KR20010041344A - 포스포리파제 효소의 억제제 - Google Patents

포스포리파제 효소의 억제제 Download PDF

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브루스 엠. 에이센, 토마스 제이 데스로저
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Abstract

본 발명은 포유동물에서 염증성 질환의 치료 또는 예방에 유용한 화합물 및 약제학적 조성물, 화학식 I 또는 II의 신규한 약제학적으로 유용한 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염을 투여함을 포함하여 포유동물에서 염증 질환을 치료 또는 예방하는 방법에 관한 것이다.
화학식 I
화학식 II
상기 화학식 I 및 II에서
R1내지 R5는 명세서에 정의된 바와 같다.

Description

포스포리파제 효소의 억제제{Inhibitors of phospholipase enzymes}
발명의 배경
본 발명은 여러가지 포스포리파제 효소, 특히 포스포리파제 A2효소 활성의 화학적 억제제에 관한 것이다.
류코트리엔과 프로스타글란딘은 염증의 중요한 매개체이며, 이들 부류는 각각 상이한 방식으로 염증성 반응의 발달에 기여한다. 류코트리엔은 호중구와 같은 염증성 세포를 염증화된 부위로 보충시키고, 이들 세포의 일혈을 증진시켜 조직을 손상시키는 과산화물과 프로테아제의 방출을 촉진한다. 류코트리엔은 또한 천식 환자가 경험하게되는 과민성에 있어서 병리학적 역할을 한다[참조: B. Samuelson et al., Science, 237:1171-76 (1987)]. 프로스타글란딘은 혈류를 증가시킴으로써 염증을 향상시키고 따라서 백혈구를 염증 부위로 유입시킨다. 프로스타글란딘은 또한 자극으로 유발된 통증 반응을 일으킨다.
프로스타글란딘과 류코트리엔은 불안정하며 세포중에 저장되지 않지만, 대신 자극에 대한 반응으로 아라키돈산으로부터 합성된다[참조: W. L. Smith, Biochem. j., 259:315-324 (1989)]. 프로스타글란딘은 COX-1 및 COX-2 효소의 작용에 의해 아라키돈산으로부터 생산된다. 아라키돈산은 또한 류코트리엔을 생산하는 별개의 효소 경로에 대한 기질이다.
이들 2종의 별개 염증 경로중으로 공급된 아라키돈산은 포스포리파제 A2효소(이후 PLA2)에 의해 막 인지질의 2-위치로부터 방출된다. PLA2에 의해 촉매되는 반응은 지방 매개된 생합성 공정과 염증성 프로스타글란딘과 류코트리엔을 생산하는데 있어서 속도-제한 단계인 것으로 생각된다. PLA2의 인지질기질이 sn-1 위치중에 연결기를 갖는 포스포티딜 콜린 부류의 것일 경우, 생산된 라이소인지질은 염증의 다른 강력한 매개체인, 혈소판 활성화 인자(이후 PAF로 언급됨)의 직전 전구체이다[참조: S.I. Wasserman, Hospital Practice, 15:49-58 (1988)].
대부분의 염증 치료법은 프로스타글란딘과 류코트리엔 둘다에 대해서가 아니라, 이들 별개의 경로로부터 프로스타글란딘 또는 류코트리엔의 생산을 방지하는데 촛점을 맞추고 있다. 예를들어, 이부프로펜, 아스피린 및 인도메타신은 모두 COX-1/COX-2에 의한 프로스타글란딘의 생산을 억제하지만, 다른 경로에서 아라키돈산으로부터 류코트리엔의 염증성 생산에 대한 효과가 없는, NSAIDs이다. 역으로, 질류톤은 아라키돈산이 류코트리엔으로 전환되는 경로만을 억제하며, 프로스타글란딘의 생산에는 영향을 주지 않는다. 널리 사용되는 소염제중 어느 것도 PAF의 생산에 영향을 주는 것은 하나도 없다.
결론적으로 PLA2의 활성을 직접 억제하는 것이 치료제에 대해 유용한 메카니즘으로, 즉, 염증 반응을 방해하는 것으로 제안되었다[참조: J. Chang et al, Biochem. Pharmacol., 36:2429-2436 (1987)].
서열화되고 궁극적으로 세포로부터 분비된 분비 시그날의 존재에 의해 특징화되는 PLA2족이 서열화되어 구조적으로 정의되었다. 이들 분비된 PLA2는 분자량이 대략 14 kD이며 활성에 필수적인 이황화 결합을 7개 함유한다. 이들 PLA2는 포유동물의 췌장, 벌독, 및 여러가지 뱀독에서 다량으로 발견된다[참조: Chang et al., 상기 인용의 13-15; 및 E.A. Dennis, Drug Devel. Res., 10:205-220 (1987)]. 그러나, 췌장 효소는 소화 작용을 하는것으로 생각되며, 그러한 바와 같이, 생산이 엄격하게 조절되어야하는 염증 매개체의 생산에 있어서 중요하지 않다.
제1 사람 비-췌장 PLA2의 1차 구조가 결정되었다. 상기 비-췌장 PLA2는 소판, 활액, 및 비장에서 발견되며 또한 분비된 효소이다. 상기 효소는 상기 언급된 족중 일원이다[참조: J.J. Seilhamer et al., J. Biol. Chem., 264:5335-5338 (1989); R.M. Kramer et al., J. Biol. Chem., 264:5768-5775 (1989); 및 A. Kando et al, Biochem. Biophys. Res. Comm., 163:42-48 (1989)]. 그러나, 비-췌장 PLA2가 세포외 단백질로 조절되기 어려우며, 이들 화합물에 대한 생합성 경로에서 다음 효소가 세포내 단백질이기 때문에, 이 효소가 프로스타글란딘, 류코트리엔 및 PAF의 합성에 중요한 것으로 생각된다. 또한, PLA2가 단백질 키나제 C 및 세포내 단백질에 대해 작용하여야하는 세포질 단백질인 G 단백질에 의해 조절된다는 증거가 있다[참조: R. Burch and J. Axelrod, Proc. Natl. Acad. Sci. U.S.A., 84:6374-6378 (1989)]. 높은 환원 전위가 이황화 결합을 환원시켜 효소를 불활성화시키기 때문에 세포질에서 비-췌장성 PLA2가 작용하는 것은 불가능하다.
쥐의 PLA2는 RAW 264.7로 표시된, 쥐의 대식구 세포주에서 확인되었다. 환원 조건에 대해 내성인 2몰/분/㎎의 특이 활성이 대략 60 kD 분자와 관련있는 것으로 보고되었다. 그러나, 상기 단백질은 균질성있게 정제된 것이 아니다[참조: C.C. Leslie et al., Biochem. Biophys. Acta, 963:476-492 (1988)]. 상기 언급한 참고 문헌은 포스포리파제 효소, 특히 PLA2의 기능에 관한 정보에 대해 본 명세서에서 참고로 인용된다.
세포질 포스포리파제 A2(이후 "cPLA2")가 또한 확인되어 클로닝되었다. 본 명세서에서 전문 참고로 인용되는 미국 특허 제5,322,776호 및 제5,354,677호를 참고하라. 이들 환자의 효소는 천연 공급원으로부터 정제되거나 달리 정제된 형태로 생산된, 염증성 자극에 대한 반응으로 아라키돈산을 생산하도록 세포내에서 작용하는, 세포내 PLA2효소이다.
이제, 염증성 질환, 특히 프로스타글란딘, 류코트리엔 및 PAF의 생산 억제가 모두 바람직한 결화인 염증성 질환의 치료 또는 예방에 사용하기위한 이들 포스포리파제 효소의 활성을 억제하는 약제학적으로 유용한 화합물을 동정하는 것이 바람직하다. 당해 분야에는 여러가지 질병 상태에 치료용의 상기와 같은 소염제의 동정 필요성이 있다.
지질 매개체 생합성에 있어서 cPLA2의 중추적 역할을 지지하는 수많은 증거가 있다: cPLA2는 sn-2 위치에 아라키돈산을 함유하는 인지질에 대해 매우 선택적인 유일한 효소임(참조: Clark et al., 1991, 1995; Hanel ＆ Gelb, 1993); cPLA2의 활성화 또는 이의 증가된 발현은 증가된 류코트리엔 및 프로스타글란딘 합성과 관련있음(참조: Lin et al., 1992a, 1992b, 1993); 및 활성화 후, cPLA2는 핵막으로 전위되는데, 핵막은 아라키도네이트를 프로스타글란딘 및 류코트리엔으로 대사시키는 사이클로옥시게나제 및 리폭시게나제와 함께 편재됨(참조: Schievella et al., 1995; Glover et al., 1995). 이들 데이타가 억지의 것이긴 하나, 에이코사노이드 및 PAF 생산에 있어서 cPLA2의 중추적 역할은 동족성 재조합을 통하여 cPLA2결핍으로 만든 마우스로부터 유래한 것이다(참조: Uozumi et al., 1997; Bonventre et al., 1997). 이들 동물로부터 유래된 복강 대식구는 류코트리엔, 프로스타글란딘, 또는 PAF를 제조하지 못했다. cPLA2결핍 마우스는 또한 이들 마우스가 천식을 모방하는데 사용되는 과민증 모델에 있어서 기관체 과반응성에 대해 내성이기 때문에, 질병에 있어서 cPLA2의 역할에 대한 정보를 제공한다(참조: Uozumi et al., 1997). 따라서, 포스포리파제 A'2슈퍼족의 크기에도 불구하고, cPLA2는 프로스타글란딘, 류코트리엔, 및 PAF 생산에 있어 필수적이다.
문헌[참조: Clark, J. D., Lin, L.-L., Kriz, R.W., Ramesha, C.S., Sultzman, L. A., Lin. A. Y., Milona, N., and Knopf, J.L. (1991)]. 신규한 아라키돈산-선택적 세포질 PLA2는 PKC 및 GAP에 대한 상동성을 갖는 Ca2+-의존성 전좌 도메인을 함유한다. 문헌[참조: Cell 65, 1043-1051. Hanel, A.M., and Gelb, M. H. (1993)]. 포유동물의 85kilodalton 포스포리파제 A2효소에 의한 생성물 함유 소포에 대한 점진적인 계면 촉매: 기질 선호도 측정에 적용. 문헌[참조: Biochemistry 32. 5949-5958].
문헌[참조: Lin, L.-L., Lin, A.Y., and DeWitt. D.L. (1992a)] IL-1은 사람의 섬유아세포에서 cPLA2의 축적과 PGE2의 방출을 유발한다. 문헌[참조: J. Biol. Chem. 267, 23451-23454. Lin, L.-L., Lin, A. Y., and Knopf, J.L. (1992b)] 세포질 포스포리파제 A2는 아라키돈산의 호르몬식으로 조질된 방출과 관련있다. 문헌[참조: Proc. Natl. Acad. Sci. USA 89, 6147-6151. Lin, L.-L., Wartmann, M., Lin, A.Y., Knopf, J.L., Seth, A., and Davis, R.J. (1993) cPLA2]는 포스포릴화된 다음 MAP 키나제에 의해 활성화된다. 문헌[참조: Cell 72, 269-278].
문헌[참조: Glover, S., de Cavalho, M., Bayburt, T.Jonas, M., Chi, E., Leslie, E., and Gelb, M. (1995)] 칼슘 이오노포어 또는 IgE/항원으로 자극시킨 래트의 호염기성 백혈병 세포에 있어서 세포질로부터 85-kDa 포스포리파제 A2의 핵 엔벨로프로의 전좌. 문헌[참조: J. Biol. Chem. 270, 15359-15367. Schievella, A.R., Regier, M.K., Smith, W.L., and Lin, L.-L. (1995)]. 세포질 포스포리파제 A2의 핵 엔벨로프 및 내질 망상질로의 칼슘-매개된 전좌. 문헌[참조: J. Biol. Chem. 270, 30749-30754].
문헌[참조: Uozumi, N., Kume, K., Nagase, T., Nakatani, N., Ishii, S., Tashiro, F., Komagata, Y., Maki, K., Ikuta, K., Ouchi, Y., Miyazaki, J-i., ＆ Shimizu, T. (1997)]. 알레르기성 반응 및 분만에 있어서 세포질 포스포리파제 A2의 역할. 문헌[참조: Nature 390, 618-622. Bonventre, J.V., Huang, Z., Reza Taheri, M., O'Leary, E., Li, E., Moskowitz, M.A., and Sapirstein, A. (1997)] 세포질 포스포리파제 A2결핍인 마우스에 있어서 감소된 수정률과 허혈후 뇌손상. 문헌[참조: Nature 390, 622-625].
발명의 개요
본 발명의 화합물 또는 이의 약제학적으로 허용되는 염은 다음 화학식 I 또는 II를 갖는다:
상기 화학식 I 및 II에서
R1및 R1'는 H, 할로겐, -CF3, -OH, -C1-C10알킬, 바람직하게는 -C1-C6알킬, -S-C1-C10-알킬, 바람직하게는 -S-C1-C6-알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -CN, -NO2, -NH2, 페닐, -O-페닐, -S-페닐, 벤질, -O-벤질, -S-벤질로부터 독립적으로 선택되거나; 인돌 환에 직접 결합하거나 -S-, -O- 또는 -(CH2)n- 가교에 의해 인돌 환에 결합된, 하기 a), b) 또는 c) 군의 환 잔기이고;
a) 비제한적으로, 푸란, 피롤, 티오펜, 이미다졸, 피라졸, 이소티아졸, 이속사졸, 피롤리딘, 피롤린, 이미다졸리딘, 피라졸리딘, 피라졸, 피라졸린, 이미다졸, 테트라졸, 옥사티아졸을 포함하여, 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, -CN, -CF3로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 또는 O로부터 선택된 환 헤테로원자를 1개 또는 2개 함유하는 헤테로사이클릭 5원 환; 또는
b) 비제한적으로, 피란, 피리딘, 피라진, 피리미딘, 피리다진, 피페리딘, 피페라진, 테트라진, 티아진, 티아디진, 옥사진, 또는 모르폴린을 포함하여, 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -CHO, -NO2, -NH2, -CN, -CF3또는 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 또는 O로부터 선택된 환 헤테로원자를 1개, 2개 또는 3개 함유하는 6원 헤테로사이클릭 환; 또는
c) 비제한적으로, 벤조푸란, 크로멘, 인돌, 이소인돌, 인돌린, 이소인돌린, 나프탈렌, 퓨린, 인돌리진, 인다졸, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 퀴놀리진, 퀴나졸린, 신놀린, 프탈라진, 또는 나프티리딘을 포함하여, 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -CHO, -NO2, -NH2, -CN, -CF3또는 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 또는 O로부터 선택된 환 헤테로원자를 1개 내지 3개 임의로 함유하는 비사이클릭 환; 또는
d) 하기 화학식의 잔기:
이며;
Z는 O 또는 S이고;
R6는 H, -CF3, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, 페닐, -O-페닐, -S-페닐, 벤질, -O-벤질, -S-벤질의 군의 관련 일원으로부터 독립적으로 선택되며, 여기서 이들기의 페닐 및 벤질 환은 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -CHO, -NO2, -NH2, -CN, -CF3또는 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되고;
R7은 -OH, -CF3, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -NH2, -(CH2)n-NH2, -NH-(C1-C6알킬), -N-(C1-C6알킬)2, -(CH2)n-NH-(C1-C6알킬), -(CH2)n-N-(C1-C6알킬)2, 페닐, -O-페닐, 벤질, 또는 -O-벤질;이거나
a) 비제한적으로, 푸란, 피롤, 티오펜, 이미다졸, 피라졸, 이소티아졸, 이속사졸, 피롤리딘, 피롤린, 이미다졸리딘, 피라졸리딘, 피라졸, 피라졸린, 이미다졸, 테트라졸, 옥사티아졸을 포함하여, 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, -CN, 또는 -CF3로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 또는 O로부터 선택된 환 헤테로원자를 1개 또는 2개 함유하는 5원 헤테로사이클릭 환; 또는
b) 비제한적으로, 피란, 피리딘, 피라진, 피리미딘, 피리다진, 피페리딘, 피페라진, 테트라진, 티아진, 티아디진, 옥사진, 또는 모르폴린을 포함하여, 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -CHO, -NO2, -NH2, -CN, -CF3또는 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 또는 O로부터 선택된 환 헤테로원자를 1개, 2개 또는 3개 함유하는 6원 헤테로사이클릭 환; 또는
c) 비제한적으로, 벤조푸란, 크로멘, 인돌, 이소인돌, 인돌린, 이소인돌린, 나프탈렌, 퓨린, 인돌리진, 인다졸, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 퀴놀리진, 퀴나졸린, 신놀린, 프탈라진, 또는 나프티리딘을 포함하여, 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -CHO, -NO2, -NH2, -CN, -CF3또는 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 또는 O로부터 선택된 환 헤테로원자를 1개 내지 3개 임의로 함유하는 환원자수 8 내지 10의 비사이클릭 환이며;
n은 0 내지 3의 정수이고;
R2는 H, 할로겐, -CN, -CHO, -CF3, -OH, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -CHO, -CN, -NO2, -NH2, -NH-C1-C6알킬, -N(C1-C6알킬)2, -N-SO2-C1-C6알킬, 또는 -SO2-C1-C6알킬로부터 선택되며;
R3은 -COOH, -C(O)-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -(CH2)n-COOH, -CH=CH-COOH, -(CH2)n-테트라졸,
로부터 선택되거나, 화학식 -L1-M1으로부터 선택된 잔기이고; 여기서
L1은 화학 결합, -(CH2)n-, -S-, -O-, -C(O)-, -(CH2)n-C(O)-, -(CH2)n-C(O)-(CH2)n-, -(CH2)n-O-(CH2)n-, -(CH2)n-S-(CH2)n-, -C(Z)-N(R6)-, -C(Z)-N(R6)-(CH2)n-, -C(O)-C(Z)-N(R6)-(CH2)n-, -C(Z)-NH-SO2-, 또는 -C(Z)-NH-SO2-(CH2)n-로부터 선택된 가교 또는 결합 잔기이며;
M1은 -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, 테트라졸,
로부터 선택되고;
R8은 출현시, H, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, 테트라졸,
로부터 선택되며;
R9는 H, 할로겐, -CF3, -OH, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -C1-C6알킬, -O-C1-C6알킬, -O-(CH2)n-COOH, -O-CH2-C=C-COOH, -O-C≡C-CH2-COOH, -NH(C1-C6알킬), -N(C1-C6알킬)2, -N-C(O)-(CH2)n-COOH, -N-SO2-(CH2)n-COOH, -C(O)-N-(CH2)n-COOH로부터 선택되고,
R10은 -CF3, -OH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -C1-C6알킬, -O-C1-C6알킬, -O-(C1-C6알킬)-(OH)n, -NH(C1-C6알킬), -N(C1-C6알킬)2, -N-C(O)-N-(C1-C6알킬)-(OH)2,
의 군으로부터 선택되고;
R11은 H, C1-C6저급 알킬, C1-C6사이클로알킬, -CF3, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH,
로부터 선택되는데;
단, R3, L1, M1, R8, R9, R10, 및(또는) R11의 조합에 의해 발생된 인돌 또는 인돌 3-위치에서의 완전한 잔기는 카복실산, 테트라졸, 또는 화학식
의 잔기로부터 선택되거나 함유하는 산성 잔기를 1개 이상 함유하여야 하고;
n은 0 내지 3의 정수이며;
R4는 H, -CF3, C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, C3-C10사이클로알킬, -C1-C6알킬-C3-C10사이클로알킬, -CHO, 할로겐, 또는 식 -L2-M2의 잔기로, 여기서
L2는 화학식 -(CH2)n-, -S-, -O-, -C(O)-, -(CH2)n-C(O)-, -(CH2)n-C(O)-(CH2)n-, -(CH2)n-O-(CH2)n-, 또는 -(CH2)n-S-(CH2)n-, C(O)C(O)X이며,
여기서 X는 O 또는 N이고;
M2는
a) C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, C3-C10사이클로알킬, 페닐 또는 벤질의 군 (여기서 사이클로알킬, 페닐 또는 페닐환은 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6저급 알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, -CN, 또는 -CF3로부터 선택된 치환체 1 내지 3개로 임의로 치환됨); 또는
b) 비제한적으로, 푸란, 피롤, 티오펜, 이미다졸, 피라졸, 이소티아졸, 이속사졸, 피롤리딘, 피롤린, 이미다졸리딘, 피라졸리딘, 피라졸, 피라졸린, 이미다졸, 테트라졸, 옥사티아졸을 포함하여, 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, -CN, 또는 -CF3로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 또는 O로부터 선택된 환 헤테로원자를 1개 또는 2개 함유하는 5원 헤테로사이클릭 환; 또는
c) 비제한적으로, 피란, 피리딘, 피라진, 피리미딘, 피리다진, 피페리딘, 피페라진, 테트라진, 티아진, 티아디진, 옥사진, 또는 모르폴린을 포함하여, 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -CHO, -NO2, -NH2, -CN, -CF3또는 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 또는 O로부터 선택된 환 헤테로원자를 1개, 2개 또는 3개 함유하는 6원 헤테로사이클릭 환; 또는
d) 비제한적으로, 벤조푸란, 크로멘, 인돌, 이소인돌, 인돌린, 이소인돌린, 나프탈렌, 퓨린, 인돌리진, 인다졸, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 퀴놀리진, 퀴나졸린, 신놀린, 프탈라진, 또는 나프티리딘을 포함하여, 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -CHO, -NO2, -NH2, -CN, -CF3또는 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 또는 O로부터 선택된 환 헤테로원자를 1개 내지 3개 임의로 함유하는 환원자수 8 내지 10의 비사이클릭 환으로부터 선택되고;
R5는 C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, -(CH2)n-C3-C10사이클로알킬, -(CH2)n-S-(CH2)n-C3-C10사이클로알킬, -(CH2)n-O-(CH2)n-C3-C10사이클로알킬, 또는
a) -(CH2)n-페닐-O-페닐, -(CH2)n-페닐-CH2-페닐, -(CH2)n-O-페닐-CH2-페닐, -(CH2)n-페닐-(O-CH2-페닐)2, -CH2-페닐-C(O)-벤조티아졸 또는 화학식
의 잔기 (여기서 n은 0 내지 3의 정수, 바람직하게는 1 내지 3, 더욱 바람직하게는 1 내지 2임)의 군으로부터 선택되고;
Y는 C3-C6사이클로알킬, 페닐, 비페닐 (여기서 이들 각각은 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, -CN, 또는 -CF3로부터 선택된 1 내지 3개의 군으로 임의로 치환됨); 또는
a) 비제한적으로, 푸란, 피롤, 티오펜, 이미다졸, 피라졸, 이소티아졸, 이속사졸, 피롤리딘, 피롤린, 이미다졸리딘, 피라졸리딘, 피라졸, 피라졸린, 이미다졸, 테트라졸, 옥사티아졸을 포함하여, 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, -CN, 또는 -CF3로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 또는 O로부터 선택된 환 헤테로원자를 1개 또는 2개 함유하는 5원 헤테로사이클릭 환; 또는
b) 비제한적으로, 피란, 피리딘, 피라진, 피리미딘, 피리다진, 피페리딘, 피페라진, 테트라진, 티아진, 티아디진, 옥사진, 또는 모르폴린을 포함하여, 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -CHO, -NO2, -NH2, -CN, -CF3또는 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 또는 O로부터 선택된 환 헤테로원자를 1개, 2개 또는 3개 함유하는 6원 헤테로사이클릭 환; 또는
c) 비제한적으로, 벤조푸란, 크로멘, 인돌, 이소인돌, 인돌린, 이소인돌린, 나프탈렌, 퓨린, 인돌리진, 인다졸, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 퀴놀리진, 퀴나졸린, 신놀린, 프탈라진, 또는 나프티리딘을 포함하여, 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -CHO, -NO2, -NH2, -CN, -CF3또는 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 또는 O로부터 선택된 환 헤테로원자를 1개 내지 3개 임의로 함유하는 환원자수 8 내지 10의 비사이클릭 환;
d) 화학식 -(CH2)n-A, -(CH2)n-S-A, 또는 -(CH2)n-O-A의 잔기이며, 여기서
A는 화학식의 잔기로,
D는 H, C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, -CF3, 또는 -(CH2)n-CF3이고;
B 및 C는 페닐, 피리디닐, 피리미디닐, 푸릴, 티에닐 또는 피롤릴기로부터 선택되며, 이들은 각각 H, 할로겐, -CN, -CHO, -CF3, -OH, -C1-C6알킬, -C1-C6알콕시, -NH2, -N(C1-C6)2, -NH(C1-C6), -N-C(O)-(C1-C6), -NO2로부터 선택된 치환체 1 내지 3개, 바람직하게는 1 또는 2개로, 또는 O, N 또는 S로부터 선택된 헤테로원자 1 또는 2개를 함유하는, 예를들어, 모르폴리노와 같은, 5- 또는 6원 헤테로사이클릭 또는 헤테로방향족 환으로 임의로 치환된다.
본 발명내의 화합물군 중 하나는 인돌 또는 인돌린 2-위치 (R4)가 수소로만 치환되고 다른 인돌 또는 인돌린 위치에서의 치환체가 상기한 바와 같은 것이다.
다른 R3이 -L1-M1으로, 여기서 L1은 상기 정의된 바와 같고, 더욱 바람직하게는 L1이 화학결합이고, M1이 화학식의 잔기이며, R9이 상기 광의적으로 정의된 바와 같다.
본 발명의 다른군은 R2및 R4가 수소이고 R1, R1', R3및 R5에서의 기가 상기 정의된 바와 같은 화합물을 포함한다. 상기 군내에는 2종의 다른 바람직한 군이 있다. 첫번째 R1은 인돌 또는 인돌린 5 위치에 있고 두번째 R1는 인돌 또는 인돌린 6-위치에 있다.
본 발명에서 다른 바람직한 군에서, R1은 인돌 또는 인돌린 5-위치에 있으며 벤질옥시이고, R2및 R4는 수소이고 R3및 R5는 상기 정의된 바와 같다.
