RU2746863C1

RU2746863C1 - Method for producing composite metal-dispersed coating, dispersed system for precipitation of composite metal-dispersed coating and method for its production

Info

Publication number: RU2746863C1
Application number: RU2020125765A
Authority: RU
Inventors: Сергей Константинович Есаулов; Целина Вацлавовна Есаулова
Original assignee: Сергей Константинович Есаулов; Целина Вацлавовна Есаулова
Priority date: 2020-07-28
Filing date: 2020-07-28
Publication date: 2021-04-21

Abstract

FIELD: transport industry; nuclear industry; military industry; aviation; space industry.SUBSTANCE: invention relates to the production of a composite metal-dispersed coating (hereinafter – CMDC), as well as to a dispersed system and its production, it can be used in transport industry, nuclear, military, aviation and space fields. The method for producing this coating includes the precipitation of at least one layer of a metal membrane made in the form of a part of the surface, geometrical shapes, stripes or grid by chemical or electrochemical precipitation from a solution or electrolyte, respectively, containing an ion source of the precipitated substance and a dispersed system. Before and after the precipitation of each of the layers, the surface is treated with water washing, drying, chemical treatment, mechanical treatment, heat treatment, or several of them. The dispersed system consists of a mixture of a liquid dispersed medium in the form of water, a solid dispersed phase, and a stabilizer. The solid dispersed phase is a mixture of at least two substances in the form of dispersed particles selected from a group containing carbon, silicide, carbide, nitride, carbon nitride, boride, oxide, or a combination thereof. Carbon is selected from a group containing graphite, pyrolytic graphite, reduced graphene oxide, diamond, synthetic carbon diamond-containing substance, graphene, lonsdaleite, fullerene, astralen, carbine, carbon nanotubes, or a combination thereof.EFFECT: invention provides a CMDC with higher operational and technical characteristics by increasing corrosion resistance, hardness, strength, heat resistance, fire resistance, chemical resistance, wear resistance, adhesion, reducing the coefficient of friction, changing the coefficient of thermal conductivity and reducing the coating area.6 cl, 8 dwg

Description

Изобретение относится к способу получения композиционного металл-дисперсного покрытия посредством химического или электрохимического осаждения из раствора или электролита и может найти широкое применение в промышленности, транспорте, атомной промышленности, военной области, авиационной и космической областях.The invention relates to a method for producing a composite metal-dispersed coating by means of chemical or electrochemical deposition from a solution or electrolyte and can be widely used in industry, transport, nuclear industry, military, aviation and space fields.

В настоящее время создание композиционных металл-дисперсных покрытий, которые обладают высокими эксплуатационно-техническими характеристиками, за счет повышения коррозионной стойкости, твердости, прочности, термостойкости, огнестойкости, жаропрочности, химической стойкости, износостойкости, адгезии к поверхности металлической, полимерной, керамической или композитной основы и нанесенному слою, изменение коэффициента теплопроводности покрытия в зависимости от его назначения, снижения коэффициента трения и повышения качества нанесения покрытия, является одной их актуальных проблем.Currently, the creation of composite metal-dispersed coatings that have high operational and technical characteristics by increasing corrosion resistance, hardness, strength, heat resistance, fire resistance, heat resistance, chemical resistance, wear resistance, adhesion to the surface of a metal, polymer, ceramic or composite base and the applied layer, the change in the coefficient of thermal conductivity of the coating depending on its purpose, reducing the coefficient of friction and improving the quality of the coating, is one of their urgent problems.

Известен способ получения электрохимического серебряного покрытия, RU №2599471, 10.10.2016 г.A known method of producing an electrochemical silver coating, RU No. 2599471, 10.10.2016

Способ включает электрохимическое осаждения серебра и модифицированного аммиачной водой детонационного алмаза (МДНА) и позволяет получить покрытие с увеличенной твердостью [1].The method includes electrochemical deposition of silver and detonation diamond modified with ammonia water (MDND) and makes it possible to obtain a coating with increased hardness [1].

Известен способ получения электрохимического серебро-наноуглерод-алмазного покрытия, RU №2599473, 10.10.2016 г.A known method of obtaining electrochemical silver-nanocarbon-diamond coating, RU No. 2599473, 10.10.2016

Способ включает электрохимическое осаждение серебра и модифицированного азотной кислотой наноуглерод-алмазный материал (МНУАМ) и позволяет получить покрытие с увеличенной твердостью [2].The method includes electrochemical deposition of silver and nitric acid-modified nanocarbon-diamond material (MNUAM) and makes it possible to obtain a coating with increased hardness [2].

Известен способ получения электрохимического хром-алмазного покрытия RU №2585608, 27.05.2016 г.A known method of producing an electrochemical chromium-diamond coating RU No. 2585608, 05/27/2016

Способ получения из электролита хромирования, содержащего взвесь частиц алмаза, представляющих собой смесь нанодисперсных алмазов детонационного синтеза (ДНА) с размером монокристаллов 2…20 нм и алмазов статического синтеза (АСС) с размером монокристаллов 2…250 нм, при суммарной концентрации смеси алмазов в электролите 2…30 г/л [3].A method of obtaining from a chromium plating electrolyte containing a suspension of diamond particles, which is a mixture of nanodispersed detonation synthesis diamonds (DND) with a single crystal size of 2 ... 20 nm and static synthesis diamonds (АСС) with a single crystal size of 2 ... 250 nm, with a total concentration of a mixture of diamonds in the electrolyte 2 ... 30 g / l [3].

Известно композиционное металл-алмазное покрытие, способ его получения, алмазосодержащая добавка электролита и способ ее получения, RU №2699699, 09.09.2019 г.Known is a composite metal-diamond coating, a method for its production, a diamond-containing electrolyte additive and a method for its production, RU No. 2699699, 09.09.2019.

Композиционное металл-алмазное покрытие выполнено в виде двухслойной металлической пленки и содержит первый слой осажденного металла, выбранного из определенной группы, и нанесенный на него второй слой из металла указанной группы с диспергированными в нем частицами синтетического углеродного алмазосодержащего вещества.The composite metal-diamond coating is made in the form of a two-layer metal film and contains a first layer of a deposited metal selected from a specific group, and a second layer of a metal of the specified group with particles of a synthetic carbon diamond-containing substance dispersed therein.

Способ его получения заключается в осаждении на поверхность изделия первого слоя посредством химического или электрохимического осаждения ионов осаждаемого металла выбранного из определенной группы, а затем осаждают второй слой из металла указанной группы и дисперсную систему, состоящую из смеси жидкой дисперсной среды, твердой дисперсной фазы и стабилизатора, при этом в качестве дисперсной среды используют воду, а в качестве твердой дисперсной фазы используют частицы синтетического углеродного алмазосодержащего вещества, а в качестве стабилизатора используют неорганические электролиты, органические электролиты или их смесь.The method for its production consists in deposition on the surface of the article of the first layer by means of chemical or electrochemical deposition of the ions of the deposited metal selected from a certain group, and then the second layer is deposited from the metal of the specified group and a dispersed system consisting of a mixture of a liquid dispersed medium, a solid dispersed phase and a stabilizer, in this case, water is used as a dispersed medium, and particles of a synthetic carbon diamond-containing substance are used as a solid dispersed phase, and inorganic electrolytes, organic electrolytes or their mixture are used as a stabilizer.

Алмазосодержащая добавка электролита состоит из смеси жидкой дисперсной среды, твердой дисперсной фазы и стабилизатора, где в качестве твердой дисперсной фазы используют частицы синтетического углеродного алмазосодержащего вещества, а в качестве стабилизатора используют неорганические электролиты, органические электролиты или их смесь.The diamond-containing electrolyte additive consists of a mixture of a liquid dispersed medium, a solid dispersed phase and a stabilizer, where particles of a synthetic carbon diamond-containing substance are used as a solid dispersed phase, and inorganic electrolytes, organic electrolytes or their mixture are used as a stabilizer.

Способ получения алмазосодержащей добавки включает отжиг в инертной среде порошка алмазосодержащей шихты, затем обработку различными химическими веществами, обработку ультразвуком, вакуумом, гидродинамическим воздействием и отмыванием продукта водой с добавлением стабилизатора [4].The method of obtaining a diamond-containing additive includes annealing in an inert medium of a powder of a diamond-containing mixture, then treatment with various chemicals, treatment with ultrasound, vacuum, hydrodynamic action and washing the product with water with the addition of a stabilizer [4].

Известно композиционное металл-алмазное покрытие, способ его получения, дисперсная система для осаждения композиционного металл-алмазного покрытия и способ ее получения, RU №2706931, 21.11.2019 г.Known composite metal-diamond coating, a method for its production, a dispersed system for the deposition of a composite metal-diamond coating and a method for its production, RU No. 2706931, 21.11.2019

Композиционное металл-алмазное покрытие выполнено в виде образованной на поверхности изделия металлической пленки и содержит два слоя осажденного металла, выбранного из определенной группы, с диспергированными в них частицами синтетического углеродного алмазосодержащего вещества.The composite metal-diamond coating is made in the form of a metal film formed on the surface of the product and contains two layers of deposited metal selected from a certain group, with particles of a synthetic carbon diamond-containing substance dispersed therein.

Способ его получения заключается в том, что осаждают первый слой посредством химического или электрохимического осаждения из раствора или электролита соответственно, содержащего источник ионов осаждаемого металла, выбранного из определенной группы, и дисперсную систему, состоящую из смеси жидкой дисперсной среды, твердой дисперсной фазы и стабилизатора, при этом в качестве дисперсной среды используют воду, а в качестве твердой дисперсной фазы используют частицы синтетического углеродного алмазосодержащего вещества, при этом стабилизатор выбран из группы, включающий низкомолекулярный электролит, коллоидное поверхностно-активное вещество или их сочетание, затем осаждают второй слой аналогичным образом, при этом до и после осаждения каждого из слоев проводят обработку поверхности промывкой водой, сушкой, обработкой химическими веществами, обработкой механическим способом, термической обработкой или несколькими из них.The method for its production consists in the fact that the first layer is deposited by means of chemical or electrochemical deposition from a solution or electrolyte, respectively, containing a source of ions of the deposited metal selected from a certain group, and a dispersed system consisting of a mixture of a liquid dispersed medium, a solid dispersed phase and a stabilizer, in this case, water is used as a dispersed medium, and particles of a synthetic carbon diamond-containing substance are used as a solid dispersed phase, while the stabilizer is selected from the group including a low molecular weight electrolyte, a colloidal surfactant or a combination thereof, then the second layer is deposited in a similar manner, when Before and after the deposition of each of the layers, the surface is treated by washing with water, drying, chemical treatment, mechanical treatment, heat treatment, or several of them.

Дисперсная система для получения композиционного металл-алмазного покрытия состоит из смеси жидкой дисперсной среды, твердой дисперсной фазы и стабилизатора, где в качестве твердой дисперсной фазы используют частицы синтетического углеродного алмазосодержащего вещества, а в качестве стабилизатора используют низкомолекулярный электролит, например, органический электролит, неорганический электролит, при этом коллоидное поверхностно-активное вещество представляет собой анионное ПАВ.A disperse system for obtaining a composite metal-diamond coating consists of a mixture of a liquid dispersed medium, a solid dispersed phase and a stabilizer, where particles of a synthetic carbon diamond-containing substance are used as a solid dispersed phase, and a low molecular weight electrolyte is used as a stabilizer, for example, an organic electrolyte, an inorganic electrolyte , while the colloidal surfactant is an anionic surfactant.

Способ получения дисперсной системы включает отжиг в инертной среде порошка алмазосодержащей шихты, затем обработку различными химическими веществами, обработку ультразвуком, вакуумом, гидродинамическим воздействием и отмыванием продукта водой с добавлением упомянутого стабилизатора [5].The method of obtaining a dispersed system includes annealing in an inert medium of a powder of a diamond-containing mixture, then treatment with various chemicals, treatment with ultrasound, vacuum, hydrodynamic action and washing the product with water with the addition of the mentioned stabilizer [5].

Данное решение [5] принято в качестве прототипаThis decision [5] was taken as a prototype

Известные решения [1, 2, 3,4, 5] имеют ряд недостатков.The known solutions [1, 2, 3,4, 5] have a number of disadvantages.

Недостатки решения [1]:Disadvantages of solution [1]:

1. Способ рассматривает осаждение только двух веществ серебра и модифицированного аммиачной водой детонационного алмаза (МДНА).1. The method considers the deposition of only two substances, silver and detonation diamond modified with ammonia water (MDDA).

2. Способ нанесения и электролит не предусматривают получение многослойного покрытия.2. The method of application and the electrolyte do not provide for obtaining a multilayer coating.

3. Способ получения нанесения и электролит не используют источник ионов других осаждаемых металлов кроме серебра.3. The method of obtaining the deposition and the electrolyte do not use a source of ions of other deposited metals other than silver.

4. Способ получения использует только дисперсные частицы МДНА для электрохимического осаждения серебряного покрытия.4. The method of obtaining uses only dispersed particles of MDND for electrochemical deposition of a silver coating.

5. Осаждение покрытия осуществляется на всю поверхность изделия.5. The deposition of the coating is carried out on the entire surface of the product.

Недостатки решения [2]:Disadvantages of solution [2]:

1. Способ рассматривает осаждение только двух веществ серебра и модифицированного азотной кислотой наноуглерод-алмазного материала (МНУАМ).1. The method considers the deposition of only two substances of silver and modified with nitric acid nanocarbon-diamond material (MNUAM).

4. Способ получения использует только дисперсные частицы МНУАМ для электрохимического осаждения серебряного покрытия.4. The method of obtaining uses only dispersed particles of MNUAM for electrochemical deposition of a silver coating.

Недостатки решения [3]:Disadvantages of solution [3]:

1. Способ получения хром-алмазного покрытия осуществляют только из электролита хромирования.1. The method of obtaining a chromium-diamond coating is carried out only from a chromium plating electrolyte.

2. Способ получения использует только смесь нанодисперсных алмазов детонационного синтеза (ДНА) с размером монокристаллов 2…20 нм и алмазов статического синтеза (АСС) с размером монокристаллов 2…250 нм.2. The production method uses only a mixture of nanodispersed detonation synthesis diamonds (DND) with a single crystal size of 2 ... 20 nm and static synthesis diamonds (АСС) with a single crystal size of 2 ... 250 nm.

3. Способ не использует стабилизатор дисперсной системы для повышения ее агрегативной устойчивости за счет предотвращения слипания частиц ДНА и АСС.3. The method does not use a stabilizer of the dispersed system to increase its aggregate stability by preventing the adhesion of DND and ACC particles.

4. Хром-алмазное покрытие представляет собой только однослойное покрытие в виде металлической пленки, содержащей диспергированные в указанной металлической пленке частицы ДНА и АСС.4. Chromium-diamond coating is only a single-layer coating in the form of a metal film containing particles of DND and ACC dispersed in the specified metal film.

Недостатки решения [4]:Disadvantages of solution [4]:

1. Композиционное металл-алмазное покрытие только во втором слое содержит дисперсные частицы синтетического углеродного алмазосодержащего вещества.1. Composite metal-diamond coating only in the second layer contains dispersed particles of synthetic carbon diamond-containing substances.

2. В качестве дисперсных частиц используют только синтетическое углеродное алмазосодержащее вещество или алмазную шихту.2. Only synthetic carbon diamond-containing substance or diamond charge is used as dispersed particles.

3. Способ получения композиционного металл-алмазного покрытия рассматривает только двухслойную металлическую пленку, при этом первый слой содержит только металлическую пленку осажденного металла, выбранного из определенной группы, и нанесенный на него второй слой из металла указанной группы с диспергированными в нем частицами синтетического углеродного алмазосодержащего вещества.3. The method of obtaining a composite metal-diamond coating considers only a two-layer metal film, while the first layer contains only a metal film of a deposited metal selected from a certain group, and a second layer deposited on it from a metal of the specified group with particles of a synthetic carbon diamond-containing substance dispersed therein ...

4. Способ получения в качестве стабилизатора содержит только неорганические и органические электролиты и не использует широкий класс поверхностно-активных веществ.4. The method of obtaining as a stabilizer contains only inorganic and organic electrolytes and does not use a wide class of surfactants.

5. Алмазосодержащая добавка электролита также качестве стабилизатора содержит только неорганические и органические электролиты и не использует широкий класс поверхностно-активных веществ.5. The diamond-containing electrolyte additive also contains only inorganic and organic electrolytes as a stabilizer and does not use a wide class of surfactants.

6. Осаждение покрытия осуществляется на всю поверхность изделия.6. The deposition of the coating is carried out on the entire surface of the product.

Недостатки решения [5]:Disadvantages of solution [5]:

1. В качестве дисперсных частиц используют только синтетическое углеродное алмазосодержащее вещество или алмазную шихту.1. Only synthetic carbon diamond-containing substance or diamond charge is used as dispersed particles.

2. Способ получения композиционного металл-алмазного покрытия рассматривает только двухслойную металлическую пленку с диспергированными в них частицами синтетического углеродного алмазосодержащего вещества.2. The method of obtaining a composite metal-diamond coating considers only a two-layer metal film with particles of a synthetic carbon diamond-containing substance dispersed therein.

3. Способ получения в качестве стабилизатора не использует широкий класс поверхностно-активных веществ, например, неионогенное ПАВ, катионное ПАВ, амфотерное ПАВ или их смеси.3. The method of obtaining as a stabilizer does not use a wide class of surfactants, for example, nonionic surfactants, cationic surfactants, amphoteric surfactants or mixtures thereof.

4. Композиционное металл-алмазное покрытие и способ его получения не используют в качестве твердой дисперсной фазы диспергированные частицы вещества, например, углерод и его аллотропные формы, силицид, карбид, нитрид, карбонитрид, борид, оксид или их различные сочетания4. Composite metal-diamond coating and the method for its production do not use dispersed particles of a substance as a solid dispersed phase, for example, carbon and its allotropic forms, silicide, carbide, nitride, carbonitride, boride, oxide or their various combinations

5. В дисперсной системе и способе ее получения не используют диспергированные частицы вещества, например, углерод и его аллотропные формы, силицид, карбид, нитрид, карбонитрид, борид, оксид или их различные сочетания.5. The dispersed system and the method for its production do not use dispersed particles of a substance, for example, carbon and its allotropic forms, silicide, carbide, nitride, carbonitride, boride, oxide or their various combinations.

6. В дисперсной системе и способе ее получения не используют в качестве стабилизатора, например, неионогенное ПАВ, катионное ПАВ, амфотерное ПАВ или их смеси.6. In the dispersed system and the method of its production, for example, a nonionic surfactant, a cationic surfactant, an amphoteric surfactant, or mixtures thereof, are not used as a stabilizer.

7. Осаждение покрытия осуществляется на всю поверхность изделия.7. The deposition of the coating is carried out on the entire surface of the product.

Известные указанные выше решения обладают рядом существенных недостатков и не обладают требуемыми в настоящее время эксплуатационно-техническими характеристиками по коррозионной стойкости, твердости, прочности, термостойкости, огнестойкости, жаропрочности, химической стойкости, износостойкости, адгезии к поверхности металлической, полимерной, керамической или композитной основы и нанесенному слою, изменению коэффициента теплопроводности покрытия в зависимости от его назначения, снижению коэффициента трения и повышению качества нанесения покрытия.The known solutions indicated above have a number of significant drawbacks and do not have the currently required operational and technical characteristics in terms of corrosion resistance, hardness, strength, heat resistance, fire resistance, heat resistance, chemical resistance, wear resistance, adhesion to the surface of a metal, polymer, ceramic or composite base, and applied layer, a change in the coefficient of thermal conductivity of the coating depending on its purpose, a decrease in the coefficient of friction and an improvement in the quality of coating.

Задачей предлагаемого изобретения является создание способа получения композиционного металл-дисперсного покрытия, дисперсной системы для осаждения композиционного металл-дисперсного покрытия из раствора или электролита и способа ее получения для достижения более высоких эксплуатационно-технических характеристик за счет повышения коррозионной стойкости, твердости, прочности, термостойкости, огнестойкости, жаропрочности, химической стойкости, износостойкости, адгезии к поверхности металлической, полимерной, керамической или композитной основы и нанесенному слою, изменения коэффициента теплопроводности покрытия в зависимости от его назначения, снижения коэффициента трения и повышения качества нанесения покрытия, использование стабилизирующих веществ в дисперсной системе для повышения ее агрегативной устойчивости за счет предотвращения слипания диспергированных частиц вещества.The objective of the present invention is to create a method for producing a composite metal-dispersed coating, a dispersed system for the deposition of a composite metal-dispersed coating from a solution or electrolyte, and a method for its production to achieve higher performance characteristics by increasing corrosion resistance, hardness, strength, heat resistance, fire resistance, heat resistance, chemical resistance, wear resistance, adhesion to the surface of a metal, polymer, ceramic or composite base and the applied layer, changes in the thermal conductivity of the coating depending on its purpose, reducing the friction coefficient and improving the quality of coating, the use of stabilizing substances in a dispersed system for increasing its aggregate stability by preventing sticking of dispersed particles of the substance.

Решение данной задачи достигается тем, что способ получения композиционного металл-дисперсного покрытия, включающий осаждение металла и твердой дисперсной фазы в виде металлической пленки, отличающийся тем, что на поверхность изделия осаждают, как минимум, один слой, нанесенный на часть поверхности изделия, или слой в виде геометрических фигур, полос или сетки, посредством химического или электрохимического осаждения из раствора или электролита соответственно, содержащего источник ионов осаждаемого вещества, выбранный из группы, содержащей железо, никель, хром, цинк, свинец, олово, сурьма, кадмий, титан, вольфрам, висмут, ниобий, цирконий, гафний, иттрий, ванадий, молибден, бериллий, марганец, магний, кобальт, медь, золото, серебро, платина, палладий, родий, фосфор, бор или их различные сочетания и дисперсную систему, состоящую из смеси: жидкой дисперсной среды, твердой дисперсной фазы и стабилизатора, причем в качестве дисперсной среды используют воду, в качестве твердой дисперсной фазы используют смесь, как минимум двух веществ, в виде диспергированных частиц, выбранных из группы, содержащей углерод, силицид, карбид, нитрид, карбонитрид, борид, оксид или их сочетание, при этом углерод выбирают из группы, содержащей графит, пирографит, восстановленный оксид графена, алмаз, синтетические углеродное алмазосодержащее вещество, графен, лонсдейлит, фуллерен, астрален, карбин, углеродные нанотрубки или их сочетание, силицид выбирают из группы, содержащей силицид марганца, силицид хрома, силицид железа, силицид магния, силицид цинка, дисилицид молибдена, дисилицид вольфрама, дисилицид титана, дисилицид тантала или их сочетание, карбид выбирают из группы, содержащей карбид титана, карбид кремния, карбид бора, карбид циркония, карбид гафния, карбид ниобия, карбид ванадия, карбид хрома, карбид никеля, карбид тантала, карбид вольфрама, карбид молибдена, карбид тантала-гафния или их сочетание, нитрид выбирают из группы, содержащей нитрид титана, нитрид бора, нитрид кремния, нитрид ванадия, нитрид ниобия, нитрид тантала, нитрид углерода-бора, нитрид циркония или их сочетание, карбонитрид выбирают из группы, содержащей карбонитрид гафния, карбонитрид титана, карбонитрид циркония и их сочетание, борид выбирают из группы, содержащей диборид тантала, диборид вольфрама, диборид бериллия, диборид магния, диборид ванадия, диборид молибдена, диборид титана, диборид циркония, диборид хрома, диборид гафния, диборид ниобия и их сочетание, оксид выбирают из группы, содержащей диоксид кремния, диоксид циркония, диоксид титана, оксид графена, оксид бора, оксид алюминия, оксид железа, оксид хрома, оксид никеля, оксид цинка, оксид кобальта, оксид иттрия, оксид неодима, оксид ниобия, оксид тербия, оксид висмута, оксид кадмия, оксид магния, оксид марганца, оксид молибдена, оксид бериллия, оксид вольфрама или сочетание веществ из указанных групп, а стабилизатор вводят в дисперсную систему в количестве 0,01-12 г/л дисперсной системы и выбирают из группы, содержащей низкомолекулярный электролит, коллоидное поверхностно-активное вещество или их сочетание, затем, при необходимости, осаждают как минимум один следующий слой посредством химического или электрохимического осаждения из раствора или электролита соответственно, содержащего источник ионов осаждаемого вещества, выбранный из указанной группы и указанную дисперсную систему, причем при осаждении из раствора или электролита концентрация указанных диспергированных частиц вещества в дисперсной системе составляет от 0,05 до 30 г/л, а размер частиц составляет от 1 до 300 нм, при этом до и после осаждения каждого из слоев производят обработку поверхности промывкой водой, сушкой, обработкой химическими веществами путем обезжиривания, травления, анодного декапирования, сенсибилизации, активирования или несколькими из них, механической обработкой, термической обработкой или несколькими из них.The solution to this problem is achieved by the fact that the method of obtaining a composite metal-dispersed coating, including the deposition of a metal and a solid dispersed phase in the form of a metal film, characterized in that at least one layer deposited on a part of the surface of the product, or a layer in the form of geometric shapes, stripes or a grid, by means of chemical or electrochemical deposition from a solution or electrolyte, respectively, containing a source of ions of the deposited substance selected from the group containing iron, nickel, chromium, zinc, lead, tin, antimony, cadmium, titanium, tungsten , bismuth, niobium, zirconium, hafnium, yttrium, vanadium, molybdenum, beryllium, manganese, magnesium, cobalt, copper, gold, silver, platinum, palladium, rhodium, phosphorus, boron or their various combinations and a dispersed system consisting of a mixture: a liquid dispersed medium, a solid dispersed phase and a stabilizer, and water is used as a dispersed medium, as a solid dispersed phase z use a mixture of at least two substances in the form of dispersed particles selected from the group containing carbon, silicide, carbide, nitride, carbonitride, boride, oxide or a combination thereof, while the carbon is selected from the group containing graphite, pyrographite, reduced oxide graphene, diamond, synthetic carbon diamond-containing substance, graphene, lonsdaleite, fullerene, astralen, carbyne, carbon nanotubes or a combination thereof, silicide selected from the group containing manganese silicide, chromium silicide, iron silicide, magnesium silicide, zinc silicide, molybdenum disilicide, disilicide tungsten, titanium disilicide, tantalum disilicide, or a combination thereof, the carbide is selected from the group consisting of titanium carbide, silicon carbide, boron carbide, zirconium carbide, hafnium carbide, niobium carbide, vanadium carbide, chromium carbide, nickel carbide, tantalum carbide, tungsten carbide, molybdenum carbide, tantalum-hafnium carbide, or a combination thereof, the nitride is selected from the group consisting of titanium nitride, boron nitride, silicon nitride, nor vanadium tride, niobium nitride, tantalum nitride, carbon-boron nitride, zirconium nitride or a combination thereof, carbonitride is selected from the group containing hafnium carbonitride, titanium carbonitride, zirconium carbonitride and their combination, boride is selected from the group containing tantalum diboride, tungsten diboride, beryllium diboride, magnesium diboride, vanadium diboride, molybdenum diboride, titanium diboride, zirconium diboride, chromium diboride, hafnium diboride, niobium diboride and a combination thereof, the oxide is selected from the group containing silicon dioxide, zirconium dioxide, oxide, graphene dioxide , aluminum oxide, iron oxide, chromium oxide, nickel oxide, zinc oxide, cobalt oxide, yttrium oxide, neodymium oxide, niobium oxide, terbium oxide, bismuth oxide, cadmium oxide, magnesium oxide, manganese oxide, molybdenum oxide, beryllium oxide, oxide tungsten or a combination of substances from these groups, and the stabilizer is introduced into the dispersed system in an amount of 0.01-12 g / l of the dispersed system and is selected from the group containing low molecular weight bright electrolyte, colloidal surfactant or their combination, then, if necessary, deposited at least one next layer by means of chemical or electrochemical deposition from a solution or electrolyte, respectively, containing a source of ions of the deposited substance selected from the specified group and the specified dispersed system, and during deposition from a solution or electrolyte, the concentration of the said dispersed particles of the substance in the dispersed system is from 0.05 to 30 g / l, and the particle size is from 1 to 300 nm, while before and after the deposition of each of the layers, the surface is treated by washing with water, drying, treatment with chemicals by degreasing, etching, anodic pickling, sensitization, activation or several of them, mechanical treatment, heat treatment or several of them.

На Фиг. 1 представлено композиционное металл-дисперсное покрытие (КМДП) в виде части поверхности изделия.FIG. 1 shows a composite metal-dispersed coating (CMDP) in the form of a part of the surface of the product.

На Фиг. 2 представлено КМДП в виде геометрических фигур на поверхности изделия.FIG. 2 shows the CMDP in the form of geometric shapes on the surface of the product.

На Фиг. 3 представлено КМДП в виде полос на поверхности изделия.FIG. 3 shows the CMDP in the form of stripes on the surface of the product.

На Фиг. 4 представлено КМДП в виде сетки на поверхности изделия.FIG. 4 shows the CMDP in the form of a mesh on the surface of the product.

Подобный подход позволяет значительно сократить площадь поверхности нанесения КМДП на изделие, не снижая эксплуатационно-технических характеристик самого изделия.This approach makes it possible to significantly reduce the surface area of the application of CMDP on the product, without reducing the operational and technical characteristics of the product itself.

