; sodium molybdate - 5-10; SUAV-1-3; diamond - 1-2; fullerene - 0.1-03; astralen - 0.5-1; zirconium nitride - 1-2; zirconium dioxide - 2-3, sodium chloride - 5-10; sodium fluoride - 2-3; citric acid - 20-25, at a temperature of 70-85 ° C, current density - up to 20 A / dm ² .

Например, электрохимическое осаждение сплава никель-кобальт-цирконий-алмазного покрытия, также может осуществляться из электролита состава, г/л: сульфат никеля - 10-30; хлорид кобальта -10-30; хлорид циркония - 20-25; аммоний щавелевокислый - 30-50; щавелевая кислота -0,8-1,0; натрий фтористый - 3-15; СУАВ - 3-5; карбин - 1-2; карбид бора - 3-5; нитрид титана-2-3, при температуре 20-60°С, рН 4-8, плотность тока-до 20 А/дм².For example, electrochemical deposition of an alloy of nickel-cobalt-zirconium-diamond coating can also be carried out from an electrolyte of the composition, g / l: nickel sulfate - 10-30; cobalt chloride -10-30; zirconium chloride - 20-25; ammonium oxalate - 30-50; oxalic acid -0.8-1.0; sodium fluoride - 3-15; SUAV - 3-5; carbyne - 1-2; boron carbide - 3-5; titanium nitride-2-3, at a temperature of 20-60 ° C, pH 4-8, current density up to 20 A / dm ² .

Например, электрохимическое осаждение сплава никель-хром-вольфрам-кобальт-алмазного покрытия осуществляют из борфтористого электролита состава, г/л: борфтористый никель - 200-300; хлорид никеля хлористый - 10-15; хлорид хрома - 70-90; хлорид вольфрама - 20-30; хлорид кобальта -10-15; фтороводородная кислота - 10-15; алмаз - 1-5, углеродные нанотрубки - 0,5-1; карбид кремния - 3-5, при температуре 45-55°С, рН 3-3,5, плотность тока - до 20 А/дм², выход по току 95-98%.For example, the electrochemical deposition of an alloy of nickel-chromium-tungsten-cobalt-diamond coating is carried out from boron fluoride electrolyte composition, g / l: boron fluoride nickel - 200-300; nickel chloride chloride - 10-15; chromium chloride - 70-90; tungsten chloride - 20-30; cobalt chloride -10-15; hydrofluoric acid - 10-15; diamond - 1-5, carbon nanotubes - 0.5-1; silicon carbide - 3-5, at a temperature of 45-55 ° C, pH 3-3.5, current density - up to 20 A / dm ² , current efficiency 95-98%.

Например, электрохимическое осаждение сплава никель-цирконий-иттрий-алмазного покрытия осуществляют из кремнефтористоводородного электролита состава, г/л: кремнефтористый никель - 300-500; хлорид никеля -25-50; хлорид циркония - 40-50; хлорид иттрия 5-10; фтороводородная кислота - 20-30; СУАВ - 2-5, оксид алюминия - 3-5; пирографит - 2-3; нитрид циркония - 1-2, карбонитрид циркония - 1-2, при температуре 20-50°С, рН 0,5-1, плотность тока - до 15 А/дм².For example, electrochemical deposition of an alloy of nickel-zirconium-yttrium-diamond coating is carried out from a hydrofluorosilicic acid electrolyte of the composition, g / l: nickel fluorosilicate - 300-500; nickel chloride -25-50; zirconium chloride - 40-50; yttrium chloride 5-10; hydrofluoric acid - 20-30; SUAV - 2-5, aluminum oxide - 3-5; pyrographite - 2-3; zirconium nitride - 1-2, zirconium carbonitride - 1-2, at a temperature of 20-50 ° C, pH 0.5-1, current density - up to 15 A / dm ² .

Например, электрохимическое осаждение сплава никель-титан-гафний-алмазного покрытия осуществляют из сульфаминового электролита состава, г/л: сульфаминовокислый никель - 240-270; сульфат титана - 10-30; сульфат гафния - 5-10; сульфаминовая кислота - 15-20; СУАВ - 1-6; оксид иттрия -1-2; оксид алюминия - 2-4; карбонитрид титана - 2-3; хлорид натрия 2-3 мл/л; паратолуолсульфамид - 1,5-2; моющее средство Прогресс - 2-3 мл/л, при температуре 40-45°С, рН 3-4,5, плотность тока до 20 А/дм².For example, electrochemical deposition of an alloy of nickel-titanium-hafnium-diamond coating is carried out from a sulfamine electrolyte of the composition, g / l: sulfamic nickel - 240-270; titanium sulfate - 10-30; hafnium sulfate - 5-10; sulfamic acid - 15-20; SUAV - 1-6; yttrium oxide -1-2; aluminum oxide - 2-4; titanium carbonitride - 2-3; sodium chloride 2-3 ml / l; paratoluenesulfonamide - 1.5-2; detergent Progress - 2-3 ml / l, at a temperature of 40-45 ° C, pH 3-4.5, current density up to 20 A / dm ² .

Например, технологический процесс химического или электрохимического осаждения металл-алмазного покрытия на изделия из титановых сплавов включает в себя:For example, the technological process of chemical or electrochemical deposition of a metal-diamond coating on titanium alloy products includes:

1. Монтаж изделия на приспособление;1. Installation of the product on the device;

2. Обезжиривание в органическом растворителе. Сушка на воздухе до полного удаления паров растворителя;2. Degreasing in an organic solvent. Air drying until complete removal of solvent vapors;

3. Обезжиривание электрохимическое или химическое. Холодная промывка, горячая промывка, сушка;3. Electrochemical or chemical degreasing. Cold washing, hot washing, drying;

4. Отжиг изделия при температуре 400-450°С в течение 40-60 минут;4. Annealing the product at a temperature of 400-450 ° C for 40-60 minutes;

5. Пескоструйная обработка шлифовальным порошком;5. Sandblasting with grinding powder;

6. Обезжиривание электрохимическое или химическое (п.З);6. Degreasing electrochemical or chemical (item 3);

7. Декапирование химическое в растворе кислот.Промывка в холодной проточной воде, промывка в дистиллированной воде;7. Chemical decapitation in a solution of acids. Washing in cold running water, washing in distilled water;

8. Химическое или электрохимическое осаждение металл-алмазного покрытия из раствора или электролита соответственно;8. Chemical or electrochemical deposition of a metal-diamond coating from a solution or electrolyte, respectively;

9. Промывка в холодной проточной воде, промывка в горячей проточной воде, промывка в горячей дистиллированной воде или деионизованной воде при температуре 65-70°С;9. Rinsing in cold running water, rinsing in hot running water, rinsing in hot distilled water or deionized water at a temperature of 65-70 ° C;

10. Сушка сжатым воздухом до удаления следов влаги;10. Drying with compressed air to remove traces of moisture;

11. Отжиг изделия при температуре 200-300°С в течение 1,5-2 часов.11. Annealing the product at a temperature of 200-300 ° C for 1.5-2 hours.

Например, слой композиционного металл-алмазного покрытия осаждают посредством химического или электрохимического осаждения хром-алмазного покрытия на изделия из стали, меди и их сплавов, титановых сплавов.For example, a layer of a composite metal-diamond coating is deposited by chemical or electrochemical deposition of a chromium-diamond coating on articles made of steel, copper and their alloys, titanium alloys.

Например, технологический процесс химического или электрохимического осаждения металл-алмазного покрытия на изделия из стали, меди и их сплавов, титановых сплавов включает в себя:For example, the technological process of chemical or electrochemical deposition of a metal-diamond coating on products made of steel, copper and their alloys, titanium alloys includes:

1. Обезжиривание органическими растворителями: растворитель 646, ацетон. Операция проводится при необходимости (при сильных загрязнениях). Протирка ветошью до полного удаления жировых загрязнений. При сильных загрязнениях поверхности допускается проводить очистку в ультразвуковой ванне с щелочным раствором;1. Degreasing with organic solvents: solvent 646, acetone. The operation is carried out if necessary (with heavy contamination). Wipe with a cloth until the grease is completely removed. In case of severe surface contamination, it is allowed to clean in an ultrasonic bath with an alkaline solution;

2. Изолирование поверхности изделия, не подлежащее покрытию с использованием гальванотехнической ленты SC-1 или изоляционного лака;2. Insulating the surface of the product, not subject to coating using SC-1 electroplating tape or insulating varnish;

3. Монтаж изделия на приспособление;3. Installation of the product on the device;

4. Обезжиривание электрохимическое составом, г/л: гидроксид натрия - 10-30, композиция Chemeta Na-66 - 10-15, или композиция Chemeta Na-60 - 100-150 мл/л, при температуре 30-50°С, плотности тока 2-10 А/дм² в течение 10-15 минут;4. Degreasing electrochemical composition, g / l: sodium hydroxide - 10-30, composition Chemeta Na-66 - 10-15, or composition Chemeta Na-60 - 100-150 ml / l, at a temperature of 30-50 ° С, density current 2-10 A / dm ² for 10-15 minutes;

5. Промывка проточной горячей водой с температурой 50-60°С в течение 0,3-1 минуты. Скорость протока воды устанавливается с учетом 2^х кратной замены ванны за смену. При недостаточном качестве промывки предусматривается дополнительная оросительная система;5. Rinsing with running hot water at a temperature of 50-60 ° C for 0.3-1 minutes. The water flow rate is set taking into account 2 ^x replacement of the bath per shift. In case of insufficient leaching quality, an additional irrigation system is provided;

6. Промывка проточной холодной водой с температурой 20-22°С в течение 0,5-1 минуты. Скорость протока воды устанавливается с учетом 2^х кратной замены ванны за смену;6. Rinsing with running cold water at a temperature of 20-22 ° C for 0.5-1 minutes. The water flow rate is set taking into account 2 ^x replacement of the bath per shift;

7. Травление химическими составами, выбранными из группы:7. Etching with chemical compounds selected from the group:

Состав 1: азотная кислота плотностью 1,41 г/см³ - 50 об.%, серная кислота плотностью 1,84 г/см³ -50 об.%, хлористый натрий - 5-10 г/л, при температуре менее 25°С в течение до 0,2 минут;Composition 1: nitric acid with a density of 1.41 g / cm ³ - 50 vol.%, Sulfuric acid with a density of 1.84 g / cm ³ -50 vol.%, Sodium chloride - 5-10 g / l, at a temperature of less than 25 ° C for up to 0.2 minutes;

Состав 2: уксусная кислота - 260-265 г/л, ортофосфорная кислота - 830-850 г/л, тиомочевина - 0,2-0,3 г/л при температуре 15-25°С в течение до 0,5-1,5 минут;Composition 2: acetic acid - 260-265 g / l, phosphoric acid - 830-850 g / l, thiourea - 0.2-0.3 g / l at a temperature of 15-25 ° С for up to 0.5-1 ,5 minutes;

Состав 3: соляная кислота плотностью 1,19 г/см³ - 250-300 г/л, композиция Muriatikols - 5-12 г/л при температуре 15-25°С в течение до 0,5-1,5 минут. Составы 1,2 применяются для деталей из меди и сплавов с окалиной. Состав 3 применяются для сталей и сплавов.Composition 3: hydrochloric acid with a density of 1.19 g / cm ³ - 250-300 g / l, Muriatikols composition - 5-12 g / l at a temperature of 15-25 ° C for up to 0.5-1.5 minutes. Compositions 1,2 are used for parts made of copper and scale alloys. Composition 3 is used for steels and alloys.

8. Промывка проточной холодной водой при температуре 20-22°С в течение 0,5-1 минуты. Скорость протока воды устанавливается с учетом 2^х кратной замены ванны за смену;8. Rinsing with running cold water at a temperature of 20-22 ° C for 0.5-1 minutes. The water flow rate is set taking into account 2 ^x replacement of the bath per shift;

9. Осветление химическим составом, г/л: хромовый ангидрид - 70-120, серная кислота - 5-30, хлористый натрий - 3-5, при температуре 10-25°С в течение 5-10 с. для стали и 2-5 с. для меди. В процессе осветления детали встряхиваются. При потере работоспособности раствор осветления заменяется. Осветление проводится при необходимости;9. Clarification by chemical composition, g / l: chromic anhydride - 70-120, sulfuric acid - 5-30, sodium chloride - 3-5, at a temperature of 10-25 ° C for 5-10 s. for steel and 2-5 s. for copper. In the process of lightening, the parts are shaken. In the event of a loss of performance, the clarification solution is replaced. Clarification is carried out if necessary;

10. Промывка проточной холодной водой при температуре 20-22°С в течение 0,5-1 минуты, скорость потока воды устанавливается с учетом 2^х кратной замены воды за смену;10. Washing with running cold water at 20-22 ° C for 0.5-1 minutes, the water flow rate is determined based on a multiple of 2 ^x water changes per shift;

11. Декапирование в соляной кислоте плотностью 1,19 г/см³ - 150-200 г/л при температуре 15-25°С в течение 0,5-1 минуты;11. Decapitation in hydrochloric acid with a density of 1.19 g / cm ³ - 150-200 g / l at a temperature of 15-25 ° C for 0.5-1 minutes;

12. Промывка проточной холодной водой при температуре 20-22°С в течение 0,25-0,5 минуты, скорость потока воды устанавливается с учетом 2^х кратной замены воды за смену;12. Washing with running cold water at 20-22 ° C for 0.25-0.5 min, the water flow rate is determined based on a multiple of 2 ^x water changes per shift;

13. Химическое или электрохимическое осаждение металл-алмазного покрытия.13. Chemical or electrochemical deposition of metal-diamond coating.

