KR20150130519A - 배선기판 - Google Patents

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KR20150130519A
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마코토 나가이
세이지 모리
다츠야 이토
다카히로 하야시
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니혼도꾸슈도교 가부시키가이샤
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Abstract

솔더 범프에서의 크랙의 진행을 확실하게 방지함으로써, 신뢰성을 향상시키는 것이 가능한 배선기판을 제공하는 것. 본 발명의 배선기판(10)은 기판 본체(11), 패드(61) 및 솔더 레지스트(81)를 구비한다. 패드(61)는 기판 이면(13) 위에 배치되고, 마더보드(91)와의 접속에 이용되는 솔더 범프(84)가 표면(62) 위에 형성되는 것이 가능하다. 솔더 레지스트(81)는 기판 이면(13)을 덮음과 아울러, 패드(61)를 노출시키는 개구부(82)가 형성된다. 패드(61) 표면(62)의 일부에는 볼록부(71)가 형성된다. 볼록부(71)는 패드(61)의 표면(62)에서 선단면(72)까지의 높이(A4)가 개구부(82)의 깊이보다도 작게 설정되고, 외측면(73)이 개구부(82)의 내측면과 마주 보도록 개구부(82) 내에 배치되며, 평면측에서 보았을 때의 형상이 개구부(82)의 평면측에서 보았을 때의 형상과 상사형을 이루고 있다.

Description

배선기판{WIRING BOARD}
본 발명은 마더보드와의 접속에 이용되는 솔더 범프가 형성되는 것이 가능한 복수의 패드가 기판 이면 위에 배치된 배선기판에 관한 것이다.
컴퓨터의 마이크로 프로세서 등으로서 사용되는 반도체 집적회로소자(IC칩)는 근래 점점 고속화, 고기능화되고 있으며, 이것에 부수하여 단자수가 증가하여 단자간 피치도 좁아지는 경향에 있다. 일반적으로 IC칩의 바닥면에는 다수의 단자가 밀집하여 어레이 형상으로 배치되어 있으며, 이와 같은 단자 그룹은 마더보드측의 단자 그룹에 대해서 플립 칩의 형태로 접속된다. 단, IC칩측의 단자 그룹과 마더보드측의 단자 그룹에서는 단자간 피치에 큰 차이가 있는 것으로부터, IC칩을 마더보드 위에 직접적으로 접속하는 것은 곤란하다. 그로 인해, 통상은 IC칩을 배선기판 위에 탑재하여 이루어지는 이른바 반도체 패키지를 제작하고, 그 반도체 패키지를 마더보드 위에 탑재한다고 하는 수법이 채용된다(예를 들면 특허문헌 1, 2 참조). 여기서, 마더보드와의 전기적인 접속을 도모하기 위한 구조로서는, 배선기판의 기판 이면 위에 배치된 복수의 패드 위에, 솔더 범프(이른바 BGA 범프)를 형성한 것이 제안되어 있다.
상기 종래의 배선기판의 일례를 이하에 설명한다. 도 8에 나타내어지는 바와 같이, 이 종류의 배선기판(101)에서는 기판 이면(102)을 덮도록 솔더 레지스트(103)가 형성되고, 그 솔더 레지스트(103)에는 패드(104)를 노출시키는 복수의 개구부(105)가 설치되어 있다. 그리고 개구부(105) 내에는 솔더 범프(106)가 형성되도록 되어 있다. 또한, 솔더 범프(106)는, 예를 들면 인쇄법이나 솔더볼법(마이크로볼법) 등에 의해 형성된다. 인쇄법이란, 배선기판(101)의 기판 이면(102) 위에 형성된 복수의 패드(104) 위에 메탈 마스크를 이용하여 솔더 페이스트를 인쇄한 후, 가열 용융(리플로우)함으로써, 솔더 범프(106)를 형성하는 방법이다. 솔더볼법이란, 복수의 패드(104) 위에 솔더볼을 배치하여 리플로우함으로써, 솔더 범프(106)를 형성하는 방법이다.
특허문헌 1: 일본국 특개2004-95864호 공보(도 1 등) 특허문헌 2: 일본국 특허4502690호 공보(도 4 등)
그런데 배선기판(101)을 마더보드에 탑재할 경우, 솔더볼의 리플로우에 수반하여 가열⇔냉각의 열사이클 등을 기인으로 하는 응력이 발생하면, 개구부(105)의 개구 단부에 응력이 집중하여 솔더 범프(106)에 크랙(107)이 발생할 가능성이 있다. 이 크랙(107)은 솔더 범프(106)와 패드(104)의 계면을 따라서 진행되기 쉽기 때문에, 솔더 범프(106)에 의해서 구성되는 전기(電氣) 경로를 단선시키는 요인이 된다. 그 결과, 제조되는 배선기판(101)이 불량품으로 되기 때문에 배선기판(101)의 신뢰성이 저하될 우려가 있다.
본 발명은 상기의 과제에 감안하여 이루어진 것이며, 그 목적은 솔더 범프에서의 크랙의 진행을 확실하게 방지함으로써, 신뢰성을 향상시키는 것이 가능한 배선기판을 제공하는 것에 있다.
상기 과제를 해결하기 위한 수단(수단 1)으로서는, 기판 주면(主面) 및 기판 이면을 가지는 기판 본체와, 상기 기판 이면 위에 배치되고, 마더보드와의 접속에 이용되는 솔더 범프가 표면 위에 형성되는 것이 가능한 복수의 패드와, 상기 기판 이면을 덮음과 아울러, 상기 복수의 패드를 노출시키는 복수의 개구부가 형성된 솔더 레지스트를 구비하는 배선기판으로서, 상기 패드의 표면의 일부에 선단면 및 외측면을 가지는 볼록부가 형성되고, 상기 볼록부는 상기 패드의 표면에서 상기 선단면까지의 높이가 상기 개구부의 깊이보다도 작게 설정되며, 상기 외측면이 상기 개구부의 내측면과 마주 보도록 상기 개구부 내에 배치되고, 평면측에서 보았을 때 의 형상이 상기 개구부의 평면측에서 보았을 때의 형상과 상사형(相似形)을 이루고 있는 것을 특징으로 하는 배선기판이 있다.
따라서, 수단 1의 배선기판에 따르면, 솔더 범프에 크랙이 발생하고, 발생한 크랙이 솔더 범프와 패드의 계면을 따라서 진행되었다고 해도, 크랙이 볼록부에 도달함으로써 그 진행이 확실하게 억제된다. 그 결과, 솔더 범프에 의해서 구성되는 전기 경로의 단선을 방지할 수 있기 때문에, 제조되는 배선기판의 신뢰성을 향상시키는 것이 가능하게 된다.
상기 배선기판을 구성하는 기판 본체의 종류는 특별히 한정되지 않고 임의이지만, 예를 들면, 수지제의 기판 본체 등이 이용된다. 수지제의 기판 본체로서는, EP 수지(에폭시 수지), PI 수지(폴리이미드 수지), BT 수지(비스말레이미드-트리아진 수지), PPE 수지(폴리페닐렌에테르 수지) 등으로 이루어지는 기판 본체를 들 수 있다. 그 밖에, 이들의 수지와 유리 섬유(유리 직포나 유리 부직포)의 복합재료로 이루어지는 기판 본체를 사용해도 좋다. 또, 이들의 수지와 폴리아미드 섬유 등의 유기 섬유의 복합재료로 이루어지는 기판 본체를 사용해도 좋다. 혹은, 연속 다공질 PTFE 등의 3차원 그물코 형상 불소계 수지 기재에 에폭시 수지 등의 열경화성 수지를 함침시킨 수지-수지 복합재료로 이루어지는 기판 본체 등을 사용해도 좋다. 다른 재료로서 예를 들면 각종의 세라믹 등을 선택할 수도 있다. 또한, 배선기판의 구조로서는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 코어 기판의 편면 또는 양면에 빌드업 층을 가지는 빌드업 다층배선기판이나, 코어 기판을 갖지 않는 코어리스 배선기판 등을 들 수 있다.
