KR20190024718A - 반송 장치 및 기판 처리 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 반송 정밀도를 향상시키는 것이 가능한 반송 시스템을 제공하는 것을 과제로 한다.
일실시형태의 반송 장치는, 피반송물의 온도를 측정하는 측정 위치와, 상기 측정 위치로부터 격리된 대기 위치 사이에서 이동하는 이재기와, 선단이 상기 이재기로부터 돌출되도록 상기 이재기에 부착되고, 상기 측정 위치에서 상기 피반송물의 온도를 측정하는 온도 센서와, 상기 대기 위치로부터 상기 측정 위치로의 이동 방향측에 개구를 가지며, 상기 온도 센서의 상기 선단을 보호하는 가이드를 갖는다.

Description

반송 장치 및 기판 처리 장치{TRANSFER APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS}
본 발명은 반송 장치 및 기판 처리 장치에 관한 것이다.
종래부터, 세로로 긴 열처리로(爐)를 가지며, 웨이퍼 보우트에 복수매의 웨이퍼를 배치한 상태로 열처리로에 수용하여 웨이퍼를 가열하는 열처리를 행하는 종형 열처리 장치가 알려져 있다(예컨대 특허문헌 1 참조).
종형 열처리 장치에서는, 웨이퍼에 열처리를 행한 후, 웨이퍼 보우트를 열처리로로부터 반출하여 미리 정해진 냉각 시간이 경과한 후, 반송 장치가 웨이퍼 보우트로부터 FOUP(Front-Opening Unified Pod) 내로 웨이퍼를 반송하여 회수한다. 냉각 시간은, 웨이퍼가 미리 정해진 온도(예컨대 80℃)로 냉각될 때까지 요하는 시간과 미리 정해진 대기 시간(마진 시간)의 합계 시간이다. 웨이퍼가 미리 정해진 온도로 냉각될 때까지 요하는 시간은, 예비 실험의 결과 등에 기초하여 미리 설정된다.
특허문헌 1 : 일본 특허 공개 제2016-178216호 공보
그러나, 상기 장치에서는, 웨이퍼 반송에 요하는 시간에 미리 정해진 대기 시간을 포함하기 때문에, 대기 시간만큼 웨이퍼 회수까지의 시간이 길어진다.
따라서, 상기 과제를 감안하여, 회수 시간을 단축하여 생산성의 향상을 도모하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 일양태에 관한 반송 장치는, 피반송물의 온도를 측정하는 측정 위치와, 상기 측정 위치로부터 격리된 대기 위치 사이에서 이동하는 이재기(移載機)와, 선단이 상기 이재기로부터 돌출되도록 상기 이재기에 부착되고, 상기 측정 위치에서 상기 피반송물의 온도를 측정하는 온도 센서와, 상기 대기 위치로부터 상기 측정 위치로의 이동 방향측에 개구를 가지며, 상기 온도 센서의 상기 선단을 보호하는 가이드를 갖는다.
개시한 반송 장치에 의하면, 회수 시간을 단축하여 생산성의 향상을 도모할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시형태에 관한 반송 장치를 구비하는 기판 처리 장치의 개략 구성도이다.
도 2는 본 발명의 실시형태에 관한 반송 장치를 구비하는 기판 처리 장치의 개략 평면도이다.
도 3은 포크의 일례를 나타내는 개략 평면도이다.
도 4는 웨이퍼의 온도를 측정할 때의 포크와 웨이퍼의 위치 관계를 나타내는 개략 평면도이다.
도 5는 온도 센서 및 가이드의 일례를 나타내는 도면(1)이다.
도 6은 온도 센서 및 가이드의 일례를 나타내는 도면(2)이다.
도 7은 온도 센서 및 가이드의 일례를 나타내는 도면(3)이다.
도 8은 본 발명의 실시형태에 관한 웨이퍼 반송 장치에 의한 효과의 설명도이다.
도 9는 포크의 다른 예를 나타내는 개략 평면도이다.
도 10은 온도 센서의 응답성을 나타내는 도면이다.
