KR20010078591A - 플라즈마 디스플레이 소자의 격벽 제조방법 - Google Patents

플라즈마 디스플레이 소자의 격벽 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은, 일방향으로 연장된 더미전극과, 상기 더미전극과 교차되는 방향으로 복수개 형성되는 어드레스 전극을 기판에 형성하는 전극형성단계; 상기 어드레스 전극이 형성된 기판위에 유전체층을 형성하는 유전체층형성 단계; 상기 더미전극을 접지하는 접지단계; 상기 유전체층에 샌드블라스팅법에 의하여 격벽을 형성하는 격벽형성단계; 및 상기 더미전극을 제거하는 제거단계;를 포함하는 플라즈마 디스플레이 소자의 격벽제조방법을 제공한다. 여기서, 상기 어드레스 전극은 상기 더미전극을 사이에 두고 소정간격 이격되어 분리된 제1전극과 제2전극을 구비하여 형성될 수 있으며, 상기 유전체층은 상기 더미전극이 노출된 상태로 형성될 수 있으며, 또한, 상기 더미전극과 상기 어드레스 전극은 서로 직교하는 방향으로 형성될 수 있다. 상기 제거단계는, 상기 더미전극 위에 형성된 격벽부를 포함하여 제거될 수 있다. 그리고 상기 더미전극은 소정의 직경을 가지는 와이어를 부착하여 형성할 수 있다.

Description

플라즈마 디스플레이 소자의 격벽 제조 방법{Method for manufacturing partition of plasma display device}
본 발명은 플라즈마 디스플레이 소자의 격벽 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 샌드블라스팅에 의하여 격벽을 제조하는 플라즈마 디스플레이 소자의 격벽 제조방법에 관한 것이다.
플라즈마 디스플레이 소자는 가스방전현상을 이용하여 화상을 표시하기 위한 것으로서, 표시용량, 휘도, 콘트라스트, 잔상, 시야각 등의 각종 표시능력이 우수하여, CRT를 대체할 수 있는 표시 소자로 각광을 받고 있다. 이러한 플라즈마 디스플레이 소자는 전극에 인가되는 직류 또는 교류 전압에 의하여 전극 사이의 가스에서 방전이 발생하고, 여기에서 수반되는 자외선의 방사에 의하여 형광체를 여기시켜 발광하게 된다.
도 1은 종래 교류형 플라즈마 디스플레이 소자의 구조에 관한 분해 사시도를 도시한 것이다.
도면을 참조하면, 유리와 같은 투명한 전면기판(11)의 배면측에는 공통(common)전극(13X)과 주사(scan)전극(13Y)이 쌍을 이루어 형성되고, 배면기판(12)의 전면측에는 어드레스(address) 전극(13A)이 형성된다. 공통전극(13X)과 주사전극(13Y) 및, 어드레스전극(13A)은 전면기판(11) 및 배면기판(12)의 내표면에 각각 스트립 형상으로 형성되며, 기판(11,12)이 상호 조립되었을 때 상호 직각으로 교차하게 된다. 전면기판(11)의 내측면에는 유전체층(14)과 보호층(15)이 차례로 적층된다. 한편, 배면기판(12)에는 유전체층(14')의 상부 표면에 격벽(17)이 형성되며, 격벽(17)에 의해 셀(19)이 형성된다. 셀(19)내에는 아르곤과 같은 불활성 개스가 충전된다. 또한 각각의 셀(19)을 형성하는 격벽(17)의 내측에는 소정 부위에 형광체(18)가 도포된다. 각각의 셀(19)에는 적색(R), 녹색(G) 및, 청색(B)의 화소에 해당하는 형광체(18)가 도포된다. 도면에는 도시되지 않았으나, 공통전극 및 주사전극(13C, 13S)에는 버스 전극이 형성될 수 있다.