상기 배선기판을 구성하는 패드는 기판 이면 위에 복수 배치된다. 패드는 도전성의 금속 재료 등에 의해서 형성하는 것이 가능하다. 패드를 구성하는 금속 재료로서는, 예를 들면, 금, 은, 구리, 철, 코발트, 니켈 등을 들 수 있다. 특히, 패드는 구리를 주체로 하여 형성되어 있어도 좋다. 이와 같이 한 경우, 패드를 다른 재료를 주체로 하여 형성하는 경우보다도 패드의 저저항화(低抵抗化)가 도모됨과 아울러, 패드의 도전성이 향상된다. 또, 패드는 도금에 의해서 형성되는 것이 좋다. 이와 같이 하면, 패드를 고정밀도 또한 균일하게 형성할 수 있다. 만일, 패드를 금속 페이스트의 리플로우에 의해서 형성하면, 패드를 고정밀도 또한 균일하게 형성하는 것이 곤란하게 되기 때문에, 개개의 패드의 높이에 편차가 발생할 우려가 있다.
상기 배선기판을 구성하는 솔더 레지스트는 절연성 및 내열성을 가지는 수지로 이루어지며, 기판 이면을 덮어 감춤으로써 그 기판 이면을 보호하는 보호막으로서 기능한다. 솔더 레지스트의 구체적인 예로서는, 에폭시 수지나 폴리이미드 수지 등으로 이루어지는 솔더 레지스트가 있다. 또한, 솔더 레지스트에 형성된 복수의 개구부의 평면측에서 보았을 때[이하, “평면시(平面視)”라고 하는 일도 있다]의 형상으로서는, 평면시 원형 형상, 평면시 타원 형상, 평면시 삼각형 형상, 평면시 직사각형 형상, 평면시 정사각형 형상 등을 들 수 있다.
또한, 상기 배선기판을 구성하는 볼록부는 패드 표면의 일부에 형성된다. 볼록부를 구성하는 재료로서는, 예를 들면, 구리, 은, 철, 코발트, 니켈 등을 들 수 있지만, 특별히는 구리를 주체로 하여 형성되어 있어도 좋다. 이와 같이 하면, 볼록부를 다른 재료를 주체로 하여 형성하는 경우보다도 볼록부의 저저항화가 도모됨과 아울러, 볼록부의 도전성이 향상된다. 또한, 볼록부는 패드와 같은 도전성 재료를 주체로 하여 형성되어 있어도 좋다. 이와 같이 하면, 볼록부의 형성시에 패드와는 다른 재료를 준비하지 않아도 완료된다. 따라서, 배선기판의 제조에 필요한 재료가 적어지기 때문에, 배선기판의 저비용화를 도모하는 것이 가능하게 된다.
또, 볼록부는, 패드의 표면에서 선단면까지의 높이가 개구부의 깊이보다도 작게 설정되고, 외측면이 개구부의 내측면과 마주 보도록 개구부 내에 배치되며, 평면시의 형상이 개구부의 평면시의 형상과 상사형을 이루고 있다. 여기서, 볼록부의 형상으로서는, 원기둥 형상, 타원 형상, 원기둥 형상, 삼각기둥 형상, 삼각뿔 형상, 사각기둥 형상, 사각뿔 형상, 구(球) 형상 등을 들 수 있다. 또한, 볼록부의 평면시의 형상으로서는, 평면시 원형 형상, 평면시 타원 형상, 평면시 삼각형 형상, 평면시 직사각형 형상 등을 들 수 있다. 그리고 볼록부의 평면시의 형상이 개구부의 평면시의 형상과 상사형을 이루는 형태로서는, 볼록부 및 개구부가 모두 평면시 원형 형상, 평면시 타원 형상, 평면시 삼각형 형상, 평면시 직사각형 형상을 이루는 것 등을 들 수 있다. 여기서, 볼록부 및 개구부가 모두 모서리를 가지는 형상(평면시 삼각형 형상, 평면시 직사각형 형상 등)을 이루는 경우, 즉, 볼록부가 복수의 외측면을 가짐과 아울러, 개구부가 외측면과 동일한 수의 내측면을 가지는 경우, 각각의 외측면과 각각의 내측면이 마주 보도록 배치되고, 또한, 서로 평행으로 배치되는 것이 좋다.
또한, 볼록부는 외측면이 개구부의 내측면에 접근하도록 개구부 내에 배치되어 있는 것이 좋다. 이와 같이 하면, 크랙이 진행되면 즉시 볼록부에 도달하게 되기 때문에, 크랙의 진행을 재빠르게 정지시킬 수 있다. 또, 볼록부는 외측면과 개구부 내측면의 간극의 크기가 균일한 것이 좋다. 이와 같이 하면, 크랙이 솔더 범프의 외주부의 어느 부분으로부터 진행되었다고 해도, 즉시 볼록부에 도달하기 때문에, 크랙의 진행을 더욱 확실하게 정지시킬 수 있다. 또한, 볼록부는 선단면과 외측면의 경계 부분이 둥그스름한 형상을 이루고 있어도 좋다. 이와 같이 하면, 솔더 범프에 응력이 가해졌다고 해도, 볼록부의 선단면과 외측면의 경계 부분으로의 응력집중이, 경계 부분을 둥그스름한 형상으로 함으로써 완화된다. 그 결과, 경계 부분을 기점으로 하는 크랙의 발생을 확실하게 방지할 수 있다.
또, 볼록부의 형성방법으로서는, 도금에 의해서 볼록부를 형성하는 방법 등을 들 수 있다. 이 경우, 볼록부가 기둥 형상을 이루고 있으면, 도금에 의해서 볼록부를 용이하게 형성할 수 있다. 또, 볼록부가 예를 들면 구리를 주체로 하여 형성될 경우, 볼록부는 구리 도금에 의해서 형성되어 있어도 좋다. 이와 같이 하면, 볼록부를 예를 들면 도전성 페이스트 등에 의해서 형성하는 경우에 비하여 볼록부의 도전성이 향상된다. 또, 볼록부의 다른 형성방법으로서는, 패드 위에 도전성 페이스트를 인쇄하여 볼록부를 형성하는 방법이나, 패드 위에 도전성 부재를 첩부(貼付)하는 공정만을 실시하여 볼록부를 형성하는 방법이나, 패드 위에 볼록부보다도 큰 도전성을 가지는 판재를 첩부한 후, 판재에 대한 에칭을 실시하여 볼록부를 형성하는 방법 등을 들 수 있다.
또한, 패드 표면의 적어도 일부, 선단면 및 외측면은 도금층에 의해서 연속적으로 덮여 있어도 좋다. 이와 같이 하면, 패드의 표면 및 볼록부의 표면(선단면 및 외측면)에 솔더가 밀착되기 쉬워지기 때문에, 솔더 범프를 확실하게 형성할 수 있다.
