ES2835715T3 - Espejo óptico, dispositivo de análisis de fluorescencia de rayos X y procedimiento para el análisis de fluorescencia de rayos X - Google Patents

Espejo óptico, dispositivo de análisis de fluorescencia de rayos X y procedimiento para el análisis de fluorescencia de rayos X Download PDF

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Abstract

Espejo óptico para un dispositivo de análisis de fluorescencia de rayos X con una fuente de rayos X (10) para la irradiación de una muestra (15) con rayos X (19), un detector de rayos X (17) para la medición de la radiación de fluorescencia de rayos X (16) emitida por la muestra y una cámara (25) para la generación de una imagen de control óptico (26) del punto de medición irradiado (29) de una muestra (15) a través del espejo óptico (20) dispuesto inclinadamente en la trayectoria del haz de la fuente de rayos X (10); en donde el espejo óptico (20) comprende un soporte (21) con una capa de espejo (28) proporcionada en el soporte (21), caracterizado porque, el soporte (21) presenta un cuerpo base plano, que presenta un rebaje (23) en la zona de una ventana de paso (23) para la radiación de rayos X (19), y porque una película (22) que cubre el cuerpo base plano y el rebaje (23) en el lado exterior del soporte (21) conforma la capa de espejo (28), y porque la película (22) está adherida al soporte (21) y cubre el rebaje (23) del soporte (21) sin tensión.

Description

DESCRIPCIÓN
Espejo óptico, dispositivo de análisis de fluorescencia de rayos X y procedimiento para el análisis de fluorescencia de rayos X
La presente invención hace referencia a un espejo óptico, en particular, para un analizador de fluorescencia de rayos X, así como, a un analizador de fluorescencia de rayos X con una fuente de rayos X para la irradiación de la muestra con radiación de rayos X, un detector de rayos X para la medición de la radiación de fluorescencia de rayos X emitida por la muestra y una cámara para la generación de una imagen óptica del punto irradiado de la muestra a través de un espejo óptico dispuesto inclinadamente en la trayectoria del haz de la fuente de rayos X. La invención también hace referencia a un correspondiente procedimiento para el análisis de fluorescencia de rayos X, en particular, para la determinación del grosor de capas delgadas.
El análisis de fluorescencia de rayos X es un procedimiento no destructivo para el análisis de material cualitativo y cuantitativo. Se basa en el principio de que al irradiar una muestra con rayos X policromáticos, los electrones se liberan de las capas internas de los átomos que conforman la muestra. Los huecos resultantes se llenan de electrones de las capas externas. Estas transiciones producen una radiación de fluorescencia característica en el rango de rayos X, que es registrada por un detector y proporciona información sobre la composición elemental de la muestra.
El análisis de fluorescencia de rayos X también se utiliza en particular para la medición del grosor de capas delgadas y sistemas de capas. Debido a que los rayos X penetran en capas delgadas, también en el material inferior se genera radiación de fluorescencia de rayos X, que a su vez en su camino hacia el detector se debilita en las capas superiores por absorción. Al evaluar el espectro en el rango de las longitudes de onda de los rayos X, se puede determinar tanto la composición del material como el grosor de la capa existente. Para conseguir una buena resolución espacial, el punto de medición, es decir, el área de la muestra detectada por la radiación primaria se selecciona generalmente muy pequeña.
En el análisis de muestras mediante análisis de fluorescencia de rayos X resulta necesario ajustar el punto de medición a través de una imagen óptica de la superficie de la muestra. Esto se realiza generalmente con una cámara. Para generar una imagen sin paralaje de un punto de medición de la muestra, la imagen de control se debe registrar lo más paralela posible al haz de rayos X. Para ello, se dispone un espejo óptico en ángulo en la trayectoria del haz en la que mira la cámara. Para que el espejo no absorba el haz de rayos X en su camino hacia el punto de medición, el mismo presenta un orificio en la zona por donde pasa el haz de rayos X. Un espejo óptico de este tipo se conoce de solicitud DE 33 14281 A1. Sin embargo, este espejo óptico presenta la desventaja de que se debe colocar a una distancia considerable de la superficie de la muestra para generar una imagen sin alteraciones.