Например, для железнодорожного транспорта, можно наносить КМДП только на контактную поверхность рельса и колесной пары в виде части поверхности или в виде геометрических фигур.For example, for railway transport, it is possible to apply CMDP only on the contact surface of the rail and wheelset as a part of the surface or in the form of geometric shapes.

Например, для автомобильного транспорта, можно наносить КМДП на поверхность шеек коленчатого вала или гильзы блока цилиндров двигателей внутреннего сгорания в виде полос или сеток.For example, for road transport, CMDP can be applied to the surface of the crankshaft journals or cylinder liners of internal combustion engines in the form of strips or meshes.

Например, для деталей машин и механизмов, можно наносить КМДП на поверхность деталей в местах трения или местах максимальных динамических нагрузок в виде части поверхности, геометрических фигур, полос, сеток.For example, for parts of machines and mechanisms, it is possible to apply CMDP on the surface of parts in places of friction or places of maximum dynamic loads in the form of a part of the surface, geometric shapes, stripes, meshes.

Химическое осаждение покрытия осуществляют методом вытеснения, методом гальванической пары, методом химического восстановления или сочетанием методов.Chemical deposition of the coating is carried out by the displacement method, the galvanic pair method, the chemical reduction method, or a combination of methods.

Метод вытеснения основан на вытеснении ионов металла из раствора более активным металлом, например, осаждение меди на железную пластинку, помещенную в раствор сульфата меди.The displacement method is based on the displacement of metal ions from a solution by a more active metal, for example, the deposition of copper on an iron plate placed in a solution of copper sulfate.

Метод гальванической пары основан на создании гальванической пары между металлом основы и более активным металлом, например, при осаждении серебра на медную пластинку создают гальваническую пару с помощью более активного металла алюминия и магния. В этом случае более активный металл отдает свои электроны меди и на отрицательно заряженной медной поверхности ионы Ag⁺ восстанавливаются до металла.The galvanic pair method is based on the creation of a galvanic pair between the base metal and a more active metal, for example, when silver is deposited on a copper plate, a galvanic pair is created using the more active metal aluminum and magnesium. In this case, the more active metal donates its electrons to copper, and on a negatively charged copper surface, Ag ⁺ ions are reduced to metal.

Метод химического восстановления заключается в том, что металлические покрытия получают в результате восстановления ионов металла из водных растворов, содержащих восстановитель. В настоящее время существуют способы получения покрытий методом химического восстановления более чем для 20 различных металлов. В основе метода химического восстановления лежит реакция взаимодействия ионов металла с растворенным восстановителем на поверхности металла. Окисление восстановителя и восстановление ионов металла протекают с заметной скоростью на металлах, проявляющих автокаталитические свойства, то есть металл, образовавшийся в результате химического восстановления из раствора, катализирует в дальнейшем реакцию окисления восстановителя. Автокаталитическими свойствами обладают: никель, железо, медь, серебро, золото, палладий, платина. Существует общеизвестный ряд активности металлов в окислительно-восстановительных реакциях в водных растворах Li-Rb-K-Ba-Sr-Ca-Na-Mg-Al-Mn-Cr-Zn-Fe-Cd-Co-Ni-Sn-Pb-H-Sb-Bi-Cu-Hg-Ag-Pd-Pt-Au. В данном ряду слева-направо происходит ослабление восстановительной способности металлов, а справа-налево происходит ослабление окислительной способности катионов металлов в водном растворе. Для химического или электрохимического осаждения используют водный раствор и электролит, содержащий вещества, выбранные из группы, содержащей неорганическую соль в виде сульфата, хлорида или цианида, неорганическое цианистое комплексное соединение, неорганическую или органическую кислоту, и, при необходимости, дополнительные ингредиенты, выбранные из группы, содержащей хромовый ангидрид, дихромат калия, дихромат натрия, дихромат аммония, бисульфат натрия, углекислый натрий, сернокислый натрий, гидроксид натрия, аммиак, гидроксид аммония, гидразин, сульфат гидразина, хлорид гидразиния, гидрокарбонат аммония, гипопосфит натрия, гипопосфит кальция, борогидрид, боразол, гидразинборан, а также ионы металлов в низшей степени окисления Fe²⁺, Sn²⁺, Ti³⁺, Cr²⁺, Mn²⁺, Ce²⁺, Cu⁺, титанат натрия, нитрат аммония, нитрат натрия, ацетат натрия, ацетат аммония, ацетат хрома, ацетат никеля, фторид хрома, фосфинат аммония, цитрат магния, цитрат натрия, сахарин, фтористый хромил, тиомочевину, сегнетову соль, гликоль, клей глютиновый, динатриевую соль этилендиаминтетрауксусной кислоты, фталимид, фторид натрия, ванадиевую кислоту, берилливую кислоту, висмутовую кислоту, молибденовую кислоту фенолфталеин, бутандиол, трихлорэтиламид, лаурилсульфат натрия, монофосфат цинка, нитрат цинка или их сочетание, сульфаты выбирают из группы, содержащей сульфат натрия, сульфат цинка, сульфат меди, сульфат никеля, сульфат железа, сульфат хрома, сульфат марганца, сульфат магния, сульфат аммония, сульфат свинца (II, IV), дисульфид вольфрама, сульфат висмута (III), сульфат кобальта (II, III), сульфат сурьмы, сульфат титана (II, III, IV), сульфат ванадия (II, III), сульфат бериллия, сульфат родия (III), сульфат олова (II, IV), сульфат циркония (IV), триоксид-дисульфат диниобия, сульфат гафния, сульфат иттрия или их смесь, хлориды выбирают из группы, содержащей хлорид натрия, хлорид аммония, хлорид железа, хлорид никеля, хлорид хрома (II, III, IV), хлорид цинка, хлорид сурьмы (III, V), хлорид свинца (II, IV), хлорид вольфрама (II, III, IV, V, VI), хлорид висмута (I, II, III, IV), хлорид кобальта (II, III), хлорид магния (II), хлорид кадмия (II), хлорид марганца (II, IV), хлорид меди (I, II), хлорид золота (I, II, III), хлорид серебра, хлорид платины (II, IV), хлорид палладия, хлорид родия (III), хлорид ванадия (III), хлорид молибдена (II, III, IV), хлорид бериллия, хлорид олова (II, IV), хлорид ниобия (III, IV, V), хлорид циркония (II, III, IV), хлорид иттрия или их смесь, цианиды выбирают из группы, содержащей цианид натрия, цианид калия и цианид меди, неорганическое цианистое соединение выбирают из группы, содержащей дицианоаргентат калия и дицианоурат калия, в качестве неорганической или органической кислоты используют: серную кислоту, соляную кислоту, хромовую кислоту, борную кислоту, фтороводородную кислоту, цианистоводородную кислоту, угольную кислоту, азотистую кислоту, сероводородную кислоту, хлорноватистую кислоту, фосфорноватистую кислоту, ортофосфорную кислоту, акриловую кислоту, метакриловую кислоту, лимонную кислоту, щавелевую кислоту, уксусную кислоту, муравьиную кислоту или их смесь. Неорганические и органические кислоты добавляются в раствор и электролит для выбора и корректировки оптимального значения водородного показателя рН являющегося мерой активности ионов водорода в электролите, количественно выражающих их кислотность. Как уже отмечалось выше дисперсная система состоит из смеси: жидкой дисперсной среды, твердой дисперсной фазы и стабилизатора, причем в качестве дисперсной среды используют воду, в качестве твердой дисперсной фазы смесь, как минимум двух веществ, в виде диспергированных частиц выбранных из указанной группы, в качестве стабилизатора используют вещество, выбранное из группы: низкомолекулярный электролит, коллоидное поверхностно-активное вещество (ПАВ) или их сочетание. Стабилизатор, это вещество, добавление которого в дисперсную систему повышает ее агрегативную устойчивость, то есть препятствует слипанию дисперсных частиц из указанной группы, обеспечивает равномерное коллоидальное распределение твердой дисперсной фазы в жидкой дисперсной среде, предотвращает оседание дисперсных частиц из указанной группы, что приводит к упрощению технологии и повышению качества нанесения покрытия.The method of chemical reduction consists in the fact that metal coatings are obtained as a result of the reduction of metal ions from aqueous solutions containing a reducing agent. Currently, there are methods for producing coatings by chemical reduction for more than 20 different metals. The method of chemical reduction is based on the reaction of interaction of metal ions with a dissolved reducing agent on the metal surface. The oxidation of the reducing agent and the reduction of metal ions proceed at a noticeable rate on metals exhibiting autocatalytic properties, that is, the metal formed as a result of chemical reduction from solution further catalyzes the oxidation reaction of the reducing agent. Autocatalytic properties are possessed by: nickel, iron, copper, silver, gold, palladium, platinum. There is a well-known series of activity of metals in redox reactions in aqueous solutions Li-Rb-K-Ba-Sr-Ca-Na-Mg-Al-Mn-Cr-Zn-Fe-Cd-Co-Ni-Sn-Pb-H -Sb-Bi-Cu-Hg-Ag-Pd-Pt-Au. In this row, from left to right, the reducing ability of metals decreases, and from right to left, the oxidizing ability of metal cations in an aqueous solution decreases. For chemical or electrochemical deposition, an aqueous solution and an electrolyte are used containing substances selected from the group containing an inorganic salt in the form of sulfate, chloride or cyanide, an inorganic cyanide complex compound, an inorganic or organic acid, and, if necessary, additional ingredients selected from the group containing chromic anhydride, potassium dichromate, sodium dichromate, ammonium dichromate, sodium bisulfate, sodium carbonate, sodium sulfate, sodium hydroxide, ammonia, ammonium hydroxide, hydrazine, hydrazine sulfate, hydrazinium chloride, ammonium bicarbonate, sodium hypophosphite, calcium boron phosphite borazole, hydrazineborane, as well as metal ions in the lowest oxidation state Fe ²⁺ , Sn ²⁺ , Ti ³⁺ , Cr ²⁺ , Mn ²⁺ , Ce ²⁺ , Cu ⁺ , sodium titanate, ammonium nitrate, sodium nitrate, sodium acetate , ammonium acetate, chromium acetate, nickel acetate, chromium fluoride, ammonium phosphinate, magnesium citrate, sodium citrate, saccharin, chromyl fluoride, thiourea y, Rochelle salt, glycol, glutinic glue, disodium salt of ethylenediaminetetraacetic acid, phthalimide, sodium fluoride, vanadic acid, beryllic acid, bismuth acid, molybdic acid phenolphthalein, butanediol, trichloroethylamide or sodium cytophthalate, cystic lauryl selected from the group containing sodium sulfate, zinc sulfate, copper sulfate, nickel sulfate, iron sulfate, chromium sulfate, manganese sulfate, magnesium sulfate, ammonium sulfate, lead (II, IV) sulfate, tungsten disulfide, bismuth (III) sulfate, sulfate cobalt (II, III), antimony sulfate, titanium sulfate (II, III, IV), vanadium sulfate (II, III), beryllium sulfate, rhodium (III) sulfate, tin sulfate (II, IV), zirconium sulfate (IV) , diniobium trioxide disulfate, hafnium sulfate, yttrium sulfate or their mixture, chlorides are selected from the group containing sodium chloride, ammonium chloride, ferric chloride, nickel chloride, chromium (II, III, IV) chloride, zinc chloride, antimony chloride (III , V), chlorine e lead (II, IV), tungsten chloride (II, III, IV, V, VI), bismuth chloride (I, II, III, IV), cobalt chloride (II, III), magnesium chloride (II), cadmium chloride (II), manganese chloride (II, IV), copper chloride (I, II), gold chloride (I, II, III), silver chloride, platinum chloride (II, IV), palladium chloride, rhodium (III) chloride, vanadium (III) chloride, molybdenum chloride (II, III, IV), beryllium chloride, tin chloride (II, IV), niobium chloride (III, IV, V), zirconium chloride (II, III, IV), yttrium chloride or their mixture, cyanides are selected from the group containing sodium cyanide, potassium cyanide and copper cyanide, the inorganic cyanide compound is selected from the group containing potassium dicyanoargentate and potassium dicyanourate, sulfuric acid, hydrochloric acid, chromic acid, boric acid are used as inorganic or organic acids: acid, hydrofluoric acid, hydrocyanic acid, carbonic acid, nitrous acid, hydrosulfuric acid, hypochlorous acid, hypophosphorous acid, phosphoric acid, acrylic acid, methacrylic acid, citric acid, oxalic acid, acetic acid, formic acid, or a mixture thereof. Inorganic and organic acids are added to the solution and electrolyte to select and adjust the optimal pH value, which is a measure of the activity of hydrogen ions in the electrolyte, quantitatively expressing their acidity. As noted above, a dispersed system consists of a mixture: a liquid dispersed medium, a solid dispersed phase and a stabilizer, and water is used as a dispersed medium, a mixture of at least two substances in the form of dispersed particles selected from this group is used as a solid dispersed phase. a substance selected from the group: low molecular weight electrolyte, colloidal surfactant (surfactant) or a combination thereof is used as a stabilizer. A stabilizer is a substance, the addition of which to a dispersed system increases its aggregate stability, that is, prevents sticking of dispersed particles from this group, ensures uniform colloidal distribution of a solid dispersed phase in a liquid dispersed medium, prevents sedimentation of dispersed particles from this group, which leads to a simplification of the technology and improving the quality of the coating.

Низкомолекулярный электролит может быть выбран из группы: неорганический электролит, органический электролит, при этом в качестве неорганического электролита выбирают кислоты из группы, содержащей серную кислоту, соляную кислоту, борную кислоту, фтороводородную кислоту, ортофосфорную кислоту, хромовую кислоту, цианистоводородную кислоту, угольную кислоту, азотистую кислоту, сероводородную кислоту или их смесь, или из группы гидроксидов, содержащей гидроксид натрия, гидроксид калия, гмдроксид аммония или их смесь, органические электролиты выбирают из группы кислот, содержащей уксусную кислоту, муравьиную кислоту, лимонную кислоту, щавелевую кислоту, акриловую кислоту, метакриловую кислоту или их смесь, при этом коллоидное ПАВ выбирают из группы, содержащей неионогенное ПАВ и ионогенное ПАВ, при этом ионогенное ПАВ выбирают из группы, содержащей анионное ПАВ, катионное ПАВ, амфотерное ПАВ, в качестве неионогенного ПАВ выбирают вещество из группы, содержащей этоксилаты спиртов, алканоламиды жирных кислот, глицирил лаурат, оксиэтилированные спирты, оксиэтилированные алкилфенолы, моноалкиловые эфиры полиэтиленгликоля или их смесь, в качестве анионного ПАВ выбирают вещество из группы, содержащей капринат натрия, додеканоат натрия, миристинат натрия, олеат натрия, олеат калия стеарат калия, лаурилсульфат натрия, лаурилсульфат калия, тетрадецилсульфат натрия, 4-додецилбензосульфонат или их смесь, в качестве катионного ПАВ выбирают вещество из группы, содержащей диоктадецилдиметиламмоний хлорид, триметилкокоаммоний хлорид, олеилтриметиламмоний хлорид, диметилкокобензиламмоний хлорид, алкилтриметиламмоний хлорид, диметилдодецилбензиламмоний хлорид или их смесь, в качестве амфотерного ПАВ выбирают вещество из группы, содержащей кокамидопропилбетаин, амидобетаин, алкилдиметилкарбоксибетаин, алкилсульфобетаин или сочетания веществ из указанных групп.Low molecular weight electrolyte can be selected from the group: inorganic electrolyte, organic electrolyte, while the inorganic electrolyte is selected from the group containing sulfuric acid, hydrochloric acid, boric acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid, chromic acid, hydrocyanic acid, carbonic acid, nitrous acid, hydrosulfuric acid or a mixture thereof, or from the group of hydroxides containing sodium hydroxide, potassium hydroxide, gm ammonium hydroxide or a mixture thereof, organic electrolytes are selected from the group of acids containing acetic acid, formic acid, citric acid, oxalic acid, acrylic acid, methacrylic acid or a mixture thereof, while the colloidal surfactant is selected from the group containing a nonionic surfactant and an ionic surfactant, while the ionic surfactant is selected from the group containing an anionic surfactant, a cationic surfactant, an amphoteric surfactant, as a nonionic surfactant, a substance is selected from the group containing ethoxylates alcohols, alkanols fatty acid gases, glycyryl laurate, oxyethylated alcohols, oxyethylated alkylphenols, monoalkyl ethers of polyethylene glycol or a mixture thereof, as an anionic surfactant, choose a substance from the group containing sodium caprate, sodium dodecanoate, sodium myristinate, sodium oleate, potassium oleate, sodium stearate potassium lauryl sulfate, sodium tetradecyl sulfate, 4-dodecylbenzenesulfonate, or a mixture thereof; as a cationic surfactant, choose a substance from the group containing dioctadecyldimethylammonium chloride, trimethylcocoammonium chloride, oleyltrimethylammonium chloride, dimethylcobenzylammonium chloride, dimethylcobenzylammonium chloride from the group containing cocamidopropyl betaine, amidobetaine, alkyldimethylcarboxybetaine, alkylsulfobetaine, or combinations of substances from these groups.

Анионные ПАВ диссоциируют (распадаются) в воде с образованием поверхностно-активного аниона.Anionic surfactants dissociate (decompose) in water to form a surface-active anion.

Катионные ПАВ диссоциируют в воде с образованием поверхностно-активного катиона.Cationic surfactants dissociate in water to form a surface-active cation.

Амфотерные (амфолитные) ПАВ содержат две функциональные группы, одна из которых имеет кислый характер, а другая основной. В зависимости от среды диссоциирует как кислота и как основание.Amphoteric (ampholytic) surfactants contain two functional groups, one of which is acidic and the other basic. Depending on the medium, it dissociates as an acid and as a base.

Неионогенные ПАВ в растворах не распадаются (не диссоциируют) на ионы.Nonionic surfactants in solutions do not decompose (do not dissociate) into ions.

Смесь анионного ПАВ и неионогенного ПАВ обладает синергетическим эффектом стабилизирующего действия. Механизм обусловлен образованием смешанного адсорбционного слоя, в результате чего увеличивается вклад адсорбционной и структурной составляющих факторов устойчивости структурно-механического барьераA mixture of anionic surfactant and nonionic surfactant has a synergistic stabilizing effect. The mechanism is due to the formation of a mixed adsorption layer, as a result of which the contribution of the adsorption and structural components of the stability factors of the structural and mechanical barrier increases.

В случае, когда стабилизатор является ионогенным веществом, т.е. распадается в растворе на ионы, то обязательно действует электростатический фактор устойчивости. На поверхности диспергированных частиц вещества образуется двойной электрический слой, возникает электрокинетический потенциал и соответствующие электростатические силы отталкивания, которые и препятствуют слипанию частиц. Стабилизирующее действие неорганических и органических электролитов ограничивается только электростатическим фактором устойчивости.In the case where the stabilizer is an ionic substance, i.e. decomposes into ions in solution, then the electrostatic stability factor necessarily acts. On the surface of dispersed particles of a substance, a double electric layer is formed, an electrokinetic potential and corresponding electrostatic repulsive forces arise, which prevent the particles from sticking together. The stabilizing effect of inorganic and organic electrolytes is limited only by the electrostatic stability factor.

Стабилизирующее действие коллоидных ПАВ определяется их способностью адсорбироваться на межфазной поверхности, образуя адсорбционную оболочку. ПАВ адсорбируясь на поверхности частиц, снижает поверхностную энергию, а длинноцепочные углеводородные радикалы, образуя структуру в адсорбционном слое, придают упругость и прочность защитной адсорбционно-сольватной оболочке с уменьшением поверхностного натяжения на границе частица-среда. Коллоидное ПАВ, имея дифильное строение, способно адсорбироваться как на полярных, так и на неполярных поверхностях, лиофилизируя их. В соответствии с правилом выравнивания полярностей Ребиндера стабилизирующее действие ПАВ тем существеннее, чем больше начальная разница в полярностях твердой частицы и жидкой дисперсионной среды. Поэтому, при использовании в качестве стабилизатора коллоидного ПАВ реализуется адсорбционно-сольватный фактор устойчивости.The stabilizing effect of colloidal surfactants is determined by their ability to adsorb on the interface, forming an adsorption shell. The surfactant adsorbed on the surface of particles reduces the surface energy, and long-chain hydrocarbon radicals, forming a structure in the adsorption layer, impart elasticity and strength to the protective adsorption-solvation shell with a decrease in surface tension at the particle-medium interface. Colloidal surfactant, having an amphiphilic structure, is capable of adsorbing both on polar and non-polar surfaces, lyophilizing them. In accordance with the Rebinder polarity equalization rule, the stabilizing effect of surfactants is the more significant, the greater the initial difference in the polarities of a solid particle and a liquid dispersion medium. Therefore, when a colloidal surfactant is used as a stabilizer, the adsorption-solvation factor of stability is realized.

Например, чтобы получить дисперсную систему частиц из указанной группы в воде может быть использован лаурилсульфат калия, который неполярным углеводородным радикалом адсорбируется на диспергированных частицах вещества, а полярная группа, направленная в сторону воды, ею гидратируется и тем самым поверхность диспергированной частицы вещества становится смачиваемой водой, то есть гидрофилизируется и дисперсная система стабилизируется. Подбор ПАВ для стабилизации дисперсных систем осуществляется на основе гидрофильно-липофильного баланса (ГЛБ). ГЛБ является числовой мерой того, в какой степени вещество является гидрофильным либо липофильным. Вещества с ГЛБ меньше 10 являются жирорастворимыми, а вещества с ГЛБ больше 10 являются водорастворимыми.For example, to obtain a dispersed system of particles from this group in water, potassium lauryl sulfate can be used, which is adsorbed by a non-polar hydrocarbon radical on the dispersed particles of the substance, and the polar group directed towards the water is hydrated by it, and thus the surface of the dispersed particle of the substance becomes wettable with water, that is, it is hydrophilized and the dispersed system is stabilized. The selection of surfactants to stabilize dispersed systems is based on the hydrophilic-lipophilic balance (HLB). HLB is a numerical measure of the degree to which a substance is hydrophilic or lipophilic. Substances with an HLB less than 10 are fat-soluble, and substances with an HLB greater than 10 are water-soluble.

Например, если необходимо стабилизировать дисперсную систему полярных частиц в неполярной жидкости, то используют коллоидное ПАВ с низким значением ГЛБ, обычно 3-6, т.е. мало растворимые в воде.For example, if it is necessary to stabilize a dispersed system of polar particles in a non-polar liquid, then a colloidal surfactant with a low HLB value is used, usually 3-6, i.e. slightly soluble in water.

Например, если необходимо стабилизировать дисперсную систему неполярных частиц в полярной жидкости, то используют коллоидные ПАВ с высокими значениями ГЛБ, обычно 8-13, т.е. достаточно хорошо растворимыми в воде.For example, if it is necessary to stabilize a dispersed system of non-polar particles in a polar liquid, then colloidal surfactants with high HLB values are used, usually 8-13, i.e. fairly well soluble in water.

Следует отметить, что максимум стабилизирующих свойств наблюдается у ПАВ с 14-16 атомами углерода (максимум Донана).It should be noted that the maximum stabilizing properties is observed for surfactants with 14-16 carbon atoms (Donan maximum).

Стабилизатор вводят в дисперсную систему в количестве 0,01-12 г/л дисперсной системы.The stabilizer is introduced into the dispersed system in the amount of 0.01-12 g / l of the dispersed system.

В качестве обработки химическими веществами осуществляют обезжиривание, травление, анодное декапирование, сенсибилизацию, активирование или несколькими из них.As a treatment with chemicals, degreasing, etching, anodic pickling, sensitization, activation, or several of them are carried out.

Обезжиривание электрохимическое или химическое осуществляют веществами, выбранными из группы, содержащей водный раствор гидроксида натрия, гидроксида калия или солей щелочных металлов, органические растворители, поверхностно-активные вещества, электролиты электрохимического обезжиривания.Electrochemical or chemical degreasing is carried out with substances selected from the group containing an aqueous solution of sodium hydroxide, potassium hydroxide or alkali metal salts, organic solvents, surfactants, electrolytes for electrochemical degreasing.

В качестве органических растворителей могут быть используют уайт-спирит, нефрас, бензол, толуол, трихлорэтилен, тетрахлорэтилен, фреон-113.White spirit, nefras, benzene, toluene, trichlorethylene, tetrachlorethylene, freon-113 can be used as organic solvents.

В качестве поверхностно-активных веществ (ПАВ) для обезжиривания используют полезны алкилсульфанат, сульфанол, синтанол, синтамид.Alkyl sulfonate, sulfanol, sintanol, syntamide are useful as surfactants (surfactants) for degreasing.

Например, электрохимическое обезжиривание осуществляют в растворе состава, г/л: тринатрийфосфат - 40-50, гидроксид натрия - 20-40, сода кальцинированная - 10-50, сульфанол - 5-8, стекло жидкое натриевое - 3-5, при температуре 30-80°С и плотности тока 2-10 А/дм² с обработкой на катоде 0,5-10 минут и обработкой на аноде 0,5-3 минуты, или обезжиривание без тока в течение 15-20 минут.For example, electrochemical degreasing is carried out in a solution of the composition, g / l: trisodium phosphate - 40-50, sodium hydroxide - 20-40, soda ash - 10-50, sulfanol - 5-8, liquid sodium glass - 3-5, at a temperature of 30 -80 ° C and a current density of 2-10 A / dm ² with processing at the cathode for 0.5-10 minutes and processing at the anode for 0.5-3 minutes, or degreasing without current for 15-20 minutes.

Например, обезжиривание холодное в растворе состава, г/л: гидроксид натрия - 20-20, гидроксид калия - 20-25, композиция NA-50 - 12-18, NA-51 - 10-15, диоктадецилдиметиламмоний хлорид - 3-5, при катодной плотности тока 3-4 А/дм² и анодной плотности тока 2-3 А/дм². Обработка на катоде 5-10 минут, на аноде 2-3 минуты.For example, cold degreasing in a solution of the composition, g / l: sodium hydroxide - 20-20, potassium hydroxide - 20-25, composition NA-50 - 12-18, NA-51 - 10-15, dioctadecyldimethylammonium chloride - 3-5, at a cathode current density of 3-4 A / dm ² and an anode current density of 2-3 A / dm ² . Treatment on the cathode 5-10 minutes, on the anode 2-3 minutes.

Травление осуществляют водными растворами серной кислоты, соляной кислоты, фосфорной кислоты, азотной кислоты, фтороводородной кислоты или их смесь, а также электролитами электрохимического травления, например, в растворе соляной кислоты 100-200 г/л в течение 1-5 минут.Etching is carried out with aqueous solutions of sulfuric acid, hydrochloric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrofluoric acid or a mixture thereof, as well as with electrochemical etching electrolytes, for example, in a solution of hydrochloric acid 100-200 g / l for 1-5 minutes.

Анодное декапирование осуществляют в электролите, содержащем источник ионов осаждаемого металла, или электролите декапирования.Anodic pickling is carried out in an electrolyte containing a source of ions of the deposited metal, or pickling electrolyte.

Декапирование (активация) представляет собой удаление тончайших окисных пленок с обрабатываемой поверхности изделия, которые образуются во время обезжиривания и промывки, а также обнажение структуры металла. Для декапирования могут быть полезны серная кислота, соляная кислота, цианид калия, цианид натрия.Dekapirovanie (activation) is the removal of the thinnest oxide films from the treated surface of the product, which are formed during degreasing and rinsing, as well as exposure of the metal structure. Sulfuric acid, hydrochloric acid, potassium cyanide, sodium cyanide can be useful for pickling.

Например, при хромировании обработку ведут в основном электролите в течение 0,5-1 минуту с силой тока 300-370 А, плотность тока 20-25 А/дм², или химическом растворе г/л: фтороводородная кислота (40%) - 15-20, азотная кислота (65%) - 40-50, вода - 25-30, при температуре 18-25°С в течение 1,5-2,0 минут.For example, when chrome plating, processing is carried out in the main electrolyte for 0.5-1 minute with a current strength of 300-370 A, a current density of 20-25 A / dm ² , or in a chemical solution g / l: hydrofluoric acid (40%) - 15 -20, nitric acid (65%) - 40-50, water - 25-30, at a temperature of 18-25 ° C for 1.5-2.0 minutes.

При осаждении никеля и железа декапирование проводят электролитах декапирования.When depositing nickel and iron, pickling is carried out with pickling electrolytes.

Например, состав для никелевого декапирования, г\л: сернокислый никель - 250-300, хлористый натрий - 10-20, хромовый ангидрид - 0,01-0,1, хлористый или сернокислый цинк - 10-20.For example, the composition for nickel pickling, g / l: nickel sulfate - 250-300, sodium chloride - 10-20, chromic anhydride - 0.01-0.1, chloride or zinc sulfate - 10-20.

Металлы: медь, вольфрам, титан, а также неметаллические материалы не являются катализаторами реакции окисления восстановителя, поэтому для придания каталитических свойств поверхности изделия ее подвергают обработке, включающей две последовательные стадии сенсибилизацию и активирование.Metals: copper, tungsten, titanium, as well as non-metallic materials are not catalysts for the oxidation reaction of the reducing agent; therefore, in order to impart catalytic properties to the surface of the product, it is subjected to processing, including two successive stages of sensitization and activation.