또, 볼록부는 기판 이면측에 있어서 복수 존재하고 있으며, 복수의 볼록부의 적어도 일부는 위치맞춤용 마크라도 좋다. 이와 같이 하면, 볼록부의 적어도 일부를 부품 등의 위치맞춤에 이용되는 위치맞춤용 마크로서 유효하게 이용할 수 있다. 또한, 이 경우, 솔더 레지스트의 개구부의 개구단을 기준으로 한 위치맞춤이나, 볼록부의 외주연(外周緣, 선단면과 외측면의 경계 부분)을 기준으로 한 위치맞춤을 실시하는 것이 가능하게 된다. 또, 위치맞춤용 마크가 되는 볼록부와 위치맞춤용 마크로는 되지 않는 볼록부를 동일한 공정에서 형성할 수 있기 때문에, 배선기판의 제조비용을 낮게 억제할 수 있다. 또한, 위치맞춤용 마크의 평면측에서 보았을 때의 형상은, 마더보드 접속용의 볼록부의 평면측에서 보았을 때의 형상과는 다른 것이라도 좋다. 이와 같이 하면, 위치맞춤을 실시할 때에, 위치맞춤용 마크를 용이하게 인식할 수 있다.
그리고 패드의 표면 위에는, 마더보드와의 접속에 이용되는 솔더 범프가 형성되는 것이 가능하다. 솔더 범프에 사용되는 솔더 재료로서는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 주석 납 공정(共晶) 솔더(Sn/37Pb: 융점 183℃)가 사용된다. 주석 납 공정 솔더 이외의 Sn/Pb계 솔더, 예를 들면 Sn/36Pb/2Ag라고 하는 조성의 솔더(융점 190℃) 등을 사용해도 좋다. 또, 상기와 같은 유연(有鉛) 솔더 이외에도, Sn-Ag계 솔더, Sn-Ag-Cu계 솔더, Sn-Ag-Bi계 솔더, Sn-Ag-Bi-Cu계 솔더, Sn-Zn계 솔더, Sn-Zn-Bi계 솔더 등의 무연(無鉛) 솔더를 선택하는 것도 가능하다.
또한, 복수의 개구부 중 적어도 1개의 개구부 내에 배치된 볼록부의 표면 위에 솔더 범프가 형성되어 있어도 좋다. 이와 같이 하면, 솔더 범프에 크랙이 발생하고, 발생한 크랙이 솔더 범프와 패드의 계면을 따라서 진행되었다고 해도, 크랙이 볼록부에 도달함으로써 그 진행이 확실하게 억제된다. 그 결과, 솔더 범프에 의해서 구성되는 전기 경로의 단선을 방지할 수 있기 때문에, 제조되는 배선기판의 신뢰성을 향상시키는 것이 가능하게 된다.
도 1은 본 발명을 구체화한 일실시형태의 배선기판을 나타내는 개략 단면도.
도 2는 배선기판을 나타내는 개략 평면도.
도 3은 제 1 패드 및 제 1 볼록부를 나타내는 주요부 단면도.
도 4는 제 2 패드 및 제 2 볼록부를 나타내는 주요부 단면도.
도 5는 배선기판의 제조방법을 나타내는 설명도.
도 6은 배선기판의 제조방법을 나타내는 설명도.
도 7은 배선기판의 제조방법을 나타내는 설명도.
도 8은 종래 기술에 있어서의 문제점을 나타내는 주요부 단면도.
이하, 본 발명을 구체화한 일실시형태를 도면에 의거하여 상세하게 설명한다.
도 1에 나타내어지는 바와 같이, 본 실시형태의 배선기판(10)은 IC칩 탑재용의 배선기판이다. 배선기판(10)을 구성하는 기판 본체(11)는 기판 주면(12, 도 1에서는 상면) 및 기판 이면(13, 도 1에서는 하면)을 가지는 대략 직사각형 판 형상을 이루고 있다. 기판 본체(11)는 대략 직사각형 판 형상의 코어 기판(21)과, 코어 기판(21)의 코어 주면(22) 위에 형성되는 주면측 빌드업 층(31)과, 코어 기판(21)의 코어 이면(23) 위에 형성되는 이면측 빌드업 층(32)으로 이루어진다.
본 실시형태의 코어 기판(21)은 세로 25㎜×가로 25㎜×두께 1.0㎜인 평면시 대략 직사각형 판 형상이다. 코어 기판(21)은 평면 방향(XY 방향)에 있어서의 열팽창계수가 10∼30ppm/℃(구체적으로는 18ppm/℃)로 되어 있다. 또한, 코어 기판(21)의 열팽창계수는 0℃∼유리전이온도(Tg) 사이의 측정값의 평균값을 말한다. 이 코어 기판(21)에 있어서의 복수 개소에는 스루홀 도체(24)가 형성되어 있다. 상기 스루홀 도체(24)는 코어 기판(21)의 코어 주면(22)측과 코어 이면(23)측을 접속 도통하고 있다. 또한 스루홀 도체(24)의 내부는, 예를 들면 에폭시 수지 등의 폐색체 (25)로 매립되어 있다. 또, 코어 기판(21)의 코어 주면(22) 및 코어 이면(23)에는 구리로 이루어지는 도체층(41)이 패턴 형성되어 있으며, 각 도체층(41)은 스루홀 도체(24)에 전기적으로 접속되어 있다.
도 1에 나타내어지는 바와 같이, 주면측 빌드업 층(31)은 열경화성 수지(에폭시 수지)로 이루어지는 2층의 수지절연층(33, 35)과, 구리로 이루어지는 도체층 (42)을 교호로 적층한 구조를 갖고 있다. 본 실시형태에 있어서, 수지절연층(33, 35)의 열팽창계수는 10∼60ppm/℃ 정도(구체적으로는 30ppm/℃ 정도)로 되어 있다. 또한, 수지절연층(33, 35)의 열팽창계수는 30℃∼유리전이온도(Tg) 사이의 측정값의 평균값을 말한다. 또, 제 2 층의 수지절연층(35)의 표면 위에 있어서의 복수 개소에는 단자 패드(44)가 어레이 형상으로 형성되어 있다. 또한, 수지절연층(35)의 표면은 솔더 레지스트(37)에 의해서 거의 전체적으로 덮여 있다. 솔더 레지스트 (37)의 소정 개소에는 단자 패드(44)를 노출시키는 개구부(46)가 형성되어 있다. 단자 패드(44)의 표면 위에는 복수의 솔더 범프(45)가 배치 설치되어 있다. 각 솔더 범프(45)는 직사각형 평판 형상을 이루는 IC칩(51)의 면접속단자(52)에 전기적으로 접속되어 있다. 또한, 각 단자 패드(44) 및 각 솔더 범프(45)로 이루어지는 영역은 IC칩(51)을 탑재 가능한 IC칩 탑재영역(53)이다. IC칩 탑재영역(53)은 주면측 빌드업 층(31)의 표면에 설정되어 있다. 또, 수지절연층(33, 35) 내에는 각각 비아 도체(43, 47)가 설치되어 있다. 이들의 비아 도체(43, 47)는 도체층(42) 및 단자 패드(44)를 상호 전기적으로 접속하고 있다.