Un dispositivo de análisis de fluorescencia de rayos X en el cual se utiliza un espejo con un orificio para el paso del haz de rayos X a fin de generar una imagen de control es conocido, por ejemplo, de la solicitud DE 19710420 A1. En la solicitud EP 1348 949 B1, también se utilizan ópticas de rayos X de enfoque, que se guían a través de un rebaje en el espejo de control. Lo mismo se conoce de la solicitud DE 3239379 c2, que revela un espejo en el cual se puede ajustar el tamaño del orificio para el paso del haz de rayos X.
Por otro lado, de la solicitud US 4,406,015 A se conoce un dispositivo de análisis de fluorescencia de rayos X, así como, un procedimiento de análisis de fluorescencia de rayos X en el cual en el haz primario está dispuesto un espejo, que presenta una capa de aluminio vaporizada sobre una placa de SiO2 o una capa de aluminio vaporizada sobre una película de plástico. Por tanto, el espejo comprende una capa de aluminio de superficie completa sobre un soporte de superficie completa de plástico o una placa de SiO2 de superficie completa.
Ambas formas de ejecución presentan el inconveniente de que dichos soportes de superficie completa reducen la intensidad de la radiación de rayos X dirigida hacia el objeto de medición, por lo cual se requieren tiempos de medición más prolongados. Además, la forma de ejecución con el soporte compuesto de plástico tiene el inconveniente de que dicho plástico se descompone con el tiempo debido a la exposición a los rayos X.
De la solicitud US 2009/0190722 A1 se conoce un espejo óptico que comprende un marco de forma anular sobre el cual se extiende una membrana ópticamente plana, que consiste, por ejemplo, en una fina membrana de plástico que está revestida con una fina capa metálica como, por ejemplo, aluminio. De la solicitud JP 3883 153 B2 se conoce un diseño constructivo análogo de un espejo óptico. La solicitud GB2095960 revela un analizador de fluorescencia de rayos X relacionado y un procedimiento para el análisis de fluorescencia de rayos X con un espejo semitransparente compuesto de SiO2 o una película orgánica con un revestimiento de aluminio, en donde el espejo está apoyado sobre un soporte.
El objeto de la presente invención consiste en mejorar un espejo óptico, un dispositivo de análisis de fluorescencia de rayos X y un procedimiento de análisis de fluorescencia de rayos X de tal manera que sean posibles registros de control fieles al original en el punto de medición de la muestra a analizar y cuando la misma se encuentra a una distancia muy acotada del espejo.
Dicho objeto se resuelve mediante las características de las reivindicaciones 7 y 10. Las configuraciones ventajosas se deducen de las reivindicaciones relacionadas.
El objeto se resuelve mediante un espejo óptico que presenta una ventana de paso para la radiación de rayos X, que está conformada por un rebaje en el soporte y una película que cubre el rebaje que conforma la capa de espejo. Un espejo óptico de este tipo es, por un lado, permeable a los rayos X, en particular, a la radiación primaria de los rayos X, con una intensidad alta, ya que sólo la película es penetrada y es impermeable a la radiación óptica para la detección de una imagen de la superficie del punto de medición de la muestra, de modo que por una cámara se puede capturar una imagen completa del punto de medición.
Mediante un espejo óptico de este tipo se puede crear una óptica en miniatura, por lo cual la distancia entre un foco en la muestra y una óptica de rayos X se puede mantener pequeña manteniendo las posiciones del espejo óptico para una visualización directa de la muestra. De esta manera se consigue un diseño constructivo compacto o de tamaño pequeño de un dispositivo de fluorescencia de rayos X.