본 발명의 더욱 바람직한 화합물중에는 다음 화학식의 화합물 또는 이의 약제학적으로 허용되는 염이 있다:
또는
상기 화학식에서
R1은 H, 할로겐, -CF3, -OH, -C1-C10알킬, 바람직하게는 -C1-C6알킬, -S-C1-C10알킬, 바람직하게는 -S-C1-C6알킬, -C1-C10알콕시, 바람직하게는 -C1-C6알콕시, -CN, -NO2, -NH2, 페닐, -O-페닐, -S-페닐, 벤질, -O-벤질, -S-벤질 또는 화학식
의 잔기로부터 선택되고;
R6은 H, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, 페닐, -O-페닐, 벤질, -O-벤질이며, 여기서 이들 기의 페닐 및 벤질 환은 할로겐, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, -CN, -CF3, 또는 OH로부터 선택된 치환체 1 내지 3개로 임의로 치환되며;
R7은 -OH, -CF3, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NH-(C1-C6알킬), -N-(C1-C6알킬)2, 피리디닐, 티에닐, 푸릴, 피롤릴, 페닐, -O-페닐, 벤질, -O-벤질, 피라졸릴 및 티아졸릴로부터 선택되고, 여기서 이들 기의 환은 할로겐, -CN, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, -CF3, 또는 -OH로부터 선택된 치환체 1 내지 3개로 임의로 치환되며;
R2는 H, 할로겐, -CF3, -OH, -C1-C10알킬, 바람직하게는 -C1-C6알킬, -C1-C10알콕시, 바람직하게는 -C1-C6알콕시, -CHO, -CN, -NO2, -NH2, -NH-C1-C6알킬, -N(C1-C6알킬)2, -N-SO2-C1-C6알킬, 또는 -SO2-C1-C6알킬로부터 선택되고;
R3은 -COOH, -C(O)-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -(CH2)n-COOH, -CH=CH-COOH, -(CH2)n-테트라졸,
로부터 선택되거나 화학식 -L1-M1으로부터 선택된 잔기로, 여기서,
L1은 화학결합, -(CH2)n-, -S-, -O-, -C(O)-, -(CH2)n-C(O)-, -(CH2)n-C(O)-(CH2)n-, -(CH2)n-O-(CH2)n-, -(CH2)n-S-(CH2)n-, -C(Z)-N(R6)-, -C(Z)-N(R6)-(CH2)n-, -C(O)-C(Z)-N(R6)-, -C(O)-C(Z)-N(R6)-(CH2)n-, -C(Z)-NH-SO2-, 또는 -C(Z)-NH-SO2-(CH2)n-으로부터 선택된 가교 또는 연결 잔기이고;
M1은 -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, 테트라졸,
의 군으로부터 선택되며;
R8은 각각 독립적으로 H, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, 테트라졸,
로부터 선택되고;
R9는 H, 할로겐, -CF3, -OH, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -C1-C6알킬, -O-C1-C6알킬, -NH(C1-C6알킬), 또는 -N(C1-C6알킬)2로부터 선택되며;
R10은 H, 할로겐, -CF3, -OH, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -C1-C6알킬, -O-C1-C6알킬, -NH(C1-C6알킬), -N(C1-C6알킬)2,
로부터 선택되고;
R11은 H, C1-C6저급 알킬, C1-C6사이클로알킬, -CF3, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH,
로부터 선택되는데, 단,
R3, L1, M1, R8, R9, R10및(또는) R11의 조합에 의해 발생된 인돌 또는 인돌린 3-위치에서의 완전한 잔기는 카복실산, 테트라졸, 또는 화학식:
의 잔기로부터 선택되거나 함유하는 산성 잔기를 1개 이상 함유하여야하며;
n은 0 내지 3의 정수이고;
R4는 H, -CF3, C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, C3-C10사이클로알킬, -C1-C6알킬-C3-C10사이클로알킬, -CHO, 할로겐, 또는 화학식 -L2-M2의 잔기로부터 선택되며;
L2는 식 -(CH2)n-, -S-, -O-, -C(O)-, -(CH2)n-C(O)-, -(CH2)n-C(O)-(CH2)n-, -(CH2)n-O-(CH2)n-, 또는 -(CH2)n-S-(CH2)n-의 연결 또는 가교기를 나타내고;
M2는 C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, C3-C10사이클로알킬, 페닐 또는 벤질의 군 (여기서 사이클로알킬, 페닐 또는 벤질 환은 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, -CN, 또는 -CF3의 군으로부터 선택된 치환체 1 내지 3개로 임의로 치환됨)으로부터 선택되거나;
a) 비제한적으로, 푸란, 피롤, 티오펜, 이미다졸, 피라졸, 피롤리딘, 또는 테트라졸을 포함하여, 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, -CN, 또는 -CF3로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 또는 O로부터 선택된 환 헤테로원자를 1개 또는 2개 함유하는 5원 헤테로사이클릭 환; 또는
b) 비제한적으로, 피리딘, 피리미딘, 피페리딘, 피페라진, 또는 모르폴린을 포함하여, 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -CHO, -NO2, -NH2, -CN, -CF3또는 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 또는 O로부터 선택된 환 헤테로원자를 1개, 2개 또는 3개 함유하는 6원 헤테로사이클릭 환; 또는
c) 비제한적으로, 벤조푸란, 인돌, 인돌린, 나프탈렌, 퓨린, 또는 퀴놀린을 포함하여, 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -CHO, -NO2, -NH2, -CN, -CF3또는 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 또는 O로부터 선택된 환 헤테로원자를 1개 내지 3개 임의로 함유하는 환원자수 8 내지 10의 비사이클릭 환이고;
R5는 C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, -(CH2)n-C3-C10사이클로알킬, -(CH2)n-S-(CH2)n-C3-C10사이클로알킬, -(CH2)n-O-(CH2)n-C3-C10사이클로알킬, 또는
a) -(CH2)n-페닐-O-페닐, -(CH2)n-페닐-CH2-페닐, -(CH2)n-O-페닐-CH2-페닐, -(CH2)n-페닐-(O-CH2-페닐)2, -CH2-페닐-C(O)-벤조티아졸, 또는 다음식:
의 잔기(여기서 n은 0 내지 3, 바람직하게는 1 내지 3, 더욱 바람직하게는 1 내지 2이고; Y는 C3-C5사이클로알킬, 페닐, 벤질, 나프틸, 피리디닐, 퀴놀릴, 푸릴, 티에닐, 피롤릴, 벤조티아졸 및 피리미디닐로, 이들기의 환은 H, 할로겐, -CF3, -OH, -C1-C6알킬, -C1-C6알콕시, -CN, -NH2, -NO2또는 N, S, 또는 O, 바람직하게는 S 또는 O로부터 선택된 헤테로원자 1개를 함유하는 5원 헤테로사이클릭 환으로부터 선택된 치환체 1 내지 3개로 임의로 치환됨); 또는
b) 화학식 -(CH2)n-A, -(CH2)n-S-A, 또는 -(CH2)n-O-A의 잔기(여기서,
A는 화학식의 잔기로, 이때,
D는 H, C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, -CF3또는 -(CH2)n-CF3이고;
B 및 C는 각각 H, 할로겐, -CF3, -OH, -C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NH2또는 -NO2로부터 선택된 치환체 1 내지 3개, 바람직하게는 1 내지 2개로 임의로 치환되는, 페닐, 피리디닐, 피리미디닐, 푸릴, 티에닐 또는 피롤릴기로부터 독립적으로 선택됨)의 기이다.
본 발명내의 화합물군 중 하나는 인돌 또는 인돌린 2-위치 (R4)가 수소로만 치환되고 다른 인돌 또는 인돌린 위치에서의 치환체는 상기한 바와 같은 것들이다.
본 발명의 다른 바람직한 군에서 R1은 인돌 또는 인돌린 5 또는 6 위치에 있으며 사이클로펜틸카복스아미드 또는 사이클로펜틸옥시카보닐아미노이고, R2및 R4는 수소이며, R3및 R5는 상기 정의된 바와 같다.
본 발명의 다른 바람직한 군은 인돌 또는 인돌린 5 및(또는) 6 위치에서의 R1및 R2로 이루어져 있으며 각각 C1-C6알콕시, 시아노, 술포닐 및 할로로 이루어진 군으로부터 선택되고, R2및 R4가 수소이며, R3및 R5가 상기 정의된 바와 같다.
본 발명의 다른 군은 R2및 R4가 수소이고 R1, R3및 R5에서의 기가 상기 정의된 바와 같은 화합물을 포함한다. 상기 군내에는 2종의 더욱 바람직한 군이 있다. 첫째로, R1이 인돌 또는 인돌린 5 위치에 있는 것이며, 둘째는, R1이 인돌 또는 인돌린 6 위치에 있는 것이다.
여기서 더욱 바람직한 군에서, R1은 인돌 또는 인돌린 5-위치에 있으며 벤질옥시이고, R2및 R4는 수소이며 R3및 R5는 상기 정의된 바와 같다.
본 발명의 바람직한 군의 화합물 또는 이의 약제학적으로 허용되는 염은 다음 화학식을 갖는다:
상기 화학식에서
R1은 H, 할로겐, -CF3, -OH, -C1-C6알킬, -C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, CN, 페닐, -O-페닐, 벤질, -O-벤질, -S-벤질 또는 화학식
의 잔기이고;
R6는 H, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, 페닐, -O-페닐, 벤질, -O-벤질로, 여기서 이들 기의 페닐 및 벤질 환은 할로겐, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, -CF3, 또는 -OH로부터 선택된 치환체 1 내지 3개로 임의로 치환되며;
R7은 -CF3, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NH-(C1-C6알킬), -N-(C1-C6알킬)2, 피리디닐, 티에닐, 푸릴, 피롤릴, 페닐, -O-페닐, 벤질, -O-벤질, 피라졸릴 및 티아졸릴로부터 선택되고, 여기서 이들 기의 환은 할로겐, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, -CF3, 또는 -OH로부터 선택된 치환체 1 내지 3개로 임의로 치환되며;
R2는 H, 할로겐, -CN, -CHO, -CF3, -OH, -C1-C10알킬, 바람직하게는 -C1-C6알킬, -C1-C10알콕시, 바람직하게는 -C1-C6알콕시, -CHO, -CN, -NO2, -NH2, -NH-C1-C6알킬, -N(C1-C6알킬)2, -N-SO2-C1-C6알킬, 또는 -SO2-C1-C6알킬로부터 선택되고;
R3은 -COOH, -C(O)-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -(CH2)n-COOH, -CH=CH-COOH, -(CH2)n-테트라졸,
로부터 선택되거나 화학식 -L1-M1으로부터 선택된 잔기로, 여기서,
L1은 화학결합, -(CH2)n-, -S-, -O-, -C(O)-, -(CH2)n-C(O)-, -(CH2)n-C(O)-(CH2)n-, -(CH2)n-O-(CH2)n-, -(CH2)n-S-(CH2)n-, -C(Z)-N(R6)-, -C(Z)-N(R6)-(CH2)n-, -C(O)-C(Z)-N(R6)-, -C(O)-C(Z)-N(R6)-(CH2)n-, -C(Z)-NH-SO2-, 또는 -C(Z)-NH-SO2-(CH2)n-으로부터 선택된 가교 또는 연결 잔기이고;
M1은 -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, 테트라졸,
의 군으로부터 선택되며;
R8은 각각 독립적으로 H, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, 테트라졸,로부터 선택되고;
R9는 H, 할로겐, -CF3, -OH, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -C1-C6알킬, -O-C1-C6알킬, -NH(C1-C6알킬), 또는 -N(C1-C6알킬)2로부터 선택되며;
R10은 H, 할로겐, -CF3, -OH, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -C1-C6알킬, -O-C1-C6알킬, -NH(C1-C6알킬), -N(C1-C6알킬)2,
로부터 선택되고;
R11은 H, C1-C6저급 알킬, C1-C6사이클로알킬, -CF3, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH,
로부터 선택되는데, 단,
R3, L1, M1, R8, R9, R10및(또는) R11의 조합에 의해 발생된 인돌 또는 인돌린 3-위치에서의 완전한 잔기는 카복실산, 테트라졸, 또는 화학식
의 잔기로부터 선택되거나 이를 함유하는 산성 잔기를 1개 이상 함유하여야하며;
n은 0 내지 3의 정수이고;
R4는 H, -CF3, C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, C3-C10사이클로알킬, -C1-C6알킬-C3-C10사이클로알킬, -CHO, 할로겐, 또는 화학식 -L2-M2의 잔기로부터 선택되며;
L2는 화학식 -(CH2)n-, -S-, -O-, -C(O)-, -(CH2)n-C(O)-, -(CH2)n-C(O)-(CH2)n-, -(CH2)n-O-(CH2)n-, 또는 -(CH2)n-S-(CH2)n-의 연결 또는 가교기를 나타내고;
M2는
a) C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, C3-C10사이클로알킬, 페닐 또는 벤질의 군 (여기서 사이클로알킬, 페닐 또는 벤질 환은 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, -CN, 또는 -CF3의 군으로부터 선택되는 치환체 1 내지 3개로 임의 치환됨); 또는
b) 비제한적으로, 푸란, 피롤, 티오펜, 이미다졸, 피라졸, 피롤리딘, 또는 테트라졸을 포함하여, 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, -CN, 또는 -CF3로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 또는 O로부터 선택된 환 헤테로원자를 1개 또는 2개 함유하는 5원 헤테로사이클릭 환; 또는
c) 비제한적으로, 피리딘, 피라진, 피리미딘, 피페리딘, 피페라진, 티아진 또는 모르폴린을 포함하여, 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -CHO, -NO2, -NH2, -CN, -CF3또는 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 또는 O로부터 선택된 환 헤테로원자를 1개, 2개 또는 3개 함유하는 6원 헤테로사이클릭 환; 또는
d) 비제한적으로, 벤조푸란, 크로멘, 인돌, 이소인돌, 인돌린, 나프탈렌, 퓨린, 퀴놀린 또는 이소퀴놀린을 포함하여, 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -CHO, -NO2, -NH2, -CN, -CF3또는 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 또는 O로부터 선택된 환 헤테로원자를 1개 내지 3개 임의로 함유하는 환원자수 8 내지 10의 비사이클릭 환으로부터 선택되고;
R5는 C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, -(CH2)n-C3-C10사이클로알킬, -(CH2)n-S-(CH2)n-C3-C10사이클로알킬, -(CH2)n-O-(CH2)n-C3-C10사이클로알킬, 또는
a) -(CH2)n-페닐-O-페닐, -(CH2)n-페닐-CH2-페닐, -(CH2)n-O-페닐-CH2-페닐, -(CH2)n-페닐-(O-CH2-페닐)2, -CH2-페닐-C(O)-벤조티아졸, 또는 다음식:
의 잔기(여기서 n은 0 내지 3, 바람직하게는 1 내지 3, 더욱 바람직하게는 1 내지 2이고, Y는 C3-C5사이클로알킬, 페닐, 벤질, 나프틸, 피리디닐, 퀴놀릴, 푸릴, 티에닐, 피롤릴, 벤조티아졸 및 피리미디닐로, 이들기의 환은 H, 할로겐, -CF3, -OH, -C1-C6알킬, -C1-C6알콕시, -NH2, -NO2또는 N, S, 또는 O, 바람직하게는 S 또는 O로부터 선택된 헤테로원자 1개를 함유하는 5원 헤테로사이클릭 환으로부터 선택된 치환체 1 내지 3개로 임의로 치환됨); 또는
b) 화학식 -(CH2)n-A, -(CH2)n-S-A, 또는 -(CH2)n-O-A의 잔기(여기서,
A는 잔기:로, 이때,
D는 H, C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, -CF3또는 -(CH2)n-CF3이고;
B 및 C는 각각 H, 할로겐, -CF3, -OH, -C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NH2또는 -NO2로부터 선택된 치환체 1 내지 3개, 바람직하게는 1 내지 2개로 임의로 치환되는, 페닐, 피리디닐, 피리미디닐, 푸릴, 티에닐 또는 피롤릴기로부터 독립적으로 선택됨)의 기이다.
상기 화합물중에서 바람직한 군은 R1치환이 인돌 또는 인돌린 환의 5 위치에 있고 다른 치환체가 상기 정의된 바와 같은 것들이다.
본 발명의 다른 바람직한 군은 다음 화학식의 화합물 또는 이의 약제학적으로 허용되는 염이다:
상기 화학식에서
R1은 H, 할로겐, -CF3, -OH, -C1-C6알킬, -C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, 페닐, -O-페닐, 벤질, -O-벤질, -S-벤질 또는 화학식
의 잔기이고;
R6은 H, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, 페닐, -O-페닐, 벤질, -O-벤질로, 여기서 이들 기의 페닐 및 벤질 환은 할로겐, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NO2, -CF3, 또는 -OH로부터 선택된 치환체 1 내지 3개로 임의로 치환되며;
R7은 -CF3, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NH-(C1-C6알킬), -N-(C1-C6알킬)2, 피리디닐, 티에닐, 푸릴, 피롤릴, 페닐, -O-페닐, 벤질, -O-벤질, 피라졸릴 및 티아졸릴로부터 선택되고, 여기서 이들 기의 환은 할로겐, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, -CF3, 또는 -OH로부터 선택된 치환체 1 내지 3개로 임의로 치환되며;
R2는 H, 할로겐, -CN, -CHO, -CF3, -OH, -C1-C10알킬, 바람직하게는 -C1-C6알킬, -C1-C10알콕시, 바람직하게는 -C1-C6알콕시, -CHO, -CN, -NO2, -NH2, -NH-C1-C6알킬, -N(C1-C6알킬)2, -N-SO2-C1-C6알킬, 또는 -SO2-C1-C6알킬로부터 선택되고;
R3은 -COOH, -C(O)-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -(CH2)n-COOH, -CH=CH-COOH, -(CH2)n-테트라졸,
로부터 선택되거나 화학식 -L1-M1으로부터 선택된 잔기로, 여기서,
L1은 화학결합, -(CH2)n-, -S-, -O-, -C(O)-, -(CH2)n-C(O)-, -(CH2)n-C(O)-(CH2)n-, -(CH2)n-O-(CH2)n-, -(CH2)n-S-(CH2)n-, -C(Z)-N(R6)-, -C(Z)-N(R6)-(CH2)n-, -C(O)-C(Z)-N(R6)-, -C(O)-C(Z)-N(R6)-(CH2)n-, -C(Z)-NH-SO2-, 또는 -C(Z)-NH-SO2-(CH2)n-으로부터 선택된 가교 또는 연결 잔기이고;
M1은 -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, 테트라졸,
의 군으로부터 선택되며;
R8은 각각 독립적으로 H, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, 테트라졸,
로부터 선택되고;
R9는 H, 할로겐, -CF3, -OH, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -C1-C6알킬, -O-C1-C6알킬, -NH(C1-C6알킬), 또는 -N(C1-C6알킬)2로부터 선택되며;
R10은 H, 할로겐, -CF3, -OH, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -C1-C6알킬, -O-C1-C6알킬, -NH(C1-C6알킬), -N(C1-C6알킬)2,
로부터 선택되고;
R11은 H, C1-C6저급 알킬, C1-C6사이클로알킬, -CF3, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH,
로부터 선택되는데, 단,
R3, L1, M1, R8, R9, R10및(또는) R11의 조합에 의해 발생된 인돌 또는 인돌린 3-위치에서의 완전한 잔기는 카복실산, 테트라졸, 또는 화학식:
의 잔기로부터 선택되거나 이를 함유하는 산성 잔기를 1개 이상 함유하여야하며;
n은 0 내지 3의 정수이고;
R4는 H, -CF3, C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, C3-C10사이클로알킬, -C1-C6알킬-C3-C10사이클로알킬, -CHO, 할로겐, 또는 식 -L2-M2의 잔기로부터 선택되며;
L2는 화학식 -(CH2)n-, -S-, -O-, -C(O)-, -(CH2)n-C(O)-, -(CH2)n-C(O)-(CH2)n-, -(CH2)n-O-(CH2)n-, 또는 -(CH2)n-S-(CH2)n-의 연결 또는 가교기를 나타내고;
M2는
a) C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, C3-C10사이클로알킬, 페닐 또는 벤질의 군 (여기서 사이클로알킬, 페닐 또는 벤질 환은 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, -CN, 또는 -CF3의 군으로부터 선택되는 치환체 1 내지 3개로 임의 치환됨); 또는
b) 비제한적으로, 푸란, 피롤, 티오펜, 이미다졸, 피라졸, 피롤리딘, 또는 테트라졸을 포함하여, 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, -CN, 또는 -CF3로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 또는 O로부터 선택된 환 헤테로원자를 1개 또는 2개 함유하는 5원 헤테로사이클릭 환; 또는
c) 비제한적으로, 피리딘, 피라진, 피리미딘, 피페리딘, 피페라진, 티아진 또는 모르폴린을 포함하여, 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -CHO, -NO2, -NH2, -CN, -CF3또는 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 또는 O로부터 선택된 환 헤테로원자를 1개, 2개 또는 3개 함유하는 6원 헤테로사이클릭 환; 또는
d) 비제한적으로, 벤조푸란, 크로멘, 인돌, 이소인돌, 인돌린, 이소인돌린, 나프탈렌, 퓨린, 퀴놀린 또는 이소퀴놀린을 포함하여, 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -CHO, -NO2, -NH2, -CN, -CF3또는 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 또는 O로부터 선택된 환 헤테로원자를 1개 내지 3개 임의로 함유하는 환원자수 8 내지 10의 비사이클릭 환으로부터 선택되고;
R5는 C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, -(CH2)n-C3-C10사이클로알킬 또는 -(CH2)n-A-(CH2)n-S-A, 또는 -(CH2)n-O-A로부터 선택되며, 여기서 A는
로부터 선택되고;
이때,
D는 H, C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, 또는 -CF3이고;
R12는 H, -C1-C6저급알킬, C1-C6저급알콕시, 또는 -CF3이다.
본 발명의 다른 화합물 또는 이의 약제학적으로 허용되는 염은 다음 화학식을 갖는다:
상기 화학식에서
R1은 H, 할로겐, -CF3, -OH, -C1-C6알킬, -C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, 페닐, -O-페닐, 벤질, -O-벤질, -S-벤질 또는 화학식
의 잔기이고;
R6는 H, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, 페닐, -O-페닐, 벤질, -O-벤질로, 여기서 이들 기의 페닐 및 벤질 환은 할로겐, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, -CF3, 또는 -OH로부터 선택된 치환체 1 내지 3개로 임의로 치환되며;
R7은 -CF3, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NH-(C1-C6알킬), -N-(C1-C6알킬)2, 피리디닐, 티에닐, 푸릴, 피롤릴, 페닐, 피라졸릴, 티아졸릴, -O-페닐, 벤질, 또는 -O-벤질로부터 선택되고, 여기서 이들 기의 환은 할로겐, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, -CF3, 또는 -OH로부터 선택된 치환체 1 내지 3개로 임의로 치환되며;
R2는 H, 할로겐, -CN, -CHO, -CF3, -OH, -C1-C10알킬, 바람직하게는 -C1-C6알킬, -C1-C10알콕시, 바람직하게는 -C1-C6알콕시, -CHO, -CN, -NO2, -NH2, -NH-C1-C6알킬, -N(C1-C6알킬)2, -N-SO2-C1-C6알킬, 또는 -SO2-C1-C6알킬로부터 선택되고;
R3은 -COOH, -C(O)-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -(CH2)n-COOH, -CH=CH-COOH, -(CH2)n-테트라졸,
로부터 선택되거나 화학식 -L1-M1또는 L2M2로부터 선택된 잔기로, 여기서,
L1은 화학결합, -(CH2)n-, -S-, -O-, -C(O)-, -(CH2)n-C(O)-, -(CH2)n-C(O)-(CH2)n-, -(CH2)n-O-(CH2)n-, -(CH2)n-S-(CH2)n-, -C(Z)-N(R6)-, -C(Z)-N(R6)-(CH2)n-, -C(O)-C(Z)-N(R6)-, -C(O)-C(Z)-N(R6)-(CH2)n-, -C(Z)-NH-SO2-, 또는 -C(Z)-NH-SO2-(CH2)n-으로부터 선택된 가교 또는 연결 잔기이고;
M1은 -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, 테트라졸,
의 군으로부터 선택되며;
L2는 화학결합, -S-, -O-, -C(O)-, -(CH2)n-C(O)-, -(CH2)n-C(O)-(CH2)n-, -(CH2)n-O-(CH2)n-, -(CH2)n-S-(CH2)n-, -C(Z)-N(R6)-, -C(Z)-N(R6)-(CH2)n-, -C(O)-C(Z)-N(R6)-, -C(O)-C(Z)-N(R6)-(CH2)n-, -C(Z)-NH-SO2-, 또는 -C(Z)-NH-SO2-(CH2)n-으로부터 선택된 가교 또는 연결 잔기이고;
M2는의 잔기이며;
R8은 각각 독립적으로 H, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, 테트라졸,
로부터 선택되고;
R9는 H, 할로겐, -CF3, -OH, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -C1-C6알킬, -O-C1-C6알킬, -NH(C1-C6알킬), 또는 -N(C1-C6알킬)2로부터 선택되며;
R10은 H, 할로겐, -CF3, -OH, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -C1-C6알킬, -O-C1-C6알킬, -NH(C1-C6알킬), -N(C1-C6알킬)2,
로부터 선택되고;
R11은 H, C1-C6저급 알킬, C1-C6사이클로알킬, -CF3, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH,
로부터 선택되는데, 단,
R3, L1, M1, L2, M2, R8, R9, R10및(또는) R11의 조합에 의해 발생된 인돌 또는 인돌린 3-위치에서의 완전한 잔기는 카복실산, 테트라졸, 또는 화학식
의 잔기로부터 선택되거나 이를 함유하는 산성 잔기를 1개 이상 함유하여야하며;
n은 0 내지 3의 정수이고;
R4는 H, -CF3, C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, C3-C10사이클로알킬, -C1-C6알킬-C3-C10사이클로알킬, -CHO, 할로겐, 또는 화학식 -L3-M3의 잔기로부터 선택되며;
L3은 화학식 -(CH2)n-, -S-, -O-, -C(O)-, -(CH2)n-C(O)-, -(CH2)n-C(O)-(CH2)n-, -(CH2)n-O-(CH2)n-, 또는 -(CH2)n-S-(CH2)n-의 연결 또는 가교기를 나타내고;
M3은
a) C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, C3-C10사이클로알킬, 페닐 또는 벤질의 군 (여기서 사이클로알킬, 페닐 또는 벤질 환은 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, -CN, 또는 -CF3의 군으로부터 선택되는 치환체 1 내지 3개로 임의 치환됨); 또는
b) 비제한적으로, 푸란, 피롤, 티오펜, 이미다졸, 피라졸, 피롤리딘, 또는 테트라졸을 포함하여, 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, -CN, 또는 -CF3로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 또는 O로부터 선택된 환 헤테로원자를 1개 또는 2개 함유하는 5원 헤테로사이클릭 환; 또는
c) 비제한적으로, 피리딘, 피라진, 피리미딘, 피페리딘, 피페라진, 티아진 또는 모르폴린을 포함하여, 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -CHO, -NO2, -NH2, -CN, -CF3또는 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 또는 O로부터 선택된 환 헤테로원자를 1개, 2개 또는 3개 함유하는 6원 헤테로사이클릭 환; 또는
d) 비제한적으로, 벤조푸란, 크로멘, 인돌, 이소인돌, 인돌린, 이소인돌린, 나프탈렌, 퓨린, 퀴놀린 또는 이소퀴놀린을 포함하여, 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -CHO, -NO2, -NH2, -CN, -CF3또는 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 또는 O로부터 선택된 환 헤테로원자를 1개 내지 3개 임의로 함유하는 환원자수 8 내지 10의 비사이클릭 환으로부터 선택되고;
R5는 C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, -(CH2)n-C3-C10사이클로알킬, -(CH2)n-S-(CH2)n-C3-C10사이클로알킬, -(CH2)n-O-(CH2)n-C3-C10사이클로알킬, 또는
a) -(CH2)n-페닐-O-페닐, -(CH2)n-페닐-CH2-페닐, -(CH2)n-O-페닐-CH2-페닐, -(CH2)n-페닐-(O-CH2-페닐)2, -CH2-페닐-C(O)-벤조티아졸, 또는 화학식
의 잔기(여기서 n은 0 내지 3, 바람직하게는 1 내지 3, 더욱 바람직하게는 1 내지 2이고, Y는 C3-C5사이클로알킬, 페닐, 벤질, 나프틸, 피리디닐, 퀴놀릴, 푸릴, 티에닐, 피롤릴, 벤조티아졸 및 피리미디닐로, 이들기의 환은 H, 할로겐, -CF3, -OH, -C1-C6알킬, -C1-C6알콕시, -NH2, -NO2또는 N, S, 또는 O, 바람직하게는 S 또는 O로부터 선택된 헤테로원자 1개를 함유하는 5원 헤테로사이클릭 환으로부터 선택된 치환체 1 내지 3개로 임의로 치환됨); 또는
b) 화학식 -(CH2)n-A, -(CH2)n-S-A, 또는 -(CH2)n-O-A의 잔기(여기서,
A는 화학식의 잔기로, 이때,
D는 H, C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, -CF3또는 -(CH2)n-CF3이고;
B 및 C는 각각 H, 할로겐, -CF3, -OH, -C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NH2또는 -NO2로부터 선택된 치환체 1 내지 3개, 바람직하게는 1 내지 2개로 임의로 치환되는, 페닐, 피리디닐, 피리미디닐, 푸릴, 티에닐 또는 피롤릴기로부터 독립적으로 선택됨)의 기이다.