도 1에 나타내어지는 바와 같이, 이면측 빌드업 층(32)은 상기한 주면측 빌드업 층(31)과 거의 같은 구조를 갖고 있다. 즉, 이면측 빌드업 층(32)은 열경화성 수지(에폭시 수지)로 이루어지는 2층의 수지절연층(34, 36)과, 도체층(42)을 교호로 적층한 구조를 갖고 있으며, 수지절연층(34, 36)의 열팽창계수가 10∼60ppm/℃ 정도(구체적으로는 30ppm/℃ 정도)로 되어 있다.
도 1∼도 3에 나타내어지는 바와 같이, 배선기판(10)의 기판 이면(13) 위[제 2 층의 수지절연층(36)의 하면 위]에는 평면시 원형 형상을 이루는 제 1 패드(61)가 기판 이면(13)의 면 방향을 따라서 가로 세로로 복수 배열되어 있다. 각 제 1 패드(61)는 비아 도체(43)를 통하여 도체층(42)에 전기적으로 접속되도록 되어 있다. 또한, 도 3에 나타내어지는 바와 같이, 각 제 1 패드(61)의 외경(A1)은 비아 도체(43)의 외경(본 실시형태에서는 50㎛ 이상 100㎛ 이하)보다도 크게(본 실시형태에서는 300㎛ 이상 700㎛ 이하) 설정되어 있다. 또, 본 실시형태에 있어서의 각 제 1 패드(61)의 두께(A2)는 10㎛ 이상 30㎛ 이하로 설정되어 있다.
도 1∼도 3에 나타내어지는 바와 같이, 각 제 1 패드(61)의 하면(62, 표면)의 중앙 부분에는 평면시 원형 형상을 이루는 제 1 볼록부(71)가 고정되어 있다. 제 1 볼록부(71)는 제 1 패드(61)와는 별체로 형성되어 있다. 또, 제 1 볼록부(71)는 기판 이면(13)측에 있어서 복수 존재하고 있으며, 1개의 제 1 패드(61)에 대해서 1개소씩 배치되어 있다. 따라서, 제 1 볼록부(71)의 수는 제 1 패드(61)의 수와 동일하게 되어 있다. 또한, 제 1 볼록부(71)는 제 1 패드(61)와 같은 도전성 재료인 구리를 주체로 하여 형성된 구리 포스트이다.
또, 도 3에 나타내어지는 바와 같이, 각 제 1 볼록부(71)는 선단면(72) 및 외측면(73)을 가지는 단면 대략 직사각형 형상을 이루고 있다. 그리고 제 1 볼록부 (71)는 선단면(72)과 외측면(73)의 경계 부분이 둥그스름한 형상을 이루고 있다. 또한, 각 제 1 볼록부(71)의 외경(A3)은 제 1 패드(61)의 외경(A1, 300㎛ 이상 700㎛ 이하)보다도 작게 설정되고, 본 실시형태에서는 200㎛ 이상 600㎛ 이하로 설정되어 있다. 또, 제 1 볼록부(71)는 제 1 패드(61)의 하면(62)에서 선단면(72)까지의 높이(A4)가 제 1 패드(61)의 두께(A2, 10㎛ 이상 30㎛ 이하)보다도 크게 설정되어 있으며, 본 실시형태에서는 15㎛ 이상 35㎛ 이하로 설정되어 있다. 그리고 제 1 볼록부(71)의 중심축은 제 1 패드(61)의 중심축(C1)과 일치하고 있다. 또한, 「중심축(C1)」이란, 평면시로 제 1 패드(61)의 중심이 되는 개소를 통과하는 축선을 말한다.
또한, 제 1 패드(61)의 표면[하면(62)]의 일부 및 제 1 볼록부(71)의 표면[선단면(72) 및 외측면(73)]은 도금층(74)에 의해서 연속적으로 덮여 있다. 도금층 (74)은 니켈층, 팔라듐층 및 금층에 의해서 구성되어 있다. 니켈층은 제 1 패드 (61)의 표면의 일부 및 제 1 볼록부(71)의 표면을 무전해 니켈 도금으로 피복함으로써 형성된 도금층이다. 팔라듐층은 니켈층의 표면을 무전해 팔라듐 도금으로 피복함으로써 형성된 도금층이다. 금층은 니켈층의 표면을 무전해 금 도금으로 피복함으로써 형성된 도금층이다. 또, 제 1 패드(61) 및 제 1 볼록부(71)는 도금층 등의 개재물을 통하는 일없이 직접 접속되어 있다. 또한, 본 실시형태의 도금층(74)은 니켈층, 팔라듐층 및 금층으로 이루어지는 구조를 갖고 있지만, 층 구조는 적절히 변경하는 것이 가능하다.
도 2, 도 4에 나타내어지는 바와 같이, 배선기판(10)의 기판 이면(13) 위에 있어서의 외주부(4코너)에는 평면시 삼각형 형상을 이루는 제 2 패드(63)가 각각 배치되어 있다. 또한, 도 4에 나타내어지는 바와 같이, 각 제 2 패드(63)의 외경 (B1, 최대 직경)은 각 제 1 패드(61)의 외경(A1, 300㎛ 이상 700㎛ 이하)보다도 크게 설정되고, 본 실시형태에서는 400㎛ 이상 800㎛ 이하로 설정되어 있다. 또, 본 실시형태에 있어서의 각 제 2 패드(63)의 두께(B2)는 10㎛ 이상 30㎛ 이하로 설정되어 있다.
도 2, 도 4에 나타내어지는 바와 같이, 각 제 2 패드(63)의 하면(64, 표면)의 중앙 부분에는 평면시 삼각형 형상을 이루는 제 2 볼록부(75)가 고정되어 있다. 제 2 볼록부(75)는 제 2 패드(63)와는 별체로 형성되어 있다. 또, 제 2 볼록부(75)는 기판 이면(13)측에 있어서 복수 존재하고 있으며, 1개의 제 2 패드(63)에 대해서 1개소씩 배치되어 있다. 따라서, 제 2 볼록부(75)의 수는 제 2 패드(63)의 수와 동일하게 되어 있다. 또한, 제 2 볼록부(75)는 제 2 패드(63)와 같은 도전성 재료인 구리를 주체로 하여 형성된 구리 포스트이다.
또, 도 4에 나타내어지는 바와 같이, 각 제 2 볼록부(75)는 선단면(76) 및 외측면(77)을 가지는 단면 대략 직사각형 형상을 이루고 있다. 그리고 제 2 볼록부 (75)는 선단면(76)과 외측면(77)의 경계 부분이 둥그스름한 형상을 이루고 있다. 또한, 각 제 2 볼록부(75)의 외경(B3, 최대 직경)은 제 2 패드(63)의 외경(B1, 400㎛ 이상 800㎛ 이하)보다도 작게 설정되고, 본 실시형태에서는 200㎛ 이상 600㎛ 이하로 설정되어 있다. 또, 제 2 볼록부(75)는 제 2 패드(63)의 하면(64)에서 선단면(76)까지의 높이(B4)가 제 2 패드(63)의 두께(B2, 10㎛ 이상 30㎛ 이하)보다도 크고, 또한, 제 1 볼록부(71)의 높이(A4)와 동일하게 설정되어 있으며, 본 실시형태에서는 15㎛ 이상 35㎛ 이하로 설정되어 있다. 그리고 제 2 볼록부(75)의 중심축은 제 2 패드(63)의 중심축(C2)과 일치하고 있다. 또한, 「중심축(C2)」이란, 평면시로 제 2 패드(63)의 중심이 되는 개소를 통과하는 축선을 말한다.