Preferentemente, la película está fabricada de un plástico, de manera particularmente preferida, de tereftalato de polietileno. Los plásticos consisten principalmente en carbono con un número atómico sólo de 6. Ya que la absorción de rayos X depende en gran medida del número atómico z del material a penetrar (aproximadamente ~ z4), el debilitamiento a través de una película de plástico es muy reducido. A partir de tereftalato de polietileno, o PET en su forma abreviada, se pueden fabricar películas extremadamente resistentes al desgarro, en especial, cuando dicha película se estira biaxialmente.
Para conseguir un revestimiento reflectante sobre la película o para conformar una capa de espejo, la película se puede metalizar. La metalización se puede fabricar de forma sencilla, por ejemplo, por bombardeo iónico (pulverización catódica) o mediante evaporación al vacío.
De manera preferida, se aplica un revestimiento de espejo compuesto de aluminio, ya que el aluminio presenta el número atómico más bajo de los metales considerados para el espejado y además se puede metalizar muy bien por bombardeo iónico.
Una película de este tipo aplicada al soporte se puede diseñar extremadamente delgada, por ejemplo, con un grosor de sólo unos cuantos micrómetros, de tal modo que la radiación de rayos X primaria, cuya absorción depende exponencialmente del grosor del material a penetrar, apenas se debilita.
Para conseguir un espejo óptico con estabilidad de forma, el soporte presenta un cuerpo base plano, compuesto preferentemente de vidrio, que presenta un rebaje, preferentemente, un orificio circular, en la zona de la ventana de paso. Conforme a la invención, la película espejada se adhiere sobre el soporte, en donde los puntos de adhesión son necesarios, por ejemplo, sólo en la zona del borde.
Mediante la adherencia de la película al soporte, se puede lograr una disposición de la película sin tensión en la zona del rebaje en el soporte. Por tanto, la película sólo actúa en la zona de penetración del espejo, pero apenas provoca pérdida de identidad de la radiación de rayos X.
El objeto de la presente invención también se resuelve mediante un dispositivo de análisis de fluorescencia de rayos X en el cual se utiliza un espejo óptico de acuerdo con las reivindicaciones independientes 1-6 con una ventana de paso para la radiación de rayos X, que comprende un soporte con un rebaje que en el lado exterior del soporte está cubierto con una película que conforma la capa de espejo.
De esta manera, se puede detectar una imagen óptica desde el punto de medición de la muestra, que se puede evaluar para el control de la medición.
Como cámara se puede utilizar preferentemente un endoscopio, por ejemplo, un videoendoscopio. Debido al diseño compacto obtenido de esta manera, se utilizan ópticas de rayos X de enfoque y se colocan muy próximas a la superficie de la muestra. De esta manera se logra una muy buena resolución espacial.
Preferentemente, delante del espejo se coloca una lente monocapilar o policapilar en la dirección del haz para enfocar el haz primario y conseguir un punto de medición más pequeño en la superficie de medición.
El objeto en el que se basa la presente invención también se consigue mediante un procedimiento para el análisis de fluorescencia de rayos X de una muestra, en el cual un espejo óptico presenta un soporte con una ventana de paso, como, por ejemplo, una abertura o un rebaje, para la radiación de rayos X, que en un lado exterior del soporte está cubierto por una película que conforma una capa de espejo de tal modo que sólo la película del espejo óptico es penetrada por rayos X y una imagen óptica completa y sin distorsiones del punto de medición o la superficie de la muestra se refleja en la película conformada como una capa de espejo y es capturada por la cámara. De esta manera, se puede conseguir una evaluación y un monitoreo mejorados de la medición en el punto de medición de la muestra. Además, no es necesario mover la muestra entre un haz de rayos X y los espejos colocados adyacentes para la detección de una imagen completa del punto de medición de la muestra. Esto, porque el espejo óptico se puede diseñar como una óptica de construcción reducida y puede permanecer entre la radiación de rayos X y el punto de medición durante una medición.