위와 같은 구성을 가지는 플라즈마 디스플레이 소자의 작동을 설명하면, 우선 방전을 일으킬 수 있도록 소위 트리거 전압(trigger voltage)이 인가되면, 트리거 전압에 의해 유전층(14)에 양이온이 축전되고, 트리거 전압이 쓰레숄드 전압(threshold voltage)을 넘어서면 셀(19)내에 충전된 방전개스는 방전에 의해 플라즈마 상태가 되어 공통전극(13X)과 주사전극(13Y) 사이에서 안정적인 방전 상태가 유지된다. 안정된 방전 상태에서는 자외선 영역의 광들이 형광체(18)를 여기시켜 발광하게 하며, 이에 따라 셀(19)별로 형성되는 각 화소가 디스플레이할 수 있도록 화상을 형성한다.
위에 설명된 바와 같이, 플라즈마 디스플레이 소자의 격벽은 형광막이 도포되는 장소 및, 방전 공간을 제공한다. 이러한 격벽은 샌드 블라스트 법 예컨데, 유리와 같은 배면 기판위에 격벽 재료의 페이스트를 일정한 두께로 도포하고 건조시키고, 그 위에 원하는 격벽 모양의 보호막을 형성하거나 또는 샌드 블라스트용 마스크를 삽입한 상태에서 연마 입자인 샌드를 고압 분사함으로써 불필요한 부분을 제거하는 방식에 의하여 형성될 수 있다.
도 2a 및 도 2b 에는 샌드 블라스트 방법을 이용하여 격벽을 형성하는 과정이 도시되어 있다.
도면을 참조하면, 기판(21)상에는 소정 패턴의 전극(22)과, 상기 전극(22)을 덮는 유전체층(23)이 형성되어 있다. 유전체층(23)은 유전체 재료를 도포 및 건조하여 소성된 상태로 형성된다. 격벽을 형성하기 위해서는 상기 유전체층(23)의 상부에 격벽 재료 페이스트의 적층부(24)를 형성하고 마스크(25)를 씌우게 된다. 마스크(25)에는 차폐부(26)와 통공부(27)가 형성되어 있으며, 차폐부(26)는 고속으로 분사되는 연마 입자(28)를 격벽 페이스트의 적층부(24)에 대하여 차폐하는 반면에, 통공부(27)를 통해서 분사되는 연마 입자(28)는 격벽 페이스트 적층부(24)를 소정 형태로 마모시키게 된다.
도 2b 를 참조하면, 유전층(23)의 상부에 소정 형태의 격벽(24a)이 형성된 것을 알 수 있다. 격벽(24a)이 형성된 이후에는 다시 소성 과정을 거치게 된다.
그러나, 이와 같은 격벽 제조 방법에 의하면, 연마입자가 분사되어 격벽 페이스트의 적층부(24)를 마모시킬 때 또는 연마 입자가 유전층(23)의 표면에 충돌할때 정전기가 발생하게 된다. 이러한 정전기의 발생에 의하여 전기장이 형성됨에 따라 샌드블라스팅공정에 영향을 주어 원하는 형상의 격벽이 형성되지 못하고 불량이 발생하며 또한, 샌드블라스팅 공정 후에 정전기에 의하여 연마물질이 부착되어 이물질로 잔류하게 된다.
더욱이, 대형 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서는, 어드레싱(addressing)주기를 짧게 함으로써 상대적으로 유지방전 주기를 보다 길게 함으로써 휘도를 향상시키기 위하여, 어드레스전극을 상부와 하부로 분할하여 구동한다. 이러한 구조에서는 샌드블라스팅공정에서 발생한 정전기의 전하가 유전층의 표면 또는 어드레스 전극의 단자부를 타고 이동하여 상부또는 하부 어드레스전극 단부에 축적되어 상부어드레스전극과 하부어드레스전극의 사이에서 전위차를 발생시킴으로써 스파크가 일어난다. 이러한 스파크 현상은 유전체층과 기판을 손상시키게 된다.
본 발명은 위와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 정전기의 발생에 따른 격벽형성의 불량 및 유전체층의 손상을 방지하는 플라즈마 디스플레이 소자의 격벽 제조 방법을 제공하는 데 그 목적이 있다.
도 1은 종래의 플라즈마 디스플레이 소자의 분해 사시도이고.
