KR20150128721A - 광학 미러, 엑스선 형광 분석 장치 및 엑스선 형광 분석 방법 - Google Patents

광학 미러, 엑스선 형광 분석 장치 및 엑스선 형광 분석 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 엑스선 형광 분석 장치에 관한 것으로, 엑스선 방사선(19)으로 샘플(15)를 조사하기 위한 엑스선 소스(10), 상기 샘플(15)에 의해 방출된 엑스선 형광 방사선(16)을 측정하기 위한 엑스선 검출기(17), 및 상기 엑스선 소스(10)의 빔 경로에서 소정 각도를 가지도록 배열된 광학 미러(20)에 의해 샘플(15)의 조사된 측정 위치(29)의 광학적 제어 이미지를 생성하는 카메라(25)를 포함하며, 상기 광학 미러는 그 위에 미러층(28)이 제공되는 캐리어(21)를 포함한다. 샘플, 특히 샘플링된 표면 지점의 실제적인 제어 레코딩(control recording)이 가능한 엑스선 형광 장치를 생산하기 위하여 본 발명은 엑스 방사선(19)을 위한 통과 윈도우(23)을 갖는 광학 미러(20)를 포함하는데, 상기 광학 미러는, 캐리어(21) 내의 구멍(opening)(23), 및 미러층(28)을 형성하고 상기 캐리어(21)의 외부 측 상에서 상기 구멍(23)을 커버링하는 포일(foil)(22)에 의해 형성된다.

Description

광학 미러, 엑스선 형광 분석 장치 및 엑스선 형광 분석 방법{Optical mirror, x-ray fluorescence analysis device and method for x-ray fluorescence analysis}
본 발명은, 특히 엑스선 형광 분석 장치를 위한 광학 미러 뿐만 아니라, 엑스선 방사선으로의 샘플의 조사(radiation)를 위한 엑스선 소스, 상기 샘플에 의해 방출된 엑스선 형광 방사선의 측정을 위한 엑스선 검출기 및 상기 엑스선 소스의 빔 경로 내에서 소정 각도를 이루도록 배열된 광학 미러를 통해 상기 샘플의 조사된 위치(radiated position)의 광학 이미지를 생성하기 위한 카메라를 갖는 엑스선 형광 분석 장치에 관한 것이다. 또한 본 발명은 엑스선 형광 분석을 위한, 특히 얇은 층들의 두께를 판단하기 위한 대응 방법에 관한 것이다.
엑스선 형광 분석은 질적이고 양적인 물질 분석을 위한 비파괴 방법(disruption-free method)이다. 이는, 다색의 엑스선 방사선(polychromatic x-ray radiation)으로 샘플을 조사시킴(radiation)으로써 샘플을 형성하는 원자들의 내부 셀(inner shell)로부터 전자들이 자유롭게 된다는 원칙에 기초를 두고 있다. 그 내부에 존재하는 갭(gap)들은 외부 셀로부터의 전자들에 의해 충진(fill)된다. 이러한 전이(transfer) 시, 엑스선 범위에 있는 특징적인 형광 방사선이 발생하고 검출기에 의해 기록되어 상기 샘플의 원소적 조성(elementary composition)에 대한 정보를 제공한다.
엑스선 형광 분석은 특히 얇은 층들 및 층 시스템(layer system)의 층 두께 측정에도 사용된다. 엑스선 방사선이 얇은 층들을 침투(penetrate)함에 따라 그 아래에 놓인 물질에서 엑스선 형광 방사선이 또한 발생되는데, 이는 이후 검출기로 가는 도중에 그 물질 위에 놓인 층들 내에서의 흡수(absorption)에 의해 약화된다. 엑스선 방사선의 파장들의 범위 내의 스펙트럼을 평가함으로써 물질 조성 및 현재의 층 두께가 판단될 수 있다. 양호한 공간 분해능을 달성하기 위해서 측정 스폿(measurement spot), 따라서 제 1 방사선에 의해 검출된 샘플의 영역이 아주 작도록 선택되어야 한다.
