JP3860641B2 - 蛍光x線分析装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、X線源から発生するX線によって励起され、特性X線を含む蛍光X線を発生する2次ターゲット装置を備え、2次ターゲット装置から発生する蛍光X線を試料に照射して、試料から発生する蛍光X線を分析する蛍光X線分析装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
図5(a)は蛍光X線分析における直接照射法の一例を示す構成図である。X線管1からX線A1を発生させて、試料Sに直接照射し、試料Sから発生する蛍光X線ASを半導体検出器などのX線検出器を用いて分析している。直接照射法は、広い元素範囲を一度に分析できるため、未知の微量元素を探索するのに適している。
【0003】
試料中の特定の微量元素を高感度で分析する場合、試料を照射する励起X線、試料母体からの蛍光X線、微量元素からの蛍光X線の各スペクトルが同時に検出されるため、励起X線のスペクトルが狭く、その背景スペクトルが小さいほど、すなわち単色であるほど微量元素の検出限界を向上できる。
【0004】
励起X線の単色化には、2次ターゲット法や分光結晶法などの手法が知られている。
【0005】
2次ターゲット法は、X線管の陽極ターゲットとは異なる物質で形成された2次ターゲットを用意して、X線管から発生したX線をいったん2次ターゲットに照射して、2次ターゲット固有の特性X線を含む蛍光X線を発生させることによってほぼ単色化して、この蛍光X線を試料に照射する手法である。励起X線の波長切換えは、2次ターゲット物質の交換によって容易に実現できる。
【0006】
図5(b)は蛍光X線分析における2次ターゲット法の一例を示す構成図である。X線管1からのX線A1をいったん2次ターゲット2に照射し、2次ターゲット2からターゲット物質固有の蛍光X線A2を発生させ、蛍光X線A2を試料Sに照射し、試料Sから発生する蛍光X線ASを半導体検出器などのX線検出器を用いて分析している。
【0007】
次に分光結晶法は、X線管から発生したX線をいったん分光結晶に照射して、分光結晶によるX線回折によってほぼ単色化して、回折した蛍光X線を試料に照射する手法である。X線回折によるため、波長純度は高くなるが、X線強度はかなり低下する。具体的には、図5(b)に示す2次ターゲット2の代わりに分光結晶を配置し、さらにX線管1および試料Sとの位置関係が回折条件を満足するように微調整する必要がある。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
2次ターゲット法は、分光結晶法と比べてX線光学系の調整が容易で、得られる測定X線強度も高いという利点がある。
【0009】
しかしながら、図5(b)に示すように、X線の光軸が2次ターゲットの位置で曲げられるため、直接照射法と2次ターゲット法とを同一装置で実現するためにはX線管の回転などの移動機構が不可欠となり、装置全体が大型になる。また、直接照射法によるX線照射条件(角度や照射位置など)と2次ターゲット法によるX線照射条件とが必ずしも一致しないため、両者の測定データ同士の対応が不正確となる。
【0011】
本発明の目的は、X線源からのX線光軸と同じ方向に測定用蛍光X線を発生することによって、直接照射法と2次ターゲット法とを切換える際に、X線照射光軸の調整機構が不要で、しかも両者のX線照射条件を一致させることができる蛍光X線分析装置を提供することである。
【0012】
【課題を解決するための手段】
本発明は、X線を発生するX線源と、
X線源からのX線によって励起され、測定用の蛍光X線を発生する2次ターゲット装置と、
測定用蛍光X線が試料に照射されて、該試料から発生する蛍光X線を検出するX線検出器とを備え、
2次ターゲット装置は、X線遮蔽材料で形成され、X線入射開口およびX線出射開口を空間的に接続する中空部を有し、これらX線入射開口およびX線出射開口が同心で形成されるターゲット本体と、
ターゲット本体の中空部に面する内面に形成され、入射X線によって励起され測定用の蛍光X線を発生するターゲット層と、
X線遮蔽材料で形成され、X線入射開口を通過する入射X線がそのままX線出射開口を通過しないように、入射X線を部分的に阻止するX線阻止部材とを備え、
入射X線の光軸の方向は、測定用の蛍光X線の光軸の方向と同じであることを特徴とする蛍光X線分析装置である。
【0013】
本発明に従えば、X線源からのX線がX線入射開口に入射してターゲット層に到達すると、ターゲット層から測定用の蛍光X線が発生し、X線出射開口から出射する。一方、X線阻止部材およびターゲット本体はX線遮蔽材料で形成されているため、入射X線がターゲットの後側まで到達できない。従って、入射側のX線光軸と同じ方向に沿ってほぼ単色化された測定用蛍光X線を発生できる。