도 2a 및 도 2b 는 종래 기술에 따른 플라즈마 디스플레이 소자의 격벽 제조 방법을 단면으로 도시한 것이다.
도 3 내지 도 11은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 소자의 격벽 제조 방법을 단면으로 도시한 것이다.
도 12는 본 발명에 따른 방법에 의하여 제조된 격벽을 포함하는 기판을 도시한 사시도이다.
< 도면의 주요 부호에 대한 간단한 설명 >
112. 기판 121. 더미전극
123. 어드레스 전극 123a, 제1전극.
123b. 제2전극 130. 유전체층
140. 격벽적층부 140a. 격벽
150. 포토레지스트층 160. 연마입자
170. 노광마스크
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 일측면에 따른 플라즈마 디스플레이 소자의 격벽제조 방법은, 일방향으로 연장된 더미전극과, 상기 더미전극과 교차되는 방향으로 복수개 형성되는 어드레스 전극을 기판에 형성하는 전극형성단계; 상기 어드레스 전극이 형성된 기판위에 유전체층을 형성하는 유전체층형성 단계; 상기 더미전극을 접지하는 접지단계; 상기 유전체층에 샌드블라스팅법에 의하여 소정 형상의 격벽을 형성하는 격벽형성단계; 및 상기 더미전극을 제거하는 제거단계;를 포함한다.
상기 어드레스 전극은 상기 더미전극을 사이에 두고 소정간격 이격되어 분리된 제1전극과 제2전극을 구비하여 형성될 수 있으며, 상기 유전체층은 상기 더미전극이 노출된 상태로 형성될 수 있다. 또한, 상기 더미전극과 상기 어드레스 전극은 서로 직교하는 방향으로 형성될 수 있다. 상기 더미전극은 소정의 직경을 가지는와이어를 부착하여 형성할 수 있다.
그리고, 상기 격벽형성단계는, 상기 유전체층이 형성된 기판위에 격벽재료의 페이스트를 도포 및 건조시킴으로써 격벽 적층부를 형성하는 단계; 상기 격벽 적층부상에 포토레지스트 재료를 도포 및 건조시키는 단계, 상기 포토레지스트 재료에 격벽에 상응하는 소정 형상의 패턴으로 형성된 노광마스크를 씌워 노광하는 단계; 상기 포토레지스트에 샌드블라스팅을 하는 샌드블라스트단계; 상기 포토레지스트를 제거하는 단계; 및 상기 격벽 재료 페이스트를 소성하는 단계;를 포함한다. 여기서, 상기 더미전극에 대응하는 부분에 격벽이 형성되지 않을 수 있으며, 상기 제거단계에서 상기 더미전극은 블레이드법에 의하여 제거되어 질 수 있으며, 레이저를 이용하여 제거되어질 수 있다.
이하에서 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 소자의 격벽제조방법에 대하여 상세하게 설명하고자 한다.
도3 내지 도12는 본 발명에 따른 일실시예로서 플라즈마 디스플레이 소자의 격벽제조공정을 도시한 것이다.
도3은 본 발명에 따른 일실시예로서 기판위에 형성된 전극의 분포를 도시한 사시도이다.
도시된 바와 같이, 기판(112)에는 그 중앙부에서 일방향 즉, X방향으로 연장된 하나의 더미전극(121)과, 상기 더미전극과 교차하는 방향으로 복수개 형성된 어드레스 전극(123)을 형성한다. 어드레스 전극(123)은 기판의 중앙부에서 소정간격 이격되어 분리된 제1전극(123a)와 제2전극(123b)을 구비한다. 여기서, 상기 더미전극(121)과 상기 어드레스 전극(123)은 서로 직교하는 것이 바람직하다. 상기 제1전극(123a)와 상기 제2전극(123b)은 후술하는 바와 같이 제거단계에서 분리되어질 수 있으므로 연결되어 형성될 수도 있다.
상기 더미(dummy)전극은 샌드블라스트법에 의한 격벽 형성시 발생된 정전기를 제거하기 위한 것으로서 샌드블라스팅을 하기 전에 접지되며, "A"는 그 접지선을 도시한 것이다.