엑스선 형광 분석에 의한 샘플들의 연구에서는 샘플 표면의 광학적 이미지를 통하여 측정 스폿을 조절하는 것이 필요하다. 이는 일반적으로 카메라를 사용하여 달성된다. 그러나 샘플의 측정 위치의 시차 없는 이미지(parallax-free image)를 생성시키기 위해서는, 제어 샷(control shot)이 가능한 최대한으로 엑스선 빔에 평행하게 이루어져야 한다. 이 목적을 위해서, 카메라가 지향되는 방향과 일정 각도를 가지도록 빔 경로 내에 광학 미러가 배치된다. 그러나 미러가 측정 위치로의 경로 상에서 엑스선 빔을 흡수하지 않도록, 상기 미러는 엑스선 빔의 통과 영역(passage region) 내에 구멍(hole)을 갖는다. 이러한 광학 미러가 DE 33 14 281 A1에 공지되어 있다. 그러나 상기 광학 미러는, 방해받지 않는(undisturbed) 이미지를 생성시키기 위해 샘플 표면으로부터 먼 거리에 고정되어야 한다는 단점을 가진다.
엑스선 빔의 통과를 위한 구멍을 갖는 미러가 제어 샷을 생성시키는데 사용되는 엑스선 형광 분석 장치는, 예를 들면 DE 197 10 420 A1에 공지되어 있다. EP 1 348 949 B1에는, 제어 미러 내의 리세스를 통과하도록 안내되는 포커싱 엑스선 광학기구(focusing x-ray optics)가 부가적으로 사용된다. 동일한 내용이 DE 32 39 379 C2에 공지되어 있는데, 이 특허는 구멍의 크기가 엑스선 빔의 통과를 위해 조절될 수 있는 미러를 개시한다.
또한, 엑스선 형광 분석을 위한 방법 뿐만 아니라 엑스선 형광 분석 장치가 US 4,406,015 A에 공지되어 있는데, 여기서는 미러가 제 1 빔 내에 배치되고, 상기 미러는, SiO2 플레이트(SiO2 plate) 상에 기상 증착된(vapour deposited) 알루미늄 층 또는 플라스틱 필름 상에 기상 증착된 알루미늄 층을 포함한다. 따라서 상기 미러는 전면(full-surface) SiO2 플레이트 또는 플라스틱으로부터 형성된 전면 캐리어 상의 전면 알루미늄 층을 포함한다.
상기 2개의 종래 기술은, 상기 전면 캐리어들이 측정 대상물 쪽으로 지향된 엑스선 방사선의 세기를 감소시키며, 이에 따라 보다 긴 측정 시간들이 필요하다는 단점을 갖는다. 부가적으로 플라스틱으로 구성된 캐리어를 갖는 상기 종래 기술은, 시간이 지나면 상기 플라스틱이 엑스선 방사선에 의한 방사선 때문에 부식된다는 단점을 갖는다.
본 발명의 목적은, 분석되어야 할 샘플의 측정 위치에서 그리고 미러로부터 아주 짧은 거리에 위치될 때 자연적인 제어 샷(natural control shot)들이 가능한 효과를 갖도록, 광학 미러, 엑스선 형광 분석 장치 및 엑스선 형광 분석 방법을 개선시키는 것이다.
상기 목적은 청구항 1, 9 및 12의 특징에 의해 달성된다. 바람직한 실시예들이 종속항들로부터 얻어질 수 있다.
상기 목적은, 캐리어 내의 리세스에 의해 형성된 엑스선 방사선을 위한 통과 윈도우, 그리고 상기 리세스를 커버하고 미러 층을 형성하는 필름을 갖는 광학 미러에 의해 달성된다. 한편으로 이러한 광학 미러는, 필름만이 침투됨에 따라, 높은 세기를 갖는 엑스선 방사선, 특히 엑스선 방사선의 제 1 방사선에 대해서는 투과성(permeable)이며, 광학 방사선에 대해서는 불투과성이어서, 카메라에 의해 측정 위치의 완전한 이미지가 검출될 수 있도록 샘플의 측정 위치의 표면의 이미지를 검출한다.