또한, 제 2 패드(63)의 표면[하면(64)]의 일부 및 제 2 볼록부(75)의 표면[선단면(76) 및 외측면(77)]은 도금층(78)에 의해서 연속적으로 덮여 있다. 도금층 (78)은 니켈층, 팔라듐층 및 금층에 의해서 구성되고, 도금층(74)과 같은 층 구조를 갖고 있다. 또, 제 2 패드(63) 및 제 2 볼록부(75)는 도금층 등의 개재물을 통하는 일없이 직접 접속되어 있다. 또한, 본 실시형태의 도금층(78)은 니켈층, 팔라듐층 및 금층으로 이루어지는 구조를 갖고 있지만, 층 구조는 적절히 변경하는 것이 가능하다.
도 1∼도 4에 나타내어지는 바와 같이, 배선기판(10)의 기판 이면[13, 수지절연층(36)의 하면]은 솔더 레지스트(81)에 의해서 거의 전체적으로 덮여 있다. 이 솔더 레지스트(81)에는 제 1 패드(61) 및 제 1 볼록부(71)를 노출시키는 복수의 제 1 개구부(82)와, 제 2 패드(63) 및 제 2 볼록부(75)를 노출시키는 복수의 제 2 개구부(83)가 형성되어 있다.
또한, 제 1 개구부(82)는 평면시 원형 형상을 이루고, 내경이 300㎛ 이상 700㎛ 이하로 설정되어 있다. 따라서, 제 1 개구부(82)의 평면시의 형상은 제 1 볼록부(71)의 평면시의 형상과 상사형을 이루고 있다. 또, 제 1 볼록부(71)는 외측면 (73)이 제 1 개구부(82)의 내측면과 마주 보도록 제 1 개구부(82) 내에 배치됨과 아울러, 외측면(73)이 제 1 개구부(82)의 내측면에 접근하도록 제 1 개구부(82) 내에 배치되어 있다. 그리고 제 1 볼록부(71)는 외측면(73)과 제 1 개구부(82) 내측면의 간극(S1)의 크기(본 실시형태에서는 50㎛ 정도)가 균일하게 되어 있다. 또, 제 1 볼록부(71)의 높이(A4, 15㎛ 이상 35㎛ 이하)는 제 1 개구부(82)의 깊이(본 실시형태에서는 20㎛ 이상 40㎛ 이하)보다도 작게 설정되어 있다.
도 2, 도 4에 나타내어지는 바와 같이, 제 2 개구부(83)는 평면시 삼각형 형상을 이루고, 내경(최대 직경)이 400㎛ 이상 800㎛ 이하로 설정되어 있다. 따라서, 제 2 개구부(83)의 평면시의 형상은 제 2 볼록부(75)의 평면시의 형상과 상사형을 이루고 있다. 또, 제 2 볼록부(75)는 외측면(77)이 제 2 개구부(83)의 내측면과 마주 보도록 제 2 개구부(83) 내에 배치됨과 아울러, 외측면(77)이 제 2 개구부(83)의 내측면에 접근하도록 제 2 개구부(83) 내에 배치되어 있다. 그리고 제 2 볼록부 (75)는 외측면(77)과 제 2 개구부(83)의 내측면의 간극(S2)의 크기(본 실시형태에서는 50㎛ 정도)가 균일하게 되어 있다. 또, 제 2 볼록부(75)의 높이(B4, 15㎛ 이상 35㎛ 이하)는 제 2 개구부(83)의 깊이(본 실시형태에서는 20㎛ 이상 40㎛ 이하)보다도 작게 설정되어 있다.
또한, 각 볼록부(71, 75) 중, 각 제 1 볼록부(71)는 마더보드(91) 접속용의 볼록부이며, 각 제 2 볼록부(75)는 위치맞춤용 마크가 되는 볼록부이다. 제 2 볼록부(75)의 평면시의 형상(본 실시형태에서는 평면시 삼각형 형상)은 제 1 볼록부 (71)의 평면시의 형상(본 실시형태에서는 평면시 원형 형상)과는 다르다. 이 위치맞춤용 마크는 제 2 볼록부(75)의 선단면(72)의 외주연이나, 제 1 개구부(82)의 개구단 가장자리를 도시하지 않는 검출장치로 검출함으로써 인식된다.
도 1, 도 3에 나타내어지는 바와 같이, 제 1 패드(61)의 표면 위에는 마더보드(91)와의 접속에 이용되는 솔더 범프(84)가 형성되어 있다. 상세히 서술하면, 각 개구부(82, 83) 중, 제 1 개구부(82) 내에 배치된 제 1 볼록부(71)의 표면[선단면 (72) 및 외측면(73)] 위에, 솔더 범프(84)가 형성되어 있다. 솔더 범프(84)는 제 1 패드(61)의 하면(62)에 있어서 제 1 개구부(82) 내로 노출된 영역을 덮음과 아울러, 제 1 볼록부(71)의 표면 전체를 덮고 있다. 이로 인해, 제 1 패드(61) 및 제 1 볼록부(71)는 솔더 범프(84)에 덮여 보이지 않게 되어 있다. 솔더 범프(84)의 높이는 제 1 볼록부(71)의 높이(A4, 15㎛ 이상 35㎛ 이하)보다도 높고, 본 실시형태에서는 300㎛ 이상 700㎛ 이하로 설정되어 있다. 또한, 본 실시형태의 솔더 범프 (84)는 무연 솔더인 Sn-Ag계 솔더로 이루어져 있다. 그리고 도 3에 나타내어지는 바와 같이, 각 제 1 패드(61)는 솔더 범프(84)를 통하여 마더보드(91)측의 단자 (92)에 접속되도록 되어 있다. 즉, 솔더 범프(84)는 마더보드(91)측의 단자(92)와의 전기적인 접속에 이용되는, 이른바 BGA 범프이다.
다음에, 배선기판(10)의 제조방법에 대해서 설명한다.
우선, 기판 본체(11)를 준비하는 기판준비공정을 실시한다. 구체적으로는, 우선, 유리 에폭시로 이루어지는 기재의 양면에 구리박이 첩부된 동장적층판을 준비한다. 그리고 드릴기를 이용하여 천공 가공을 실시하여 동장적층판의 표리면을 관통하는 관통구멍을 소정 위치에 미리 형성하여 둔다. 그리고 관통구멍의 내면에 대해서 무전해 구리 도금 및 전해 구리 도금을 실시함으로써, 관통구멍 내에 스루홀 도체(24)를 형성한다. 그 후, 스루홀 도체(24)의 공동부(空洞部)를 절연수지재료(에폭시 수지)로 메워서 폐색체(25)를 형성한다.
또한, 무전해 구리 도금 및 전해 구리 도금을 실시함으로써, 폐색체(25)의 노출부분을 포함하는 동장적층판의 표면에 구리도금층을 형성한 후, 그 구리 도금 구리 및 구리박을 예를 들면 서브트랙티브법에 따라서 패터닝한다. 그 결과, 도체층(41) 및 스루홀 도체(24)가 형성된 코어 기판(21)의 중간제품을 얻는다. 또한, 코어 기판(21)의 중간제품이란, 코어 기판(21)이 되어야 할 영역이 평면 방향을 따라서 가로 세로로 복수 배치된 다수개 취득용 코어 기판이다.
