NL8401777A - Gasslot voor in- en uitgang van tunnel, waarin verplaatsing en processing van wafers geschiedt met behulp van media onder double-floating conditie. - Google Patents
Gasslot voor in- en uitgang van tunnel, waarin verplaatsing en processing van wafers geschiedt met behulp van media onder double-floating conditie. Download PDFInfo
- Publication number
- NL8401777A NL8401777A NL8401777A NL8401777A NL8401777A NL 8401777 A NL8401777 A NL 8401777A NL 8401777 A NL8401777 A NL 8401777A NL 8401777 A NL8401777 A NL 8401777A NL 8401777 A NL8401777 A NL 8401777A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- cassette
- tunnel
- dome
- wafers
- wafer
- Prior art date
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67784—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations using air tracks
- H01L21/6779—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations using air tracks the workpieces being stored in a carrier, involving loading and unloading
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
* * 4 - 1 -
Gasslot voor in— en uitgang van tunnel, waarin verplaatsing en processing van wafers geschiedt met behulp van media onder double-floating conditie.
In onder anders de Nederlandse Octrooi-aanvragen Nofs 8 103 979 en 5 8 300 649 van de aanvrager zijn doubler-floating wafer transport/processing systemen omschreven, waarbij de verplaatsing van de wafers in een uiterst nauwe tunnel geschiedt met behulp van talloze gasstromen·
Het is daarbij gewenst, dat tijdens het transport en processing van de wafers in de tunnel de buitenlucht geheel vervangen is door een inert gas· 10 Zulks om een verontreiniging van de wafers tijdens het transport en de processing zoveel mogel^jk tegen te gaan·
Het via de in— en uitgang van de tunnel weglekken van dit relatief kostbare en mogelijk giftig medium moet daarbij zoveel mogelijk worden vermeden· 15 Verder moet het via de in- en uitgang van de tunnel binnentreden van de buitenlucht, bevattende verontreinigingen, zoveel mogelijk worden tegen gegaan·
Een gunstige uitvoering van de inrichting volgens de uitvinding is nu daardoor gekenmerkt, dat daarbij gebruik wordt gemaakt van toevoerdomes 20 en mogelijk afvoerdomes, waarop de tunnel is aangesloten, zodanig, dat daarbij in bedrijf de tunnel is aangesloten op het met zulk een inert gas gevulde gedeelte van zulk sen dome.
Een volgend gunstig kenmerk is daarbij, dat het gas in zulk een dome gelijk is aan één van de gebruikt wordende gassen in deze tunnel· 25 Verder, dat daarbij gebruik wordt gemaakt van een gas, welke lichter is dan lucht·
Daarbij is zulk een dame aan haar bovenzijde afgesloten van de buitenlucht, is in een zijwand ervan een opening aangebracht, welke correspondeert met de tunnel-doorgang, strekt deze dame zich vanaf deze opening 30 aver enige afstand verder als bufferruimte in benedenwaartse richting uit en waarbij de onderzijde ervan tenminste tijdelijk geopend is ten behoeve van het inbrengen van wafers, cassettes of cassettes met wafers·
In de tunnel verplaatsen zich de wafers, welke uit de toevoerdome opvolgend worden toegevoerd naar de afvoerdome.
35 Zoals in de toevoerdome een wafer-cassette kan worden ingebracht, heeft deze cassette een verticale opstelling en waarbij vanuit zulk een cassette opvolgend wafers naar de tunnel worden gevoerd·
Bij het in de tunnel voeren van de wafers is het gewenst, dat tenminste 8401777 » , * - 2 - tijdelijk de stuu/druk op de wafer in de toevoerdome hoger ie dan de tegenwerkende kracht, die in de ingang van de tunnel op deze wafer wordt uitgeoefend.
Een volgend gunstig kenmerk van de inrichting is nu, dat in deze 5 dome tenminste tijdens het afvoeren van de wafers naar de tunnel de druk van het inert gas hoger is dan die in de tunnel.
Daarbij is de druk in deze dome ook hoger dan de druk van de buitenlucht en is tenminste gedurende zulk een afvoer van wafers deze dome in toereikende mate van de buitenlucht afgesloten. Zulks om verlies aan gas-10 vormig medium zoveel mogelijk te beperken.