Например, химическое осаждение хром-алмазного покрытия осуществляется из раствора состава г/л:For example, the chemical deposition of a chromium-diamond coating is carried out from a solution of the composition g / l:

Состав 1: хромил фтористый - 12-14; натрий лимоннокислый - 5-8; кислота лимонная - 10; СУАВ - 1-5; алмаз - 1-3; пирографит - 1-2; углеродные нанотрубки - 1-2; гипофосфит натрия -5-7, при температуре 85-90°С, рН 8-11, скорости осаждения 1-2,5 мкм/ч,Composition 1: chromyl fluoride - 12-14; sodium citrate - 5-8; citric acid - 10; SUAV - 1-5; diamond - 1-3; pyrographite - 1-2; carbon nanotubes - 1-2; sodium hypophosphite -5-7, at a temperature of 85-90 ° C, pH 8-11, deposition rate 1-2.5 μm / h,

Состав 2: ацетат хрома - 25-30; ацетат никеля - 0,5-1; натрий гликолевокислый - 35-40; натрий уксуснокислый - 18-25; натрий лимоннокислый - 35-40; кислота уксусная - 12-15; гидроксид натрия - 12-15; СУАВ - 1-5; алмаз - 1-3; пирографит - 1-2; карбид вольфрама - 2-4; гипофосфит натрия - 14-15, при температуре 85-90°С, рН 4-6, скорости осаждения 2-2,5 мкм/ч,Composition 2: chromium acetate - 25-30; nickel acetate - 0.5-1; sodium glycolic acid - 35-40; sodium acetate - 18-25; sodium citrate - 35-40; acetic acid - 12-15; sodium hydroxide - 12-15; SUAV - 1-5; diamond - 1-3; pyrographite - 1-2; tungsten carbide - 2-4; sodium hypophosphite - 14-15, at a temperature of 85-90 ° C, pH 4-6, deposition rate 2-2.5 μm / h,

Состав 3: фторид хрома - 5-10; хлорид хрома - 5-10; пирофосфат натрия -75-100; СУАВ -1-7; восстановленный оксид графена - 0,5-1; астрален - 0,5-1; цитрат натрия -25-30, при температуре 98-100°С, рН 8-11, скорости осаждения 0,15-0,25 мкм/ч,Composition 3: chromium fluoride - 5-10; chromium chloride - 5-10; sodium pyrophosphate -75-100; SUAV -1-7; reduced graphene oxide - 0.5-1; astralen - 0.5-1; sodium citrate -25-30, at a temperature of 98-100 ° C, pH 8-11, deposition rate 0.15-0.25 μm / h,

Например, электрохимическое осаждение блестящего хром-алмазного покрытия (Хбл), твердого хром-алмазного покрытия (Хтв.), износостойкого хромо-алмазного покрытия (Хизн.) при скорости осаждения 0,28-0,31 мкм/мин. осуществляется из электролита состава г/л:For example, electrochemical deposition of a shiny chromium-diamond coating (Hbl), hard chromium-diamond coating (Xtv.), Wear-resistant chromium-diamond coating (Life) at a deposition rate of 0.28-0.31 μm / min. is carried out from an electrolyte composition g / l

Состав 1: хромовый ангидрид - 230-280 г/л, серная кислота - 2-4 г/л; трехвалентный хром - 2-3 г/л; СУАВ - 1-7; графен - 0,25-0,4 г/л; блескообразующая добавка ЦКН-41 - 5-10 мл/л.Composition 1: chromic anhydride - 230-280 g / l, sulfuric acid - 2-4 g / l; trivalent chromium - 2-3 g / l; SUAV - 1-7; graphene - 0.25-0.4 g / l; shining additive TsKN-41 - 5-10 ml / l.

Состав 2: хромовый ангидрид - 230-250 г/л; серная кислота - 2-4 г/л; трехвалентный хром - 2-3 г/л; СУАВ - 1-7 г/л; карбид вольфрама - 2-4 г/л; пирографит - 1-2 г/л.Composition 2: chromic anhydride - 230-250 g / l; sulfuric acid - 2-4 g / l; trivalent chromium - 2-3 g / l; SUAV - 1-7 g / l; tungsten carbide - 2-4 g / l; pyrographite - 1-2 g / l.

Состав 3: хромовый ангидрид 230-250 г/л, серная кислота - 2-4 г/л, трехвалентный хром - 2-3 г/л, СУАВ - 4-7 г/л; астрален - 0,15-0,2; карбонитрид титана - 2-4 г/л.Composition 3: chromic anhydride 230-250 g / l, sulfuric acid - 2-4 g / l, trivalent chromium - 2-3 g / l, SUAB - 4-7 g / l; astralen - 0.15-0.2; titanium carbonitride - 2-4 g / l.

По обозначению Хбл., Состав 1- катодная плотность тока 30-70 А/дм², температура 55(+-) 2°С.According to the designation Hbl., Composition 1- cathode current density 30-70 A / dm ² , temperature 55 (+ -) 2 ° C.

По обозначению Хтв., Состав 1,2 - катодная плотность тока 50-100 А/дм², температура 45(+-) 2°С.According to the designation Xtv., Composition 1.2 - cathode current density 50-100 A / dm ² , temperature 45 (+ -) 2 ° C.

По обозначению Хизн., Состав 1,2,3- - катодная плотность тока 40-70 А/дм², температура 55(+-) 2°С. Детали из меди и медных сплавов завешиваются под рабочим током. Анодное декапирование не производится. Для стальных деталей производится анодное декапирование при толщине хромового покрытия 0,025-0,15 мкм, продолжительностью 5-200 с. После декапирования стальных деталей хромирование следует начинать с возрастания тока, в течение 1-2 минут плотность тока должна превышать в 1,5-2 раза номинальную, затем плотность тока снижают в течение 1-1,5 минут до номинальной величины.According to the designation Hizn., Composition 1,2,3- - cathode current density 40-70 A / dm ² , temperature 55 (+ -) 2 ° C. Parts made of copper and copper alloys are hung with operating current. Anode pickling is not performed. For steel parts, anodic pickling is performed with a chrome coating thickness of 0.025-0.15 microns, with a duration of 5-200 s. After pickling steel parts, chromium plating should be started with increasing current, within 1-2 minutes the current density should exceed 1.5-2 times the nominal, then the current density is reduced within 1-1.5 minutes to the nominal value.

14. Первое улавливание осуществляется в ванне улавливания в течение 0,5-1 минуты. Раствор ванны используется для восполнения электролита хромирования;14. The first collection is carried out in the collection bath for 0.5-1 minutes. The bath solution is used to replenish the chromium plating electrolyte;

15. Второе улавливание осуществляется в ванне улавливания в течение 0,5-1 минуты. Раствор ванны используется для восполнения раствора первой ванны улавливания;15. The second capture is carried out in the capture bath for 0.5-1 minutes. The bath solution is used to replenish the solution of the first collection bath;

16. Промывка проточной холодной водой с температурой 20-22°С в течение 7-15 минуты. Скорость протока воды устанавливается с учетом 4^х кратной замены ванны за смену. При недостаточном качестве промывки предусматривается дополнительная оросительная система;16. Rinsing with cold running water at a temperature of 20-22 ° C for 7-15 minutes. Water flow rate is set with the multiple ^x 4 substitutions per shift bath. In case of insufficient leaching quality, an additional irrigation system is provided;

17. Сушка изделия осуществляется в сушильном шкафу при температуре 50-70°С с обдувом теплым воздухом.17. Drying of the product is carried out in a drying cabinet at a temperature of 50-70 ° C with warm air blowing.

Например, электрохимическое осаждение сплава железо-молибден-алмазного покрытия на алюминий и его сплавы осуществляют из электролита состава, г/л: хлористое железо - 200-300; хлористый марганец -20-30; молибдат натрия - 1-10; СУАВ - 3-7; алмаз - 1-2; фуллерен - 0,1-0,2; карбин - 0,1-0,25; соляная кислота - 0,5-1, при температуре 60-80°С, плотность тока - 30-50 А/дм², выход по току 90-95%.For example, electrochemical deposition of an alloy of iron-molybdenum-diamond coating on aluminum and its alloys is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: ferric chloride - 200-300; manganese chloride -20-30; sodium molybdate - 1-10; SUAV - 3-7; diamond - 1-2; fullerene - 0.1-0.2; carbyne - 0.1-0.25; hydrochloric acid - 0.5-1, at a temperature of 60-80 ° C, current density - 30-50 A / dm ² , current efficiency 90-95%.

Например, электрохимическое осаждение сплава кобальт-хром-молибден-алмазного покрытия осуществляют из электролита состава, г/л:For example, the electrochemical deposition of an alloy of cobalt-chromium-molybdenum-diamond coating is carried out from an electrolyte of the composition, g / l:

Состав 1: сульфат кобальта - 300-450; сульфат хрома - 40-60; молибдат натрия 10-20; гликолевая кислота - 40-45; хлорид натрия - 15-20; СУАВ - 1-5; восстановленный оксид графена - 0,25-0,75; углеродные нанотрубки -0,25-0,75, при температуре 40-45°С, рН 5,2-5,8, плотность тока - 4-6 А/дм².Composition 1: cobalt sulfate - 300-450; chromium sulfate - 40-60; sodium molybdate 10-20; glycolic acid - 40-45; sodium chloride - 15-20; SUAV - 1-5; reduced graphene oxide - 0.25-0.75; carbon nanotubes -0.25-0.75, at a temperature of 40-45 ° C, pH 5.2-5.8, current density - 4-6 A / dm ² .

Состав 2: сульфат кобальта - 280-300; муравьиная кислота - 64-66; муравьинокислый натрий - 39-42; сульфат натрия - 70-75; сульфат аммония - 3-4; сульфат хрома - 40-60; молибдат натрия 10-20; СУАВ - 1-5; восстановленный оксид графена - 0,25-0,75; углеродные нанотрубки - 0,25-0,75; оксид алюминия - 2-3, при температуре 95-100°С, рН 2,0-2,5, плотность тока - 100-250 А/дм².Composition 2: cobalt sulfate - 280-300; formic acid - 64-66; sodium formate - 39-42; sodium sulfate - 70-75; ammonium sulfate - 3-4; chromium sulfate - 40-60; sodium molybdate 10-20; SUAV - 1-5; reduced graphene oxide - 0.25-0.75; carbon nanotubes - 0.25-0.75; aluminum oxide - 2-3, at a temperature of 95-100 ° C, pH 2.0-2.5, current density - 100-250 A / dm ² .

Например, электрохимическое осаждение сплава титан-ванадий-ниобий-алмазного покрытия осуществляют из электролита состава, г/л: титанат натрия - 70-75; сульфат ванадия - 10-20; триоксид-дисульфатдиниобия - 5-10; уксуснокислый натрий - 25-30; гидроксид натрия - 30-35; СУАВ - 1-5; карбид титана 2-3; карбонитрид титана - 1-2; оксид алюминия - 1-2, при температуре 30-70°С, плотность тока - 1-5 А/дм², выход по току 15-25%.For example, electrochemical deposition of titanium-vanadium-niobium-diamond coating alloy is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: sodium titanate - 70-75; vanadium sulfate - 10-20; dyniobium trioxide disulfate - 5-10; sodium acetate - 25-30; sodium hydroxide - 30-35; SUAV - 1-5; titanium carbide 2-3; titanium carbonitride - 1-2; aluminum oxide - 1-2, at a temperature of 30-70 ° C, current density - 1-5 A / dm ² , current efficiency 15-25%.