이하, 본 발명을 실시하기 위한 형태에 관해 도면을 참조하여 설명한다. 또, 본 명세서 및 도면에서, 실질적으로 동일한 구성에 관해서는 동일한 부호를 붙임으로써 중복 설명을 생략한다.
본 발명의 실시형태에 관한 웨이퍼 반송 장치는, 여러가지 기판 처리 장치에 적용할 수 있지만, 이해를 쉽게 하기 위해, 기판 처리 장치의 일례로서 종형 열처리 장치를 이용한 경우를 예를 들어 설명한다.
본 발명의 실시형태에 관한 웨이퍼 반송 장치를 구비하는 기판 처리 장치의 구성예에 관해, 도 1 및 도 2를 참조하여 설명한다. 도 1은, 본 발명의 실시형태에 관한 반송 장치를 구비하는 기판 처리 장치의 개략 구성도이다. 도 2는, 본 발명의 실시형태에 관한 반송 장치를 구비하는 기판 처리 장치의 개략 평면도이다. 또, 도 2에서는, 설명의 편의상, 도 1의 로드 포트(14)의 한쪽과 FIMS 포트(24)에 캐리어(C)가 배치되지 않은 상태를 나타낸다.
기판 처리 장치(1)는, 장치의 외장체를 구성하는 케이스(2)에 수용되어 구성된다. 케이스(2) 내에는, 캐리어 반송 영역(S1)과 웨이퍼 반송 영역(S2)이 형성되어 있다. 캐리어 반송 영역(S1)과 웨이퍼 반송 영역(S2)은 격벽(4)에 의해 구획되어 있다. 격벽(4)에는, 캐리어 반송 영역(S1)과 웨이퍼 반송 영역(S2)을 연통시켜, 웨이퍼(W)를 반송하기 위한 반송구(6)가 마련된다. 반송구(6)는, FIMS(Front-Opening Interface Mechanical Standard) 규격에 따른 도어 기구(8)에 의해 개폐된다. 도어 기구(8)에는 덮개 개폐 장치(7)의 구동 기구가 접속되어 있고, 구동 기구에 의해 도어 기구(8)는 전후 방향 및 상하 방향으로 이동 가능하게 구성되어, 반송구(6)가 개폐된다.
이하, 캐리어 반송 영역(S1) 및 웨이퍼 반송 영역(S2)의 배열 방향을 전후 방향(후술하는 제2 수평 방향에 대응)으로 하고, 전후 방향에 수직인 수평 방향을 좌우 방향(후술하는 제1 수평 방향에 대응)으로 한다.
캐리어 반송 영역(S1)은 대기 분위기 하에 있는 영역이다. 캐리어 반송 영역(S1)은, 피반송물인 반도체 웨이퍼(이하 「웨이퍼(W)」라고 함)가 수납된 캐리어(C)를, 기판 처리 장치(1) 내의 후술하는 요소 사이에서 반송하거나, 외부로부터 기판 처리 장치(1) 내에 반입하거나, 또는 기판 처리 장치(1)로부터 외부로 반출하는 영역이다. 캐리어(C)는, 예컨대 FOUP(Front-Opening Unified Pod)이어도 좋다. FOUP 내의 청정도가 미리 정해진 레벨로 유지됨으로써, 웨이퍼(W)의 표면에 대한 이물질의 부착이나 자연 산화막의 형성을 방지할 수 있다. 캐리어 반송 영역(S1)은, 제1 반송 영역(10)과, 제1 반송 영역(10)의 후방(웨이퍼 반송 영역(S2)측)에 위치하는 제2 반송 영역(12)으로 구성된다.