미니어처 광학기기(miniature optics)가 이러한 광학 미러에 의해 생성될 수 있는데, 이에 의하면 샘플의 직접적인 관찰을 위한 광학 미러의 위치들의 유지(retention)에 의해 샘플 상의 초점(focal point)과 엑스선 광학기기 사이의 거리가 좁게 유지될 수 있다. 따라서 엑스선 형광 장치의 컴팩트하거나 공간 절약적인 구조가 달성된다.
바람직하게는 상기 필름은 플라스틱, 보다 바람직하게는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(polyethylene terephthalate)로 생성된다. 플라스틱은 주로 오직 6의 원자 번호를 갖는 카본으로 이루어진다. 엑스선 흡수가 침투될(penetrated) 물질의 원자 번호 z에 매우 강하게 의존하기 때문에(대략 ~z4), 플라스틱 필름에 의한 약화(weaking)가 매우 낮은 수준이다. 아주 높은 내인열성(tear-resistant) 필름이, 특히 이러한 필름이 2축으로(biaxially) 스트레치(stretch)된다면, 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 즉 PET로부터 생성될 수 있다.
상기 필름 상에 반사 코팅을 얻기 위해 또는 미러층을 형성하기 위해, 상기 필름은 금속화(metallise)될 수 있다. 예를 들어 금속화 공정(metallisation)은 스퍼터링(캐소드 원자화(cathode atomisation)) 또는 진공 증착(vacuum depositing)에 의해 간단한 방식으로 수행될 수 있다. .
바람직하게는, 알루미늄이 미러링(mirroring)에 고려되는 금속들 중 가장 낮은 원자 번호를 가지며 또한 매우 스퍼터링이 잘 될 수 있기 때문에, 알루미늄으로 만들어진 미러 코팅이 적용된다.
캐리어 상에 적용되는 이러한 필름은 매우 얇게 되도록 구현될 수 있는데, 예를 들면 침투될 물질의 두께에 그 흡수율이 지수함수적으로 의존하는 제 1 엑스선 방사선이 거의 약화되지 않도록, 대략적으로 수 마이크로미터의 두께를 가질 수 있다.
안정된 광학 미러가 얻어지도록 상기 캐리어는, 통과 윈도우의 영역 내에 리세스(recess), 바람직하게는 둥근 구멍(round hole)을 갖는 글래스로 이루어지는 것이 바람직한 평판형의 베이스 바디(planar base body)를 갖는다. 상기 미러링된 필름(mirrored flim)은 캐리어상에 스프레드(spread)되거나 접착(glue)될 수 있는데, 이 경우 접착 포인트(glue point)들은 예를 들어 오직 에지 영역에서만 제공되는 것이 필요하다.
특히, 캐리어 내의 리세스의 영역 내에서의 상기 필름의 텐션 없는(tension-free) 배열이, 상기 필름을 캐리어 상에 접착시킴으로써 달성될 수 있다. 따라서, 미러의 침투(penetration)의 영역에서 상기 필름만이 활성화됨에도, 엑스선 방사선의 식별 손실(identity loss)이 거의 발생되지 않는다.
대안적으로 상기 광학 미러는 또한 캐리어로서 프레임을 가질 수 있는데, 이 경우 상기 프레임 위에 또는 그 위 전체에 걸쳐 미러링된 필름이 스프레드된다.
또한, 본 발명의 목적은, 엑스선 방사선을 위한 통과 윈도우를 갖는 광학 미러가 사용되는 엑스선 형광 분석 장치에 의해 달성되는데, 이는 필름으로 커버링된 리세스를 갖는 캐리어를 포함하고 상기 필름은 상기 캐리어의 외부측 상에서 미러층을 형성한다.
이에 의해 광학적 이미지가 샘플의 측정 위치에서 검출될 수 있고 측정의 제어를 위해 분석될 수 있다.
예를 들어 비디오 내시경(video endoscope)과 같은 내시경이 카메라로서 사용될 수 있다. 이러한 방식으로 달성되는 컴팩트한 구조 유형으로 인하여 포커싱 엑스선 광학기기가 사용되고 샘플 표면에 매우 가깝게 위치된다. 이에 의해 매우 양호한 공간 분해능이 달성된다.