そのため、2次ターゲット装置の移動や取外しによって直接照射法を実施する場合、X線源の角度調整が不要となり、しかも直接照射法と2次ターゲット法との間でX線照射条件、たとえばX線照射角度や照射位置をほぼ一致させることができる。
【0014】
また本発明は、前記内面はX線入射開口からX線出射開口に向けて徐々に細くなるテーパー状に形成されていることを特徴とする。
【0015】
本発明に従えば、入射X線から見た内面の立体角を増加させることができるため、測定用蛍光X線の変換効率および強度を向上させることができる。
【0016】
また本発明は、X線出射開口に、測定用蛍光X線を単色化するためのX線フィルタが設けられることを特徴とする。
【0017】
本発明に従えば、X線出射開口からはターゲット層の主要物質に固有の特性X線だけでなく、その不純物や大気元素の特性X線、あるいは入射X線の散乱線なども重畳されて出射されるため、X線スペクトルにおいてローパスフィルタ特性やバンドパスフィルタ特性を有するX線フィルタを設けることによって、測定用蛍光X線をより単色化できる。
【0021】
また本発明は、X線源からのX線をビーム状に絞って、試料に直接照射するためのコリメータ装置と、
該コリメータ装置と2次ターゲット装置とを交換して選択的に使用するための移動機構とを備えることを特徴とする。
【0022】
本発明に従えば、コリメータ装置を用いてX線をビーム状に絞ることによって、直接照射法における空間分解能を向上できる。しかもコリメータ装置を用いた直接照射法と2次ターゲット装置を用いた2次ターゲット法との切換えが容易になり、しかも両者の移動機構を採用することによって測定条件の再現性も向上する。
【0023】
【発明の実施の形態】
図1は、本発明に係る蛍光X線分析装置の一実施形態を示す構成図である。2次ターゲット装置20は、中空状に形成されたターゲット本体21と、ターゲット本体21の内面に形成されたターゲット層22と、入射X線を部分的に阻止するX線阻止板23などで構成される。
【0024】
ターゲット本体21はPb等のX線遮蔽材料で形成され、その表面および裏面にはX線入射開口21aおよびX線出射開口21bが同心で形成され、さらにこれらの開口21a、21bを空間的に接続するようにテーパー状の中空部が形成されている。
【0025】
ターゲット層22は、所望の特性X線に応じた物質、たとえばAl、Cu、Ge、Y、Snなどで構成され、中空部の内面に接着や蒸着などによって形成される。このターゲット層22は、X線管10からのX線A1によって励起されて、層物質に固有の特性X線を含む測定用蛍光X線を発生する。
【0026】
X線阻止板23はPb等のX線遮蔽材料で形成され、X線入射開口21aを通過したX線A1がそのままX線出射開口21bを通過しないように、X線A1の発散点から見てX線出射開口21bの立体角より大きく、かつX線入射開口21aよりは小さい立体角を張るような形状、たとえば円板状に形成される。
【0027】
X線管10は、熱電子を放射するヒータ11と、熱電子の衝突によってX線A1を発生する陽極ターゲット12などで構成される。陽極ターゲット12は、Cu、Mo、W等の材料で形成される。
【0028】
次に動作を説明する。X線管10から発生したX線A1は光軸k1を中心に円錐状に拡がってX線入射開口21aに入射する。入射X線A1のうち、ターゲット本体21およびX線阻止板23に到達したものは遮断され、残りのX線A1はターゲット層22に到達する。ターゲット層22はX線励起によって測定用の蛍光X線A2を発生する。蛍光X線A2は、光軸k1と同じ方向の光軸k2を中心として円錐状に拡がって進行し、試料Sに到達する。
【0029】
こうして入射X線A1が試料S側に漏洩することなく、入射光軸k1と同じ方向である光軸k2に沿ってほぼ単色化された測定用蛍光X線A2を発生することができる。
【0030】
ここで、ターゲット層22は、X線入射開口21aからX線出射開口21bに向けて徐々に細くなるテーパー状に形成することが好ましく、入射X線A1の照射面積を大きく確保でき、測定用蛍光X線A2の変換効率および強度を向上できる。
【0031】
図2は、ターゲット本体21の各種形状を示す斜視図である。図2(a)において、ターゲット本体21は、大きな開口面積を持つ円形のX線入射開口21aおよび小さな開口面積を持つ円形のX線出射開口21bを有するドーナツ状に形成され、両者の開口21a、21bを連結するテーパー状の中空部が形成されている。
【0032】
図2(b)において、ターゲット本体21は、大きな開口面積を持つ正方形のX線入射開口21aおよび小さな開口面積を持つ正方形のX線出射開口21bを有する矩形ドーナツ状に形成され、両者の開口21a、21bを連結する角錐台状の中空部が形成されている。
【0033】
図2(c)において、ターゲット本体21は、くさび状に形成された2枚の板部材が対向して配置され、各板部材はホルダー24で挟持され、下面には大きな開口面積を持つ長方形のX線入射開口21a、上面には小さな開口面積を持つ長方形のX線出射開口21bがそれぞれ形成される。
【0034】