제1 반송 영역(10)에는, 일례로서 상하로 2단(도 1 참조)이며, 또한 각 단의 좌우에 2개(도 2 참조)의 로드 포트(14)가 설치된다. 로드 포트(14)는, 캐리어(C)가 기판 처리 장치(1)에 반입되었을 때에, 캐리어(C)를 수용하는 반입용의 배치대이다. 로드 포트(14)는, 케이스(2)의 벽이 개방된 개소에 설치되어, 외부로부터 기판 처리 장치(1)로의 액세스가 가능하게 되어 있다. 구체적으로는, 기판 처리 장치(1)의 외부에 설치된 반송 장치(도시하지 않음)에 의해, 로드 포트(14) 상으로의 캐리어(C)의 반입 및 배치와, 로드 포트(14)로부터 외부로의 캐리어(C)의 반출이 가능하게 되어 있다. 또한, 로드 포트(14)는, 예컨대 상하로 2단 존재하기 때문에, 양쪽에서의 캐리어(C)의 반입 및 반출이 가능하게 되어 있다. 로드 포트(14)의 하단에는, 캐리어(C)를 보관할 수 있도록 하기 위해, 스토커(16)가 구비되어 있어도 좋다. 로드 포트(14)의 캐리어(C)를 배치하는 면에는, 캐리어(C)를 위치 결정하는 위치 결정핀(18)이, 예컨대 3개소에 설치된다. 또한, 로드 포트(14) 상에 캐리어(C)를 배치한 상태에서, 로드 포트(14)가 전후 방향으로 이동 가능하게 구성되어도 좋다.
제2 반송 영역(12)의 하부에는, 상하 방향으로 나란히 2개(도 1 참조)의 FIMS 포트(24)가 배치되어 있다. FIMS 포트(24)는, 캐리어(C) 내의 웨이퍼(W)를, 웨이퍼 반송 영역(S2) 내의 후술하는 열처리로(80)에 대하여 반입 및 반출할 때에, 캐리어(C)를 유지하는 유지대이다. FIMS 포트(24)는, 전후 방향으로 이동 가능하게 구성되어 있다. FIMS 포트(24)의 캐리어(C)를 배치하는 면에도, 로드 포트(14)와 마찬가지로, 캐리어(C)를 위치 결정하는 위치 결정핀(18)이 3개소에 설치된다.
제2 반송 영역(12)의 상부에는, 캐리어(C)를 보관하는 스토커(16)가 설치된다. 스토커(16)는, 예컨대 3단의 선반에 의해 구성되어 있고, 각각의 선반에는 좌우 방향으로 2개 이상의 캐리어(C)를 배치할 수 있다. 또한, 제2 반송 영역(12)의 하부이자 캐리어 배치대가 배치되지 않은 영역에도, 스토커(16)를 배치하는 구성이어도 좋다.
제1 반송 영역(10)과 제2 반송 영역(12) 사이에는, 로드 포트(14), 스토커(16) 및 FIMS 포트(24) 사이에서 캐리어(C)를 반송하는 캐리어 반송 기구(30)가 설치된다.
캐리어 반송 기구(30)는, 제1 가이드(31)와, 제2 가이드(32)와, 이동부(33)와, 아암부(34)와, 핸드부(35)를 구비하고 있다. 제1 가이드(31)는, 상하 방향으로 신장하도록 구성되어 있다. 제2 가이드(32)는, 제1 가이드(31)에 접속되고, 좌우 방향(제1 수평 방향)으로 신장하도록 구성되어 있다. 이동부(33)는, 제2 가이드(32)로 유도되면서 좌우 방향으로 이동하도록 구성되어 있다. 아암부(34)는, 1개의 관절과 2개의 아암부를 가지며, 이동부(33)에 설치된다. 핸드부(35)는, 아암부(34)의 선단에 설치된다. 핸드부(35)에는, 캐리어(C)를 위치 결정하는 핀(18)이 3개소에 설치된다.
웨이퍼 반송 영역(S2)은, 캐리어(C)로부터 웨이퍼(W)를 추출하여, 각종 처리를 실시하는 영역이다. 웨이퍼 반송 영역(S2)은, 웨이퍼(W)에 산화막이 형성되는 것을 방지하기 위해, 불활성 가스 분위기, 예컨대 질소(N2) 가스 분위기로 되어 있다. 웨이퍼 반송 영역(S2)에는, 하단이 로구로서 개구된 종형의 열처리로(80)가 설치된다.
