KR960005606A - 부하 박막 트랜지스터를 갖는 에스램 장치 - Google Patents
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Abstract
드레인이 제1,2 전달 벌크 트랜지스터(Qt1, Qt2)를 경유하여 각기 제1, 2비트라인(BL1, BL2)에 접속되는 제1, 2부하 박막 트랜지스터(T1, T2)를 구비하는 플립-플롭을 포함하는 에스램 장치에 있어서, 상기 제2 비트라인이 상기 제1부하 박막 트랜지스터 상에 배열되고, 상기 제1 비트라인이 상기 제2 박막 트랜지스터 상에 배열된다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제8도는 본 발명에 따른 SRAM 셀의 제1실시예를 나타내는 회로도.
Claims (7)
- 제1,2전원 공급라인(Vcc, GND)과, 워드라인(WL1)과, 제1,2 비트라인(BL1, BL2)과, 상기 제1,2 노드(N1,N2)와, 상기 제1 전원 공급 라인과 상기 제1 노드 사이에 접속되며 상기 제2 노드에 접속된 게이트 전극(10)을 갖는 제1부하 트랜지스터(T1)와, 상기 제1노드에 접속된 게이트 전극을 갖는 박막 트랜지스터(T2)와, 상기 제1노드와 상기 제2전원 공급라인 사이에 접속되며 상기 제2 노드에 접속된 게이트 전극(5)을 갖는 제1 구동 벌트 트랜지스터(Qd1)와, 상기 제2 노드와 상기 제2 전원 공급라인 사이에 접속되며, 상기 제1 노드에 접속된 게이트 전극(5)을 갖는 제2 구동 벌크 트랜지스터(Qd2)와, 상기 제1 비트라인과 상기 제1 노드사이에 접속되며 상기 워드 라인에 접속된 게이트 전극(5)을 갖는 제1 전달 벌크 트랜지스터(Qt1), 및 상기 제2 비트라인과 상기 노드사이에 접속되며 상기 워드라인에 접속된 게이트 전극(5)을 갖는 제2 전달 트랜지스터(Qt2)를 구비하고, 상기 제2 비트라인은 상기 제1 부하 박막 트랜지스터 근처에 배열되어 제1 기생 부하 박막트랜지스터(T3)를 생성하며, 상기 제1 비트라인은 상기 제2 부하 박막 트랜지스터 근처에 배열되어 제2기생 부하 박막 트랜지스터(T4)를 생성하는 것을 특징으로 하는 에스램 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 제2 비트라인은 그의 소오스-채널-드레인층(12)에 대해 상기 제1부하 박막 트랜지스터의 게이트 전극의 반대측에 위치하며, 상기 제1 비트라인은 그의 소오스-채널-드레인층(12)에 대해 상기 제2 부하 박막 트랜지스터의 게이트 전극의 반대측에 위치하는 것을 특징으로 하는 에스램 장치.
- 제1, 2 전원 공급 라인 (Vcc, GND)과, 동일한 위치에 배치되는 제1, 2 워드라인(WL1, WL2)과, 제1,2 비트라인(BL1, BL2)과, 제1, 2 노드(N1, N2)와, 상기 제1 전원공급라인과 상기 제1 노드 사이에 접속되며 상기 제2 노드에 접속된 게이트 전극(10)을 갖는 제1 부하 박막트랜지스터(T1)와, 상기 제1 전원공급라인과 상기 제2 노드 사이에 접속되며 상기 제1 노드에 접속된 게이트 전극을 갖는 박막 트랜지스터(T2)와, 상기 제1 노드와 상기 제2 전원공급라인 사이에 접속되며 상기 제2 노드사이에 접속된 게이트 전극(5)을 갖는 제1 구동 벌크 트랜지스터(Qd1)와, 상기 제2노드와 상기 제2 전원 공급라인 사이에 접속되며, 상기 제1 노드에 접속된 게이트 전극(5)을 갖는 제2 구동 벌크 트랜지스터(Qd2)와, 상기 제1 비트라인과 상기 제1 노드사이에 접속되며 상기 워드라인에 접속된 게이트 전극(5)을 갖는 제1 전달 벌크 트랜지스터(Qt1), 및 상기 제2 비트라인과 상기 노드사이에 접속되며 상기 워드라인에 접속된 게이트 전극(5)을 갖는 제2 전달 트랜지스터(Qt2)를 구비하고, 상기 제2 비트라인은 상기 제1 부하 박막 트랜지스터 근처에 배열되어 제1 기생 부하 박막 트랜지스터(T3)를 생성하며, 상기 제1 비트라인은 상기 제2 부하 박막 트랜지스터 근처에 배열되어 제2기생 부하 박막 트랜지스터(T4)를 생성하는 것을 특징으로 하는 에스램 장치.
- 제3항에 있어서, 상기 제2 비트라인은 그의 소오스-채널-드레인층(12)에 대해 상기 제1 부하 트랜지스터의 게이트 전극의 반대측에 위치하며, 상기 제1 비트라인은 그의 소오스-채널-드레인층(12)에 대해 상기 제2 부하 박막 트랜지스터의 게이트 전극의 반대측에 위치하는 것을 특징으로 하는 에스램 장치.
- 제3항에 있어서, 상기 제1, 2 워드라인, 상기 제1,2 비트라인, 상기 제1,2 박막 트랜지스터, 상기 제1,2 구동 벌크 트랜지스터 및 상기 제1,2 전달 트랜지스터는 균형(P)의 일 중심에 대해 대칭인 것을 특징으로 하는 에스램 장치.
- 드레인이 제1,2 전달 벌크 트랜지스터(Qt1, Qt2)를 경유하여 각기 제1,2 비트라인(BL1, BL2)에 접속되는 제1,2 부하 박막 트랜지스터(T1, T2)를 구비하는 플립-플롭을 포함하고, 상기 제2 비트라인이 상기 제1 부하 박막 트랜지스터 상에 배열되고, 상기 제1 비트라인이 상기 제2 박막 트랜지스터 상에 배열되는 것을 특징으로 하는 에스램 장치.
- 드레인이 제1,2 전달 벌크 트랜지스터(Qt1, Qt2)를 경유하여 각기 제1,2 비트라인(BL1, BL2)에 접속되는 제1,2 부하 박막 트랜지스터(T1, T2)를 구비하는 플립-플롭을 포함하고, 상기 제1 부하 박막 트랜지스터의 게이트 전극이 상기 제1 부하 박막 트랜지스터의 채널 영역 밑에 위치하며, 상기 제2 비트라인은 상기 제1 부하 박막 트랜지스터의 상기 채널 영역 위에 위치하고, 상기 제2 부하 박막 트랜지스터의 게이트 전극이 상기 제2 부하 박막 트랜지스터의 채널 영역 밑에 위치하며, 상기 제1 비트라인은 상기 제2 부하 박막 트랜지스터의 상기 채널 영역위에 위치하는 것을 특징으로 하는 에스램 장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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