본 발명의 다른 바람직한 군은 다음 화학식의 화합물 또는 이의 약제학적으로 허용되는 염이다:
상기 화학식에서
R1은 H, 할로겐, -CF3, -OH, -C1-C6알킬, -C1-C6알콕시, -NO2, 페닐, -O-페닐, 벤질, -O-벤질, -S-벤질 또는 화학식
의 잔기이고;
R6은 H, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, 페닐, -O-페닐, 벤질, -O-벤질로, 여기서 이들 기의 페닐 및 벤질 환은 할로겐, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NH2, -NO2, -CF3, 또는 -OH로부터 선택된 치환체 1 내지 3개로 임의로 치환되며;
R7은 -CF3, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NH-(C1-C6알킬), -N-(C1-C6알킬)2, 피리디닐, 티에닐, 푸릴, 피롤릴, 페닐, -O-페닐, 벤질, -O-벤질, 피라졸릴 및 티아졸릴로부터 선택되고, 여기서 이들 기의 환은 할로겐, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, -CF3, 또는 -OH로부터 선택된 치환체 1 내지 3개로 임의로 치환되며;
R2는 H, 할로겐, -CN, -CHO, -CF3, -OH, -C1-C10알킬, 바람직하게는 -C1-C6알킬, -C1-C10알콕시, 바람직하게는 -C1-C6알콕시, -CHO, -CN, -NO2, -NH2, -NH-C1-C6알킬, -N(C1-C6알킬)2, -N-SO2-C1-C6알킬, 또는 -SO2-C1-C6알킬로부터 선택되고;
R3은 -COOH, -C(O)-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -(CH2)n-COOH, -CH=CH-COOH, -(CH2)nC(O)NS(O)(O)(C1-C6저급 알킬), -(CH2)nC(O)NS(O)(O)(C1-C6저급 할로알킬),
로부터 선택되며;
R8은 H, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH로부터 선택되고;
R9는 H, 할로겐, -CF3, -OH, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -C1-C6알킬, -O-C1-C6알킬, -NH(C1-C6알킬), -N(C1-C6알킬)2로부터 선택되며;
R10은 H, 할로겐, -CF3, -OH, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -C1-C6알킬, -O-C1-C6알킬, -NH(C1-C6알킬), -N(C1-C6알킬)2,
로부터 선택되고;
R11은 H, C1-C6저급 알킬, -CF3, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, 또는로부터 선택되며;
n은 0 내지 3의 정수이고;
R4는 H, -CF3, C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, C3-C10사이클로알킬, -C1-C6알킬-C3-C10사이클로알킬, -CHO, 할로겐, 또는 식 -L2-M2의 잔기로부터 선택되며;
L2는 화학식 -(CH2)n-, -S-, -O-, -C(O)-, -(CH2)n-C(O)-, -(CH2)n-C(O)-(CH2)n-, -(CH2)n-O-(CH2)n-, 또는 -(CH2)n-S-(CH2)n-의 연결 또는 가교기를 나타내고;
M2는
a) C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, C3-C10사이클로알킬, 페닐 또는 벤질의 군 (여기서 사이클로알킬, 페닐 또는 벤질 환은 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, -CN, 또는 -CF3의 군으로부터 선택되는 치환체 1 내지 3개로 임의 치환됨); 또는
b) 비제한적으로, 푸란, 피롤, 티오펜, 이미다졸, 피라졸, 피롤리딘, 또는 테트라졸을 포함하여, 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, -CN, 또는 -CF3로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 또는 O로부터 선택된 환 헤테로원자를 1개 또는 2개 함유하는 5원 헤테로사이클릭 환; 또는
c) 비제한적으로, 피리딘, 피라진, 피리미딘, 피페리딘, 피페라진, 티아진 또는 모르폴린을 포함하여, 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -CHO, -NO2, -NH2, -CN, -CF3또는 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 또는 O로부터 선택된 환 헤테로원자를 1개, 2개 또는 3개 함유하는 6원 헤테로사이클릭 환; 또는
d) 비제한적으로, 벤조푸란, 크로멘, 인돌, 이소인돌, 인돌린, 이소인돌린, 나프탈렌, 퓨린, 퀴놀린 또는 이소퀴놀린을 포함하여, 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -CHO, -NO2, -NH2, -CN, -CF3또는 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 또는 O로부터 선택된 환 헤테로원자를 1개 내지 3개 임의로 함유하는 환원자수 8 내지 10의 비사이클릭 환으로부터 선택되고;
R5는 C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, -(CH2)n-C3-C10사이클로알킬 또는 -(CH2)n-A-(CH2)n-S-A, 또는 -(CH2)n-O-A로부터 선택되며, 여기서 A는
로부터 선택되고;
이때,
D는 H, C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, 또는 -CF3이고;
R12는 H, -C1-C6저급알킬, C1-C6저급알콕시, 또는 -CF3이다.
본 발명의 화합물 또는 이의 약제학적으로 허용되는 염은 다음 화학식을 갖는다:
상기 화학식에서
R1은 H, 할로겐, -CF3, -OH, -C1-C6알킬, -C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, 페닐, -O-페닐, 벤질, -O-벤질, -S-벤질 또는 화학식
의 잔기이고;
R6은 H, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, 페닐, -O-페닐, 벤질, -O-벤질로, 여기서 이들 기의 페닐 및 벤질 환은 할로겐, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, -CF3, 또는 -OH로부터 선택된 치환체 1 내지 3개로 임의로 치환되며;
R7은 -CF3, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NH-(C1-C6알킬), -N-(C1-C6알킬)2, 피리디닐, 티에닐, 푸릴, 피롤릴, 페닐, 피라졸릴, 티아졸릴, -O-페닐, 벤질, 또는 -O-벤질로부터 선택되고, 여기서 이들 기의 환은 할로겐, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, -CF3, 또는 -OH로부터 선택된 치환체 1 내지 3개로 임의로 치환되며;
R2는 H, 할로겐, -CN, -CHO, -CF3, -OH, -C1-C10알킬, 바람직하게는 -C1-C6알킬, -C1-C10알콕시, 바람직하게는 -C1-C6알콕시, -CHO, -CN, -NO2, -NH2, -NH-C1-C6알킬, -N(C1-C6알킬)2, -N-SO2-C1-C6알킬, 또는 -SO2-C1-C6알킬로부터 선택되고;
R3은 -COOH, -C(O)-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -(CH2)n-COOH, -CH=CH-COOH, -(CH2)n-테트라졸,
로부터 선택되거나 화학식 -L1-M1으로부터 선택된 잔기로, 여기서,
L1은 화학결합, -(CH2)n-, -S-, -O-, -C(O)-, -(CH2)n-C(O)-, -(CH2)n-C(O)-(CH2)n-, -(CH2)n-O-(CH2)n-, -(CH2)n-S-(CH2)n-, -C(Z)-N(R6)-, -C(Z)-N(R6)-(CH2)n-, -C(O)-C(Z)-N(R6)-, -C(O)-C(Z)-N(R6)-(CH2)n-, -C(Z)-NH-SO2-, 또는 -C(Z)-NH-SO2-(CH2)n-으로부터 선택된 가교 또는 연결 잔기이고;
M1은 -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, 테트라졸,
의 군으로부터 선택되며;
R8은 각각 독립적으로 H, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, 테트라졸,
로부터 선택되고;
R9는 H, 할로겐, -CF3, -OH, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -C1-C6알킬, -O-C1-C6알킬, -NH(C1-C6알킬), 또는 -N(C1-C6알킬)2로부터 선택되며;
R10은 H, 할로겐, -CF3, -OH, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -C1-C6알킬, -O-C1-C6알킬, -NH(C1-C6알킬), -N(C1-C6알킬)2,
로부터 선택되고;
R11은 H, C1-C6저급 알킬, C1-C6사이클로알킬, -CF3, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH,
로부터 선택되는데, 단,
R3, L1, M1, R8, R9, R10및(또는) R11의 조합에 의해 발생된 인돌 또는 인돌린 3-위치에서의 완전한 잔기는 카복실산, 테트라졸, 또는 화학식
의 잔기로부터 선택되거나 이를 함유하는 산성 잔기를 1개 이상 함유하여야하며;
n은 0 내지 3의 정수이고;
R4는 H, -CF3, C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, C3-C10사이클로알킬, -C1-C6알킬-C3-C10사이클로알킬, -CHO, 할로겐, 또는 식 -L2-M2의 잔기로부터 선택되며;
L2는 화학식 -(CH2)n-, -S-, -O-, -C(O)-, -(CH2)n-C(O)-, -(CH2)n-C(O)-(CH2)n-, -(CH2)n-O-(CH2)n-, 또는 -(CH2)n-S-(CH2)n-, C(O)C(O)X의 연결 또는 가교기를 나타내고, 이때,
X는 O 또는 N이고;
M2는
a) C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, C3-C10사이클로알킬, 페닐 또는 벤질의 군 (여기서 사이클로알킬, 페닐 또는 벤질 환은 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, -CN, 또는 -CF3의 군으로부터 선택되는 치환체 1 내지 3개로 임의 치환됨); 또는
b) 비제한적으로, 푸란, 피롤, 티오펜, 이미다졸, 피라졸, 피롤리딘, 또는 테트라졸을 포함하여, 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, -CN, 또는 -CF3로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 또는 O로부터 선택된 환 헤테로원자를 1개 또는 2개 함유하는 5원 헤테로사이클릭 환; 또는
c) 비제한적으로, 피리딘, 피라진, 피리미딘, 피페리딘, 피페라진, 티아진 또는 모르폴린을 포함하여, 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -CHO, -NO2, -NH2, -CN, -CF3또는 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 또는 O로부터 선택된 환 헤테로원자를 1개, 2개 또는 3개 함유하는 6원 헤테로사이클릭 환; 또는
d) 비제한적으로, 벤조푸란, 크로멘, 인돌, 이소인돌, 인돌린, 이소인돌린, 나프탈렌, 퓨린, 퀴놀린 또는 이소퀴놀린을 포함하여, 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -CHO, -NO2, -NH2, -CN, -CF3또는 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 또는 O로부터 선택된 환 헤테로원자를 1개 내지 3개 임의로 함유하는 환원자수 8 내지 10의 비사이클릭 환으로부터 선택되고;
R5는 -(CH2)n-S-(CH2)n-C3-C10사이클로알킬, -(CH2)n-O-(CH2)n-C3-C10사이클로알킬, 또는
a) -(CH2)n-페닐-O-페닐, -(CH2)n-페닐-CH2-페닐, -(CH2)n-O-페닐-CH2-페닐, -(CH2)n-페닐-(O-CH2-페닐)2, -CH2-페닐-C(O)-벤조티아졸, 또는 화학식:
의 잔기(여기서 n은 0 내지 3, 바람직하게는 1 내지 3, 더욱 바람직하게는 1 내지 2이고, Y는 C3-C5사이클로알킬, 페닐, 벤질, 나프틸, 피리디닐, 퀴놀릴, 푸릴, 티에닐, 피롤릴, 벤조티아졸 및 피리미디닐로, 이들기의 환은 H, 할로겐, -CF3, -OH, -C1-C6알킬, -C1-C6알콕시, -NH2, -NO2또는 N, S, 또는 O, 바람직하게는 S 또는 O로부터 선택된 헤테로원자 1개를 함유하는 5원 헤테로사이클릭 환으로부터 선택된 치환체 1 내지 3개로 임의로 치환됨); 또는
b) 화학식의 잔기(여기서, n은 0 내지 3, 바람직하게는 1 내지 3, 더욱 바람직하게는 1 내지 2로부터의 정수이고, Y는 나프틸, 피리딜, 퀴놀릴, 푸릴, 티에닐, 피롤릴, 벤조티아졸 또는 피리미디닐로, 이들기의 환은 H, 할로겐, -CF3, -OH, -C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NH2, -NO2또는 N, S, 또는 O, 바람직하게는 S 또는 O로부터 선택된 헤테로원자 1개를 함유하는 5원 헤테로사이클릭 환으로부터 선택된 치환체 1 내지 3개로 임의로 치환됨); 또는
c) 화학식 -(CH2)n-A, -(CH2)n-S-A, 또는 -(CH2)n-O-A (여기서, A는의 잔기로, 이때,
D는 H, C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, -CF3또는 -(CH2)n-CF3이고;
B 및 C는 각각 H, 할로겐, -CF3, -OH, -C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NH2또는 -NO2로부터 선택된 치환체 1 내지 3개, 바람직하게는 1 내지 2개로 임의로 치환되는, 페닐, 피리디닐, 피리미디닐, 푸릴, 티에닐 또는 피롤릴기로부터 독립적으로 선택됨)의 기이다.
상기 화합물내의 더욱 바람직한 군에서, R1은 벤질옥시이고 R4, R3및 R5는 상기 정의된 바와 같다.
본 발명에서 다른 바람직한 군은 다음 화학식의 화합물 또는 이의 약제학적으로 허용되는 염이다:
상기 화학식에서
R1은 H, 할로겐, -CF3, -OH, -C1-C6알킬, -C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, 페닐, -O-페닐, 벤질, -O-벤질, -S-벤질 또는 화학식
의 잔기이고;
R6은 H, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, 페닐, -O-페닐, 벤질, -O-벤질로, 여기서 이들 기의 페닐 및 벤질 환은 할로겐, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, -CF3, 또는 -OH로부터 선택된 치환체 1 내지 3개로 임의로 치환되며;
R7은 -CF3, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NH-(C1-C6알킬), -N-(C1-C6알킬)2, 피리디닐, 티에닐, 푸릴, 피롤릴, 페닐, -O-페닐, 벤질, -O-벤질, 피라졸릴 또는 티아졸릴로부터 선택되고, 여기서 이들 기의 환은 할로겐, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, -CF3, 또는 -OH로부터 선택된 치환체 1 내지 3개로 임의로 치환되며;
R3은 -COOH, -C(O)-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -(CH2)n-COOH, -CH=CH-COOH, -(CH2)nC(O)NS(O)(O)(C1-C6저급 알킬), -(CH2)nC(O)NS(O)(O)(C1-C6저급 할로알킬),
로부터 선택되고;
R8및 R9는 각각 독립적으로 H, 할로겐, -CF3, -OH, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -C1-C6알킬, -O-C1-C6알킬, -NH(C1-C6알킬), 또는 -N(C1-C6알킬)2로부터 선택되며;
R10은 H, 할로겐, -CF3, -OH, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -C1-C6알킬, -O-C1-C6알킬, -NH(C1-C6알킬), -N(C1-C6알킬)2,
로부터 선택되고;
R11은 H, C1-C6저급 알킬, -CF3, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, 또는로부터 선택되며;
n은 0 내지 3으로부터의 정수이고;
R4는 H, -CF3, C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시 또는 할로겐으로부터 선택되며;
R5는 C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, -(CH2)n-C3-C10사이클로알킬, 또는
a) -C(O)-O-(CH2)n-C3-C5사이클로알킬, -(CH2)n-페닐, -(CH2)n-S-페닐, -(CH2)n-페닐-O-페닐, -(CH2)n-페닐-CH2-페닐, -(CH2)n-O-페닐-CH2-페닐, -(CH2)n-페닐-(O-CH2-페닐)2, -C(O)-O-페닐, -C(O)-O-벤질, -C(O)-O-피리딜, -C(O)-O-나프틸, -(CH2)n-S-나프틸, -(CH2)n-S-피리딜, -(CH2)n-S-피리디닐 또는 -(CH2)n-나프틸 (여기서 이들 기의 페닐, 피리디닐 및 나프틸 환은 H, 할로겐, -CF3, -OH, -C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NH2, 또는 -NO2로부터 선택된 치환체 1 내지 3개로 임의로 치환됨); 또는
b) 화학식 -(CH2)n-A, -(CH2)n-S-A, 또는 -(CH2)n-O-A 의 잔기 (여기서, A는의 잔기로, 이때,
D는 H, C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시 또는 -CF3이고;
B 및 C는 각각 H, 할로겐, -CF3, -OH, -C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NH2또는 -NO2로부터 선택된 치환체 1 내지 3개, 바람직하게는 1 내지 2개로 임의로 치환되는, 페닐, 피리디닐, 푸릴, 티에닐 또는 피롤릴기로부터 독립적으로 선택됨)의 군으로부터 선택된다.
본 명세서에서 사용되는 바와 같은 용어 "아릴" 및 "치환된 아릴"은 모노사이클릭, 특히 5- 및 6원 모노사이클릭, 방향족 및 헤테로방향족 환 잔기 및 비사이클릭 방향족 및 헤테로방향족 환 잔지, 특히 환 원자수가 9 내지 10인 것들을 포함하는 것으로 이해된다. 이들중에서 아릴기는 페녹시, 벤질, 벤질옥시, 비페닐 및 기타 상기와 같은 잔기에서 발견되는 것들을 포함한, 페닐 환인 것으로 이해된다. 본 발명의 아릴 및 헤테로아릴기는 또한 다음을 포함한다:
a) 비제한적으로, 푸란, 피롤, 티오펜, 이미다졸, 피라졸, 이소티아졸, 이속사졸, 피롤리딘, 피롤린, 이미다졸리딘, 피라졸리딘, 피라졸, 피라졸린, 이미다졸, 테트라졸, 또는 옥사티아졸을 포함하여, N, S 또는 O로부터 선택된 환 헤테로원자 1 또는 2개를 함유하는 5원 헤테로사이클릭 환; 또는
b) 비제한적으로, 피란, 피리딘, 피라진, 피리미딘, 피리다진, 피페리딘, 피페라진, 테트라진, 티아진, 옥사진, 또는 모르폴린을 포함하여, N, S 또는 O로부터 선택된 환 헤테로원자를 1, 2 또는 3개 함유하는 6원 헤테로사이클릭 환; 또는
c) 비제한적으로, 벤조푸란, 크로멘, 인돌, 이소인돌, 인돌린, 이소인돌린, 나프탈렌, 퓨린, 인돌리진, 인다졸, 퀴놀린, 이소퀴놀린, 퀴놀리진, 퀴나졸린, 신놀린, 프탈라진, 또는 나프티리딘을 포함하여, N, S 또는 O로부터 선택된 환 헤테로원자 1 내지 3개를 임의로 함유하는 비사이클릭 환 잔기.
본 발명의 "치환된 아릴"기는 할로겐, C1-C10알킬, 바람직하게는 C1-C6알킬, C1-C10알콕시, 바람직하게는 C1-C6알콕시, -CHO, -COOH 또는 이의 에스테르, -NO2, -NH2, -CN, -CF3, 또는 -OH 또는 -CH2CF3, -NH(CH3) 등과 같은 이들의 조합으로부터 선택된 치환된 1 내지 3개로 임의로 치환되는 상기와 같은 잔기를 포함한다.
상기한 바와 같이 임의로 치환된, 이들 기의 바람직한 서브셋으로는 벤젠, 피리딘, 나프틸렌 또는 퀴놀린 환으로부터 형성된 잔기가 있다. 추가의 바람직한 기로는 푸란, 피롤, 티오펜, 피리미딘, 및 모르폴린 환의 것들이 있다. 비사이클릭 방향족 기의 바람직한 군은 벤조푸란, 인돌, 나프탈렌, 및 퀴놀린 환이다.
본 명세서에서 언급되는 알킬, 알케닐 및 알키닐 기는 탄소수 1 내지 10, 바람직하게는 1 내지 6의 상기와 같은 기들을 나타내는 것이며, 직쇄, 측쇄 또는 사이클릭일 수 있다. 달리 표시되지 않는 한, 이들기는 직쇄 또는 측쇄인 것이 바람직하다. 여기서 할로겐은 F, Cl, Br 및 I를 포함하는 것으로 이해된다.
본 명세서에서 사용되는 바와 같은, "포스포리파제 효소 활성"은 인지질의 대사에 대한 검정 (바람직하게는 하기 실시예 116에 기재된 검정법중 하나)에 있어서 포지티브 활성을 의미한다. 화합물이 효소 활성에 대한 유용한 검정법 (바람직하게는 하기 실시예 116 또는 실시예 117에 기재된 검정법)에서 포스포리파제 (바람직하게는 cPLA2)의 활성을 억제할 경우 화합물이 "포스포리파제 효소 억제 활성"을 갖는다. 바람직한 양태로, 화합물은 (1) LysoPC 검정법에서 IC50수치가 약 25 μM 미만, 바람직하게는 약 6 μM 미만이고; (2) 소낭 검정법에서 IC50수치가 약 50 μM 미만이며; (3) PMN 검정법에서 IC50수치가 약 1 μM 미만이고; (4) 쿠오마린 검정법에서 IC50수치가 약 15 μM 미만이며; (5) 래트 카라지난-유발된 발패드 부종 시험에서 측정가능한 활성 (바람직하게는 부종을 약 5% 이상, 더욱 바람직하게는 약 10% 이상, 더욱더 바람직하게는 약 15% 이상, 가장 바람직하게는 20 내지 30% 감소)을 갖는다.
본 발명의 화합물은 포스포리파제 효소 (바람직하게는 cPLA2) 활성을 억제하는데 유용하며, 따라서, 염증성 또는 염증-관련 반응 또는 질환 (예, 류마티스성 관절염, 건선, 천신, 염증성 장질환, 및 프로스타글란딘, 류코트리엔 또는 PAF에 의해 매개되는 기타 질환) 및 골다공증, 대장염, 골수성 백혈병, 당뇨병, 요통 및 아테롬성 동맥경화증과 같은 기타 질환의 "처리" (즉, 치료, 예방 또는 완화)하는데 유용하다.
본 발명은 본 발명의 화합물을 이용하는 약제학적 조성물 및 치료적 처리법 또는 용도를 포함한다.
본 발명의 화합물은 약제학적으로 허용되는 담체와 배합시 약제학적 조성물로 사용될 수 있다. 상기와 같은 조성물은 또한 (본 발명의 화합물 또는 화합물들 및 담체 외에) 희석제, 충전재, 염, 완충제, 안정화제, 가용화제, 및 당해 분야에 숙지된 기타 물질을 함유할 수 있다. 용어 "약제학적으로 허용되는"은 활성 성분(들)의 생물학적 활성의 효과를 훼손하지않는 비-독성 물질을 의미한다. 담체의 특성은 투여 경로에 따른다. 약제학적 조성물은 또한 다음 소염제를 함유할 수 있다. 상기와 같은 추가의 인자 및(또는) 약제가 약제학적 조성물중에 포함되어 본 발명의 화합물과 상승 효과를 생성시키거나, 본 발명의 화합물에 의해 야기되는 부작용을 최소화시킬 수 있다.
본 발명의 약제학적 조성물은 본 발명의 화합물이, 다른 약제학적으로 허용되는 담체외에, 소낭, 불용성 단층 액정 또는 수용액중 라멜라층과 같은 응집된 형태로 존재하는 액체와 같은 친유성 제제와 배합된 리포좀의 형태일 수 있다. 리포좀 제형화용으로 적합한 지질로는, 비제한적으로, 모노글리세라이드, 디글리세라이드, 술파이드, 라이소레시틴, 인지질, 사포닌, 담즙산 등이 있다. 상기와 같은 리포좀 제형의 제조 방법은 예를들어, 미국 특허 제4,235,871호; 미국 특허 제4,501,728호; 미국 특허 제4,837,028호; 및 미국 특허 제4,737,323호 (이들은 모두 본 명세서에서 참고로 인용됨)에 기재된 바와 같이, 당해 분야의 기술 범위내에 있다.
본 명세서에서 사용되는 바와 같은 용어 "치료학적으로 유효한 양"은 의미있는 환자 이익, 즉, 염증성 반응 또는 질환의 처치, 치유, 예방 또는 완화, 또는 상기와 같은 질환의 처치, 치유, 예방 또는 완화 속도의 증가를 나타내는데 충분한 약제학적 조성물 또는 방법의 각 활성 성분의 총량을 의미한다. 단독으로 투여되는, 각각의 활성 성분에 적용시, 상기 용어는 단독의 성분만을 언급한다. 조성물에 적용시, 상기 용어는 함께 연속해서 또는 동시에 투여하는 것과는 상관없이, 치료 효과를 발생시키는 호라성 성분의 혼합 양을 언급한다.
본 발명의 치료 또는 사용 방법의 실행에 있어서, 본 발명의 치료적으로 유효한 양의 화합물을 치료할 질환을 갖는 포유동물에게 투여한다. 본 발명의 화합물은 본 발명의 방법에 따라서 단독으로 또는 다른 소염제, 사이토킨, 림포킨 또는 기타 지혈 인자와 함께 투여할 수 있다. 1종 이상의 다른 소염제, 사이토킨, 림포킨 또는 기타 조혈 인자와 함께 투여시, 본 발명의 화합물은 다은 소염제(들), 사이토킨(들), 림포킨(들), 기타 조혈 인자(들), 혈전용해 또는 항-혈전 인자와 동시에, 또는 연속해서 투여할 수 있다. 연속해서 투여하는 경우, 담당의들은 다른 소염제(들), 사이토킨(들), 림포킨(들), 기타 조혈인자(들), 혈전용해 또는 항-혈전 인자와 함께 본 발명의 화합물의 적절한 투여 순서를 결정할 것이다.
본 발명의 약제학적 조성물 또는 방법을 실행하기위하여 사용되는 본 발명의 화합물의 투여는 다양한 통상의 방법, 예를들어, 경구 섭취, 흡입, 또는 피부, 피하, 또는 정맥내 주사와 같은 방법으로 수행할 수 있다.
본 발명의 화합물의 치료학적 유효량을 경구적으로 투여시, 본 발명의 화합물은 정제, 캡슐제, 산제, 액제 또는 엘릭서의 형태일 수 있다. 정제 형으로 투여시, 본 발명의 약제학적 조성물은 추가로 젤라틴 또는 애주번트와 같은 고체 담체를 함유할 수 있다. 정제, 캡슐제, 및 산제는 본 발명의 화합물을 약 5 내지 95%, 바람직하게는 약 25 내지 90% 함유한다. 액체 형태로 투여시, 물, 페트롤륨, 동물 또는 식물 기원 오일 (예, 땅콩유, 광유, 대두유, 또는 참깨유), 또는 합성 오일과 같은 액체 담체를 첨가할 수 있다. 액체 형태의 약제학적 조성물은 또한 생리 식염수, 덱스트로오스 또는 기타 사카라이드 용액, 또는 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜 또는 폴리에틸렌 글리콜과 같은 글리콜을 함유할 수 있다. 액체 형태로 투여시, 약제학적 조성물은 본 발명의 화합물을 약 0.5 내지 90중량%, 바람직하게는 약 1 내지 50중량% 함유한다.
치료학적으로 유효한 양의 본 발명의 화합물을 정맥, 피부 또는 피하 주하로 투여할 경우, 본 발명의 화합물은 피로겐-유리, 비경구적으로 허용되는 수용액의 형태일 수 있다. pH에 대하여, 등장성, 안정성 등을 갖는, 상기와 같은 비경구적으로 허용되는 단백질 용액 제제는 당해 분야의 기술 범위내에 있다. 정맥, 피부, 또는 피하 주사용으로 바람직한 조성물은 본 발명의 화합물외에, 염화나트륨 주사액, 링거 주사액, 덱스트로오스 주사액, 덱스트로오스 및 염화나트륨 주사액, 락테이트화 링거 주사액과 같은 등장성 비히클, 또는 당해 분야에 공지된 바와 같은 기타 비히클을 함유하여야 한다. 본 발명의 약제학적 조성물은 또한 안정화제, 방부제, 완충제, 산화방지제, 또는 당해 분야의 숙련가에게 공지된 기타 첨가제를 함유할 수 있다.
본 발명의 약제학적 조성물중 본 발명의 화합물(들)의 양은 치료할 질병의 특성 및 중증도, 및 치료를 행한 환자의 치료전 특성에 따른다. 궁극적으로, 담당의는 각 환자를 치료할 본 발명의 화합물의 양을 결정할 것이다. 초기에, 담당의는 본 발명의 화합물을 낮은 투여량으로 투여하고 환자의 반응을 관찰할 것이다. 최적 치료 효과가 환자에 대해 수득될 때까지 더 많은 투여량의 본 발명의 화합물을 투여할 수 있으며, 이때의 투여량은 추가로 증가하지 않는다. 본 발명의 방법을 실행하는데 사용되는 여러가지 약제학적 조성물은 체중 ㎏ 당 본 발명의 화합물을 약 0.1㎍ 내지 약 100㎎ (바람직하게는 약 1㎎ 내지 약 50㎎, 더욱 바람직하게는 약 1㎎ 내지 약 2㎎) 함유하여야하는 점이 고려되어야 한다.
본 발명의 약제학적 조성물을 사용하는 정맥 요법의 지속기간은 치료할 질병의 심화도 및 각 환자의 잠재적 특이체질적 반응에 따라 변화된다. 본 발명의 화합물의 매 적용 지속기간이 12 내지 24시간의 연속 정맥 투여의 범위내에 있어야 함이 고려되어야 한다. 궁극적으로 담당의가 본 발명의 약제학적 조성물을 사용하는 정맥 요법의 적절한 지속기간을 결정할 것이다.
본 발명의 화합물은 하기 기재되는 방법 및 실시예에 따라서 제조될 수 있다. 본 발명의 바람직한 화합물의 합성이 하기 실시예에 기재된다.
방법 A
인돌을 c-3 위치에서 적절한 알킬 브로마이드로 알킬화시키고 디옥산 또는 THF와 같은 용매중 산화은(I) 또는 사불화붕소화은과 같은 루이스산으로 50 내지 100 ℃의 승온에서 처리한다. 별법으로 THF 또는 에테르와 같은 용매중 n-BuLi로 인돌을 처리한 다음 ZnCl2로 처리한 다음 농축시키고 THF, 에테르, 톨루엔 또는 벤젠과 같은 여러가지 용매중 적절한 알킬화제로 처리함으로써 2단계 공정으로 알킬화시킬 수 있다. 이어서 인돌 질소를 나트륨 비스(트리메틸실릴)아미드, n-BuLi, 수소화나트륨 또는 수소화칼륨과 같은 강염기로 DMF, DMSO 또는 THF와 같은 용매중에서 처리한 다음 적절한 알킬 할라이드에 노출시킴으로써 알킬화시킬 수 있다. 에스테르를 염기성 조건하에서 물 및 메탄올 및 THF중 수산화나트륨으로 가수분해시킬 수 있다. 별법으로, THF 또는 DMF와 같은 용매중에 승온 (50 내지 100 ℃)에서 나트륨 티오메톡사이드로 처리함으로써 분해시킬 수 있다. 상기 생성물 산을 트리에틸 아민 및(또는) N,N-디메틸 피리딘과 같은 염기의 존재하 THF, 메틸렌 클로라이드, 디클로로에탄 또는 DMF와 같은 용매중에서 DCC, EDCl 또는 카보닐 디이미다졸과 같은 여러가지 커플링제를 사용하여 술폰아미드에 커플링시킬 수 있다. 생성된 아민은 트리에틸아민, 중탄산나트륨 또는 피리딘과 같은 염기의 존재하에 메틸렌 클로라이드:물 (1:1) 또는 THF:물 (1:1)과 같은 2상 용매 시스템 또는 트리에틸아민과 메틸렌 클로라이드, THF, 또는 DMF와 같은 단일상 유기 용매중에서 적절한 제제에 노출시킴으로써 아실화 또는 술포닐화시킬 수 있다. 이후 생성된 산을 가수분해시키고 상기한 바와 같이 개질시킬 수 있다. 또한 R1=Br인 경우, 티오메톡사이드, 메톡사이드 또는 술핀산과 같은 목적하는 친핵체의 구리염으로 대체시킬 수 있다.
