KR20100014134A - 탄성파 디바이스 - Google Patents
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- 압전성을 갖는 압전 기판과,압전 기판에 형성된 복수의 전극 핑거를 갖는 빗형 전극과,상기 빗형 전극의 적어도 일부를 덮도록 형성된 적어도 1층의 조정 매질을 구비하고,상기 전극 핑거 및 전극 핑거간의 스페이스가 상기 압전 기판 위에서 차지하는 여기 영역에서, 상기 조정 매질에 의해 다른 부분보다 두께가 커지는 영역의 면적 T에 의해, 주파수 특성이 조정되어 형성되는 탄성파 디바이스.
- 제1항에 있어서,상기 압전 기판 위에 형성된 복수의 탄성파 디바이스로서,상기 복수의 탄성파 디바이스의 공진 주파수 및/또는 반공진 주파수가 소정의 주파수에 가깝게 되도록 각 탄성파 디바이스에서의 상기 면적 T가 조정되어 있는 것을 특징으로 하는 탄성파 디바이스.
- 제1항 또는 제2항에 있어서,상기 조정 매질은, 상기 압전 기판 위에 상기 빗형 전극을 덮도록 형성되는 제1 매질과, 상기 제1 매질 위에 형성되는 제2 매질을 포함하고,상기 제2 매질이 제1 매질 위에서 차지하는 면적을 면적 T로 하여, 상기 주 파수 특성이 조정되는 탄성파 디바이스.
- 제1항 또는 제2항에 있어서,상기 압전 기판 위에 복수의 탄성파 디바이스가 형성되고,상기 조정 매질은, 복수의 탄성파 디바이스의 상기 빗형 전극을 덮도록 형성되는 제1 매질과, 상기 제1 매질 위로서, 상기 복수의 탄성파 디바이스 중 일부의 탄성파 디바이스에 형성되는 제2 매질과, 상기 일부의 탄성파 디바이스 이외의 다른 탄성파 디바이스에 형성되는 제3 매질을 포함하고,상기 제2 매질 또는 상기 제3 매질 각각이 상기 제1 매질 위에서 차지하는 면적을 상기 면적 T로 하여, 각 탄성파 디바이스에서의 상기 면적 T가 조정되고,상기 제2 매질과 상기 제3 매질은, 음속이 서로 다른 매질인 탄성파 디바이스.
- 제1항 또는 제2항에 있어서,상기 조정 매질은, 다른 부분과 두께가 상이한 부분을 갖는 패턴층을 포함하고, 상기 두께가 상이한 부분의 면적을 상기 면적 T로 하여, 상기 주파수 특성이 조정되는 탄성파 디바이스.
- 제1항에 있어서,상기 압전 기판 위에 형성되는 복수의 상기 빗형 전극에 의해 형성되는 복수 의 공진기를 포함하는 필터를 구성하는 상기 탄성파 디바이스로서,상기 필터를 구성하는 상기 복수의 공진기 중 일부의 공진기에, 상기 조정 매질이 형성되는 탄성파 디바이스.
- 제1항 또는 제2항의 탄성파 디바이스를 이용한 통신 장치.
- 압전 기판 위에, 복수의 전극 핑거를 갖는 빗형 전극을 형성하는 공정과,상기 빗형 전극에 의해 형성되는 탄성파 디바이스의 공진 주파수 및/또는 반공진 주파수를 측정하는 공정과,상기 측정된 공진 주파수 및/또는 반공진 주파수가 소정의 주파수에 근접하도록, 적어도 일부를 덮도록 형성된 적어도 1층의 조정 매질을 형성하는 공정을 갖고,상기 조정 매질은, 상기 전극 핑거 및 전극 핑거간의 스페이스가 상기 압전 기판 위에서 차지하는 여기 영역에서 상기 조정 매질에 의해 탄성파 디바이스의 두께가 다른 부분보다 커지는 영역의 면적 T가 조정됨으로써, 상기 탄성파 디바이스의 주파수 특성이 조정되어 형성되는 것을 특징으로 하는 탄성파 디바이스의 제조 방법.
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CN118337169A (zh) | 基于多系数耦合模态的声表面波谐振器及其制备方法 |
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