その他に、X線入射開口21aおよびX線出射開口21bの形状は、楕円形や多角形などでも構わない。
【0035】
図3は、本発明に係る蛍光X線分析装置の一実施形態を示す構成図である。蛍光X線分析装置は、X線を発生するX線管10と、図1に示した2次ターゲット装置20と、試料Sから発生する蛍光X線ASを検出するX線検出器15と、直接照射法のためのピンホールコリメータ25と、2次ターゲット装置20およびピンホールコリメータ25を支持する移動テーブル30などで構成される。
【0036】
本装置は、2次ターゲット法と直接照射法とが選択的に実施可能なように構成され、移動テーブル30の水平位置決めによって、2次ターゲット法のときは2次ターゲット装置20、直接照射法のときはピンホールコリメータ25がそれぞれ選択される。
【0037】
X線管10は、2次ターゲット法および直接照射法において、同じ光軸k1に沿ってX線A1が発生するように固定されている。
【0038】
2次ターゲット装置20は、X線管10からのX線A1が入射すると、ターゲット層22の物質に固有の特性X線を含む蛍光X線A2を光軸k2に沿って発生する。
【0039】
ピンホールコリメータ25は、X線遮蔽材料で形成された筒状のホルダ26によって支持され、X線管10からのX線A1をビーム状に絞って、試料Sに直接照射している。
【0040】
X線検出器15は、半導体検出器やシンチレーションカウンタなどで構成され、蛍光X線の強度に応じた電気信号を出力する。
【0041】
次に動作を説明する。まず2次ターゲット法において、X線管10から発生したX線A1は光軸k1を中心に円錐状に拡がってX線入射開口21aに入射する。入射X線A1のうち、ターゲット本体21およびX線阻止板23に到達したものは遮断され、残りのX線A1はターゲット層22に到達する。ターゲット層22はX線励起によって測定用の蛍光X線A2を発生する。蛍光X線A2は、光軸k1と同じ方向の光軸k2を中心として円錐状に拡がって進行し、試料Sに到達する。試料Sは、蛍光X線A2で励起されて、組成物質に応じた蛍光X線ASを発生し、X線検出器15によって検出される。
【0042】
次に直接照射法において、移動テーブル30を移動して、光軸k1、k2とピンホールコリメータ25の光軸とを一致させる。次にX線管10から発生したX線A1は光軸k1を中心に円錐状に拡がって進行し、ピンホールコリメータ25によってビーム状に整形され、そのまま試料Sに到達する。試料Sは、X線管10からのX線A1で直接励起されて、組成物質に応じた蛍光X線ASを発生し、X線検出器15によって検出される。
【0043】
こうして中空状の2次ターゲット装置20を使用することによって、入射X線A1が試料S側に漏洩することなく、入射光軸k1と同じ方向である光軸k2に沿ってほぼ単色化された測定用蛍光X線A2を発生できる。そのため、2次ターゲット法と直接照射法との切換えにおいてX線管10の角度調整が不要となり、しかも2次ターゲット法と直接照射法との間でX線照射条件、たとえばX線照射角度や照射位置をほぼ一致させることができる。
【0044】
図4は、本発明の他の実施形態を示す構成図である。2次ターゲット装置20のX線出射開口21bの出口付近に、測定用蛍光X線を単色化するためのX線フィルタ27が設けられる。
【0045】
X線フィルタ27は、X線吸収端より短波長側を吸収するローパスフィルタ特性や特定波長領域だけを通過させるバンドパスフィルタ特性を持つような物質で形成され、ターゲット層22で発生した測定用蛍光X線のうち特定の特性X線だけを通過させることによって、測定用蛍光X線をより単色化できる。こうしたX線フィルタ27は、図3に示す蛍光X線分析装置でも同様に使用可能である。
【0046】
以上詳説したように本発明によれば、入射側のX線光軸と同じ方向に沿ってほぼ単色化された測定用蛍光X線を発生できるため、X線光学系への組込みが容易になる。
また、本発明によれば、入射側のX線光軸と同じ方向に沿ってほぼ単色化された測定用蛍光X線を発生できるため、直接照射法と2次ターゲット法との選択的実施が可能となり、その場合X線源の角度調整が不要となり、X線照射条件をほぼ一致させることができる。
【0047】
また、ターゲット本体の内面をテーパー状に形成することによって、入射X線から見た内面の立体角を増加させることができるため、測定用蛍光X線の変換効率および強度を向上できる。
【0048】
また、X線出射開口に、測定用蛍光X線を単色化するためのX線フィルタを設けることによって、測定用蛍光X線をより単色化できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係る蛍光X線分析装置の一実施形態を示す構成図である。
【図2】ターゲット本体21の各種形状を示す斜視図である。
【図3】本発明に係る蛍光X線分析装置の一実施形態を示す構成図である。
【図4】本発明の他の実施形態を示す構成図である。
【図5】従来の蛍光X線分析における直接照射法および2次ターゲット法を示す構成図である。