Verder is het gewenst, dat in verband met het met behulp van gasvormig medium transporteren van de wafers bij het uit de tunnel naar de afvoerdome voeren van deze wafers tenminste tijdelijk de druk in deze tunnel hoger is dan die in deze afvoerdome.
15 Zoals verder de druk in deze afvoerdome in verband met het tegengaan van lucht-intreding daarin hoger is dan de atmospherische druk, is dan ook een volgend zeer gunstig kenmerk van de methode van wafer transport, dat. tenminste tijdelijk in de afvoerdome de druk van het inert gas hoger is dan de druk van de buitenlucht, de druk in de tunnel hoger is dan die in de 20 afvoerdome en de druk in de toevoerdome hoger is dan die in de tunnel.
De wafer-cassettes moeten opvolgend in en uit de toe- en afvoer-domes worden gebracht.
Een volgend gunstig kenmerk is nu, dat daarbij de verplaatsingsunit van zulk een cassette gemonteerd is op de afsluitwand, waarmede zulk een 25 dome aan haar onderzijde kan worden afgesloten.
Daarbij vinden de navolgende handelingen plaats:
Een met wafers gevulde cassette wordt op de afsluitwand geplaatst, de afsluitwand wordt vervolgens in opwaartse richting naar de dome bewogen onder de bewerkstelliging van een voldoende afdichting tussen de dome en 30 deze wand, vervolgens wordt deze cassette met behulp van een steppenmotor op opvolgende hoogtes gebracht en vindt vervolgens vanuit deze cassette afvoer van wafers plaats naar de tunnel.-
Andere gunstige kenmerken volgen uit de beschrijving van de hieronder aangegeven Figuren.
35 Figuur 1 toont de inrichting volgens de uitvinding in een langs- doorsnede ervan.
Figuur 2 toont de toevoerdome van de inrichting volgens de Figuur 1 in de toevoer-positis van de cassette.
8401777 -3-.
» %
Figuur 3 is een dwarsdoorsnede van een gewijzigde inrichting volgens Figuur 1 met een toevoer van een wafer-cassette vanaf een cassette—track·
Figuur 4 is een dwarsdoorsnede over de lijn 4-4 van de inrichting volgens de Figuur 1· 5 Figuur 5 toont een detail van de overname-sectie van de toevoerdome.
Figuur 6 is een vergroot detail van da sectie volgens de Figuur 5.
Figuur 7 toont een doorsnede van een gewijzigde dome-opstelling met een zijwaartse verplaatsing van de cassette-houder.
Figuur 8 toont vergrootte details van de opstelling volgens de 10 Figuur 7·
Figuur 9 toont de inrichting volgens de Figuur 1 in een gewijzigde vorm en waarbij zowel de wafers als de cassette worden gereinigd·
Figuur 10 toont de installatie volgens de Figuur 9, waarin de wafers door de reinigingsmodule worden geleid naar hun cassette· 15 In de Figuur 1 is de inrichting 10 voor de processing van de wafers 12 aangegeven· Oeze bestaat daarbij in hoofdzaak uit de tunnel 14 met de r erop aangesloten toevoerdome 16 en de afvoerdome 18,
In de tunnel 14 vindt double—floating wafer-transport en processing plaats, zoals onder andere in de boven vermelde Octrooi-aanvragen is om-20 schreven·
In de tunnel 14 wordt tijdens het bedrijf een overdruk aan inert gas onderhouden, zodat zich daarin geen lucht meer kan bevinden. Zulk een met gas gevuld zijn van de tunnel is gewenst in verband met het beperkt houden van da verontreiniging van de wafers gedurende het transport en de proces-25 sing.
De ondereinden 20 en 22 van de respectievelijke domes 16 en 18 zijn open en zijn elk voorzien van een afdichtrand 26 respectievelijk 28, net behulp van de respectievelijke montage-platen 30 en 32 kan daarbij een voldoende afsluiting van deze domes worden bewerkstelligd.