Сенсибилизацию (повышение чувствительности) осуществляют растворами солей металлов, выбранных из группы: Sn²⁺, Fe²⁺, Ti³⁺, Ge²⁺, в качестве растворителя используют воду, кислоту, этанол или их смеси. Эффективный способ сенсибилизации заключается в обработке поверхности изделия раствором хлорида олова или хлоридом железа.Sensitization (sensitization) is carried out with solutions of metal salts selected from the group: Sn ²⁺ , Fe ²⁺ , Ti ³⁺ , Ge ²⁺ , water, acid, ethanol or their mixtures are used as a solvent. An effective method of sensitization is to treat the surface of the product with a solution of tin chloride or ferric chloride.

Например, сенсибилизацию осуществляют из раствора состава: хлорид олова - 50 г/л, соляная кислота - 10 мл/л; или хлорид железа - 55 г/л, фтороводородная кислота - 5 мл/л.For example, sensitization is carried out from a solution of the composition: tin chloride - 50 g / l, hydrochloric acid - 10 ml / l; or ferric chloride - 55 g / l, hydrofluoric acid - 5 ml / l.

Активирование заключается в обработке растворами соединений каталитически активных металлов, выбранных из группы: палладий, платина, серебро, родий, в качестве растворителя используют воду, кислоту, аммиак, гидроксид натрия или их смеси. Распространение получили растворы, содержащие хлорид палладия или хлорид родия.Activation consists in the treatment with solutions of compounds of catalytically active metals selected from the group: palladium, platinum, silver, rhodium; water, acid, ammonia, sodium hydroxide or their mixtures are used as a solvent. Solutions containing palladium chloride or rhodium chloride have become widespread.

Например, активирование осуществляют из раствора состава: хлорид палладия - 0,25 г/л, соляная кислота - 10 мл/л; или хлорид родия - 0,1 г/л, соляная кислота - 8 мл/л.For example, activation is carried out from a solution of the composition: palladium chloride - 0.25 g / l, hydrochloric acid - 10 ml / l; or rhodium chloride - 0.1 g / l, hydrochloric acid - 8 ml / l.

Сушка изделия осуществляется в воздушной среде за счет обдува горячим воздухом температурой 20-70°С в течение от 10 минут до 1 часа. При необходимости изделие обрабатывается механическим способом, выбранным из группы: шлифование, полирование, пескоструйная обработка шлифовальным порошком или их различные сочетания. Термическая обработка включает отжиг изделия в воздушной среде или вакууме при температуре 50-850°С в течение от 10 минут до 3 часов. Термическая обработка включает также закалку током высокой частоты поверхностного слоя металлического изделия на глубину 0,1-1 мм до достижения твердости, например, 45-50 HRC. Следует отметить из уровня техники известно, что сплав представляет собой микроскопически однородный металлический материал, состоящий из смеси двух или большего числа химических элементов с преобладанием металлических компонентов.Drying of the product is carried out in air by blowing hot air at a temperature of 20-70 ° C for 10 minutes to 1 hour. If necessary, the product is processed by a mechanical method selected from the group: grinding, polishing, sandblasting with grinding powder, or their various combinations. Heat treatment includes annealing the product in air or vacuum at a temperature of 50-850 ° C for 10 minutes to 3 hours. Heat treatment also includes high-frequency current hardening of the surface layer of the metal product to a depth of 0.1-1 mm to achieve a hardness of, for example, 45-50 HRC. It should be noted from the prior art that an alloy is a microscopically homogeneous metallic material consisting of a mixture of two or more chemical elements with a predominance of metallic components.

В качестве способа получения сплава может быть использовано химическое или электрохимическое осаждение из раствора или электролита соответственно, содержащего источник ионов осаждаемого вещества выбранного из группы, содержащей железо, никель, хром, цинк, свинец, олово, сурьма, кадмий, титан, вольфрам, висмут, ниобий, цирконий, рений, гафний, иттрий, ванадий, молибден, бериллий, марганец, магний, кобальт, медь, золото, серебро, платина, палладий, родий, фосфор, бор или их сочетания и дисперсную систему, состоящую из смеси: жидкой дисперсной среды, твердой дисперсной фазы и стабилизатора, причем в качестве дисперсной среды используют воду, в качестве твердой дисперсной фазы используют смесь, как минимум двух веществ, в виде диспергированных частиц, выбранных из группы, содержащей углерод, силицид, карбид, нитрид, карбонитрид, борид, оксид или их сочетание, при этом углерод выбирают из группы, содержащей графит, пирографит, восстановленный оксид графена, алмаз, синтетическое углеродное алмазосодержащее вещество, графен, лонсдейлит, фуллерен, астрален, карбин, углеродные нанотрубки или их сочетание, силицид выбирают из группы, содержащей силицид марганца, силицид хрома, силицид железа, силицид магния, силицид цинка, дисилицид молибдена, дисилицид вольфрама, дисилицид титана, дисилицид тантала или их сочетание, карбид выбирают из группы, содержащей карбид титана, карбид кремния, карбид бора, карбид циркония, карбид гафния, карбид ниобия, карбид ванадия, карбид хрома, карбид никеля, карбид тантала, карбид тантала-гафния, карбид вольфрама, карбид молибдена или их сочетание, нитрид выбирают из группы, содержащей нитрид титана, нитрид бора, нитрид кремния, нитрид ванадия, нитрид ниобия, нитрид тантала, нитрид углерода-бора, нитрид циркония или их сочетание, карбонитрид выбирают из группы, содержащей карбонитрид гафния, карбонитрид титана, карбонитрид циркония и их сочетание, борид выбирают из группы, содержащей диборид тантала, диборид вольфрама, диборид бериллия, диборид магния, диборид ванадия, диборид молибдена, диборид титана, диборид циркония, диборид хрома, диборид гафния, диборид ниобия и их сочетание, оксид выбирают из группы, содержащей диоксид кремния, диоксид циркония, диоксид титана, оксид графена, оксид бора, оксид алюминия, оксид железа, оксид хрома, оксид никеля, оксид цинка, оксид кобальта, оксид иттрия, оксид неодима, оксид ниобия, оксид тербия, оксид висмута, оксид кадмия, оксид магния, оксид марганца, оксид молибдена, оксид бериллия, оксид вольфрама или их сочетание, или сочетания веществ из указанных групп.As a method for producing an alloy, chemical or electrochemical deposition from a solution or electrolyte, respectively, containing a source of ions of the deposited substance selected from the group containing iron, nickel, chromium, zinc, lead, tin, antimony, cadmium, titanium, tungsten, bismuth, can be used, niobium, zirconium, rhenium, hafnium, yttrium, vanadium, molybdenum, beryllium, manganese, magnesium, cobalt, copper, gold, silver, platinum, palladium, rhodium, phosphorus, boron or their combinations and a dispersed system consisting of a mixture: liquid dispersed medium, solid dispersed phase and stabilizer, and as a dispersed medium water is used, as a solid dispersed phase a mixture of at least two substances is used in the form of dispersed particles selected from the group containing carbon, silicide, carbide, nitride, carbonitride, boride , oxide or a combination thereof, wherein the carbon is selected from the group consisting of graphite, pyrographite, reduced graphene oxide, diamond, synthetic carbon a lmaz containing substance, graphene, lonsdaleite, fullerene, astralen, carbyne, carbon nanotubes or a combination thereof, silicide is selected from the group containing manganese silicide, chromium silicide, iron silicide, magnesium silicide, zinc silicide, molybdenum disilicide, tungsten disilicide, disilicide tantalum or a combination thereof, the carbide is selected from the group consisting of titanium carbide, silicon carbide, boron carbide, zirconium carbide, hafnium carbide, niobium carbide, vanadium carbide, chromium carbide, nickel carbide, tantalum carbide, tantalum-hafnium carbide, tungsten carbide, carbide molybdenum or a combination thereof, the nitride is selected from the group consisting of titanium nitride, boron nitride, silicon nitride, vanadium nitride, niobium nitride, tantalum nitride, carbon-boron nitride, zirconium nitride or a combination thereof, the carbonitride is selected from the group containing hafnium carbonitride, carbonitride titanium, zirconium carbonitride and their combination, boride is selected from the group containing tantalum diboride, tungsten diboride, beryllium diboride, diboride m agnia, vanadium diboride, molybdenum diboride, titanium diboride, zirconium diboride, chromium diboride, hafnium diboride, niobium diboride and their combination, the oxide is selected from the group containing silicon dioxide, zirconium dioxide, titanium dioxide, graphene oxide, aluminum oxide, boron oxide, boron oxide, iron oxide, chromium oxide, nickel oxide, zinc oxide, cobalt oxide, yttrium oxide, neodymium oxide, niobium oxide, terbium oxide, bismuth oxide, cadmium oxide, magnesium oxide, manganese oxide, molybdenum oxide, beryllium oxide, tungsten oxide, or a combination thereof , or a combination of substances from these groups.

Исходя из выше изложенного следует, что слой металл-дисперсного покрытия может представлять собой сплав (гальванический) содержащий металл (один или несколько), фосфор, бор и смесь диспергированных частиц вещества (ДЧВ) из указанной группы, например, сплав никель-фосфор-ДЧВ (СУАВ-алмаз-карбид вольфрама-нитрид бора-оксид никеля), или сплав никель-хром-ДЧВ (СУАВ-карбин-пирографит), или сплав никель-хром-ванадий-ДЧВ (СУАВ-карбид бора-нитрид титана).Based on the above, it follows that the metal-dispersed coating layer can be an alloy (galvanic) containing a metal (one or more), phosphorus, boron and a mixture of dispersed particles of a substance (DChV) from this group, for example, a nickel-phosphorus-DChV alloy (SUAV-diamond-tungsten carbide-boron nitride-nickel oxide), or nickel-chromium-DChV alloy (SUAV-carbine-pyrographite), or nickel-chromium-vanadium-DChV alloy (SUAV-boron carbide-titanium nitride).

Например, слой композиционного покрытия никель-фосфор-ДЧВ осаждают посредством химического осаждения никеля на изделия из титановых сплавов осуществляют из раствора состава, г/л: никель сернокислый или никель хлористый - 20-30; СУАВ - 1-5; алмаз - 2-3; карбин - 1-2; восстановленный оксид графена - 0,5-1; карбид титана - 2-3; нитрид бора - 1-2; оксид никеля - 0,5-1; карбид бора - 1-2; натрий уксуснокислый - 10-15; гипофосфит натрия - 23-30; тиомочевина - 0,001-0,003; фосфорная кислота - 15-20, при Рн = 4,3-5,0, температуре 85-95°С, плотности загрузки 1-2 дм²/л, в течение 2-10 минут. Раствор гипофосфита натрия вводится непосредственно перед никилированием. Раствор допускается использовать и корректировать до накопления фосфитов до 50-60 г\л.For example, a nickel-phosphorus-DChV composite coating layer is deposited by chemical deposition of nickel on titanium alloy products from a solution of the composition, g / l: nickel sulfate or nickel chloride - 20-30; SUAV - 1-5; diamond - 2-3; carbyne - 1-2; reduced graphene oxide - 0.5-1; titanium carbide - 2-3; boron nitride - 1-2; nickel oxide - 0.5-1; boron carbide - 1-2; sodium acetate - 10-15; sodium hypophosphite - 23-30; thiourea - 0.001-0.003; phosphoric acid - 15-20, at pH = 4.3-5.0, temperature 85-95 ° C, loading density 1-2 dm ² / l, within 2-10 minutes. A solution of sodium hypophosphite is injected immediately before nickelization. The solution is allowed to be used and adjusted up to the accumulation of phosphites up to 50-60 g / l.

Например, химическое осаждение сплава никель-хром-ванадий-висмут-бор-ДЧВ, также может осуществляться из раствора состава, г/л: хлорид никеля - 15-25; хлорид хрома - 10-15; хлорид ванадия - 3-5; хлорид висмута - 2-5; фторид калия 2,5-10; борная кислота - 25-35; СУАВ - 2-5; графен - 0,5-1; углеродные нанотрубки - 0,5-1; нитрид углерода-бора - 2-3; оксид хрома - 1-2; диборид ванадия - 0,2-0,5; карбид хрома - 2-3, при Рн = 2,8-3,2 - доводится серной или соляной кислотой, температуре 18-25°С, в течение 4-10 минут.For example, chemical deposition of the nickel-chromium-vanadium-bismuth-boron-DChV alloy can also be carried out from a solution of the composition, g / l: nickel chloride - 15-25; chromium chloride - 10-15; vanadium chloride - 3-5; bismuth chloride - 2-5; potassium fluoride 2.5-10; boric acid - 25-35; SUAV - 2-5; graphene - 0.5-1; carbon nanotubes - 0.5-1; carbon boron nitride - 2-3; chromium oxide - 1-2; vanadium diboride - 0.2-0.5; chromium carbide - 2-3, at pH = 2.8-3.2 - is brought with sulfuric or hydrochloric acid, at a temperature of 18-25 ° C, within 4-10 minutes.

Например, слой композиционного металл-дисперсного покрытия осаждают посредством электрохимического осаждения сплава никель-железо-титан-ниобий-бериллий-бор-ДЧВ покрытия на изделия из стали (ХН80ТБЮ, ХН77ТЮРУ-ВД) осуществляют из электролита состава, г/л: сульфат никеля - 150-250; сульфат титана - 35-50; хлорид никеля - 25-60; хлорид железа - 15-30; хлорид ниобия - 5-10; хлорид бериллия - 3-7; борная кислота - 30-50; 1,4 бутандиол - 0,15-0,2; сахарин - 1-1,5; СУАВ - 3-5; пирографит - 3-5; карбид вольфрама - 3-5; карбонитрид титана - 2-3; оксид иттрия - 0,2-0,5; оксид графена - 0,1-0,15; оксид алюминия - 1-2; диборид титана - 0,5-1; диоксид циркония - 1-2, плотность тока - 4-12 А/дм², при температуре 70-80°С, Рн = 2-3.For example, a layer of a composite metal-dispersed coating is deposited by electrochemical deposition of an alloy of nickel-iron-titanium-niobium-beryllium-boron-DChV coatings on steel products (KhN80TBYU, KhN77TYURU-VD) is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: nickel sulfate - 150-250; titanium sulfate - 35-50; nickel chloride - 25-60; ferric chloride - 15-30; niobium chloride - 5-10; beryllium chloride - 3-7; boric acid - 30-50; 1.4 butanediol - 0.15-0.2; saccharin - 1-1.5; SUAV - 3-5; pyrographite - 3-5; tungsten carbide - 3-5; titanium carbonitride - 2-3; yttrium oxide - 0.2-0.5; graphene oxide - 0.1-0.15; aluminum oxide - 1-2; titanium diboride - 0.5-1; zirconium dioxide - 1-2, current density - 4-12 A / dm ² , at a temperature of 70-80 ° C, Rn = 2-3.

Например, слой композиционного металл-дисперсного покрытия осаждают посредством электрохимического осаждения сплава никель-магний-молибден-иттрий-ДЧВ покрытия на изделия из титановых сплавов осуществляют из раствора состава, г/л: сульфат никеля - 140-150; сульфат натрия - 40-50; сульфат магния -20-25; молибдат натрия - 5-10; сульфат иттрия - 1-3; СУАВ - 1-3; алмаз - 1-2; фуллерен - 0,1-03; астрален - 0,5-1; нитрид циркония - 1-2; диоксид циркония - 2-3; диборид циркония - 1-2; диоксид кремния 1-3, натрий хлористый - 5-10; натрий фтористый - 2-3; лимонная кислота - 20-25, при температуре 70-85°С, плотность тока - до 20 А/дм².For example, a layer of a composite metal-dispersed coating is deposited by electrochemical deposition of an alloy of nickel-magnesium-molybdenum-yttrium-DChV coating on products from titanium alloys is carried out from a solution of the composition, g / l: nickel sulfate - 140-150; sodium sulfate - 40-50; magnesium sulfate -20-25; sodium molybdate - 5-10; yttrium sulfate - 1-3; SUAV - 1-3; diamond - 1-2; fullerene - 0.1-03; astralen - 0.5-1; zirconium nitride - 1-2; zirconium dioxide - 2-3; zirconium diboride - 1-2; silicon dioxide 1-3, sodium chloride - 5-10; sodium fluoride - 2-3; citric acid - 20-25, at a temperature of 70-85 ° C, current density - up to 20 A / dm ² .

Например, электрохимическое осаждение сплава никель-кобальт-цирконий-марганец-ДЧВ покрытия, также может осуществляться из электролита состава, г/л: сульфат никеля - 10-30; хлорид кобальта -10-30; хлорид циркония - 20-25; сульфат марганца - 5-10; аммоний щавелевокислый - 30-50; щавелевая кислота - 0,8-1,0; натрий фтористый - 3-15; СУАВ - 3-5; карбин - 0,5-1; карбид бора - 3-5; карбид тантала-гафния - 0,5-1; нитрид титана - 2-3; диборид титана - 1-2, диоксид титана - 2-3, при температуре 20-60°С, Рн = 4-8, плотность тока - до 20 А/дм².For example, electrochemical deposition of an alloy of nickel-cobalt-zirconium-manganese-DCHV coating can also be carried out from an electrolyte of the composition, g / l: nickel sulfate - 10-30; cobalt chloride -10-30; zirconium chloride - 20-25; manganese sulfate - 5-10; ammonium oxalate - 30-50; oxalic acid - 0.8-1.0; sodium fluoride - 3-15; SUAV - 3-5; carbyne - 0.5-1; boron carbide - 3-5; tantalum-hafnium carbide - 0.5-1; titanium nitride - 2-3; titanium diboride - 1-2, titanium dioxide - 2-3, at a temperature of 20-60 ° С, Рн = 4-8, current density - up to 20 A / dm ² .

Например, электрохимическое осаждение сплава никель-хром-вольфрам-кобальт-бор-ДЧВ покрытия осуществляют из борфтористого электролита состава, г/л: борфтористый никель - 200-300; хлорид никеля хлористый - 10-15; хлорид хрома - 70-90; хлорид вольфрама - 20-30; хлорид кобальта - 10-15; борная кислота - 10-15; алмаз - 1-5; лонсдейлит - 0,1-0,2; углеродные нанотрубки - 0,5-1; карбид кремния - 3-5; при температуре 45-55°С, Рн = 3-3,5, плотность тока - до 20 А/дм², выход по току 95-98%.For example, electrochemical deposition of an alloy of nickel-chromium-tungsten-cobalt-boron-DChV coatings is carried out from boron fluoride electrolyte composition, g / l: boron fluoride nickel - 200-300; nickel chloride chloride - 10-15; chromium chloride - 70-90; tungsten chloride - 20-30; cobalt chloride - 10-15; boric acid - 10-15; diamond - 1-5; lonsdaleite - 0.1-0.2; carbon nanotubes - 0.5-1; silicon carbide - 3-5; at a temperature of 45-55 ° С, Рн = 3-3.5, current density - up to 20 A / dm ² , current efficiency 95-98%.

Например, электрохимическое осаждение сплава никель-железо-цирконий-иттрий-ДЧВ покрытия осуществляют из кремнефтористоводородного электролита состава, г/л: кремнефтористый никель - 300-500; хлорид никеля - 25-50; хлорид железа - 30-40; хлорид циркония - 40-50; хлорид иттрия 5-10; фтороводородная кислота - 20-30; графит - 2-5, оксид алюминия - 3-5; пирографит - 2-3; нитрид циркония - 1-2, карбонитрид циркония - 1-2; диборид магния - 1-2; оксид железа - 0,5-1; карбид никеля - 2-3, при температуре 20-50°С, Рн = 0,5-1, плотность тока -до 15 А/дм².For example, electrochemical deposition of an alloy of nickel-iron-zirconium-yttrium-DChV coatings is carried out from a hydrofluorosilicic acid electrolyte of the composition, g / l: nickel fluorosilicon - 300-500; nickel chloride - 25-50; ferric chloride - 30-40; zirconium chloride - 40-50; yttrium chloride 5-10; hydrofluoric acid - 20-30; graphite - 2-5, aluminum oxide - 3-5; pyrographite - 2-3; zirconium nitride - 1-2, zirconium carbonitride - 1-2; magnesium diboride - 1-2; iron oxide - 0.5-1; nickel carbide - 2-3, at a temperature of 20-50 ° С, Рн = 0.5-1, current density - up to 15 A / dm ² .

Например, электрохимическое осаждение сплава никель-титан-гафний-ДЧВ покрытия осуществляют из сульфаминового электролита состава, г/л: сульфаминовокислый никель - 240-270; сульфат титана - 10-30; сульфат гафния - 5-10; сульфаминовая кислота - 15-20; графит - 1-6; оксид иттрия - 1-2; оксид алюминия - 2-4; карбонитрид титана - 2-3; карбонитрид гафния -0,1-0,5; диборид гафния - 0,5-07; хлорид натрия 2-3 мл/л; паратолуолсульфамид - 1,5-2; моющее средство Прогресс - 2-3 мл/л, при температуре 40-45°С, Рн = 3-4,5, плотность тока до 20 А/дм².For example, electrochemical deposition of an alloy of nickel-titanium-hafnium-DChV coatings is carried out from a sulfamic electrolyte of the composition, g / l: sulfamic nickel - 240-270; titanium sulfate - 10-30; hafnium sulfate - 5-10; sulfamic acid - 15-20; graphite - 1-6; yttrium oxide - 1-2; aluminum oxide - 2-4; titanium carbonitride - 2-3; hafnium carbonitride -0.1-0.5; hafnium diboride - 0.5-07; sodium chloride 2-3 ml / l; paratoluenesulfonamide - 1.5-2; detergent Progress - 2-3 ml / l, at a temperature of 40-45 ° C, Pn = 3-4.5, current density up to 20 A / dm ² .

Например, технологический процесс химического или электрохимического осаждения металл-дисперсного покрытия на изделия из титановых сплавов включает в себя:For example, the technological process of chemical or electrochemical deposition of a metal-dispersed coating on titanium alloy products includes:

1. Монтаж изделия на приспособление.1. Installation of the product on the device.

2. Обезжиривание в органическом растворителе. Сушка на воздухе до полного удаления паров растворителя.2. Degreasing in an organic solvent. Air dry until solvent vapors are completely removed.

3. Обезжиривание электрохимическое или химическое. Холодная промывка, горячая промывка, сушка.3. Electrochemical or chemical degreasing. Cold wash, hot wash, dry.

4. Отжиг изделия при температуре 400-850°С в течение 40-60 минут.4. Annealing the product at a temperature of 400-850 ° C for 40-60 minutes.

5. Пескоструйная обработка шлифовальным порошком.5. Sandblasting with grinding powder.

6. Изолирование поверхности изделия, не подлежащее покрытию с использованием гальванотехнической ленты SC-1 или изоляционного лака.6. Insulating the surface of the product, which cannot be coated with SC-1 electroplating tape or insulating varnish.

7. Обезжиривание электрохимическое или химическое (п. 3).7. Electrochemical or chemical degreasing (p. 3).

8. Декапирование химическое в растворе кислот. Промывка в холодной проточной воде, промывка в дистиллированной воде.8. Chemical decapitation in acid solution. Rinsing in cold running water, rinsing in distilled water.

9. Химическое или электрохимическое осаждение металл-дисперсного покрытия из раствора или электролита соответственно.9. Chemical or electrochemical deposition of a metal-dispersed coating from a solution or electrolyte, respectively.

10. Промывка в холодной проточной воде, промывка в горячей проточной воде, промывка в горячей дистиллированной воде или деионизованной воде при температуре 65-70°С.10. Rinsing in cold running water, rinsing in hot running water, rinsing in hot distilled water or deionized water at a temperature of 65-70 ° C.

11. Сушка сжатым воздухом до удаления следов влаги.11. Drying with compressed air until traces of moisture are removed.

12. Отжиг изделия при температуре 200-450°С в течение 1,5-2 часов.12. Annealing the product at a temperature of 200-450 ° C for 1.5-2 hours.

Например, слой композиционного металл-дисперсного покрытия осаждают посредством химического или электрохимического осаждения хром-ДЧВ покрытия на изделия из стали, меди и их сплавов, титановых сплавов.For example, a layer of a composite metal-dispersed coating is deposited by chemical or electrochemical deposition of a chromium-DCHV coating on products made of steel, copper and their alloys, titanium alloys.

Например, технологический процесс химического или электрохимического осаждения металл-дисперсного покрытия на изделия из стали, меди и их сплавов, титановых сплавов включает в себя:For example, the technological process of chemical or electrochemical deposition of a metal-dispersed coating on products made of steel, copper and their alloys, titanium alloys includes:

1. Обезжиривание органическими растворителями: растворитель 646, ацетон. Операция проводится при необходимости (при сильных загрязнениях). Протирка ветошью до полного удаления жировых загрязнений. При сильных загрязнениях поверхности допускается проводить очистку в ультразвуковой ванне с щелочным раствором.1. Degreasing with organic solvents: solvent 646, acetone. The operation is carried out if necessary (with heavy contamination). Wipe with a cloth until the grease is completely removed. In case of severe contamination of the surface, it is allowed to clean in an ultrasonic bath with an alkaline solution.

2. Изолирование поверхности изделия, не подлежащее покрытию с использованием гальванотехнической ленты SC-1 или изоляционного лака.2. Insulating the surface of the product that cannot be coated with SC-1 electroplating tape or insulating varnish.

3. Монтаж изделия на приспособление.3. Installation of the product on the device.

4. Обезжиривание электрохимическое составом, г/л: гидроксид натрия - 10-30, композиция Chemeta Na-66 - 10-15, или композиция Chemeta Na-60 - 100-150 мл/л, при температуре 30-50°С, плотности тока 2-10 А/дм² в течение 10-15 минут.4. Degreasing electrochemical composition, g / l: sodium hydroxide - 10-30, composition Chemeta Na-66 - 10-15, or composition Chemeta Na-60 - 100-150 ml / l, at a temperature of 30-50 ° С, density current 2-10 A / dm ² for 10-15 minutes.

5. Промывка проточной горячей водой с температурой 50-60°С в течение 0,3-1 минуты. Скорость протока воды устанавливается с учетом 2^х кратной замены ванны за смену. При недостаточном качестве промывки предусматривается дополнительная оросительная система.5. Rinsing with running hot water at a temperature of 50-60 ° C for 0.3-1 minutes. The water flow rate is set taking into account 2 ^x replacement of the bath per shift. In case of insufficient leaching quality, an additional irrigation system is provided.

6. Промывка проточной холодной водой с температурой 20-22°С в течение 0,5-1 минуты. Скорость протока воды устанавливается с учетом 2^х кратной замены ванны за смену.6. Rinsing with running cold water at a temperature of 20-22 ° C for 0.5-1 minutes. The water flow rate is set taking into account 2 ^x replacement of the bath per shift.

7. Травление химическими составами, выбранными из группы:7. Etching with chemical compounds selected from the group:

Состав 1: азотная кислота плотностью 1,41 г/см³ - 50 об. %, серная кислота плотностью 1,84 г\см³ - 50 об. %, хлористый натрий - 5-10 г/л, при температуре менее 25°С в течение до 0,2 минут.Composition 1: nitric acid with a density of 1.41 g / cm ³ - 50 vol. %, sulfuric acid with a density of 1.84 g / cm ³ - 50 vol. %, sodium chloride - 5-10 g / l, at a temperature of less than 25 ° C for up to 0.2 minutes.

Состав 2: уксусная кислота - 260-265 г/л, ортофосфорная кислота - 830-850 г/л, тиомочевина - 0,2-0,3 г/л при температуре 15-25°С в течение до 0,5-1,5 минут.Composition 2: acetic acid - 260-265 g / l, phosphoric acid - 830-850 g / l, thiourea - 0.2-0.3 g / l at a temperature of 15-25 ° С for up to 0.5-1 ,5 minutes.

Состав 3: соляная кислота плотностью 1,19 г/см³ - 250-300 г/л, композиция Muriatikols - 5-12 г/л при температуре 15-25°С в течение до 0,5-1,5 минут. Составы 1,2 применяются для деталей из меди и сплавов с окалиной. Состав 3 применяются для сталей и сплавов.Composition 3: hydrochloric acid with a density of 1.19 g / cm ³ - 250-300 g / l, Muriatikols composition - 5-12 g / l at a temperature of 15-25 ° C for up to 0.5-1.5 minutes. Compositions 1,2 are used for parts made of copper and scale alloys. Composition 3 is used for steels and alloys.

8. Промывка проточной холодной водой при температуре 20-22°С в течение 0,5-1 минуты. Скорость протока воды устанавливается с учетом 2^х кратной замены ванны за смену.8. Rinsing with running cold water at a temperature of 20-22 ° C for 0.5-1 minutes. The water flow rate is set taking into account 2 ^x replacement of the bath per shift.

9. Осветление химическим составом, г/л: хромовый ангидрид - 70-120, серная кислота - 5-30, хлористый натрий - 3-5, при температуре 10-25°С в течение 5-10 с. для стали и 2-5 с. для меди. В процессе осветления детали встряхиваются. При потере работоспособности раствор осветления заменяется. Осветление проводится при необходимости.9. Clarification by chemical composition, g / l: chromic anhydride - 70-120, sulfuric acid - 5-30, sodium chloride - 3-5, at a temperature of 10-25 ° C for 5-10 s. for steel and 2-5 s. for copper. In the process of lightening, the parts are shaken. In the event of a loss of performance, the clarification solution is replaced. Clarification is carried out if necessary.