Из водных растворов титан осаждается на такие металлы как медь, железо, никель, платина, палладий, при этом наблюдается диффузия тонкого титанового покрытия в металл при отжиге до 700°С. Например, при покрытии меди титаном на поверхности меди содержится 21-25% Ti и 75-79% Cu.From aqueous solutions, titanium is deposited on metals such as copper, iron, nickel, platinum, palladium, while diffusion of a thin titanium coating into the metal is observed upon annealing up to 700 ° C. For example, when copper is coated with titanium, the copper surface contains 21-25% Ti and 75-79% Cu.

Например, сплав никель-титан (до 6%)- алмаз получают электрохимическим осаждением из электролита состава, г/л: никель хлористый - 100; титан в виде металла - 1-5; кислота борная - 450-500; гликоль - 60-70; СУАВ - 3-5 алмаз - 1-2; карбин - 0,5-1; углеродные нанотрубки - 0,5-1; карбид бора -1-3; лаурилсульфат - 45-50 мл/л; этиловый спирт - 50 мл/л, при температуре 15-25°С, плотность тока - 5-10 А/дм², выход по току 40-50%.For example, nickel-titanium alloy (up to 6%) - diamond is obtained by electrochemical deposition from an electrolyte of the composition, g / l: nickel chloride - 100; titanium in the form of metal - 1-5; boric acid - 450-500; glycol - 60-70; SUAV - 3-5 diamond - 1-2; carbyne - 0.5-1; carbon nanotubes - 0.5-1; boron carbide -1-3; lauryl sulfate - 45-50 ml / l; ethyl alcohol - 50 ml / l, at a temperature of 15-25 ° C, current density - 5-10 A / dm ² , current efficiency 40-50%.

Например, сплав кобальт-титан (до 10%)-гафний-алмаз получают электрохимическим осаждением из электролита состава, г/л: аммоний (бикарбонат) - 100-110; титан в виде металла - 10-15; кобальт в виде металла - 28-30; сульфат гафния - 3-5; кислота плавиковая - 250-270; кислота борная - 100-120; клей глютиновый - 1-2; СУАВ - 5-7; карбид бора - 2-5; оксид иттрия -1-2; нитрид углерода-бора - 0,5-1, при температуре 30-40°С, плотность тока - 2,5-3,5 А/дм², выход по току 10-30%.For example, an alloy of cobalt-titanium (up to 10%) - hafnium-diamond is obtained by electrochemical deposition from an electrolyte of the composition, g / l: ammonium (bicarbonate) - 100-110; titanium in the form of metal - 10-15; cobalt in the form of metal - 28-30; hafnium sulfate - 3-5; hydrofluoric acid - 250-270; boric acid - 100-120; glutin glue - 1-2; SUAV - 5-7; boron carbide - 2-5; yttrium oxide -1-2; carbon-boron nitride - 0.5-1, at a temperature of 30-40 ° C, current density - 2.5-3.5 A / dm ² , current efficiency 10-30%.

Например, сплав железо-титан (до 2%)-хром-цирконий- алмаз получают электрохимическим осаждением из электролита состава, г/л: сульфат железа - 50-60; хлорид железа - 50-60; титан щавелевокислый - 15-20; аммоний сернокислый - 80-100; хлорид хрома - 15-20; хлорид циркония - 10-20; гидроксид аммония - 0,8-1,1; СУАВ - 2-6; графен - 0,1-0,15; карбид титана -3-8; карбонитрид циркония - 2-4; оксид алюминия - 0,5-1, при температуре 20-30°С, плотность тока - 5-30 А/дм².For example, an alloy of iron-titanium (up to 2%) - chromium-zirconium-diamond is obtained by electrochemical deposition from an electrolyte of the composition, g / l: iron sulfate - 50-60; ferric chloride - 50-60; titanium oxalate - 15-20; ammonium sulfate - 80-100; chromium chloride - 15-20; zirconium chloride - 10-20; ammonium hydroxide - 0.8-1.1; SUAV - 2-6; graphene - 0.1-0.15; titanium carbide -3-8; zirconium carbonitride - 2-4; aluminum oxide - 0.5-1, at a temperature of 20-30 ° C, current density - 5-30 A / dm ² .

Например, химическое осаждение сплава медь-никель-алмаз покрытия на стекло или стеклопластик осуществляют из раствора состава, г/л: сульфат меди - 5-7; хлорид никеля - 2-4; СУАВ - 5-7; углеродные нанотрубки - 0,5-0,9; карбид кремния - 1-2; нитрид титана - 1-2; сегнетова соль - 22; гидроксид натрия - 4,5; карбонат натрия - 2; формальдегид (40%) - 26 мл/л, при температуре 20-30°С, рН 12,1-12,2 в течении 10-30 минут.For example, chemical deposition of a copper-nickel-diamond coating on glass or fiberglass is carried out from a solution of the composition, g / l: copper sulfate - 5-7; nickel chloride - 2-4; SUAV - 5-7; carbon nanotubes - 0.5-0.9; silicon carbide - 1-2; titanium nitride - 1-2; Rochelle salt - 22; sodium hydroxide - 4.5; sodium carbonate - 2; formaldehyde (40%) - 26 ml / l, at a temperature of 20-30 ° C, pH 12.1-12.2 for 10-30 minutes.

Например, химическое осаждение сплава медь-серебро-алмаз покрытия на металл или сплавы металлов осуществляют из раствора состава, г/л: сульфат меди - 10-15; хлорид серебра - 5-7; серная кислота - 8-10; СУАВ - 2-5; восстановленный оксид графена - 0,25-0,5; диоксид циркония - 1-2; оксид иттрия - 0,8-1, при температуре 15-25°С, скорость осаждения 10 мкм/ч;For example, chemical deposition of a copper-silver-diamond coating alloy on a metal or metal alloys is carried out from a solution of the composition, g / l: copper sulfate - 10-15; silver chloride - 5-7; sulfuric acid - 8-10; SUAV - 2-5; reduced graphene oxide - 0.25-0.5; zirconium dioxide - 1-2; yttrium oxide - 0.8-1, at a temperature of 15-25 ° C, the deposition rate is 10 μm / h;

Например, химическое осаждение медь-алмаз покрытия на металлы или сплавы металлов осуществляются из раствора состава, г/л: виннокислый калий - 150; сульфат меди - 30, гидроксид натрия - 80; СУАВ - 2-8; алмаз -1-2; карбин - 0,5-1, при температуре 15-25°С, скорость осаждения 11 мкм/ч;For example, the chemical deposition of a copper-diamond coating on metals or metal alloys is carried out from a solution of the composition, g / l: potassium tartrate - 150; copper sulfate - 30, sodium hydroxide - 80; SUAV - 2-8; diamond -1-2; carbyne - 0.5-1, at a temperature of 15-25 ° C, the deposition rate is 11 μm / h;

Например, электрохимическое осаждение сплава медь-никель-алмаз покрытия осуществляют из электролита состава, г/л: сульфат меди - 120-180; сульфат никеля - 40-60; серная кислота - 50-70; алмаз - 3-5; карбид вольфрама 2-4; оксид иттрия - 05-1; оксид алюминия - 05-1, при температуре 25-45°С, плотность тока 1-6 А/дм²;For example, electrochemical deposition of a copper-nickel-diamond coating is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: copper sulfate - 120-180; nickel sulfate - 40-60; sulfuric acid - 50-70; diamond - 3-5; tungsten carbide 2-4; yttrium oxide - 05-1; aluminum oxide - 05-1, at a temperature of 25-45 ° C, current density 1-6 A / dm ² ;

Например, электрохимическое осаждение вольфрам-алмазного покрытия осуществляют из электролита состава, г/л: вольфрамовый ангидрид - 120-125; СУАВ - 3-7; карбид вольфрама -2-4; карбид бора - 2-3; оксид иттрия -0,1-0,25, карбонат натрия - 300-350, при температуре 95-100°С, рН 3-13, плотность тока 5-10 А/дм².For example, the electrochemical deposition of a tungsten-diamond coating is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: tungsten anhydride - 120-125; SUAV - 3-7; tungsten carbide -2-4; boron carbide - 2-3; yttrium oxide -0.1-0.25, sodium carbonate - 300-350, at a temperature of 95-100 ° C, pH 3-13, current density 5-10 A / dm ² .

Например, электрохимическое осаждение сплава вольфрам-никель-алмаз покрытия осуществляют электрохимическим осаждением из электролита состава, г/л: сульфат никеля - 20-25; вольфрамат натрия - 50-60; цитрат натрия - 60-70; СУАВ - 2-7; фуллерен - 0,1-0,2; карбин - 0,25-0,5, гидроксид аммония - до рН 6-9, при температуре 65-75°С, плотность тока - 1-5 А/дм².For example, the electrochemical deposition of a tungsten-nickel-diamond coating alloy is carried out by electrochemical deposition from an electrolyte of the composition, g / l: nickel sulfate - 20-25; sodium tungstate - 50-60; sodium citrate - 60-70; SUAV - 2-7; fullerene - 0.1-0.2; carbyne - 0.25-0.5, ammonium hydroxide - up to pH 6-9, at a temperature of 65-75 ° C, current density - 1-5 A / dm ² .

Например, электрохимическое осаждение серебряно-алмазного покрытия осуществляют из электролита состава, г/л: хлорид серебра - 25-30; калий железосинеродистый - 70-100; гидроксид калия - 0,2-0,8; углекислый калий - 15-20; трилон Б - 60-120; СУАВ - 1-5; алмаз - 1-3; углеродные нанотрубки -0,5-1, при температуре 20-25°С, рН 1-1,5 плотность тока - 0,5-2 А/дм².For example, the electrochemical deposition of a silver-diamond coating is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: silver chloride - 25-30; iron-synergistic potassium - 70-100; potassium hydroxide - 0.2-0.8; potassium carbonate - 15-20; Trilon B - 60-120; SUAV - 1-5; diamond - 1-3; carbon nanotubes -0.5-1, at a temperature of 20-25 ° C, pH 1-1.5, the current density is 0.5-2 A / dm ² .

Например, электрохимическое осаждение сплава серебро-палладий-медь-алмаз покрытия осуществляют из электролита состава, г/л: хлорид серебра -25-30;: хлорид палладия- 5-7; сульфат меди - 5-7; калий железосинеродистый - 70-100; гидроксид калия - 0,2-0,8; углекислый калий - 15-20; трилон Б - 60-120; СУАВ - 1-5; пироуглерод - 1-2; углеродные нанотрубки - 0,5-1; нитрид циркония 1-2, при температуре 20-25°С, рН 1-1,5 плотность тока - 0,5-2 А/дм².For example, electrochemical deposition of an alloy of silver-palladium-copper-diamond coating is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: silver chloride -25-30 ;: palladium chloride-5-7; copper sulfate - 5-7; iron-synergistic potassium - 70-100; potassium hydroxide - 0.2-0.8; potassium carbonate - 15-20; Trilon B - 60-120; SUAV - 1-5; pyrocarbon - 1-2; carbon nanotubes - 0.5-1; zirconium nitride 1-2, at a temperature of 20-25 ° C, pH 1-1.5, the current density is 0.5-2 A / dm ² .

Например, электрохимическое осаждение золото-алмазного покрытия осуществляют из электролита состава, г/л: дицианоурат калия- 8-10; кислота лимонная - 30-40; углекислый калий - 15-20; СУАВ - 2-5; карбин -0,5-1; фуллерен - 0,1-0,2, при температуре 20-25°С, рН 0,5-1,0 плотность тока - 0,5-1,5 А/дм².For example, electrochemical deposition of a gold-diamond coating is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: potassium dicyanourate - 8-10; citric acid - 30-40; potassium carbonate - 15-20; SUAV - 2-5; carbyne -0.5-1; fullerene - 0.1-0.2, at a temperature of 20-25 ° C, pH 0.5-1.0, current density - 0.5-1.5 A / dm ² .

Например, электрохимическое осаждение сплава золото-палладий-медь-серебро-алмаз покрытия осуществляется из электролита состава, г/л: дицианоурат калия- 8-10; хлорид палладия- 5-7; сульфат меди - 5-7; кислота лимонная - 20-30; углекислый калий - 15-20; СУАВ - 2-7; фуллерен - 0,1-0,2; карбин - 0,25-0,5 при температуре 20-25°С, рН 1-1,5 плотность тока -0,1-2 А/дм².For example, electrochemical deposition of an alloy of gold-palladium-copper-silver-diamond coating is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: potassium dicyanourate - 8-10; palladium chloride 5-7; copper sulfate - 5-7; citric acid - 20-30; potassium carbonate - 15-20; SUAV - 2-7; fullerene - 0.1-0.2; carbyne - 0.25-0.5 at a temperature of 20-25 ° C, pH 1-1.5, current density -0.1-2 A / dm ² .