다음에, 코어 기판(21)의 코어 주면(22) 위에 주면측 빌드업 층(31)을 형성함과 아울러, 코어 기판(21)의 코어 이면(23) 위에 이면측 빌드업 층(32)을 형성한다. 구체적으로 말하면, 우선, 코어 주면(22) 위에 열경화성 에폭시 수지를 피착(被着, 첩부)함으로써, 수지절연층(33)을 형성한다. 또, 코어 이면(23) 위에 열경화성 에폭시 수지를 피착(첩부)함으로써, 수지절연층(34)을 형성한다. 또한, 열경화성 에폭시 수지를 피착하는 대신에, 감광성 에폭시 수지나 절연 수지나 액정폴리머(LCP: Liquid Crystalline Polymer)를 피착해도 좋다.
또한, YAG 레이저 또는 탄산가스레이저를 이용하여 레이저 천공 가공을 실시하고, 비아 도체(47)가 형성되어야 할 위치에 비아 구멍을 형성한다. 구체적으로는, 수지절연층(33)을 관통하는 비아 구멍을 형성하고, 도체층(41)의 표면을 노출시킨다. 또, 수지절연층(34)을 관통하는 비아 구멍을 형성하고, 도체층(41)의 표면을 노출시킨다. 다음에, 종래 공지의 수법에 따라서 전해 구리 도금을 실시하여 비아 구멍의 내부에 비아 도체(47)를 형성함과 아울러, 수지절연층(33, 34) 위에 도체층(42)을 형성한다.
다음에, 수지절연층(33, 34) 위에 열경화성 에폭시 수지를 피착하여 수지절연층(35, 36)을 형성한다. 또한, 열경화성 에폭시 수지를 피착하는 대신에, 감광성 에폭시 수지나 절연 수지나 액정 폴리머를 피착해도 좋다. 이 경우, 레이저 가공기 등에 의해, 수지절연층(35)에 있어서 비아 도체(43)가 형성되어야 할 위치에 비아 구멍이 형성된다. 다음에, 종래 공지의 수법에 따라서 전해 구리 도금을 실시하여 수지절연층(35)의 비아 구멍 내에 비아 도체(43)를 형성함과 아울러, 수지절연층 (35) 위에 단자 패드(44)를 형성한다. 또한, 이 시점에서 기판 본체(11)가 완성된다.
계속되는 패드 형성공정에서는 기판 이면(13)을 가지는 최외층의 수지절연층 (36) 위에 대해서 도금을 실시함으로써, 기판 이면(13) 위에 패드(61, 63)를 형성한다(도 5 참조). 본 실시형태에서는 세미 애디티브법을 실시함으로써, 수지절연층 (36) 위에 패드(61, 63)를 패턴 형성한다. 구체적으로 말하면, 우선, 레이저 가공을 시행함으로써 수지절연층(36)의 소정의 위치에 비아 구멍을 형성하고, 이어서 각 비아 구멍 내의 스미어를 처리하는 디스미어처리를 실시한다. 다음에, 수지절연층(36)의 표면에 대해서 무전해 구리 도금을 실시한 후, 수지절연층(36) 위에 드라이 필름을 래미네이트하여 제 1 도금 레지스트(도시생략)를 형성한다. 또한, 제 1 도금 레지스트에 대해서 레이저 가공기를 이용하여 레이저 가공을 실시한다. 그 결과, 수지절연층(36)에 있어서 비아 구멍과 연통하는 위치에, 내경이 비아 구멍의 외경보다도 크게 설정된 제 1 개구부가 형성됨과 아울러, 수지절연층(36)에 있어서 비아 구멍과 연통하지 않는 위치에 제 2 개구부가 형성된다. 그리고 전해 구리 도금을 실시하여 각 비아 구멍 내에 비아 도체(43)를 형성함과 아울러, 제 1 개구부를 통하여 노출된 수지절연층(36)의 상면[기판 이면(13)] 및 제 1 개구부를 통하여 노출된 비아 도체(43)의 상면에 대해서, 구리(구리층)를 주체로 하는 제 1 패드 (61)를 형성한다. 또, 제 2 개구부를 통하여 노출된 수지절연층(36)의 상면[기판 이면(13)]에 대해서, 구리(구리층)를 주체로 하는 제 2 패드(63)를 형성한다. 그 후, 제 1 도금 레지스트를 박리함과 아울러, 불필요한 무전해 구리 도금층을 제거 한다. 또한, 본 실시형태에 있어서의 구리층의 두께는 10㎛ 이상 30㎛ 이하로 설정되어 있다. 본 실시형태의 구리층은 도금에 의해서 형성되어 있지만, 스퍼터법, CVD 등의 다른 방법에 의해 형성하는 것도 가능하다. 그러나, 특히 구리층에 있어서 필요한 높이(10㎛ 이상 30㎛ 이하)를 얻기 위해서는, 도금에 의해서 형성되는 것이 바람직하다.
계속되는 솔더 레지스트 형성공정에서는 패드(61, 63)가 형성된 수지절연층 (36) 위에 감광성 에폭시 수지를 도포하여 경화시킴으로써, 기판 이면(13)을 덮도록 솔더 레지스트(81)를 형성한다(도 6 참조). 다음에, 소정의 마스크를 배치한 상태에서 노광 및 현상을 실시하여 솔더 레지스트(81)에 개구부(82, 83)를 패터닝한다(도 6 참조).
계속되는 볼록부 형성공정에서는 각 패드(61, 63)에 대해서 도금을 실시함으로써, 각 패드(61, 63)의 하면(62, 64)에 볼록부(71, 75)를 형성한다(도 7 참조). 구체적으로 말하면, 우선, 솔더 레지스트(81)의 표면에 드라이 필름을 래미네이트하여 제 2 도금 레지스트(도시생략)를 형성한다. 다음에, 제 2 도금 레지스트에 대해서 레이저 가공기를 이용한 레이저 가공을 실시한다. 그 결과, 패드(61, 63)의 하면(62, 64)의 중앙부를 노출시키는 개구부가 형성된다. 그리고 개구부를 통하여 노출된 하면(62, 64)의 중앙부에 대해서 전해 구리 도금을 실시한다. 이 시점에서 구리(구리층)를 주체로 하는 볼록부(71, 75)가 형성된다. 그 후, 제 2 도금 레지스트를 박리한다. 여기서, 볼록부(71, 75)를 구성하는 구리층의 두께는 15㎛ 이상 35㎛ 이하로 설정되어 있다. 또한, 본 실시형태에서는 구리층을 전해 도금에 의해서 형성하고 있지만, 무전해 도금, 스퍼터법, CVD 등의 다른 방법에 의해 형성하는 것도 가능하다. 그러나, 특히 구리층에 있어서 필요한 높이(15㎛ 이상 35㎛ 이하)를 얻기 위해서는, 도금에 의해서 형성되는 것이 바람직하다.
그 후, 무전해 니켈 도금을 실시하여, 패드(61, 63)의 표면[하면(62, 64)]과 볼록부(71, 75)의 표면[(선단면(72, 76) 및 외측면(73, 77)]에 대해서 니켈층을 형성한다. 또한, 무전해 팔라듐 도금을 실시하여 니켈층 위에 팔라듐층을 형성한다. 그리고 무전해 금 도금을 실시하여 팔라듐층 위에 금층을 형성한다. 여기서, 니켈층, 팔라듐층 및 금층의 두께는 0.01㎛ 이상 15㎛ 이하로 설정되어 있다. 또한, 본 실시형태의 니켈층, 팔라듐층 및 금층은 도금에 의해서 형성되어 있지만, 스퍼터법, CVD 등의 다른 방법에 의해 형성하는 것도 가능하다.