10. Промывка проточной холодной водой при температуре 20-22°С в течение 0,5-1 минуты, скорость потока воды устанавливается с учетом 2^х кратной замены воды за смену.10. Washing with running cold water at 20-22 ° C for 0.5-1 minutes, the water flow rate is determined based on a multiple of 2 ^x water changes per shift.

11. Декапирование в соляной кислоте плотностью 1,19 г/см³ - 150-200 г/л при температуре 15-25°С в течение 0,5-1 минуты.11. Decapitation in hydrochloric acid with a density of 1.19 g / cm ³ - 150-200 g / l at a temperature of 15-25 ° C for 0.5-1 minutes.

12. Промывка проточной холодной водой при температуре 20-22°С в течение 0,25-0,5 минуты, скорость потока воды устанавливается с учетом 2^х кратной замены воды за смену.12. Washing with running cold water at 20-22 ° C for 0.25-0.5 min, the water flow rate is determined based on a multiple of 2 ^x water changes per shift.

13. Химическое или электрохимическое осаждение металл-дисперсного покрытия.13. Chemical or electrochemical deposition of metal-dispersed coating.

Например, химическое осаждение хром-ДЧВ покрытия осуществляется из раствора состава г/л: хромил фтористый - 12-14; натрий лимоннокислый - 5-8; кислота лимонная - 10; СУАВ - 1-3; графит - 1-3; пирографит - 1-2; углеродные нанотрубки - 1-2; силицид хрома - 1-2; диборид хрома - 0,5-1; оксид тербия - 0,1-0,2, гипофосфит натрия -5-7, при температуре 85-90°С, Рн 8-11, скорости осаждения 1-2,5 мкм/ч,For example, the chemical deposition of a chromium-DChV coating is carried out from a solution of the composition g / l: chromyl fluoride - 12-14; sodium citrate - 5-8; citric acid - 10; SUAV - 1-3; graphite - 1-3; pyrographite - 1-2; carbon nanotubes - 1-2; chromium silicide - 1-2; chromium diboride - 0.5-1; terbium oxide - 0.1-0.2, sodium hypophosphite -5-7, at a temperature of 85-90 ° C, pH 8-11, deposition rate 1-2.5 μm / h,

Например, химическое осаждение хром-никель-магний-ДЧВ покрытия осуществляется из раствора состава г/л: ацетат хрома - 25-30; ацетат никеля - 15-20; натрий гликолевокислый - 35-40; ацетат натрия - 18-25; цитрат магния - 10-15; натрий лимоннокислый - 35-40; кислота уксусная - 12-15; гидроксид натрия - 12-15; СУАВ - 1-5; алмаз - 1-3; пирографит - 1-2; карбид вольфрама - 2-4; восстановленный оксид графена - 0,5-1; диборид магния - 1-2; оксид магния - 1-2; силицид магния - 1-2, гипофосфит натрия - 14-15, при температуре 85-90°С, Рн 4-6, скорости осаждения 2-2,5 мкм/ч,For example, chemical deposition of chromium-nickel-magnesium-DChV coating is carried out from a solution of the composition g / l: chromium acetate - 25-30; nickel acetate - 15-20; sodium glycolic acid - 35-40; sodium acetate - 18-25; magnesium citrate - 10-15; sodium citrate - 35-40; acetic acid - 12-15; sodium hydroxide - 12-15; SUAV - 1-5; diamond - 1-3; pyrographite - 1-2; tungsten carbide - 2-4; reduced graphene oxide - 0.5-1; magnesium diboride - 1-2; magnesium oxide - 1-2; magnesium silicide - 1-2, sodium hypophosphite - 14-15, at a temperature of 85-90 ° C, pH 4-6, deposition rate 2-2.5 μm / h,

Например, химическое осаждение хром-никель-ДЧВ покрытия осуществляется из раствора состава г/л: фторид хрома - 5-10; хлорид хрома - 5-10; хлорид никеля - 5-10; пирофосфат натрия - 75-100; СУАВ - 1-7; восстановленный оксид графена - 0,5-1; астрален - 0,5-1; графен - 0,25-0,4; оксид бора - 0,5-1; цитрат натрия - 25-30, при температуре 98-100°С, Рн 8-11, скорости осаждения 0,15-0,25 мкм/ч,For example, the chemical deposition of a chromium-nickel-DChV coating is carried out from a solution of the composition g / l: chromium fluoride - 5-10; chromium chloride - 5-10; nickel chloride - 5-10; sodium pyrophosphate - 75-100; SUAV - 1-7; reduced graphene oxide - 0.5-1; astralen - 0.5-1; graphene - 0.25-0.4; boron oxide - 0.5-1; sodium citrate - 25-30, at a temperature of 98-100 ° C, pH 8-11, deposition rate 0.15-0.25 μm / h,

Например, электрохимическое осаждение блестящего хром-дисперсного покрытия (Хбл), твердого хром-дисперсного покрытия (Хтв.), износостойкого хромо-дисперсного покрытия (Хизн.) при скорости осаждения 0,28-0,31 мкм/мин. осуществляется из электролита состава г/л:For example, electrochemical deposition of a shiny chromium-dispersed coating (Hbl), hard chromium-dispersed coating (Xtv.), Wear-resistant chromium-dispersed coating (Life) at a deposition rate of 0.28-0.31 μm / min. is carried out from an electrolyte of the composition g / l:

Состав 1: хромовый ангидрид - 230-280 г/л, серная кислота - 2-4 г/л; трехвалентный хром - 2-3 г/л; СУАВ - 1-7; графен - 0,25-0,4 г/л; карбид ванадия - 1-2 г/л; оксид висмута - 0,5-1 г/л; блескообразующая добавка ЦКН-41 - 5-10 мл/л.Composition 1: chromic anhydride - 230-280 g / l, sulfuric acid - 2-4 g / l; trivalent chromium - 2-3 g / l; SUAV - 1-7; graphene - 0.25-0.4 g / l; vanadium carbide - 1-2 g / l; bismuth oxide - 0.5-1 g / l; shining additive TsKN-41 - 5-10 ml / l.

Состав 2: хромовый ангидрид - 230-250 г/л; серная кислота - 2-4 г/л; трехвалентный хром - 2-3 г/л; СУАВ - 1-7 г/л; карбид вольфрама - 2-4 г/л; дисилицид вольфрама - 1-2 г/л; нитрид кремния - 0,5-1 г/л; пирографит - 1-2 г/л.Composition 2: chromic anhydride - 230-250 g / l; sulfuric acid - 2-4 g / l; trivalent chromium - 2-3 g / l; SUAV - 1-7 g / l; tungsten carbide - 2-4 g / l; tungsten disilicide - 1-2 g / l; silicon nitride - 0.5-1 g / l; pyrographite - 1-2 g / l.

Состав 3: хромовый ангидрид 230-250 г/л, серная кислота - 2-4 г/л, трехвалентный хром - 2-3 г/л, СУАВ- 4-7 г/л; астрален - 0,15-0,2; карбонитрид титана - 2-4 г/л; диборид вольфрама - 1-2 г/л; оксид бериллия - 1-2.Composition 3: chromic anhydride 230-250 g / l, sulfuric acid - 2-4 g / l, trivalent chromium - 2-3 g / l, SUAV- 4-7 g / l; astralen - 0.15-0.2; titanium carbonitride - 2-4 g / l; tungsten diboride - 1-2 g / l; beryllium oxide - 1-2.

По обозначению Хбл., Состав 1- катодная плотность тока 30-70 А/дм², температура 55(+-) 2°С.According to the designation Hbl., Composition 1- cathode current density 30-70 A / dm ² , temperature 55 (+ -) 2 ° C.

По обозначению Хтв., Состав 1,2 - катодная плотность тока 50-100 А/дм², температура 45(+-) 2°С.According to the designation Xtv., Composition 1.2 - cathode current density 50-100 A / dm ² , temperature 45 (+ -) 2 ° C.

По обозначению Хизн., Состав 1,2,3- - катодная плотность тока 40-70 А/дм², температура 55(+-) 2°С. Детали из меди и медных сплавов завешиваются под рабочим током. Анодное декапирование не производится. Для стальных деталей производится анодное декапирование при толщине хромового покрытия 0,025-0,15 мкм, продолжительностью 5-200 с. После декапирования стальных деталей хромирование следует начинать с возрастания тока, в течение 1-2 минут плотность тока должна превышать в 1,5-2 раза номинальную, затем плотность тока снижают в течение 1-1,5 минут до номинальной величины.According to the designation Hizn., Composition 1,2,3- - cathode current density 40-70 A / dm ² , temperature 55 (+ -) 2 ° C. Parts made of copper and copper alloys are hung with operating current. Anode pickling is not performed. For steel parts, anodic pickling is performed with a chrome coating thickness of 0.025-0.15 microns, with a duration of 5-200 s. After pickling steel parts, chromium plating should be started with increasing current, within 1-2 minutes the current density should exceed 1.5-2 times the nominal, then the current density is reduced within 1-1.5 minutes to the nominal value.

14. Первое улавливание осуществляется в ванне улавливания в течение 0,5-1 минуты. Раствор ванны используется для восполнения электролита хромирования.14. The first collection is carried out in the collection bath for 0.5-1 minutes. The bath solution is used to replenish the chromium plating electrolyte.

15. Второе улавливание осуществляется в ванне улавливания в течение 0,5-1 минуты. Раствор ванны используется для восполнения раствора первой ванны улавливания.15. The second capture is carried out in the capture bath for 0.5-1 minutes. The bath solution is used to replenish the solution of the first collection bath.

16. Промывка проточной холодной водой с температурой 20-22°С в течение 7-15 минуты. Скорость протока воды устанавливается с учетом 4^х кратной замены ванны за смену. При недостаточном качестве промывки предусматривается дополнительная оросительная система.16. Rinsing with cold running water at a temperature of 20-22 ° C for 7-15 minutes. Water flow rate is set with the multiple ^x 4 substitutions per shift bath. In case of insufficient leaching quality, an additional irrigation system is provided.

17. Сушка изделия осуществляется в сушильном шкафу при температуре 50-70°C с обдувом теплым воздухом.17. Drying of the product is carried out in a drying cabinet at a temperature of 50-70 ° C with warm air blowing.

Например, электрохимическое осаждение сплава железо-молибден-кадмий-ванадий-ДЧВ покрытия на алюминий и его сплавы осуществляют из электролита состава, г/л: хлорид железа - 200-300; хлорид марганца - 40-50; хлорид кадмия - 10-20; хлорид ванадия - 5-10; молибдат натрия - 5-10; СУАВ - 1-2; алмаз - 1-2; фуллерен - 0,1-0,2; карбин - 0,1-0,25; лонсдейлит -0,1-0,2; силицид железа - 1-2; дисилицид молибдена - 0,5-1; карбид молибдена - 2-3; нитрид ванадия - 0,5-1; диборид молибдена - 0,5-1; оксид кадмия 1-2; оксид молибдена - 1-1,5; соляная кислота - 0,5-1, при температуре 60-80°С, плотность тока - 30-50 А/дм², выход по току 90-95%.For example, electrochemical deposition of an alloy of iron-molybdenum-cadmium-vanadium-DChV coating on aluminum and its alloys is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: iron chloride - 200-300; manganese chloride - 40-50; cadmium chloride - 10-20; vanadium chloride - 5-10; sodium molybdate - 5-10; SUAV - 1-2; diamond - 1-2; fullerene - 0.1-0.2; carbyne - 0.1-0.25; lonsdaleite -0.1-0.2; iron silicide - 1-2; molybdenum disilicide - 0.5-1; molybdenum carbide - 2-3; vanadium nitride - 0.5-1; molybdenum diboride - 0.5-1; cadmium oxide 1-2; molybdenum oxide - 1-1.5; hydrochloric acid - 0.5-1, at a temperature of 60-80 ° C, current density - 30-50 A / dm ² , current efficiency 90-95%.

Например, электрохимическое осаждение сплава железо-медь-ниобий-бор-ДЧВ покрытия осуществляют из электролита состава, г/л: хлорид железа - 25-30; хлорид меди - 10-15; хлорид ниобия - 8-10; борная кислота - 25-35; СУАВ - 2-5; графит - 2-4; графен - 0,8-1; углеродные нанотрубки - 1-2; диоксид кремния - 3-5; карбид кремния - 3-4; оксид ниобия - 0,5-1; оксид алюминия 0,5-1; оксид иттрия - 0,8-1, при температуре 20-50°С, Рн = 0,5-1, плотность тока до 15 А/дм².For example, electrochemical deposition of an alloy of iron-copper-niobium-boron-DChV coatings is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: ferric chloride - 25-30; copper chloride - 10-15; niobium chloride - 8-10; boric acid - 25-35; SUAV - 2-5; graphite - 2-4; graphene - 0.8-1; carbon nanotubes - 1-2; silicon dioxide - 3-5; silicon carbide - 3-4; niobium oxide - 0.5-1; aluminum oxide 0.5-1; yttrium oxide - 0.8-1, at a temperature of 20-50 ° C, Pn = 0.5-1, current density up to 15 A / dm ² .

Например, электрохимическое осаждение сплава кобальт-хром-молибден-ниобий-фосфор-ДЧВ покрытия осуществляют из электролита состава, г/л: сульфат кобальта - 300-450; сульфат хрома - 40-60; молибдат натрия 10-20; триоксид-дисульфат диниобия - 3-5; фосфорная кислота - 40-45; хлорид натрия - 15-20; СУАВ - 1-5; восстановленный оксид графена - 0,25-0,75; углеродные нанотрубки - 0,25-0,75; карбид ниобия - 0,3-0,4; нитрид ниобия -0,25-0,35; диборид ниобия - 0,3-0,5; оксид неодима - 0,1-0,25, при температуре 40-45°С, Рн 5,2-5,8, плотность тока - 4-6 А/дм².For example, the electrochemical deposition of an alloy of cobalt-chromium-molybdenum-niobium-phosphorus-DChV coatings is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: cobalt sulfate - 300-450; chromium sulfate - 40-60; sodium molybdate 10-20; diniobium trioxide disulfate - 3-5; phosphoric acid - 40-45; sodium chloride - 15-20; SUAV - 1-5; reduced graphene oxide - 0.25-0.75; carbon nanotubes - 0.25-0.75; niobium carbide - 0.3-0.4; niobium nitride -0.25-0.35; niobium diboride - 0.3-0.5; neodymium oxide - 0.1-0.25, at a temperature of 40-45 ° C, Rn 5.2-5.8, current density - 4-6 A / dm ² .

Например, электрохимическое осаждение сплава кобальт-хром-молибден-бериллий-ДЧВ покрытия осуществляют из электролита состава, г/л: сульфат кобальта - 280-300; муравьиная кислота - 64-66; муравьинокислый натрий - 39-42; сульфат натрия - 70-75; сульфат аммония - 3-4; сульфат хрома - 40-60; молибдат натрия 10-20; сульфат бериллия - 10-20; СУАВ - 1-5; восстановленный оксид графена - 0,25-0,75; углеродные нанотрубки - 0,25-0,75; оксид алюминия - 2-3; диборид бериллия - 1-2; оксид бериллия 0,5-1; карбид тантала - 0,25-0,75, при температуре 95-100°С, Рн 2,0-2,5, плотность тока - 100-250 А/дм².For example, the electrochemical deposition of an alloy of cobalt-chromium-molybdenum-beryllium-DChV coatings is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: cobalt sulfate - 280-300; formic acid - 64-66; sodium formate - 39-42; sodium sulfate - 70-75; ammonium sulfate - 3-4; chromium sulfate - 40-60; sodium molybdate 10-20; beryllium sulfate - 10-20; SUAV - 1-5; reduced graphene oxide - 0.25-0.75; carbon nanotubes - 0.25-0.75; aluminum oxide - 2-3; beryllium diboride - 1-2; beryllium oxide 0.5-1; tantalum carbide - 0.25-0.75, at a temperature of 95-100 ° C, Rn 2.0-2.5, current density - 100-250 A / dm ² .

Например, электрохимическое осаждение сплава титан-ванадий-марганец-ниобий-ДЧВ покрытия осуществляют из электролита состава, г/л: титанат натрия - 70-75; сульфат ванадия - 10-20; триоксид-дисульфатдиниобия - 5-10; сульфат марганца - 10-20; уксуснокислый натрий - 25-30; гидроксид натрия - 30-35; СУАВ - 1-5; карбид титана 2-3; карбонитрид титана - 1-2; оксид алюминия - 1-2; оксид марганца - 1-2; диборид титана - 1-2; дисилицид титана - 1-2; силицид марганца - 1-2; нитрид тантала - 0,25-0,5, при температуре 30-70°С, плотность тока - 1-5 А/дм², выход по току 15-25%.For example, electrochemical deposition of titanium-vanadium-manganese-niobium-DChV coatings is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: sodium titanate - 70-75; vanadium sulfate - 10-20; dyniobium trioxide disulfate - 5-10; manganese sulfate - 10-20; sodium acetate - 25-30; sodium hydroxide - 30-35; SUAV - 1-5; titanium carbide 2-3; titanium carbonitride - 1-2; aluminum oxide - 1-2; manganese oxide - 1-2; titanium diboride - 1-2; titanium disilicide - 1-2; manganese silicide - 1-2; tantalum nitride - 0.25-0.5, at a temperature of 30-70 ° C, current density - 1-5 A / dm ² , current efficiency 15-25%.

Из водных растворов титан осаждается на такие металлы как медь, железо, никель, платина, палладий, при этом наблюдается диффузия тонкого титанового покрытия в металл при отжиге до 700°С. Например, при покрытии меди титаном на поверхности меди содержится 21-25% Ti и 75-79% Cu.From aqueous solutions, titanium is deposited on metals such as copper, iron, nickel, platinum, palladium, while diffusion of a thin titanium coating into the metal is observed upon annealing up to 700 ° C. For example, when copper is coated with titanium, the copper surface contains 21-25% Ti and 75-79% Cu.

Например, сплав никель-титан (до 6%)-висмут-бор-ДЧВ получают электрохимическим осаждением из электролита состава, г/л: хлорид никеля - 100; титан в виде металла - 1-5; хлорид висмута - 30-40; кислота борная -450-500; гликоль - 60-70; СУАВ - 3-5 алмаз - 1-2; карбин - 0,5-1; углеродные нанотрубки - 0,5-1; карбид бора -1-3; карбид гафния - 0,25-0,75; дисилицид титана - 1-2; дисилицид тантала - 0,5-1; лаурилсульфат - 45-50 мл/л; этиловый спирт - 50 мл/л, при температуре 15-25°С, плотность тока -5-10 А/дм², выход по току 40-50%.For example, the nickel-titanium alloy (up to 6%) - bismuth-boron-DChV is obtained by electrochemical deposition from an electrolyte of the composition, g / l: nickel chloride - 100; titanium in the form of metal - 1-5; bismuth chloride - 30-40; boric acid -450-500; glycol - 60-70; SUAV - 3-5 diamond - 1-2; carbyne - 0.5-1; carbon nanotubes - 0.5-1; boron carbide -1-3; hafnium carbide - 0.25-0.75; titanium disilicide - 1-2; tantalum disilicide - 0.5-1; lauryl sulfate - 45-50 ml / l; ethyl alcohol - 50 ml / l, at a temperature of 15-25 ° C, current density -5-10 A / dm ² , current efficiency 40-50%.

Например, сплав кобальт-титан (до 10%)-гафний-фосфор-ДЧВ получают электрохимическим осаждением из электролита состава, г/л: аммоний (бикарбонат) - 100-110; титан в виде металла - 10-15; кобальт в виде металла - 28-30; сульфат гафния - 3-5; кислота плавиковая - 250-270; кислота ортофосфорная - 100-120; клей глютиновый - 1-2; СУАВ - 5-7; карбид бора - 2-5; оксид иттрия -1-2; нитрид углерода-бора - 0,5-1; оксид кобальта - 0,5-1; диборид гафния - 0,5-1; карбонитрид гафния - 0,1-0,5; нитрид бора - 1-2; нитрид титана - 2-3; диоксид титана - 1-3, при температуре 30-40°С, плотность тока - 2,5-3,5 А/дм², выход по току 10-30%.For example, an alloy of cobalt-titanium (up to 10%) - hafnium-phosphorus-DChV is obtained by electrochemical deposition from an electrolyte of the composition, g / l: ammonium (bicarbonate) - 100-110; titanium in the form of metal - 10-15; cobalt in the form of metal - 28-30; hafnium sulfate - 3-5; hydrofluoric acid - 250-270; orthophosphoric acid - 100-120; glutin glue - 1-2; SUAV - 5-7; boron carbide - 2-5; yttrium oxide -1-2; carbon boron nitride - 0.5-1; cobalt oxide - 0.5-1; hafnium diboride - 0.5-1; hafnium carbonitride - 0.1-0.5; boron nitride - 1-2; titanium nitride - 2-3; titanium dioxide - 1-3, at a temperature of 30-40 ° C, current density - 2.5-3.5 A / dm ² , current efficiency 10-30%.

Например, сплав железо-титан (до 2%)-хром-цирконий-ДЧВ получают электрохимическим осаждением из электролита состава, г/л: сульфат железа - 50-60; хлорид железа - 50-60; титан щавелевокислый - 15-20; аммоний сернокислый - 80-100; хлорид хрома - 15-20; хлорид циркония - 10-20; гидроксид аммония - 0,8-1,1; СУАВ - 2-6; графен - 0,1-0,15; карбид титана - 3-8; карбонитрид циркония - 2-4; карбид циркония - 2-3; карбид кремния - 2-3; силицид хрома - 1-2; карбонитрид циркония - 1-2; диборид циркония - 1-2; оксид хрома - 0,5-1; оксид алюминия - 0,5-1, при температуре 20-30°С, плотность тока - 5-30 А/дм².For example, an alloy of iron-titanium (up to 2%) - chromium-zirconium-DChV is obtained by electrochemical deposition from an electrolyte of the composition, g / l: iron sulfate - 50-60; ferric chloride - 50-60; titanium oxalate - 15-20; ammonium sulfate - 80-100; chromium chloride - 15-20; zirconium chloride - 10-20; ammonium hydroxide - 0.8-1.1; SUAV - 2-6; graphene - 0.1-0.15; titanium carbide - 3-8; zirconium carbonitride - 2-4; zirconium carbide - 2-3; silicon carbide - 2-3; chromium silicide - 1-2; zirconium carbonitride - 1-2; zirconium diboride - 1-2; chromium oxide - 0.5-1; aluminum oxide - 0.5-1, at a temperature of 20-30 ° C, current density - 5-30 A / dm ² .

Например, химическое осаждение сплава медь-никель-цинк-ДЧВ покрытия на стекло или стеклопластик осуществляют из раствора состава, г\л: сульфат меди - 5-7; сульфат никеля - 5-7; сульфат цинка 5-7; СУАВ - 5-7; углеродные нанотрубки - 0,5-0,9; карбид кремния - 1-2; нитрид титана - 1-2; силицит цинка - 1-2; карбид никеля - 2-3; нитрид - ванадия 0,5-1; сегнетова соль - 22; гидроксид натрия - 4,5; карбонат натрия - 2; формальдегид (40%) - 26 мл/л, при температуре 20-30°С, Рн 12,1-12,2 в течении 10-30 минут.For example, chemical deposition of a copper-nickel-zinc-DChV coating on glass or fiberglass is carried out from a solution of the composition, g / l: copper sulfate - 5-7; nickel sulfate - 5-7; zinc sulfate 5-7; SUAV - 5-7; carbon nanotubes - 0.5-0.9; silicon carbide - 1-2; titanium nitride - 1-2; zinc silicite - 1-2; nickel carbide - 2-3; nitride - vanadium 0.5-1; Rochelle salt - 22; sodium hydroxide - 4.5; sodium carbonate - 2; formaldehyde (40%) - 26 ml / l, at a temperature of 20-30 ° C, pH 12.1-12.2 for 10-30 minutes.

Например, химическое осаждение сплава медь-серебро-ДЧВ покрытия на металл или сплавы металлов осуществляют из раствора состава, г\л: сульфат меди - 10-15; хлорид серебра - 5-7; серная кислота - 8-10; СУАВ - 2-5; восстановленный оксид графена - 0,25-0,5; диоксид циркония - 1-2; оксид иттрия - 0,8-1; оксид ниодима - 0,1-03; диборид ниобия - 0,3-0,5, при температуре 15-25°С, скорость осаждения 10 мкм/ч;For example, chemical deposition of a copper-silver-DChV alloy coating on a metal or metal alloys is carried out from a solution of the composition, g / l: copper sulfate - 10-15; silver chloride - 5-7; sulfuric acid - 8-10; SUAV - 2-5; reduced graphene oxide - 0.25-0.5; zirconium dioxide - 1-2; yttrium oxide - 0.8-1; niodimium oxide - 0.1-03; niobium diboride - 0.3-0.5, at a temperature of 15-25 ° C, the deposition rate is 10 μm / h;

Например, химическое осаждение медь-ДЧВ покрытия на металлы или сплавы металлов осуществляются из раствора состава, г\л: виннокислый калий - 150; сульфат меди - 30, гидроксид натрия - 80; СУАВ - 2-8; алмаз - 1-2; карбин - 0,5-1; графит - 3-5; графен - 0,4-0,6; углеродные нанотрубки - 1-2; при температуре 15-25°С, скорость осаждения 11 мкм/ч;For example, chemical deposition of copper-DChV coating on metals or metal alloys is carried out from a solution of the composition, g / l: potassium tartrate - 150; copper sulfate - 30, sodium hydroxide - 80; SUAV - 2-8; diamond - 1-2; carbyne - 0.5-1; graphite - 3-5; graphene - 0.4-0.6; carbon nanotubes - 1-2; at a temperature of 15-25 ° C, the deposition rate is 11 μm / h;

Например, электрохимическое осаждение сплава медь-никель-ДЧВ покрытия осуществляют из электролита состава, г/л: сульфат меди - 120-180; сульфат никеля - 40-60; серная кислота - 50-70; алмаз - 3-5; карбид вольфрама 2-4; оксид иттрия - 05-1; оксид алюминия - 05-1; оксид графена 0,1-0,15; оксид никеля - 0,5-1; карбид тантала - 0,25-0,4, при температуре 25-45°С, плотность тока 1-6 А/дм²;For example, the electrochemical deposition of a copper-nickel-DChV alloy coating is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: copper sulfate - 120-180; nickel sulfate - 40-60; sulfuric acid - 50-70; diamond - 3-5; tungsten carbide 2-4; yttrium oxide - 05-1; aluminum oxide - 05-1; graphene oxide 0.1-0.15; nickel oxide - 0.5-1; tantalum carbide - 0.25-0.4, at a temperature of 25-45 ° C, current density 1-6 A / dm ² ;

Например, электрохимическое осаждение вольфрам-ДЧВ покрытия осуществляют из электролита состава, г/л: вольфрамовый ангидрид - 120-125; СУАВ - 3-7; карбид вольфрама -2-4; карбид бора - 2-3; оксид иттрия -0,1-0,25; дисилицид вольфрама - 1-2; нитрид кремния - 0,5-1; диборид вольфрама - 1-2; оксид вольфрама - 0,5-1, карбонат натрия - 300-350, при температуре 95-100°С, Рн 3-13, плотность тока 5-10 А/дм².For example, the electrochemical deposition of a tungsten-DChV coating is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: tungsten anhydride - 120-125; SUAV - 3-7; tungsten carbide -2-4; boron carbide - 2-3; yttrium oxide -0.1-0.25; tungsten disilicide - 1-2; silicon nitride - 0.5-1; tungsten diboride - 1-2; tungsten oxide - 0.5-1, sodium carbonate - 300-350, at a temperature of 95-100 ° C, pH 3-13, current density 5-10 A / dm ² .

Например, электрохимическое осаждение сплава вольфрам-никель-ДЧВ покрытия осуществляют электрохимическим осаждением из электролита состава, г/л: сульфат никеля - 20-25; вольфрамат натрия - 50-60; цитрат натрия - 60-70; СУАВ - 2-7; фуллерен - 0,1-0,2; карбин - 0,25-0,5, оксид вольфрама - 1-2; дисилицид тантала - 0,5-1; карбид тантал-гафния - 0,5-1, гидроксид аммония - до Рн 6-9, при температуре 65-75°С, плотность тока -1-5 А/дм².For example, the electrochemical deposition of a tungsten-nickel-DChV alloy coating is carried out by electrochemical deposition from an electrolyte of the composition, g / l: nickel sulfate - 20-25; sodium tungstate - 50-60; sodium citrate - 60-70; SUAV - 2-7; fullerene - 0.1-0.2; carbyne - 0.25-0.5, tungsten oxide - 1-2; tantalum disilicide - 0.5-1; tantalum-hafnium carbide - 0.5-1, ammonium hydroxide - up to Rn 6-9, at a temperature of 65-75 ° C, current density -1-5 A / dm ² .