방법 B
인돌글리옥살릴 클로라이드를 목적하는 아미노 에스테르와 메틸렌 클로라이드 및 포화 중탄산나트륨의 2상 시스템 또는 메틸렌 클로라이드, 에틸 아세테이트 또는 THF와 같은 용매 및 트리에틸아민, 휴니그 염기 또는 피리딘의 단일상 시스템중에서 반응시킬 수 있다. 이어서 인돌 질소를 DMF, DMSO 또는 THF와 같은 용매 및 수소화나트륨, n-BuLi 또는 칼륨 비스(트리메틸실릴)아미드와 같은 염기중에서 여러가지 알킬화제로 알킬화시킬 수 있다. 이어서 에스테르를 물:메탄올:THF와 같은 용매 시스템중에서 수산화나트륨 또는 수산화리튬으로 가수분해시킬 수 있다.
방법 C
3-카복시인돌을 환원성 아미노화에 통과시킨 다음 알데히드를 아세트산과 함께 또는 없이 메틸렌 클로라이드 또는 디클로로메탄과 같은 용매중에서 아미노 에스테르와 축합시킨다. 생성된 이민을 붕수소화나트륨, 나트륨 시아노붕수소화물 또는 나트륨 트리아세톡시붕수소화물과 같은 환원제로 동일계 환원시킨다. 이어서 생성된 에스테르를 수산화나트륨 또는 수산화리튬으로 물:메탄올:THF와 같은 용매 시스템중에서 가수분해시켜 산을 제조한다.
방법 D
5-벤질옥시인돌을 메틸 또는 에틸 그리나드와 같은 염기로 치러하고 3-위치에서 에틸옥시클로라이드로 에테르 또는 THF와 같은 적합한 용매중에서 아실화시킬 수 있다. 이어서 인돌 질소를 THF 또는 DMF와 같은 용매중에서 수소화나트륨 또는 n-부틸리튬과 같은 염기의 작용에 의해 벤질브로마이드로 알킬화시킬 수 있다. 이후 에스테르를 염기성 조건하에서 물:MeOH:THF와 같은 적합한 용매 시스템중에서 수산화나트륨 또는 테트라부틸암모늄 수산화물로 가수분해시킨다. 이후 메틸렌클로라이드, THF 또는 DMF와 같은 용매중에서 DCC 또는 EDCl과 같은 커플링제를 사용하여 적절한 아미노에스테르의 커플링화를 수행할 수 있다. 상기 에스테르를 상기한 바와 동일한 조건하에서 가수분해시킴으로써 표적이 되는 산이 생성된다.
방법 E
인돌 3-아세트산을 적절한 알킬 브로마이드로 알킬화시킨 다음 이를 혼합 용매 (에탄올-벤젠-물)중 승온에서 촉매로서 Pd(PPh3)4를 사용하여 스즈키 커플링 조건하에 적용시켜 1-알킬-5-치환된 인돌을 수득한다.
방법 F
I의 질소 원자를 수소화나트륨 또는 탄산칼륨과 같은 적합한 염기 및 알킬 할라이드로 알킬화시켜 알데히드 II를 수득한다. 알데히드는 피페리딘과 같은 염기를 사용하여 티아졸리딘디온 III으로 전환시키고 아세트산과 같은 산을 사용하여 단리시킬 수 있다. 수소화나트륨과 같은 적합한 염기로 탈양자화시키고 티아졸리딘디온의 질소 원자상에서 알킬 또는 벤질 할라이드와 같은 선택된 친전자체로 알킬화시켜 IV와 같은 화합물을 수득한다.
방법 G
니트로-인돌 I을 호너-위티그(Horner-Wittig) 반응을 통하여 테트라하이드로푸란과 같은 적합한 용매중에서 트리메톡시포스폰아세테이트를 사용하여 불포화 에스테르로 전환시킨다. II의 니트로기의 환원은 수소의 존재하에 탄소상 팔라듐을 사용한 수소화반응을 통하여 수행할 수 있으며 생성된 아민의 쇼텐-바우만(Schotten-Bowmann) 조건하에서의 아실화로 III과 같은 아미드를 수득할 수 있다. 에스테르 작용기의 비누화로 산-인돌 IV를 수득한다.
방법 H
5-클로로-2-메틸인돌은 3-위치에서 적합한 알데히드를 사용하여 트리플루오로아세트산과 같은 산 및 트리에틸실란과 같은 환원제의 존재하에 메틸렌 클로라이드와 같은 적합한 용매중에서 환원적으로 알킬화시켜 에스테르 II를 수득할 수 있다. 질소 원자는 수소화나트륨 및디페닐 브로모 메탄과 같은 적합한 염기로 처리함으로써 알킬화시킬 수 있고 생성된 화합물을 비누화시켜 IV를 수득할 수 있다.
방법 I
출발 인돌은 DMF/POCl3의 반응 또는 인돌의 마그네슘염과 메틸 옥살릴 클로라이드의 반응에 의해 C3 작용화시킨다. 생성된 에스테르 및 알데히드는 인돌을 강염기로 처리함으로써 생성된 인돌의 염을 여러가지 알킬 할라이드로 처리함으로써 N 알킬화시킨다. 알데히드의 경우, r'가 니트로기일 때, 니트로기는 Pt/C 및 H2 또는 구리 아세테이트/붕수소화나트륨을 사용하여 아민으로 환원시킨 다음 여러가지 산 클로라이드, 이소시아네이트, 클로로포르메이트를 사용하여 아실화시키거나 알데히드 및 나트륨 트리아세톡시붕수소화물을 사용하여 환원적으로 알킬화시킨다. 이들 알데히드는 목적하는 산으로 산화시키고 이는 EDCl 커플링법 또는 먼저 옥살릴 클로라이드의 작용하에서 산 클로라이드로 전환시키고 이를 아미노 알킬 또는 아릴 에스테르와 반응시킴으로써 아미노 알킬 또는 아릴 에스테르에 커플링시킬 수 있다. 이들을 가수분해시켜 최종 생성물을 수득한다. 상기 생성된 에스테르는 유사한 방식으로 처리할 수 있다. 에스테르를 가수분해시킨 다음 EDCl 커플링법 또는 먼저 산을 옥살릴 클로라이드의 작용하에서 산 클로라이드로 전환시킨 다음 이를 아미노 알킬 또는 아릴 에스테르와 반응시킴으로써 아미노 알킬 또는 아릴 에스테르에 커플링시킬 수 있다. 이들을 가수분해시켜 최종 생성물을 수득한다.
방법 J
출발 아민을 피리딘의 존재하에서 여러가지 술포닐 클로라이드로 처리한 다음 과량의 술포닐 클로라이드를 중합체 결합 아민을 첨가함으로써 제거한다. 이어서 목적하는 생성물을 THF/MeOH중에서 수산화나트륨을 사용하여 가수분해시키고 IR-120 수지를 사용하여 반응을 도와 목적하는 생성물을 수득한다.
방법 K
출발 인돌을 수소화나트륨과 같은 강염기를 가한 다음 알킬 또는 아릴 할라이드와 같을 알킬화제를 가하여 비스 알킬화시킨 다음 이어서 생성된 에스테르를 수산화나트륨으로 THF/MeOH중에서 가수분해시킨다. 이어서 산을 알킬 또는 아릴 아미노 에스테르에 커플링시킨 다음 가수분해시켜 목적하는 산을 수득한다.
실시예 1
4-[(5-{[(사이클로펜틸옥시)카보닐]아미노}-1-프로필-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조산
단계 1
알루미늄 호일로 감싼 반응 용기중의 디옥산 (128㎖)중 5-니트로 인돌 (21.24g, 131밀리몰)의 용액에 산화은 (I) (30.34g, 131밀리몰, 1.5당량) 및 메틸 4-(브로모메틸)-3-메톡시-벤조에이트 (34g, 131밀리몰)을 가하고 혼합물을 60 ℃가 되도록하여 20시간 동안 교반시킨다. 반응물을 냉각시키고, 셀라이트를 통하여 여과한 다음, 에틸 아세테이트 (500㎖)에 용해시켜 염수 (2 x 50㎖)로 세척하고, 건조 (MgSO4)시켜 여과한다. 조 물질을 실리카 크로마토그라피 (15% 에틸 아세테이트/헥산)로 정제하여 목적하는 생성물 (5.8g, 55%)을 수득한다.
단계 2
C3-알킬화된 인돌 (1.5g, 4.4밀리몰)을 THF 15㎖와 용해시킨다. 별도의 플라스크에, NaH (185g, 4.61밀리몰)를 THF 25㎖와 함께 0 ℃에서 현탁시킨다. 출발 물질의 용액을 NaH 현탁액중으로 캐뉼레이팅화시켜, 심적색 용액을 수득한다. 이를 실온에서 10분간 교반시킨다. 1-요오도프로판을 가하고 (0.47㎖, 1.1밀리몰) 실온에서 밤새 반응을 진행시킨다. 반응이 완결되지 않았을 때 (TLC) 추가의 1-요오도프로판 0.5㎖를 가하고 반응을 다시 3시간 진행시킨다. TLC에서는 변화가 없으며 반응물을 냉 1N HCl에 붓고 CH2Cl2(3x75㎖)로 추출한다. 유기층을 합하여 MgSO4상에서 건조시키고, 여과하여 증발시켜 조 N-알킬화된 니트로인돌을 수득한다. 상기 조 물질을 실리카상에 흡착시키고 실리카겔 컬럼상에 부하한다. 상기 컬럼을 100% CH2Cl2로 용출시켜 순수한 황색 N-알킬화된 니트로인돌 (0.96g, 57%)을 수득한다.
단계 3
상기 N-알킬화된 니트로인돌 (0.95g)을 무수 THF 40㎖에 용해시킨다. 상기 시스템을 아르곤으로 퍼징시킨다. 등명한 황색 용액에, Pt/C (0.462g)을 가한다. 배기시켜 아르곤을 제거하고 상기 시스템으로 수소를 도입시킨다. 반응물을 6.5 시간 동안 교반시킨다. 수소를 배기시키고 아르곤을 상기 시스템중으로 퍼징시킨다. 반응 혼합물을 셀라이트를 통하여 THF로 여과한다. 용매를 회전 증발시켜 제거하여 담색 오일로서 조 아민을 수득한다. 크로마토그라피 (5% 에틸 아세테이트/CH2Cl2)하여 목적하는 생성물 (0.7g, 80%)을 수득한다.
단계 4
상기로부터의 아민 (0.7g)을 CH2Cl240㎖에 용해시킨다. 4-메틸모르폴린 (0.3㎖, 3.0밀리몰) 및 사이클로펜틸 클로로포르메이트 (383㎎, 2.57밀리몰)을 가하여 황색/오렌지색 용액을 수득한다. 실온에서 3시간 동안 반응을 진행시킨다. 반응 혼합물을 1N HCl로 산성화시키고 혼합물을 CH2Cl250㎖로 추출한다. 유기상을 합하여 염수로 세척하고, MgSO4상에서 건조시켜, 여과하고 농축시켜 조 카바메이트를 수득한다. 조 생성물을 실리카겔상에 흡착시키고 실리카겔 컬럼상에 부하한다. 상기 컬럼을 100% CH2Cl2로 용출시켜 황색 포움으로서 목적하는 생성물 (0.87g, 39%)을 수득한다.
단계 5
상기 카바메이트 (0.831g)를 가수분해 용액 (2:1:1 THF:MeOH:2N NaOH)에 용해시키고 반응을 5.25 시간 동안 진행시킨다. 반응물을 2N HCl로 pH 2로 산성화시키고 CH2Cl2로 추출한다. 유기층을 물 및 염수로 세척한다. 유기층을 합하여 MgSO4상에서 건조시키고, 여과하여 증발시켜 조 산을 수득하고, 이를 CH2Cl2로부터 재결정화하여 분홍색 결정으로서 표제 화합물 (0.575g, 71%)을 수득한다.
MS: m/z (M-1)449
실시예 2
사이클로펜틸 N-{3-[2-메톡시-4-({[2-메틸페닐)술포닐]아미노}카보닐)-벤질]-1-프로필-1H-인돌-5-일}카바메이트
단계 1
중간체 5-니트로 인돌을 실시예 1, 단계 2에서와 같이 적합한 알킬화제를 사용하여 제조한다.
단계 2
중간체 5-아미노 인돌을 실시예 1, 단계 3에서와 같이 상기 중간체를 사용하여 제조한다.
단계 3
중간체 카바메이트를 실시예 1, 단계 4에서와 같이, 적절한 아실화제를 사용하여 제조한다.
단계 4
표제 화합물을 실시예 1, 단계 5에서와 같이 상기 중간체를 사용하여 제조한다.
실시예 3
4-[(1-벤즈히드릴-5-{[(사이클로펜틸옥시)카보닐]아미노}-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조산
단계 1
중간체 5-니트로 인돌을 실시예 1, 단계 2에서와 같이 적합한 알킬화제를 사용하여 제조한다.
단계 2
중간체 5-아미노 인돌을 실시예 1, 단계 3에서와 같이 상기 중간체를 사용하여 제조한다.
단계 3
중간체 카바메이트를 실시예 1, 단계 4에서와 같이, 적절한 아실화제를 사용하여 제조한다.
단계 4
표제 화합물을 실시예 1, 단계 5에서와 같이 상기 중간체를 사용하여 제조한다.
실시예 4
4-{[5-{[(사이클로펜틸옥시)카보닐]아미노}-1-(2-나프틸메틸)-1H-인돌-3-일]메틸}-3-메톡시벤조산
단계 1
중간체 5-니트로 인돌을 실시예 1, 단계 2에서와 같이 적합한 알킬화제를 사용하여 제조한다.
단계 2
중간체 5-아미노 인돌을 실시예 1, 단계 3에서와 같이 상기 중간체를 사용하여 제조한다.
단계 3
중간체 카바메이트를 실시예 1, 단계 4에서와 같이, 적절한 아실화제를 사용하여 제조한다.
단계 4
표제 화합물을 실시예 1, 단계 5에서와 같이 상기 중간체를 사용하여 제조한다.
MS: m/z (M-1) 547
실시예 5
4-{[5-{[(사이클로펜틸옥시)카보닐]아미노}-1-(사이클로프로필메틸)-1H-인돌-3-일]메틸}-3-메톡시벤조산
단계 1
중간체 5-니트로 인돌을 실시예 1, 단계 2에서와 같이 적합한 알킬화제를 사용하여 제조한다.
단계 2
중간체 5-아미노 인돌을 실시예 1, 단계 3에서와 같이 상기 중간체를 사용하여 제조한다.
단계 3
중간체 카바메이트를 실시예 1, 단계 4에서와 같이, 적절한 아실화제를 사용하여 제조한다.
단계 4
표제 화합물을 실시예 1, 단계 5에서와 같이 상기 중간체를 사용하여 제조한다.
MS: m/z (M-1) 461
실시예 6
4-{[5-{[(사이클로펜틸옥시)카보닐]아미노}-1-(4-피리디닐메틸)-1H-인돌-3-일]메틸}-3-메톡시벤조산
단계 1
중간체 5-니트로 인돌을 실시예 1, 단계 2에서와 같이 적합한 알킬화제를 사용하여 제조한다.
단계 2
중간체 5-아미노 인돌을 실시예 1, 단계 3에서와 같이 상기 중간체를 사용하여 제조한다.
단계 3
중간체 카바메이트를 실시예 1, 단계 4에서와 같이, 적절한 아실화제를 사용하여 제조한다.
단계 4
표제 화합물을 실시예 1, 단계 5에서와 같이 상기 중간체를 사용하여 제조한다.
실시예 7
4-[5-{[(사이클로펜틸옥시)카보닐]아미노}-1-이소프로필-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조산
단계 1
중간체 5-니트로 인돌을 실시예 1, 단계 2에서와 같이 적합한 알킬화제를 사용하여 제조한다.
단계 2
중간체 5-아미노 인돌을 실시예 1, 단계 3에서와 같이 상기 중간체를 사용하여 제조한다.
단계 3
중간체 카바메이트를 실시예 1, 단계 4에서와 같이, 적절한 아실화제를 사용하여 제조한다.
단계 4
표제 화합물을 실시예 1, 단계 5에서와 같이 상기 중간체를 사용하여 제조한다.
MS: m/z (M-1) 449
실시예 8
4-[(1-사이클로펜틸-5-{[(사이클로펜틸옥시)카보닐]아미노}-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조산
단계 1
중간체 5-니트로 인돌을 실시예 1, 단계 2에서와 같이 적합한 알킬화제를 사용하여 제조한다.
단계 2
중간체 5-아미노 인돌을 실시예 1, 단계 3에서와 같이 상기 중간체를 사용하여 제조한다.
단계 3
중간체 카바메이트를 실시예 1, 단계 4에서와 같이, 적절한 아실화제를 사용하여 제조한다.
단계 4
표제 화합물을 실시예 1, 단계 5에서와 같이 상기 중간체를 사용하여 제조한다.
MS: m/z (M-1) 475
실시예 9
4-[(1-벤즈히드릴-5-{[(부틸아미노)카보닐]아미노}-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조산
중간체 5-니트로 인돌을 실시예 1, 단계2에서와 같이 적합한 알킬화제를 사용하여 제조하고 중간체 5-아미노 인돌을 실시예 1, 단계 3에서와 같이 5-니트로 인돌 중간체를 사용하여 제조한다. 중간체 우레아는 실시예 1, 단계 4에서와 같이 적합한 아실화제를 사용하여 제조한다. 표제 화합물은 실시예 1, 단계 5에서와 같이 상기 우레아 중간체를 사용하여 제조한다.
MS: m/z (M-1) 560
실시예 10
4-({1-벤즈히드릴-5-[(메틸술포닐)아미노]-1H-인돌-3-일}메틸)-3-메톡시벤조산
중간체 5-니트로 인돌을 실시예 1, 단계2에서와 같이 적합한 알킬화제를 사용하여 제조하고 중간체 5-아미노 인돌을 실시예 1, 단계 3에서와 같이 5-니트로 인돌 중간체를 사용하여 제조한다. 중간체 술폰아미드는 실시예 1, 단계 4에서와 같이 적합한 아실화제를 사용하여 제조한다. 표제 화합물은 실시예 1, 단계 5에서와 같이 상기 술폰아미드 중간체를 사용하여 제조한다.
MS: m/z (M-1) 539
실시예 11
4-({1-벤즈히드릴-5-[(사이클로펜틸카보닐)아미노]-1H-인돌-3-일}메틸)-3-메톡시벤조산
중간체 5-니트로 인돌을 실시예 1, 단계2에서와 같이 적합한 알킬화제를 사용하여 제조하고 중간체 5-아미노 인돌을 실시예 1, 단계 3에서와 같이 5-니트로 인돌 중간체를 사용하여 제조한다. 대응하는 중간체 아미드는 실시예 1, 단계 4에서와 같이 적합한 아실화제를 사용하여 제조한다. 최종 표제 화합물은 실시예 1, 단계 5에서와 같이 상기 아미드 중간체를 사용하여 제조한다.
MS: m/z (M-1) 557
실시예 12
4-[(1-벤즈히드릴-5-니트로-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조산
중간체 5-니트로 인돌은 실시예 1, 단계 2에서와 같이, 적합한 알킬화제를 사용하여 제조하고 표제 화합물은 실시예 1, 단계 5에서와 같이 상기 중간체를 사용하여 제조한다.
MS: m/z (M-1) 657
실시예 13
4-[(1-벤즈히드릴-5-브로모-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조산
중간체 5-브로모 인돌은 실시예 1, 단계 1에서와 같이 적합한 인돌과 실시예 1, 단계 2에서와 같이 적합한 알킬화제를 사용하여 제조한다. 표제 화합물은 실시예 1, 단계 5에서와 같이 상기 중간체를 사용하여 제조한다.
MS: m/z (M-1) 526
실시예 14
4-[(1-벤즈히드릴-5-플루오로-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조산
중간체 5-플루오로 인돌은 실시예 1, 단계 1에서와 같이 적합한 인돌과 실시예 1, 단계 2에서와 같이 적합한 알킬화제를 사용하여 제조한다. 표제 화합물은 실시예 1, 단계 5에서와 같이 상기 중간체를 사용하여 제조한다.
MS: m/z (M-1) 464
실시예 15
4-[(1-벤즈히드릴-5-메틸-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조산
중간체 5-메틸 인돌은 실시예 1, 단계 1에서와 같이 적합한 인돌과 실시예 1, 단계 2에서와 같이 적합한 알킬화제를 사용하여 제조한다. 표제 화합물은 실시예 1, 단계 5에서와 같이 상기 중간체를 사용하여 제조한다.
MS: m/z (M-1) 460
실시예 16
4-[(5-벤즈히드릴-5H-[1,3]디옥솔로[4,5-f]인돌-7-일)메틸]-3-메톡시벤조산
중간체 5,6-메틸렌디옥시 인돌은 실시예 1, 단계 1에서와 같이 적합한 인돌과 실시예 1, 단계 2에서와 같이 적합한 알킬화제를 사용하여 제조한다. 표제 화합물은 실시예 1, 단계 5에서와 같이 상기 중간체를 사용하여 제조한다.
MS: m/z (M-1) 490
실시예 17
4-[(1-벤즈히드릴-5-시아노-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조산
단계 1
DMF (1㎖) 중 실시예 13, 단계 2로부터의 중간체 (0.25g, 0.46밀리몰)에, CuCN (0.05g, 1.2당량)을 가하고 반응 혼합물을 145 ℃에서 밤새 교반시킨 다음 냉각시킨다. 냉각된 반응 혼합물에 FeCl3(0.09g, 1.2당량)을 가한다. 반응 혼합물을 5분간 교반시키고, 에틸 아세테이트 (30㎖)에 용해시켜, 염수 (3x10㎖)로 세척한 다음, 건조 (MgSO4)시키고, 여과하고 농축시킨다. 생성물을 실리카 크로마토그라피 (20% 에틸 아세테이트/헥산)하여 중간체 에스테르 (0.2g, 89%)를 무색 오일로 수득한다.
단계 2
DMF (2㎖)중 상기 중간체 에스테르 (0.2g, 0.41밀리몰)에 나트륨 티오메톡사이드 (0.1g, 3.4당량)을 가하고 반응 혼합물을 90 ℃에서 10분간 교반시킨다. 반응물을 냉각시키고 에틸 아세테이트 (5㎖)에 붓고, 중인산나트륨 (1x2㎖), 염수 (2x 2㎖)로 세척하여 건조 (MgSO4)시키고 여과하여 농축시킨다. 실리카 크로마토그라피 (1% 아세트산, 25% 에틸 아세테이트/헥산)으로 정제하여 표제 화합물 (0.114g, 59%)을 무색 무정형 분말로서 수득한다.
MS: m/z (M-1) 471
실시예 18
4-{[1-벤즈히드릴-5-(메틸술포닐)-1H-인돌-3-일]메틸}-3-메톡시벤조산
단계 1
THF (2㎖)와 메탄올 (2㎖)의 용액중 실시예 13, 단계 3으로부터의 중간체 (1g, 1.9밀리몰)에 수산화나트륨 (0.41㎖, 4.63M, 1당량)을 가한다. 반응 혼합물을 20분간 교반시킨 다음 농축시킨다. 톨루엔을 가하여 잔류수를 제거하고 톨루엔을 제거하여 (3x) 백색 분말 (1g, 100%)을 수득한다.
단계 2
DMF (3㎖) 중 상기 제조된 나트륨염 (0.88g, 1.6밀리몰)에 메탄술폰산,나트륨염 (0.72g, 4.4당량)과 CuI (0.74g, 2.4당량)을 가한다. 반응 혼합물을 130 ℃에서 밤새 교반시키고, 냉각시켜 에틸 아세테이트 (50㎖) 및 아세트산 (10㎖)에 용해시키고, 여과하여 (셀라이트), 염수 (4x10㎖)로 세척하고 건조시켜 (MgSO4), 여과하고 농축시킨다. 실리카 크로마토그라피 (1% 아세트산, 25% 에틸 아세테이트/헥산 - 1% 아세트산, 50% 에틸 아세테이트/헥산)하여 표제 화합물 (0.2g, 24%)을 무색 무정형 고체로서 수득한다.
MS: m/z (M-1) 524
실시예 19
사이클로펜틸 N-{1-벤즈히드릴-3-[2-메톡시-4-({[(2-메틸페닐)술포닐]아미노}카보닐}벤질]-1H-인돌-5-일}카바메이트
CH2Cl2(4㎖)중 실시예 3, 단계 4의 생성물 (0.5g, 0.87밀리몰)에 EDCl (0.2g, 1.0밀리몰, 1.2당량), DMAP (0.011g, 0.087밀리몰, 0.1당량)과 오르토-톨루엔 술폰아미드를 가한다. 반응물을 밤새 실온에서 교반시키고, 에틸 아세테이트 (50㎖)에 용해시켜, 중인산나트륨 (1x10㎖), 염수 (2x10㎖)로 세척하고, 건조 (MgSO4)시켜 여과하고 농축시킨다. 실리카 크로마토그라피 (1% 아세트산, 25% 에틸 아세테이트/헥산)하여 표제 화합물 (0.4g, 63%)을 무색 고체로서 수득한다.
실시예 20
사이클로펜틸 N-{3-[2-메톡시-4-({[(2-메틸페닐)술포닐]아미노}카보닐}벤질] -1-프로필-1H-인돌-5-일}카바메이트
표제 화합물을 실시예 19에 설명된 바와 같이 실시예 1, 단계 5의 생성물과, 적합한 술폰아미드로 출발하여 제조한다.
실시예 21
사이클로펜틸 N-{1-(사이클로프로필메틸)-3-[2-메톡시-4-({[(2-메틸페닐)술포닐]아미노}카보닐}벤질]-1H-인돌-5-일}카바메이트
표제 화합물을 실시예 19에 설명된 바와 같이 실시예 5, 단계 4의 생성물과, 적합한 술폰아미드로 출발하여 제조한다. MS: m/z (M-1) 614
실시예 22
사이클로펜틸 N-[3-[2-메톡시-4-({[(2-메틸페닐)술포닐]아미노}카보닐)벤질] -1-(4-피리디닐메틸)-1H-인돌-5-일]카바메이트
표제 화합물을 실시예 19에 설명된 바와 같이 실시예 6, 단계 4의 생성물과, 적합한 술폰아미드로 출발하여 제조한다. MS: m/z (M-1) 651
실시예 23
사이클로펜틸 N-[3-[2-메톡시-4-({[(2-메틸페닐)술포닐]아미노}카보닐)벤질] -1-(2-나프틸메틸)-1H-인돌-5-일]카바메이트
표제 화합물을 실시예 19에 설명된 바와 같이 실시예 4, 단계 4의 생성물과, 적합한 술폰아미드로 출발하여 제조한다. MS: m/z (M-1) 700
실시예 24
사이클로펜틸 N-{1-이소프로필-3-[2-메톡시-4-({[(2-메틸페닐)술포닐]아미노}카보닐)벤질]-1H-인돌-5-일}카바메이트
표제 화합물을 실시예 19에 설명된 바와 같이 실시예 7, 단계 4의 생성물과, 적합한 술폰아미드로 출발하여 제조한다. MS: m/z (M-1) 602
실시예 25
사이클로펜틸 N-{1-사이클로펜틸-3-[2-메톡시-4-({[(2-메틸페닐)술포닐]아미노}카보닐)벤질]-1H-인돌-5-일}카바메이트
표제 화합물을 실시예 19에 설명된 바와 같이 실시예 8, 단계 4의 생성물과, 적합한 술폰아미드로 출발하여 제조한다. MS: m/z (M-1) 628
실시예 26
사이클로펜틸 N-{1-벤즈히드릴-3-[2-메톡시-4-({[(트리플루오로메틸)술포닐]아미노}카보닐)벤질]-1H-인돌-5-일}카바메이트
표제 화합물을 실시예 19에 설명된 바와 같이 실시예 3, 단계 4의 생성물과, 적합한 술폰아미드로 출발하여 제조한다. MS: m/z (M-1) 704
실시예 27
사이클로펜틸 N-[1-벤즈히드릴-3-(2-메톡시-4-{[(메틸술포닐)아미노]카보닐}벤질)-1H-인돌-5-일]카바메이트
표제 화합물을 실시예 19에 설명된 바와 같이 실시예 3, 단계 4의 생성물과, 적합한 술폰아미드로 출발하여 제조한다. MS: m/z (M-1) 650
실시예 28
사이클로펜틸 N-{1-벤즈히드릴-3-[4-({[(2-클로로페닐)술포닐]아미노}카보닐)-2-메톡시벤질]-1H-인돌-5-일}카바메이트
표제 화합물을 실시예 19에 설명된 바와 같이 실시예 3, 단계 4의 생성물과, 적합한 술폰아미드로 출발하여 제조한다.