열처리로(80)는, 웨이퍼(W)를 수용 가능하며, 웨이퍼(W)의 열처리를 행하기 위한 석영제의 원통형의 처리 용기(82)를 갖는다. 처리 용기(82)의 주위에는 원통형의 히터(81)가 배치되고, 히터(81)의 가열에 의해 수용한 웨이퍼(W)의 열처리가 행해진다. 처리 용기(82)의 하측에는 셔터(도시하지 않음)가 설치된다. 셔터는, 웨이퍼 보우트(50)가 열처리로(80)로부터 반출되고, 다음 웨이퍼 보우트(50)가 반입되기까지의 동안에, 열처리로(80)의 하단에 뚜껑을 덮기 위한 도어이다. 열처리로(80)의 하측에는, 기판 유지구인 웨이퍼 보우트(50)가 보온통(52)을 통해 덮개(54)의 위에 배치되어 있다. 다시 말해서, 덮개(54)는, 웨이퍼 보우트(50)의 하측에 웨이퍼 보우트(50)와 일체로서 설치된다.
웨이퍼 보우트(50)는, 예컨대 석영제이며, 대구경(예컨대 직경이 300 mm 또는 450 mm)의 웨이퍼(W)를, 상하 방향으로 미리 정해진 간격을 두고 대략 수평으로 유지하도록 구성되어 있다. 웨이퍼 보우트(50)에 수용되는 웨이퍼(W)의 매수는 특별히 한정되지 않지만, 예컨대 50∼200장이어도 좋다. 덮개(54)는, 승강 기구(도시하지 않음)에 지지되고 있고, 승강 기구에 의해 웨이퍼 보우트(50)가 열처리로(80)에 대하여 반입 또는 반출된다. 웨이퍼 보우트(50)와 반송구(6) 사이에는 웨이퍼 반송 장치(60)가 설치된다.
웨이퍼 반송 장치(60)는, FIMS 포트(24) 상에 유지된 캐리어(C)와 웨이퍼 보우트(50) 사이에서 웨이퍼(W)의 이재를 행한다. 웨이퍼 반송 장치(60)는, 가이드 기구(61)와, 이동체(62)와, 포크(63)와, 승강 기구(64)와, 회전 기구(65)를 갖는다. 가이드 기구(61)는 직방체형이다. 가이드 기구(61)는, 수직 방향으로 연장된 승강 기구(64)에 부착되고, 승강 기구(64)에 의해 수직 방향으로의 이동이 가능하며, 회전 기구(65)에 의해 회동이 가능하게 구성되어 있다. 이동체(62)는, 가이드 기구(61) 상에 길이 방향을 따라서 진퇴 이동 가능하게 설치된다. 포크(63)는, 이동체(62)를 통해 부착되는 이재기이며, 복수매(예컨대 5장) 설치된다. 복수매의 포크(63)를 가짐으로써, 복수매의 웨이퍼(W)를 동시에 이재할 수 있기 때문에, 웨이퍼(W)의 반송에 요하는 시간을 단축할 수 있다. 단, 포크(63)는 1장이어도 좋다.
5장의 포크(63)의 적어도 어느 것에는, 위치 검출 센서(66) 및 온도 센서(67)가 설치된다. 위치 검출 센서(66) 및 온도 센서(67)에 관해서는 후술한다.
웨이퍼 반송 영역(S2)의 천장부 또는 측벽부에는, 필터 유닛(도시하지 않음)이 설치되어도 좋다. 필터 유닛으로는, HEPA 필터(High Efficiency Particulate Air Filter), ULPA 필터(Ultra-Low Penetration Air Filter) 등을 들 수 있다. 필터 유닛을 설치함으로써, 웨이퍼 반송 영역(S2)에 청정 공기를 공급할 수 있다.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 기판 처리 장치(1)의 전체를 제어하는 제어부(100)가 설치된다. 제어부(100)는, 레시피에 따라서, 레시피에 나타낸 여러가지 처리 조건 하에서 열처리가 행해지도록, 기판 처리 장치(1) 내의 여러가지 기기의 동작을 제어한다. 또한, 제어부(100)는, 기판 처리 장치(1) 내에 설치된 여러가지 센서로부터의 신호를 수신함으로써, 웨이퍼(W)의 위치 등을 파악하여, 프로세스를 진행시키는 시퀀스 제어를 행한다. 또한, 제어부(100)는, 기판 처리 장치(1) 내에 설치된 여러가지 검출기에 의해 검출되는 물리적 측정치 등을 수신함으로써 기판 처리의 상태를 파악하여, 기판 처리를 적절히 행하기 위해 필요한 피드백 제어 등을 행하도록 해도 좋다.