30 De platen dienen tevens als drager voor cassettes, waarin de wafers zijn of kunnen worden geherbergd.
Op zulk een drager is een mechanisme 36 aangebracht voor het in de hoogterichting kunnen verplaatsen van deze drager, waarbij de erin opgenomen steppermotor zorg draagt voor het verkrijgen van opvolgende posities 35 van de cassette ten opzichte van de tunnel·
De dragers zijn met behulp van een bewegingsinrichting, zoals bijvoorbeeld een tweetal luchtcylinders 38 en 40, eveneens in hoogterichting verplaatsbaar, waarbij in de hoogste positie van zulk een drager deze tegen de 8401777 - 4 - ί « ( respectievelijke afsluitranden 26 en 28 liggen,
In de onderste positie van zulk een montageplaat 30 kan de geledigde cassette 34 vervangen worden door gevulde cassette. Zulks is aangegeven in de Figuur 2, 5 In de Figuur 3 is aangegeven, hoe in een gewijzigde opstelling 16' van de inrichting opvolgend montageplaten 30' met erop bevestigde cassettes 34' uit de cassette-track 42 worden gelicht en deze combinatie na het ledigen ervan wederom naar deze track kan. worden teruggebracht·
In de toevoerdome 16 wordt tenminste tijdens het gesloten zijn ervan 10 een hogere druk onderhouden dan die in de tunnel 1 · Hierdoor kun nen opvolgend wafers 12 door deze tunnel worden aangezogen, zoals zulk een wafer zich in de juists positie bevindt en deze wafer door middel van een gas-impuls vanuit stuwkanalen 46 en 48 naar de ingang 50 van de tunnel 14 wordt gestuwd, zie tevens de Figuren 4, 5 en 6, 15 Daarbij dienen de zijwanden 52 en 54 voor een minimale geleiding over geringe afstand van de wafer 12, De daardoor eventueel veroorzaakte contaminatie van de wafer is uiterst gering en wordt in de tunnel 14 door mid- t del van reiniging van de wafer verwijderd,
Indien deze verontreiniging nog meer beperkt moet worden, is het ook 20 mogelijk, dat zelfs in de cassette een "double-floating" transport van de wafers plaats vindt, hetgeen is aangegeven in de Figuren 7 en 8,
Daarbij wordt de cassette telkenmale over enige afstand in de richting van de tunnel 14 verplaatst en waarbij in hst aangepaste voorgedeelte 50' van deze tunnel de "double-floating" van de wafer plaats vindt, 25 Zulk een cassette-vsrplaatsing in zijwaartse richting werkt, daarbij samen met een zijwaartse verplaatsing van het aangepaste stuwstuk 56 voor deze wafers,
In de ontvangstdoms 18 worden de wafers 12 opvolgend in de cassette! gebracht met behulp van de geringere druk in deze dome dan in de tunnel 14, 30 in samenwerking met stuwjets vanuit de kanalen 58 en 60,
De cassette-zijwanden verschaffen daarbij wederom voldoende geleiding zonder de ontwikkeling van niet gemakkelijk te verwijderen verontreiniging. Ook hierbij is het mogelijk, dat de cassette mede in zijwaartse richting wordt bewogen met toepassing van de "double-floating" transport erin, zo-35 als is aangegeven in de Figuren 7 en 8,
Bij het "double-floating" wafer transport en processing vindt tenminste bij elke hoofd-processing van de wafers een vobr-reiniging plaats onder "double-floating" conditie. Tevens vindt dan veelal na-reiniging onder 84 0 1 7 7 7 J- * - 5 - «double-floating" conditie plaats·
De in Figuur 1 aangegeven domes 12 en 13 zijn dan ook toepasbaar bij een inrichting, waarin voor-reiniging onder "double-floating" conditie, hoofd-processing en na-reiniging onder eveneens "double-floating" condi-5 tie van de wafers plaats vindt·
Bij een volgende gebruikmaking van zulk een cassette, welke met wafers is gevuld in de afvoerdome, fungeert deze cassette vervolgens als zender-cassette in de toevoerdome van een volgende processing-installatie. Daarbij vindt dan verwijdering van contaminatie in de reinigingssectie van 10 deze andere processing plaats onder toepassing van de dome-constructie volgens de uitvinding·
In de Figuren 9 en 10 is aangegeven, hoe naast het reinigen van de wafers 12 in de reinigingsmodule 62 ook reiniging van de* cassette 64 plaats vindt in de reinigingsinstallatie 66· 15 Daarbij geschiedt de overname van de wafers door de zender-cassette 68· In de toevoerdome 16" wordt deze cassette geledigd en warden de wafers opvolgend ontvangen door de gereinigde cassette 64, welke dan is ontvangen door de afvoerdome-18".