A continuación, la invención, así como otras formas de ejecución y perfeccionamientos ventajosos de la misma se explican y describen en detalle de acuerdo con los ejemplos representados en los dibujos. Las características que resultan de la descripción y de los dibujos, se pueden aplicar conforme a la invención cada una por separado o en distintas combinaciones discrecionales. Las figuras muestran:
Figura 1: una representación esquemática de un dispositivo de análisis de fluorescencia de rayos X con un espejo óptico conforme a la invención.
Figura 2: una vista isométrica de un espejo óptico i no conforme a la invención.
Figura 3: una vista isométrica de un espejo óptico que no pertenece a la presente invención.
El dispositivo de análisis de fluorescencia de rayos X 9 mostrado en la figura 1 presenta como fuente de rayos X un tubo de rayos X 10 de diseño constructivo convencional con un cátodo caliente 12, desde el cual se emiten electrones y se aceleran contra un ánodo 11 a través una tensión de aceleración aplicada UB. Allí, los electrones se frenan y generan radiación de rayos X 13. El rango de longitud de onda de la radiación de rayos X policromática 13 depende de la tensión de aceleración UB, que por lo general se encuentra en el rango de unos pocos 10 kV, por ejemplo, en el ejemplo de ejecución a 50 kV, y del material del ánodo, por ejemplo, tungsteno.
La radiación de rayos X 13 se enfoca entonces preferentemente a través de una óptica de rayos X 14, que en el ejemplo de realización está conformadas por una lente mono o policapilar. Alternativamente, también se puede utilizar sólo un colimador simple para la supresión de un haz de rayos 19.
El haz de rayos 19 enmascarado o enfocado alcanza entonces una muestra 15. La muestra 15 comprende, por ejemplo, una capa 15a o un sistema de capas. El haz de rayos 19 penetra al menos parcialmente en la capa 15a o través de la capa superior 15a o del sistema de capas de la muestra 15. En la zona irradiada se genera radiación de fluorescencia de rayos X 16, que se mide mediante un detector de rayos X 17, por ejemplo, un detector de semiconductores. Evaluando un espectro de energía 18 medido de la radiación de fluorescencia de rayos X 16 de una manera en sí conocida, se puede determinar la composición del material de la muestra 15 y/o el grosor de capa de la o las capas 15a o del sistema de capas.
Al mismo tiempo, el dispositivo de análisis de fluorescencia de rayos X permite la observación directa por vídeo de la superficie de la muestra en el punto de medición 29. Esto se utiliza para el control y simplifica, por ejemplo, el posicionamiento de la muestra 15 con respecto a la posición de medición. Además, para cada medición de fluorescencia de rayos X, se puede guardar un registro de control óptico de la zona muestreada o del punto de medición 29 para poder comprender perfectamente la localización del punto de medición 29 con posterioridad. Para poder generar un registro de control sin paralaje, la captación de la imagen se registra desde el punto de medición 29 paralelo al haz de rayos X 19. Para ello, un espejo óptico 20 está dispuesto en ángulo en la trayectoria del haz. Una óptica de imágenes, en este caso, una lente 24, conforma la imagen reflejada de la superficie de muestra del punto de medición 29 en una cámara 25, por ejemplo, una cámara CCD digital. Preferentemente, se proporciona una cámara de endoscopio que presenta pequeñas dimensiones y se puede colocar a una distancia reducida del espejo óptico. La imagen de la cámara 25 se muestra en un monitor 26 y se puede almacenar y evaluar con un conjunto de datos de medición.