계속되는 솔더 범프 형성공정에서는 배선기판(10)의 기판 이면(13)측에 형성되어 있는 복수의 제 1 패드(61) 위에 솔더 범프(84)를 형성한다. 구체적으로는, 도시하지 않는 솔더볼 탑재장치를 이용하여 각 제 1 패드(61) 위에 솔더볼을 배치한 후, 솔더볼을 소정의 온도로 가열하여 가열 용융(리플로우)함으로써, 각 제 1 패드(61) 위에 솔더 범프(84)를 형성한다. 또, 배선기판(10)의 기판 주면(12)측에 형성되어 있는 복수의 단자 패드(44) 위에 솔더 범프(45)를 형성한다. 구체적으로는, 솔더볼 탑재장치를 이용하여 각 단자 패드(44) 위에 솔더볼을 배치한 후, 솔더볼을 소정의 온도로 가열하여 가열 용융(리플로우)함으로써, 각 단자 패드(44) 위에 솔더 범프(45)를 형성한다. 또한, 이 시점에서 배선기판(10)의 중간제품이 완성된다.
그 후, 종래 주지의 절단장치 등을 이용하여 배선기판(10)의 중간제품을 분할한다. 그 결과, 제품부끼리가 분할되어 개개의 제품인 배선기판(10)이 다수 개 동시에 얻어진다(도 1 참조).
또한, IC칩 탑재공정을 실시한다. 구체적으로 말하면, 우선, 배선기판(10)의 기판 주면(12)측에 IC칩(51)을 얹어 놓는다. 이때, IC칩(51)의 바닥면측에 배치된 면접속단자(52)를 배선기판(10)측에 배치된 솔더 범프(45) 위에 얹어 놓도록 한다. 그리고 230℃∼260℃정도의 온도로 가열하여 각 솔더 범프(45)를 가열 용융(리플로우)함으로써, 단자 패드(44)가 면접속단자(52)에 대해서 플립 칩 접속되어 배선기판(10)에 IC칩(51)이 탑재된다(도 1 참조).
따라서, 본 실시형태에 따르면 이하의 효과를 얻을 수 있다.
(1) 본 실시형태의 배선기판(10)에서는 솔더 범프(84)에 크랙(100, 도 3 참조)이 발생하고, 발생한 크랙(100)이 솔더 범프(84)와 제 1 패드(61)의 계면을 따라서 진행되었다고 해도, 크랙(100)이 제 1 볼록부(71)에 도달함으로써 그 진행이 확실하게 억제된다. 그 결과, 솔더 범프(84)에 의해서 구성되는 전기 경로의 단선을 방지할 수 있기 때문에, 제조되는 배선기판(10)의 신뢰성을 향상시키는 것이 가능하게 된다.
(2) 본 실시형태에서는 제 1 패드(61)의 하면(62)의 일부에 제 1 볼록부(71)가 고정되고, 전체적으로 볼록 형상을 이루고 있다. 그러므로, 제 1 패드(61)의 표면[하면(62)] 및 제 1 볼록부(71)의 표면[선단면(72) 및 외측면(73)]을 덮는 솔더 범프(84)를 형성하면, 솔더 범프(84) 내에 제 1 볼록부(71)가 끼워 넣어진 상태가 된다. 그 결과, 제 1 패드(61) 및 제 1 볼록부(71)는 솔더 범프(84)와의 접촉면적이 확보된다. 따라서, 제 1 패드(61)의 표면과 솔더 범프(84)의 밀착 강도나, 제 1 볼록부(71)의 표면과 솔더 범프(84)의 밀착 강도를 높게 할 수 있으며, 나아가서는, 개개의 제 1 패드(61)와 마더보드(91)의 접속 불량을 방지할 수 있다. 즉, 마더보드(91)와의 접속에 적합한 제 1 패드(61) 및 제 1 볼록부(71)를 구비함으로써, 배선기판(10)의 신뢰성을 더한층 향상시킬 수 있다.
(3) 본 실시형태에서는 제 1 볼록부(71)에 있어서의 제 1 패드(61)의 하면 (62)에서 선단면(72)까지의 높이(A4)가 제 1 개구부(82)의 깊이보다도 작게 설정되어 있다. 그 결과, 솔더 범프 형성공정에 있어서, 솔더 범프(84)가 되는 솔더볼을 제 1 개구부(82) 내에 확실하게 배치할 수 있다.
또한, 본 실시형태를 이하와 같이 변경해도 좋다.
ㆍ상기 실시형태에서는 마더보드(91) 접속용의 제 1 볼록부(71)의 평면시의 형상(평면시 원형 형상)과 위치맞춤용 마크가 되는 제 2 볼록부(75)의 평면시의 형상(평면시 삼각형 형상)이 서로 다르지만, 볼록부(71, 75)의 평면시의 형상을 서로 동일한 형상으로 해도 좋다.
ㆍ상기 실시형태에서는 1개의 패드(61, 63)에 대해서 1개의 볼록부(71, 75)를 형성하고 있었지만, 이것에 한정되는 것은 아니고, 2개 이상의 볼록부를 형성해도 좋다.
ㆍ상기 실시형태의 볼록부(71, 75)는 구리 도금에 의해서 형성된 도체(구리 포스트)이었지만, 구리 페이스트를 인쇄함으로써 형성된 도체라도 좋다.
ㆍ상기 실시형태에서는 패드(61, 63) 및 볼록부(71, 75)를 피복하는 도금층 (74, 78)이 니켈층, 팔라듐층 및 금층으로 이루어지는 도금층이었지만, 구리층 이외의 도금층이면 좋고, 예를 들면, 니켈층 및 금층 등으로 이루어지는 다른 도금층으로 변경해도 좋다.
ㆍ상기 실시형태의 솔더 범프 형성공정에서는 제 1 패드(61) 위에 배치한 솔더볼을 가열 용융(리플로우)시킴으로써, 솔더 범프(84)를 형성하고 있었다. 그러나, 제 1 패드(61) 위에 인쇄된 솔더 페이스트를 가열 용융시킴으로써, 솔더 범프를 형성하도록 해도 좋다.
다음에, 상기한 실시형태에 의해서 파악되는 기술적 사상을 이하에 열거한다.
(1) 상기 수단 1에 있어서, 상기 패드 표면의 적어도 일부, 상기 선단면 및 상기 외측면은 도금층에 의해서 연속적으로 덮여 있으며, 상기 볼록부는 상기 도금층을 통하는 일없이, 상기 패드의 표면에 직접 접속되어 있는 것을 특징으로 하는 배선기판.
(2) 상기 수단 1에 있어서, 상기 볼록부는 상기 기판 이면측에 있어서 복수 존재하고 있으며, 복수의 상기 볼록부의 적어도 일부는 위치맞춤용 마크이며, 상기 위치맞춤용 마크가 되는 상기 볼록부는 상기 기판 이면측에 있어서의 외주부에 위치하고 있는 것을 특징으로 하는 배선기판.