Например, электрохимическое осаждение платина-алмазного покрытия осуществляют из электролита состава, г/л: диаминонитрат платины- 6-9; нитрат аммония - 50-70; гидроксид аммония - 0,3-0,9; нитрат натрия - 10-15; СУАВ - 2-5; фуллерен - 0,2-0,4; восстановленный оксид графена - 0,25-0,5; углеродные нанотрубки 0,25-0,75, при температуре 50-60°С, рН 0,1-0,5, плотность тока - 0,5-1,5 А/дм².For example, electrochemical deposition of platinum-diamond coating is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: platinum diaminonitrate-6-9; ammonium nitrate - 50-70; ammonium hydroxide - 0.3-0.9; sodium nitrate - 10-15; SUAV - 2-5; fullerene - 0.2-0.4; reduced graphene oxide - 0.25-0.5; carbon nanotubes 0.25-0.75, at a temperature of 50-60 ° C, pH 0.1-0.5, current density 0.5-1.5 A / dm ² .

Например, электрохимическое осаждение сплава платина-родий-алмаз покрытия осуществляют из электролита состава, г/л: диаминонитрат платины- 6-12; нитрат аммония - 50-70; гидроксид аммония - 0,3-0,9; родий в пересчете на металл - 0,1-0,25; нитрат натрия 8-12; СУАВ - 2-4; восстановленный оксид графена - 0,5-1; углеродные нанотрубки 0,5-1, при температуре 50-60°С, рН 0,1-0,5 плотность тока - 0,5-1,5 А/дм².For example, electrochemical deposition of a platinum-rhodium-diamond alloy coating is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: platinum diaminonitrate-6-12; ammonium nitrate - 50-70; ammonium hydroxide - 0.3-0.9; rhodium in terms of metal - 0.1-0.25; sodium nitrate 8-12; SUAV - 2-4; reduced graphene oxide - 0.5-1; carbon nanotubes 0.5-1, at a temperature of 50-60 ° C, pH 0.1-0.5, current density - 0.5-1.5 A / dm ² .

Например, электрохимическое осаждение родий-алмазного покрытия осуществляют из электролита состава, г/л: фосфат родия - 1-2; фосфорная кислота 50-60; СУАВ - 1-2; астрален - 1-2; углеродные нанотрубки - 1-2, при температуре 18-20°С, плотность тока - 0,5-1,5 А/дм².For example, the electrochemical deposition of rhodium-diamond coating is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: rhodium phosphate - 1-2; phosphoric acid 50-60; SUAV - 1-2; astralen - 1-2; carbon nanotubes - 1-2, at a temperature of 18-20 ° C, current density - 0.5-1.5 A / dm ² .

Например, электрохимическое осаждение сплава родий-платина-медь-алмазного покрытия осуществляют из электролита состава, г/л: фосфат родия - 1-2; фосфорная кислота - 50-60; диаминонитрат платины- 6-12; нитрат аммония - 50-70; гидроксид аммония - 0,3-0,9; сульфат меди - 30; СУАВ - 2-3; восстановленный оксид графена - 0,5-1; углеродные нанотрубки - 1-2, при температуре 18-20°С, плотность тока - 0,5-1,5 А/дм².For example, the electrochemical deposition of an alloy of rhodium-platinum-copper-diamond coating is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: rhodium phosphate - 1-2; phosphoric acid - 50-60; platinum diaminonitrate - 6-12; ammonium nitrate - 50-70; ammonium hydroxide - 0.3-0.9; copper sulfate - 30; SUAV - 2-3; reduced graphene oxide - 0.5-1; carbon nanotubes - 1-2, at a temperature of 18-20 ° C, current density - 0.5-1.5 A / dm ² .

Например, электрохимическое осаждение палладий-алмазного покрытия осуществляют из электролита состава, г/л: хлорид палладия- 4-7; аммоний хлористый - 15-25; натрий азотнокислый - 25-35; аммоний сульфаминовокислый - 10-15; аммиак водный - 7-14; СУАВ - 1-5; восстановленный оксид графена - 0,25-0,75; углеродные нанотрубки - 0,25-0,75, при температуре 25-30°С, рН 7,5-8,5 плотность тока-0,5-1,0 А/дм².For example, electrochemical deposition of a palladium-diamond coating is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: palladium chloride-4-7; ammonium chloride - 15-25; sodium nitrate - 25-35; ammonium sulfamic acid - 10-15; aqueous ammonia - 7-14; SUAV - 1-5; reduced graphene oxide - 0.25-0.75; carbon nanotubes - 0.25-0.75, at a temperature of 25-30 ° C, pH 7.5-8.5, the current density is 0.5-1.0 A / dm ² .

Например, электрохимическое осаждение сплава палладий-платина-медь-алмаз покрытия осуществляется из электролита состава, г/л: хлорид палладия- 4-7; хлорид платины - 3-5; сульфат меди - 3-5; аммоний хлористый - 15-25; натрий азотнокислый - 25-35; аммоний сульфаминовокислый - 10-15; аммиак водный - 7-14; СУАВ - 3-5; алмаз - 1-2; углеродные нанотрубки - 0,25-0,75, при температуре 25-30°С, рН 7,5-8,5 плотность тока - 0,5-1,0 А/дм².For example, electrochemical deposition of a palladium-platinum-copper-diamond alloy coating is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: palladium chloride-4-7; platinum chloride - 3-5; copper sulfate - 3-5; ammonium chloride - 15-25; sodium nitrate - 25-35; ammonium sulfamic acid - 10-15; aqueous ammonia - 7-14; SUAV - 3-5; diamond - 1-2; carbon nanotubes - 0.25-0.75, at a temperature of 25-30 ° C, pH 7.5-8.5, current density - 0.5-1.0 A / dm ² .

В технологических процессах химического и электрохимического осаждения металл-алмазных покрытий используются ванны, оборудованные специальными системами: нагрева, охлаждения, вентиляции, орошения, перемешивания, барботажа, ультразвукового воздействия, гидродинамического воздействия струей жидкости с высоким скоростным напором и другие.In the technological processes of chemical and electrochemical deposition of metal-diamond coatings, baths are used, equipped with special systems: heating, cooling, ventilation, irrigation, stirring, bubbling, ultrasonic action, hydrodynamic action of a liquid jet with a high velocity head, and others.

Дисперсная система для химического или электрохимического осаждения из раствора или электролита соответственно, композиционного металл-алмазного покрытия на поверхность медицинского изделия отличающаяся тем, что она состоит из смеси жидкой дисперсной среды, твердой дисперсной фазы и стабилизатора в количестве 0,01-12 г/л дисперсной системы, причем в качестве дисперсной среды использована вода, в качестве твердой дисперсной фазы использованы диспергированные частицы вещества, в концентрации 0,05-300 г/л, при этом размер указанных частиц составляет от 1 до 300 нм и они представляют собой смесь диспергированных частиц синтетического углеродного алмазосодержащего вещества и вещества из группы содержащей алмаз, графен, фуллерен, астрален, карбин, углеродные нанотрубки, пирографит, карбид бора, карбид вольфрама, карбид кремния, карбид титана, нитрид бора, нитрид циркония, нитрид титана, нитрид углерода-бора, карбонитрид титана, карбонитрид циркония, диоксид циркония, оксид иттрия, оксид алюминия или их различные сочетания, при этом в качестве стабилизатора использован низкомолекулярный электролит, коллоидное поверхностно-активное вещество (ПАВ), при этом низкомолекулярный электролит выбран из группы, содержащей неорганический электролит и органический электролит, в качестве неорганического электролита выбраны кислоты из группы, содержащей серную, соляную, борную, фтороводородную, ортофосфорную, хромовую, цианистоводородную, угольную, азотистую, сероводородную или их смесь, или гидроксиды из группы, содержащей гидроксид натрия, гидроксид калия, гидроксид аммония или их смесь, органические электролиты выбраны из группы кислот, содержащей уксусную, муравьиную, лимонную, щавелевую, акриловую, метакриловую или их смесь, при этом коллоидное ПАВ выбрано из группы, содержащей анионное ПАВ, катионное ПАВ, в качестве анионного ПАВ выбрано вещество из группы, содержащей капринат натрия, додеканот натрия, миристинат натрия, олеат натрия, олеат калия стеарат калия, лаурилсульфат натрия, лаурилсульфат калия, тетрадецилсульфат натрия, 4-додецилбензосульфонат, в качестве катионного ПАВ выбрано вещество из группы, содержащей диоктадецилдиметиламмоний хлорид, триметилкокоаммоний хлорид, олеилтриметиламмоний хлорид, диметилкокобензиламмоний хлорид, алкилтриметиламмоний хлорид, диметилдодецилбензиламмоний хлорид или в качестве стабилизатора использованы сочетания веществ из указанных групп.A dispersed system for chemical or electrochemical deposition from a solution or electrolyte, respectively, of a composite metal-diamond coating on the surface of a medical device, characterized in that it consists of a mixture of a liquid dispersed medium, a solid dispersed phase and a stabilizer in an amount of 0.01-12 g / l dispersed systems, and water is used as a dispersed medium, dispersed particles of a substance are used as a solid dispersed phase, at a concentration of 0.05-300 g / l, while the size of these particles is from 1 to 300 nm and they are a mixture of dispersed particles of synthetic carbon diamond-containing substances and substances from the group containing diamond, graphene, fullerene, astralen, carbyne, carbon nanotubes, pyrographite, boron carbide, tungsten carbide, silicon carbide, titanium carbide, boron nitride, zirconium nitride, titanium nitride, carbon-boron nitride, carbonitride titanium, zirconium carbonitride, zirconium dioxide, yttrium oxide, aluminum oxide inium or their various combinations, while a low molecular weight electrolyte, a colloidal surfactant (surfactant) was used as a stabilizer, while a low molecular weight electrolyte was selected from the group containing an inorganic electrolyte and an organic electrolyte, acids from the group containing sulfuric acid were selected as an inorganic electrolyte. , hydrochloric, boric, hydrofluoric, phosphoric, chromic, hydrocyanic, carbonic, nitrogenous, hydrogen sulfide, or a mixture thereof, or hydroxides from the group containing sodium hydroxide, potassium hydroxide, ammonium hydroxide or a mixture thereof, organic electrolytes are selected from the group of acids containing acetic, formic, lemon, oxalic, acrylic, methacrylic or a mixture thereof, while the colloidal surfactant is selected from the group containing an anionic surfactant, a cationic surfactant, as an anionic surfactant, a substance is selected from the group containing sodium caprate, sodium dodecanote, sodium myristinate, sodium oleate, potassium oleate potassium stearate, sodium lauryl sulfate I, potassium lauryl sulfate, sodium tetradecyl sulfate, 4-dodecylbenzene sulfonate, as a cationic surfactant, a substance was selected from the group containing dioctadecyldimethylammonium chloride, trimethylcocoammonium chloride, oleyltrimethylammonium chloride, dimethylcobenzylammonium chloride, dimethylcobenzylammonium chloride, dimethylcobenzylammonium chloride

Диспергирование это тонкое измельчение твердых тел, то есть направленное преобразование в сторону уменьшения размера дисперсных частиц. Количественной характеристикой дисперсности (раздробленности, измельчения) является степень дисперсности (степень раздробленности или измельчения), то есть величина обратная размеру дисперсных частиц.Dispersion is fine grinding of solids, that is, directional transformation in the direction of reducing the size of dispersed particles. The quantitative characteristic of fineness (fragmentation, grinding) is the degree of fineness (degree of fragmentation or grinding), that is, the reciprocal of the size of dispersed particles.

Дисперсная система содержит диспергированные частицы вещества указанной группы в концентрации 0,05-300 г/л дисперсной системы, при этом размер частиц составляет от 1 до 300 нм. Дисперсные частицы размером: 1-10 нм являются ультрадисперсными частицами; 10-100 нм (1 мкм) являются высокодисперсными частицами; 1-100 мкм являются грубодисперсными частицами. Методы получения наноразмерных диспергированных частиц вещества могут быть выбраны из группы: механическое диспергирование в планетарных, шаровых, вибрационных и других мельницах, ультразвуковое диспергирование в жидкой среде на основе эффекта кавитации, механохимическое диспергирование, электрическое диспергирование, конденсация наночастиц, детонационный синтез наноалмазов, кавитационный синтез наноалмазов, самораспространяющийся высокотемпературный синтез (СВС), золь-гель синтез (ЗГС).The dispersed system contains dispersed particles of the substance of the specified group in a concentration of 0.05-300 g / l of the dispersed system, the particle size being from 1 to 300 nm. Dispersed particles of size: 1-10 nm are ultrafine particles; 10-100 nm (1 μm) are highly dispersed particles; 1-100 microns are coarse particles. Methods for obtaining nanosized dispersed particles of a substance can be selected from the group: mechanical dispersion in planetary, ball, vibration and other mills, ultrasonic dispersion in a liquid medium based on the cavitation effect, mechanochemical dispersion, electrical dispersion, condensation of nanoparticles, detonation synthesis of nanodiamonds, cavitation synthesis of nanodiamonds , self-propagating high-temperature synthesis (SHS), sol-gel synthesis (ZGS).