바람직하게는 모노- 또는 폴리카필러리 렌즈(polycapillary lens)가, 제 1 빔을 포커싱하고 측정 표면 상의 보다 작은 측정 스폿이 달성되도록 빔 방향에서 보았을 때 미러 앞에 위치된다.
또한, 본 발명의 목적은 샘플의 엑스선 형광 분석을 위한 방법에 의해 달성되는데, 이 경우 광학 미러는 엑스선 방사선을 위한 예를 들면 스루홀 또는 리세스와 같은 통과 윈도우를 포함하는 캐리어를 가지며, 상기 광학 윈도우는 미러 표면을 형성하는 필름에 의해 캐리어의 외부측 상에 커버링되어, 엑스선 방사선이 광학 미러의 필름만을 침투하여 미러층으로서 형성된 필름에서 샘플의 샘플 표면 또는 측정 위치에서 완전하고 찌그러짐 없는(distortion-free) 광학 이미지가 반사되고 카메라에 의해 검출되도록 한다. 따라서, 샘플의 측정 위치에서의 측정의 개선된 평가 및 모니터링이 달성될 수 있다. 부가적으로, 샘플의 측정 위치의 완전한 이미지의 검출을 위해 인접하여 위치된 미러 및 엑스선 빔 사이의 샘플의 이동이 필요하지 않게 된다. 그 이유는, 광학 미러가 공간 절약형의 광학기기로서 형성될 수 있고, 측정 시 측정 위치 및 엑스선 방사선 사이에서 머물러 있을 수 있기 때문이다.
본 발명 및 유리한 실시예 및 개선예들이 도면들에 도시된 예시들을 통해 보다 자세히 기술되고 설명된다. 본 명세서 및 도면으로부터 도출되는 특징은 본 발명에 따라 개별적으로 또는 임의의 조합으로 함께 적용될 수 있다.
도 1은 본 발명에 따라 광학 미러를 갖는 엑스선 형광 분석 장치의 개략적인 표현이고,
도 2는 제 1 실시예의 광학 미러의 등각투영도(isometric view)이고, 그리고
도 3은 제 2 실시예의 광학 미러의 등각투영도이다.
도 1에 도시된 엑스선 형광 분석 장치(9)는 엑스선 소스로서 열음극(hot cathode)(12)을 갖는 일반적인 구성의 엑스선 튜브(10)를 가지는데, 이로부터 전자들이 방출되고 양극(anode)(11)에 대한 가속 전압(UB)를 사용하여 가속된다. 여기에서, 전자들은 제지(brake)되고 엑스선 방사선(13)을 생성시킨다. 다색의 엑스선 방사선(polychromatic x-ray radiation)(13)의 파장 범위는, 일반적으로 약 10kV 이상이고, 예를 들어 예시적인 실시예에서는 50kV인 가속 전압, 그리고 예를 들어 텅스텐인 양극 물질에 종속적이다.
엑스선 방사선(13)은 이후 바람직하게는 예시적인 실시예에서 모노 또는 폴리카필러리 렌즈로 형성된 엑스선 광학기기(14)에 의해 포커싱된다. 대안적으로 단순한 콜리메이터만이 빔(19)을 페이드아웃(fade out)시키기 위해 사용될 수도 있다.
페이드아웃되거나 포커싱된 빔 번들(19)은 이후 샘플(15)에 부딪친다. 상기 샘플(15)은 예를 들어 층(15a) 또는 층 시스템을 포함한다. 상기 빔 번들(19)은 최소한 부분적으로 층(15a)을 침투(penetrate)하거나 상기 샘플(15)의 층 시스템의 상부 층(15a)을 침투한다. 조사된 영역에서, 엑스선 검출기(17), 예를 들어 반도체 검출기에 의해 측정되는 엑스선 형광 방사선(16)이 발생된다. 상기 샘플의 물질 조성 및/또는 상기 층 시스템 또는 상기 층(들)(15a)의 층 두께는, 그 자체가 공지된 방식으로 상기 엑스선 형광 방사선(16)의 측정된 에너지 스펙트럼(18)의 평가를 사용하여 판단된다.