Para que el espejo óptico 20 debilite lo menos posible los rayos X 13, presenta una ventana de paso 30 para la radiación de rayos X 13. Dicha ventana de paso 30 está conformada por un rebaje 23 en el soporte 21, que está cubierto en un lado del soporte 21 por una película continua 22 como una capa de espejo 28. El lado exterior de la película 27 se refleja. Con este lado exterior reflejado de la película 22, el soporte 21 se alinea inclinado con respecto al punto de medición 29, de tal modo que la radiación de rayos X 13 ingresa primero en el rebaje 23 del soporte 21 y lo atraviesa y después penetra la película 22 o pasa a través de la película 22. De manera preferida, el soporte 21 está compuesto de vidrio.
La absorción de rayos X presenta, por un lado, una dependencia exponencial del grosor del material a penetrar y, por otro lado, una dependencia muy fuerte proporcional a la cuarta potencia del número atómico Z del material a penetrar. Como material de soporte para el espejo 20 se puede utilizar vidrio (el silicio presenta un número atómico de 14), aunque la radiación de rayos X 13 puede atravesar el rebaje 23 sin obstáculos.
En el lado inferior del espejo óptico 20 orientado hacia la cámara 25 se encuentra una película delgada continua 22, preferentemente, de plástico. Los plásticos están compuestos esencialmente de carbono, que presenta un número atómico de 6. Además, las películas de plástico se pueden fabricar extremadamente delgadas, en el rango de unos pocos micrómetros, pero muy resistentes y resistentes al desgarro. Un plástico preferido para la fabricación de la película 22 es el tereftalato de polietileno, forma abreviada, PET. En particular, las películas de poliéster biaxialmente orientadas compuestas de PET, que se conocen con los nombres Mylar, Melinex u Hostaphan, son adecuadas para el uso conforme a la invención.
Para el efecto de espejado, la película de plástico 22 se metaliza aplicando un revestimiento metálico reflectante a la película, por ejemplo, mediante metalización por bombardeo iónico (pulverización catódica) o evaporación al vacío. Debido al número atómico más bajo posible, el aluminio (número atómico 13) es particularmente adecuado como material de revestimiento y también se puede pulverizar particularmente bien.
Las películas de PET metalizadas que son adecuadas para el presente uso presentan un grosor de material típico, por ejemplo, de menos de 100 mm y presentan una alta resistencia a la rotura. El grosor del revestimiento metálico reflectante puede ser inferior a 100 nm. Debido al grosor de material extremadamente reducido de la película 22 metalizada y su bajo número atómico, la misma es prácticamente transparente para la radiación de rayos X 13. Por tanto, es posible crear un espejo óptico continuo 20 con una ventana de paso 30 prácticamente transparente para la radiación de rayos X 13.
Conforme a la invención, la película 22 se adhiere sobre el cuerpo base plano del soporte 21. Los puntos de adhesión se pueden limitar al área del borde del soporte 21. En la figura 2 se muestra a modo de ejemplo un espejo 20 que no corresponde a la invención. El soporte 21 presenta un orificio circular como ventana de paso 30 a través del cual puede pasar un haz de rayos X 13. La película 22 se extiende en el lado exterior del soporte 21 y cubre el orificio 23.
En lugar de un soporte 21 compuesto de una placa de vidrio con un orificio circular, el soporte 21 puede estar diseñado, tampoco conforme a la invención, simplemente como un bastidor rectangular sobre el que se extiende la película 22. Un ejemplo de este tipo no conforme a la invención con un bastidor 21 como soporte se muestra a modo de ejemplo en la figura 3. Esta forma de ejecución tiene la ventaja de que se dispone de una zona más grande como ventana de paso 30 de modo que la óptica de rayos X se puede mover con respecto a la muestra 15 para escanear el punto de medición 29 en lugar de mover la muestra 15 debajo de la óptica de rayos X 14.
La distancia entre la óptica de rayos X 14 y la muestra 15 alcanza aproximadamente 15 mm en el ejemplo de ejecución. Son posibles distancias mayores, pero conducen a un enfoque deficiente de la radiación de rayos X 13 y, por lo tanto, a una resolución espacial más deficiente del dispositivo de análisis de fluorescencia de rayos X 9. Debido a las pequeñas dimensiones, resulta particularmente adecuado un videoendoscopio en el cual la óptica de la imagen 24 y la cámara digital 25 están integradas en forma de un endoscopio.