Binnen het kader van de uitvinding zijn andere uitvoeringen van de 20 inrichting inclusief een toevoerdome en/of een afvoerdome mogelïjk·
Zo kan zulk een inrichting 10 bestaan uit een installatie, waarin voor-reiniging plaats vindt onder "double-floating" conditie, vervolgens iên of meerdere hoofd-processings van de wafers onder bijvoorbeeld hoog-vacuum geschiedt en vervolgens na-reiniging onder eveneens double-floating 25 conditie plaats vindt. Tevens is het mogelijk, dat daarbij slechts voor-reiniging van de wafers samenwerkt met zulk een hoofd-processing· 8401777
Claims (23)
1, Inrichting, bevattende: tunnel voor double-floating transport en processing van wafers met behulp van tenminste een hoog gefilterde gas; en 5 tenminste één dome, welke zodanig is uitgevoerd, dat daarmede het inwendige van deze tunnel met behulp van een gasslot gescheiden is van de buitenlucht,
2, Inrichting volgens de Conclusie 1, met hat kenmerk, dat daarbij zulk een dome zodanig is uitgevoerd, dat daarin tenminste tijdelijk een 10 ligplaats is opgenomen voor tenminste.een wafer,
3, Inrichting volgens de Conclusie 2, met het kenmerk, dat daarbij zulk een dome zodanig is uitgevoerd, dat daarin tenminste tijdelijk een wafer-cassette aanwezig kan zijn,
4, Inrichting volgens de Conclusie 2, met het kenmerk, dat daarbij 15 deze dome aan zijn bovenzijde is afgesloten, in de zijwand ervan een opening is opgenomen, welke correspondeert met de doorgang van de tunnel en deze dome zich over enige afstand in benedenwaartse richting voorbij deze opening uitstrekt,
5, Werkwijze van de inrichting volgens de Conclusie 4, met het ken-20 merk, dat daarbij in de dame tenminste tijdelijk een gasvormig medium wordt toegsvoerd, welke gelijk is aan het in de tunnel voor de transport van de wafers onder double-floating conditie gebruikt wordende gas,
6, Werkwijze volgens de Conclusie 5, met het kenmerk, dat daarbij het gebruikt wordende gas lichter is dan lucht,
7. Inrichting volgens de Conclusie 4, met het kenmerk, dat zulk een doms aan zijn ondereinde een zodanige af sluitplaat bevat, dat deze tenminste tijdelijk het ondereinde van deze dome kan afsluiten en tenminste tijdelijk over enige afstand verwijderd kan zijn van deze dome,
8. Werkwijze van de inrichting volgens de Conclusie 7, met het ken-30 merk, dat daarbij in zulk een dome tijdens het afvoeren van een wafer vanuit deze dome naar de tunnel een hogere druk van het gasvormige medium wordt onderhouden dan in de passage van de tunnel,
9, Werkwijze volgens de Conclusie 8, met het kenmerk, dat daarbij de verplaatsing van een wafer naar de tunnel mede wordt bewerkstelligd door 35 een stuw-inrichting, welke ter plaatse van de achterzijde van de wafer een stuwkracht uitoefent op deze wafer in de richting van de tunnel,
10, Werkwijze volgens de Conclusie 9, met het kenmerk, dat daarbij zulk een stuw-inrichting tenminste één stuw-jet van gasvormig medium 8401777 -· - 7 - levert ten behoeve van zulk een wafer-verplaatsing·
11· Werkwijze van de inrichting volgens de Conclusie 7, met het kenmerk, dat daarbij in de ontvangstdome tijdens het opvolgend ontvangen van wafers vanuit de tunnel een lagere druk van het gasvormige medium wordt 5 onderhouden dan in de tunnel.
12. Werkwijze volgens de Conclusie 11, met het kenmerk, dat daarbij tijdens de verplaatsing van de wafer vanuit de tunnel naar deze ontvangstdome tBvens stuw-jets van gasvormig medium aanwezig zijn, welke in het uiteinde van de tunnel ter plaatse van de achterzijde van de wafer een resul— 10 terende stuwkracht uitoefenen op deze wafer in de richting van deze dome·
13· Werkwijze volgens de Conclusie 12, met het kenmerk, dat daarbij dan in deze ontvangstdome een hogere druk wordt onderhouden dan de atmos-pherische druk.