동시에, 상기 엑스선 형광 분석 장치는 측정 위치(29)에서 샘플 표면의 직접적인 비디오 관찰을 가능하게 한다. 이는 제어에 사용될 수 있으며, 예를 들어 측정 위치에 대한 샘플(15)의 위치설정을 간편하게 한다. 또한 이에 따라서, 나중에 측정 위치(29)의 로케이션(location)을 결함없이 알 수 있도록 하기 위해 각각의 엑스선 형광 측정에 대해, 측정 위치(29)의 또는 샘플링된 영역의 광학적 제어 샷이 저장될 수 있다.
시차 없는(parallax-free) 제어 샷이 생성될 수 있도록 하기 위해, 측정 위치(29)의 이미지가 엑스선 빔(19)에 평행하게(in parallel) 캡처링된다. 이 목적을 위해 광학 미러(20)가 빔 경로 내에서 소정 각도를 가지도록 배열된다. 이미징 광학기기, 여기서는 렌즈(24)가, 예를 들어 디지털 CCD 카메라인 카메라(25) 상에서 측정 위치(29)의 샘플 표면의 미러 이미지를 디스플레이한다. 바람직하게는, 작은 크기(dimension)를 갖고 상기 광학 미러로부터 짧은 거리에 위치될 수 있는 내시경 카메라가 제공된다. 카메라(25)의 이미지는 모니터(26) 상에 표시되고 측정 데이터 집합으로 저장되고 분석될 수 있다.
상기 광학 미러(20)가 가능한 엑스선 빔(13)을 약화시키지 않게 하기 위해 상기 광학 미러는 엑스선 빔(13)을 위한 통과 윈도우(30)를 갖는다. 상기 통과 윈도우(30)는, 미러층(28)으로서의 침투 필름(penetrating flim)(22)에 의해 캐리어(21)의 일측에 커버링된 상기 캐리어(21) 내의 리세스(23)에 의해 형성된다. 상기 필름(27)의 외부측은 미러링된다. 상기 캐리어(21)는, 필름(22)의 미러링된 외부측을 가지고 상기 측정 위치(29)에 대해 경사진 방식으로 정렬되어, 엑스선 방사선(13)이 먼저 상기 캐리어(21)의 리세스(23)에 진입하고 이를 통과하며, 이어서 필름(22)을 침투(penetrate)하거나 필름(22)을 통과한다. 상기 캐리어(21)는 바람직하게는 글래스로 이루어진다.
엑스선 방사선의 흡수는 한편으로는 침투될 물질 두께에 대한 지수함수적 종속성을 가지며, 다른 한편으로는 침투된 물질의 원자 번호 z의 네제곱에 비례하는 매우 강한 종속성을 갖는다. 상기 미러(20)를 위한 캐리어 물질로는 글래스가 사용될 수 있으나(실리콘은 14의 원자번호를 갖는다), 상기 엑스선 빔(13)은 방해받지 않고 리세스(23)를 통과할 수 있다.
바람직하게는 플라스틱으로 이루어진 연속적인 얇은 필름(22)이, 상기 카메라(25)쪽을 향하는 광학 미러(20)의 하부측 상에 위치된다. 플라스틱은 실질적으로 원자 번호 6을 갖는 카본으로 형성된다. 부가적으로 플라스틱 필름은 수 마이크로미터의 범위로 매우 얇게 생성될 수 있으나, 그럼에도 불구하고 내구성과 내인열성이 좋다. 상기 필름(22)의 생성을 위한 바람직한 플라스틱은 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 즉 PET이다. 특히, 마일라(Mylar), 멜리넥스(Melinex) 또는 호스타판(Hostaphan)의 의해 공지된, PET로 이루어진, 2축으로 오리엔팅된(biaxially orientated) 폴리에스테르 필름이 본 발명에 사용하기에 적합하다.