실시예 29
사이클로펜틸 N-(3-{4-[({[5-(아세틸이미노)-4-메틸-4,5-디하이드로-1,3,4-티아디아졸-2-일]술포닐}아미노)카보닐]-2-메톡시벤질}-1-벤즈히드릴-1H-인돌-5-일)카바메이트
표제 화합물을 실시예 19에 설명된 바와 같이 실시예 3, 단계 4의 생성물과, 적합한 술폰아미드로 출발하여 제조한다.
실시예 30
사이클로펜틸 N-(1-벤즈히드릴-3-{4-[({[5-(디메틸아미노)-1-나프틸]술포닐}아미노)카보닐]-2-메톡시벤질}-1H-인돌-5-일)카바메이트
표제 화합물을 실시예 19에 설명된 바와 같이 실시예 3, 단계 4의 생성물과, 적합한 술폰아미드로 출발하여 제조한다.
실시예 31
사이클로펜틸 N-[1-벤즈히드릴-3-(4-{[(벤질술포닐)아미노]카보닐}-2-메톡시벤질}-1H-인돌-5-일]카바메이트
표제 화합물을 실시예 19에 설명된 바와 같이 실시예 3, 단계 4의 생성물과, 적합한 술폰아미드로 출발하여 제조한다. MS: m/z (M-1) 726
실시예 32
사이클로펜틸 N-{1-벤즈히드릴-3-[4-({[(2,4-디메틸-1,3-티아졸-5-일)술포닐]아미노}카보닐)-2-메톡시벤질]-1H-인돌-5-일}카바메이트
표제 화합물을 실시예 19에 설명된 바와 같이 실시예 3, 단계 4의 생성물과, 적합한 술폰아미드로 출발하여 제조한다. MS: m/z (M-1) 747
실시예 33
사이클로펜틸 N-{1-벤즈히드릴-3-[4-({[(3,5-디메틸-4-이속사졸릴)술포닐]아미노}카보닐)-2-메톡시벤질]-1H-인돌-5-일}카바메이트
표제 화합물을 실시예 19에 설명된 바와 같이 실시예 3, 단계 4의 생성물과, 적합한 술폰아미드로 출발하여 제조한다. MS: m/z (M-1) 731
실시예 34
사이클로펜틸 N-(3-{4-[({[5-(아세틸아미노)-1,3,4-티아디아졸-2-일]술포닐}아미노)카보닐]-2-메톡시벤질}-1-벤즈히드릴-1H-인돌-5-일)카바메이트
표제 화합물을 실시예 19에 설명된 바와 같이 실시예 3, 단계 4의 생성물과, 적합한 술폰아미드로 출발하여 제조한다.
실시예 35
사이클로펜틸 N-(1-벤즈히드릴-3-{2-메톡시-4-[({[4-(3-메틸-5-옥소-4,5-디하이드로-1H-피라졸-1-일)페닐]술포닐}아미노)카보닐]벤질}-1H-인돌-5-일)카바메이트
표제 화합물을 실시예 19에 설명된 바와 같이 실시예 3, 단계 4의 생성물과, 적합한 술폰아미드로 출발하여 제조한다.
실시예 36
N-{4-[(1-벤즈히드릴-5-니트로-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조일}-2-메틸벤젠술폰아미드
표제 화합물을 실시예 19에 설명된 바와 같이 실시예 12, 단계 2의 생성물과, 적합한 술폰아미드로 출발하여 제조한다.
실시예 37
N-{4-[(1-벤즈히드릴-5-니트로-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조일}(트리플루오로)메탄술폰아미드
표제 화합물을 실시예 19에 설명된 바와 같이 실시예 12, 단계 2의 생성물과, 적합한 술폰아미드로 출발하여 제조한다. MS: m/z (M-1) 622
실시예 38
N-{4-[(1-벤즈히드릴-5-브로모-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조일}-2-메틸벤젠술폰아미드
표제 화합물을 실시예 19에 설명된 바와 같이 실시예 13, 단계 2의 생성물과, 적합한 술폰아미드로 출발하여 제조한다. MS: m/z (M-1) 679
실시예 39
N-{4-[(1-벤즈히드릴-5-브로모-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조일}(트리플루오로)메탄술폰아미드
표제 화합물을 실시예 19에 설명된 바와 같이 실시예 13, 단계 2의 생성물과, 적합한 술폰아미드로 출발하여 제조한다. MS: m/z (M-1) 657
실시예 40
N-{1-벤즈히드릴-3-[2-메톡시-4-({[(트리플루오로메틸)술포닐]아미노}카보닐)벤질]-1H-인돌-5-일}사이클로펜탄카복스아미드
표제 화합물을 실시예 19에 설명된 바와 같이 실시예 11, 단계 4의 생성물과, 적합한 술폰아미드로 출발하여 제조한다. MS: m/z (M-1) 688
실시예 41
N-[4-({1-벤즈히드릴-5-[(메틸술포닐)아미노]-1H-인돌-3-일}메틸)-3-메톡시벤조일](트리플루오로)메탄술폰아미드
표제 화합물을 실시예 19에 설명된 바와 같이 실시예 13, 단계 2의 생성물과, 적합한 술폰아미드로 출발하여 제조한다. MS: m/z (M-1) 670
실시예 42
N-{4-[(1-벤즈히드릴-5-{[(부틸아미노)카보닐]아미노}-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조일}(트리플루오로)메탄술폰아미드
표제 화합물을 실시예 19에 설명된 바와 같이 실시예 9, 단계 4의 생성물과, 적합한 술폰아미드로 출발하여 제조한다. MS: m/z (M-1) 691
실시예 43
N-{1-벤즈히드릴-3-[2-메톡시-4-({[(2-메틸페닐)술포닐]아미노}카보닐)벤질]-1H-인돌-5-일}사이클로펜탄카복스아미드
표제 화합물을 실시예 19에 설명된 바와 같이 실시예 11, 단계 4의 생성물과, 적합한 술폰아미드로 출발하여 제조한다. MS: m/z (M-1) 710
실시예 44
4-({5-[(사이클로펜틸카보닐)아미노]-1-[페닐(2-피리디닐)메틸]-1H-인돌-3-일}메틸)-3-메톡시벤조산
단계 1
중간체 5-아미노 인돌을 실시예 1, 단계 3에서와 같이 제조한다.
단계 2
중간체 술폰아미드를 실시예 1, 단계 4에서와 같이 적합한 아실화제를 사용하여 제조한다.
단계 3
중간체 산을 실시예 1, 단계 5에서와 같이 상기 중간체를 사용하여 제조한다.
단계 4
표제 화합물을 실시예 19에 설명된 바와 같이 상기 중간체와 적합한 술폰아미드로 출발하여 제조한다.
MS: m/z (M-1) 738
실시예 45
N-[4-({1-벤즈히드릴-5-[(벤질술포닐)아미노]-1H-인돌-3-일}메틸)-3-메톡시벤조일](트리플루오로)메탄술폰아미드
단계 1
중간체 5-아미노 인돌을 실시예 1, 단계 3에서와 같이 제조한다.
단계 2
중간체 술폰아미드를 실시예 1, 단계 4에서와 같이 적합한 아실화제를 사용하여 제조한다.
단계 3
중간체 산을 실시예 1, 단계 5에서와 같이 상기 중간체를 사용하여 제조한다.
단계 4
표제 화합물을 실시예 19에 설명된 바와 같이 상기 중간체와 적합한 술폰아미드로 출발하여 제조한다.
MS: m/z (M-1) 746
실시예 46
N-{1-벤즈히드릴-3-[2-메톡시-4-({[(트리플루오로메틸)술포닐]아미노}카보닐)벤질]-1H-인돌-5-일}-3-티오펜카복스아미드
단계 1
중간체 5-아미노 인돌을 실시예 1, 단계 3에서와 같이 제조한다.
단계 2
중간체 아미드를 실시예 1, 단계 4에서와 같이 적합한 아실화제를 사용하여 제조한다.
단계 3
중간체 산을 실시예 1, 단계 5에서와 같이 상기 중간체를 사용하여 제조한다.
단계 4
표제 화합물을 실시예 19에 설명된 바와 같이 상기 중간체와 적합한 술폰아미드로 출발하여 제조한다.
MS: m/z (M-1) 702
실시예 49
벤질 N-{1-벤즈히드릴-3-[2-메톡시-4-({[(트리플루오로메틸)술포닐]아미노}카보닐)벤질]-1H-인돌-5-일)카바메이트
단계 1
중간체 5-아미노 인돌을 실시예 1, 단계 3에서와 같이 제조한다.
단계 2
중간체 카바메이트를 실시예 1, 단계 4에서와 같이 적합한 아실화제를 사용하여 제조한다.
단계 3
중간체 산을 실시예 1, 단계 5에서와 같이 상기 중간체를 사용하여 제조한다.
단계 4
표제 화합물을 실시예 19에 설명된 바와 같이 상기 중간체와 적합한 술폰아미드로 출발하여 제조한다.
MS: m/z (M-1) 726
실시예 50
4-[(1-벤즈히드릴-5-니트로-1H-인돌-3-일)메틸]벤조산
단계 1
중간체 3-알킬화된 5-니트로인돌을 실시예 1, 단계 1에 설명된 바와 같이, 적합한 알킬화제를 사용하여 제조한다.
단계 2
중간체 3-알킬화된 5-니트로인돌을 실시예 3, 단계 1에 설명된 바와 같이 N-알킬화시킨다.
단계 3
표제 화합물을 실시예 1, 단계 5에 설명된 바와 같이 제조한다.
MS: m/z (M-1) 461
실시예 51
4-[(1-벤즈히드릴-5-브로모-1H-인돌-3-일)메틸]벤조산
단계 1
중간체 3-알킬화된 5-브로모인돌을 실시예 1, 단계 1에 설명된 바와 같이, 적합한 알킬화제를 사용하여 제조한다.
단계 2
중간체 3-알킬화된 5-니트로인돌을 실시예 3, 단계 1에 설명된 바와 같이 N-알킬화시킨다.
단계 3
표제 화합물을 실시예 13, 단계 3에 설명된 바와 같이 제조한다.
MS: m/z (M-1) 494
실시예 52
4-[(1-벤즈히드릴-5-{[(사이클로펜틸옥시)카보닐]아미노}-1H-인돌-3-일)메틸]벤조산
단계 1
실시예 50, 단계 2에서 제조된 물질로 출발하여, 목적하는 중간체를 실시예 3, 단계 2에 설명된 바와 같이 제조한다.
단계 2
중간체 카바메이트를 실시예 3, 단계 3에 설명된 바와 같이 상기 중간체로부터 제조한다.
단계 3
표제 화합물을 실시예 3, 단계 4에 설명된 바와 같이 상기 중간체로부터 제조한다.
MS: m/z (M-1) 543
실시예 53
사이클로펜틸 N-{1-벤즈히드릴-3-[4-({[(2-메틸페닐)술포닐]아미노}카보닐)벤질]-1H-인돌-5-일}카바메이트
표제 화합물을 실시예 19에 설명된 바와 같이, 실시예 52, 단계 3의 생성물로부터 제조한다.
MS: m/z (M-1) 697.
실시예 54
사이클로펜틸 N-{1-벤즈히드릴-3-[4-({[(트리플루오로메틸)술포닐]아미노}카보닐)벤질]-1H-인돌-5-일}카바메이트
표제 화합물을 실시예 52, 단계 3의 생성물로부터, 실시예 26에 설명된 바와 같이 제조한다. MS: m/z (M-1) 674
실시예 55
N-{4-[(1-벤즈히드릴-5-니트로-1H-인돌-3-일)메틸]벤조일}(트리플루오로)메탄술폰아미드
표제 화합물을 실시예 55, 단계 3의 생성물로부터, 실시예 26에 설명된 바와 같이 제조한다. MS: m/z (M-1) 592
실시예 56
N-{4-[(1-벤즈히드릴-5-니트로-1H-인돌-3-일)메틸]벤조일}-2-메틸벤젠술폰아미드
표제 화합물을 실시예 55, 단계 3의 생성물로부터, 실시예 19에 설명된 바와 같이 제조한다. MS: m/z (M-1) 614
실시예 57
N-{4-[(1-벤즈히드릴-5-브로모-1H-인돌-3-일)메틸]벤조일}-2-메틸벤젠술폰아미드
표제 화합물을 실시예 51, 단계 3의 생성물로부터, 실시예 38에 설명된 바와 같이 제조한다. MS: m/z (M-1) 649
실시예 58
N-{4-[(1-벤즈히드릴-5-브로모-1H-인돌-3-일)메틸]벤조일}(트리플루오로)메탄술폰아미드
표제 화합물을 실시예 51, 단계 3의 생성물로부터, 실시예 39에 설명된 바와 같이 제조한다. MS: m/z (M-1) 627
실시예 59
3-({2-[1-(4-벤질벤질)-1H-인돌-3-일]-2-옥소아세틸}아미노)벤조산
단계 1
CH2Cl2(50㎖) 및 중탄산나트륨 포화용액 (50㎖)중 메틸 3-아미노벤조에이트 (2.4g, 16.0밀리몰)의 용액에 5 ℃에서 3-인돌릴글리옥살릴 클로라이드 (3.0g, 14.4밀리몰)을 가한다. 반응물을 실온에서 2시간 동안 교반시키고, 에틸 아세테이트 (200㎖)에 용해시켜, 염수 (3x50㎖)로 세척하고, 건조 (MgSO4)시켜, 여과하고 농축시킨다. 조 물질을 결정화시켜 목적하는 중간체 (2.7g, 58%)를 무색 오일로서 수득한다.
단계 2
DMF (1.5㎖)중 상기 중간체 (0.3g, 0.93 미릴몰)의 용액에 0 ℃에서 칼륨 비스(트리메틸실릴)아미드 (0.41g, 2.06밀리몰)을 가한다. 반응물을 실온에서 30분간 교반시킨 후 4-벤질벤질 브로마이드 (0.27g, 1.03밀리몰)을 가한다. 반응물을 3시간 동안 교반시키고, 에틸 아세테이트 (10㎖)에 용해시켜, 염수 (3x2㎖)로 세척하고 건조 (MgSO4)시켜 농축시킨다. 래디알 실리카 크로마토그라피 (2㎜, 10% 내지 35% 에틸 아세테이트/헥산)로 목적하는 중간체 (0.19g, 41%)를 무색 오일로 수득한다.
단계 3
단계 2에서 수득한 에스테르를 수산화나트륨 (2㎖, 5M)으로 THF (5㎖) 및 MeOH (2㎖)중에서 처리한다. 반응물을 밤새 교반시키고, 에틸 아세테이트 (50㎖)에 용해시켜, 중인산나트륨 (1x10㎖), 염수 (2x10㎖)로 세척하고, 건조 (MgSO4)시켜 여과하고 농축시킨다. 상기 물질을 에틸 아세테이트중에서 헥산으로 연마하여 표제 화합물 (0.105g, 60%)을 무색 고체로서 수득한다. MS: m/z(M-1) 487.
실시예 60
3-({2-[1-(4-{[3,5-비스(트리플루오로메틸)페녹시]메틸}벤질)-1H-인돌-3-일]-2-옥소아세틸}아미노)벤조산
실시예 59, 단계 1에서 제조된 중간체를 적합한 시약으로 실시예 59, 단계 2에 기재된 공정을 이용하여 N-1 알킬화시킨다.
단계 2
상기 생성물 에스테르를 실시예 59, 단계 3에 기재된 바와 같이 가수분해한다.
MS: m/z (M-1) 639.
실시예 61
3-{[2-(1-벤즈히드릴-1H-인돌-3-일)-2-옥소아세틸]아미노}벤조산
실시예 59, 단계 1에서 제조된 중간체를 적합한 시약으로 실시예 59, 단계 2에 기재된 공정을 이용하여 N-1 알킬화시킨다.
단계 2
상기 생성물 에스테르를 실시예 59, 단계 3에 기재된 바와 같이 가수분해한다.
MS: m/z (M-1) 473.
실시예 62
3-[(2-{1-[3-(4-벤질페녹시)프로필]-1H-인돌-3-일}-2-옥소아세틸)아미노]벤조산
단계 1
실시예 59, 단계 1에서 제조된 중간체를 적합한 시약으로 실시예 59, 단계 2에 기재된 공정을 이용하여 N-1 알킬화시킨다.
단계 2
상기 생성물 에스테르를 실시예 59, 단계 3에 기재된 바와 같이 가수분해한다.
MS: m/z (M-1) 531.
실시예 63
3-[(2-{1-[3,4-비스(벤질옥시)벤질]-1H-인돌-3-일}-2-옥소아세틸)아미노]벤조산
단계 1
실시예 59, 단계 1에서 제조된 중간체를 적합한 시약으로 실시예 59, 단계 2에 기재된 공정을 이용하여 N-1 알킬화시킨다.
단계 2
상기 생성물 에스테르를 실시예 59, 단계 3에 기재된 바와 같이 가수분해한다.
MS: m/z (M-1) 609.
실시예 64
3-[(2-{1-[2-(벤질술포닐)벤질]-1H-인돌-3-일}-2-옥소아세틸)아미노]벤조산
단계 1
실시예 59, 단계 1에서 제조된 중간체를 적합한 시약으로 실시예 59, 단계 2에 기재된 공정을 이용하여 N-1 알킬화시킨다.
단계 2
상기 생성물 에스테르를 실시예 59, 단계 3에 기재된 바와 같이 가수분해한다.
MS: m/z (M-1) 551.
실시예 65
3-[({1-벤즈히드릴-5-[(사이클로펜틸카보닐)아미노]-1H-인돌-3-일}메틸)아미노]벤조산
단계 1
디클로로에탄 (2㎖) 및 DMF (1㎖)중 실시예 114, 단계 3에서 제조된 알데히드 (0.3g, 0.7밀리몰)의 용액에 메틸 3-아미노 벤조에이트 (0.113 g, 0.735밀리몰, 1.05당량) 및 아세트산 (0.13㎖, 2.1밀리몰, 3당량)을 가한다. 30분간 교반시킨 후 나트륨 트리아세톡시붕수소화물 (0.18 g, 0.84밀리몰, 1.2당량)을 가하고 반응물을 추가로 4시간 동안 교반시킨 후 에틸 아세테이트 (20㎖)에 용해시키고, 중탄산나트륨 포화용액 (1x10㎖), 염수 (2x5㎖)로 세척하여, 건조 (MgSO4)시키고 여과하여 농축시킨다. 실리카 크로마토그라피 (30% 에틸 아세테이트/헥산)하여 목적하는 중간체 (0.24g, 60%)를 무색 오일로 수득한다.
단계 2
상기 생성물 에스테르를 실시예 59, 단계 3에 기재된 바와 같이 가수분해시켜 표제 화합물 (0.11g, 55%)를 수득한다. MS: m/z (M-1) 542
실시예 66
2-[4-({1-벤즈히드릴-5-[(사이클로펜틸카보닐)아미노]-1H-인돌-3-일}메틸)피페라지노]아세트산
표제 화합물을 실시예 65에 기재된 바와 같이 적합한 아민을 사용하여 제조한다. MS: m/z (M-1) 549
실시예 67
2-[1-({1-벤즈히드릴-5-[(사이클로펜틸카보닐)아미노]-1H-인돌-3-일}메틸)-3-옥소-2-피페라지닐]아세트산
표제 화합물을 실시예 65에 기재된 바와 같이 적합한 아민을 사용하여 제조한다. MS: m/z (M-1) 563
실시예 68
2-[({1-벤즈히드릴-5-[(사이클로펜틸카보닐)아미노]-1H-인돌-3-일}메틸)아미노]-3-하이드록시프로판산
표제 화합물을 실시예 65에 기재된 바와 같이 적합한 아민을 사용하여 제조한다. MS: m/z (M-1) 510
실시예 69
2-[1-(4-벤질벤질)-5-(벤질옥시)-1H-인돌-3-일]-2-옥소아세트산
단계 1
에틸마그네슘 브로마이드 (에테르중 3M, 57㎖)를 에테르 (50㎖)에 희석시킨다. 에테르 (150㎖)에 용해시킨 5-벤질옥시인돌 (12.7g)을 그리나드 용액에 -78 ℃에서 가한다. 1.25 시간 후, 에틸옥살릴 클로라이드 (17.12g)을 가한다. 반응물을 15분간 교반시키고, 중탄산나트륨 포화액으로 중단시킨 다음, 에틸 아세테이트에 용해시키고, 물로 세척하여 건조(MgSO4)시키고 여과하여 농축시킨다. 생성된 고체를 에탄올로 연마하고 1시간 동안 교반시킨다. 목적하는 생성물 (5.75g, 31%)을 황색 고체로 단리하고 추가 정제없이 사용한다.
단계 2
DMF중 상기 인돌에 0 ℃에서 수소화나트륨 (0.4g, 오일중 60% 현탁액)을 가한다. 실온으로 가온시킨 후, 4-벤질벤질브로마이드 (2.2g)을 가하고 혼합물을 밤새 교반시킨다. 반이 아직 완료되지 않았을 경우 (TLC) 추가량의 4-벤질벤질브로마이드 (1.0g)을 가하고 반응물을 2.5시간 동안 교반시킨다. 반응물을 에틸 아세테이트에 용해시키고 물로 세척하여 건조(MgSO4)시키고 여과하여 농축시킨다. 크로마토그라피 (20% 에틸 아세테이트/헥산)하여 목적하는 화합물 (3.1g, 90%)을 수득한다.
단계 3
상기 에스테르를 NaOH (2N):THF:MeOH (1:2:1)의 용액에 넣고 실온에서 밤새 교반시킨다. 반응물을 6N HCl로 산성화시키고 생성물을 에틸 아세테이트로 추출한다. 유기층을 건조 (MgSO4)시키고, 여과하여 농축시킨다. 고체를 에탄올로 연마하고 1시간 동안 교반시킨다. 고체를 여과하고 건조시켜 표제 화합물 (1.85g)을 황색 고체로 수득한다. MS: m/z (M-1) 474
실시예 70
2-{5-(벤질옥시)-1-[2,4-비스(트리플루오로메틸)벤질]-1H-인돌-3-일}-2-옥소아세트산
실시예 69, 단계 1에서 제조된 인돌을 적합한 알킬 브로마이드로 알킬화시키고 실시예 69, 단계 2 및 3에 기재된 바와 같이 가수분해시킨다.
MS: m/z (M-1) 520
실시예 71
3-({2-[1-(4-벤질벤질)-5-(벤질옥시)-1H-인돌-3-일]-2-옥소아세틸}아미노)벤조산
단계 1
THF (28㎖)중 실시예 69, 단계 3으로부터의 산 (0.810g)의 용액에 CDI를 가한다. 반응물을 30분간 교반시킨 다음 에틸 3-아미노벤조에이트 (0.330g)을 가하고 반응물을 밤새 교반시킨다. 반응 혼합물을 에틸 아세테이트에 용해시키고 물로 세척하여, 건조(MgSO4)시키고, 여과하여 농축시킨다. 조 물질을 에탄올로 연마하고 1시간 동안 교반시켜 여과하고 건조시킨다. 목적하는 생성물 (0.76g, 75%)을 황색 고체로 단리시킨다.
단계 2
상기 에스테르를 NaOH (2N):THF:MeOH (1:2:1)에 용해시키고 4시간 동안 교반시킨다. 혼합물을 6N HCl로 산성화시키고 에틸 아세테이트로 추출한다. 유기층을 합하여 건조(MgSO4)시키고, 여과하여 농축시킨다. 조 고체를 에탄올/헥산으로 연마하여 표제 화합물 (0.48g, 69%)을 황색 고체로서 수득한다.
실시예 72
5-[(2-{5-(벤질옥시)-1-[2,4-비스(트리플루오로메틸)벤질]-1H-인돌-3-일}-2-옥소아세틸)아미노]이소프탈산
실시예 70으로부터의 알킬화된 인돌을 적합한 아미노산에 커플링시키고 실시예 71, 단계 1 및 2에 설명된 바와 같이 가수분해시킨다.
MS: m/z (M-1) 683
실시예 73
3-[(2-{5-(벤질옥시)-1-[2,4-비스(트리플루오로메틸)벤질]-1H-인돌-3-일}-2-옥소아세틸)아미노]벤조산
실시예 70으로부터의 알킬화된 인돌을 적합한 아미노산에 커플링시키고 실시예 71, 단계 1 및 2에 설명된 바와 같이 가수분해시킨다.
MS: m/z (M-1) 639
실시예 74
5-({2-[1-(4-벤질벤질)-5-(벤질옥시)-1H-인돌-3-일]-2-옥소아세틸}아미노)-2-[(5-클로로-3-피리디닐)옥시]벤조산
실시예 69로부터의 알킬화된 인돌을 적합한 아미노산에 커플링시키고 실시예 71, 단계 1 및 2에 설명된 바와 같이 가수분해시킨다.
실시예 75
5-[(2-{5-(벤질옥시)-1-[2,4-비스(트리플루오로메틸)벤질]-1H-인돌-3-일}-2-옥소아세틸)아미노]-2-[(5-클로로-3-피리디닐)옥시]벤조산
실시예 70으로부터의 알킬화된 인돌을 적합한 아미노산에 커플링시키고 실시예 71, 단계 1 및 2에 설명된 바와 같이 가수분해시킨다.
실시예 76
2-[1-(4-벤질벤질)-5-(벤질옥시)-1H-인돌-3-일]-N-[3-({[(4-메틸페닐)술포닐]아미노}카보닐)페닐]-2-옥소아세트아미드
CH2Cl2(10㎖)중 실시예 70에서 수득한 산 (0.1g)에 THF (5㎖)를 가하여 화합물이 용해되는 것을 돕도록한다. EDCl (0.045g) 및 DMAP (0.02g)를 가하고 혼합물을 실온에서 1시간 동안 교반한다. p-톨루엔술폰아미드 (0.04g)를 가하고 반응물을 밤새 교반시킨다. 반응 혼합물을 에틸 아세테이트에 용해시키고 물로 세척하여, 건조 (MgSO4)시키고, 여과하여 농축시킨다. 크로마토그라피 (7% MeOH/CH2Cl2)하여 표제 화합물 (0.045g, 40%)을 황색 고체로 수득한다. MS: m/z (M-1) 746
실시예 77
2-[5-브로모-1-(사이클로프로필메틸)-1H-인돌-3-일]아세트산
1-메틸-2-피롤리디논 (12㎖)중 5-브로모인돌-3-아세트산 (890㎎, 3.5밀리몰)에 0 ℃에서iPr2NEt (21밀리몰) 및 브로모메틸사이클로프로판 (10.5밀리몰)을 가한다. 반응 혼합물을 50 ℃로 19시간 동안 가열하고 디에틸 에테르와 빙수 사이에 분배한다. pH를 3으로 조정한 후, 수층을 디에틸 에테르로 추출한다. 유기층을 합하여 NaH2PO4로 세척하고 MgSO4상에서 건조시켜 증발건조시킨다. 실리카겔 컬럼상에서 정제 (헥산중 30% EtOAc)하여 생성물 927㎎ (수율 86%)을 수득한다.
실시예 78
2-[1-(사이클로프로필메틸)-5-(2-티에닐)-1H-인돌-3-일]아세트산
벤젠/EtOH/H2O의 혼합물 (5/1/3, 4.5㎖)중 2-[5-브로모-1-(사이클로프로필메틸)-1H-인돌-3-일]아세트산 (100㎎, 0.32밀리몰), 2-티오펜붕소산 (124㎎, 0.97밀리몰), (C6H5)4Pd (37㎎, 0.032밀리몰), Na2CO3(2.6밀리몰)을 함유하는 밀봉관을 85 ℃에서 19시간 동안 가열한다. 혼합물을 디에틸 에테르상에 붓고 pH 3으로 조정하여 디에틸 에테르로 추출한다. 혼합물을 NaH2PO4로 세척하고, MgSO4상에서 건조시켜 증발시켜 조 생성물을 수득하고 이를 실리카겔 컬럼 (HCOOH 1%를 함유하는 헥산중 33% EtOAc)상에서 정제하여 생성물 79㎎ (78% 수율)을 수득한다.