Например, электрохимическое осаждение висмут-ванадий-ДЧВ покрытия осуществляют из электролита состава, г/л: сульфат висмута - 20-30; сульфат ванадия - 10-15; аммоний лимоннокислый - 20-25; гидроксид аммония - 0,3-0,9; трилон Б - 150-170; восстановленный оксид графена - 0,5-1; углеродные нанотрубки - 1-2; карбид ванадия - 1-2; нитрид ниобия 0,25-0,5; диборид ванадия - 0,2-0,5; оксид висмута - 0,5-0,75, клей глютиновый - 2,5-3,0, при температуре 20-25°С, Рн 8,5-9,0 плотность тока - 0,5-1,5 А/дм².For example, the electrochemical deposition of bismuth-vanadium-DChV coatings is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: bismuth sulfate - 20-30; vanadium sulfate - 10-15; ammonium citrate - 20-25; ammonium hydroxide - 0.3-0.9; Trilon B - 150-170; reduced graphene oxide - 0.5-1; carbon nanotubes - 1-2; vanadium carbide - 1-2; niobium nitride 0.25-0.5; vanadium diboride - 0.2-0.5; bismuth oxide - 0.5-0.75, glutin glue - 2.5-3.0, at a temperature of 20-25 ° C, pH 8.5-9.0 current density - 0.5-1.5 A / dm ² .

Например, электрохимическое осаждение цинк-кадмий-марганец-ДЧВ покрытия осуществляют из кислого электролита состава, г/л: сульфат цинка - 100-200; сульфат кадмия -100-120; сульфат марганца -60-80; сульфат натрия - 50-100; СУАВ - 1-7; силицид цинка - 1-2; оксид цинка - 0,5-1; силицид марганца - 1-2; карбид хрома -2-3; оксид марганца - 1-2; оксид кадмия - 1-2, серная кислота - 0,3-0,5; сернокислый алюминий - 20-30; при температуре 60-80°С, плотность тока - 30-50 А/дм², выход по току 90-95%.For example, electrochemical deposition of zinc-cadmium-manganese-DChV coatings is carried out from an acidic electrolyte of the composition, g / l: zinc sulfate - 100-200; cadmium sulfate -100-120; manganese sulfate -60-80; sodium sulfate - 50-100; SUAV - 1-7; zinc silicide - 1-2; zinc oxide - 0.5-1; manganese silicide - 1-2; chromium carbide -2-3; manganese oxide - 1-2; cadmium oxide - 1-2, sulfuric acid - 0.3-0.5; sulphate aluminum - 20-30; at a temperature of 60-80 ° C, current density - 30-50 A / dm ² , current efficiency 90-95%.

Например, электрохимическое осаждение свинец-олово-цинк-ДЧВ покрытия осуществляют из электролита состава, г/л: сульфат свинца - 70-80; сульфат олова - 40-60; сульфат цинка - 30-40; гидроксид натрия - 100-150; графит 2-5; алмаз 1-3; лонсдейлит - 0,1-0,2; углеродныне нанотрубки - 1-2; карбид ниобия - 0,5-0,8; диборид хрома - 0,5-1; оксид бора - 1-2; оксид цинка - 0,5-1 сегнетова соль - 40-50; канифоль - 4-5, при этом канифоль кипятят в растворе каустической соды и потом добавляют в электролит. Осаждение осуществляют при температуре 60-70°С, плотность тока - 1-2 А/дм², выход по току 95%.For example, the electrochemical deposition of lead-tin-zinc-DChV coatings is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: lead sulfate - 70-80; tin sulfate - 40-60; zinc sulfate - 30-40; sodium hydroxide - 100-150; graphite 2-5; diamond 1-3; lonsdaleite - 0.1-0.2; carbon nanotubes - 1-2; niobium carbide - 0.5-0.8; chromium diboride - 0.5-1; boron oxide - 1-2; zinc oxide - 0.5-1 Rochelle salt - 40-50; rosin - 4-5, while rosin is boiled in a solution of caustic soda and then added to the electrolyte. The deposition is carried out at a temperature of 60-70 ° C, the current density is 1-2 A / dm ² , the current efficiency is 95%.

Например, электрохимическое осаждение свинец-ДЧВ покрытия осуществляют из электролита состава, г/л: ортофтористоводородный свинец - 125-200; гидроксид натрий - 180-200; графит - 2-5; пирографит 2-5; СУАВ - 2-3; карбид кремния - 2-4; карбид молибдена - 1-2; нитрид углерода бора - 0,25-0,5; борфтористоводородная кислота - 40-60; глютиновый клей - 0,5-1, при температуре 15-25°С, плотность тока - 1-2 А/дм², выход по току 90%.For example, the electrochemical deposition of lead-DChV coatings is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: hydrofluoric lead - 125-200; sodium hydroxide - 180-200; graphite - 2-5; pyrographite 2-5; SUAV - 2-3; silicon carbide - 2-4; molybdenum carbide - 1-2; boron carbon nitride - 0.25-0.5; hydrofluoric acid - 40-60; glutin glue - 0.5-1, at a temperature of 15-25 ° C, current density - 1-2 A / dm ² , current efficiency 90%.

Например, электрохимическое осаждение сурьма-ДЧВ покрытия осуществляют из электролита состава, г/л: сурьмянововиннокислый калий - 50-70; сегнетова соль - 3-5; углеродные нанотрубки - 1-2; астрален - 0,15-0,5; силицид железа - 1-2; силицид магния - 2-3; нитрид тантала - 0,5-1; оксид магния - 1-2, соляная кислота - 3-5; формалин - 0,5-1 мл/л, при температуре 20-25°С, Рн 1,75-1,9, плотность тока - 0,5-2 А/дм², выход по току 95-98%.For example, the electrochemical deposition of antimony-DChV coating is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: antimony potassium tartrate - 50-70; Rochelle salt - 3-5; carbon nanotubes - 1-2; astralen - 0.15-0.5; iron silicide - 1-2; magnesium silicide - 2-3; tantalum nitride - 0.5-1; magnesium oxide - 1-2, hydrochloric acid - 3-5; formalin - 0.5-1 ml / l, at a temperature of 20-25 ° C, pH 1.75-1.9, current density - 0.5-2 A / dm ² , current efficiency 95-98%.

Например, электрохимическое осаждение кадмий-вольфрам-ДЧВ покрытия осуществляют из электролита состава, г/л: сульфат кадмия - 40-60; вольфрамат натрия - 50-60; цитрат натрия - 60-70; серная кислота - 40-60; СУАВ - 3-7; пирографит - 3-5; карбид гафния - 0,25-1; дисилицид молибдена - 1-2; нитрид бора - 1-2; диоксид кремния - 2-3 оксид тербия -0,1-0,2, при температуре 15-30°С, плотность тока - 1-3 А/дм².For example, electrochemical deposition of cadmium-tungsten-DChV coatings is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: cadmium sulfate - 40-60; sodium tungstate - 50-60; sodium citrate - 60-70; sulfuric acid - 40-60; SUAV - 3-7; pyrographite - 3-5; hafnium carbide - 0.25-1; molybdenum disilicide - 1-2; boron nitride - 1-2; silicon dioxide - 2-3 terbium oxide -0.1-0.2, at a temperature of 15-30 ° C, current density - 1-3 A / dm ² .

Например, электрохимическое осаждение кадмий-цирконий-ДЧВ покрытия осуществляют из электролита состава, г/л: оксид кадмия - 25-40; цианид натрия - 80-130; гидроксид натрия - 20-30; сульфат циркония - 15-20; сульфат никеля - 1-1,5; сульфат натрия - 40-60; графит - 2-5; углеродные нанотрубки - 1-2; астрален - 0,5-1; дисилицид титана - 1-2; карбид циркония - 2-3; нитрид бора - 1-2; карбонитрид циркония - 1-2; диборид тантала - 0,5-1; оксид кобальта - 0,5-1, декстрин - 2-5, при температуре 20-30°С, плотность тока - 1 -2 А/дм².For example, electrochemical deposition of cadmium-zirconium-DChV coatings is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: cadmium oxide - 25-40; sodium cyanide - 80-130; sodium hydroxide - 20-30; zirconium sulfate - 15-20; nickel sulfate - 1-1.5; sodium sulfate - 40-60; graphite - 2-5; carbon nanotubes - 1-2; astralen - 0.5-1; titanium disilicide - 1-2; zirconium carbide - 2-3; boron nitride - 1-2; zirconium carbonitride - 1-2; tantalum diboride - 0.5-1; cobalt oxide - 0.5-1, dextrin - 2-5, at a temperature of 20-30 ° C, current density - ^1-2 A / dm 2.

Например, электрохимическое осаждение кадмий-никель-бор-ДЧВ покрытия осуществляют из электролита состава, г/л: оксид кадмия - 30-40; цианид натрия - 80-130; сульфат аммония - 250-300; сульфат никеля - 15-20; борная кислота - 30-40; графит - 2-5; пирографит - 2-3; восстановленный оксид графена - 0,5-1; фуллерен - 0,2-0,4; дисилицид молибдена 0,5-1; карбид никеля - 2-3; нитрид бора - 1-2; диборид молибдена -0,5-1; диоксид кремния - 2-3; оксид железа - 0,5-1, клей глютиновый - 2, при температуре 18-25°С, Рн 5-6,8, плотность тока - 0,7-1 А/дм².For example, electrochemical deposition of cadmium-nickel-boron-DChV coatings is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: cadmium oxide - 30-40; sodium cyanide - 80-130; ammonium sulfate - 250-300; nickel sulfate - 15-20; boric acid - 30-40; graphite - 2-5; pyrographite - 2-3; reduced graphene oxide - 0.5-1; fullerene - 0.2-0.4; molybdenum disilicide 0.5-1; nickel carbide - 2-3; boron nitride - 1-2; molybdenum diboride -0.5-1; silicon dioxide - 2-3; iron oxide - 0.5-1, glutinic glue - 2, at a temperature of 18-25 ° C, pH 5-6.8, current density - 0.7-1 A / dm ² .

Например, электрохимическое осаждение кобальт-вольфрам-бор-ДЧВ покрытия осуществляют из электролита состава, г/л: сульфат кобальта -350-500; дисульфид вольфрама - 150-200, борная кислота - 40-45; хлорид натрия - 15-20; восстановленный оксид графена - 0,5-1; алмаз - 2-3; лонсдейлит 0,1-0,2; графен - 0,6-0,8; астрален 0,2- 0,4; углеродные нанотрубки - 1-2; дисилицид вольфрама 1-2; карбид тантала - 0,5-1; нитрид углерода-бора - 0,5-1; диборид магния - 1-2; оксид кобальта -0,5-1, при температуре 40-45°С, Рн 5,2-5,8, плотность тока - 4-6 А/дм².For example, electrochemical deposition of cobalt-tungsten-boron-DChV coatings is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: cobalt sulfate -350-500; tungsten disulfide - 150-200, boric acid - 40-45; sodium chloride - 15-20; reduced graphene oxide - 0.5-1; diamond - 2-3; lonsdaleite 0.1-0.2; graphene - 0.6-0.8; astralen 0.2-0.4; carbon nanotubes - 1-2; tungsten disilicide 1-2; tantalum carbide - 0.5-1; carbon boron nitride - 0.5-1; magnesium diboride - 1-2; cobalt oxide -0.5-1, at a temperature of 40-45 ° C, Rn 5.2-5.8, current density - 4-6 A / dm ² .

Например, электрохимическое осаждение кобальт-сурьма-олово-фосфор-ДЧВ покрытия осуществляют из электролита состава, г/л: сульфат кобальта - 280-300; сульфат сурьмы -50-80; хлорид олова -15-20; фосфорная кислота - 100-140; муравьинокислый натрий - 39-42; пирографит - 2-5; углеродные нанотрубки - 1-2; графит - 1-2; восстановленный оксид графена - 0,5-1; карбид хрома - 2-3; нитрид кремния - 0,5-1; карбонитрид гафния - 0,1-0,5; диборид бериллия - 1-2; оксид молибдена - 1-2, сульфат натрия - 70-75; сульфат аммония - 3-4, при температуре 95-100°С, Рн 2,0-2,5, плотность тока - 100-250 А/дм².For example, electrochemical deposition of cobalt-antimony-tin-phosphorus-DChV coatings is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: cobalt sulfate - 280-300; antimony sulfate -50-80; stannous chloride -15-20; phosphoric acid - 100-140; sodium formate - 39-42; pyrographite - 2-5; carbon nanotubes - 1-2; graphite - 1-2; reduced graphene oxide - 0.5-1; chromium carbide - 2-3; silicon nitride - 0.5-1; hafnium carbonitride - 0.1-0.5; beryllium diboride - 1-2; molybdenum oxide - 1-2, sodium sulfate - 70-75; ammonium sulfate - 3-4, at a temperature of 95-100 ° C, pH 2.0-2.5, current density - 100-250 A / dm ² .

Например, электрохимическое осаждение серебро-ДЧВ покрытия осуществляют из электролита состава, г/л: хлорид серебра - 25-30; калий железосинеродистый - 70-100; гидроксид калия - 0,2-0,8; углекислый калий - 15-20; трилон Б - 60-120; СУАВ - 2-4; алмаз - 1-2; углеродные нанотрубки - 0,75-1; дисилицит тантала - 0,25-0,5; карбид гафния - 0,25-0,5; нитрид углерода-бора - 0,25-0,5; карбонитрид гафния - 0,1-0,24, при температуре 20-25°С, Рн 1-1,5 плотность тока - 0,5-2 А/дм.For example, electrochemical deposition of silver-DChV coatings is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: silver chloride - 25-30; iron-synergistic potassium - 70-100; potassium hydroxide - 0.2-0.8; potassium carbonate - 15-20; Trilon B - 60-120; SUAV - 2-4; diamond - 1-2; carbon nanotubes - 0.75-1; tantalum disilicite - 0.25-0.5; hafnium carbide - 0.25-0.5; carbon-boron nitride - 0.25-0.5; hafnium carbonitride - 0.1-0.24, at a temperature of 20-25 ° C, Rn 1-1.5 current density - 0.5-2 A / dm.

Например, электрохимическое осаждение сплава серебро-палладий-медь-ДЧВ покрытия осуществляют из электролита состава, г/л: хлорид серебра - 25-30;: хлорид палладия - 5-7; сульфат меди - 5-7; калий железосинеродистый - 70-100; гидроксид калия - 0,2-0,8; углекислый калий - 15-20; трилон Б - 60-120; СУАВ - 2-5; пирографит - 1-2; углеродные нанотрубки - 0,5-1; нитрид циркония 1-2; дисилицид титана - 1-2; карбид молибдена - 1-2; нитрид бора - 1-2; оксид графена - 0,1-0,15; диборид молибдена - 0,5-0,75, при температуре 20-25°С, Рн 1-1,5 плотность тока - 0,5-2 А/дм².For example, the electrochemical deposition of an alloy of silver-palladium-copper-DChV coatings is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: silver chloride - 25-30 ;: palladium chloride - 5-7; copper sulfate - 5-7; iron-synergistic potassium - 70-100; potassium hydroxide - 0.2-0.8; potassium carbonate - 15-20; Trilon B - 60-120; SUAV - 2-5; pyrographite - 1-2; carbon nanotubes - 0.5-1; zirconium nitride 1-2; titanium disilicide - 1-2; molybdenum carbide - 1-2; boron nitride - 1-2; graphene oxide - 0.1-0.15; molybdenum diboride - 0.5-0.75, at a temperature of 20-25 ° C, Rn 1-1.5 current density - 0.5-2 A / dm ² .

Например, электрохимическое осаждение золото-ДЧВ покрытия осуществляют из электролита состава, г/л: дицианоурат калия - 8-10; кислота лимонная - 30-40; углекислый калий - 15-20; СУАВ - 2-5; карбин - 0,5-1; фуллерен - 0,1-0,2; углеродные нанотрубки - 1-2; карбид ванадия - 0,25-0,5; оксид тербия - 0,1-0,2, при температуре 20-25°С, Рн 0,5-1,0 плотность тока - 0,5-1,5 А/дм².For example, electrochemical deposition of gold-DChV coating is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: potassium dicyanourate - 8-10; citric acid - 30-40; potassium carbonate - 15-20; SUAV - 2-5; carbyne - 0.5-1; fullerene - 0.1-0.2; carbon nanotubes - 1-2; vanadium carbide - 0.25-0.5; terbium oxide - 0.1-0.2, at a temperature of 20-25 ° C, Rn 0.5-1.0 current density - 0.5-1.5 A / dm ² .

Например, электрохимическое осаждение сплава золото-палладий-медь-серебро-ДЧВ покрытия осуществляется из электролита состава, г/л: дицианоурат калия - 8-10; хлорид палладия- 5-7; сульфат меди - 5-7; хлорид серебра - 5-7; кислота лимонная - 20-30; углекислый калий - 15-20; СУАВ -2-3; фуллерен - 0,1-0,2; карбин - 0,25-0,5; силицид марганца - 0,5-1; карбид циркония - 1-2; нитрид титана - 1-2; карбонитрид титана - 1-2; диборид титана - 0,5-1; диоксид кремния - 1-2, при температуре 20-25°С, Рн 1-1,5 плотность тока - 0,1-2 А/дм².For example, electrochemical deposition of an alloy of gold-palladium-copper-silver-DCHV coating is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: potassium dicyanourate - 8-10; palladium chloride 5-7; copper sulfate - 5-7; silver chloride - 5-7; citric acid - 20-30; potassium carbonate - 15-20; SUAV -2-3; fullerene - 0.1-0.2; carbyne - 0.25-0.5; manganese silicide - 0.5-1; zirconium carbide - 1-2; titanium nitride - 1-2; titanium carbonitride - 1-2; titanium diboride - 0.5-1; silicon dioxide - 1-2, at a temperature of 20-25 ° C, Rn 1-1.5 current density - 0.1-2 A / dm ² .

Например, электрохимическое осаждение платина-ДЧВ покрытия осуществляют из электролита состава, г/л: диаминонитрат платины - 6-9; нитрат аммония - 50-70; гидроксид аммония - 0,3-0,9; нитрат натрия - 10-15; СУАВ - 2-5; фуллерен - 0,2-0,4; восстановленный оксид графена - 0,25-0,5; углеродные нанотрубки 0,25-0,75; силицид хрома - 1-2; карбид ниобия - 0,25-0,5; нитрид кремния - 0,5-0,6; оксид бора - 0,2-0,5, при температуре 50-60°С, Рн 0,1-0,5, плотность тока - 0,5-1,5 А/дм².For example, electrochemical deposition of platinum-DChV coatings is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: platinum diaminonitrate - 6-9; ammonium nitrate - 50-70; ammonium hydroxide - 0.3-0.9; sodium nitrate - 10-15; SUAV - 2-5; fullerene - 0.2-0.4; reduced graphene oxide - 0.25-0.5; carbon nanotubes 0.25-0.75; chromium silicide - 1-2; niobium carbide - 0.25-0.5; silicon nitride - 0.5-0.6; boron oxide - 0.2-0.5, at a temperature of 50-60 ° C, Rn 0.1-0.5, current density - 0.5-1.5 A / dm ² .

Например, электрохимическое осаждение сплава платина-родий-ДЧВ покрытия осуществляют из электролита состава, г/л: диаминонитрат платины- 6-12; нитрат аммония - 50-70; гидроксид аммония - 0,3-0,9; родий в пересчете на металл - 0,1-0,25; нитрат натрия 8-12; СУАВ - 2-4; восстановленный оксид графена - 0,5-1; углеродные нанотрубки 0,5-1; силицид магния - 1-2; карбид тантала-гафния - 0,5-1; нитрид ниобия - 0,25-0,5; диборид ниобия - 0,3-0,5; диоксид титана - 1-2, при температуре 50-60°С, Рн 0,1-0,5 плотность тока - 0,5-1,5 А/дм².For example, electrochemical deposition of a platinum-rhodium-DChV alloy coating is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: platinum diaminonitrate-6-12; ammonium nitrate - 50-70; ammonium hydroxide - 0.3-0.9; rhodium in terms of metal - 0.1-0.25; sodium nitrate 8-12; SUAV - 2-4; reduced graphene oxide - 0.5-1; carbon nanotubes 0.5-1; magnesium silicide - 1-2; tantalum-hafnium carbide - 0.5-1; niobium nitride - 0.25-0.5; niobium diboride - 0.3-0.5; titanium dioxide - 1-2, at a temperature of 50-60 ° C, Rn 0.1-0.5 current density - 0.5-1.5 A / dm ² .

Например, электрохимическое осаждение родий-ДЧВ покрытия осуществляют из электролита состава, г/л: фосфат родия - 1-2; фосфорная кислота 50-60; СУАВ - 1-2; астрален - 1-2; углеродные нанотрубки - 1-2; силицид железа - 1-2; карбид кремния - 2-3; нитрид циркония - 1-2; карбонитрид циркония - 1-2; оксид ниобия - 0,5-1, при температуре 18-20°С, плотность тока - 0,5-1,5 А/дм².For example, the electrochemical deposition of rhodium-DChV coatings is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: rhodium phosphate - 1-2; phosphoric acid 50-60; SUAV - 1-2; astralen - 1-2; carbon nanotubes - 1-2; iron silicide - 1-2; silicon carbide - 2-3; zirconium nitride - 1-2; zirconium carbonitride - 1-2; niobium oxide - 0.5-1, at a temperature of 18-20 ° C, current density - 0.5-1.5 A / dm ² .

Например, электрохимическое осаждение сплава родий-платина-медь-фосфор-ДЧВ покрытия осуществляют из электролита состава, г/л: фосфат родия - 1-2; фосфорная кислота - 50-60; диаминонитрат платины- 6-12; нитрат аммония - 50-70; гидроксид аммония - 0,3-0,9; сульфат меди - 30; СУАВ - 2-3; восстановленный оксид графена - 0,5-1; углеродные нанотрубки - 1-2; силицид цинка -1-2; карбид титана - 2-3; нитрид ванадия - 0,5-1; оксид хрома - 1-2, при температуре 18-20°С, плотность тока - 0,5-1,5 А/дм².For example, the electrochemical deposition of an alloy of rhodium-platinum-copper-phosphorus-DChV coatings is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: rhodium phosphate - 1-2; phosphoric acid - 50-60; platinum diaminonitrate - 6-12; ammonium nitrate - 50-70; ammonium hydroxide - 0.3-0.9; copper sulfate - 30; SUAV - 2-3; reduced graphene oxide - 0.5-1; carbon nanotubes - 1-2; zinc silicide -1-2; titanium carbide - 2-3; vanadium nitride - 0.5-1; chromium oxide - 1-2, at a temperature of 18-20 ° C, current density - 0.5-1.5 A / dm ² .

Например, электрохимическое осаждение палладий-ДЧВ покрытия осуществляют из электролита состава, г/л: хлорид палладия - 4-7; аммоний хлористый - 15-25; натрий азотнокислый - 25-35; аммоний сульфаминовокислый - 10-15; аммиак водный - 7-14; графит - 1-2; СУАВ - 1-5; восстановленный оксид графена - 0,25-0,75; углеродные нанотрубки - 0,25-0,75; карбид ванадия 0,5-1; нитрид тантала - 0,25-0,5; диоксид кремния -2-3, при температуре 25-30°С, Рн 7,5-8,5 плотность тока - 0,5-1,0 А/дм².For example, electrochemical deposition of palladium-DChV coatings is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: palladium chloride - 4-7; ammonium chloride - 15-25; sodium nitrate - 25-35; ammonium sulfamic acid - 10-15; aqueous ammonia - 7-14; graphite - 1-2; SUAV - 1-5; reduced graphene oxide - 0.25-0.75; carbon nanotubes - 0.25-0.75; vanadium carbide 0.5-1; tantalum nitride - 0.25-0.5; silicon dioxide -2-3, at a temperature of 25-30 ° C, pH 7.5-8.5 current density - 0.5-1.0 A / dm ² .

Например, электрохимическое осаждение сплава палладий-платина-медь-ДЧВ покрытия осуществляется из электролита состава, г/л: хлорид палладия-4-7; хлорид платины - 3-5; сульфат меди - 3-5; аммоний хлористый - 15-25; натрий азотнокислый - 25-35; аммоний сульфаминовокислый - 10-15; аммиак водный - 7-14; СУАВ - 3-5; алмаз - 1-2; углеродные нанотрубки -0,25-0,75; карбид молибдена - 1-3; нитрид бора - 1-2; диоксид кремния 2-3, при температуре 25-30°С, Рн 7,5-8,5 плотность тока - 0,5-1,0 А/дм² For example, electrochemical deposition of a palladium-platinum-copper-DChV alloy coating is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: palladium chloride-4-7; platinum chloride - 3-5; copper sulfate - 3-5; ammonium chloride - 15-25; sodium nitrate - 25-35; ammonium sulfamic acid - 10-15; aqueous ammonia - 7-14; SUAV - 3-5; diamond - 1-2; carbon nanotubes -0.25-0.75; molybdenum carbide - 1-3; boron nitride - 1-2; silicon dioxide 2-3, at a temperature of 25-30 ° C, pH 7.5-8.5 current density - 0.5-1.0 A / dm ²

В технологических процессах химического и электрохимического осаждения металл-алмазных покрытий используются ванны, оборудованные специальными системами: нагрева, охлаждения, вентиляции, орошения, перемешивания, барботажа, ультразвукового воздействия, гидродинамического воздействия струей жидкости с высоким скоростным напором и другие.In the technological processes of chemical and electrochemical deposition of metal-diamond coatings, baths are used, equipped with special systems: heating, cooling, ventilation, irrigation, stirring, bubbling, ultrasonic action, hydrodynamic action of a liquid jet with a high velocity head and others.