Например, состав дисперсной системы, г/л: жидкая дисперсная среда в виде воды - 1000 г; твердая дисперсная фаза в виде: СУАВ - 3-5, алмаз - 1-2, углеродные нанотрубки - 0,25-0,75; стабилизатор в виде: гидроксид аммония - 0,3-1,1, лаурилсульфат натрия - 0,9-1,5For example, the composition of the dispersed system, g / l: liquid dispersed medium in the form of water - 1000 g; solid dispersed phase in the form: SUAV - 3-5, diamond - 1-2, carbon nanotubes - 0.25-0.75; stabilizer in the form of: ammonium hydroxide - 0.3-1.1, sodium lauryl sulfate - 0.9-1.5

Например, состав дисперсной системы, г/л: жидкая дисперсная среда в виде воды - 1000 г; твердая дисперсная фаза в виде: СУАВ - 1-5, восстановленный оксид графена - 0,25-0,75, углеродные нанотрубки - 0,25-0,75; стабилизатор в виде: лимонная кислота - 3-3,5, диоктадецилдиметиламмоний хлорид - 0,5-1.For example, the composition of the dispersed system, g / l: liquid dispersed medium in the form of water - 1000 g; solid dispersed phase in the form: SUAB - 1-5, reduced graphene oxide - 0.25-0.75, carbon nanotubes - 0.25-0.75; stabilizer in the form: citric acid - 3-3.5, dioctadecyldimethylammonium chloride - 0.5-1.

Например, состав дисперсной системы, г/л: жидкая дисперсная среда в виде воды - 1000 г; твердая дисперсная фаза в виде: СУАВ - 2-3, восстановленный оксид графена - 0,5-1, углеродные нанотрубки - 1-2; стабилизатор в виде: гидроксид калия - 0,2-0,8, олеата натрия 0,01-0,1, 4-додецилбензосульфонат 0,9-1,5, диоктадецилдиметиламмоний хлорид 0,25-0,3.For example, the composition of the dispersed system, g / l: liquid dispersed medium in the form of water - 1000 g; solid dispersed phase in the form: SUAB - 2-3, reduced graphene oxide - 0.5-1, carbon nanotubes - 1-2; stabilizer in the form of: potassium hydroxide - 0.2-0.8, sodium oleate 0.01-0.1, 4-dodecylbenzenesulfonate 0.9-1.5, dioctadecyldimethylammonium chloride 0.25-0.3.

Например, состав дисперсной системы, г/л: жидкая дисперсная среда в виде воды - 1000 г; твердая дисперсная фаза в виде: СУАВ - 1-2, астрален -1-2, углеродные нанотрубки - 1-2; стабилизатор в виде: борная кислота - 2-6, олеат калия 0,8-1,0, триметилкокоаммоний хлорид - 0,3-0,5. Например, состав дисперсной системы, г/л: жидкая дисперсная среда в виде воды - 1000 г; твердая дисперсная фаза в виде: СУАВ - 0,05, восстановленный оксид графена - 0,15-0,3, углеродные нанотрубки 0,1-0,2; стабилизатор в виде: гидроксид натрия - 0,01-0,1, диметилдодецилбензиламмоний хлорид - 0,01-0,05. Например, состав дисперсной системы, г/л: жидкая дисперсная среда в виде воды - 1000 г; твердая дисперсная фаза в виде: СУАВ - 100-150; фуллерен - 20-40; восстановленный оксид графена - 35-60; углеродные нанотрубки 25-50; стабилизатор в виде: соляная кислота - 6-7, олеат калия -1-1,5, диметилкокобензиламмоний хлорид - 1-1,5.For example, the composition of the dispersed system, g / l: liquid dispersed medium in the form of water - 1000 g; solid dispersed phase in the form: SUAV - 1-2, astralen -1-2, carbon nanotubes - 1-2; stabilizer in the form: boric acid - 2-6, potassium oleate 0.8-1.0, trimethyl cocoammonium chloride - 0.3-0.5. For example, the composition of the dispersed system, g / l: liquid dispersed medium in the form of water - 1000 g; solid dispersed phase in the form: SUAB - 0.05, reduced graphene oxide - 0.15-0.3, carbon nanotubes 0.1-0.2; stabilizer in the form: sodium hydroxide - 0.01-0.1, dimethyldodecylbenzylammonium chloride - 0.01-0.05. For example, the composition of the dispersed system, g / l: liquid dispersed medium in the form of water - 1000 g; solid dispersed phase in the form: SUAV - 100-150; fullerene - 20-40; reduced graphene oxide - 35-60; carbon nanotubes 25-50; stabilizer in the form of: hydrochloric acid - 6-7, potassium oleate -1-1.5, dimethyl cocobenzylammonium chloride - 1-1.5.

Решение данной задачи достигается тем, что способ получения дисперсной системы, характеризующийся тем, что проводят отжиг в инертной среде или вакууме порошка твердой дисперсной фазы, представляющей собой смесь диспергированных частиц СУАВ и вещества выбранного из группы, содержащей алмаз, графен, фуллерен, астрален, восстановленный оксид графена, карбин, углеродные нанотрубки, пирографит, карбид бора, карбид вольфрама, карбид кремния, карбид титана, нитрид бора, нитрид циркония, нитрид титана, нитрид углерода-бора, карбонитрид титана, карбонитрид циркония, диоксид циркония, оксид иттрия, оксид алюминия или их сочетания, смешивание упомянутой смеси диспергированных частиц с водным раствором, содержащим вещество, выбранное из группы, включающей гипопосфит натрия, гипопосфит кальция, борогидрид, боразол, гидразинборан, а также ионы металлов в низшей степени окисления Fe²⁺, Sn²⁺, Ti³⁺, Cr²*, Mn²⁺, Ce²⁺, Cu⁺или их смесь, или из группы, включающий азотную кислоту, соляную кислоту, серную кислоту, фтороводородную кислоту или их смесь, или из группы, включающий гидроксид натрия, гидроксид калия, гидроксид аммония, гидроксид олова или их смесь, или с водными растворами, содержащими вещества из указанных групп, и обработку упомянутой смеси диспергированных частиц веществами из указанных групп при температуре 20-450°С, давлении 0,1-8 МПа, ультразвуковом воздействии с частотой 22-42 кГц, вакууме 1,3*10^-1 -1,3*10^-2 Па, в течение от 5 мин до 4 ч, отделение полученного продукта в виде смеси дисперсных частиц вещества из указанной группы от отработанных веществ, отмывание продукта дистиллированной или деионизированной водой при использовании гидродинамической обработки струей воды с давлением 8-15 Мпа, а затем ультразвуковой обработкой, добавление жидкой дисперсной среды в виде воды и стабилизатора до достижения дисперсной системой рН 4,5-7,1. При гидродинамической обработке динамическое воздействие на поверхность частиц, представляющих собой смесь дисперсных частиц вещества из указанной группы, осуществляется за счет подачи воды с высоким давлением и расходом, через гидравлические сопла, обеспечивающие высокий скоростной напор водяной струи.The solution to this problem is achieved by the fact that the method for obtaining a dispersed system, characterized by the fact that annealing in an inert medium or vacuum of a solid dispersed phase powder, which is a mixture of dispersed SUAB particles and a substance selected from the group containing diamond, graphene, fullerene, astralen, reduced graphene oxide, carbyne, carbon nanotubes, pyrographite, boron carbide, tungsten carbide, silicon carbide, titanium carbide, boron nitride, zirconium nitride, titanium nitride, carbon-boron nitride, titanium carbonitride, zirconium carbonitride, zirconium dioxide, yttrium oxide, aluminum oxide or combinations thereof, mixing said mixture of dispersed particles with an aqueous solution containing a substance selected from the group consisting of sodium hypophosphite, calcium hypophosphite, borohydride, borazole, hydrazineborane, as well as metal ions in the lowest oxidation state Fe ²⁺ , Sn ²⁺ , Ti ³⁺ , Cr ² *, Mn ²⁺ , Ce ²⁺ , Cu ⁺ or a mixture thereof, or from the group including nitric acid, hydrochloric acid Otu, sulfuric acid, hydrofluoric acid or a mixture thereof, or from the group including sodium hydroxide, potassium hydroxide, ammonium hydroxide, tin hydroxide or a mixture thereof, or with aqueous solutions containing substances from these groups, and treatment of said mixture of dispersed particles with substances from of these groups at a temperature of 20-450 ° C, a pressure of 0.1-8 MPa, ultrasonic action with a frequency of 22-42 kHz, a vacuum of 1.3 * 10 ^-1 -1.3 * 10 ^-2 Pa, for 5 minutes up to 4 hours, separating the obtained product in the form of a mixture of dispersed particles of a substance from the specified group from waste substances, washing the product with distilled or deionized water using hydrodynamic treatment with a water jet with a pressure of 8-15 MPa, and then ultrasonic treatment, adding a liquid dispersed medium in the form water and stabilizer until the dispersed system reaches a pH of 4.5-7.1. During hydrodynamic treatment, the dynamic effect on the surface of particles, which is a mixture of dispersed particles of a substance from this group, is carried out by supplying water with high pressure and flow rate through hydraulic nozzles that provide a high speed pressure of the water jet.

Ультразвуковая обработка заключается в совместном воздействии различных эффектов, возникающих в жидкости под действием мощных ультразвуковых колебаний. Эти эффекты: кавитация, акустические течения, звуковое давление, звукокапиллярный эффект, из которых кавитация играет решающую роль. Кавитационные пузырьки, пульсируя и схлопываясь вблизи загрязнений, разрушают их, создавая известный эффект кавитационной эрозии.Ultrasonic treatment consists in the combined effect of various effects that occur in a liquid under the influence of powerful ultrasonic vibrations. These effects are: cavitation, acoustic flows, sound pressure, sound capillary effect, of which cavitation plays a decisive role. Cavitation bubbles, pulsating and collapsing near pollution, destroy them, creating the well-known effect of cavitation erosion.

Например, технологический процесс способа получения дисперсной системы включает в себя:For example, the technological process of the method for producing a dispersed system includes:

1. Отжиг смеси дисперсных частиц вещества из указанной группы, например, состава мас. %: СУАВ -50, алмаз -20, карбин -5, пирографит -15, карбид вольфрама -10, в среде инертных газов, выбранных из группы: аргон, неон, ксенон, криптон или их смесь. Отжиг осуществляется при температуре 400-450°С в течение 10-60 минут;1. Annealing a mixture of dispersed particles of substances from the specified group, for example, composition wt. %: SUAV -50, diamond -20, carbine -5, pyrographite -15, tungsten carbide -10, in an inert gas environment selected from the group: argon, neon, xenon, krypton or a mixture thereof. Annealing is carried out at a temperature of 400-450 ° C for 10-60 minutes;

2. Обработка водным раствором восстановителя, например, состава, мас. %: борогидрид - 20, гидразинборан - 10, гипофосфит натрия -20, сульфат гидразина - 10, окись титана - 10, сульфат олова - 5, хлорид германия - 5, вода -20. Обработка осуществляется в ультразвуковой ванне при температуре 70-90°С в течение 5-20 минут;2. Treatment with an aqueous solution of a reducing agent, for example, composition, wt. %: borohydride - 20, hydrazineborane - 10, sodium hypophosphite -20, hydrazine sulfate - 10, titanium oxide - 10, tin sulfate - 5, germanium chloride - 5, water -20. Processing is carried out in an ultrasonic bath at a temperature of 70-90 ° C for 5-20 minutes;

3. Промывка проточной холодной водой с температурой 20-22°С в течение 5-15 минуты. Скорость протока воды устанавливается с учетом 4^х кратной замены ванны за смену. При недостаточном качестве промывки предусматривается дополнительная оросительная система;3. Rinsing with cold running water at a temperature of 20-22 ° C for 5-15 minutes. Water flow rate is set with the multiple ^x 4 substitutions per shift bath. In case of insufficient leaching quality, an additional irrigation system is provided;

4. Обработка водным раствором, например, гидроксида аммония концентрации 10-40 мас. %. Обработка осуществляется в ультразвуковой ванне при температуре 45-60°С в течение 5-30 минут;4. Treatment with an aqueous solution, for example, ammonium hydroxide concentration of 10-40 wt. %. Processing is carried out in an ultrasonic bath at a temperature of 45-60 ° C for 5-30 minutes;