이와 같은 전극(121,123a,123b)은 인쇄법, 포토리소그래피법, 리프트오프(lift off)법 및 에칭(etching)법 등을 이용하여 형성될 수 있으며, 그 일예로서 포토리소프래피법을 설명하면 다음과 같다. 포토레지스트에 소정의 기능재를 분산시킨 다음에 필요에 따라 바인더, 분산제, 계면활성제, 감광보조제 등을 첨가하여 감광성 페이스트를 만든 후, 기판위에 전면 도포 및 건조한 후, 상기 전극(121,123a,123b)의 패턴으로 형성된 노광용 포토마스크(photo mask)를 통하여 노광 및 현상하여 기판(112)상에 원하는 소정의 전극 패턴막이 형성될 수 있다. 여기서, 상기 더미전극(121)은 상기 어드레스 전극(123)와 함께 형성되고 있는 것을 설명하고 있으나, 본 발명은 여기에 한정되는 것은 아니며, 제1(121)전극은 소정의 직경 예컨데, 50㎛정도의 와이어(미도시)를 대신 사용할 수도 있다.
도4a는 도3의 Ⅰ-Ⅰ의 단면 기판상에 유전체층이 형성된 것을 도시한 것이며, 도4b는 도3의 Ⅱ-Ⅱ의 단면 기판상에 유전체층이 형성된 것을 도시한 것이다.
도면을 참조하면, 전극(122,123)이 형성된 기판(112)상에 스크린 인쇄법에 의하여 더미전극(121)의 부분을 제외하고(도4b참조) 1회 내지 2회에 걸쳐서 유전체재료를 인쇄한다. 즉, 스크린(미도시)에 더미전극(121)의 직상부에 해당하는 부분에 차폐부를 형성하고 기타의 부분은 통공부가 형성되도록하여 유전체재료를 인쇄하고, 소정시간동안 건조시킨후에, 다시 소성공정을 거치면 유전체층이 형성된다. 여기서, 상기 소성공정은 후술하는 격벽 소성공정에서 함께 할 수도 있다. 그리고, 본 발명은 여기에 한정되는 것은 아니며, 기판(112)과 전극(121,122,123)위에 유전체층을 형성하는 공정을 생략함으로써 곧바로 격벽을 형성할 수도 있다.
도5 내지 도9는 도3의 Ⅰ-Ⅰ의 단면 기판상에 형성되는 격벽을 도시한 것이다.
도5에 도시된 바와 같이, 전극이 형성된 기판(112)의 상부에 격벽 재료 페이스트의 적층부(140)를 형성한다. 격벽 재료의 페이스트는 본 발명의 기술분야에서 통상적인 것을 사용할 수 있으며, 도포 및 건조 과정을 통해서 소정 두께로 전면에 적층한다.
도6에 도시된 바와 같이, 격벽 재료 페이스트의 적층부(140)의 상부에 포토레지스트(150)를 도포한다. 그 다음에 노광용 마스크(170)를 상기 포토레지스트(150)에 씌운 상태에서 노광을 실시한다. 상기 마스크(170)에는 광의 투과부(170a)와 차광부(170b)가 형성되어 있다. 여기서, 마스크(170)의 투과부(170a)는 후속 공정으로서 격벽이 형성될 위치에 대응하는 곳에 배치된다. 노광이 실시되면 광을 받은 포토레지스트(150)의 부분은 경화되는 반면에 다른 부분은 경화되지 아니하게 된다. 여기서 상기 포토레지스트로서 이용될수 있는 재료중에는 드라이 필름 레지스트(dry film resist;DFR)를 사용하는 것이 바람직하다.
도7은 포토레지스트의 노광이 완료된 상태를 도시한 것이다. 도면을 참조하면, 격벽재료 페이스트(140)의 상부에서 포토레지스트(150)는 경화된 포토레지스트 패턴(150a)과 경화되지 않은 포토레지스트 패턴(150b)을 구비하게 된다.