Решение данной задачи достигается тем, что дисперсная система для химического или электрохимического осаждения из раствора или электролита соответственно, композиционного металл-дисперсного покрытия отличающаяся тем, что она состоит из смеси: жидкой дисперсной среды, твердой дисперсной фазы и стабилизатора в количестве 0,01-12 г/л дисперсной системы, причем, где в качестве дисперсной среды использована вода, а в качестве твердой дисперсной фазы использованы диспергированные частицы вещества в концентрации 0,05-300 г/л дисперсной системы, при этом размер диспергированных частиц составляет от 1 до 300 нм, и они представляют собой смесь, как минимум двух веществ в виде диспергированных частиц, выбранных из группы, содержащей углерод, силицид, карбид, нитрид, карбонитрид, борид, оксид или их сочетание, при этом углерод выбран из группы, содержащей графит, пирографит, восстановленный оксид графена, алмаз, синтетическое углеродное алмазосодержащее вещество, графен, лонсдейлит, фуллерен, астрален, карбин, углеродные нанотрубки или их сочетание, силицид выбран из группы, содержащей силицид марганца, силицид хрома, силицид железа, силицид магния, силицид цинка, дисилицид молибдена, дисилицид вольфрама, дисилицид титана, дисилицид тантала или их сочетание, карбид выбран из группы, содержащей карбид титана, карбид кремния, карбид бора, карбид циркония, карбид гафния, карбид ниобия, карбид ванадия, карбид хрома, карбид никеля, карбид тантала, карбид вольфрама, карбид молибдена, карбид тантала-гафния или их сочетание, нитрид выбран из группы, содержащей нитрид титана, нитрид бора, нитрид кремния, нитрид ванадия, нитрид ниобия, нитрид тантала, нитрид углерода-бора, нитрид циркония или их сочетание, карбонитрид выбран из группы, содержащей карбонитрид гафния, карбонитрид титана, карбонитрид циркония или их сочетание, борид выбран из группы, содержащей диборид тантала, диборид вольфрама, диборид бериллия, диборид магния, диборид ванадия, диборид молибдена, диборид титана, диборид циркония, диборид хрома, диборид гафния, диборид ниобия и их сочетание, оксид выбран из группы, содержащей диоксид кремния, диоксид циркония, диоксид титана, оксид графена, оксид бора, оксид алюминия, оксид железа, оксид хрома, оксид никеля, оксид цинка, оксид кобальта, оксид иттрия, оксид неодима, оксид ниобия, оксид тербия, оксид висмута, оксид кадмия, оксид магния, оксид марганца, оксид молибдена, оксид бериллия, оксид вольфрама или их сочетание, при этом качестве стабилизатора использован низкомолекулярный электролит, коллоидное ПАВ, при этом низкомолекулярный электролит выбран из группы, содержащий неорганический электролит, органический электролит, в качестве неорганического электролита выбраны кислоты из группы, содержащей серную кислоту, соляную кислоту, борную кислоту, фтороводородную кислоту, ортофосфорную кислоту, хромовую кислоту, цианистоводородную кислоту, угольную кислоту, азотистую кислоту, сероводородную кислоту, или их смесь, или из группы гидроксидов, содержащей гидроксид натрия, гидроксид калия, гидроксид аммония или их смесь, органические электролиты выбраны из группы кислот, содержащей уксусную кислоту, муравьиную кислоту, лимонную кислоту, щавелевую кислоту, акриловую кислоту, метакриловую кислоту или их смесь, при этом коллоидное ПАВ выбрано из группы, содержащей неионогенное ПАВ, ионогенное ПАВ, при этом ионогенное ПАВ выбрано из группы содержащей анионное ПАВ, катионное ПАВ, амфотерное ПАВ, в качестве неионогенного ПАВ выбрано вещество из группы, содержащей этоксилаты спиртов, алканоламиды жирных кислот, глицирил лаурат, оксиэтилированные спирты, оксиэтилированные алкилфенолы, моноалкиловые эфиры полиэтиленгликоля или их смесь, в качестве анионного ПАВ выбрано вещество из группы, содержащей капринат натрия, додеканоат натрия, миристинат натрия, олеат натрия, олеат калия стеарат калия, лаурилсульфат натрия, лаурилсульфат калия, тетрадецилсульфат натрия, 4-додецилбензосульфонат или их смесь, в качестве катионного ПАВ выбрано вещество из группы, содержащей диоктадецилдиметиламмоний хлорид, триметилкокоаммоний хлорид, олеилтриметиламмоний хлорид, диметилкокобензиламмоний хлорид, алкилтриметиламмоний хлорид, диметилдодецилбензиламмоний хлорид или их смесь, в качестве амфотерного ПАВ выбрано вещество из группы, содержащей кокамидопропилбетаин, амидобетаин, алкилдиметилкарбоксибетаин, алкилсульфобетаин или в качестве стабилизатора использовано сочетание веществ из указанных групп.The solution to this problem is achieved by the fact that a dispersed system for chemical or electrochemical deposition from a solution or electrolyte, respectively, of a composite metal-dispersed coating, characterized in that it consists of a mixture: a liquid dispersed medium, a solid dispersed phase and a stabilizer in the amount of 0.01-12 g / l of a dispersed system, where, where water is used as a dispersed medium, and dispersed particles of a substance in a concentration of 0.05-300 g / l of a dispersed system are used as a solid dispersed phase, while the size of dispersed particles is from 1 to 300 nm , and they are a mixture of at least two substances in the form of dispersed particles selected from the group containing carbon, silicide, carbide, nitride, carbonitride, boride, oxide, or a combination thereof, while the carbon is selected from the group containing graphite, pyrographite, reduced graphene oxide, diamond, synthetic carbon diamond, graphene, lonsdaleite, fullerene, aster alene, carbyne, carbon nanotubes or a combination thereof, silicide selected from the group containing manganese silicide, chromium silicide, iron silicide, magnesium silicide, zinc silicide, molybdenum disilicide, tungsten disilicide, titanium disilicide, tantalum disilicide or a combination thereof, carbide selected from the group containing titanium carbide, silicon carbide, boron carbide, zirconium carbide, hafnium carbide, niobium carbide, vanadium carbide, chromium carbide, nickel carbide, tantalum carbide, tungsten carbide, molybdenum carbide, tantalum-hafnium carbide or a combination thereof, nitride is selected from the group containing titanium nitride, boron nitride, silicon nitride, vanadium nitride, niobium nitride, tantalum nitride, carbon-boron nitride, zirconium nitride or a combination thereof, the carbonitride is selected from the group containing hafnium carbonitride, titanium carbonitride, zirconium carbonitride or their combination, boride selected from the group containing tantalum diboride, tungsten diboride, beryllium diboride, magnesium diboride, vanadium diboride, molybdenum diboride, titanium diboride, c diboride irconium, chromium diboride, hafnium diboride, niobium diboride and their combination, the oxide is selected from the group containing silicon dioxide, zirconium dioxide, titanium dioxide, graphene oxide, boron oxide, aluminum oxide, iron oxide, chromium oxide, nickel oxide, zinc oxide, cobalt oxide, yttrium oxide, neodymium oxide, niobium oxide, terbium oxide, bismuth oxide, cadmium oxide, magnesium oxide, manganese oxide, molybdenum oxide, beryllium oxide, tungsten oxide or a combination thereof, while a low molecular weight electrolyte, colloidal surfactant is used as a stabilizer while the low molecular weight electrolyte is selected from the group containing an inorganic electrolyte, an organic electrolyte, acids from the group containing sulfuric acid, hydrochloric acid, boric acid, hydrofluoric acid, orthophosphoric acid, chromic acid, hydrocyanic acid, carbonic acid, nitrous acid are selected as the inorganic electrolyte acid, hydrosulfuric acid, or a mixture thereof, or from a group of hydroxides containing hydro sodium oxide, potassium hydroxide, ammonium hydroxide or a mixture thereof, organic electrolytes are selected from the group of acids containing acetic acid, formic acid, citric acid, oxalic acid, acrylic acid, methacrylic acid, or a mixture thereof, while the colloidal surfactant is selected from the group containing nonionic surfactant, ionic surfactant, while the ionic surfactant is selected from the group containing anionic surfactant, cationic surfactant, amphoteric surfactant, as a nonionic surfactant, a substance is selected from the group containing alcohol ethoxylates, fatty acid alkanolamides, glycyryl laurate, oxyethylated alcohols, alkyl polyethylene glycol ethers or a mixture thereof, as an anionic surfactant, a substance was selected from the group containing sodium caprate, sodium dodecanoate, sodium myristinate, sodium oleate, potassium oleate potassium stearate, sodium lauryl sulfate, potassium lauryl sulfate, tetradecyl sodium sulfate, their 4-dodecyl sulfate or their as a cationic surfactant, a substance from the group Comprising dioctadecyldimethylammonium chloride, trimetilkokoammony chloride oleiltrimetilammony chloride dimetilkokobenzilammony chloride, alkyltrimethylammonium chloride, dimetildodetsilbenzilammony chloride or a mixture thereof, as an amphoteric surfactant selected substance from the group consisting of cocamidopropyl betaine, amidobetaine, alkildimetilkarboksibetain sulphobetaines or as stabilizer used a combination of substances from these groups ...

Диспергирование представляет собой тонкое измельчение твердых тел, то есть направленное преобразование в сторону уменьшения размера дисперсных частиц. Количественной характеристикой дисперсности (раздробленности, измельчения) является степень дисперсности (степень раздробленности или измельчения), то есть величина обратная размеру дисперсных частиц.Dispersion is a fine grinding of solids, that is, a directed transformation towards a decrease in the size of dispersed particles. The quantitative characteristic of fineness (fragmentation, grinding) is the degree of fineness (degree of fragmentation or grinding), that is, the reciprocal of the size of dispersed particles.

Дисперсные частицы размером: 1-10 нм являются ультрадисперсными частицами; 10-100 нм (1 мкм) являются высоко дисперсными частицами; 1-100 мкм являются грубодисперсными частицами. Методы получения наноразмерных частиц выбраны из группы, содержащей механическое диспергирование в планетарных, шаровых, вибрационных и других мельницах, ультразвуковое диспергирование в жидкой среде на основе эффекта кавитации, механохимическое диспергирование, электрическое диспергирование, конденсация наночастиц, детонационный синтез наноалмазов, кавитационный синтез наноалмазов, самораспространяющийся высокотемпературный синтез (СВС), золь-гель синтез (ЗГС).Dispersed particles of size: 1-10 nm are ultrafine particles; 10-100 nm (1 μm) are highly dispersed particles; 1-100 microns are coarse particles. Methods for obtaining nanosized particles are selected from the group containing mechanical dispersion in planetary, ball, vibration and other mills, ultrasonic dispersion in a liquid medium based on the cavitation effect, mechanochemical dispersion, electrical dispersion, condensation of nanoparticles, detonation synthesis of nanodiamonds, cavitation synthesis of nanodiamonds, self-propagating synthesis (SHS), sol-gel synthesis (ZGS).

Например, состав дисперсной системы, г/л: жидкая дисперсная среда в виде воды - 1000 г; твердая дисперсная фаза в виде: СУАВ - 3-5, алмаз - 1-2, углеродные нанотрубки - 0,25-0,75; стабилизатор в виде: гидроксид аммония - 0,3-1,1, лаурилсульфат натрия - 0,9-1,5; кокамидопропилбетаин - 1-1,5; этоксилаты спиртов - 2-3.For example, the composition of the dispersed system, g / l: liquid dispersed medium in the form of water - 1000 g; solid dispersed phase in the form: SUAV - 3-5, diamond - 1-2, carbon nanotubes - 0.25-0.75; stabilizer in the form of: ammonium hydroxide - 0.3-1.1, sodium lauryl sulfate - 0.9-1.5; cocamidopropyl betaine - 1-1.5; ethoxylates of alcohols - 2-3.

Например, состав дисперсной системы, г/л: жидкая дисперсная среда в виде воды - 1000 г; твердая дисперсная фаза в виде: СУАВ - 1-5, восстановленный оксид графена - 0,25-0,75, углеродные нанотрубки - 0,25-0,75; стабилизатор в виде: лимонная кислота - 2-2,5, диоктадецилдиметиламмоний хлорид - 0,5-1; амидобетаин - 1-1,5; алканоламиды жирных кислот - 2-3.For example, the composition of the dispersed system, g / l: liquid dispersed medium in the form of water - 1000 g; solid dispersed phase in the form: SUAB - 1-5, reduced graphene oxide - 0.25-0.75, carbon nanotubes - 0.25-0.75; stabilizer in the form: citric acid - 2-2.5, dioctadecyldimethylammonium chloride - 0.5-1; amidobetaine - 1-1.5; fatty acid alkanolamides - 2-3.

Например, состав дисперсной системы, г/л: жидкая дисперсная среда в виде воды - 1000 г; твердая дисперсная фаза в виде: СУАВ - 2-3, восстановленный оксид графена - 0,5-1, углеродные нанотрубки - 1-2; стабилизатор в виде: гидроксид калия - 0,2-0,8, олеата натрия 0,01-0,1, 4-додецилбензосульфонат - 0,9-1,5, диоктадецилдиметиламмоний хлорид 0,25-0,3; алкилдиметилкарбоксибетаин - 0,8-1,2; глицирил лаурат - 1-2.For example, the composition of the dispersed system, g / l: liquid dispersed medium in the form of water - 1000 g; solid dispersed phase in the form: SUAB - 2-3, reduced graphene oxide - 0.5-1, carbon nanotubes - 1-2; stabilizer in the form of: potassium hydroxide - 0.2-0.8, sodium oleate 0.01-0.1, 4-dodecylbenzenesulfonate - 0.9-1.5, dioctadecyldimethylammonium chloride 0.25-0.3; alkyldimethylcarboxybetaine - 0.8-1.2; glycyryl laurate - 1-2.

Например, состав дисперсной системы, г/л: жидкая дисперсная среда в виде воды - 1000 г; твердая дисперсная фаза в виде: СУАВ - 1-2, астрален -1-2, углеродные нанотрубки - 1-2; стабилизатор в виде: борная кислота - 2-4, олеат калия - 0,8-1,0, триметилкокоаммоний хлорид - 0,3-0,5; алкилсульфобетаин - 1,5-2; оксиэтилированные спирты - 2-3.For example, the composition of the dispersed system, g / l: liquid dispersed medium in the form of water - 1000 g; solid dispersed phase in the form: SUAV - 1-2, astralen -1-2, carbon nanotubes - 1-2; stabilizer in the form: boric acid - 2-4, potassium oleate - 0.8-1.0, trimethyl cocoammonium chloride - 0.3-0.5; alkylsulfobetaine - 1.5-2; oxyethylated alcohols - 2-3.

Например, состав дисперсной системы, г/л: жидкая дисперсная среда в виде воды - 1000 г; твердая дисперсная фаза в виде: СУАВ - 0,05, восстановленный оксид графена - 0,15-0,3, углеродные нанотрубки 0,1-0,2; стабилизатор в виде: гидроксид натрия - 0,01-0,1, диметилдодецилбензиламмоний хлорид - 0,01-0,05; кокамидопропилбетаин - 1-1,5; оксиэтилированные алкилфенолы - 1-1,5.For example, the composition of the dispersed system, g / l: liquid dispersed medium in the form of water - 1000 g; solid dispersed phase in the form: SUAB - 0.05, reduced graphene oxide - 0.15-0.3, carbon nanotubes 0.1-0.2; stabilizer in the form of: sodium hydroxide - 0.01-0.1, dimethyldodecylbenzylammonium chloride - 0.01-0.05; cocamidopropyl betaine - 1-1.5; oxyethylated alkyl phenols - 1-1.5.

Например, состав дисперсной системы, г/л: жидкая дисперсная среда в виде воды - 1000 г; твердая дисперсная фаза в виде: СУАВ - 100-150; фуллерен - 20-40; восстановленный оксид графена - 35-60; углеродные нанотрубки 25-50; стабилизатор в виде: соляная кислота - 6-7, олеат калия - 1-1,5, диметилкокобензиламмоний хлорид - 1-1,5; амидобетаин - 1-1,5; моноалкиловые эфиры полиэтиленгликоля - 1-2.For example, the composition of the dispersed system, g / l: liquid dispersed medium in the form of water - 1000 g; solid dispersed phase in the form: SUAV - 100-150; fullerene - 20-40; reduced graphene oxide - 35-60; carbon nanotubes 25-50; a stabilizer in the form of: hydrochloric acid - 6-7, potassium oleate - 1-1.5, dimethyl cocobenzylammonium chloride - 1-1.5; amidobetaine - 1-1.5; monoalkyl ethers of polyethylene glycol - 1-2.

Например, состав дисперсной системы, г/л: жидкая дисперсная среда в виде воды - 1000 г; твердая дисперсная фаза в виде: СУАВ - 75-100; фуллерен - 10-20; карбин - 25-50; стабилизатор в виде: серная кислота - 3-5, тетрадецилсульфат натрия - 0,9-1,2, олеилтриметиламмоний хлорид - 0,5-0,8; алкилсульфобетаин - 1,5-2; глицирил лаурат - 1-2.For example, the composition of the dispersed system, g / l: liquid dispersed medium in the form of water - 1000 g; solid dispersed phase in the form: SUAV - 75-100; fullerene - 10-20; carbyne - 25-50; stabilizer in the form of: sulfuric acid - 3-5, sodium tetradecyl sulfate - 0.9-1.2, oleyltrimethylammonium chloride - 0.5-0.8; alkylsulfobetaine - 1.5-2; glycyryl laurate - 1-2.

Решение данной задачи достигается способом получения дисперсной системы, характеризующийся тем, что проводят диспергирование вещества из указанных групп до размеров диспергированных частиц 1-300 нм, при этом диспергированныые частицы представляют собой смесь, как минимум двух веществ, в виде диспергированных частиц, выбранных из группы, содержащий углерод, силицид, карбид, нитрид, карбонитрид, борид, оксид или их сочетание, при этом углерод выбран из группы, содержащий графит, пирографит, восстановленный оксид графена, алмаз, синтетическое углеродное алмазосодержащее вещество, графен, лонсдейлит, фуллерен, астрален, карбин, углеродные нанотрубки или их сочетание, силицид выбран из группы, содержащей силицид марганца, силицид хрома, силицид железа, силицид магния, силицид цинка, дисилицид молибдена, дисилицид вольфрама, дисилицид титана, дисилицид тантала или их сочетание, карбид выбран из группы, содержащей карбид титана, карбид кремния, карбид бора, карбид циркония, карбид гафния, карбид ниобия, карбид ванадия, карбид хрома, карбид никеля, карбид тантала, карбид вольфрама, карбид молибдена, карбид тантала-гафния или их сочетание, нитрид выбран из группы, содержащей нитрид титана, нитрид бора, нитрид кремния, нитрид ванадия, нитрид ниобия, нитрид тантала, нитрид углерода-бора, нитрид циркония или их сочетания, карбонитрид выбран из группы, содержащей карбонитрид гафния, карбонитрид титана, карбонитрид циркония или их сочетания, борид выбран из группы, содержащей диборид тантала, диборид вольфрама, диборид бериллия, диборид магния, диборид ванадия, диборид молибдена, диборид титана, диборид циркония, диборид хрома, диборид гафния, диборид ниобия и их сочетание, оксид выбран из группы, содержащий диоксид кремния, диоксид циркония, диоксид титана, оксид графена, оксид бора, оксид алюминия, оксид железа, оксид хрома, оксид никеля, оксид цинка, оксид кобальта, оксид иттрия, оксид неодима, оксид ниобия, оксид тербия, оксид висмута, оксид кадмия, оксид магния, оксид марганца, оксид молибдена, оксид бериллия, оксид вольфрама или их сочетание, проводят отжиг в инертной среде или вакууме порошка твердой дисперсной фазы, представляющей собой смесь, как минимум двух веществ, в виде диспергированных частиц из указанной группы, смешивание упомянутой смеси с водным раствором, содержащим вещество, выбранное из группы, включающей гипопосфит натрия, гипопосфит кальция, борогидрид, боразол, гидразинборан, а также ионы металлов в низшей степени окисления Fe²⁺, Sn²⁺, Ti³⁺, Cr²⁺, Mn²⁺, Ce²⁺, Cu⁺ или их смесь, или из группы, включающей азотную кислоту, соляную кислоту, серную кислоту, фтороводородную кислоту или их смесь, или из группы, включающей гидроксид натрия, гидроксид калия, гидроксид аммония, гидроксид олова или их смесь, или с водными растворами, содержащими вещества из указанных групп, и обработку веществами из указанных групп при температуре 20-850°С, давлении 0,1-8 МПа, ультразвуковом воздействии с частотой 22-42 кГц, вакууме 1,3*10^-1 - 1,3*10^-4 Па, в течение от 5 мин до 4 ч, отделение полученного продукта в виде смеси диспергированных частиц вещества из указанной группы от отработанных веществ, а затем осуществляют отмывание продукта дистиллированной или деионизированной водой при использовании гидродинамической обработки струей воды с давлением 8-15 Мпа и проводят ультразвуковую обработку, добавление жидкой дисперсной среды в виде воды и стабилизатора до достижения дисперсной системой рН 4,5-7,1.The solution to this problem is achieved by a method of obtaining a dispersed system, characterized in that the substances from the indicated groups are dispersed to dispersed particle sizes of 1-300 nm, while the dispersed particles are a mixture of at least two substances in the form of dispersed particles selected from the group, containing carbon, silicide, carbide, nitride, carbonitride, boride, oxide or their combination, while the carbon is selected from the group containing graphite, pyrographite, reduced graphene oxide, diamond, synthetic carbon diamond-containing substance, graphene, lonsdaleite, fullerene, astralen, carbyne , carbon nanotubes or a combination thereof, silicide selected from the group containing manganese silicide, chromium silicide, iron silicide, magnesium silicide, zinc silicide, molybdenum disilicide, tungsten disilicide, titanium disilicide, tantalum disilicide or a combination thereof, carbide selected from the group containing carbide titanium, silicon carbide, boron carbide, zirconium carbide, hafnium carbide, kar niobium bide, vanadium carbide, chromium carbide, nickel carbide, tantalum carbide, tungsten carbide, molybdenum carbide, tantalum-hafnium carbide or a combination thereof, the nitride is selected from the group containing titanium nitride, boron nitride, silicon nitride, vanadium nitride, niobium nitride, tantalum nitride, carbon-boron nitride, zirconium nitride, or combinations thereof, carbonitride selected from the group containing hafnium carbonitride, titanium carbonitride, zirconium carbonitride or combinations thereof, boride selected from the group containing tantalum diboride, tungsten diboride, beryllium diboride, magnesium diboride vanadium diboride, molybdenum diboride, titanium diboride, zirconium diboride, chromium diboride, hafnium diboride, niobium diboride and their combination, the oxide is selected from the group containing silicon dioxide, zirconium dioxide, titanium dioxide, graphene iron oxide, boron oxide, aluminum oxide, oxide , chromium oxide, nickel oxide, zinc oxide, cobalt oxide, yttrium oxide, neodymium oxide, niobium oxide, terbium oxide, bismuth oxide, cadmium oxide, magnesium oxide, manganese oxide tsa, molybdenum oxide, beryllium oxide, tungsten oxide or a combination thereof, annealing in an inert atmosphere or vacuum of a solid dispersed phase powder, which is a mixture of at least two substances in the form of dispersed particles from the specified group, mixing the said mixture with an aqueous solution, containing a substance selected from the group consisting of sodium hypophosphite, calcium hypophosphite, borohydride, borazole, hydrazineborane, as well as metal ions in the lowest oxidation state Fe ²⁺ , Sn ²⁺ , Ti ³⁺ , Cr ²⁺ , Mn ²⁺ , Ce ^{2 +} , Cu ⁺ or a mixture thereof, or from the group including nitric acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, hydrofluoric acid or a mixture thereof, or from the group including sodium hydroxide, potassium hydroxide, ammonium hydroxide, tin hydroxide or a mixture thereof, or with aqueous solutions containing substances from these groups, and treatment with substances from these groups at a temperature of 20-850 ° C, a pressure of 0.1-8 MPa, ultrasonic action with a frequency of 22-42 kHz, a vacuum of 1.3 * 10 ^-1 - 1 , 3 * 10 ^-4 Pa, for 5 minutes to 4 hours, separating the resulting product in the form of a mixture of dispersed particles of a substance from the specified group from waste substances, and then washing the product with distilled or deionized water using hydrodynamic treatment with a water jet with a pressure of 8-15 MPa and carry out ultrasonic treatment, adding a liquid dispersed medium in the form of water and a stabilizer until the dispersed system reaches a pH of 4.5-7.1.

При гидродинамической обработке динамическое воздействие на поверхность частиц, представляющих собой смесь дисперсных частиц вещества из указанной группы, осуществляется за счет подачи воды с высоким давлением и расходом, через гидравлические сопла, обеспечивающие высокий скоростной напор водяной струи.During hydrodynamic treatment, the dynamic effect on the surface of particles, which is a mixture of dispersed particles of a substance from this group, is carried out by supplying water with high pressure and flow rate through hydraulic nozzles that provide a high speed pressure of the water jet.

Ультразвуковая обработка заключается в совместном воздействии различных эффектов, возникающих в жидкости под действием мощных ультразвуковых колебаний. Эти эффекты: кавитация, акустические течения, звуковое давление, звукокапиллярный эффект, из которых кавитация играет решающую роль. Кавитационные пузырьки, пульсируя и схлопываясь вблизи загрязнений, разрушают их, создавая известный эффект кавитационной эрозии.Ultrasonic treatment consists in the combined effect of various effects that occur in a liquid under the influence of powerful ultrasonic vibrations. These effects are: cavitation, acoustic flows, sound pressure, sound capillary effect, of which cavitation plays a decisive role. Cavitation bubbles, pulsating and collapsing near pollution, destroy them, creating the well-known effect of cavitation erosion.

Например, технологический процесс способа получения дисперсной системы включает в себя:For example, the technological process of the method for producing a dispersed system includes:

1. Отжиг смеси дисперсных частиц вещества из указанной группы, например, состава мас. %: СУАВ - 30, алмаз - 20, карбин - 5, лонедейлит - 2; карбонитрид тантала-гафния - 8; диоксид кремния - 10; пирографит - 15, карбид вольфрама - 10, в среде инертных газов, выбранных из группы: аргон, неон, ксенон, криптон или их смесь. Отжиг осуществляется при температуре 400-850°С в течение 5-20 минут;1. Annealing a mixture of dispersed particles of substances from the specified group, for example, composition wt. %: SUAV - 30, diamond - 20, carbyne - 5, lonedeylite - 2; tantalum-hafnium carbonitride - 8; silicon dioxide - 10; pyrographite - 15, tungsten carbide - 10, in an inert gas environment selected from the group: argon, neon, xenon, krypton or their mixture. Annealing is carried out at a temperature of 400-850 ° C for 5-20 minutes;

2. Обработка водным раствором восстановителя, например, состава, мас. %: борогидрид - 20, гидразинборан - 10, гипофосфит натрия - 20, сульфат гидразина - 10, окись титана - 10, сульфат олова - 5, хлорид германия - 5, вода -20. Обработка осуществляется в ультразвуковой ванне при температуре 70-90°С в течение 5-20 минут;2. Treatment with an aqueous solution of a reducing agent, for example, composition, wt. %: borohydride - 20, hydrazineborane - 10, sodium hypophosphite - 20, hydrazine sulfate - 10, titanium oxide - 10, tin sulfate - 5, germanium chloride - 5, water -20. Processing is carried out in an ultrasonic bath at a temperature of 70-90 ° C for 5-20 minutes;

3. Промывка проточной холодной водой с температурой 20-22°С в течение 5-15 минуты. Скорость протока воды устанавливается с учетом 4^х кратной замены ванны за смену. При недостаточном качестве промывки предусматривается дополнительная оросительная система;3. Rinsing with cold running water at a temperature of 20-22 ° C for 5-15 minutes. Water flow rate is set with the multiple ^x 4 substitutions per shift bath. In case of insufficient leaching quality, an additional irrigation system is provided;

4. Обработка водным раствором, например, гидроксида аммония концентрации 10-40 мас. %. Обработка осуществляется в ультразвуковой ванне при температуре 45-60°С в течение 5-30 минут;4. Treatment with an aqueous solution, for example, ammonium hydroxide concentration of 10-40 wt. %. Processing is carried out in an ultrasonic bath at a temperature of 45-60 ° C for 5-30 minutes;

5. Промывка проточной холодной водой с температурой 20-22°С в течение 5-15 минуты. Скорость протока воды устанавливается с учетом 4^х кратной замены ванны за смену;5. Rinsing with cold running water at a temperature of 20-22 ° C for 5-15 minutes. Water flow rate is set with the 4 ^x multiple substitutions bath per shift;

6. Отделение смеси дисперсных частиц вещества и сушка в вакууме 1,3*10^-1 Па при температуре 70-80°С в течение 1 часа;6. Separation of a mixture of dispersed particles of the substance and drying in a vacuum of 1.3 * 10 ^-1 Pa at a temperature of 70-80 ° C for 1 hour;

7. Обработка в химическом реакторе водным раствором, например, состава, мас. %: азотная кислота - 57-62, фтороводородная кислота - 25-35 при температуре 200°С, давлении 8 МПа, в течение 7-10 минут.7. Treatment in a chemical reactor with an aqueous solution, for example, composition, wt. %: nitric acid - 57-62, hydrofluoric acid - 25-35 at a temperature of 200 ° C, a pressure of 8 MPa, for 7-10 minutes.

8. Промывка проточной холодной водой в ультразвуковой ванне с температурой 20-22°С в течение 5-7 минут.8. Rinsing with running cold water in an ultrasonic bath with a temperature of 20-22 ° C for 5-7 minutes.

9. Обработка, например, водным раствором соляной кислоты концентрации 15-40 мас. %. Обработка осуществляется при температуре реакционной смеси в течение 40-50 минут.9. Treatment, for example, with an aqueous solution of hydrochloric acid with a concentration of 15-40 wt. %. Processing is carried out at the temperature of the reaction mixture for 40-50 minutes.

10. Промывка дистиллированной холодной водой в ванне для гидродинамической обработки с давлением 12 Мпа, температурой 20-22°С в течение 5-7 минут.10. Rinsing with distilled cold water in a hydrodynamic treatment bath with a pressure of 12 MPa, a temperature of 20-22 ° C for 5-7 minutes.

11. Промывка дистиллированной холодной водой в ванне для ультразвуковой обработки с температурой 20-22°С в течение 5-7 минут.11. Rinsing with distilled cold water in a bath for ultrasonic treatment at a temperature of 20-22 ° C for 5-7 minutes.

12. Отделение полученного продукта в виде смеси дисперсных частиц вещества и добавка жидкой дисперсной среды и стабилизатора до достижения дисперсной системой рН 4,5-7,1.12. Separation of the obtained product in the form of a mixture of dispersed particles of the substance and the addition of a liquid dispersed medium and a stabilizer until the dispersed system reaches a pH of 4.5-7.1.

Например, по представленным решениям было получено двухслойное композиционное металл-дисперсное покрытие на основе сплава никель-серебро-ДЧВ и сплава золото-палладий-медь-серебро-ДЧВ с диспергированным в них частицами вещества из указанной группы, изделия из титанового сплава ВТ-9 (Фиг. 5).For example, according to the solutions presented, a two-layer composite metal-dispersed coating was obtained based on a nickel-silver-DChV alloy and a gold-palladium-copper-silver-DChV alloy with particles of a substance from this group dispersed in them, articles made of titanium alloy VT-9 ( Fig. 5).

Первый слой сплав никель-серебро-ДЧВ покрытия, посредством электрохимического осаждения из раствора состава, г/л: хлорид никеля - 20-30; хлорид серебра - 25-30; калий железосинеродистый - 70-100; гидроксид калия - 0,2-0,8; углекислый калий - 15-20; трилон Б - 60-120; СУАВ - 1-5; алмаз - 1-3; углеродные нанотрубки - 0,5-1; карбид бора - 1-2; нитрид бора - 1-2; карбонитрид титана - 1-2; оксид иттрия - 0,25-0,8, при температуре 20-25°С, Рн 1-1,5 плотность тока - 0,5-2 А/дм².The first layer is an alloy of nickel-silver-DCHV coating, by means of electrochemical deposition from a solution of the composition, g / l: nickel chloride - 20-30; silver chloride - 25-30; iron-synergistic potassium - 70-100; potassium hydroxide - 0.2-0.8; potassium carbonate - 15-20; Trilon B - 60-120; SUAV - 1-5; diamond - 1-3; carbon nanotubes - 0.5-1; boron carbide - 1-2; boron nitride - 1-2; titanium carbonitride - 1-2; yttrium oxide - 0.25-0.8, at a temperature of 20-25 ° C, Rn 1-1.5 current density - 0.5-2 A / dm ² .