【符号の説明】
10 X線管
15 X線検出器
20 2次ターゲット装置
21 ターゲット本体
21a X線入射開口
21b X線出射開口
22 ターゲット層
23 X線阻止板
24 ホルダ
25 ピンホールコリメータ
27 X線フィルタ
30 移動テーブル
Claims (4)
- X線を発生するX線源と、
X線源からのX線によって励起され、測定用の蛍光X線を発生する2次ターゲット装置と、
測定用の蛍光X線が試料に照射されて、該試料から発生する蛍光X線を検出するX線検出器とを備え、
2次ターゲット装置は、X線遮蔽材料で形成され、X線入射開口およびX線出射開口を空間的に接続する中空部を有し、これらX線入射開口およびX線出射開口が同心で形成されるターゲット本体と、
ターゲット本体の中空部に面する内面に形成され、入射X線によって励起され測定用の蛍光X線を発生するターゲット層と、
X線遮蔽材料で形成され、X線入射開口を通過する入射X線がそのままX線出射開口を通過しないように、入射X線を部分的に阻止するX線阻止部材とを備え、
入射X線の光軸の方向は、測定用の蛍光X線の光軸の方向と同じであることを特徴とする蛍光X線分析装置。 - 前記内面は、X線入射開口からX線出射開口に向けて徐々に細くなるテーパー状に形成されていることを特徴とする請求項1記載の蛍光X線分析装置。
- X線出射開口に、測定用蛍光X線を単色化するためのX線フィルタが設けられることを特徴とする請求項1または2記載の蛍光X線分析装置。
- X線源からのX線をビーム状に絞って、試料に直接照射するためのコリメータ装置と、
該コリメータ装置と2次ターゲット装置とを交換して選択的に使用するための移動機構とを備えることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1つに記載の蛍光X線分析装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13409397A JP3860641B2 (ja) | 1997-05-23 | 1997-05-23 | 蛍光x線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13409397A JP3860641B2 (ja) | 1997-05-23 | 1997-05-23 | 蛍光x線分析装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10325814A JPH10325814A (ja) | 1998-12-08 |
JP3860641B2 true JP3860641B2 (ja) | 2006-12-20 |
Family
ID=15120277
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13409397A Expired - Fee Related JP3860641B2 (ja) | 1997-05-23 | 1997-05-23 | 蛍光x線分析装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3860641B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6381303B1 (en) | 1999-09-29 | 2002-04-30 | Jordan Valley Applied Radiation Ltd. | X-ray microanalyzer for thin films |
US6389102B2 (en) | 1999-09-29 | 2002-05-14 | Jordan Valley Applied Radiation Ltd. | X-ray array detector |
US7103142B1 (en) | 2005-02-24 | 2006-09-05 | Jordan Valley Applied Radiation Ltd. | Material analysis using multiple X-ray reflectometry models |
-
1997
- 1997-05-23 JP JP13409397A patent/JP3860641B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH10325814A (ja) | 1998-12-08 |
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040401 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20041015 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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