도8에 도시된 바와 같이, 샌드블라스팅 공정을 실시하면, 연마입자(160)는 경화된 포토레지스트 패턴(150a)에서는 통과하지 못하여 차폐되지만, 경화되지 않은 포토레지스트 패턴(150b)에서는 충돌하면서 마모한다. 그리고, 샌드블라스팅 공정에서 연마입자(160) 또는 격벽페이스트 등의 마찰로 인하여 정전기가 발생하지만, 도3a에 도시된 바와 같이, 더미전극(121)은 접지되어 있기 때문에, 정전하가 제거된다. 그리고 제1전극(121)에 접지하는 단계는 샌드블라스팅공정을 하기 전에 하게 된다.
도9a는 샌드블라스팅 공정에 의하여 형성된 격벽을 도시한 것이다. 도면을 참조하면, 샌드블라스팅 공정에 의해서 격벽(140a)이 형성되는데, 격벽(140a)의 위에는 광경화된 포토레지스트 패턴(150a)이 잔류하여 남아있게 된다. 여기서, 도9b는 도3a의 Ⅲ-Ⅲ의 단면 기판상에서 샌드블라스팅 공정으로 형성된 격벽을 도시한 것이다.
도10은 도9b에서 포토레지스트가 제거된 상태를 도시한 것이다. 포토레지스트(150a)를 제거하는 방법으로서는 여러 가지가 있을 수 있으나, 그 일예로서 DFR을 포함하는 포토레지스트의 제거방법은 박리과정에 의한다. 즉, 박리장비를 이용하여 염기성인 박리액을 산성인 DFR에 통과시키면, 산염기 중화반응에 의하여 박리되어지므로, 이를 제거할 수 있게 된다. 그리고 소성과정을 거치면 스트라이프 타입의 격벽으로 된다.
소성과정을 거쳐 형성된 스트라이프 타입의 격벽(140a)의 하부에 형성되어 있는 더미전극(121)은 제거하지 않을 수도 있으나, 플라즈마 디스플레이 패널의 구동시 누설 방지 등을 확실히 하기 위하여 제거하는 것이 바람직하다. 또한, 소성과정을 거쳐 형성된 스트라이프 타입의 격벽(140a)에 있어서 "B"부분은 제거하지 않을 수도 있으나, 이러한 경우 제조공정에 있어서 격벽(140a)의 영향으로 인하여 방전공간의 진공전도도(vaccumm-conduction)가 상대적으로 낮아지고 방전공간의 배기가 원활하게 되지 못하며, "B"영역에 잔류하는 불순물이 플라즈마 형성용 가스의 순도를 떨어뜨리고 플라즈마 표시패널의 화질을 떨어뜨리게 되므로, "B"부분을 제거한다. 이를 제거하는 방법으로서는 본 발명의 기술분야에서 사용할 수 있는 것이면 제한없이 사용될 수 있으며, 그 일예로서 블레이드법 즉, 미세한 날로 "B"부분과 더미전극(121)을 깍아내어 제거할 수 있다.
또한, 포토레지스트(150)를 도포하는 단계에서, 더미전극(121)위에 형성된 격벽의 부분에 마스크(170)의 차광부(170b)를 배치함으로써, 상기 더미전극(121)위에는 격벽이 형성되지 않게 할 수도 있다.
그리고, 상기 더미전극(121)은 Nd:YAG레이저를 이용하면 제거될 수 있다. 즉, Nd:야그 레이저(Nd yttrium alminum garnet laser)와 같은 고체레이저와, 이 고체레이저로부터 조사되는 광을 집속하여 초점을 소정의 형상으로 형성하기 위한 광학계를 포함는 레이저 장치를 이용하면, 더미전극을 제거할 수 있게 된다. 여기서, Nd:야그 레이저는 네오다이늄이라는 란탄계열 원소를 이트륨,알루미늄, 가테트의 결정에 넣고 1.06 마이크로 미터 파장을 가지고 발진하는 레이저로서, 상온에서 연속으로 발진가능하다. 그리고 상기 Nd:야그 레이저로부터 발진되는 레이저의 초점의 크기는 10 내지 500㎛로 가변될 수 있으며, 레이저의 파워는 제거되는 절단부위의 전극의 두께와 제거속도에 따라 가변될 수 있다.