Второй слой сплава золото-палладий-медь-серебро-ДЧВ покрытия посредством электрохимического осаждения из электролита состава, г/л:The second layer of the gold-palladium-copper-silver-DChV alloy coating by means of electrochemical deposition from an electrolyte composition, g / l:

г/л: дицианоурат калия - 8-10; хлорид палладия - 5-7; хлорид меди - 5-7; хлорид серебра - 5-7; кислота лимонная - 20-30; углекислый калий - 15-20; СУАВ - 2-7; фуллерен - 0,1-0,2; карбин - 0,25-0,5; карбид титана - 2-3; нитрид титана - 1-2; карбонитрид титана - 1-2; диоксид циркония - 1-2 при температуре 20-25°С, Рн 1-1,5, плотность тока - 0,1-2 А/дм².g / l: potassium dicyanourate - 8-10; palladium chloride - 5-7; copper chloride - 5-7; silver chloride - 5-7; citric acid - 20-30; potassium carbonate - 15-20; SUAV - 2-7; fullerene - 0.1-0.2; carbyne - 0.25-0.5; titanium carbide - 2-3; titanium nitride - 1-2; titanium carbonitride - 1-2; zirconium dioxide - 1-2 at a temperature of 20-25 ° C, pH 1-1.5, current density - 0.1-2 A / dm ² .

Результаты показали, что:The results showed that:

1. Толщина покрытия никель-серебро-ДЧВ составляет 8-12 мкм.1. The thickness of the nickel-silver-DChV coating is 8-12 microns.

2. Толщина покрытия золото-палладий-медь-серебро-ДЧВ составляет 8-12 мкм.2. The thickness of the gold-palladium-copper-silver-DCHV coating is 8-12 microns.

3. Микротвердость титанового сплава ВТ-9 изделия составляет 338-352 НВ, слоя никель-серебро-ДЧВ покрытия 450-480 НВ, слоя золото-палладий-медь-серебро-ДЧВ покрытия 490-510 НВ.3. The microhardness of the titanium alloy VT-9 of the product is 338-352 HB, the layer of nickel-silver-DCHV coating is 450-480 HB, the layer of gold-palladium-copper-silver-DCHV coating is 490-510 HB.

Например, по представленным решениям было получено двухслойное композиционное металл-дисперсное покрытие на основе сплава никель-ДЧВ и золото-палладий-медь-серебро-ДЧВ с диспергированным в них частицами вещества из указанной группы, изделия из титанового сплава ВТ-6 (Фиг. 6).For example, according to the solutions presented, a two-layer composite metal-dispersed coating was obtained based on an alloy of nickel-DChV and gold-palladium-copper-silver-DChV with particles of a substance from this group dispersed in them, articles of titanium alloy VT-6 (Fig. 6 ).

Первый слой композиционного покрытия никель-ДЧВ осаждают посредством химического осаждения никеля на изделия осуществляют из раствора состава, г/л: сульфат никеля или хлорид никеля - 20-30; СУАВ - 1-7; алмаз - 2-3; карбин - 1-2; восстановленный оксид графена - 0,5-1; карбид титана - 2-3; нитрид бора - 1-2; нитрид углерода-бора - 0,25-0,5; карбонитрид циркония - 1-2; оксид алюминия - 0,5-0,8, натрий уксуснокислый - 10-15; гипофосфит натрия - 23-30; тиомочевина - 0,001-0,003; кислота уксусная - 5-10, при Рн = 4,3-5,0, температуре 85-95°С, плотности загрузки 1-2 дм²/л, в течение 2-10 минут. Раствор гипофосфита натрия вводится непосредственно перед никилированием.The first layer of the composite nickel-DChV coating is deposited by chemical deposition of nickel on the products from a solution of the composition, g / l: nickel sulfate or nickel chloride - 20-30; SUAV - 1-7; diamond - 2-3; carbyne - 1-2; reduced graphene oxide - 0.5-1; titanium carbide - 2-3; boron nitride - 1-2; carbon-boron nitride - 0.25-0.5; zirconium carbonitride - 1-2; aluminum oxide - 0.5-0.8, sodium acetate - 10-15; sodium hypophosphite - 23-30; thiourea - 0.001-0.003; acetic acid - 5-10, at pH = 4.3-5.0, temperature 85-95 ° C, loading density 1-2 dm ² / l, within 2-10 minutes. A solution of sodium hypophosphite is injected immediately before nickelization.

Второй слой композиционного покрытия хром-ДЧВ посредством электрохимического осаждения хрома осуществляют из электролита состава, г/л: хромовый ангидрид 230-250; серная кислота - 2-4; трехвалентный хром - 2-3; СУАВ - 2-7; астрален - 0,15-0,2; карбид кремния - 0,5-1; карбонитрид титана - 1-2; нитрид бора - 0,5-1; диоксид циркония - 0,5-1; оксид иттрия 0,1-0,25, катодная плотность тока 50-100 А\дм², температура 45(+-) 2°С.The second layer of the composite chromium-DChV coating by means of electrochemical chromium deposition is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: chromic anhydride 230-250; sulfuric acid - 2-4; trivalent chromium - 2-3; SUAV - 2-7; astralen - 0.15-0.2; silicon carbide - 0.5-1; titanium carbonitride - 1-2; boron nitride - 0.5-1; zirconium dioxide - 0.5-1; yttrium oxide 0.1-0.25, cathode current density 50-100 A / dm ² , temperature 45 (+ -) 2 ° C.

Результаты исследования показали, что: микротвердость материала изделия из титанового сплава ВТ-6 составляет 280-335 НВ, слоя никель-ДЧВ покрытия 520-550 НВ, хром-ДЧВ покрытия 790-860 НВ.The results of the study showed that: the microhardness of the material of the product made of titanium alloy VT-6 is 280-335 HB, the layer of nickel-DChV coating is 520-550 HB, and the chromium-DChV coating is 790-860 HB.

Например, по представленным решениям было получено однослойное композиционное металл-дисперсное покрытие на основе сплава кобальт-хром-молибден-ДЧВ покрытия на изделие из нержавеющей стали 12Х18Н10Т (Фиг. 7) посредством электрохимического осаждения из электролита состава, г/л: сульфат кобальта - 300-450; сульфат хрома - 40-60; молибдат натрия 10-20; гликолевая кислота - 40-45; хлорид натрия - 15-20; СУАВ - 1-5; восстановленный оксид графена - 0,25-0,75; углеродные нанотрубки - 0,25-0,75, карбид бора - 0,5-1; карбид вольфрама - 0,5-1; нитрид циркония - 1-2; карбонитрид циркония - 0,5-1; оксид алюминия - 1-2, при температуре 40-45°С, Рн 5,2-5,8, плотность тока - 4-6 А/дм².For example, according to the presented solutions, a single-layer composite metal-dispersed coating was obtained based on an alloy of cobalt-chromium-molybdenum-DChV coating on a product made of stainless steel 12X18H10T (Fig. 7) by means of electrochemical deposition from an electrolyte of composition, g / l: cobalt sulfate - 300 -450; chromium sulfate - 40-60; sodium molybdate 10-20; glycolic acid - 40-45; sodium chloride - 15-20; SUAV - 1-5; reduced graphene oxide - 0.25-0.75; carbon nanotubes - 0.25-0.75, boron carbide - 0.5-1; tungsten carbide - 0.5-1; zirconium nitride - 1-2; zirconium carbonitride - 0.5-1; aluminum oxide - 1-2, at a temperature of 40-45 ° C, Rn 5.2-5.8, current density - 4-6 A / dm ² .

Результаты исследования показали, что: микротвердость изделия из нержавеющей стали 12Х18Н10Т составляет 175-179 НВ, а слоя кобальт-хром-молибден-ДЧВ покрытия 840-980 НВ.The results of the study showed that: the microhardness of a product made of stainless steel 12X18H10T is 175-179 HB, and the layer of cobalt-chromium-molybdenum-DChV coating is 840-980 HB.

Например, по представленным решениям было получено трехслойное композиционное металл-дисперсное покрытие на основе сплавов: медь-никель-ДЧВ; никель-хром-ДЧВ; хром-молибден-ДЧВ, с диспергированным в них частицами вещества из указанной группы, изделия из титанового сплава ВТ-9 (Фиг. 8).For example, according to the solutions presented, a three-layer composite metal-dispersed coating based on alloys: copper-nickel-DChV; nickel-chromium-DChV; chromium-molybdenum-DChV, with particles of substances from the specified group dispersed in them, articles made of titanium alloy VT-9 (Fig. 8).

Первый слой композиционного покрытия медь-никель-ДЧВ осаждают посредством химического осаждения на изделия из титанового сплава ВТ-9 осуществляют из раствора состава, г/л: сульфат меди или хлорид меди - 30-40; сульфат никеля или хлорид никеля - 20-30; СУАВ - 2-3; алмаз - 2-3; графит -1-2; графен - 0,5-1; углеродные нанотрубки - 2-3; нитрид бора - 1-2; нитрид ниобия - 0,25-0,5; карбид кремния - 0,5-0,7; оксид алюминия - 0,5-0,8, натрий уксуснокислый - 10-15; гипофосфит натрия - 23-30; тиомочевина - 0,001-0,003; кислота уксусная - 5-10, при Рн = 4,3-5,0, температуре 85-95°С, плотности загрузки 1-2 дм²/л, в течение 4-12 минут.The first layer of the composite coating copper-nickel-DChV is deposited by means of chemical deposition on articles made of titanium alloy VT-9 is carried out from a solution of the composition, g / l: copper sulfate or copper chloride - 30-40; nickel sulfate or nickel chloride - 20-30; SUAV - 2-3; diamond - 2-3; graphite -1-2; graphene - 0.5-1; carbon nanotubes - 2-3; boron nitride - 1-2; niobium nitride - 0.25-0.5; silicon carbide - 0.5-0.7; aluminum oxide - 0.5-0.8, sodium acetate - 10-15; sodium hypophosphite - 23-30; thiourea - 0.001-0.003; acetic acid - 5-10, at pH = 4.3-5.0, temperature 85-95 ° C, loading density 1-2 dm ² / l, within 4-12 minutes.

Второй слой композиционного покрытия хром-никель-ДЧВ посредством электрохимического осаждения осуществляют из электролита состава, г/л: хромовый ангидрид 230-250; сульфат никеля - 110-120; серная кислота - 2-4; трехвалентный хром - 2-3; СУАВ- 2-4; алмаз - 1-2; углеродные нанотрубки - 1-2; астрален - 0,15-0,2, карбид кремния - 0,5-1; карбонитрид титана - 1-2, нитрид бора - 0,5-1; нитрид тантала - 0,25-0,5; диоксид циркония - 0,5-1; оксид иттрия 0,1-0,25 катодная плотность тока 50-90 А\дм², температура 45(+-) 2°С.The second layer of the chromium-nickel-DChV composite coating by means of electrochemical deposition is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: chromic anhydride 230-250; nickel sulfate - 110-120; sulfuric acid - 2-4; trivalent chromium - 2-3; SUAV- 2-4; diamond - 1-2; carbon nanotubes - 1-2; astralen - 0.15-0.2, silicon carbide - 0.5-1; titanium carbonitride - 1-2, boron nitride - 0.5-1; tantalum nitride - 0.25-0.5; zirconium dioxide - 0.5-1; yttrium oxide 0.1-0.25 cathode current density 50-90 A / dm ² , temperature 45 (+ -) 2 ° C.

Третий слой композиционного покрытия хром-молибден-ДЧВ посредством электрохимического осаждения осуществляют из электролита состава, г/л: хромовый ангидрид 180-200; молибдат натрия - 15-30; серная кислота - 2-4; трехвалентный хром - 2-3; СУАВ - 2-4; алмаз - 1-2; углеродные нанотрубки - 1-2; астрален - 0,15-0,2, карбид гафния - 0,5-1; карбонитрид гафния - 0,1-0,5; нитрид бора - 0,5-1; нитрид тантала - 0,25-0,5; диоксид кремния - 0,5-1; дисилицид молибдена - 0,5-1; оксид ниобия 0,1-0,25 катодная плотность тока 50-90 А\дм², температура 45(+-) 2°С.The third layer of the composite coating chromium-molybdenum-DChV by means of electrochemical deposition is carried out from an electrolyte of the composition, g / l: chromic anhydride 180-200; sodium molybdate - 15-30; sulfuric acid - 2-4; trivalent chromium - 2-3; SUAV - 2-4; diamond - 1-2; carbon nanotubes - 1-2; astralen - 0.15-0.2, hafnium carbide - 0.5-1; hafnium carbonitride - 0.1-0.5; boron nitride - 0.5-1; tantalum nitride - 0.25-0.5; silicon dioxide - 0.5-1; molybdenum disilicide - 0.5-1; niobium oxide 0.1-0.25 cathode current density 50-90 A / dm ² , temperature 45 (+ -) 2 ° C.

Результаты показали, что:The results showed that:

1. Толщина покрытия медь-никель-ДЧВ составляет 9-12 мкм.1. The thickness of the copper-nickel-DChV coating is 9-12 microns.

2. Толщина покрытия хром-никель-ДЧВ составляет 15-17 мкм.2. The thickness of the chromium-nickel-DChV coating is 15-17 microns.

3. Толщина покрытия хром-молибден-ДЧВ составляет 13-15 мкм.3. The thickness of the chromium-molybdenum-DChV coating is 13-15 microns.

4. Микротвердость титанового сплава ВТ-9 изделия составляет 338-352НВ, слоя медь-никель-ДЧВ покрытия 510-530 НВ, слоя хром-никель-ДЧВ покрытия 540-550 НВ, слоя хром-молибден-ДЧВ покрытия 970-990 НВ.4. The microhardness of the titanium alloy VT-9 of the product is 338-352NV, the copper-nickel-DChV coating layer is 510-530 HB, the chromium-nickel-DChV coating layer is 540-550 HB, the chromium-molybdenum-DChV coating layer is 970-990 HB.

Композиционные металл-дисперсные покрытия, в сравнении с обычными хромоникелевыми покрытиями, позволяют увеличивать: коррозионную стойкость в 8…9 раз, износостойкость в 2…5 раз, микротвердость в 1,5…2 раза, срок службы в 3…6 раз, когезионную прочность в 1,1…1,9 раз, пластичность в 2…5 раз, теплопроводность в 2…3 раза, огнестойкость и термостойкость 3…4 раза, рабочую температуру до 2000°С, а также снижение коэффициента сухого трения до 0,09.Composite metal-dispersed coatings, in comparison with conventional chromium-nickel coatings, allow increasing: corrosion resistance 8 ... 9 times, wear resistance 2 ... 5 times, microhardness 1.5 ... 2 times, service life 3 ... 6 times, cohesive strength 1.1 ... 1.9 times, plasticity 2 ... 5 times, thermal conductivity 2 ... 3 times, fire resistance and heat resistance 3 ... 4 times, operating temperature up to 2000 ° C, as well as a decrease in the dry friction coefficient to 0.09.

Например, использование дисилицида молибдена, дисилицида вольфрама, дисилицида титана, дисилицида тантала позволяет получать огнеупорные, жаростойкие и химически стойкие композиционные металл-дисперсные покрытия (КМДП).For example, the use of molybdenum disilicide, tungsten disilicide, titanium disilicide, tantalum disilicide makes it possible to obtain refractory, heat-resistant and chemically resistant composite metal-dispersed coatings (CMDP).

Например, использование твердых веществ, ГПа: алмаз (70-100), лонсдейлит (100-150), фуллерен (150-250), нитрид бора (108-114), нитрид углерода-бора (76), карбид бора (49), карбид титана (20-30), ккарбид вольфрама (13-22) позволяет получать микротвердые КМДП.For example, the use of solids, GPa: diamond (70-100), lonsdaleite (100-150), fullerene (150-250), boron nitride (108-114), carbon-boron nitride (76), boron carbide (49) , titanium carbide (20-30), tungsten carbide (13-22) makes it possible to obtain microhard CMDP.

Например, использование теплопроводных веществ, Вт/мК: медь (401), нитрид бора (180-400), карбид кремния (490), серебро (430), графит (278-2435), алмаз (1000-2600), графен (4400-5800), углеродные нанотрубки (4800-6600) позволяют получать КМДП для использования в теплонапряженных изделиях, лопатках газотурбинных двигателей, а также соплах и камерах сгорания ракетных двигателей.For example, the use of heat-conducting substances, W / mK: copper (401), boron nitride (180-400), silicon carbide (490), silver (430), graphite (278-2435), diamond (1000-2600), graphene ( 4400-5800), carbon nanotubes (4800-6600) make it possible to obtain CMDP for use in heat-stressed products, blades of gas turbine engines, as well as nozzles and combustion chambers of rocket engines.

Например, использование теплоизоляционных веществ, Вт/мК: оксид цинка (54), свинец (35), нержавеющая сталь (15), стекло (1-1,15), оксид кремния (0,00267-0,00325) позволяют получать КМДП для защиты от высокоинтенсивных тепловых потоков.For example, the use of heat-insulating substances, W / mK: zinc oxide (54), lead (35), stainless steel (15), glass (1-1.15), silicon oxide (0.00267-0.00325) make it possible to obtain CMDP to protect against high-intensity heat flows.

Например, использование огнестойких и термостойких веществ, температура плавления, °С: силицид ниобия (1400), никель (1453), хром (1856), титан (1943), молибден (2620), вольфрам (3695), тантал (3880), карбид бора (2350), карбид кремния (2730), карбид вольфрама (2780), карбид титана (3260), карбид тантала (3768), карбид гафния (3959), карбид тантала-гафния (3927), карбонитрид гафния (4142), а также окись металла, борид, нитрид позволяет получать КМДП длительно работающие в области повышенных температур.For example, the use of fire-resistant and heat-resistant substances, melting point, ° С: niobium silicide (1400), nickel (1453), chromium (1856), titanium (1943), molybdenum (2620), tungsten (3695), tantalum (3880), boron carbide (2350), silicon carbide (2730), tungsten carbide (2780), titanium carbide (3260), tantalum carbide (3768), hafnium carbide (3959), tantalum-hafnium carbide (3927), hafnium carbonitride (4142), as well as metal oxide, boride, nitride makes it possible to obtain CMDPs operating for a long time in the region of elevated temperatures.

Например, использование упрочняющих веществ, Н м/кг: Карбин 6,0-7,5 10⁷, алмаз 2,5-6,5 10⁷, графен 4,7-5,5 10⁷, углеродные нанотрубки 4,3-5,0 10⁷ позволяют получать КМДП с повышенной прочностью.For example, the use of hardening substances, N m / kg: Carbyne 6.0-7.5 10 ⁷ , diamond 2.5-6.5 10 ⁷ , graphene 4.7-5.5 10 ⁷ , carbon nanotubes 4.3- 5.0 10 ⁷ allow to obtain CMDP with increased strength.

Например, использование радиопоглощающих веществ: железо, никель, неодим, ниобий, углерод, аллотропные формы углерода, оксиды металлов, карбиды металлов, нитриды металлов позволяет получать КМДП (сплав железо-медь-ниобий-бор-ДЧВ,) с пониженной радиолокационной заметностью.For example, the use of radio-absorbing substances: iron, nickel, neodymium, niobium, carbon, allotropic forms of carbon, metal oxides, metal carbides, metal nitrides makes it possible to obtain CMDP (an alloy of iron-copper-niobium-boron-DCHV) with reduced radar signature.

Например, использование карбида вольфрама, диборида фольфрама, оксида вольфрама, оксид висмута, оксид неодима позволяет получать КМДП для защиты от ионизирующих излучений.For example, the use of tungsten carbide, tungsten diboride, tungsten oxide, bismuth oxide, neodymium oxide makes it possible to obtain CMDP for protection against ionizing radiation.

Например, использование бора, нитрида бора, карбида бора, бериллий, графит, кадмий, гафний позволяет получать КМДП для защиты от нейтронного излучения.For example, the use of boron, boron nitride, boron carbide, beryllium, graphite, cadmium, hafnium makes it possible to obtain CMDP for protection against neutron radiation.

Экспериментальные испытания убедительно подтвердили, что все поставленные задачи успешно решены. Следует отметить, что металлы и диспергированные частицы вещества указанных групп являются наиболее технологичными, взаимозаменяемыми и предпочтительными в применении. Поэтому применение любого металла и диспергированных частиц вещества из указанных группы или их сочетаний будет обеспечивать указанный технический результат. Однако возможно применение и других металлов, подходящих в условиях реализации данного изобретения.Experimental tests have convincingly confirmed that all the tasks have been successfully solved. It should be noted that the metals and dispersed particles of the substances of these groups are the most technological, interchangeable and preferred in use. Therefore, the use of any metal and dispersed particles of substances from the specified group or their combinations will provide the specified technical result. However, it is possible to use other metals suitable for the implementation of this invention.

ЛитератураLiterature

1. Способ получения электрохимического серебряного покрытия, RU №2599471, 10.10.2016 г.1. A method of obtaining an electrochemical silver coating, RU No. 2599471, 10.10.2016

2. Способ получения электрохимического серебро-наноуглерод-алмазного покрытия, RU №2599473, 10.10.2016 г.2. A method of obtaining an electrochemical silver-nanocarbon-diamond coating, RU No. 2599473, 10.10.2016.

3. Способ получения электрохимического хром-алмазного покрытия RU №2585608, опубликовано 27.05.2016 г.3. A method of obtaining an electrochemical chromium-diamond coating RU No. 2585608, published on May 27, 2016.

4. Композиционное металл-алмазное покрытие, способ его получения, алмазосодержащая добавка электролита и способ ее получения, RU №2699699, опубликовано 09.09.2019 г.4. Composite metal-diamond coating, a method for its production, a diamond-containing electrolyte additive and a method for its production, RU No. 2699699, published 09.09.2019.

5. Композиционное металл-алмазное покрытие, способ его получения, дисперсная система для осаждения композиционного металл-алмазного покрытия и способ ее получения, RU №2706931, опубликовано 21.11.2019 г.5. Composite metal-diamond coating, a method for its production, a dispersed system for the deposition of a composite metal-diamond coating and a method for its production, RU No. 2706931, published on November 21, 2019.

Claims

1. Способ получения композиционного металл-дисперсного покрытия, включающий осаждение металла и твердой дисперсной фазы в виде металлической пленки, отличающийся тем, что на поверхность изделия осаждают, как минимум, один слой, нанесенный на часть поверхности изделия, или слой в виде геометрических фигур, полос или сетки, посредством химического или электрохимического осаждения из раствора или электролита соответственно, содержащего источник ионов осаждаемого вещества, выбранный из группы, содержащей железо, никель, хром, цинк, свинец, олово, сурьма, кадмий, титан, вольфрам, висмут, ниобий, цирконий, гафний, иттрий, ванадий, молибден, бериллий, марганец, магний, кобальт, медь, золото, серебро, платина, палладий, родий, фосфор, бор или их сочетания и дисперсную систему, состоящую из смеси: жидкой дисперсной среды, твердой дисперсной фазы и стабилизатора, причем в качестве жидкой дисперсной среды используют воду, в качестве твердой дисперсной фазы используют смесь, как минимум двух веществ, в виде диспергированных частиц, выбранных из группы, содержащей углерод, силицид, карбид, нитрид, карбонитрид, борид, оксид или их сочетание, при этом углерод выбирают из группы, содержащей графит, пирографит, восстановленный оксид графена, алмаз, синтетическое углеродное алмазосодержащее вещество, графен, лонсдейлит, фуллерен, астрален, карбин, углеродные нанотрубки или их сочетание, силицид выбирают из группы, содержащей силицид марганца, силицид хрома, силицид железа, силицид магния, силицид цинка, дисилицид молибдена, дисилицид вольфрама, дисилицид титана, дисилицид тантала или их сочетание, карбид выбирают из группы, содержащей карбид титана, карбид кремния, карбид бора, карбид циркония, карбид гафния, карбид ниобия, карбид ванадия, карбид хрома, карбид никеля, карбид тантала, карбид вольфрама, карбид молибдена, карбид тантала-гафния или их сочетание, нитрид выбирают из группы, содержащей нитрид титана, нитрид бора, нитрид кремния, нитрид ванадия, нитрид ниобия, нитрид тантала, нитрид углерода-бора, нитрид циркония или их сочетание, карбонитрид выбирают из группы, содержащей карбонитрид гафния, карбонитрид титана, карбонитрид циркония и их сочетание, борид выбирают из группы, содержащей диборид тантала, диборид вольфрама, диборид бериллия, диборид магния, диборид ванадия, диборид молибдена, диборид титана, диборид циркония, диборид хрома, диборид гафния, диборид ниобия и их сочетание, оксид выбирают из группы, содержащей диоксид кремния, диоксид циркония, диоксид титана, оксид графена, оксид бора, оксид алюминия, оксид железа, оксид хрома, оксид никеля, оксид цинка, оксид кобальта, оксид иттрия, оксид неодима, оксид ниобия, оксид тербия, оксид висмута, оксид кадмия, оксид магния, оксид марганца, оксид молибдена, оксид бериллия, оксид вольфрама или сочетание веществ из указанных групп, а стабилизатор вводят в дисперсную систему в количестве 0,01-12 г/л дисперсной системы и выбирают из группы, содержащей низкомолекулярный электролит, коллоидное поверхностно-активное вещество или их сочетание, затем, при необходимости, осаждают как минимум один следующий слой посредством химического или электрохимического осаждения из раствора или электролита соответственно, содержащего источник ионов осаждаемого вещества, выбранный из указанной группы, и указанную дисперсную систему, причем при осаждении из раствора или электролита концентрация указанных диспергированных частиц вещества в дисперсной системе составляет от 0,05 до 30 г/л, а размер частиц составляет от 1 до 300 нм, при этом до и после осаждения каждого из слоев производят обработку поверхности промывкой водой, сушкой, обработкой химическими веществами путем обезжиривания, травления, анодного декапирования, сенсибилизации, активирования или несколькими из них, механической обработкой, термической обработкой или несколькими из них.1. A method of obtaining a composite metal-dispersed coating, including the deposition of a metal and a solid dispersed phase in the form of a metal film, characterized in that at least one layer applied to a part of the surface of the product, or a layer in the form of geometric figures, is deposited on the surface of the product, strips or mesh, by means of chemical or electrochemical deposition from a solution or electrolyte, respectively, containing a source of ions of the deposited substance selected from the group containing iron, nickel, chromium, zinc, lead, tin, antimony, cadmium, titanium, tungsten, bismuth, niobium, zirconium, hafnium, yttrium, vanadium, molybdenum, beryllium, manganese, magnesium, cobalt, copper, gold, silver, platinum, palladium, rhodium, phosphorus, boron or their combinations and a dispersed system consisting of a mixture: liquid dispersed medium, solid dispersed phase and stabilizer, moreover, water is used as a liquid dispersed medium, a mixture of at least two substances is used as a solid dispersed phase solid, in the form of dispersed particles selected from the group containing carbon, silicide, carbide, nitride, carbonitride, boride, oxide or a combination thereof, while the carbon is selected from the group containing graphite, pyrographite, reduced graphene oxide, diamond, synthetic carbon diamond substance, graphene, lonsdaleite, fullerene, astralen, carbyne, carbon nanotubes or a combination thereof, the silicide is selected from the group containing manganese silicide, chromium silicide, iron silicide, magnesium silicide, zinc silicide, molybdenum disilicide, tungsten disilicide, titanium disilicide, disilicide or a combination thereof, the carbide is selected from the group consisting of titanium carbide, silicon carbide, boron carbide, zirconium carbide, hafnium carbide, niobium carbide, vanadium carbide, chromium carbide, nickel carbide, tantalum carbide, tungsten carbide, molybdenum carbide, tantalum-hafnium carbide or a combination thereof, the nitride is selected from the group consisting of titanium nitride, boron nitride, silicon nitride, vanadium nitride, niobium nitride, tantalum nitride a, carbon-boron nitride, zirconium nitride or a combination thereof, carbonitride is selected from the group containing hafnium carbonitride, titanium carbonitride, zirconium carbonitride and their combination, boride is selected from the group containing tantalum diboride, tungsten diboride, beryllium diboride, magnesium diboride, diboride vanadium, molybdenum diboride, titanium diboride, zirconium diboride, chromium diboride, hafnium diboride, niobium diboride and their combination, the oxide is selected from the group containing silicon dioxide, zirconium dioxide, titanium dioxide, graphene oxide, boron oxide, aluminum oxide, iron oxide, chromium oxide, nickel oxide, zinc oxide, cobalt oxide, yttrium oxide, neodymium oxide, niobium oxide, terbium oxide, bismuth oxide, cadmium oxide, magnesium oxide, manganese oxide, molybdenum oxide, beryllium oxide, tungsten oxide or a combination of these groups , and the stabilizer is introduced into the dispersed system in an amount of 0.01-12 g / l of the dispersed system and is selected from the group containing a low molecular weight electrolyte, colloidal surface the active substance or their combination, then, if necessary, deposited at least one next layer by means of chemical or electrochemical deposition from a solution or electrolyte, respectively, containing an ion source of the deposited substance selected from the specified group, and the specified dispersed system, and upon deposition from a solution or electrolyte, the concentration of these dispersed particles of the substance in the dispersed system is from 0.05 to 30 g / l, and the particle size is from 1 to 300 nm, while before and after the deposition of each of the layers, the surface is treated by washing with water, drying, processing with chemicals by degreasing, etching, anodic pickling, sensitization, activation or several of them, mechanical treatment, heat treatment or several of them.