14. Inrichting volgens de Conclusie 7, met het kenmerk, dat daarbij 15 in de toevoerdome de afsluitplaat tevens een draagstuk is voor een inrichting, waarmede een wafer-cassette in hoogterichting zodanig verplaatsbaar is, dat opvolgend wafers voor de tunnel-doorgang komen te liggen voor opvolgende afvoer ervan naar de tunnel·
15« Inrichting volgens de Conclusie 7, met het kenmerk, dat daarbij 20 in de ontvangstdome de afsluitplaat tevens een draagstuk is voor een inrichting, waarmede een daarop gemonteerde wafer-cassette zodanig in hoogte^ richting verplaatsbaar is, dat vanuit de tunnel opvolgend wafers terecht kunnen komen in opvolgende ligplaatsen van zulk een cassette·
16. Inrichting volgens één der voorgaande Conclusies, met het kenmerk, 25 dat deze inrichting een frame bevat, waarop tenminste de tunnel is vastge-Z8t en op dit frame tevens een inrichting is gemonteerd zodanig, dat daarmede de afsluitplaat voor een dome in de hoogterichting verplaatsbaar is vanuit een onderste uitwissel-positie van de cassette naar de afsluit-posi-tie ervan onder de dome· 30
17· Werkwijze van de inrichting volgens de Conclusie 16, met het ken merk, dat in de toevoer-sectie ervan in de onderste uitwissel-positie van de afsluitplaat een met wafers gevulde cassette beschikbaar wordt gesteld, de plaat vervolgens omhoog naar zijn afdicht-positie onder de dome wordt gebracht, de cassette opvolgend in hoogterichting wordt verplaatst met op-35 volgende afvoer van wafers uit deze cassette naar de tunnel, na het verwijderen van de laatste wafer uit de cassette deze cassette naar beneden wordt bewogen en de afsluitplaat tezamen met de geledigde cassette wederom naar zijn onderste uitwissel-positie voor cassettes wordt gebracht· 8401777 - 8 - w, i Vt
18. Werkwijze volgens de Conclusie 17, met het kenmerk, dat in de afvoer-sectie ervan in de onderste uitwissel-positie van de afsluitplaat een lege cassette: beschikbaar wordt'gesteld, deze afsluitplaat inclusief de erop gemonteerde cassette omhoog naar zijn afdicht-positie onder de 5 ontvangstdome wordt gebracht, de cassette opvolgend in hoogterichting wordt verplaatst met opvolgend ontvangst van wafers, na het gevuld zijn van deze cassette deze tezamen met de afsluitplaat naar beneden wordt bewogen naar zijn onderste uitwissel-positie»
19. Inrichting volgens één der voorgaande Conclusies, met het ken- 10 merk, dat daarbij deze zodanig is uitgevoerd, dat de afsluitplaat als draagstuk voor een cassette deel uitmaakt van een cassette-track en opvolgend afsluitplaten met behulp van een bewegingsinrichting vanaf deze track naar de dome worden gevoerd»
20. Inrichting volgens één der voorgaande Conclusies, met het ken-15 merk, dat de afsluitplaat-constructie verder zodanig is uitgevoerd, dat deze eveneens in zijwaartse richting verplaatsbaar is in de richting naar en vanaf de tunnel»
21. Inrichting volgens de Conclusie 20, met het kenmerk, dat daarbij het tunnel-uiteinde voorzien is van een uitstekend gedeelte, welke zich 20 over enige afstand in de cassette kan bevinden voor het onder double-floating conditie verplaatsen van de wafer in deze cassette.