5. Промывка проточной холодной водой с температурой 20-22°С в течение 5-15 минуты. Скорость протока воды устанавливается с учетом 4^х кратной замены ванны за смену;5. Rinsing with cold running water at a temperature of 20-22 ° C for 5-15 minutes. Water flow rate is set with the 4 ^x multiple substitutions bath per shift;

6. Отделение смеси дисперсных частиц вещества и сушка в вакууме 1,3*10^-1 Па при температуре 70-80°С в течение 1 часа;6. Separation of a mixture of dispersed particles of the substance and drying in a vacuum of 1.3 * 10 ^-1 Pa at a temperature of 70-80 ° C for 1 hour;

7. Обработка в химическом реакторе водным раствором, например, состава, мас. %: азотная кислота - 57-62, фтороводородная кислота-25-35 при температуре 200°С, давлении 8 МПа, в течение 7-10 минут;7. Treatment in a chemical reactor with an aqueous solution, for example, composition, wt. %: nitric acid - 57-62, hydrofluoric acid-25-35 at a temperature of 200 ° C, a pressure of 8 MPa, for 7-10 minutes;

8. Промывка проточной холодной водой в ультразвуковой ванне с температурой 20-22°С в течение 5-7 минут. Скорость протока воды устанавливается с учетом 4^х кратной замены ванны за смену;8. Rinsing with running cold water in an ultrasonic bath with a temperature of 20-22 ° C for 5-7 minutes. Water flow rate is set with the 4 ^x multiple substitutions bath per shift;

9. Обработка, например, водным раствором соляной кислоты концентрации 15-40 мас. %. Обработка осуществляется при температуре реакционной смеси в течение 40-50 минут;9. Treatment, for example, with an aqueous solution of hydrochloric acid with a concentration of 15-40 wt. %. Processing is carried out at the temperature of the reaction mixture for 40-50 minutes;

10. Промывка дистиллированной холодной водой в ванне для гидродинамической обработки с давлением 12 МПа, температурой 20-22°С в течение 5-7 минут.10. Rinsing with distilled cold water in a hydrodynamic treatment bath with a pressure of 12 MPa, a temperature of 20-22 ° C for 5-7 minutes.

11. Промывка дистиллированной холодной водой в ванне для ультразвуковой обработки с температурой 20-22°С в течение 5-7 минут;11. Rinsing with distilled cold water in a bath for ultrasonic treatment at a temperature of 20-22 ° C for 5-7 minutes;

12. Отделение полученного продукта в виде смеси дисперсных частиц вещества и добавка жидкой дисперсной среды и стабилизатора до достижения дисперсной системой рН 4,5-7,1.12. Separation of the obtained product in the form of a mixture of dispersed particles of the substance and the addition of a liquid dispersed medium and a stabilizer until the dispersed system reaches a pH of 4.5-7.1.

Например, по представленным решениям было получено двухслойное композиционное металл-алмазное покрытие на основе сплава никель-серебро-алмаз и сплава золото-палладий-медь-серебро-алмаз с диспергированным в них частицами вещества из указанной группы, медицинского изделия (имплант стоматологический) из титанового сплава ВТ-9 (Фиг. 1).For example, according to the solutions presented, a two-layer composite metal-diamond coating was obtained based on a nickel-silver-diamond alloy and a gold-palladium-copper-silver-diamond alloy with particles of a substance from this group dispersed in them, a medical product (dental implant) made of titanium alloy VT-9 (Fig. 1).

Первый слой сплав никель-серебро-алмаз покрытия, посредством электрохимического осаждения из раствора состава, г/л: хлорид никеля - 20-30; хлорид серебра - 25-30; калий железосинеродистый - 70-100; гидроксид калия - 0,2-0,8; углекислый калий - 15-20; трилон Б - 60-120; СУАВ - 1-5; алмаз - 1-3; углеродные нанотрубки - 0,5-1; карбид бора - 1-2; нитрид бора -1-2; карбонитрид титана - 1-2; оксид иттрия - 0,25-0,8, при температуре 20-25°С, рН 1-1,5 плотность тока - 0,5-2 А/дм².The first layer is an alloy of nickel-silver-diamond coating, by means of electrochemical deposition from a solution of the composition, g / l: nickel chloride - 20-30; silver chloride - 25-30; iron-synergistic potassium - 70-100; potassium hydroxide - 0.2-0.8; potassium carbonate - 15-20; Trilon B - 60-120; SUAV - 1-5; diamond - 1-3; carbon nanotubes - 0.5-1; boron carbide - 1-2; boron nitride -1-2; titanium carbonitride - 1-2; yttrium oxide - 0.25-0.8, at a temperature of 20-25 ° C, pH 1-1.5, current density - 0.5-2 A / dm ² .

Второй слой сплава золото-палладий-медь-серебро-алмаз покрытия посредством электрохимического осаждения из электролита состава, г/л: г/л: дицианоурат калия- 8-10; хлорид палладия- 5-7; сульфат меди - 5-7; хлорид серебра - 5-7; кислота лимонная - 20-30; углекислый калий - 15-20; СУАВ - 2-7; фуллерен - 0,1-0,2; карбин - 0,25-0,5; карбид титана - 2-3; нитрид титана - 1-2; карбонитрид титана - 1-2; диоксид циркония - 1-2 при температуре 20-25°С, рН 1-1,5, плотность тока - 0,1-2 А/дм².The second layer of the alloy gold-palladium-copper-silver-diamond coating by means of electrochemical deposition from an electrolyte composition, g / l: g / l: potassium dicyanourate - 8-10; palladium chloride 5-7; copper sulfate - 5-7; silver chloride - 5-7; citric acid - 20-30; potassium carbonate - 15-20; SUAV - 2-7; fullerene - 0.1-0.2; carbyne - 0.25-0.5; titanium carbide - 2-3; titanium nitride - 1-2; titanium carbonitride - 1-2; zirconium dioxide - 1-2 at a temperature of 20-25 ° C, pH 1-1.5, current density - 0.1-2 A / dm ² .

Результаты показали, что:The results showed that:

1. Толщина покрытия никель-серебро-алмаз составляет 8-12 мкм;1. The thickness of nickel-silver-diamond coating is 8-12 microns;

2. Толщина покрытия золото-палладий-медь-серебро-алмаз составляет 8-12 мкм;2. The thickness of the gold-palladium-copper-silver-diamond coating is 8-12 microns;

3. Микротвердость титанового сплава ВТ-9 импланта составляет 338-352НВ, слоя никель-серебро-алмаз покрытия 450-480 НВ, слоя золото-палладий-медь-серебро-алмаз покрытия 490-510 НВ.3. The microhardness of the implant titanium alloy VT-9 is 338-352HB, the nickel-silver-diamond coating layer is 450-480 HB, the gold-palladium-copper-silver-diamond coating layer is 490-510 HB.

Например, по представленным решениям было получено двухслойное композиционное металл-алмазное покрытие на основе сплава никель-алмаз и золото-палладий-медь-серебро-алмаз с диспергированным в них частицами вещества из указанной группы, медицинского изделия из титанового сплава ВТ-6 (Фиг. 2).For example, according to the presented solutions, a two-layer composite metal-diamond coating was obtained based on a nickel-diamond and gold-palladium-copper-silver-diamond alloy with particles of a substance from this group dispersed in them, a medical product made of a titanium alloy VT-6 (Fig. 2).

Первый слой композиционного покрытия никель-алмаз осаждают посредством химического осаждения никеля на изделия из нержавещих сталей осуществляют из раствора состава, г/л: никель сернокислый или никель хлористый - 20-30; СУАВ - 1-7; алмаз - 2-3; карбин -1-2; восстановленный оксид графена - 0,5-1; карбид титана - 2-3; нитрид бора -The first layer of the nickel-diamond composite coating is deposited by chemical deposition of nickel on stainless steel products from a solution of the composition, g / l: nickel sulfate or nickel chloride - 20-30; SUAV - 1-7; diamond - 2-3; carbyne -1-2; reduced graphene oxide - 0.5-1; titanium carbide - 2-3; boron nitride -

1- 2; нитрид углерода-бора - 0,25-0,5; карбонитрид циркония - 1-2; оксид алюминия - 0,5-0,8, натрий уксуснокислый - 10-15; гипофосфит натрия -23-30; тиомочевина - 0,001-0,003; кислота уксусная - 5-10, при рН 4,3-5,0, температуре 85-95°С, плотности загрузки 1-2 дм²/л, в течение 2-10 минут. Раствор гипофосфита натрия вводится непосредственно перед никилированием.12; carbon-boron nitride - 0.25-0.5; zirconium carbonitride - 1-2; aluminum oxide - 0.5-0.8, sodium acetate - 10-15; sodium hypophosphite -23-30; thiourea - 0.001-0.003; acetic acid - 5-10, at pH 4.3-5.0, temperature 85-95 ° C, loading density 1-2 dm ² / l, for 2-10 minutes. A solution of sodium hypophosphite is injected immediately before nickelization.

Второй слой композиционного покрытия хром-алмаз посредством электрохимического осаждения хрома осуществляют из электролита состава, г/л: хромовый ангидрид 230-250, серная кислота - 2-4, трехвалентный хром -The second layer of the chromium-diamond composite coating by electrochemical chromium deposition is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: chromic anhydride 230-250, sulfuric acid - 2-4, trivalent chromium -

2- 3, СУАВ- 4-7, астрален - 0,15-0,2, карбид кремния - 0,5-1; карбонитрид титана - 1-2, нитрид бора - 0,5-1; диоксид циркония - 0,5-1; оксид иттрия 0,1-0,25, катодная плотность тока 50-100 А/дм², температура 45(+-) 2°С.2- 3, SUAV- 4-7, astralen - 0.15-0.2, silicon carbide - 0.5-1; titanium carbonitride - 1-2, boron nitride - 0.5-1; zirconium dioxide - 0.5-1; yttrium oxide 0.1-0.25, cathode current density 50-100 A / dm ² , temperature 45 (+ -) 2 ° C.

Результаты исследования показали, что: микротвердость материала изделия из титанового сплава ВТ-6 составляет 280-335НВ, слоя никель-алмазного покрытия 520-550 НВ, хром-алмазного покрытия 790-860 НВ.The results of the study showed that: the microhardness of the material of an article made of titanium alloy VT-6 is 280-335HB, a layer of nickel-diamond coating 520-550 HB, chromium-diamond coating 790-860 HB.

Например, по представленным решениям было получено однослойное композиционное металл-алмазное покрытие на основе сплава кобальт-хром-молибден-алмазного покрытия на изделие из нержавеющей стали 12Х18Н10Т (Фиг. 3) посредством электрохимического осаждения из электролита состава, г/л: сульфат кобальта - 300-450; сульфат хрома - 40-60; молибдат натрия 10-20; гликолевая кислота - 40-45; хлорид натрия - 15-20; СУАВ - 1-5; восстановленный оксид графена - 0,25-0,75; углеродные нанотрубки - 0,25-0,75, карбид бора - 0,5-1; карбид вольфрама - 0,5-1; нитрид циркония - 1-2; карбонитрид циркония - 0,5-1; оксид алюминия - 1-2, при температуре 40-45°С, рН 5,2-5,8, плотность тока - 4-6 А/дм².For example, according to the solutions presented, a single-layer composite metal-diamond coating was obtained based on an alloy of cobalt-chromium-molybdenum-diamond coating on a product made of stainless steel 12X18H10T (Fig. 3) by means of electrochemical deposition from an electrolyte of composition, g / l: cobalt sulfate - 300 -450; chromium sulfate - 40-60; sodium molybdate 10-20; glycolic acid - 40-45; sodium chloride - 15-20; SUAV - 1-5; reduced graphene oxide - 0.25-0.75; carbon nanotubes - 0.25-0.75, boron carbide - 0.5-1; tungsten carbide - 0.5-1; zirconium nitride - 1-2; zirconium carbonitride - 0.5-1; aluminum oxide - 1-2, at a temperature of 40-45 ° C, pH 5.2-5.8, current density - 4-6 A / dm ² .

Результаты исследования показали, что: микротвердость изделия из нержавеющей стали 12Х18Н10Т составляет 175-179НВ, а слоя кобальт-хром-молибден-алмазного покрытия 840-980НВ.The results of the study showed that: the microhardness of a product made of stainless steel 12X18H10T is 175-179HV, and a layer of cobalt-chromium-molybdenum-diamond coating is 840-980HV.

Экспериментальные испытания убедительно подтвердили, что все поставленные задачи успешно решены. Следует отметить, что металлы указанной группы являются наиболее технологичными, взаимозаменяемыми и предпочтительными в применении. Поэтому применение любого металла из указанной группы или их сочетаний будет обеспечивать указанный технический результат. Однако возможно применение и других металлов, подходящих в условиях реализации данного изобретения.Experimental tests have convincingly confirmed that all the tasks have been successfully solved. It should be noted that the metals of this group are the most technologically advanced, interchangeable and preferred in use. Therefore, the use of any metal from the specified group or combinations thereof will provide the specified technical result. However, it is possible to use other metals suitable for the implementation of this invention.