미러링을 위해, 플라스틱 필름(22)은 금속화되는데, 예를 들어 미러링 금속 코팅(mirroring metallic coating)이 스퍼터링(캐소드 원자화(cathode atomisation)) 또는 진공 증착에 의해 상기 필름에 적용된다. 가능한 작은 원자 번호이기 때문에, 특히 양호하게 스퍼터링될 수 있는 코팅 물질로서 알루미늄(원자번호 13)이 특히 적절하다.
본 발명의 사용에 적합한 금속화된 PET 필름은 예를 들어 100?m이하의 전형적인 물질 두께를 가지며 높은 레벨의 내인열성을 갖는다. 반사 금속 코팅의 두께는 100nm 이하일 수 있다. 금속화된 필름(22)의 매우 낮은 물질 두께 및 낮은 원자번호로 인하여, 엑스선 방사선(13)에 대해 실질적으로 투명하다. 따라서 실질적으로 투명한 통과 윈도우(30)를 갖는 연속적인 광학 미러(20)를 성공적으로 생성할 수 있다.
상기 필름(22)은 상기 캐리어(22)의 평판의 베이스 바디 상에 접착(glue)되거나 라미네이트(laminate)되거나 스프레드(spread)될 수 있다. 접착 지점들(glue points)은 상기 캐리어(21)의 에지 영역에 제한될 수 있다. 도 2에 이러한 미러(20)가 예시적으로 도시된다. 상기 캐리어(21)는 통과 윈도우(30)로서 둥근 구멍을 가지며, 이를 통해 엑스선 빔(13)이 통과할 수 있다. 상기 필름(22)은 상기 캐리어(21)의 외부측 상에 스프레드되고 구멍(23)을 커버한다.
둥근 구멍을 갖는 글래스 플레이트로 형성된 캐리어(21) 대신에, 상기 캐리어(21)는 또한 상기 필름(22)이 그 위 전체에 걸쳐 스프레드되는 사각 프레임만으로도 구현될 수 있다. 캐리어로서 프레임(21)을 갖는 이러한 실시예는 예시로서 도 3에 도시된다. 이 실시예는, 엑스선 광학기기(14) 아래에서 샘플(15)을 이동시키는 대신에 엑스선 광학기기가 샘플(15)에 대하여 측정 위치(29)을 스캐닝하는데 이동될 수 있도록, 보다 넓은 영역이 통과 윈도우(30)로서 사용가능하게 된다는 이점을 갖는다.
상기 엑스선 광학기기(14) 및 상기 샘플(15) 사이의 거리는, 예시적인 실시예에서 약 15mm에 달한다. 보다 넓은 거리들이 가능하나, 이는 엑스선 빔(13)의 보다 불량한 포커싱, 따라서 엑스선 형광 분석 장치(9)의 보다 불량한 공간 분해능에 이르게 한다. 작은 크기들 때문에, 내시경의 형태로 이미징 광학기기(24)와 디지털 카메라(25)가 통합되는(integrated) 비디오 내시경이 특히 적절하다.
상술한 특징들은 본 발명에서 각각 의미가 있으나 임의의 방식으로 서로 결합될 수도 있다.

Claims (12)

  1. 엑스선 형광 분석 장치용 광학 미러로서, 상기 엑스선 형광 분석 장치는, 엑스선 방사선(19)으로 샘플(15)를 조사하기 위한 엑스선 소스(10), 상기 샘플에 의해 방출된 엑스선 형광 방사선(16)의 측정을 위한 엑스선 검출기(17) 및 상기 엑스선 소스(10)의 빔 경로에서 소정 각도를 가지도록 배열된 상기 광학 미러를 통해 상기 샘플(15)의 조사된 측정 위치(29)의 광학적 제어 이미지(26)을 생성하는 카메라(25)를 포함하고, 상기 광학 미러는 캐리어(21)를 포함하되, 상기 캐리어는 상기 캐리어(21) 상에 제공된 미러층(28)을 가지며,
    상기 광학 미러(20)는, 상기 캐리어(21) 내의 리세스(23)로 형성된 엑스선 방사선(19)용 통과 윈도우(23) 및 상기 캐리어(21)의 외부측 상에서 상기 리세스(23)을 커버하고 상기 미러층(28)을 형성하는 필름(22)을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 미러.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 필름(22)은 플라스틱, 바람직하게는 폴리에틸렌 테레프탈레이트로 이루어지는 것을 특징으로 하는 광학 미러.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 필름(22)는 금속화되는 것을 특징으로 하는 광학 미러.