실시예 79
2-{1-(사이클로프로필메틸)-5-[3-(트리플루오로메틸)페닐]-1H-인돌-3-일}아세트산
표제 화합물을 실시예 78에 기재된 공정에 따라서 제조하는데 3-(트리플루오로메틸)페닐붕소산을 사용하는 점이 예외이다.
실시예 80
2-[5-(1-벤조푸란-2-일)-1-벤질-1H-인돌-3-일]아세트산
표제 화합물을 실시예 78에 기재된 공정에 따라서 제조하는데 2-[5-브로모-1-벤질-1H-인돌-3-일]아세트산과 벤조[b]푸란-2-붕소산을 사용하는 점이 예외이다.
실시예 81
2-(1-벤질-5-페닐-1H-인돌-3-일)아세트산
표제 화합물을 실시예 78에 기재된 공정에 따라서 제조하는데 2-[5-브로모-1-벤질-1H-인돌-3-일]아세트산과 페닐붕소산을 사용하는 점이 예외이다.
실시예 82A
5-((E)-{1-[3-(3-벤질페녹시)프로필]-1H-인돌-3-일}메틸리덴)-1,3-티아졸란-2,4-디온
단계 1
실시예 22의 공정에 따라서 3-포르밀 인돌 (0.4g, 2.8밀리몰), 수소화나트륨 (0.102g, 3.0밀리몰) 및 DMF (10㎖)중 요오드 (0.97g, 2.8밀리몰)을 사용한다. 섬광 크로마토그라피 (Hex/EtOAc, 1/1)로 목적하는 중간체 0.86g (84%)를 수득한다.
단계 2
단계 1로부터의 중간체 (0.8g, 2.2밀리몰) 및 2,4-티아졸리딘디온 (0.25g, 2.2밀리몰)을 톨루엔 (5㎖)에 용해시킨다. 피페리딘 (0.064㎖, 0.6밀리몰) 및 아세트산 (0.012㎖)을 가하고 혼합물을 환류 온도로 2시간 동안 가열한다. 반응물을 실온으로 냉각시켜, 물을 가하여 수층을 에틸 아세테이트로 추출한다. 유기층을 물, 염수로 세척하고, 건조 (MgSO4)시켜 여과하고 농축시킨다. 섬광 크로마토그라피 (헥산/에틸 아세테이트, 3/2)하여 표제 화합물 (0.345g, 33%)을 오렌지색 고체로 수득한다.
실시예 82B
4-{[5-((E)-{1-[3-(3-벤질페녹시)프로필]-1H-인돌-3-일}메틸리덴)-2,4-디옥소-1,3-티아졸란-3-일]메틸}벤조산
실시예 22, 단계 1 및 2의 공정에 따라서 표제 화합물 0.14g (47%, 2 단계의 경우)을 황색 분말로 수득한다.
실시예 82C
2-[5-((E)-{1-[3-(3-벤질페녹시)프로필]-1H-인돌-3-일}메틸리덴)-2,4-디옥소-1,3-티아졸란-3-일]아세트산
실시예 22, 단계 1 및 2의 공정에 따라서 표제 화합물 0.107g (42%, 2 단계의 경우)을 황색 분말로 수득한다.
실시예 83
3-{1-[3-(3-벤질페녹시)프로필]-1H-인돌-3-일}프로판산
실시예 22, 단계 1의 공정에 따르지만 수소화나트륨 2당량을 사용하는 점이 예외이며 표제 화합물 0.142g (65%)을 백색 오일성 고체로 단리시킨다.
실시예 84
3-{1-벤즈히드릴-5-[(사이클로펜틸카보닐)아미노]-1H-인돌-3-일}프로판산
단계 1
톨루엔 (20㎖)중 실시예 114, 단계 1로부터의 알데히드 (1.0g, 2.8밀리몰)의 용액에 카보메톡시에틸리덴 트리페닐포스포란 (0.98g, 2.9밀리몰)을 가한다. 혼합물을 밤새 환류온도로 가열한 다음 농축시킨다. 잔사를 CH2Cl2에 용해시키고 실리카겔을 가한다. 혼합물을 농축시키고 생성된 고체를 섬광 크로마토그라피 (Hex/EtOAc, 3/1)로 정제한다. 화합물 30 1.01g (88%)가 황색 고체로 단리된다.
단계 2
톨루엔 (10㎖)중 상기 중간체 (0.1g, 0.24밀리몰)의 용액에 활성탄상 백금 (5% Pt, 0.05g, 50중량%)를 가한다. 수소 가스를 상기 현탁액중으로 2분간 버블시키고, 용기를 단단하게 밀봉하여 반응물을 실온에서 밤새 교반시킨다. 아르곤 가스를 상기 반응물을 통하여 15분간 버블시킨 다음 혼합물을 셀라이트대를 통하여 여과한다. 패드를 EtOAc로 세척하고 여액을 농축시킨다. 잔사를 CH2Cl2(5㎖)에 용해시킨다. NaHCO3포화 수용액 (3㎖)을 가한 다음, 사이클로펜탄카보닐 클로라이드 (0.036㎖)를 가한다. 2상 혼합물을 실온에서 2시간 동안 교반시키고 CH2Cl2로 희석한다. 유기층을 물 및 염수로 세척하고, 건조시킨 다음 백색 고체로 농축시킨다. EtOAc/Hex로부터 재결정화하여 목적하는 중간체 0.11g (95%)을 백색 고체로 수득한다.
단계 3
THF (2㎖) 및 MeOH (2㎖)중 NaOH (1N, 2㎖)로 상기 에스테르를 가수분해시킨 다음 뜨거운 EtOAc로부터 재결정화하여 표제 화합물 0.054g (50%)을 백색 고체로 수득한다.
실시예 85
N-(1-벤즈히드릴-3-{3-[(메틸술포닐)아미노]-3-옥소프로필}-1H-인돌-5-일)사이클로펜탄카복스아미드
THF (5㎖)중 실시예 84, 단계 3으로부터의 산 (0.1g, 0.22밀리몰)의 용액에 메탄술폰아미드 (0.027g, 0.28밀리몰), EDCl (0.54g, 0.28밀리몰) 및 DMAP (0.012 g, 0.1밀리몰)을 가한다. 혼합물을 50 ℃로 밤새 가열한 다음 EtOAc로 희석하고, 물 및 염수로 세척하여 건조시키고 농축시킨다. 섬광 크로마토그라피 (Hex/EtOAc, 1/1)로 표제 화합물 0.1g (87%)을 백색 고체로 수득한다.
실시예 86A
(E)-3-{1-벤즈히드릴-5-[(사이클로펜틸카보닐)아미노]-1H-인돌-3-일}-2-프로펜산
단계 1
실시예 84, 단계 2에서와 동일한 공정을 사용하여 니트로인돌 (실시예 114, 단계 1)로부터 목적하는 중간체를 제조한다.
단계 2
실시예 84, 단계 1 및 3에서의 공정을 사용하여 상기 중간체로부터 표제 화합물을 수득한다.
실시예 86B
N-(1-벤즈히드릴-3-{(E)-3-[(메틸술포닐)아미노]-3-옥소-1-프로페닐}-1H-인돌-5-일)사이클로펜탄카복스아미드
실시예 86A로부터의 산을 사용하여 실시예 85의 공정에 따라서 표제 화합물을 제조한다.
실시예 87A
(E)-3-{1-벤즈히드릴-5-니트로-1H-인돌-3-일}-2-프로펜산
실시예 84, 단계 1로부터의 에스테르를 실시예 84, 단계 3의 공정에 따라서 비누화시키고 뜨거운 EtOAc로부터 재결정화하여 표제 화합물 0.155g (90%)을 백색 고체로 수득한다.
실시예 87B
N-((E)-3-{1-벤즈히드릴-5-니트로-1H-인돌-3-일}-2-프로페노일)메탄술폰아미드
실시예 85의 공정을 사용하여 실시예 87A로부터의 생성물로부터 표제 화합물을 제조한다.
실시예 88
4-[(1-벤즈히드릴-5-클로로-2-메틸-1H-인돌-3-일)메틸]벤조산
단계 1
CH2Cl2(20㎖)중 트리플루오로아세트산 (1.7㎖, 15밀리몰) 및 트리에틸실란 (4.8㎖, 30밀리몰)의 빙냉 (0 ℃) 용액에 CH2Cl2(50㎖)중 5-클로로-2-메틸인돌 (1.66g, 10밀리몰) 및 메틸 4-포르밀벤조에이트 (1.8g, 11밀리몰)를 5분에 걸쳐 가한다. 생성된 균질 용액을 0 ℃에서 1시간, 실온에서 2시간 교반시킨 다음, 이후 EtOAc (150㎖) 및 중탄산나트륨 수용액 (pH=8로)을 가한다. 유기층을 물 및 염수로 세척하고, MgSO4상에서 건조시켜 농축시킨다. 섬광 크로마토그라피 (Hex/EtOAc, 4/1)하여 목적하는 중간체 1.98g (63%)을 담갈색 고체로 수득한다.
단계 2
수소화나트륨 (0.2g, 5밀리몰)을 무수 헥산 (3x10㎖)으로 세척한 다음 DMF (6㎖)에 현탁시켜 0 ℃로 냉각시킨다. DMF (4㎖)중 상기 중간체 (1.57g, 5밀리몰)의 용액을 0 ℃에서 적가하고 생성된 혼합물을 30분간 교반시키고 이때 디페닐브로모메탄 (1.24g, 5밀리몰)을 가한다. 혼합물을 실온이 되도록하여 추가로 48시간 동안 교반시킨다. EtOAc (30㎖)를 가한 다음 NaH2PO4수용액 (10㎖)를 가한다. 유기층을 물 및 염수로 세척하고, 건조시켜 농축시킨다. 섬광 크로마토그라피 (Hex/EtOAc, 7/1)로 목적하는 중간체 0.98g (41%)을 아이보리색 포움으로 수득한다.
단계 3
상기 중간체를 실시예 84, 단계 3의 공정에 따라서 비누화시킨다. 섬광 크로마토그라피 (EtOAc)로 갈색 결정상 고체로서 표제 화합물 0.3g (89%)을 수득한다. MS: m/z (M-1) 464
실시예 89
4-{[1-벤즈히드릴-5-({[4-(트리플루오로메틸)페닐]술포닐}아미노)-1H-인돌-3-일]메틸}-3-메톡시벤조산
단계 1
실시예 3, 단계 2로부터의 중간체 (1당량) (반응식 참조)를 4-트리플루오로메틸벤젠 술포닐 클로라이드 (1.2당량)과 함께 플라스크에 칭량한 다음 이들을 질소로 플러슁시키고 디클로로에탄 (1.5M)중에 용해시킨 다음, 피리딘 (1.2당량)을 가하고 이때 반응물을 밤새 교반시킨 다음 중합체 결합된 아민 (Parlow, J.J, Mischke, D.A., Woodard, S.S.J. Org. Chem. 1997, 62, 55908-5919) (1.6g/1밀리몰)을 가하여 후처리함으로써 생성된 슬러리를 15분간 교반시키고 이를 여과하여 디클로로에탄으로 세척한 후 디클로로에탄 용액을 건조시키고 농축시켜 순도가 높은 목적하는 생성물을 98% 수율로 수득한다.
단계 2
단계 1로부터의 조 물질을 THF/MeOH (2.5/1)에 용해시키고 4N NaOH를 가하고 (3당량) 반응물을 TLC로 확인하여 가수분해가 완결될 때 까지 교반시킨다. 이때 반응을 충분한 앰버라이트 120으로 중단시켜 산성 용액으로 만들고 수지를 여과하고 세정한 다음 용액을 건조 및 농축시켜 목적하는 생성물을 94% 수율로 수득한다. MS: m/z (M-1) 669
실시예 90
4-{[5-({[2-(아세틸아미노)-4-메틸-1,3-티아졸-5-일]술포닐}아미노)-1-벤즈히드릴-1H-인돌-3-일]메틸}-3-메톡시벤조산
단계 1
적합한 술포닐 클로라이드를 사용하여 실시예 89의 단계 1에 따라서 크로마토그라피 정제후 표제 화합물을 76% 수득한다.
단계 2
상기 실시예 89의 단계 2와 유사한 공정으로 목적하는 생성물을 83% 수득한다. MS: m/z (M-1) 679
실시예 91
4-[(1-벤즈히드릴-5-{[(4-클로로-3-니트로페닐)술포닐]아미노}-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조산
단계 1
실시예 89, 단계 1에 따라서 적합한 술포닐 클로라이드를 사용하여 표제 화합물 100%를 수득한다.
단계 2
실시예 89의 단계 2와 유사한 공정으로 크로마토그라피 정제후 목적하는 생성물 54%를 수득한다. MS: m/z (M-1) 681
실시예 92
4-[(1-벤즈히드릴-5-{[(디메틸아미노)술포닐]아미노}-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조산
단계 1
실시예 89, 단계 1에 따라서 적합한 술포닐 클로라이드를 사용하여 크로마토그라피 정제후 표제 화합물 49%를 수득한다.
단계 2
실시예 89의 단계 2와 유사한 공정으로 목적하는 생성물 100%를 수득한다. MS: m/z (M-1) 568
실시예 93
4-{[1-벤즈히드릴-5-({[4-(트리플루오로메톡시)페닐]술포닐}아미노)-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조산
단계 1
실시예 89, 단계 1에 따라서 적합한 술포닐 클로라이드를 사용하여 표제 화합물 100%를 수득한다.
단계 2
실시예 89의 단계 2와 유사한 공정으로 목적하는 생성물 100%를 수득한다. MS: m/z (M-1) 685
실시예 94
4-[(1-벤즈히드릴-5-{[(2-메틸페닐)술포닐]아미노}-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조산
단계 1
실시예 89, 단계 1에 따라서 적합한 술포닐 클로라이드를 사용하여 크로마토그라피 정제후 표제 화합물 56%를 수득한다.
단계 2
실시예 89의 단계 2와 유사한 공정으로 목적하는 생성물 82%를 수득한다. MS: m/z (M-1) 615
실시예 95
4-[(1-벤즈히드릴-5-{[(5-클로로-1,3-디메틸-1H-피라졸-4-일)술포닐]아미노}-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조산
단계 1
실시예 89, 단계 1에 따라서 적합한 술포닐 클로라이드를 사용하여 표제 화합물 100%를 수득한다.
단계 2
실시예 89의 단계 2와 유사한 공정으로 목적하는 생성물 96%를 수득한다. MS: m/z (M-1) 655
실시예 96
4-[(1-벤즈히드릴-5-{[(3,5-디메틸-4-이속사졸릴)술포닐]아미노}-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조산
단계 1
실시예 89, 단계 1에 따라서 적합한 술포닐 클로라이드를 사용하여 표제 화합물 100%를 수득한다.
단계 2
실시예 89의 단계 2와 유사한 공정으로 목적하는 생성물 89%를 수득한다. MS: m/z (M-1) 621
실시예 97
사이클로펜틸-N-{3-[4-(아미노카보닐)-2-메톡시벤질]-1-벤즈히드릴-1H-인돌-5-일}카바메이트
실시예 3의 화합물 (1.0당량)을 THF (0.15M)에 용해시킨 다음 카보닐 디이미디졸 (1.2당량)을 가하고 반응물을 N2하에서 3시간 동안 교반시키고 이때 TLC 분석이 반응이 완결되었을을 나타낼 경우 수산화암모늄을 가하고 (3㎖/g) 반응물을 밤새 교반시킨다. 상기 반응물에 물과 에틸 아세테이트를 가하고, 층을 분리하여 수층을 3회 추출하고, 유기 추출액을 합하여 건조 농축시키고 크로마토그라피하여 목적하는 1급 아미드 64%를 수득한다.
실시예 98
사이클로펜틸-N-{1-벤즈히드릴-3-[2-메톡시-4-(1H-1,2,3,4-테트라졸-5-일)벤질]-1H-인돌-5-일}카바메이트
단계 1
실시예 97의 화합물 (1.0당량)에 N2하에서 CH2Cl2(0.06M)을 가한 다음 (메톡시카보닐술파모일)트리에틸암모늄 수산화물 내부염 (5.0당량)을 5시간에 걸쳐 나누어 가하고 설르리를 밤새 교반시키며 이떼 TLc 분석이 반응일 완결되었음을 나타내면 이를 농축시키고 크로마토그라피하여 목적하는 생성물 78%를 수득한다.
단계 2
단계 1에서 단리된 니트릴 (1.0당량)에 나트륨 아지드 (3당량) 및 트리에틸 아민 하이드로클로라이드 (1.5당량) 및 n-메틸-2-피롤리디논 (0.05M)을 가한 다음 반응물을 불활성 대기하에서 2.5시간 동안 환류 온도로 가열하고 이를 빙수에 붓고 이어서 pH 2로 산성화시킨 다음 생성물을 여과하고 예비 크로마토그라피로 추가로 정제하여 목적하는 화합물을 22% 수율로 수득한다. MS: m/z (M-1) 597
실시예 99
4-[({1-벤즈히드릴-5-[(사이클로펜틸카보닐)아미노]-1H-인돌-3-일}카보닐)아미노]-3-티오펜카복실산
단계 1
인돌 산 (1.0당량)에 아민 (1.2당량), 디메틸아미노피리딘 (10몰%), 1-(3-디메틸아미노프로필)-3-에틸카보디이미드 하이드로클로라이드 (1.5당량)을 가한 다음 DMF (0.3M)을 가하고 반응물을 질소하에서 24시간 동안 40 ℃에서 가열하고 이때 이를 1/2 염화암모늄 포화 용액과 에틸 아세테이트에 붓고 층을 분리하여 수층을 3회 추출하고, 유기층을 합하여 물로 2회 세척하여, 농축하고 크로마토그라피하여 아미드 38%를 수득한다.
단계 2
전단계로부터의 에스테르를 THF/MeOH (3:1)에 용해시킨 다음 1N NaOH (3.0당량)을 가하고 반응물을 TLc 분석이 반응이 완결되었음을 나타낼 때 까지 교반시킨다. 반응물을 농축시키고, 물로 희석하여, 농축 HCl로 pH 2로 산성화시키고, 에틸 아세테이트로 3회 추출하고, 유기층을 합하여 황산마그네슘상에서 건조시킨 다음 농축시키고 크로마토그라피를 통하여 정제하여 목적하는 산을 64% 수율로 수득한다.
실시예 100
3-[({1-벤즈히드릴-5-[(사이클로펜틸카보닐)아미노]-1H-인돌-3-일}카보닐)아미노]벤조산
단계 1
산 (참조: 반응식 #)을 1단계로 실시예 99의 공정에 따라서 적합한 아미노 에스테르와 커플링시키는데, 반응을 실온에서 수행하는 점이 예외이며 공정으로 재결정화에 의해 단리된 목적하는 생성물을 80% 수득한다.
단계 2
1단계로부터의 니트로 에스테르 (1.0당량)를 탄소상 백금(40중량%)과 함께 플라스크중으로 칭량하고 용기를 격막으로 밀봉하여 배기시킨 다음 아르곤으로 3회 플러슁시키고 이어서 방금 증류한 THF를 가하고 반응물을 2회 배기시키고 2회 배기후 수소 풍선을 격막중으로 삽입한다. 반응물을 수소 대기압하에 16시간 동안 방치시키고 이때 TLC 분석이 환원이 완결되었음을 나타내면 반응물을 아르곤으로 플러슁시킨 다음 셀라이트대를 통하여 여과하고 촉매를 에틸 아세테이트로 철저히 세척하고, 여액을 건조시킨 다음 농축시키고 크로마토그라피를 통하여 정제하여 목적하는 아민 71%를 수득한다.
단계 3
아민 (1.0당량)을 디클로로메탄 (0.3M)에 용해시킨 다음당량의 중탄산나트륨 포화액을 가하여 최종적으로 산 클로라이드를 도입한다. 2상 반응 혼합물을 TLC 분석이 반응이 완결되었음을 나타낼 때까지 (일반적으로 수시간) 강력하게 교반시킨 다음 반응물을 디클로로메탄과 물로 희석하고, 층을 분리하여, 수층을 디클로로메탄으로 3회 추출하고, 유기층을 합하여 건조시켜 농축시키고 크로마토그라피하여 목적하는 아미드를 41% 수율로 수득한다.
단계 4
실시예 99, 단계 2에 따라서, 에스테르를 산으로 가수분해시키고 최종 생성물 71%를 수득한다. MS: m/z (M-1) 556
실시예 101
3-[({1-벤즈히드릴-5-[(사이클로펜틸카보닐)아미노]-1H-인돌-3-일}카보닐)아미노]프로판산
단계 1
디클로로메탄 (0.1M) 중 실시예 114의 최종 생성물 (1.0당량)에 0 ℃에서 옥살릴 클로라이드 (2.0당량)을 가한 다음 DMF 수방울을 가한다. 반응물을 수시간 동안 실온에서 교반시키고 농축시켜 톨루엔과 2회 공비시킨 다음 고진공하에 2시간 동안 방치시킨 후 다음 단계에서 조 물질을 사용한다.
단계 2
단계 1에서 생성된 산 클로라이드에 디클로로메탄 (0.1M)을 가한 다음 디클로로메탄 (1.0M)중 알라닌 메틸 에스테르 (1.05당량, 유리 염기)의 용액, 이어서 트리에틸아민 (1.5당량)을 가하고 생성된 혼합물을 밤새 교반시켜 염화암모늄 1/2 포화용액을 가하여 후처리하고, 층을 분리한다. 수층을 디클로로메탄으로 3회 추출하고, 유기층을 합하여 건조시켜 농축시키고 크로마토그라피를 통하여 정제하여 목적하는 아미드를 수득한다.
단계 3
단계 2로부터의 에스테르를 실시예 99, 단계 2에 개략된 조건하에서 가수분해시켜 목적하는 산을 수득한다.
실시예 102
N-[1-벤즈히드릴-3-({[(2-메틸페닐)술포닐]아미노}카보닐)-1H-인돌-5-일]사이클로펜탄카복스아미드
단계 1
실시예 101, 단계 1에서 합성한 산 클로라이드 (1.0당량)를 o-톨릴술폰아미드 (1.5당량), DMAP (0.1당량)과 함께 플라스크중으로 칭량하여 질소하에서 디클로로메탄 (0.1M)중에 용해시키고 트리에틸아민 (1.5당량)을 가하고 생성된 혼합물을 12시간 동안 교반시킨 다음 염화암모늄 1/2 포화액을 가하여 후처리한 다음, 층을 분리하고, 수층을 디클로로메탄으로 3회 추출하고, 유기층을 합하여 건조시키고 농축시켜 크로마토그라피를 통하여 정제하여 목적하는 아실술폰아미드를 52% 수율로 수득한다.
실시예 103
3-[(2-{1-벤즈히드릴-5-[(사이클로펜틸카보닐)아미노]-1H-인돌-3-일}-2-옥소아세틸)아미노]프로판산
단계 1
실시예 101, 단계 1의 공정에 따라서, 실시예 115로부터의 생성물과 적합한 아미노에스테르를 사용하여 목적하는 생성물을 100% 수율로 수득한다.
단계 2
단계 1로부터의 에스테르를 실시예 99, 단계 2에 개략된 조건하에서 가수분해시켜 목적하는 산을 수득한다. MS: m/z (M-1) 536
실시예 104
3-[(2-{1-벤즈히드릴-5-[(사이클로펜틸카보닐)아미노]-1H-인돌-3-일}-2-옥소아세틸)아미노]벤조산
단계 1
실시예 99, 단계 1의 공정에 따라서, 실시예 115로부터의 생성물과 적합한 아미노에스테르를 사용하여 목적하는 생성물을 100% 수율로 수득한다.
단계 2
단계 1로부터의 에스테르를 실시예 99, 단계 2에 개략된 조건하에서 가수분해시켜 목적하는 산을 수득한다. MS: m/z (M-1) 584
실시예 105
3-({2-[1-(4-벤질벤질)-5-(벤질옥시)-1H-인돌-3-일]아세틸}아미노)벤조산
단계 1
오븐 건조시킨 플라스크를 5-벤질옥시 인돌 3-아세트산 (1당량) (반응식 1 참조)과 무수 DMF (0.18M)을 질소하에서 충전한다. 반응 혼합물을 0 ℃로 냉각시키고 여기에 NaH (2.2당량, 광유중 60% 분산액)를 가하고, 25 ℃에서 1시간 동안 교반시킨 다음 무수 DMF중 적합한 벤질 브로마이드 (2.2당량, 40% 순도) (반응식 1, 단계 5,6 참조)의 용액을 가하여 밤새 교반시킨다. 에틸 아세테이트/물로 후처리한 다음 크로마토그라피 정제하여 목적하는 생성물을 66% 수율로 수득한다.
단계 2
THF/MeOH/H2O (3:1:1 0.094M)중에 단계 1로부터의 인돌 유도체 (1당량) (반응식-1 참조)를 용해시키고 여기에 LiOH H2O (1.2당량)을 가하여 25 ℃에서 밤새 교반시킨다. 에틸 아세테이트/물로 후처리한 다음 크로마토그라피 정제하여 목적하는 생성물을 74% 수율로 수득한다.
단계 3
단계 2로부터의 산 (1당량) (반응식-1 참조)에 메틸 3-아미노벤조에이트 (1.05당량), EDCl (1.37당량) 및 DMAP (0.2당량)을 가한 다음 무수 DMF (0.086M)을 가하여 25 ℃에서 밤새 교반시킨다. 에틸 아세테이트/1N HCl로 후처리한 다음 크로마토그라피 정제하여 목적하는 생성물을 80% 수율로 수득한다.
단계 4
단계 3으로부터의 에스테르 (1당량) (반응식-1 참조)를 THF/MeOH/H2O (3:1:1 0.04M)에 용해시키고 여기에 LiOH H2O (1.2당량)을 가하여 25 ℃에서 밤새 교반시킨다. 에틸 아세테이트/1N HCl로 후처리한 다음 CH2Cl2/헥산 (1:1)로 0.5시간 동안 연마한 다음 CH2Cl2로부터 재결정화하여 표제 화합물을 97% 수율로 수득한다. MS: m/z (M-1) 579
실시예 106
3-[(2-{5-(벤질옥시)-1-[2,4-비스(트리플루오로메틸)벤질]-1H-인돌-3-일}아세틸)아미노]벤조산
단계 1
실시예 105의 단계 1의 공정, 반응식-1에 따르고 적합한 벤질 브로마이드를 사용하여 크로마토그라피 정제후 목적하는 생성물을 50% 수율로 수득한다.
단계 2
실시예 105의 단계 2의 공정, 반응식-1에 따르고 적합한 인돌 유도체를 사용하여 크로마토그라피 정제후 목적하는 생성물을 67% 수율로 수득한다.
단계 3
실시예 105의 단계 3의 공정, 반응식-1에 따르고 적합한 인돌 유도체를 사용하여 크로마토그라피 정제후 목적하는 생성물을 75% 수율로 수득한다.
단계 4
실시에 105의 단계 4의 공정, 반응식-1에 따르고 적합한 인돌을 사용하여 크로마토그라피 정제후 목적하는 생성물을 63% 수율로 수득한다.
MS: m/z (M-1) 625
실시예 107
5-(벤질옥시)-1-[2,4-비스(트리플루오로메틸)벤질]-2-메틸-1H-인돌-3-카복실산
단계 1
5-하이드록시-2-메틸인돌-3-카복실레이트 (1당량)를 CH3CN (0.1M)중 벤질 브로마이드 (1.3당량) 및 K2CO3(325 메쉬, 1.3당량)와 합한다. 생성된 혼합물을 환류 온도로 2시간 동안 가열한다. 추가량의 벤질 브로마이드 (0.2당량)를 가하고 가열을 2시간 동안 계속한다. 물을 가하고 CH2Cl2로 추출하여 반응물을 후처리한다. 유기 추출액을 물로 세척하고, 건조시켜 농축시킨다. 섬광 크로마토그라피하여 목적하는 벤질 에테르 (63% 수율), 뿐만 아니라 대응하는 N,O-비스벤질 유도체 (22% 수율)을 수득한다.
단계 2
무수 DMF (0.25M)중 단계 1로부터의 벤질 에테르 (1당량)의 빙냉 용액을 NaH (광유중 60%, 1.1당량)로 처리한다. 1시간후 2,4-비스 트리플루오로메틸 벤질 브로마이드 (1.1당량)을 가하고 생성된 혼합물을 25 ℃에서 2시간 동안 교반한다. 용매를 진공하에서 증발시키고, 잔사를 EtOAc에 용해시켜 물로 세척하고 건조시켜 농축시킨다. 헥산/CHCl3로부터 재결정화한 후 목적하는 생성물을 77% 수율로 수득한다.