제어부(100)는, CPU(Central Processing Unit), ROM(Read Only Memory), RAM(Random Access Memory) 등의 연산 수단 및 기억 수단을 구비한다. 제어부(100)는, 프로그램이 기억된 기억 매체로부터 레시피의 처리를 행하는 프로그램을 인스톨하여, 레시피의 처리를 실행하는 마이크로컴퓨터로서 구성되어도 좋다. 또한, 제어부(100)는, ASIC(Application Specific Integrated Circuit)와 같은 전자 회로로서 구성되어도 좋다.
다음으로, 포크(63)에 설치되는 위치 검출 센서(66) 및 온도 센서(67)에 관해, 도 3 내지 도 9를 참조하여 설명한다. 도 3은, 포크(63)의 일례를 나타내는 개략 평면도이다. 도 4는, 웨이퍼의 온도를 측정할 때의 포크(63)와 웨이퍼(W)의 위치 관계를 나타내는 개략 평면도이다. 도 4에서는, 대기 위치(P1)에서의 포크(63)를 점선으로 나타내고, 측정 위치(P2)에서의 포크(63)를 실선으로 나타낸다. 도 5 내지 도 7은, 온도 센서(67) 및 가이드(68)의 일례를 나타내는 도면이다. 도 5의 (a)는 도 3에서의 A부의 확대도이며, 도 5의 (b)는 도 5의 (a)에서의 일점쇄선 B-B에서 절단한 단면도이며, 도 5의 (c)는 도 5의 (a)에서의 일점쇄선 C-C에서 절단한 단면도이다.
포크(63)는, 두갈래형의 평판 부재에 의해 형성되어 있다. 포크(63)는, 대기 위치P1)와 측정 위치(P2) 사이에서 이동 가능하게 구성되어 있다. 대기 위치(P1)는 측정 위치(P2)로부터 격리된 위치이며, 예컨대 도 4에 도시된 바와 같이, 평면에서 보아 포크(63)와 웨이퍼(W)가 중복되지 않는 위치로 할 수 있다. 측정 위치(P2)는, 웨이퍼(W)의 온도를 측정하는 위치이며, 예컨대 도 4에 도시된 바와 같이, 온도 센서(67)가 포크(63)의 삽입 방향에서의 웨이퍼(W)의 대략 중앙이 되는 위치인 것이 바람직하다. 이에 따라, 온도가 높은 부분의 웨이퍼(W)의 온도를 측정할 수 있다. 포크(63)의 재료로는, 예컨대 알루미나(Al2O3), 탄화규소(SiC) 등의 세라믹스를 이용할 수 있다. 포크(63)에는, 위치 검출 센서(66), 온도 센서(67), 가이드(68) 및 웨이퍼 지지부(69)가 설치된다.
위치 검출 센서(66)는, 포크(63) 선단의 내측 측면에 설치된다. 위치 검출 센서(66)는, 예컨대 대향형의 한쌍의 광검출기이다. 위치 검출 센서(66)는, 웨이퍼(W)가 웨이퍼 보우트(50)에 유지되어 있을 때에, 웨이퍼(W)가 웨이퍼 보우트(50)로부터 튀어나오지 않았는지, 위치가 틀어지지 않았는지 등, 웨이퍼(W)의 위치가 정상인지 아닌지를 검출한다. 위치 검출 센서(66)는, 발광 소자와 수광 소자의 조로 이루어지며, 발광 소자로부터 광을 발하고, 수광 소자에서 광을 수광한다. 발광 소자와 수광 소자 사이에 물체(검출 대상물)가 존재하지 않는 경우에는, 수광 소자에서 발광 소자로부터의 광을 수광하고, 물체가 존재하는 경우에는, 발광 소자로부터의 광이 차폐되고, 수광 소자는 광을 수광할 수 없게 된다. 따라서, 웨이퍼(W)가 웨이퍼 보우트(50)에 배치되어 있는 높이에서, 포크(63)를 웨이퍼(W)에 접근시켜, 웨이퍼(W)가 튀어나와 있는 경우에는 광이 차광되고, 튀어나오지 않은 경우에는 광이 차폐되지 않기 때문에, 웨이퍼(W)가 튀어나오는 것을 검출할 수 있다.