Claims (10)

REIVINDICACIONES
1. Espejo óptico para un dispositivo de análisis de fluorescencia de rayos X con una fuente de rayos X (10) para la irradiación de una muestra (15) con rayos X (19), un detector de rayos X (17) para la medición de la radiación de fluorescencia de rayos X (16) emitida por la muestra y una cámara (25) para la generación de una imagen de control óptico (26) del punto de medición irradiado (29) de una muestra (15) a través del espejo óptico (20) dispuesto inclinadamente en la trayectoria del haz de la fuente de rayos X (10); en donde el espejo óptico (20) comprende un soporte (21) con una capa de espejo (28) proporcionada en el soporte (21),
caracterizado porque,
el soporte (21) presenta un cuerpo base plano, que presenta un rebaje (23) en la zona de una ventana de paso (23) para la radiación de rayos X (19), y porque una película (22) que cubre el cuerpo base plano y el rebaje (23) en el lado exterior del soporte (21) conforma la capa de espejo (28), y porque la película (22) está adherida al soporte (21) y cubre el rebaje (23) del soporte (21) sin tensión.
2. Espejo óptico según la reivindicación 1, caracterizado porque la película (22) está compuesta por un plástico, preferentemente, de tereftalato de polietileno.
3. Espejo óptico según la reivindicación 1 ó 2, caracterizado porque la película (22) está metalizada.
4. Espejo óptico según la reivindicación 3, caracterizado porque la película (22) presenta un revestimiento de aluminio.
5. Espejo óptico según una de las reivindicaciones precedentes, caracterizado porque la película (22) presenta un grosor en un rango de unos pocos micrómetros.
6. Espejo óptico según una de las reivindicaciones precedentes, caracterizado porque el cuerpo base plano del soporte (21) está compuesto de un vidrio que en la zona de la ventana de paso (23) presenta el rebaje, preferentemente, un orificio circular.
7. Analizador de fluorescencia de rayos X con una fuente de rayos X (10) para irradiación de una muestra (15) con irradiación de rayos X (19), un detector de rayos X (17) para la medición de la radiación de fluorescencia de rayos X (16) emitida por la muestra y una cámara (25) para la generación de una imagen de control óptico (26) del punto irradiado (29) de una muestra (15) a través de un espejo óptico (20) dispuesto inclinadamente en la trayectoria del haz de la fuente de rayos X (10) que comprende un soporte (21) con una capa de espejo (28) proporcionada en el soporte (21), caracterizado porque el espejo óptico (20) está diseñado según una de las reivindicaciones 1 a 6.
8. Dispositivo de análisis de fluorescencia de rayos X según la reivindicación 7, caracterizado porque la cámara (25) está diseñada como endoscopio, preferentemente como videoendoscopio.
9. Dispositivo de análisis de fluorescencia de rayos X según la reivindicación 7, caracterizado porque por delante del espejo óptico (20) está dispuesta una lente mono o policapilar.
10. Procedimiento para el análisis de fluorescencia de rayos X de una muestra (15), en particular, para la determinación del grosor de capas delgadas; en donde la muestra (15) se irradia con rayos X policromáticos (19) de una fuente de rayos X (10); en donde la radiación de fluorescencia de rayos X (16) emitida por la muestra (15) se mide con un detector de rayos X (17) y en donde con una cámara (25) se genera una imagen de control óptico (26) del punto de medición (29) de la muestra (15) mediante un espejo óptico (20) dispuesto inclinadamente en la trayectoria del haz de la fuente de rayos X (10), el cual comprende un soporte (21) con una capa de espejo (28) proporcionada en el soporte (21),
caracterizado porque,
el espejo óptico (20) según una de las reivindicaciones 1 a 6, es atravesado por una radiación de rayos X (13) y una imagen óptica se refleja desde un punto de medición (29) de la muestra (15) en la película (22) y es detectada por la cámara (25).