단계 3
THF/MeOH (3/1)중 단계 2로부터의 생성물 (1당량)을 1N NaOH (12당량)과 함께 환류 온도로 가열한다. 48시간 후 반응을 AcOH로 중단시키고 용매를 증발시킨다. 생성된 생성물을 재결정화하여 조 물질을 72% 수율로 수득한다. 섬광 크로마토그라피로 추가 정제한 다음 재결정화하여 순수한 표제 화합물을 수득한다. MS: m/z (M-1) 506
실시예 108
5-[({5-(벤질옥시)-1-[2,4-비스(트리플루오로메틸)벤질]-2-메틸-1H-인돌-3-일}카보닐)아미노]이소프탈산
단계 1
실시예 108의 단계 3에서 제조한 산 (1당량)을 EDCl (2당량) 및 THF (0.02M)중 디메틸 5-아미노프탈레이트 (5당량)과 DMAP (2당량)의 존재하에서 반응시킨다. 반응물을 환류 온도로 48시간 동안 가열한다. EtOAc/물로 후처리한 다음, 섬광 크로마토그라피로 정제하여 목적하는 아미드를 32% 수율로 수득한다.
단계 2
단계 1로부터의 물질 (1당량)을 LiOH H2O (2.2당량)를 THF/MeOH/물 (3/1/1, 0.07M)중에서 작용시켜 가수분해시킨다. 25 ℃에서 밤새 교반시킨 후, 반응 혼합물을 AcOH로 중단시키고 용매를 제거한다. EtOAc/물을 후처리하고 헥산/CH2Cl2중에서 연마하여 표제 화합물을 82% 수율로 수득한다. MS: m/z (M-1) 669
실시예 109
5-(벤질옥시)-2-메틸-1-(2-나프틸메틸)-1H-인돌-3-카복실산
단계 1
실시예 108, 단계 2와 유사한 공정에 따라 상기 단계 1의 주 생성물과 적합한 브로마이드를 사용하여 재결정화후 목적하는 n-치환된 인돌을 71% 수율로 수득한다.
단계 2
THF/MeOH (3/1)중 상기 단계 2로부터의 에스테르 (1당량)을 4N KOH (2당량)와 함께 환류 온도로 가열한다. 5일후 용매를 증발시키고 잔사를 1N HCl과 CHCl3사이에 분배한다. 유기 추출액을 세척하고, 건조시켜 농축시킨다. 크로마토그라피 정제 및 재결정화후 표제 화합물을 92% 수율로 수득한다. MS: m/z (M-1) 420
실시예 110
5-({[5-(벤질옥시)-2-메틸-1-(2-나프틸메틸)-1H-인돌-3-일]카보닐}아미노)이소프탈산
단계 1
실시예 109의 산을 대응하는 아미드로 실시예 108의 단계 1과 유사한 공정에 따라서 전환시킨다. 생성물은 아닐린 출발 물질로 오염되어있는데 이는 크로마토그라피에 의해 부분적으로만 제거될 수 있다.
단계 2
실시예 108의 단계 2에 따라서 조 물질을 가수분해시키코 크로마토그라피 정제한 후 표제 화합물을 수득한다 (실시예 109의 4% 수율).
실시예 111
1-벤질-5-(벤질옥시)-2-메틸-1H-인돌-3-카복실산
단계 1
실시예 107의 단계 1의 주 생성물 (1당량)을 THF (0.1M)에 용해시킨다. KOH (2당량) 및 18-크라운 (2당량)을 가하고 생성된 혼합물을 환류 온도로 1.5일간 가열한다. 상기 실시예 108의 단계 2에서와 같이 후처리하여 표제 화합물을 32%의 수율로 수득한다. MS: m/z (M-1) 370
실시예 112
3-[(2-{5-(벤질옥시)-1-(4-클로로벤질)-2-[(2-나프틸술파닐)메틸]-1H-인돌-3-일}-2-옥소아세틸)아미노]벤조산
단계 1
출발 에틸 5-벤질옥시인돌-2-카복실레이트 (반응식 21, 단계 1)를 THF (0.27M)중 LAH (1.3당량)로 0 ℃, 질소하에서 1시간 동안 처리한다. NaOH 및 물로 후처리한 다음 농축시켜 조 생성물 (100%)을 수득한다.
단계 2
단계 1로부터의 조 알코올을 DMF (0.38M)에 용해시키고, t-부틸디메틸실릴 클로라이드 (1.16당량) 및 이미다졸 (1.26당량)으로 25 ℃에서 1일간 처리한다. 후처리 및 크로마토그라피 정제하여 순수한 생성물을 수득한다 (93%).
단계 3
단계 2로부터의 실릴 에테르를 메틸렌 클로라이드 (0.26M)에 용해시키고, BOC 무수물 (1.24당량), 트리에틸아민 (1.53당량) 및 DMAP (0.21당량)으로 25 ℃에서 3일간 처리한다. 후처리 및 크로마토그라피 정제하여 순수한 생성물 (99%)을 수득한다.
단계 4
단계 3으로부터의 N-BOC 실릴 에테르를 아세트산/물/THF (3:1:1) (0.04M)로 25 ℃에서 1일간 처리한다. 후처리 및 크로마토그라피 정제하여 순수한 생성물 (100%)을 수득한다.
단계 5
단계 4로부터의 알코올을 메틸렌 클로라이드 (0.2M)에 용해시키고, 질소하에 -40 ℃에서 트리에틸아민 (1.33당량), 및 메실 클로라이드 (1.23당량)으로 1시간 동안 처리한다. 별도의 무수 플라스크에 나프탈렌-2-티올 (1.31당량)을 칭량하고, THF (1M)를 가한 다음, 리튬 헥사메틸실라지드 (THF중 1N, 1당량)를 가하고 혼합물을 25 ℃에서 30분간 교반시킨다. 생성된 용액을 30분간에 걸쳐 상기 메실레이트 용액에 -40 ℃에서 적가한다. 반응 혼합물을 25 ℃로 가온하고 4.5시간 동안 교반시킨다. 후처리 및 크로마토그라피 정제하여 BOC 티오에테르를 수득한다.
단계 6
단계 5로부터의 정제된 BOC 티오에테르를 질소하에 160 내지 170 ℃에서 1.25시간 동안 가열하고, 에틸 아세테이트 및 헥산으로부터 재결정화하여 유리 인돌 티오에테르를 64% 수율로 수득한다.
단계 7
단계 6으로부터의 인돌 티오에테르를 DMF (0.2M)에 용해시키고 수소화나트륨 (1.1당량)으로 25 ℃에서 45분간 처리한다. 4-클로로벤질 클로라이드 (1.3당량) 및 KI (촉매량)를 가하고, 혼합물을 25 ℃에서 3일간 교반시킨다. 후처리 (에틸 아세테이트/물) 및 연마 (에틸 아세테이트/헥산)하여 순수한 생성물 (52%)을 수득한다.
단계 8
에테르 중 EtMgBr의 용액 (3N, 2.17당량)을 -70 ℃로 냉각시킨다. 에테르 (0.55M)중 반응식 21에서 단계 7의 생성물 (1당량)을 가하고 반응 혼합물을 -70 ℃에서 2시간 교반시킨다. 에테르 (1.5M)중 메틸 옥살릴 클로라이드 (3당량)를 가한 후 반응물을 -40 ℃에서 2시간 동안 교반시키고, 25 ℃로 가온시킨다. 중탄산나트륨 EtOAc/물로 중단시키고 후처리 및 헥산/EtOAc로부터 재결정화하여 목적하는 케톤을 수득한다.
단계 9
단계 8로부터의 에스테르를 실시예 108의 단계 2의 일반적인 방법을 사용하여 가수분해시켜 목적하는 알파 케토산을 수득한다.
단계 10
단계 9로부터의 인돌 티오에테르를 무수 메틸렌 클로라이드 (0.05M)에 용해시키고, 옥살릴 클로라이드 (2.05당량)으로 0 ℃에서 1시간 동안 처리한다. 별도의 무수 플라스크에 3-아미노벤조산 (10당량) 및 메틸렌 클로라이드 (0.5M)중 트리에틸아민 (15당량)을 칭량한다. 생성된 용액을 0 ℃에서 적가하고, 혼합물을 밤새 25 ℃로 가온시킨다. 후처리 (메틸렌 클로라이드/HCl 수용액)하고 크로마토그라피에 의한 정제를 반복하여 순수한 표제 화합물을 수득한다.
단계 11
단계 9로부터의 생성물을 실시예 108의 단계 2로부터의 공정을 사용하여 가수분해시켜 목적하는 생성물을 28% 수율로 수득한다. MS: m/z (M-1) 709
실시예 113
3-[(2-{5-(벤질옥시)-1-메틸-2-[(2-나프틸술파닐)메틸]-1H-인돌-3-일}-2-옥소아세틸)아미노]벤조산
단계 1
상기 공정의 단계 4에 따라서 요오드화메틸을 사용하고 연마 (에틸 아세테이트/헥산)하여 순수한 생성물 (72%)을 수득한다.
단계 2
상기 단계 5 내지 11과 유사한 공정에 따라 표제 화합물을 58% 수율로 수득한다. MS: m/z (M-1) 599
실시예 114
1-벤즈히드릴-5-[(사이클로펜틸카보닐)아미노]-1H-인돌-3-카복실산
단계 1
5-니트로인돌을 실시예 3 단계 1에서와 같이 적합한 브로마이드로 알킬화시켜 목적하는 N-알킬화된 생성물을 수득한다.
단계 2
단계 1로부터의 인돌 (1.0당량)을 DMF (0.4M)에 용해시키고 오염화인 (6.9당량)으로 실온에서 처리한 다음 혼합물을 80 ℃에서 1일간 교반시키는데 이때 반응물을 얼음에 붓고 에틸 아세테이트/헥산으로 연마한 다음, 중탄산나트륨/클로로포름으로 후처리하여 C3 포르밀화 생성물을 수득한다.
단계 3
단계 2로부터의 니트로 인돌을 실시예 100, 단계 2의 공정에 따라서 환원시켜 아미노 알데히드를 수득한다.
단계 4
단계 3으로부터의 인돌을 실시예 100, 단계 3으로부터의 공정에 따라서 아실화시킨다.
단계 5
단계 4로부터의 인돌 (1.0당량), 2-메틸-2-부텐 (45당량), 인산이수소나트륨 (11.6당량)을 t-BuOH (0.2M), 물 (0.2M)에 용해시켜 염화나트륨 (11.6당량)을 가하고 반응물을 65 ℃로 24시간 동안 가열한다. 반응물을 물로 희석하고, 에틸 아세테이트로 3회 추출하여 건조시키고 농축시킨 다음 크로마토그라피로 정제하여 표제 화합물을 수득한다.
실시예 115
2-{1-벤즈히드릴-5-[(사이클로펜틸카보닐)아미노]-1H-인돌-3-일}-2-옥소아세트산
단계 1
실시예 69의 공정에 따라서, 5-니트로인돌을 3-위치에서 에틸마그네슘브로마이드 및 에틸옥살릴클로라이드로 아실화시킨다.
단계 2
상기 중간체를 실시예 114의 단계 2 내지 5에 따라서 최종 생성물로 만들어 표제 화합물을 수득한다.
실시예 116
표 I에는 상기 실시예에 기재된 화합물에 대한 cPLA2 억제 검정법 (이후 기술함)에 있어서의 데이타가 보고되어 있다. 표 I 및 II의 데이타 컬럼에서, 검정 결과는 명시된 농도에서의 억제%로 보고되어 있다.
쿠오마린 검정법
7-하이드록시쿠오마리닐 6-헵테노에이트를 문헌에 보고된 바와 같이 cPLA2에 대한 모노머성 기질로 사용한다(참조: Huang, Z., et al., 1994, Nalytical Biochemistry 22, 110-115). 억제제를 7-하이드록시쿠오마리닐 6-헵테노에이트 60 ㎕를 함유하는 검정용 완충액 200㎕ (80mM Heped, pH 7.5, 1mM EDTA)과 혼합한다. 검정용 완충액 50㎕중 cPLA2 4㎍을 가하여 반응을 개시한다. 7-하이드록시쿠오마리닐 6-헵테노에이트의 가수분해는 360㎚에서 여기시키고 460㎚에서 모니터함으로써 형광계로 모니터한다. 효소 활성은 분당 460㎚에서의 방출량의 증가량과 비례하였다. cPLA2 억제제의 존재하에서, 증가율은 적다.
본 발명의 화합물을 또한 하기 기재되는 공정에 따라서 래트 발 부종 시험에서의 생체내 활성에 대해 시험한다. 결과를 표 II에 보고한다.
래트 카라지난-유발된 발 부종 시험
각 화합물을 무수 에탄올 0.3㎖, 트윈(Tween)-80 0.1㎖ 및 둘베코(Dulbecco's) PBS(칼슘 또는 마그네슘 없슴) 2.0㎖에 현탁시킨다. 상기 혼합물에, 1N NaOH 0.1㎖를 가한다. 용해 완료후, 추가량의 PBS를 가하여 농도를 1㎎/㎖로 조정한다. 모든 화합물은 용액중에 남아있다. 화합물을 수컷 스프라그 다울리 래트에게 5㎖/㎏의 용적으로 정맥 투여하고 동시에 1% 타입 IV 카라지난 0.05㎖를 뒷발에 주사하여 부종을 유발시킨다. 화합물 투여전과 카라지난을 투여한지 3시간 후에 발의 체적을 측정한다.
실시예 117
2-{4-[(1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-인돌-3-일)메틸]-2,6-디메틸페녹시}아세트산
단계 1
CH2Cl2(0.1M)중 1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-인돌 (1.0당량) 및 2-(4-포르밀-2,6-디메틸페녹시)아세테이트 (0.6당량)에 0 ℃에서 가하고 순수한 트리에틸실란 (3당량)을 가한 다음 트리플루오로아세트산 (3당량)을 가한다. 0 ℃에서 10분후 반응무을 실온으로 가온시키고 초기에 형성된 점이 TLC에 의해 새로운 점으로 될 때 까지 교반시킨다. 중탄산나트륨 포화액을 가하여 반응을 중단시키고, CH2Cl2로 희석하여 중탄산나트륨 포화액, 물 및 염수로 세척하고, 황산마그네슘상에서 건조시켜 컬럼 크로마토그라피로 정제하여 목적하는 생성물을 89%로 수득한다.
단계 2
생성된 에스테르를 실시예 1 단계 5에서와 같이 가수분해시켜 연마 및(또는) 컬럼 크로마토그라피후 표제 화합물을 수득한다. m/z (M-1) 508.3
실시예 118
2-{4-[(1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시페녹시}아세트산
단계 1
본 화합물을 1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-인돌 및 메틸 2-(4-포르밀-3-메톡시페녹시)아세테이트로부터 실시예 117, 단계 1의 공정에 따라서 제조한다.
단계 2
상기 에스테르 중간체를 실시예 117, 단계 2에 따라서 가수분해시켜 표제 산을 수득한다.
실시예 119
2-{4-[(1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-3-일)메틸]페녹시}아세트산
단계 1
본 화합물을 1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-인돌 및 메틸 2-(4-포르밀페녹시)아세테이트로부터 실시예 117, 단계 1의 공정에 따라서 제조한다.
단계 2
상기 에스테르 중간체를 실시예 117, 단계 2에 따라서 가수분해시켜 표제 산을 수득한다.
실시예 120
2-{4-[(1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-3-일)메틸]-3-클로로페녹시}아세트산
단계 1
본 화합물을 1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-인돌 및 메틸 2-(3-클로로-4-포르밀페녹시)아세테이트로부터 실시예 117, 단계 1의 공정에 따라서 제조한다.
단계 2
상기 에스테르 중간체를 실시예 117, 단계 2에 따라서 가수분해시켜 표제 산을 수득한다.
실시예 121
2-{4-[(1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-3-일)메틸]-2-메톡시페녹시}아세트산
단계 1
본 화합물을 1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-인돌 및 메틸 2-(4-포르밀-2-메톡시페녹시)아세테이트로부터 실시예 117, 단계 1의 공정에 따라서 제조한다.
단계 2
상기 에스테르 중간체를 실시예 117, 단계 2에 따라서 가수분해시켜 표제 산을 수득한다. m/z (M-1) 510.2
실시예 122
(E)-4-{4-[(1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-인돌-3-일)메틸]페녹시}-2-부텐산
단계 1
본 화합물을 1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-인돌-3-일)메틸]페녹시}-2-부테노산
단계 1
본 화합물을 1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-인돌 및 (E)-4-(4-포르밀페녹시)-2-부테노에이트로부터 실시예 117, 단계 1의 공정에 따라서 91% 수율로 수득한다.
단계 2
상기 에스테르 중간체를 실시예 117, 단계 2에 따라서 가수분해시켜 표제 산을 수득한다. m/z (M-1) 506.3
실시예 123
4-{4-[(1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-인돌-3-일)메틸]아닐리노}-4-옥소부탄산
단계 1
본 중간체 화합물을 1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-인돌 및 4-니트로벤즈알데하이드로부터 실시예 117, 단계 1의 공정에 따라서 42% 수율로 제조한다.
단계 2
1-벤즈히드릴-6-클로로-3-(4-니트로벤질)-1H-인돌을 THF (0.1M)에 용해시켜 1대기압의 수소 가스중 탄소상 10% 팔라듐 촉매 (2.5% w/w)의 존재하에 놓아 환원시킨다. 출발 물질이 모두 새로운 점으로 전환되었음이 TLC 분석으로 확인되었을 때 반응물을 여과하고 농축시켜 목적하는 중간체를 거의 정량적 수율로 수득한다.
단계 3
CH2Cl2(0.1M)중 상기 중간체 (1.0당량)에 0 ℃에서 트리에틸아민 (1.5당량)을 가한 다음 3-카보메톡시프로프피오닐 클로라이드 (1.5당량)을 가한다. 반응물을 실온으로 가온시키고, 출발 물질이 TLC에 의해 완전히 사라진 것으로 확인 될 때 까지 교반시킨 다음, 중탄산나트륨 포화액을 가하여 후처리하고, CH2Cl2로 희석한 다음 유기층을 물, 중탄산나트륨 포화액 및 염수로 세척하고 건조시켜 농축시키고 컬럼 크로마토그라피로 정제하여 목적하는 화합물을 81% 수율로 수득한다.
단계 4
단계 3으로부터의 에스테르를 실시예 117, 단계 2에 따라서 가수분해시켜 표제 산을 수득한다. m/z (M-1) 521.3
실시예 124
나트륨 3-{4-[(1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-인돌-3-일)메틸]아닐리노}-3-옥소프로판산
단계 1
실시예 117, 단계 1로부터의 중간체를 메틸 말로닐 클로라이드로 실시예 117의 단계 1의 공정에 따라서 82% 수율로 아실화시킨다.
단계 2
실시예 123의 단계 2에 따라서 상기 에스테르를 가수분해시켜 표제 화합물을 수득한다. m/z (M-1) 507.2
실시예 125
2-{4-[(1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-인돌-3-일)메틸]아닐리노}-2-옥소아세트산
단계 1
실시예 117, 단계 1로부터의 중간체를 메틸 옥살릴 클로라이드로 실시예 117의 단계 1의 공정에 따라서 67% 수율로 아실화시킨다.
단계 2
실시예 123의 단계 2에 따라서 상기 에스테르를 가수분해시켜 표제 화합물을 수득한다. m/z (M-1) 493.2
실시예 126
2-[(1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-인돌-3-일)메틸]사이클로프로판카복실산
단계 1
본 중간체 화합물은 1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-인돌 및 에틸 2-포르밀-1-사이클로프로판카복실레이트로부터 실시예 117, 단계 1의 공정에 따라서 53% 수율로 제조한다.
단계 2
상기 에스테르를 실시예 117, 단계 2에 따라서 가수분해시켜 표제 화합물을 93% 수율로 수득한다. m/z (M-1) 1414.2
실시예 127
2-[(1-벤즈히드릴-6-클로로-5-플루오로-1H-인돌-3-일)메틸]사이클로프로판카복실산
단계 1
6-클로로-5-플루오로인돌을 실시예 69, 단계 2의 공정에 따라서 벤즈히드릴브로마이드로 N-알킬화시켜 표적 중간체를 수득한다.
단계 2
단계 1로부터의 생성물을 실시예 117, 단계 1의 공정에 따라서 에틸 2-포르밀-1-사이클로프로판카복실레이트로 53% 수율로 C3 아실화시킨다.
단계 3
상기 에스테르를 실시예 117, 단계 2에 따라서 가수분해시켜 표제 화합물을 73% 수율로 수득한다. m/z (M-1) 432.2
실시예 128
2-[(1-벤즈히드릴-5,6-디클로로-1H-인돌-3-일)메틸]사이클로프로판카복실산
단계 1
5,6-디클로로인돌을 실시예 69, 단계 2의 공정에 따라서 벤즈히드릴 브로마이드로 N-알킬화시켜 70% 수율로 표적 중간체를 수득한다.
단계 2
단계 1로부터의 중간체를 2-포르밀-1-사이클로프로판카복실리에트로 실시예 117, 단계 1의 공정에 따라서 62% 수율로 C3 아실화시킨다.
단계 3
상기 에스테르를 실시예 117, 단계 2에 따라서 가수분해시켜 73% 수율로 표제 화합물을 수득한다. m/z (M-1) 448.2
실시예 129
2-({1-[비스(4-하이드록시페닐)메틸]-6-클로로-1H-인돌-3-일}메틸)사이클로프로판카복실산
단계 1
6-클로로인돌을 실시예 117 단계 1의 공정에 따라서 에틸 2-포르밀-1-사이클로펜탄카복실레이트로 C3 알킬화시킨다.
단계 2
단계 1로부터이 중간체 (2.0당량)을 THF (0.5M)에 용해시키고 -40 ℃로 냉각시킨 다음 트리에틸아민 (2.0당량)을 가한 다음 메탄술포닐 클로라이드 (2.0당량)을 가한다. 반응물을 이 온도에서 TLC 분석이 출발 알코올을 더이상 나타내지 않을 때 까지 교반시킨 다음, 이를 DMF (1.0M)중 단계 1로부터의 c3 알킬화된 인돌의 혼합물중으로 -20 ℃에서 직접 캐뉼레이트화하여 실온에서 수소화나트륨 (60% 분산액 4.0당량)과 함께 30분간 교반시킨다. 생성된 혼합물을 실온으로 밤새 가온하고 반응이 완결된 것으로 판단될 때 염화암모늄 포화액을 가하여 중단시키고, 에틸 아세테이트로 희석하여 염화암모늄 포화액, 중탄산나트륨 포화액 및 물 (2x)로 세척하고 건조시켜, 농축시키고 컬럼 크로마토그라피로 정제한다.
단계 3
단계 2로부터의 중간체를 THF (1.0M)에 용해시키고 테트라부틸암모늄 플루오라이드 (2.5당량)으로 처리하여 실온에서 TLC 분석이 실릴 에테르 둘다 분해되었음을 나타낼 때 까지 교반시킨다. 반응물을 염화암모늄 포화액에 붓고 에틸 아세테이트 (3x)로 추출하고, 유기상을 물, 염수로 세척하여 건조시키고 농축시켜 컬럼 크로마토그라피로 정제하여 중간체를 73% 수율로 수득한다.
단계 4
단계 3으로부터의 에스테르를 실시예 123의 단계 2에 따라서 가수분해시켜 표제 화합물을 92% 수율로 수득한다. m/z (M-1) 447.12
실시예 130
'4-[(1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-인돌-3-일)메틸]-3-하이드록시벤조산
단계 1
본 화합물은 1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-인돌 및 4-하이드록시-2-메톡시벤즈알데하이드로부터 실시예 117, 단계 1의 공정에 따라서 제조한다.
단계 2
상기 에스테르를 실시예 117, 단계 2에 따라서 가수분해시켜 표제 화합물을 수득한다.
실시예 131
'4-[(1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-인돌-3-일)메틸]-3-(3-하이드록시프로폭시)벤조산
단계 1
실시예 130, 단계 1로부터의 중간체를 DMF (1.0M)에 용해시키고, 고체 탄산칼륨 (3당량), 이어서 2-(3-브로모프로폭시)테트라하이드로-2H-피란 (1.5당량)을 가한 다음 반응물을 실온에서 24시간 동안 교반시킨다. 후처리는 염화암모늄 반포화액과 에틸 아세테이트로 희석하는 것, 수층을 에틸 아세테이트 (2x)로 추출하는 것, 유기층을 물 (2x)로 세척하는 것, 건조, 농축, 이어서 컬럼 크로마토그라피로 정제하는 것으로 이루어져 있다.
단계 2
단계 1로부터의 중간체를 THF (1.0M)에 용해시키고, 빙초산 (2.0당량)으로 처리하여 45 ℃에서 24시간 동안 가열하고, 이때 반응물을 중탄산나트륨 포화액과 에틸 아세테이트 사이에 분배하여, 유기층을 합하고 이를 물 (2x)로 세척하고 건조시켜 농축시키고 컬럼 크로마토그라피로 정제하여 목적하는 화합물을 88% 수득한다.
단계 3
상기 에스테르를 실시예 123의 단계 2에 따라서 가수분해시켜 표제 화합물을 수득한다. m/z (M-1) 524.3
실시예 132
'4-({1-[(4-아미노페닐)(페닐)메틸]-6-클로로-1H-인돌-3-일}메틸)-3-메톡시벤조산
단계 1
본 화합물을 6-클로로인돌 및 메틸 2-(4-포르밀-2-메톡시페녹시)아세테이트로부터 실시예 117, 단계 1의 공정에 따라서 61% 수율로 제조한다.
단계 2
단계 1로부터의 중간체를 실시예 129, 단계 2의 공정에 따라서 3급-부틸-N-{4-[하이드록시(페닐)메틸]페닐}카바메이트로 N-알킬화시킨다.
단계 3
화합물을 180 ℃로 가열하여 질소 보호를 제거하여 목적하는 아미노 에스테르를 45% 수율로 수득한다.
단계 4
단계 3으로부터의 중간체를 실시예 117, 단계 2에 따라서 표제 화합물을 78% 수율로 수득한다. m/z (M-1) 495.2
실시예 133
'4-({6-클로로-1-[(4-메톡시페닐)(페닐)메틸]-1H-인돌-3-일}메틸)-3-메톡시벤조산
단계 1
실시예 132, 단계 1로부터의 중간체 (1.0당량)을 DMF (1.0M)에 용해시켜, 0 ℃로 냉각시키고, 수소화나트륨 (1.5당량)으로 처리하여 30분간 교반시켜 탈양자화를 수행한다. DMF (2.0M)중의 용액으로, 1-[브로모(페닐)메틸]-4-메톡시벤젠 (1.5당량)을 상기 음이온에 가하고 반응물을 실온으로 가온시켜, 반응이 TLC 분석에 의해 완결된 것으로 판단될 때 에틸 아세테이트와 염화암모늄 반포화액 사이에 분배시키고, 수층을 에틸 아세테이트 (2x)로 추출하여 유기층을 물 (2x)로 세척하고, 건조시켜 농축시킨 다음 컬럼 크로마토그라피를 통하여 정제하여 목적하는 중간체를 수득한다.
단계 2
단계 1로부터의 중간체를 실시예 117, 단계 2에 따라서 가수분해시켜 표제 화합물을 수득한다. m/z (M-1) 510.2
실시예 134
'4-({1-[비스(4-메톡시페닐)메틸]-6-클로로-1H-인돌-3-일}메틸)-3-메톡시벤조산
단계 1
실시예 132로부터의 중간체를 실시예 133, 단계 1에 기재된 공정에 따라서 1-[브로모(4-메톡시페닐)메틸]-4-메톡시벤젠으로 N-알킬화시켜 목적하는 중간체를 수득한다.
단계 2
단계 1로부터의 중간체를 실시예 117의 단계 2에 따라서 가수분해시켜 표제 화합물을 수득한다. m/z (M-1)540.3
실시예 135
'4-({6-클로로-1-[2-모르폴리노페닐)(페닐)메틸]-1H-인돌-3-일}메틸)-3-메톡시벤조산
단계 1
실시예 132로부터의 중간체를 실시예 129, 단계 2의공정에 따라서 적합한 친전자체로 N-알킬화시킨다.
단계 2
단계 1로부터의 중간체를 실시예 117, 단계 2에 따라서 가수분해시켜 표제 화합물을 수득한다.
실시예 136
4-({6-클로로-1-[(2,4-디메톡시-5-피리미디닐)(페닐)메틸]-1H-인돌-3-일}메틸)-3-메톡시벤조산
단계 1
실시예 132로부터의 중간체를 실시예 129, 단계 2의 공정에 따라서 적합한 친전자체로 N-알킬화시켜 목적하는 중간체를 16% 수율로 수득한다.