온도 센서(67)는, 포크(63) 선단의 내측에 설치된다. 온도 센서(67)는, 선단(67a)이 포크(63)로부터 돌출되도록 부착되어 있다. 온도 센서(67)는, 측정 위치(P2)에서 웨이퍼(W)의 온도를 비접촉으로 측정한다. 예컨대, 포크(63)를 웨이퍼 보우트(50)에 유지된 복수매의 웨이퍼(W)의 인접하는 2장의 웨이퍼(W) 사이인 측정 위치(P2)에 삽입함으로써, 웨이퍼(W)의 온도를 비접촉으로 측정한다. 또한, 예컨대, 포크(63)의 위치를 이동시킴으로써, 웨이퍼 반송 영역(S2) 내의 복수의 지점에서의 온도를 측정한다. 또한, 예컨대, 포크(63)가 웨이퍼(W)를 유지함으로써, 유지한 웨이퍼(W)의 온도를 측정한다. 온도 센서(67)로는, 여러가지 열전대를 이용할 수 있지만, 응답성이 빠르고 정밀하게 온도를 측정할 수 있다는 관점에서, 극세선 열전대(예컨대 선단 선직경이 25 ㎛)를 이용하는 것이 바람직하다. 또한, 온도 센서(67)로는 측온 저항체를 이용할 수도 있다. 또한, 포크(63)의 내부에는, 온도 센서(67)의 출력을 외부로 취출하기 위한 배선(67b)이 마련된다. 또, 배선(67b)은 포크(63)의 표면 또는 이면에 마련되어도 좋다.
가이드(68)는, 포크(63)의 선단의 이면에 설치된다. 가이드(68)는, 포크(63)로부터 돌출되어 설치되고, 대기 위치(P1)로부터 측정 위치(P2)로의 이동 방향측(포크(63)의 선단측)에 개구(68a)를 가지며, 평면에서 보아 대략 U자형으로 형성되어 있다. 이에 따라, 온도 센서(67)의 선단(67a)을, 접촉 등에 의한 파손으로부터 보호할 수 있다. 또한, 포크(63)가 대기 위치(P1)로부터 측정 위치(P2)로 이동할 때, 도 8의 (a)에 도시된 바와 같이, 개구(68a)를 통해 온도 센서(67)의 선단(67a)과 측정 위치(P2)에서의 기체를 열적으로 충분히 접촉시킬 수 있다. 그 때문에, 온도 센서(67)에 의한 온도 측정의 응답 시간을 단축할 수 있다. 이것에 대하여, 도 8의 (b)에 도시된 바와 같이, 개구(68a)를 갖지 않는 경우, 측정 위치(P2)에서의 기체가 가이드(68)에 차단되기 때문에, 온도 센서(67)의 선단(67a)과 측정 위치(P2)에서의 기체를 열적으로 충분히 접촉시킬 수 없다. 또, 도 8은, 본 발명의 실시형태에 관한 웨이퍼 반송 장치(60)에 의한 효과의 설명도이다.
도 5에 도시된 바와 같이, 가이드(68)의 대략 U자형의 양 측부(68b)의 길이(68L)는, 포크(63)로부터 돌출된 온도 센서(67)의 선단(67a)의 길이(67L)보다 길어지도록 형성되어 있다. 이에 따라, 온도 센서(67)의 선단(67a)을, 접촉 등에 의한 파손으로부터 특히 보호할 수 있다. 또한, 도 6에 도시된 바와 같이, 가이드(68)의 대략 U자형의 양 측부(68b)의 길이(68L)는, 포크(63)로부터 돌출된 온도 센서(67)의 선단(67a)의 길이(67L)와 같아지도록 형성되어 있어도 좋다. 또한, 도 7에 도시된 바와 같이, 가이드(68)는, 평면에서 보아 대략 コ자형으로 형성되어 있어도 좋다. 이 경우에도, 가이드(68)의 대략 コ자형의 양 측부(68b)의 길이(68L)는, 포크(63)로부터 돌출된 온도 센서(67)의 선단(67a)의 길이(67L) 이상이 되도록 형성된다.