  4. 제 3 항에 있어서, 상기 필름(22)은 알루미늄으로 형성된 코팅을 갖는 것을 특징으로 하는 광학 미러.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 필름(22)은 수 마이크로미터의 범위의 두께를 갖는 것을 특징으로 하는 광학 미러.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 캐리어(21)는 글래스로 구성된 평판형의 베이스 바디를 포함하고, 상기 통과 윈도우(23)의 영역 내에 바람직하게는 둥근 구멍인 리세스를 갖는 것을 특징으로 하는 광학 미러.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 필름(22)는 상기 캐리어(21)에 접착되고 텐션 없는 방식으로 상기 캐리어(21)의 상기 리세스(23)를 커버하는 것을 특징으로 하는 광학 미러.
  8. 제 1 항 내지 제 5 항에 있어서, 상기 캐리어(21)는 프레임을 포함하되 상기 프레임 위에 또는 상기 프레임 전체에 걸쳐 미러링된 필름(22)이 스프레드되는 것을 특징으로 하는 광학 미러.
  9. 엑스선 방사선(19)으로의 샘플(15)의 조사를 위한 엑스선 소스(10), 상기 샘플에 의해 방출된 엑스선 형광 방사선(16)의 측정을 위한 엑스선 검출기(17) 및 상기 엑스선 소스(10)의 빔 경로 내에서 소정 각도를 가지도록 배열된 광학 미러(20)를 통해 상기 샘플(15)의 조사된 위치의 광학적 제어 이미지(26)을 생성시키는 카메라(25)를 포함하고, 상기 광학 미러는 캐리어(21) 상에 미러층(28)이 제공된 상기 캐리어(21)를 포함하는 엑스선 형광 분석 장치에 있어서,
    제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 따라 상기 광학 미러(20)가 형성되는 것을 특징으로 하는 엑스선 형광 분석 장치.
  10. 제 9 항에 있어서, 상기 카메라(25)는 내시경, 바람직하게는 비디오 내시경으로서 구현되는 것을 특징으로 하는 엑스선 형광 분석 장치.
  11. 제 9 항에 있어서, 모노 또는 폴리카필러리 렌즈가 상기 광학 미러(20)의 앞에 배열되는 것을 특징으로 하는 엑스선 형광 분석 장치.
  12. 샘플(15)의 엑스선 형광 분석을 위한, 특히 얇은 층의 두께를 판단하는 방법에 있어서, 상기 샘플(15)은 엑스선 소스(10)로부터의 다색의 엑스선 방사선(19)으로 조사되고, 상기 샘플(15)에 의해 방출된 엑스선 형광 방사선(16)이 엑스선 검출기(17)를 사용하여 측정되며, 상기 엑스선 소스(10)의 빔 경로 내에 소정 각도를 가지도록 배열되고 캐리어(21) 상에 제공된 미러층(28)을 갖는 상기 캐리어(21)를 포함하는 광학 미러(20)를 통해 카메라(25)를 사용하여 상기 샘플(15)의 측정 위치(29)의 광학적 제어 이미지(26)가 생성되며,
    상기 캐리어(21)는 상기 캐리어(21) 의 외부측 상에 상기 미러층(28)을 형성하는 필름(22)에 의해 커버되는 엑스선 방사선(19)용 통과 윈도우(23)을 가지며, 상기 광학 미러(20)의 상기 캐리어(21)의 리세스(23)의 영역에서 엑스선 방사선(13)이 상기 필름(22)을 침투하며, 상기 필름(22) 상의 상기 샘플(15)의 측정 위치(29)에서 광학 이미지가 반사되어 상기 카메라(25)에 의해 검출되는 것을 특징으로 하는 방법.
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