22« Inrichting volgens één der voorgaande Conclusies, met het kenmerk, dat deze een processing-installatie omvat, waarin tenminste vèor-reiniging van de wafers als secundaire processing en een hoofd-processing 25 plaats vindt·
23» Inrichting volgens één der voorgaande Conclusies, met het kenmerk, dat deze verder zodanig is uitgevoerd, dat overdracht van de wafers vanuit een cassette plaats vindt naar een zender-cassette voor afvoer * van opvolgende wafers naar de tunnel, in een aparte sectie ervan gelijk met 30 de reiniging van wafers reiniging plaats vindt van de lege cassette en de gereinigde wafers terecht komen in deze gereinigde cassette. i 8401777
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL8401777A NL8401777A (nl) | 1984-06-04 | 1984-06-04 | Gasslot voor in- en uitgang van tunnel, waarin verplaatsing en processing van wafers geschiedt met behulp van media onder double-floating conditie. |
| JP50243185A JPS61502363A (ja) | 1984-06-04 | 1985-06-03 | 二重浮遊状態のウエハ−輸送および処理におけるトンネル入口と出口のガス状ロック |
| PCT/NL1985/000022 WO1985005758A1 (en) | 1984-06-04 | 1985-06-03 | Gaseous lock for entrance and exit of tunnel, in which transport and processing of wafers take place under double floating condition |
| EP19850902683 EP0182856A1 (en) | 1984-06-04 | 1985-06-03 | Gaseous lock for entrance and exit of tunnel, in which transport and processing of wafers take place under double floating condition |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL8401777 | 1984-06-04 | ||
| NL8401777A NL8401777A (nl) | 1984-06-04 | 1984-06-04 | Gasslot voor in- en uitgang van tunnel, waarin verplaatsing en processing van wafers geschiedt met behulp van media onder double-floating conditie. |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NL8401777A true NL8401777A (nl) | 1986-01-02 |
Family
ID=19844036
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NL8401777A NL8401777A (nl) | 1984-06-04 | 1984-06-04 | Gasslot voor in- en uitgang van tunnel, waarin verplaatsing en processing van wafers geschiedt met behulp van media onder double-floating conditie. |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0182856A1 (nl) |
| JP (1) | JPS61502363A (nl) |
| NL (1) | NL8401777A (nl) |
| WO (1) | WO1985005758A1 (nl) |
Families Citing this family (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3719952A1 (de) * | 1987-06-15 | 1988-12-29 | Convac Gmbh | Einrichtung zur behandlung von wafern bei der herstellung von halbleiterelementen |
| DE3735449A1 (de) * | 1987-10-20 | 1989-05-03 | Convac Gmbh | Fertigungssystem fuer halbleitersubstrate |
| DE4100526A1 (de) * | 1991-01-10 | 1992-07-16 | Wacker Chemitronic | Vorrichtung und verfahren zum automatischen vereinzeln von gestapelten scheiben |
| US5762084A (en) * | 1994-07-15 | 1998-06-09 | Ontrak Systems, Inc. | Megasonic bath |
| US5745946A (en) * | 1994-07-15 | 1998-05-05 | Ontrak Systems, Inc. | Substrate processing system |
| US5548505A (en) * | 1994-07-15 | 1996-08-20 | Oktrak Systems, Inc. | Scrubber control system |
| US5924154A (en) * | 1996-08-29 | 1999-07-20 | Ontrak Systems, Inc. | Brush assembly apparatus |
| JP4275769B2 (ja) * | 1998-06-19 | 2009-06-10 | 株式会社渡辺商行 | 基体の移載装置 |
| NL1039113C2 (nl) * | 2011-10-18 | 2013-04-22 | Edward Bok | Semiconductor installatie, bevattende een semiconductor tunnel,waarin de bewerkstelliging van opvolgende rechthoekige platen, bevattende een aantal semiconductor basis-chips, met een tijdelijke opslag ervan in een daarachter gelegen cassette. |
| NL1039114C2 (nl) * | 2011-10-18 | 2013-04-22 | Edward Bok | Semiconductor installatie, waarbij in een semiconductor tunnel ervan de bewerkstelliging van opvolgende rechthoekige platen, bevattende een aantal basis-chips ten behoeve van in een inrichting door deling ervan het verkrijgen van chips. |
| NL1039111C2 (nl) * | 2011-10-18 | 2013-04-22 | Edward Bok | Uitwisselbare semiconductor cassette achter een semiconductor tunnel-opstelling voor het daarin tijdelijk opslaan van de daarin bewerkstelligde rechthoekige platen, bevattende reeds basis-chips. |