가이드(68)의 재료로는, 예컨대 폴리카보네이트 수지(PC : Poly Carbonate), 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지(PET : Poly Ethylene Terephthalate), 폴리에테르에테르케톤 수지(PEEK : Poly Ether Ether Ketone) 등 여러가지 플라스틱을 이용할 수 있다. 단, 내열성이 우수하다는 관점에서, PEEK를 이용하는 것이 바람직하다.
웨이퍼 지지부(69)는, 포크(63)의 한쪽 면에 4개 설치된다. 4개의 웨이퍼 지지부(69)에 웨이퍼(W)의 외연부가 배치됨으로써, 포크(63)에 대하여 웨이퍼(W)가 위치 결정된 상태로 배치된다.
또, 전술한 예에서는, 온도 센서(67)가 포크(63)의 선단에 설치되는 경우에 관해 설명했지만, 온도 센서(67)가 설치되는 위치는 이것에 한정되지 않는다. 예컨대, 도 9에 도시된 바와 같이, 온도 센서(67)는, 포크(63)의 전후 방향에서의 대략 중앙에 설치되어도 좋다. 또, 도 9는, 포크(63)의 다른 예를 나타내는 개략 평면도이다.
다음으로, 본 발명의 실시형태에 관한 웨이퍼 반송 장치(60)를 이용했을 때의 온도 센서(67)의 응답성의 평가 결과에 관해 설명한다. 구체적으로는, 포크(63)를 대기 위치(P1)로부터 측정 위치(P2)로 이동시키고, 측정 위치(P2)에서 온도 센서(67)에 의해 측정되는 온도가 80℃를 넘은 후, 포크(63)를 측정 위치(P2)로부터 대기 위치(P1)로 후퇴시켰을 때의 온도를 온도 센서(67)에 의해 측정했다. 또한, 비교를 위해, 개구가 형성되지 않은 가이드를 갖는 웨이퍼 반송 장치를 이용했을 때의 온도 센서의 응답성, 및 가이드를 갖지 않는 웨이퍼 반송 장치를 이용했을 때의 온도 센서의 응답성에 관해서도 평가했다. 단, 비교예에서는, 측정 위치(P2)에서 온도 센서(67)에 의해 측정되는 온도가 80℃를 넘은 경우에도, 포크(63)를 측정 위치(P2)로부터 대기 위치(P1)로 후퇴시키지 않고 평가를 행했다.
도 10은, 온도 센서의 응답성을 나타내는 도면이다. 도 10 중, 횡축은 시간(min)을 나타내고, 종축은 온도(℃)를 나타낸다. 또한, 도 10 중, 실선은 본 발명의 실시형태에 관한 웨이퍼 반송 장치(60)를 이용했을 때의 온도 센서(67)의 응답성을 나타낸다. 또한, 파선은 개구가 형성되지 않은 가이드를 갖는 웨이퍼 반송 장치를 이용했을 때의 온도 센서의 응답성을 나타낸다. 또한, 점선은 가이드를 갖지 않는 웨이퍼 반송 장치를 이용했을 때의 온도 센서의 응답성을 나타낸다.
도 10에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시형태에 관한 웨이퍼 반송 장치(60)를 이용한 경우, 피크 온도에 도달하기까지의 시간이 가이드(68)를 갖지 않는 웨이퍼 반송 장치를 이용한 경우와 동등한 1초였다. 즉, 높은 응답성을 갖는 것을 알 수 있다. 이것에 대하여, 개구가 형성되지 않은 가이드를 갖는 웨이퍼 반송 장치를 이용한 경우, 피크 온도에 도달하기까지의 시간은 60초였다.