(3) 상기 수단 1에 기재된 배선기판을 제조하는 방법으로서, 상기 기판 본체를 준비하는 기판준비공정과, 상기 기판 이면 위에 상기 복수의 패드를 형성하는 패드 형성공정과, 상기 기판 이면을 덮도록 상기 솔더 레지스트를 형성하는 솔더 레지스트 형성공정과, 상기 복수의 패드 표면의 일부에 상기 볼록부를 형성하는 볼록부 형성공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 배선기판의 제조방법.
10: 배선기판
11: 기판 본체
12: 기판 주면
13: 기판 이면
61: 패드로서의 제 1 패드
62, 64: 패드의 표면으로서의 하면
63: 패드로서의 제 2 패드
71: 볼록부로서의 제 1 볼록부
72, 76: 볼록부의 표면으로서의 선단면
73, 77: 볼록부의 표면으로서의 외측면
74, 78: 도금층
75: 볼록부로서의 제 2 볼록부
81: 솔더 레지스트
82: 개구부로서의 제 1 개구부
83: 개구부로서의 제 2 개구부
84: 솔더 범프
91: 마더보드
A4, B4: 패드의 표면에서 선단면까지의 높이
S1, S2: 볼록부의 외측면과 개구부의 내측면의 간극

Claims (8)

  1. 기판 주면(主面) 및 기판 이면을 가지는 기판 본체와,
    상기 기판 이면 위에 배치되고, 마더보드와의 접속에 이용되는 솔더 범프가 표면 위에 형성되는 것이 가능한 복수의 패드와,
    상기 기판 이면을 덮음과 아울러, 상기 복수의 패드를 노출시키는 복수의 개구부가 형성된 솔더 레지스트를 구비하는 배선기판으로서,
    상기 패드의 표면의 일부에 선단면 및 외측면을 가지는 볼록부가 형성되고,
    상기 볼록부는,
    상기 패드의 표면에서 상기 선단면까지의 높이가 상기 개구부의 깊이보다도 작게 설정되며,
    상기 외측면이 상기 개구부의 내측면과 마주 보도록 상기 개구부 내에 배치되고,
    평면측에서 보았을 때의 형상이 상기 개구부의 평면측에서 보았을 때의 형상과 상사형을 이루고 있는 것을 특징으로 하는 배선기판.
  2. 청구항 1에 있어서,  
    상기 볼록부는 상기 외측면이 상기 개구부의 내측면에 접근하도록 상기 개구부 내에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 배선기판.
  3. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 볼록부는 상기 외측면과 상기 개구부의 내측면의 간극의 크기가 균일한 것을 특징으로 하는 배선기판.
  4. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 볼록부는 상기 선단면과 상기 외측면의 경계 부분이 둥그스름한 형상을 이루고 있는 것을 특징으로 하는 배선기판.
  5. 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 패드의 표면의 적어도 일부, 상기 선단면 및 상기 외측면은 도금층에 의해서 연속적으로 덮여 있는 것을 특징으로 하는 배선기판.
  6. 청구항 1 내지 청구항 5 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 볼록부는 상기 기판 이면측에 있어서 복수 존재하고 있으며, 복수의 상기 볼록부의 적어도 일부는 위치맞춤용 마크인 것을 특징으로 하는 배선기판.
  7. 청구항 6에 있어서,
    상기 위치맞춤용 마크의 평면측에서 보았을 때의 형상은 마더보드 접속용의 상기 볼록부의 평면측에서 보았을 때의 형상과는 다른 것을 특징으로 하는 배선기판.
  8. 청구항 1 내지 청구항 7 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 개구부 중 적어도 1개의 상기 개구부 내에 배치된 상기 볼록부의 표면 위에, 상기 솔더 범프가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 배선기판.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11735510B2 (en) 2020-12-16 2023-08-22 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Printed circuit board and electronic component package

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN205726710U (zh) * 2014-02-07 2016-11-23 株式会社村田制作所 树脂多层基板及元器件模块
TWI554174B (zh) * 2014-11-04 2016-10-11 上海兆芯集成電路有限公司 線路基板和半導體封裝結構
JP6510349B2 (ja) * 2015-07-27 2019-05-08 京セラ株式会社 配線基板
JP2017098338A (ja) * 2015-11-19 2017-06-01 株式会社デンソー 電子装置
JP2017152536A (ja) * 2016-02-24 2017-08-31 イビデン株式会社 プリント配線板及びその製造方法
JP2017199803A (ja) * 2016-04-27 2017-11-02 日立マクセル株式会社 三次元成形回路部品
WO2017199712A1 (ja) 2016-05-16 2017-11-23 株式会社村田製作所 セラミック電子部品
JP2018018868A (ja) * 2016-07-26 2018-02-01 イビデン株式会社 コイル基板及びその製造方法
KR102373440B1 (ko) * 2017-03-17 2022-03-14 삼성디스플레이 주식회사 디스플레이 패널 및 이를 구비하는 디스플레이 장치
WO2019035392A1 (ja) 2017-08-14 2019-02-21 ソニー株式会社 電子部品モジュール、その製造方法、内視鏡装置、および移動体カメラ
US10978417B2 (en) * 2019-04-29 2021-04-13 Advanced Semiconductor Engineering, Inc. Wiring structure and method for manufacturing the same
US11626336B2 (en) * 2019-10-01 2023-04-11 Qualcomm Incorporated Package comprising a solder resist layer configured as a seating plane for a device
JP2021093417A (ja) * 2019-12-09 2021-06-17 イビデン株式会社 プリント配線板、及び、プリント配線板の製造方法
TWI731776B (zh) * 2020-08-26 2021-06-21 友達光電股份有限公司 電子裝置
US20220069489A1 (en) * 2020-08-28 2022-03-03 Unimicron Technology Corp. Circuit board structure and manufacturing method thereof
KR20220041430A (ko) * 2020-09-25 2022-04-01 삼성전자주식회사 Ubm층을 가지는 팬 아웃 반도체 패키지
US20230070275A1 (en) * 2021-09-09 2023-03-09 Qualcomm Incorporated Package comprising a substrate with a pad interconnect comprising a protrusion

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100216839B1 (ko) * 1996-04-01 1999-09-01 김규현 Bga 반도체 패키지의 솔더 볼 랜드 메탈 구조
JPH1074856A (ja) * 1996-08-29 1998-03-17 Kyocera Corp 半導体素子収納用パッケージ
JP3526508B2 (ja) * 1997-02-25 2004-05-17 京セラ株式会社 半導体素子収納用パッケージ
US6462414B1 (en) * 1999-03-05 2002-10-08 Altera Corporation Integrated circuit package utilizing a conductive structure for interlocking a conductive ball to a ball pad
US6812718B1 (en) * 1999-05-27 2004-11-02 Nanonexus, Inc. Massively parallel interface for electronic circuits
JP2001351946A (ja) * 2000-06-05 2001-12-21 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
US6563905B1 (en) * 2001-10-30 2003-05-13 Qualcomm, Incorporated Ball grid array X-ray orientation mark
US7446399B1 (en) * 2004-08-04 2008-11-04 Altera Corporation Pad structures to improve board-level reliability of solder-on-pad BGA structures
JP5436963B2 (ja) * 2009-07-21 2014-03-05 新光電気工業株式会社 配線基板及び半導体装置
JP2012089710A (ja) * 2010-10-20 2012-05-10 Toshiba Corp 電子機器およびフレキシブルプリント配線板

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11735510B2 (en) 2020-12-16 2023-08-22 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Printed circuit board and electronic component package

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