Литература:Literature:

1. Способ нанесения гальванического покрытия на съемные зубные протезы, RU №2404294, опубликовано 20.12.2012 г.1. Method for applying galvanic coating to removable dentures, RU No. 2404294, published on 20.12.2012.

2. Способ получения электрохимического хром-алмазного покрытия RU №2585608, опубликовано 27.05.2016 г.2. Method for producing electrochemical chromium-diamond coating RU No. 2585608, published on May 27, 2016.

3. Композиционное металл-алмазное покрытие, способ его получения, алмазосодержащая добавка электролита и способ ее получения, RU №2699699, опубликовано 09.09.2019 г.3. Composite metal-diamond coating, a method for its production, a diamond-containing electrolyte additive and a method for its production, RU No. 2699699, published 09.09.2019.

4. Композиционное металл-алмазное покрытие, способ его получения, дисперсная система для осаждения композиционного металл-алмазного покрытия и способ ее получения, RU №2706931, опубликовано 21.11.2019 г.4. Composite metal-diamond coating, a method for its production, a dispersed system for the deposition of a composite metal-diamond coating and a method for its production, RU No. 2706931, published on November 21, 2019.

Claims

1. Способ получения композиционного металл-алмазного покрытия на поверхности медицинского изделия, включающий осаждение металла и твердой дисперсной фазы в виде металлической пленки, отличающийся тем, что на поверхность изделия осаждают как минимум один слой посредством химического или электрохимического осаждения из раствора или электролита соответственно, содержащего источник ионов осаждаемого вещества, выбранный из группы: железо, никель, хром, титан, кобальт, вольфрам, магний, молибден, ванадий, цирконий, ниобий, гафний, иттрий, медь, золото, серебро, платина, палладий, родий или их различные сочетания, и дисперсную систему, состоящую из смеси: жидкой дисперсной среды, твердой дисперсной фазы и стабилизатора, причем в качестве жидкой дисперсной среды используют воду, в качестве твердой дисперсной фазы используют смесь диспергированных частиц синтетического углеродного алмазосодержащего вещества и вещества, выбранного из группы, содержащей алмаз, графен, фуллерен, астрален, восстановленный оксид графена, карбин, углеродные нанотрубки, пирографит, карбид бора, карбид вольфрама, карбид кремния, карбид титана, нитрид бора, нитрид циркония, нитрид титана, нитрид углерода-бора, карбонитрид титана, карбонитрид циркония, диоксид циркония, оксид иттрия, оксид алюминия или их сочетания, а стабилизатор вводят в дисперсную систему в количестве 0,01-12 г/л дисперсной системы и выбирают из группы, содержащей низкомолекулярный электролит, коллоидное поверхностно-активное вещество или их сочетание, затем, при необходимости, осаждают как минимум один следующий слой посредством химического или электрохимического осаждения из раствора или электролита соответственно, содержащего источник ионов осаждаемого вещества, выбранный из указанной группы, и указанную дисперсную систему, причем при осаждении из раствора или электролита концентрация указанных диспергированных частиц вещества в дисперсной системе составляет от 0,05 до 25 г/л электролита, а размер частиц составляет от 1 до 300 нм, при этом до и после осаждения каждого из слоев производят обработку поверхности промывкой водой, сушкой, обработку химическими веществами путем обезжиривания, травления, анодного декапирования, сенсибилизации, активирования или несколькими из них, механическую обработку, термическую обработку или несколькие из них.1. A method of obtaining a composite metal-diamond coating on the surface of a medical product, including the deposition of a metal and a solid dispersed phase in the form of a metal film, characterized in that at least one layer is deposited on the surface of the product by means of chemical or electrochemical deposition from a solution or electrolyte, respectively, containing a source of ions of the deposited substance selected from the group: iron, nickel, chromium, titanium, cobalt, tungsten, magnesium, molybdenum, vanadium, zirconium, niobium, hafnium, yttrium, copper, gold, silver, platinum, palladium, rhodium or their various combinations , and a dispersed system consisting of a mixture of a liquid dispersed medium, a solid dispersed phase and a stabilizer, and water is used as a liquid dispersed medium, a mixture of dispersed particles of a synthetic carbon diamond-containing substance and a substance selected from the group containing diamond is used as a solid dispersed phase , graphene, fullerene, astralen, restored graphene oxide, carbyne, carbon nanotubes, pyrographite, boron carbide, tungsten carbide, silicon carbide, titanium carbide, boron nitride, zirconium nitride, titanium nitride, carbon-boron nitride, titanium carbonitride, zirconium carbonitride, zirconium dioxide, yttrium oxide, oxide aluminum or a combination thereof, and the stabilizer is introduced into the dispersed system in an amount of 0.01-12 g / l of the dispersed system and is selected from the group containing a low molecular weight electrolyte, a colloidal surfactant or a combination thereof, then, if necessary, at least one the next layer by means of chemical or electrochemical deposition from a solution or electrolyte, respectively, containing an ion source of the deposited substance selected from the specified group, and the specified dispersed system, and when deposited from a solution or electrolyte, the concentration of said dispersed particles of the substance in the dispersed system is from 0.05 to 25 g / L electrolyte, and the particle size ranges from 1 to 300 n m, while before and after the deposition of each of the layers, the surface is treated by washing with water, drying, processing with chemicals by degreasing, etching, anodic pickling, sensitization, activation or several of them, mechanical treatment, heat treatment or several of them.

2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что химическое осаждение покрытия осуществляют методом вытеснения, методом гальванической пары, методом химического восстановления или сочетанием методов, при этом для химического или электрохимического осаждения используют водный раствор и электролит, содержащий вещества, выбранные из группы, содержащей неорганическое соединение в виде сульфата, хлорида или цианида, неорганическое цианистое соединение, неорганическую или органическую кислоту, и, при необходимости, дополнительные ингредиенты, выбранные из группы, содержащей хромовый ангидрид, дихромат калия, дихромат натрия, дихромат аммония, бисульфат натрия, углекислый натрий, сернокислый натрий, гидроксид натрия, аммиак, гидроксид аммония, гидразин, сульфат гидразина, хлорид гидразиния, гидрокарбонат аммония, гипопосфит натрия, гипопосфит кальция, борогидрид, боразол, гидразинборан, а также ионы металлов в низшей степени окисления Fe²⁺, Sn²⁺, Ti³⁺, Cr²⁺, Mn²⁺, Ce²⁺, Cu⁺ или их смесь, титанат натрия, нитрат аммония, нитрат натрия, ацетат натрия, ацетат аммония, ацетат хрома, ацетат никеля, фторид хрома, фосфинат аммония, цитрат магния, цитрат натрия, сахарин, фтористый хромил, тиомочевину, сегнетовую соль, гликоль, клей глютиновый, динатриевую соль этилендиаминтетрауксусной кислоты, фталимид, фторид натрия, ванадиевую кислоту, берилливую кислоту, висмутовую кислоту, фенолфталеин, бутандиол, трихлорэтиламид, лаурилсульфат натрия, монофосфат цинка, нитрат цинка, молибдат натрия, фосфат родия или их сочетания, при этом сульфаты выбирают из группы, содержащей сульфат натрия, сульфат меди, сульфат магния, сульфат никеля, сульфат железа, сульфат хрома, сульфат аммония, сульфат кобальта (II, III), сульфат титана (II, III, IV), сульфат родия (III), дисульфид вольфрама, сульфат ванадия, сульфат циркония (IV), триоксид-дисульфат диниобия, сульфат гафния, сульфат иттрия или их смесь, хлориды выбирают из группы, содержащей хлорид натрия, хлорид аммония, хлорид железа, хлорид никеля, хлорид хрома (II, III, IV), хлорид вольфрама, хлорид кобальта (И, III), хлорид ванадия, хлорид ниобия (III, IV, V), хлорид циркония (II, III, IV), хлорид иттрия, хлорид меди (I, II), хлорид магния, хлорид золота (I, II, III), хлорид серебра, хлорид платины (II, IV), хлорид палладия, хлорид родия (III) или их смесь, цианиды выбирают из группы, содержащей цианид натрия, цианид калия, цианид меди, неорганическое цианистое соединение выбирают из группы, содержащей дицианоаргентат калия, дицианоурат калия, в качестве неорганической или органической кислоты используют серную, соляную, хромовую, борную, фтороводородную, цианистоводородную, угольную, азотистую, сероводородную, хлорноватистую, ортофосфорную, фосфорную, сульфаминовую, фосфорноватистую, акриловую, метакриловую, лимонную, щавелевую, уксусную, муравьиную или их смесь.2. The method according to claim 1, characterized in that the chemical deposition of the coating is carried out by the displacement method, the galvanic pair method, the chemical reduction method or a combination of methods, while for the chemical or electrochemical deposition an aqueous solution and an electrolyte containing substances selected from the group are used, containing an inorganic compound in the form of sulfate, chloride or cyanide, an inorganic cyanide compound, an inorganic or organic acid, and, if necessary, additional ingredients selected from the group containing chromic anhydride, potassium dichromate, sodium dichromate, ammonium dichromate, sodium bisulfate, sodium carbonate , sodium sulfate, sodium hydroxide, ammonia, ammonium hydroxide, hydrazine, hydrazine sulfate, hydrazinium chloride, ammonium bicarbonate, sodium hypophosphite, calcium hypophosphite, borohydride, borazol, hydrazineborane, as well as metal ions in the lowest oxidation state Fe ²⁺ , Sn ²⁺ , Ti ³⁺ , Cr ²⁺ , Mn ²⁺ , Ce ²⁺ , Cu ⁺ or their mixture, sodium titanate, ammonium nitrate, sodium nitrate, sodium acetate, ammonium acetate, chromium acetate, nickel acetate, chromium fluoride, ammonium phosphinate, magnesium citrate, sodium citrate, saccharin, chromyl fluoride, thiourea, Rochelle salt, glycol, glutin glue, disodium salt ethylenediaminetetraacetic acid, phthalimide, sodium fluoride, vanadic acid, beryllic acid, bismuth acid, phenolphthalein, butanediol, trichlorethylamide, sodium lauryl sulfate, zinc monophosphate, zinc nitrate, sodium molybdate, rhodium phosphate or combinations thereof sodium, copper sulfate, magnesium sulfate, nickel sulfate, iron sulfate, chromium sulfate, ammonium sulfate, cobalt (II, III) sulfate, titanium sulfate (II, III, IV), rhodium (III) sulfate, tungsten disulfide, vanadium sulfate, zirconium (IV) sulfate, diniobium trioxide disulfate, hafnium sulfate, yttrium sulfate or a mixture thereof, the chlorides are selected from the group containing sodium chloride, ammonium chloride, ferric chloride, n ikel, chromium chloride (II, III, IV), tungsten chloride, cobalt chloride (I, III), vanadium chloride, niobium chloride (III, IV, V), zirconium chloride (II, III, IV), yttrium chloride, chloride copper (I, II), magnesium chloride, gold chloride (I, II, III), silver chloride, platinum (II, IV) chloride, palladium chloride, rhodium (III) chloride or a mixture thereof, cyanides are selected from the group containing cyanide sodium, potassium cyanide, copper cyanide, an inorganic cyanide compound is selected from the group containing potassium dicyanoargentate, potassium dicyanourate, sulfuric, hydrochloric, chromic, boric, hydrofluoric, hydrocyanic, carbonic, chlorine nitrous, hydrogen sulfide, orthohydrogenic acids are used as inorganic or organic acids. , phosphoric, sulfamic, hypophosphorous, acrylic, methacrylic, lemon, oxalic, acetic, formic, or a mixture thereof.