도11은 도10에서 "B"부분이 제거 또는 형성되지 않은 상태를 도시한 것이며, 도12는 본 발명의 일실시예로서 플라즈마 디스플레이용 격벽이 기판에 완성된 상태를 도시한 사시도이다.
도면을 참조하면, Y방향에서 유전체층(130)과 스트라이프 타입의 격벽(140a)이 중앙부(C)에서 분리되는 구조가 된다.
이와 같이, 격벽(140a)이 완성된 후에는 격벽과 유전체층(130)위에 형광체층(미도시)을 도포하여 배면기판을 제조하고, 공통전극 및 주사전극, 유전체층 및 보호막 등이 형성된 전면기판을 배면기판과 조립하여 플라즈마 디스플레이 소자를 제조한다. 그리고, 이와 같이 Y방향으로 양분된 전극구조를 가지는 패널은 분할구동방식으로 동작된다.
본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 소자의 격벽 제조 방법에 의하면, 샌드 블라스팅시에 정전기에 의한 유전체층이 손상되는 것을 방지할 수 있으며, 샌드 블라스팅시에 발생하는 정전기가 제거되기 때문에 샌드블라스팅 공정에 의한 격벽 형성의 불량이 방지되고 연마재료가 부착되어 이물질로 잔류되는 것을 방지하여 신뢰성있는 격벽을 형성할 수 있게 된다.
본 발명은 첨부된 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 보호 범위는 첨부된 청구 범위에 의해서만 정해져야 할 것이다.

Claims (9)

  1. 일방향으로 연장된 더미전극과, 상기 더미전극과 교차되는 방향으로 복수개 형성되는 어드레스 전극을 기판에 형성하는 단계;
    상기 어드레스 전극이 형성된 기판위에 유전체층을 형성하는 단계;
    상기 더미전극을 접지하는 단계;
    상기 유전체층에 샌드블라스팅법에 의하여 소정 형상의 격벽을 형성하는 격벽형성단계; 및
    상기 더미전극을 제거하는 제거단계;를 더 포함하는 것을 특징으로를 포함하는 플라즈마 디스플레이 소자의 격벽 제조방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 어드레스 전극은, 상기 더미전극을 사이에 두고 소정간격 이격되어 분리된 제1전극과 제2전극을 구비하여 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 소자의 격벽 제조방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 유전체층은 상기 더미전극이 노출된 상태로 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 소자의 격벽제조방법.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 더미전극과 상기 어드레스 전극은 서로 직교하는 방향으로 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 소자의 격벽제조방법.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 격벽형성단계는,
    상기 유전체층이 형성된 기판위에 격벽재료의 페이스트를 도포 및 건조시킴으로써 격벽 적층부를 형성하는 단계;
    상기 격벽 적층부상에 포토레지스트 재료를 도포 및 건조시키는 단계,
    격벽에 상응하는 소정 형상의 패턴으로 형성된 노광마스크를 상기 포토레지스트 재료에 씌워 노광하는 단계;
    상기 포토레지스트에 샌드블라스팅을 하는 샌드블라스트단계;
    상기 포토레지스트를 제거하는 단계; 및
    상기 격벽 재료 페이스트를 소성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 소자의 격벽 제조 방법.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 더미전극에 대응하는 부분에 격벽이 형성되지 않는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 소자의 격벽제조방법.
  7. 제5항 또는 제6항에 있어서,
    상기 제거단계는 블레이드법에 의하여 제거되는 것을 특징으로 하는 플래즈마 디스플레이 소자의 격벽제조방법.
  8. 제6항에 있어서,
    상기 제거단계는 레이저를 이용하여 상기 더미전극을 제거하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 소자의 격벽제조방법.
  9. 제3항, 제6항 및 8항에 있어서,
    상기 더미전극은 소정의 직경을 가지는 와이어를 부착하여 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 소자의 격벽 제조방법.
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