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101716860B1 (ko) * 2016-05-30 2017-03-27 주식회사 아이에스피 엑스선 형광분석 장치
KR20180052019A (ko) * 2016-11-09 2018-05-17 고려대학교 산학협력단 X선 형광분석 원자층 증착 장치 및 x선 형광분석 원자층 증착 방법
US10823688B2 (en) * 2016-12-15 2020-11-03 Horiba, Ltd. Radiation detection device
CN106802428B (zh) * 2017-01-19 2019-01-01 中国科学院上海应用物理研究所 一种耐辐射和高热负载的x射线成像探测器
EP3645115B1 (en) * 2018-06-25 2021-05-12 Mirion Technologies (Canberra), Inc. Apparatus for visualizing a movable radiation source
KR102209768B1 (ko) 2019-05-20 2021-01-29 (주)고도기연 정밀노즐 세척 장치
DE102022105838B3 (de) 2022-03-14 2023-08-17 Helmut Fischer GmbH Institut für Elektronik und Messtechnik Justiereinheit für eine Röntgenoptik in einem Röntgenfluoreszenzgerät sowie Röntgenfluoreszenzgerät
CN115993713B (zh) * 2023-03-22 2023-06-09 西安玄瑞光电科技有限公司 一种折反式超大视场x射线显微耦合光学成像***

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS54178532U (es) * 1978-06-06 1979-12-17
JPS5758300U (es) * 1980-09-22 1982-04-06
JPS57129156U (es) * 1981-02-04 1982-08-12
DE3239379A1 (de) * 1982-10-23 1984-04-26 Helmut Fischer GmbH & Co Institut für Elektronik und Meßtechnik, 7032 Sindelfingen Vorrichtung zum messen der dicke duenner schichten
DE3314281A1 (de) 1982-10-23 1984-10-25 Helmut Fischer GmbH & Co Institut für Elektronik und Meßtechnik, 7032 Sindelfingen Vorrichtung zum messen der dicke duenner schichten
JPH01257210A (ja) * 1988-04-06 1989-10-13 Seiko Instr Inc ケイ光ｘ線膜厚計
DE4021388A1 (de) * 1990-07-05 1992-01-16 Twin City Int Inc Vorrichtung zum messen der staerke eines ueberzuges
US5247395A (en) * 1992-05-11 1993-09-21 Eugene Martinez Thin film mirror
US5708696A (en) * 1996-09-17 1998-01-13 Dentsply Research & Development Corp. Positioning device for an X-ray machine
DE19710420C2 (de) 1997-03-13 2001-07-12 Helmut Fischer Gmbh & Co Verfahren und Vorrichtung zum Messen der Dicken dünner Schichten mittels Röntgenfluoreszenz
JP3883153B2 (ja) * 1998-04-10 2007-02-21 松下電器産業株式会社 Ｘ線基板検査装置
JP3996821B2 (ja) * 2002-03-27 2007-10-24 株式会社堀場製作所 Ｘ線分析装置
CN1603945A (zh) 2003-09-29 2005-04-06 Ge医疗***环球技术有限公司 光辐照器，灯组件和x射线装置
WO2009097323A2 (en) * 2008-01-28 2009-08-06 Reflective X-Ray Optics Llc Optical alignment system and alignment method for radiographic x-ray imaging
DE102009009602A1 (de) * 2008-10-27 2010-04-29 Ifg - Institute For Scientific Instruments Gmbh Spektralauflösende elektronische Röntgenkamera
DE102010017543A1 (de) * 2010-06-23 2011-12-29 Surgiceye Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur kombinierten optischen und nuklearen Bilderfassung

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