이상에 설명한 바와 같이, 본 발명의 실시형태에서는, 단시간에 웨이퍼(W)의 온도를 측정할 수 있기 때문에, 실시간으로 웨이퍼(W)의 온도를 측정하고, 측정한 온도가 임계치 이하가 된 시점에서, 신속하게 웨이퍼 보우트(50)로부터 웨이퍼(W)를 캐리어(C)로 이재할 수 있다. 그 결과, 웨이퍼(W)의 회수에 요하는 시간을 단축할 수 있어 생산성의 향상을 도모할 수 있다.
이상, 본 발명을 실시하기 위한 형태에 관해 설명했지만, 상기 내용은 발명의 내용을 한정하는 것은 아니며, 본 발명의 범위 내에서 여러가지 변형 및 개량이 가능하다.
상기 실시형태에서는, 하나의 온도 센서(67)가 포크(63)에 설치되는 경우를 예를 들어 설명했지만, 이것에 한정되지 않고, 복수의 온도 센서(67)가 포크(63)에 설치되어도 좋다. 복수의 온도 센서(67)가 포크(63)에 설치되는 경우, 웨이퍼(W)의 온도의 면내 분포를 측정할 수 있다.
1 : 기판 처리 장치 50 : 웨이퍼 보우트
60 : 웨이퍼 반송 장치 63 : 포크
66 : 위치 검출 센서 67 : 온도 센서
67a : 선단 67b : 배선
68 : 가이드 68a : 개구
80 : 열처리로 100 : 제어부
P1 : 대기 위치 P2 : 측정 위치
W : 웨이퍼

Claims (10)

  1. 피반송물의 온도를 측정하는 측정 위치와, 상기 측정 위치로부터 격리된 대기 위치 사이에서 이동하는 이재기(移載機)와,
    선단이 상기 이재기로부터 돌출되도록 상기 이재기에 부착되고, 상기 측정 위치에서 상기 피반송물의 온도를 측정하는 온도 센서와,
    상기 대기 위치로부터 상기 측정 위치로의 이동 방향측에 개구를 가지며, 상기 온도 센서의 상기 선단을 보호하는 가이드
    를 포함하는 반송 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 가이드는, 상기 이재기로부터 돌출되어 설치되고, 평면에서 보아 U자형 또는 コ자형으로 형성되는 것인 반송 장치.
  3. 제2항에 있어서, 상기 가이드는, U자형 또는 コ자형의 개구측이 상기 이재기의 선단측에 위치하는 것인 반송 장치.
  4. 제2항 또는 제3항에 있어서, 상기 가이드의 U자형 또는 コ자형의 양 측부의 길이는, 상기 이재기로부터 돌출되는 상기 온도 센서의 상기 선단의 길이 이상인 것인 반송 장치.
  5. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 온도 센서는 상기 피반송물의 온도를 비접촉으로 측정하는 것인 반송 장치.
  6. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 온도 센서는 상기 이재기의 선단에 부착되는 것인 반송 장치.
  7. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 온도 센서는 상기 이재기의 삽입 방향에서의 중앙에 부착되는 것인 반송 장치.
  8. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 이재기에는 상기 온도 센서의 출력을 취출하는 배선이 마련되는 것인 반송 장치.
  9. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 온도 센서는 열전대 또는 측온 저항체인 것인 반송 장치.
  10. 열처리로(爐)와,
    복수의 기판을 유지한 상태로 열처리로에 수용 가능한 기판 유지구와,
    상기 복수의 기판의 온도를 측정하는 측정 위치와, 상기 측정 위치로부터 격리된 대기 위치 사이에서 이동하는 이재기와,
    선단이 상기 이재기로부터 돌출되도록 상기 이재기에 부착되고, 상기 측정 위치에서 상기 복수의 기판의 온도를 측정하는 온도 센서와,
    상기 대기 위치로부터 상기 측정 위치로의 이동 방향측에 개구를 가지며, 상기 온도 센서의 상기 선단을 보호하는 가이드
    를 포함하는 기판 처리 장치.
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