2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что химическое осаждение покрытия осуществляют методом вытеснения, методом гальванической пары, методом химического восстановления или сочетанием методов, при этом для химического или электрохимического осаждения используют водный раствор и электролит, содержащий вещества, выбранные из группы, содержащей неорганическую соль в виде сульфата, хлорида или цианида, неорганическое цианистое комплексное соединение, неорганическую или органическую кислоту, и, при необходимости, дополнительные ингредиенты, выбранные из группы, содержащей хромовый ангидрид, дихромат калия, дихромат натрия, дихромат аммония, бисульфат натрия, углекислый натрий, сернокислый натрий, гидроксид натрия, аммиак, гидроксид аммония, гидразин, сульфат гидразина, хлорид гидразиния, гидрокарбонат аммония, гипопосфит натрия, гипопосфит кальция, борогидрид, боразол, гидразинборан, а также ионы металлов в низшей степени окисления Fe²⁺, Sn²⁺, Ti³⁺, Cr²⁺, Mn²⁺, Ce²⁺, Cu⁺, титанат натрия, нитрат аммония, нитрат натрия, ацетат натрия, ацетат аммония, ацетат хрома, ацетат никеля, фторид хрома, фосфинат аммония, цитрат магния, цитрат натрия, сахарин, фтористый хромил, тиомочевину, сегнетову соль, гликоль, клей глютиновый, динатриевую соль этилендиаминтетрауксусной кислоты, фталимид, фторид натрия, ванадиевую кислоту, берилливую кислоту, висмутовую кислоту, молибденовую кислоту, фенолфталеин, бутандиол, трихлорэтиламид, лаурилсульфат натрия, монофосфат цинка, нитрат цинка или их сочетания, при этом сульфаты выбирают из группы, содержащей сульфат натрия, сульфат цинка, сульфат меди, сульфат никеля, сульфат железа, сульфат хрома, сульфат марганца, сульфат магния, сульфат аммония, сульфат свинца (II, IV), дисульфид вольфрама, сульфат висмута (III), сульфат кобальта (II, III), сульфат сурьмы, сульфат титана (II, III, IV), сульфат ванадия (II, III), сульфат бериллия, сульфат родия (III), сульфат олова (II, IV), сульфат циркония (IV), триоксид-дисульфат диниобия, сульфат гафния, сульфат иттрия или их смесь, хлориды выбирают из группы, содержащей хлорид натрия, хлорид аммония, хлорид железа, хлорид никеля, хлорид хрома (II, III, IV), хлорид цинка, хлорид сурьмы (III, V), хлорид свинца (II, IV), хлорид вольфрама (II, III, IV, V, VI), хлорид висмута (I, II, III, IV), хлорид кобальта (II, III), хлорид магния (II), хлорид кадмия (II), хлорид марганца (II, IV), хлорид меди (I, II), хлорид золота (I, II, III), хлорид серебра, хлорид платины (II, IV), хлорид палладия, хлорид родия (III), хлорид ванадия (III), хлорид молибдена (II, III, IV), хлорид бериллия, хлорид олова (II, IV), хлорид ниобия (III, IV, V), хлорид циркония (II, III, IV), хлорид иттрия или их смесь, цианиды выбирают из группы, содержащей цианид натрия, цианид калия и цианид меди, неорганическое цианистое соединение выбирают из группы, содержащей дицианоаргентат калия и дицианоурат калия, в качестве неорганической или органической кислоты используют: серную кислоту, соляную соляную, хромовую кислоту, борную кислоту, фтороводородную кислоту, цианистоводородную кислоту, угольную кислоту, азотистую кислоту, сероводородную кислоту, хлорноватистую кислоту, фосфорноватистую кислоту, ортофосфорную кислоту, акриловую кислоту, метакриловую кислоту, лимонную кислоту, щавелевую кислоту, уксусную кислоту, муравьиную кислоту или их смесь.2. The method according to claim 1, characterized in that the chemical deposition of the coating is carried out by the displacement method, the galvanic pair method, the chemical reduction method or a combination of methods, while for the chemical or electrochemical deposition an aqueous solution and an electrolyte containing substances selected from the group are used, containing an inorganic salt in the form of sulfate, chloride or cyanide, an inorganic cyanide complex compound, an inorganic or organic acid, and, if necessary, additional ingredients selected from the group containing chromic anhydride, potassium dichromate, sodium dichromate, ammonium dichromate, sodium bisulfate, carbonic acid sodium, sodium sulfate, sodium hydroxide, ammonia, ammonium hydroxide, hydrazine, hydrazine sulfate, hydrazinium chloride, ammonium bicarbonate, sodium hypophosphite, calcium hypophosphite, borohydride, borazol, hydrazineborane, as well as metal ions in the lowest oxidation state Fe ²⁺ , Sn ^{2 +} , Ti ³⁺ , Cr ²⁺ , Mn ²⁺ , Ce ²⁺ , Cu ⁺ , titanium sodium at, ammonium nitrate, sodium nitrate, sodium acetate, ammonium acetate, chromium acetate, nickel acetate, chromium fluoride, ammonium phosphinate, magnesium citrate, sodium citrate, saccharin, chromyl fluoride, thiourea, Rochelle salt, glycol, glutin glue, disodium salt ethylenediaminetetraacetic acid, phthalimide, sodium fluoride, vanadic acid, beryllic acid, bismuth acid, molybdic acid, phenolphthalein, butanediol, trichloroethylamide, sodium lauryl sulfate, zinc monophosphate, zinc sulfate, zinc sulfate or their combinations zinc, copper sulfate, nickel sulfate, iron sulfate, chromium sulfate, manganese sulfate, magnesium sulfate, ammonium sulfate, lead (II, IV) sulfate, tungsten disulfide, bismuth (III) sulfate, cobalt (II, III) sulfate, antimony sulfate , titanium sulfate (II, III, IV), vanadium sulfate (II, III), beryllium sulfate, rhodium (III) sulfate, tin (II, IV) sulfate, zirconium (IV) sulfate, diniobium trioxide disulfate, sulfate hafnium atom, yttrium sulfate or their mixture, chlorides are selected from the group containing sodium chloride, ammonium chloride, ferric chloride, nickel chloride, chromium (II, III, IV) chloride, zinc chloride, antimony (III, V) chloride, lead chloride (II, IV), tungsten chloride (II, III, IV, V, VI), bismuth chloride (I, II, III, IV), cobalt chloride (II, III), magnesium (II) chloride, cadmium chloride (II ), manganese chloride (II, IV), copper (I, II) chloride, gold chloride (I, II, III), silver chloride, platinum (II, IV) chloride, palladium chloride, rhodium (III) chloride, vanadium chloride (III), molybdenum chloride (II, III, IV), beryllium chloride, tin chloride (II, IV), niobium chloride (III, IV, V), zirconium chloride (II, III, IV), yttrium chloride or a mixture thereof , cyanides are selected from the group containing sodium cyanide, potassium cyanide and copper cyanide, the inorganic cyanide compound is selected from the group containing potassium dicyanoargentate and potassium dicyanourate, as inorganic or organic acid used: sulfuric acid, hydrochloric hydrochloric, chromic acid, boric acid, hydrofluoric acid, cyanic acid, carbonic acid, nitrous acid, hydrosulfuric acid, hypochlorous acid, hypophosphorous acid, orthophosphoric acid, acrylic acid, methacrylic acid, citric acid, oxalic acid, uric acid.

3. Способ по п. 1, отличающийся тем, что низкомолекулярный электролит выбирают из группы, содержащей неорганический электролит, органический электролит, при этом в качестве неорганического электролита выбирают кислоты из группы, содержащей серную кислоту, соляную кислоту, борную кислоту, фтороводородную кислоту, ортофосфорную кислоту, хромовую кислоту, цианистоводородную кислоту, угольную кислоту, азотистую кислоту, сероводородную кислоту или их смесь, или из группы гидроксидов, содержащей гидроксид натрия, гидроксид калия, гидроксид аммония или их смесь, органические электролиты выбирают из группы кислот, содержащей уксусную кислоту, муравьиную кислоту, лимонную кислоту, щавелевую кислоту, акриловую кислоту, метакриловую кислоту или их смесь, при этом коллоидное ПАВ выбирают из группы, содержащей неионогенное ПАВ и ионогенное ПАВ, при этом ионогенное ПАВ выбирают из группы, содержащей анионное ПАВ, катионное ПАВ, амфотерное ПАВ, в качестве неионогенного ПАВ выбирают вещество из группы, содержащей этоксилаты спиртов, алканоламиды жирных кислот, глицирил лаурат, оксиэтилированные спирты, оксиэтилированные алкилфенолы, моноалкиловые эфиры полиэтиленгликоля или их смесь, в качестве анионного ПАВ выбирают вещество из группы, содержащей капринат натрия, додеканоат натрия, миристинат натрия, олеат натрия, олеат калия стеарат калия, лаурилсульфат натрия, лаурилсульфат калия, тетрадецилсульфат натрия, 4-додецилбензосульфонат или их смесь, в качестве катионного ПАВ выбирают вещество из группы, содержащей диоктадецилдиметиламмоний хлорид, триметилкокоаммоний хлорид, олеилтриметиламмоний хлорид, диметилкокобензиламмоний хлорид, алкилтриметиламмоний хлорид, диметилдодецилбензиламмоний хлорид или их смесь, в качестве амфотерного ПАВ выбирают вещество из группы, содержащей кокамидопропилбетаин, амидобетаин, алкилдиметилкарбоксибетаин, алкилсульфобетаин или сочетания веществ из указанных групп.3. The method according to claim 1, characterized in that the low molecular weight electrolyte is selected from the group containing an inorganic electrolyte, an organic electrolyte, while the inorganic electrolyte is selected from the group containing sulfuric acid, hydrochloric acid, boric acid, hydrofluoric acid, orthophosphoric acid, chromic acid, hydrocyanic acid, carbonic acid, nitrous acid, hydrosulfuric acid or a mixture thereof, or from the group of hydroxides containing sodium hydroxide, potassium hydroxide, ammonium hydroxide or a mixture thereof, organic electrolytes are selected from the group of acids containing acetic acid, formic acid, citric acid, oxalic acid, acrylic acid, methacrylic acid or a mixture thereof, while the colloidal surfactant is selected from the group containing a nonionic surfactant and an ionic surfactant, while the ionic surfactant is selected from the group containing an anionic surfactant, a cationic surfactant, an amphoteric surfactant, as a nonionic surfactant, a substance is selected from the groups s containing ethoxylates of alcohols, alkanolamides of fatty acids, glycyryl laurate, oxyethylated alcohols, oxyethylated alkyl phenols, monoalkyl ethers of polyethylene glycol or a mixture thereof, a substance from the group containing sodium caprate, sodium dodecanoate, sodium myristinate, sodium oleate oleate is selected as an anionic surfactant potassium stearate, sodium lauryl sulfate, potassium lauryl sulfate, sodium tetradecyl sulfate, 4-dodecylbenzenesulfonate or a mixture thereof, as a cationic surfactant, a substance is selected from the group containing dioctadecyldimethylammonium chloride, trimethylcocoammonium chloride, olemethylbenzene trimethyl chloride as an amphoteric surfactant, a substance is selected from the group containing cocamidopropyl betaine, amidobetaine, alkyldimethylcarboxybetaine, alkylsulfobetaine, or combinations of substances from these groups.

4. Способ п. 1, отличающийся тем, что обезжиривание осуществляют веществами, выбранными из группы, содержащей водный раствор гидроксида натрия, гидроксида калия или солей щелочных металлов, органические растворители, поверхностно-активные вещества, электролиты электрохимического обезжиривания, травление осуществляют водными растворами серной кислоты, соляной кислоты, фосфорной кислоты, азотной кислоты, фтороводородной кислоты или их смесью, а также электролитами электрохимического травления, анодное декапирование осуществляют в электролите, содержащем источник ионов осаждаемого металла, сенсибилизацию осуществляют растворами солей металлов, выбранных из группы: Sn²⁺, Fe²⁺, Ti³⁺, Ge²⁺, в качестве растворителя используют воду, кислоту, этанол или их смесь, активирование осуществляют растворами соединений каталитически активных металлов, выбранных из группы: палладий, платина, серебро, родий, рутений, осмий, иридий, в качестве растворителя используют воду, кислоту, аммиак, гидроксид натрия или их смесь.4. The method of claim 1, characterized in that the degreasing is carried out with substances selected from the group containing an aqueous solution of sodium hydroxide, potassium hydroxide or alkali metal salts, organic solvents, surfactants, electrolytes for electrochemical degreasing, etching is carried out with aqueous solutions of sulfuric acid , hydrochloric acid, phosphoric acid, nitric acid, hydrofluoric acid or their mixture, as well as electrolytes of electrochemical etching, anodic pickling is carried out in an electrolyte containing a source of ions of the deposited metal, sensitization is carried out with solutions of metal salts selected from the group: Sn ²⁺ , Fe ^{2 +} , Ti ³⁺ , Ge ²⁺ , water, acid, ethanol or their mixture is used as a solvent, activation is carried out with solutions of compounds of catalytically active metals selected from the group: palladium, platinum, silver, rhodium, ruthenium, osmium, iridium, in water, acid, ammonia, hydroxyl are used as a solvent sodium ide or a mixture thereof.

5. Дисперсная система для химического или электрохимического осаждения из раствора или электролита соответственно, композиционного металл-дисперсного покрытия, отличающаяся тем, что она состоит из смеси: жидкой дисперсной среды, твердой дисперсной фазы и стабилизатора в количестве 0,01-12 г/л дисперсной системы, причем в качестве жидкой дисперсной среды использована вода, а в качестве твердой дисперсной фазы использованы диспергированные частицы вещества в концентрации 0,05-300 г/л дисперсной системы, при этом размер диспергированных частиц составляет от 1 до 300 нм, и они представляют собой смесь, как минимум двух веществ, в виде диспергированных частиц, выбранных из группы, содержащей углерод, силицид, карбид, нитрид, карбонитрид, борид, оксид или их сочетание, при этом углерод выбран из группы, содержащей графит, пирографит, восстановленный оксид графена, алмаз, синтетическое углеродное алмазосодержащее вещество, графен, лонсдейлит, фуллерен, астрален, карбин, углеродные нанотрубки или их сочетание, силицид выбран из группы, содержащей силицид марганца, силицид хрома, силицид железа, силицид магния, силицид цинка, дисилицид молибдена, дисилицид вольфрама, дисилицид титана, дисилицид тантала или их сочетание, карбид выбран из группы, содержащей карбид титана, карбид кремния, карбид бора, карбид циркония, карбид гафния, карбид ниобия, карбид ванадия, карбид хрома, карбид никеля, карбид тантала, карбид вольфрама, карбид молибдена, карбид тантала-гафния или их сочетание, нитрид выбран из группы, содержащей нитрид титана, нитрид бора, нитрид кремния, нитрид ванадия, нитрид ниобия, нитрид тантала, нитрид углерода-бора, нитрид циркония или их сочетание, карбонитрид выбран из группы, содержащей карбонитрид гафния, карбонитрид титана, карбонитрид циркония или их сочетание, борид выбран из группы, содержащей диборид тантала, диборид вольфрама, диборид бериллия, диборид магния, диборид ванадия, диборид молибдена, диборид титана, диборид циркония, диборид хрома, диборид гафния, диборид ниобия и их сочетание, оксид выбран из группы, содержащей диоксид кремния, диоксид циркония, диоксид титана, оксид графена, оксид бора, оксид алюминия, оксид железа, оксид хрома, оксид никеля, оксид цинка, оксид кобальта, оксид иттрия, оксид неодима, оксид ниобия, оксид тербия, оксид висмута, оксид кадмия, оксид магния, оксид марганца, оксид молибдена, оксид бериллия, оксид вольфрама или их сочетание, при этом в качестве стабилизатора использован низкомолекулярный электролит, коллоидное ПАВ, при этом низкомолекулярный электролит выбран из группы, содержащей неорганический электролит, органический электролит, в качестве неорганического электролита выбраны кислоты из группы, содержащей серную кислоту, соляную кислоту, борную кислоту, фтороводородную кислоту, ортофосфорную кислоту, хромовую кислоту, цианистоводородную кислоту, угольную кислоту, азотистую кислоту, сероводородную кислоту или их смесь, или из группы гидроксидов, содержащей гидроксид натрия, гидроксид калия, гидроксид аммония или их смесь, органические электролиты выбраны из группы кислот, содержащей уксусную кислоту, муравьиную кислоту, лимонную кислоту, щавелевую кислоту, акриловую кислоту, метакриловую кислоту или их смесь, при этом коллоидное ПАВ выбрано из группы, содержащей неионогенное ПАВ, ионогенное ПАВ, при этом ионогенное ПАВ выбрано из группы, содержащей анионное ПАВ, катионное ПАВ, амфотерное ПАВ, в качестве неионогенного ПАВ выбрано вещество из группы, содержащей этоксилаты спиртов, алканоламиды жирных кислот, глицирил лаурат, оксиэтилированные спирты, оксиэтилированные алкилфенолы, моноалкиловые эфиры полиэтиленгликоля или их смесь, в качестве анионного ПАВ выбрано вещество из группы, содержащей капринат натрия, додеканоат натрия, миристинат натрия, олеат натрия, олеат калия стеарат калия, лаурилсульфат натрия, лаурилсульфат калия, тетрадецилсульфат натрия, 4-додецилбензосульфонат или их смесь, в качестве катионного ПАВ выбрано вещество из группы, содержащей диоктадецилдиметиламмоний хлорид, триметилкокоаммоний хлорид, олеилтриметиламмоний хлорид, диметилкокобензиламмоний хлорид, алкилтриметиламмоний хлорид, диметилдодецилбензиламмоний хлорид или их смесь, в качестве амфотерного ПАВ выбрано вещество из группы, содержащей кокамидопропилбетаин, амидобетаин, алкилдиметилкарбоксибетаин, алкилсульфобетаин или в качестве стабилизатора использовано сочетание веществ из указанных групп.5. A disperse system for chemical or electrochemical deposition from a solution or electrolyte, respectively, of a composite metal-dispersed coating, characterized in that it consists of a mixture: a liquid dispersed medium, a solid dispersed phase and a stabilizer in an amount of 0.01-12 g / l dispersed systems, moreover, water is used as a liquid dispersed medium, and dispersed particles of a substance in a concentration of 0.05-300 g / l of a dispersed system are used as a solid dispersed phase, while the size of dispersed particles is from 1 to 300 nm, and they are a mixture of at least two substances in the form of dispersed particles selected from the group consisting of carbon, silicide, carbide, nitride, carbonitride, boride, oxide or a combination thereof, wherein the carbon is selected from the group containing graphite, pyrographite, reduced graphene oxide, diamond, synthetic carbon diamond, graphene, lonsdaleite, fullerene, astralen, carbyne, carbon nanotubes or a combination thereof, the silicide is selected from the group containing manganese silicide, chromium silicide, iron silicide, magnesium silicide, zinc silicide, molybdenum disilicide, tungsten disilicide, titanium disilicide, tantalum disilicide or a combination thereof, the carbide is selected from the group containing titanium carbide, carbide silicon, boron carbide, zirconium carbide, hafnium carbide, niobium carbide, vanadium carbide, chromium carbide, nickel carbide, tantalum carbide, tungsten carbide, molybdenum carbide, tantalum-hafnium carbide or a combination thereof, the nitride is selected from the group containing titanium nitride, nitride boron, silicon nitride, vanadium nitride, niobium nitride, tantalum nitride, carbon-boron nitride, zirconium nitride or a combination thereof, the carbonitride is selected from the group containing hafnium carbonitride, titanium carbonitride, zirconium carbonitride or a combination thereof, boride is selected from the group containing diboride tantalum, tungsten diboride, beryllium diboride, magnesium diboride, vanadium diboride, molybdenum diboride, titanium diboride, zirconium diboride, chromium diboride, haf diboride niobium diboride and their combination, the oxide is selected from the group containing silicon dioxide, zirconium dioxide, titanium dioxide, graphene oxide, boron oxide, aluminum oxide, iron oxide, chromium oxide, nickel oxide, zinc oxide, cobalt oxide, yttrium oxide, neodymium oxide, niobium oxide, terbium oxide, bismuth oxide, cadmium oxide, magnesium oxide, manganese oxide, molybdenum oxide, beryllium oxide, tungsten oxide or a combination thereof, while a low molecular weight electrolyte, colloidal surfactant is used as a stabilizer, while a low molecular weight electrolyte is selected from the group containing an inorganic electrolyte, an organic electrolyte, acids from the group containing sulfuric acid, hydrochloric acid, boric acid, hydrofluoric acid, phosphoric acid, chromic acid, hydrocyanic acid, carbonic acid, nitrous acid, hydrosulfuric acid are selected as the inorganic electrolyte their mixture, or from a group of hydroxides containing sodium hydroxide, potassium hydroxide, hydr ammonium oxide or a mixture thereof, organic electrolytes are selected from the group of acids containing acetic acid, formic acid, citric acid, oxalic acid, acrylic acid, methacrylic acid or a mixture thereof, while the colloidal surfactant is selected from the group containing a nonionic surfactant, an ionic surfactant, while the ionic surfactant is selected from the group containing anionic surfactant, cationic surfactant, amphoteric surfactant; as the nonionic surfactant, a substance is selected from the group containing alcohol ethoxylates, fatty acid alkanolamides, glycyryl laurate, oxyethylated alcohols, oxyethylated alkyl ether glycol and their mono-ethylphenols mixtures , as an anionic surfactant selected a substance from the group containing sodium caprate, sodium dodecanoate, sodium myristinate, sodium oleate, potassium oleate potassium stearate, sodium lauryl sulfate, potassium lauryl sulfate, sodium tetradecyl sulfate, 4-dodecylbenzosulfonate or a mixture thereof from the group containing dioctadecyldimethyl mmonium chloride, trimethylcocoammonium chloride, oleyltrimethylammonium chloride, dimethylcocobenzylammonium chloride, alkyltrimethylammonium chloride, dimethyldodecylbenzylammonium chloride or a mixture thereof as a combination of the indicated groups;

6. Способ получения дисперсной системы по п. 5, характеризующийся тем, что проводят диспергирование вещества из указанных групп до размеров диспергированных частиц 1-300 нм, при этом диспергированные частицы представляют собой смесь, как минимум двух веществ, в виде диспергированных частиц, выбранных из группы, содержащей углерод, силицид, карбид, нитрид, карбонитрид, борид, оксид или их сочетание, при этом углерод выбран из группы, содержащей графит, пирографит, восстановленный оксид графена, алмаз, синтетическое углеродное алмазосодержащее вещество, графен, лонсдейлит, фуллерен, астрален, карбин, углеродные нанотрубки или их сочетание, силицид выбран из группы, содержащей силицид марганца, силицид хрома, силицид железа, силицид магния, силицид цинка, дисилицид молибдена, дисилицид вольфрама, дисилицид титана, дисилицид тантала или их сочетание, карбид выбран из группы, содержащей карбид титана, карбид кремния, карбид бора, карбид циркония, карбид гафния, карбид ниобия, карбид ванадия, карбид хрома, карбид никеля, карбид тантала, карбид вольфрама, карбид молибдена, карбид тантала-гафния или их сочетание, нитрид выбран из группы, содержащей нитрид титана, нитрид бора, нитрид кремния, нитрид ванадия, нитрид ниобия, нитрид тантала, нитрид углерода-бора, нитрид циркония или их сочетания, карбонитрид выбран из группы, содержащей карбонитрид гафния, карбонитрид титана, карбонитрид циркония или их сочетания, борид выбран из группы, содержащей диборид тантала, диборид вольфрама, диборид бериллия, диборид магния, диборид ванадия, диборид молибдена, диборид титана, диборид циркония, диборид хрома, диборид гафния, диборид ниобия и их сочетание, оксид выбран из группы, содержащей диоксид кремния, диоксид циркония, диоксид титана, оксид графена, оксид бора, оксид алюминия, оксид железа, оксид хрома, оксид никеля, оксид цинка, оксид кобальта, оксид иттрия, оксид неодима, оксид ниобия, оксид тербия, оксид висмута, оксид кадмия, оксид магния, оксид марганца, оксид молибдена, оксид бериллия, оксид вольфрама или их сочетание, проводят отжиг в инертной среде или вакууме порошка твердой дисперсной фазы, представляющей собой смесь, как минимум двух веществ, в виде диспергированных частиц из указанной группы, смешивание упомянутой смеси с водным раствором, содержащим вещество, выбранное из группы, включающей гипопосфит натрия, гипопосфит кальция, борогидрид, боразол, гидразинборан, а также ионы металлов в низшей степени окисления Fe²⁺, Sn²⁺, Ti³⁺, Cr²⁺, Mn²⁺, Ce²⁺, Cu⁺ или их смесь, или из группы, включающей азотную кислоту, соляную кислоту, серную кислоту, фтороводородную кислоту или их смесь, или из группы, включающей гидроксид натрия, гидроксид калия, гидроксид аммония, гидроксид олова или их смесь, или с водными растворами, содержащими вещества из указанных групп, и обработку веществами из указанных групп при температуре 20-850°С, давлении 0,1-8 МПа, ультразвуковом воздействии с частотой 22-42 кГц, вакууме 1,3*10^-1 - 1,3*10^-4 Па, в течение от 5 мин до 4 ч, отделение полученного продукта в виде смеси диспергированных частиц вещества из указанной группы от отработанных веществ, а затем осуществляют отмывание продукта дистиллированной или деионизированной водой при использовании гидродинамической обработки струей воды с давлением 8-15 МПа и проводят ультразвуковую обработку, и добавление жидкой дисперсной среды в виде воды и стабилизатора до достижения дисперсной системой рН 4,5-7,1.6. A method of obtaining a dispersed system according to claim 5, characterized in that the substances from the indicated groups are dispersed to dispersed particle sizes of 1-300 nm, while the dispersed particles are a mixture of at least two substances in the form of dispersed particles selected from a group containing carbon, silicide, carbide, nitride, carbonitride, boride, oxide or a combination thereof, while the carbon is selected from the group containing graphite, pyrographite, reduced graphene oxide, diamond, synthetic carbon diamond-containing substance, graphene, lonsdaleite, fullerene, astralen , carbyne, carbon nanotubes or a combination thereof, silicide selected from the group containing manganese silicide, chromium silicide, iron silicide, magnesium silicide, zinc silicide, molybdenum disilicide, tungsten disilicide, titanium disilicide, tantalum disilicide or a combination thereof, carbide selected from the group, containing titanium carbide, silicon carbide, boron carbide, zirconium carbide, hafnium carbide, niobium carbide, vanadium carbide , chromium carbide, nickel carbide, tantalum carbide, tungsten carbide, molybdenum carbide, tantalum-hafnium carbide, or a combination thereof, nitride selected from the group containing titanium nitride, boron nitride, silicon nitride, vanadium nitride, niobium nitride, tantalum nitride, carbon nitride -boron, zirconium nitride or combinations thereof, carbonitride is selected from the group containing hafnium carbonitride, titanium carbonitride, zirconium carbonitride or a combination thereof, boride is selected from the group containing tantalum diboride, tungsten diboride, beryllium diboride, magnesium diboride, vanadium diboride, molybdenum diboride , titanium diboride, zirconium diboride, chromium diboride, hafnium diboride, niobium diboride and their combination, the oxide is selected from the group containing silicon dioxide, zirconium dioxide, titanium dioxide, graphene oxide, boron oxide, aluminum oxide, iron oxide, chromium oxide, oxide nickel, zinc oxide, cobalt oxide, yttrium oxide, neodymium oxide, niobium oxide, terbium oxide, bismuth oxide, cadmium oxide, magnesium oxide, manganese oxide, molybdenum oxide, oxide beryllium, tungsten oxide or a combination thereof, annealing in an inert atmosphere or vacuum of a solid dispersed phase powder, which is a mixture of at least two substances in the form of dispersed particles from the specified group, mixing the said mixture with an aqueous solution containing a substance selected from the group including sodium hypophosphite, calcium hypophosphite, borohydride, borazole, hydrazineborane, as well as metal ions in the lowest oxidation state Fe ²⁺ , Sn ²⁺ , Ti ³⁺ , Cr ²⁺ , Mn ²⁺ , Ce ²⁺ , Cu ⁺ or their a mixture, or from the group consisting of nitric acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, hydrofluoric acid or a mixture thereof, or from the group consisting of sodium hydroxide, potassium hydroxide, ammonium hydroxide, tin hydroxide or a mixture thereof, or with aqueous solutions containing substances from of these groups, and treatment with substances from these groups at a temperature of 20-850 ° C, a pressure of 0.1-8 MPa, ultrasonic exposure with a frequency of 22-42 kHz, a vacuum of 1.3 * 10 ^-1 - 1.3 * 10 ^-4 Pa, within 5 minutes up to 4 hours, separation of the obtained product in the form of a mixture of dispersed particles of a substance from the specified group from waste substances, and then the product is washed with distilled or deionized water using hydrodynamic treatment with a water jet with a pressure of 8-15 MPa and ultrasonic treatment is carried out, and liquid dispersed medium in the form of water and a stabilizer until the dispersed system reaches a pH of 4.5-7.1.