3. Способ по п. 1, отличающийся тем, что низкомолекулярный электролит выбирают из группы, содержащей неорганический электролит, органический электролит, при этом в качестве неорганического электролита выбирают кислоты из группы, содержащей серную кислоту, соляную кислоту, борную кислоту, фтороводородную кислоту, ортофосфорную кислоту, хромовую кислоту, цианистоводородную кислоту, угольную кислоту, азотистую кислоту, сероводородную кислоту или их смесь, или из группы гидроксидов, содержащей гидроксид натрия, гидроксид калия, гидроксид аммония или их смесь, органические электролиты выбирают из группы, содержащей уксусную кислоту, муравьиную кислоту, лимонную кислоту, щавелевую кислоту, акриловую кислоту, метакриловую кислоту или их смесь, при этом коллоидное ПАВ выбирают из группы, содержащей анионное ПАВ, катионное ПАВ, в качестве анионного ПАВ выбирают вещество из группы, содержащей капринат натрия, додеканоат натрия, миристинат натрия, олеат натрия, олеат калия, стеарат калия, лаурилсульфат натрия, лаурилсульфат калия, тетрадецилсульфат натрия, 4-додецилбензосульфонат или их смесь, в качестве катионного ПАВ выбирают вещество из группы: диоктадецилдиметиламмоний хлорид, триметилкокоаммоний хлорид, олеилтриметиламмоний хлорид, диметилкокобензиламмоний хлорид, алкилтриметиламмоний хлорид, диметилдодецилбензиламмоний хлорид или сочетания веществ из указанных групп.3. The method according to p. 1, characterized in that the low molecular weight electrolyte is selected from the group containing an inorganic electrolyte, an organic electrolyte, while the inorganic electrolyte is selected from the group containing sulfuric acid, hydrochloric acid, boric acid, hydrofluoric acid, orthophosphoric acid, chromic acid, hydrocyanic acid, carbonic acid, nitrous acid, hydrosulfuric acid or a mixture thereof, or from the group of hydroxides containing sodium hydroxide, potassium hydroxide, ammonium hydroxide or a mixture thereof, organic electrolytes are selected from the group containing acetic acid, formic acid , citric acid, oxalic acid, acrylic acid, methacrylic acid or a mixture thereof, while the colloidal surfactant is selected from the group containing an anionic surfactant, a cationic surfactant, as an anionic surfactant, a substance is selected from the group containing sodium caprate, sodium dodecanoate, sodium myristinate, sodium oleate, potassium oleate, potassium stearate, laurils sodium ulfate, potassium lauryl sulfate, sodium tetradecyl sulfate, 4-dodecylbenzenesulfonate or a mixture thereof, as a cationic surfactant, a substance is selected from the group: dioctadecyl dimethylammonium chloride, trimethyl cocoammonium chloride, oleyltrimethylammonium chloride, dimethylmoniumbenzene chloride

4. Способ п. 1, отличающийся тем, что обезжиривание проводят веществами, выбранными из группы, содержащей водный раствор гидроксида натрия, гидроксида калия или солей щелочных металлов, органические растворители, поверхностно-активные вещества и электролиты электрохимического обезжиривания, травление осуществляют водными растворами серной кислоты, соляной кислоты, фосфорной кислоты, азотной кислоты, фтороводородной кислоты или их смесью, а также электролитами электрохимического травления, анодное декапирование осуществляют в электролите, содержащем источник ионов осаждаемого металла, сенсибилизацию осуществляют растворами солей металлов, выбранных из группы, содержащей Sn²⁺, Fe²⁺, Ti³⁺, Ge²⁺, при этом в качестве растворителя используют воду, кислоту, этанол или их смесь, активирование осуществляют растворами соединений каталитически активных металлов, выбранных из группы, содержащей палладий, платину, серебро, родий, рутений, осмий, иридий, при этом в качестве растворителя используют воду, кислоту, аммиак, гидроксид натрия или их смесь.4. The method of claim 1, characterized in that the degreasing is carried out with substances selected from the group containing an aqueous solution of sodium hydroxide, potassium hydroxide or alkali metal salts, organic solvents, surfactants and electrolytes for electrochemical degreasing, etching is carried out with aqueous solutions of sulfuric acid , hydrochloric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrofluoric acid or a mixture thereof, as well as with electrochemical etching electrolytes, anodic pickling is carried out in an electrolyte containing a source of ions of the deposited metal, sensitization is carried out with solutions of metal salts selected from the group containing Sn ²⁺ , Fe ²⁺ , Ti ³⁺ , Ge ²⁺ , while water, acid, ethanol or their mixture is used as a solvent, activation is carried out with solutions of compounds of catalytically active metals selected from the group containing palladium, platinum, silver, rhodium, ruthenium, osmium , iridium, while the solvent is used water, acid, ammonia, sodium hydroxide, or a mixture thereof.

5. Дисперсная система для химического или электрохимического осаждения из раствора или электролита соответственно композиционного металл-алмазного покрытия на поверхность медицинского изделия, отличающаяся тем, что она состоит из смеси жидкой дисперсной среды, твердой дисперсной фазы и стабилизатора в количестве 0,01-12 г/л дисперсной системы, причем в качестве жидкой дисперсной среды использована вода, в качестве твердой дисперсной фазы использованы диспергированные частицы вещества в концентрации 0,05-300 г/л, при этом размер указанных частиц составляет от 1 до 300 нм, и они представляют собой смесь диспергированных частиц синтетического углеродного алмазосодержащего вещества и вещества из группы, содержащей алмаз, графен, фуллерен, астрален, восстановленный оксид графена, карбин, углеродные нанотрубки, пирографит, карбид бора, карбид вольфрама, карбид кремния, карбид титана, нитрид бора, нитрид циркония, нитрид титана, нитрид углерода-бора, карбонитрид титана, карбонитрид циркония, диоксид циркония, оксид иттрия, оксид алюминия или их сочетания, при этом в качестве стабилизатора использован низкомолекулярный электролит, коллоидное ПАВ, при этом низкомолекулярный электролит выбран из группы, содержащей неорганический электролит и органический электролит, в качестве неорганического электролита выбраны кислоты из группы, содержащей серную, соляную, борную, фтороводородную, ортофосфорную, хромовую, цианистоводородную, угольную, азотистую, сероводородную или их смесь, или гидроксиды из группы, содержащей гидроксид натрия, гидроксид калия, гидроксид аммония или их смесь, органические электролиты выбраны из группы кислот, содержащей уксусную, муравьиную, лимонную, щавелевую, акриловую, метакриловую или их смесь, при этом коллоидное ПАВ выбрано из группы, содержащей анионное ПАВ и катионное ПАВ, в качестве анионного ПАВ выбрано вещество из группы, содержащей капринат натрия, додеканоат натрия, миристинат натрия, олеат натрия, олеат калия, стеарат калия, лаурилсульфат натрия, лаурилсульфат калия, тетрадецилсульфат натрия, 4-додецилбензосульфонат или их смесь, в качестве катионного ПАВ выбрано вещество из группы, содержащей диоктадецилдиметиламмоний хлорид, триметилкокоаммоний хлорид, олеилтриметиламмоний хлорид, диметилкокобензиламмоний хлорид, алкилтриметиламмоний хлорид, диметилдодецилбензиламмоний хлорид, или в качестве стабилизатора использованы сочетания веществ из указанных групп.5. Disperse system for chemical or electrochemical deposition from a solution or electrolyte, respectively, of a composite metal-diamond coating on the surface of a medical device, characterized in that it consists of a mixture of a liquid dispersed medium, a solid dispersed phase and a stabilizer in the amount of 0.01-12 g / l of a dispersed system, and water is used as a liquid dispersed medium, dispersed particles of a substance in a concentration of 0.05-300 g / l are used as a solid dispersed phase, while the size of these particles is from 1 to 300 nm, and they are a mixture dispersed particles of synthetic carbon diamond-containing substances and substances from the group containing diamond, graphene, fullerene, astralen, reduced graphene oxide, carbyne, carbon nanotubes, pyrographite, boron carbide, tungsten carbide, silicon carbide, titanium carbide, boron nitride, zirconium nitride, nitride titanium, carbon-boron nitride, titanium carbonitride, zirconium carbonitride, zirconium dioxide, yttrium oxide, alumina or their combinations, while a low molecular weight electrolyte, a colloidal surfactant was used as a stabilizer, while a low molecular weight electrolyte was selected from the group containing an inorganic electrolyte and an organic electrolyte, acids from the group containing sulfuric acid were selected as an inorganic electrolyte , hydrochloric, boric, hydrofluoric, phosphoric, chromic, hydrocyanic, carbonic, nitrogenous, hydrogen sulfide, or a mixture thereof, or hydroxides from the group containing sodium hydroxide, potassium hydroxide, ammonium hydroxide or a mixture thereof, organic electrolytes are selected from the group of acids containing acetic, formic, lemon, oxalic, acrylic, methacrylic or a mixture thereof, while the colloidal surfactant is selected from the group containing an anionic surfactant and a cationic surfactant, as an anionic surfactant, a substance is selected from the group containing sodium caprate, sodium dodecanoate, sodium myristinate, sodium oleate, potassium oleate, potassium stearate, sodium lauryl sulfate rium, potassium lauryl sulfate, sodium tetradecyl sulfate, 4-dodecylbenzenesulfonate or a mixture thereof, as a cationic surfactant selected a substance from the group containing dioctadecyl dimethylammonium chloride, trimethylcocoammonium chloride, oleyltrimethylammonium chloride, dimethylammonium chloride from the specified groups.

6. Способ получения дисперсной системы по п. 5, характеризующийся тем, что проводят отжиг в инертной среде или вакууме порошка твердой дисперсной фазы, представляющей собой смесь диспергированных частиц синтетического углеродного алмазосодержащего вещества и вещества, выбранного из группы, содержащей алмаз, графен, фуллерен, астрален, восстановленный оксид графена, карбин, углеродные нанотрубки, пирографит, карбид бора, карбид вольфрама, карбид кремния, карбид титана, нитрид бора, нитрид циркония, нитрид титана, нитрид углерода-бора, карбонитрид титана, карбонитрид циркония, диоксид циркония, оксид иттрия, оксид алюминия или их сочетания, смешивание упомянутой смеси диспергированных частиц с водным раствором, содержащим вещество, выбранное из группы, включающей гипопосфит натрия, гипопосфит кальция, борогидрид, боразол, гидразинборан, а также ионы металлов в низшей степени окисления Fe²⁺, Sn²⁺, Ti³⁺, Cr²*, Mn²⁺, Се²⁺, Cu⁺ или их смесь, или из группы, включающей азотную кислоту, соляную кислоту, серную кислоту, фтороводородную кислоту или их смесь, или из группы, включающей гидроксид натрия, гидроксид калия, гидроксид аммония, гидроксид олова или их смесь, или с водными растворами, содержащими вещества из указанных групп, и обработку упомянутой смеси диспергированных частиц веществами из указанных групп при температуре 20-450°С, давлении 0,1-8 МПа, ультразвуковом воздействии с частотой 22-42 кГц, вакууме 1,3*10^-1 -1,3*10^-2 Па, в течение от 5 мин до 4 ч, отделение полученного продукта в виде смеси диспергированных частиц вещества из указанной группы от отработанных веществ, отмывание продукта дистиллированной или деионизированной водой при использовании гидродинамической обработки струей воды с давлением 8-15 МПа, а затем ультразвуковой обработкой и добавление жидкой дисперсной среды в виде воды и стабилизатора до достижения дисперсной системой рН 4,5-7,1.6. A method for producing a dispersed system according to claim 5, characterized in that annealing is carried out in an inert medium or vacuum of a solid dispersed phase powder, which is a mixture of dispersed particles of a synthetic carbon diamond-containing substance and a substance selected from the group containing diamond, graphene, fullerene, astralen, reduced graphene oxide, carbyne, carbon nanotubes, pyrographite, boron carbide, tungsten carbide, silicon carbide, titanium carbide, boron nitride, zirconium nitride, titanium nitride, carbon-boron nitride, titanium carbonitride, zirconium carbonitride, zirconium dioxide, yttrium oxide , aluminum oxide or combinations thereof, mixing said mixture of dispersed particles with an aqueous solution containing a substance selected from the group consisting of sodium hypophosphite, calcium hypophosphite, borohydride, borazole, hydrazineborane, as well as metal ions in the lowest oxidation state Fe ²⁺ , Sn ^{2 +} , Ti ³⁺ , Cr ² *, Mn ²⁺ , Ce ²⁺ , Cu ⁺ or a mixture thereof, or from the group including nitric acid lot, hydrochloric acid, sulfuric acid, hydrofluoric acid or a mixture thereof, or from the group including sodium hydroxide, potassium hydroxide, ammonium hydroxide, tin hydroxide or a mixture thereof, or with aqueous solutions containing substances from these groups, and processing said mixture of dispersed particle substances of said groups at a temperature of 20-450 ° C, a pressure of 0.1-8 MPa, with a sonication frequency of 22-42 kHz, vacuum 1.3 * 10 ^-1 -1.3 * 10 ^-2 Pa, for from 5 minutes to 4 hours, separating the resulting product in the form of a mixture of dispersed particles of a substance from the specified group from waste substances, washing the product with distilled or deionized water using hydrodynamic treatment with a water jet with a pressure of 8-15 MPa, and then ultrasonic treatment and adding a liquid dispersed medium in the form of water and a stabilizer until the dispersed system reaches a pH of 4.5-7.1.