| NL1039112C2 (nl) * | 2011-10-18 | 2013-04-22 | Edward Bok | Semiconductor chips, bewerkstelligd in een semiconductor installatie, en waarbij daartoe in een tunnel-opstelling ervan de productie van rechthoekige platen en waaruit tenslotte in een inrichting door deling het verkrijgen ervan. |
| NL1039463C2 (nl) * | 2012-03-13 | 2013-09-16 | Edward Bok | Semiconductor chip, vervaardigd in een semiconductor installatie en waarbij in een semiconductor tunnel-opstelling ervan de opname van een extreem ultra violet lithographysysteem ten behoeve van met behulp van de euv-stralen het plaatsvinden van een belichtings-proces van opvolgende gedeeltes van een semiconductor substraat. |
| NL2010471C2 (en) * | 2013-03-18 | 2014-09-24 | Levitech B V | Substrate processing apparatus. |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5012663B1 (nl) * | 1970-05-07 | 1975-05-13 | ||
| JPS4994077A (nl) * | 1973-01-12 | 1974-09-06 | ||
| US3918706A (en) * | 1974-06-24 | 1975-11-11 | Ibm | Pneumatic sheet transport and alignment mechanism |
| JPS5232150A (en) * | 1975-09-05 | 1977-03-11 | Komatsu Ltd | Reusing device of heat energy of indusrrial oven waste gas |
| JPS5342636A (en) * | 1976-09-30 | 1978-04-18 | Yokogawa Hokushin Electric Corp | Setting condition output system of data gathering equipment |
| US4293249A (en) * | 1980-03-03 | 1981-10-06 | Texas Instruments Incorporated | Material handling system and method for manufacturing line |
| NL8103979A (nl) * | 1981-08-26 | 1983-03-16 | Bok Edward | Methode en inrichting voor het aanbrengen van een film vloeibaar medium op een substraat. |
| US4533342A (en) * | 1983-06-06 | 1985-08-06 | Dayco Corporation | Belt construction for a continuously variable transmission, transverse belt element therefor and methods of making the same |
-
1984
- 1984-06-04 NL NL8401777A patent/NL8401777A/nl not_active Application Discontinuation
-
1985
- 1985-06-03 EP EP19850902683 patent/EP0182856A1/en not_active Withdrawn
- 1985-06-03 JP JP50243185A patent/JPS61502363A/ja active Pending
- 1985-06-03 WO PCT/NL1985/000022 patent/WO1985005758A1/en unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61502363A (ja) | 1986-10-16 |
| EP0182856A1 (en) | 1986-06-04 |
| WO1985005758A1 (en) | 1985-12-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| NL8401777A (nl) | Gasslot voor in- en uitgang van tunnel, waarin verplaatsing en processing van wafers geschiedt met behulp van media onder double-floating conditie. | |
| US7510683B2 (en) | Sample-conveying system having mobile unit | |
| DE69420021T2 (de) | Ein Transportsystem | |
| KR100266765B1 (ko) | 대기가방 저장/배출장치 및 방법 | |
| KR870009446A (ko) | 크린룸 내의 이송 시스템 | |
| CN112707075B (zh) | 堆垛存放组件 | |
| KR970003770A (ko) | 반도체 제조장치 및 이 반도체 제조장치에서 웨이퍼 카세트 내에 있는 웨이퍼의 위치 수정 방법과 웨이퍼 카세트의 이송방법 | |
| KR101110621B1 (ko) | 기판용 수납 용기와 기판용 수납 용기를 위한 기판 반송 설비 | |
| JP2006335514A (ja) | 容器搬送処理装置 | |
| US7210889B2 (en) | Circulating storage system | |
| TWI404661B (zh) | 基板用收納容器與基板用收納容器用之基板搬送設備 | |
| US20020119036A1 (en) | Installation for fabricating semiconductor products | |
| EP0597371A1 (de) | Vorrichtung zum Transportieren von Flaschen in einer Flaschenreinigungsanlage | |
| GB2195597A (en) | Conveyance system for article container case | |
| KR880010483A (ko) | 반도체 웨이퍼용 궤도 운반기 장치 | |
| KR930016317A (ko) | 클린룸용 보관고 | |
| US20040074738A1 (en) | Transport system for cargo containers, in particular for baggage containers | |
| US8484796B2 (en) | Air rinse and transport apparatus | |
| MX9206882A (es) | Mecanismo limpiador, aparato formador de imagenes y sistema formador de imagenes. | |
| JP2002507527A (ja) | 板状の工作物、特にプリント配線板の処理装置 | |
| US5090362A (en) | Arrangement for galvanization of treatment goods in a series of baths | |
| KR900001230B1 (ko) | 소재 가공 운반용 통로의 출입구를 압력 개스로 폐쇄하는 방법 및 장치 | |
| KR100702402B1 (ko) | 반송 시스템 | |
| JPS5738218A (en) | Apparatus for conveying barrel | |
| JP2002347729A (ja) | 吊下げラベルの装着方法及びこれを実施する装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| BV | The patent application has lapsed |