단계 2
단계 1로부터의 중간체를 실시예 117의 단계 2에 따라서 가수분해시켜 표제 화합물을 수득한다. m/z (M-1) 542.3
실시예 137
'4-[(1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조산
단계 1
본 화합물을 실시예 117, 단계 1의 공정에 따라서 1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-인돌 및 적합한 알데하이드로부터 제조한다.
단계 2
단계 1로부터의 중간체를 실시예 117의 단계 2에 따라서 가수분해시켜 표제 화합물을 수득한다. m/z (M-1) 481.14
실시예 138
2-({4-[(1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조일}아미노)아세트산
단계 1
실시예 137, 단계 2로부터의 중간체를 실시예 76의 공정에 따라서 글리신 에틸 에스테르로 처리하여 목적하는 에스테르를 수득한다.
단계 2
단계 1로부터의 중간체를 실시예 117, 단계 2에 따라서 가수분해시켜 표제 화합물을 수득한다. m/z(M-1) 537.2
본 명세서에서 인용된 모든 특허 및 참고 문헌은 본 명세서에 전문 기재된 바와 같이 포함된다.

Claims (33)

  1. 다음 화학식의 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염.
    상기 화학식에서
    R1은 H, 할로겐, -CF3, -OH, -C1-C10알킬, -S-C1-C10알킬, -C1-C10알콕시, -CN, -NO2, -NH2, 페닐, -O-페닐, -S-페닐, 벤질, -O-벤질, -S-벤질 또는 화학식
    의 잔기로부터 선택되고;
    R6은 H, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, 페닐, -O-페닐, 벤질, -O-벤질이며, 이들 기중의 페닐 및 벤질 환은 할로겐, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, -CN, -CF3및 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며;
    R7은 -OH, -CF3, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NH-(C1-C6알킬), -N-(C1-C6알킬)2, 피리디닐, 티에닐, 푸릴, 피롤릴, 페닐, -O-페닐, 벤질, -O-벤질, 피라졸릴 및 티아졸릴로부터 선택되고, 이들 기중의 환은 할로겐, -CN, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, -CF3및 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며;
    R2는 H, 할로겐, -CF3, -OH, -C1-C10알킬, -C1-C10알콕시, -CHO, -CN, -NO2, -NH2, -NH-C1-C6알킬, -N(C1-C6알킬)2, -N-SO2-C1-C6알킬 및 -SO2-C1-C6알킬로부터 선택되고;
    R3은 -COOH, -C(O)-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -(CH2)n-COOH, -CH=CH-COOH, -(CH2)n-테트라졸,
    로부터 선택되거나 화학식 -L1-M1으로부터 선택된 잔기이고;
    L1은 화학 결합, -(CH2)n-, -S-, -O-, -C(O)-, -(CH2)n-C(O)-, -(CH2)n-C(O)-(CH2)n-, -(CH2)n-O-(CH2)n-, -(CH2)n-S-(CH2)n-, -C(Z)-N(R6)-, -C(Z)-N(R6)-(CH2)n-, -C(O)-C(Z)-N(R6)-, -C(O)-C(Z)-N(R6)-(CH2)n-, -C(Z)-NH-SO2- 및 -C(Z)-NH-SO2-(CH2)n-으로부터 선택된 가교 또는 연결 잔기이고;
    M1은 -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, 테트라졸,
    로 이루어진 그룹으로부터 선택되며;
    R8은 각각 독립적으로 H, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, 테트라졸,
    로부터 선택되고;
    R9는 H, 할로겐, -CF3, -OH, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -C1-C6알킬, -O-C1-C6알킬, -O-(CH2)n-COOH, -O-CH2-C=C-COOH, -O-C=C-CH2-COOH, -NH(C1-C6알킬), -N(C1-C6알킬)2, -N-C(O)-(CH2)n-COOH, -N-SO2-(CH2)n-COOH, -C(O)-N-(CH2)n-COOH로부터 선택되며;
    R10은 H, 할로겐, -CF3, -OH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -C1-C6알킬, -O-C1-C6알킬, -O-(C1-C6알킬)-(OH)n, -NH(C1-C6알킬), -N(C1-C6알킬)2, -N-C(O)-N-(C1-C6알킬)-(OH)2,
    로부터 선택되고;
    R11은 H, C1-C6저급 알킬, C1-C6사이클로알킬, -CF3, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH,
    로부터 선택되는데,
    단, R3, L1, M1, R8, R9, R10및/또는 R11의 조합에 의해 생성된 인돌 또는 인돌린 3-위치에서의 완전한 잔기는 카복실산, 테트라졸 및 화학식
    의 잔기로부터 선택되거나 이를 함유하는 산성 잔기를 1개 이상 함유하여야 하며;
    n은 0 내지 3의 정수이고;
    R4는 H, -CF3, C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, C3-C10사이클로알킬, -C1-C6알킬-C3-C10사이클로알킬, -CHO, 할로겐 및 화학식 -L2-M2의 잔기로부터 선택되며;
    L2는 화학식 -(CH2)n-, -S-, -O-, -C(O)-, -(CH2)n-C(O)-, -(CH2)n-C(O)-(CH2)n-, -(CH2)n-O-(CH2)n- 또는 -(CH2)n-S-(CH2)n-의 연결 또는 가교기를 나타내고;
    M2는 C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, C3-C10사이클로알킬, 페닐 및 벤질로 이루어진 그룹(여기서, 사이클로알킬, 페닐 또는 벤질 환은 할로겐, C1-C10알킬, C1-C10알콕시, -NO2, -NH2, -CN 및 -CF3로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환된다)으로부터 선택되거나;
    a) 비제한적으로 푸란, 피롤, 티오펜, 이미다졸, 피라졸, 피롤리딘 또는 테트라졸을 포함하고, 할로겐, C1-C10알킬, C1-C10알콕시, -NO2, -NH2, -CN 및 -CF3로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 및 O로부터 선택된 1개 또는 2개의 환 헤테로원자를 함유하는 헤테로사이클릭 5원 환; 또는
    b) 비제한적으로 피리딘, 피리미딘, 피페리딘, 피페라진 또는 모르폴린을 포함하고, 할로겐, C1-C10알킬, C1-C10알콕시, -CHO, -NO2, -NH2, -CN, -CF3및 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 및 O로부터 선택된 1개, 2개 또는 3개의 환 헤테로원자를 함유하는 헤테로사이클릭 6원 환; 또는
    c) 비제한적으로 벤조푸란, 인돌, 인돌린, 나프탈렌, 퓨린 또는 퀴놀린을 포함하고, 할로겐, C1-C10알킬, C1-C10알콕시, -CHO, -NO2, -NH2, -CN, -CF3및 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 및 O로부터 선택된 1개 내지 3개의 환 헤테로원자를 임의로 함유하는 환원자수 8 내지 10의 비사이클릭 환 잔기이고;
    R5는 C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, -(CH2)n-C3-C10사이클로알킬, -(CH2)n-S-(CH2)n-C3-C10사이클로알킬, -(CH2)n-O-(CH2)n-C3-C10사이클로알킬이거나,
    a) -(CH2)n-페닐-O-페닐, -(CH2)n-페닐-CH2-페닐, -(CH2)n-O-페닐-CH2-페닐, -(CH2)n-페닐-(O-CH2-페닐)2, -CH2-페닐-C(O)-벤조티아졸 또는 화학식
    의 잔기(여기서, n은 0 내지 3의 정수이고; Y는 C3-C5사이클로알킬, 페닐, 벤질, 나프틸, 피리디닐, 퀴놀릴, 푸릴, 티에닐, 피롤릴, 벤조티아졸 및 피리미디닐이며, 이들 기중의 환은 H, 할로겐, -CF3, -OH, -C1-C6알킬, -C1-C6알콕시, -CN, -NH2, -NO2및, N, S 및 O로부터 선택된 1개의 헤테로원자를 함유하는 헤테로사이클릭 5원 환으로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환된다); 또는
    b) 화학식 -(CH2)n-A, -(CH2)n-S-A 또는 -(CH2)n-O-A의 잔기(여기서,
    A는 화학식의 잔기이며, D는 H, C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, -CF3또는 -(CH2)n-CF3이고, B 및 C는 독립적으로 각각 H, 할로겐, -CN, -CHO, -CF3, -OH, -C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NH2, -N(C1-C6)2, -NH(C1-C6), -N-C(O)-(C1-C6) 및 -NO2로부터 선택된 1 내지 3개, 바람직하게는 1 내지 2개의 치환체 또는 O, N 및 S로부터 선택된 1 또는 2개의 헤테로원자를 함유하는 헤테로사이클릭 또는 헤테로방향족 5원 또는 6원 환으로 임의로 치환되는, 페닐, 피리디닐, 피리미디닐, 푸릴, 티에닐 또는 피롤릴기로부터 독립적으로 선택된다)의 기이다.
  2. 제1항에 있어서, R1, R4및 R2가 수소인 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염.
  3. 제2항에 있어서, R1이 인돌 또는 인돌린 5-위치에 있는 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염.
  4. 제3항에 있어서, R1이 벤질옥시기인 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염.
  5. 제1항에 있어서, R3이 -L1-M1이고, M1이 화학식의 잔기이며, L1및 R9가 제1항에 정의한 바와 같은 화합물.
  6. 다음 화학식의 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염.
    상기 화학식에서
    R1은 H, 할로겐, -CF3, -OH, -C1-C6알킬, -C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, CN, 페닐, -O-페닐, 벤질, -O-벤질, -S-벤질 또는 화학식
    의 잔기이고;
    R6은 H, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, 페닐, -O-페닐, 벤질, -O-벤질로부터 선택되고, 이들 기중의 페닐 및 벤질 환은 할로겐, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NH2, -NO2, -CF3및 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며;
    R7은 -CF3, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NH-(C1-C6알킬), -N-(C1-C6알킬)2, 피리디닐, 티에닐, 푸릴, 피롤릴, 페닐, -O-페닐, 벤질, -O-벤질, 피라졸릴 및 티아졸릴로부터 선택되고, 이들 기중의 환은 할로겐, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NH2, -NO2, -CF3또는 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며;
    R2는 H, 할로겐, -CN, -CHO, -CF3, -OH, -C1-C10알킬, -C1-C10알콕시, -CHO, -CN, -NO2, -NH2, -NH-C1-C6알킬, -N(C1-C6알킬)2, -N-SO2-C1-C6알킬 및 -SO2-C1-C6알킬로부터 선택되고;
    R3은 -COOH, -C(O)-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -(CH2)n-COOH, -CH=CH-COOH, -(CH2)n-테트라졸,
    로부터 선택되거나 화학식 -L1-M1으로부터 선택된 잔기이고,
    L1은 화학 결합, -(CH2)n-, -S-, -O-, -C(O)-, -(CH2)n-C(O)-, -(CH2)n-C(O)-(CH2)n-, -(CH2)n-O-(CH2)n-, -(CH2)n-S-(CH2)n-, -C(Z)-N(R6)-, -C(Z)-N(R6)-(CH2)n-, -C(O)-C(Z)-N(R6)-, -C(O)-C(Z)-N(R6)-(CH2)n-, -C(Z)-NH-SO2- 및 -C(Z)-NH-SO2-(CH2)n-으로부터 선택된 가교 또는 연결 잔기이고;
    M1은 -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, 테트라졸,
    로 이루어진 그룹으로부터 선택되며;
    R8은 각각 독립적으로 H, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, 테트라졸,
    로부터 선택되고;
    R9는 H, 할로겐, -CF3, -OH, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -C1-C6알킬, -O-C1-C6알킬, -NH(C1-C6알킬) 및 -N(C1-C6알킬)2로부터 선택되며;
    R10은 H, 할로겐, -CF3, -OH, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -C1-C6알킬, -O-C1-C6알킬, -NH(C1-C6알킬), -N(C1-C6알킬)2,
    로부터 선택되고;
    R11은 H, C1-C6저급 알킬, C1-C6사이클로알킬, -CF3, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH,
    로부터 선택되는데,
    단, R3, L1, M1, R8, R9, R10및/또는 R11의 조합에 의해 생성된 인돌 또는 인돌린 3-위치에서의 완전한 잔기는 카복실산, 테트라졸 및 화학식
    의 잔기로부터 선택되거나 이를 함유하는 산성 잔기를 1개 이상 함유하여야하며;
    n은 0 내지 3의 정수이고;
    R4는 H, -CF3, C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, C3-C10사이클로알킬, -C1-C6알킬-C3-C10사이클로알킬, -CHO, 할로겐 및 화학식 -L2-M2의 잔기로부터 선택되며;
    L2는 화학식 -(CH2)n-, -S-, -O-, -C(O)-, -(CH2)n-C(O)-, -(CH2)n-C(O)-(CH2)n-, -(CH2)n-O-(CH2)n- 또는 -(CH2)n-S-(CH2)n-의 연결 또는 가교기를 나타내고;
    M2는
    a) C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, C3-C10사이클로알킬, 페닐 또는 벤질로 이루어진 그룹(여기서, 사이클로알킬, 페닐 또는 벤질 환은 할로겐, C1-C10알킬, C1-C10알콕시, -NO2, -NH2, -CN 및 -CF3로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환된다); 또는
    b) 비제한적으로 푸란, 피롤, 티오펜, 이미다졸, 피라졸, 피롤리딘 또는 테트라졸을 포함하고, 할로겐, C1-C10알킬, C1-C10알콕시, -NO2, -NH2, -CN 및 -CF3로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 및 O로부터 선택된 1개 또는 2개의 환 헤테로원자를 함유하는 헤테로사이클릭 5원 환; 또는
    c) 비제한적으로 피리딘, 피라진, 피리미딘, 피페리딘, 피페라진, 티아진 또는 모르폴린을 포함하고, 할로겐, C1-C10알킬, C1-C10알콕시, -CHO, -NO2, -NH2, -CN, -CF3및 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 및 O로부터 선택된 1개, 2개 또는 3개의 환 헤테로원자를 함유하는 헤테로사이클릭 6원 환; 또는
    d) 비제한적으로, 벤조푸란, 크로멘, 인돌, 이소인돌, 인돌린, 이소인돌린, 나프탈렌, 퓨린, 퀴놀린 또는 이소퀴놀린을 포함하고, 할로겐, C1-C10알킬, C1-C10알콕시, -CHO, -NO2, -NH2, -CN, -CF3및 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 및 O로부터 선택된 1개 내지 3개의 환 헤테로원자를 임의로 함유하는 환원자수 8 내지 10의 비사이클릭 환 잔기로부터 선택되고;
    R5는 C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, -(CH2)n-C3-C5사이클로알킬, -(CH2)n-S-(CH2)n-C3-C5사이클로알킬, -(CH2)n-O-(CH2)n-C3-C5사이클로알킬이거나,
    a) -(CH2)n-페닐-O-페닐, -(CH2)n-페닐-CH2-페닐, -(CH2)n-O-페닐-CH2-페닐, -(CH2)n-페닐-(O-CH2-페닐)2, -CH2-페닐-C(O)-벤조티아졸, 또는 화학식
    의 잔기(여기서, n은 0 내지 3의 정수이고, Y는 C3-C5사이클로알킬, 페닐, 벤질, 나프틸, 피리디닐, 퀴놀릴, 푸릴, 티에닐, 피롤릴, 벤조티아졸 또는 피리미디닐이고, 이들 기중의 환은 H, 할로겐, -CF3, -OH, -C1-C6알킬, -C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, 및 N, S 및 O로부터 선택된 1개의 헤테로원자를 함유하는 헤테로사이클릭 5원 환으로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환된다); 또는
    b) 화학식 -(CH2)n-A, -(CH2)n-S-A 또는 -(CH2)n-O-A의 잔기(여기서,
    A는 화학식의 잔기이며, D는 H, C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, -(CH2)n-CF3또는 -CF3이고, B 및 C는 각각 H, 할로겐, -CF3, -OH, -C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NH2및 -NO2로부터 선택된 치환체 1 내지 3개로 임의로 치환되는, 페닐, 피리디닐, 피리미디닐, 푸릴, 티에닐 또는 피롤릴기로부터 독립적으로 선택된다)의 기이다.
  7. 제5항에 있어서, R1이 인돌 또는 인돌린 환의 5-위치에 있는 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염.
  8. 다음 화학식의 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염.
    상기 화학식에서
    R1은 H, 할로겐, -CF3, -OH, -C1-C6알킬, -C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, 페닐, -O-페닐, 벤질, -O-벤질, -S-벤질 또는 화학식
    의 잔기로부터 선택되고;
    R6은 H, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, 페닐, -O-페닐, 벤질, -O-벤질이고, 이들 기중의 페닐 및 벤질 환은 할로겐, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NO2, -CF3및 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며;
    R7은 -CF3, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NH-(C1-C6알킬), -N-(C1-C6알킬)2, 피리디닐, 티에닐, 푸릴, 피롤릴, 페닐, -O-페닐, 벤질, -O-벤질, 피라졸릴 및 티아졸릴로부터 선택되고, 이들 기중의 환은 할로겐, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NH2, -NO2, -CF3및 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며;
    R2는 H, 할로겐, -CN, -CHO, -CF3, -OH, -C1-C10알킬, -C1-C10알콕시, -CHO, -CN, -NO2, -NH2, -NH-C1-C6알킬, -N(C1-C6알킬)2, -N-SO2-C1-C6알킬 및 -SO2-C1-C6알킬로부터 선택되고;
    R3은 -COOH, -C(O)-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -(CH2)n-COOH, -CH=CH-COOH, -(CH2)n-테트라졸,
    로부터 선택되거나 화학식 -L1-M1으로부터 선택된 잔기이고,
    L1은 화학 결합, -(CH2)n-, -S-, -O-, -C(O)-, -(CH2)n-C(O)-, -(CH2)n-C(O)-(CH2)n-, -(CH2)n-O-(CH2)n-, -(CH2)n-S-(CH2)n-, -C(Z)-N(R6)-, -C(Z)-N(R6)-(CH2)n-, -C(O)-C(Z)-N(R6)-, -C(O)-C(Z)-N(R6)-(CH2)n-, -C(Z)-NH-SO2및 -C(Z)-NH-SO2-(CH2)n-으로부터 선택된 가교 또는 연결 잔기이고;
    M1은 -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, 테트라졸,
    로 이루어진 그룹으로부터 선택되며;
    R8은 각각 독립적으로 H, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, 테트라졸,
    로부터 선택되고;
    R9는 H, 할로겐, -CF3, -OH, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -C1-C6알킬, -O-C1-C6알킬, -NH(C1-C6알킬) 및 -N(C1-C6알킬)2로부터 선택되며;
    R10은 H, 할로겐, -CF3, -OH, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -C1-C6알킬, -O-C1-C6알킬, -NH(C1-C6알킬), -N(C1-C6알킬)2,
    로부터 선택되고;
    R11은 H, C1-C6저급 알킬, C1-C6사이클로알킬, -CF3, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH,
    로부터 선택되는데,
    단, R3, L1, M1, R8, R9, R10및/또는 R11의 조합에 의해 생성된 인돌 또는 인돌린 3-위치에서의 완전한 잔기는 카복실산, 테트라졸 또는 화학식
    의 잔기로부터 선택되거나 이를 함유하는 산성 잔기를 1개 이상 함유하여야하며;
    n은 0 내지 3의 정수이고;
    R4는 H, -CF3, C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, C3-C10사이클로알킬, -C1-C6알킬-C3-C10사이클로알킬, -CHO, 할로겐 및 화학식 -L2-M2의 잔기로부터 선택되며;
    L2는 화학식 -(CH2)n-, -S-, -O-, -C(O)-, -(CH2)n-C(O)-, -(CH2)n-C(O)-(CH2)n-, -(CH2)n-O-(CH2)n- 또는 -(CH2)n-S-(CH2)n-의 연결 또는 가교기를 나타내고;
    M2는
    a) C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, C3-C10사이클로알킬, 페닐 및 벤질로 이루어진 그룹(여기서, 사이클로알킬, 페닐 또는 벤질 환은 할로겐, C1-C10알킬, C1-C10알콕시, -NO2, -NH2, -CN 및 -CF3로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환된다); 또는
    b) 비제한적으로 푸란, 피롤, 티오펜, 이미다졸, 피라졸, 피롤리딘 또는 테트라졸을 포함하고, 할로겐, C1-C10알킬, C1-C10알콕시, -NO2, -NH2, -CN 및 -CF3로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 및 0로부터 선택된 1개 또는 2개의 환 헤테로원자를 함유하는 헤테로사이클릭 5원 환; 또는
    c) 비제한적으로 피리딘, 피라진, 피리미딘, 피페리딘, 피페라진, 티아진 또는 모르폴린을 포함하고, 할로겐, C1-C10알킬, C1-C10알콕시, -CHO, -NO2, -NH2, -CN, -CF3및 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 및 O로부터 선택된 1개, 2개 또는 3개의 환 헤테로원자를 함유하는 헤테로사이클릭 6원 환; 또는
    d) 비제한적으로 벤조푸란, 크로멘, 인돌, 이소인돌, 인돌린, 이소인돌린, 나프탈렌, 퓨린, 퀴놀린 또는 이소퀴놀린을 포함하고, 할로겐, C1-C10알킬, C1-C10알콕시, -CHO, -NO2, -NH2, -CN, -CF3및 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 및 O로부터 선택된 1개 내지 3개의 환 헤테로원자를 임의로 함유하는 환 원자수 8 내지 10의 비사이클릭 환 잔기로부터 선택되고;
    R5는 C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, -(CH2)n-C3-C5사이클로알킬, -(CH2)n-A, -(CH2)n-S-A 및 -(CH2)n-O-A로부터 선택되며,
    A는
    로부터 선택되고;
    D는 H, C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시 또는 -CF3이고;
    R12는 H, -C1-C6저급알킬, C1-C6저급알콕시 또는 -CF3이다.
  9. 다음 화학식의 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염.
    상기 화학식에서
    R1은 H, 할로겐, -CF3, -OH, -C1-C6알킬, -C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, 페닐, -O-페닐, 벤질, -O-벤질, -S-벤질 또는 화학식
    의 잔기로부터 선택되고;
    R6은 H, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, 페닐, -O-페닐, 벤질, -O-벤질이고, 이들 기중의 페닐 및 벤질 환은 할로겐, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NH2, -NO2, -CF3및 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며;
    R7은 -CF3, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NH-(C1-C6알킬), -N-(C1-C6알킬)2, 피리디닐, 티에닐, 푸릴, 피롤릴, 페닐, 피라졸릴, 티아졸릴, -O-페닐, 벤질 및 -O-벤질로부터 선택되고, 이들 기중의 환은 할로겐, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NH2, -NO2, -CF3및 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며;
    R2는 H, 할로겐, -CN, -CHO, -CF3, -OH, C1-C10알킬, C1-C10알콕시, -CHO, -CN, -NO2, -NH2, -NH-C1-C6알킬, -N(C1-C6알킬)2, -N-SO2-C1-C6알킬 및 -SO2-C1-C6알킬로부터 선택되고;
    R3은 -COOH, -C(O)-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -(CH2)n-COOH, -CH=CH-COOH, -(CH2)n-테트라졸,
    로부터 선택되거나 화학식 -L1-M1또는 L2M2로부터 선택된 잔기이고,
    L1은 화학 결합, -(CH2)n-, -S-, -O-, -C(O)-, -(CH2)n-C(O)-, -(CH2)n-C(O)-(CH2)n-, -(CH2)n-O-(CH2)n-, -(CH2)n-S-(CH2)n-, -C(Z)-N(R6)-, -C(Z)-N(R6)-(CH2)n-, -C(O)-C(Z)-N(R6)-, -C(O)-C(Z)-N(R6)-(CH2)n-, -C(Z)-NH-SO2- 및 -C(Z)-NH-SO2-(CH2)n-으로부터 선택된 가교 또는 연결 잔기이고;
    M1은 -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, 테트라졸,
    으로 이루어진 그룹으로부터 선택되며;
    L2는 화학결합, -S-, -O-, -C(O)-, -(CH2)n-C(O)-, -(CH2)n-C(O)-(CH2)n-, -(CH2)n-O-(CH2)n-, -(CH2)n-S-(CH2)n-, -C(Z)-N(R6)-, -C(Z)-N(R6)-(CH2)n-, -C(O)-C(Z)-N(R6)-, -C(O)-C(Z)-N(R6)-(CH2)n-, -C(Z)-NH-SO2- 및 -C(Z)-NH-SO2-(CH2)n-으로부터 선택된 가교 또는 연결 잔기이고;
    M2는 화학식의 잔기이며;
    R8은 각각 독립적으로 H, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, 테트라졸,
    로부터 선택되고;
    R9는 H, 할로겐, -CF3, -OH, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -C1-C6알킬, -O-C1-C6알킬, -NH(C1-C6알킬) 및 -N(C1-C6알킬)2로부터 선택되며;
    R10은 H, 할로겐, -CF3, -OH, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -C1-C6알킬, -O-C1-C6알킬, -NH(C1-C6알킬), -N(C1-C6알킬)2,
    로부터 선택되고;
    R11은 H, C1-C6저급 알킬, C1-C6사이클로알킬, -CF3, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH,
    로부터 선택되는데,
    단, R3, L1, M1, L2, M2, R8, R9, R10및/또는 R11의 조합에 의해 생성된 인돌 또는 인돌린 3-위치에서의 완전한 잔기는 카복실산, 테트라졸 및 화학식
    의 잔기로부터 선택되거나 이를 함유하는 산성 잔기를 1개 이상 함유하여야하며;
    n은 0 내지 3의 정수이고;
    R4는 H, -CF3, C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, C3-C10사이클로알킬, -C1-C6알킬-C3-C10사이클로알킬, -CHO, 할로겐 및 화학식 -L3-M3의 잔기로부터 선택되며;
    L3은 화학식 -(CH2)n-, -S-, -O-, -C(O)-, -(CH2)n-C(O)-, -(CH2)n-C(O)-(CH2)n-, -(CH2)n-O-(CH2)n- 또는 -(CH2)n-S-(CH2)n-의 연결 또는 가교기를 나타내고;
    M3은
    a) C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, C3-C10사이클로알킬, 페닐 및 벤질로 이루어진 그룹(여기서, 사이클로알킬, 페닐 또는 벤질 환은 할로겐, C1-C10알킬, C1-C10알콕시, -NO2, -NH2, -CN 및 -CF3로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환된다); 또는
    b) 비제한적으로 푸란, 피롤, 티오펜, 이미다졸, 피라졸, 피롤리딘 또는 테트라졸을 포함하고, 할로겐, C1-C10알킬, C1-C10알콕시, -NO2, -NH2, -CN 및 -CF3로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 및 O로부터 선택된 1개 또는 2개의 환 헤테로원자를 함유하는 헤테로사이클릭 5원 환; 또는
    c) 비제한적으로 피리딘, 피라진, 피리미딘, 피페리딘, 피페라진, 티아진 또는 모르폴린을 포함하고, 할로겐, C1-C10알킬, C1-C10알콕시, -CHO, -NO2, -NH2, -CN, -CF3및 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 및 O로부터 선택된 1개, 2개 또는 3개의 환 헤테로원자를 함유하는 헤테로사이클릭 6원 환; 또는
    d) 비제한적으로 벤조푸란, 크로멘, 인돌, 이소인돌, 인돌린, 이소인돌린, 나프탈렌, 퓨린, 퀴놀린 또는 이소퀴놀린을 포함하고, 할로겐, C1-C10알킬, C1-C10알콕시, -CHO, -NO2, -NH2, -CN, -CF3및 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 및 O로부터 선택된 1개 내지 3개의 환 헤테로원자를 임의로 함유하는 환 원자수 8 내지 10의 비사이클릭 환 잔기로부터 선택되고;
    R5는 C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, -(CH2)n-C3-C10사이클로알킬, -(CH2)n-S-(CH2)n-C3-C5사이클로알킬, -(CH2)n-O-(CH2)n-C3-C5사이클로알킬이거나
    a) -(CH2)n-페닐-O-페닐, -(CH2)n-페닐-CH2-페닐, -(CH2)n-O-페닐-CH2-페닐, -(CH2)n-페닐-(O-CH2-페닐)2, -CH2-페닐-C(O)-벤조티아졸 또는 화학식
    의 잔기(여기서, n은 0 내지 3의 정수이고, Y는 C3-C5사이클로알킬, 페닐, 벤질, 나프틸, 피리디닐, 퀴놀릴, 푸릴, 티에닐, 피롤릴, 벤조티아졸 및 피리미디닐이고, 이들 기중의 환은 H, 할로겐, -CF3, -OH, -C1-C6알킬, -C1-C6알콕시, -NH2, -NO2및, N, S 및 O로부터 선택된 1개의 헤테로원자를 함유하는 헤테로사이클릭 5원 환으로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환된다); 또는
    b) 화학식 -(CH2)n-A, -(CH2)n-S-A 또는 -(CH2)n-O-A의 잔기(여기서,
    A는 화학식의 잔기이고, D는 H, C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, -CF3또는 -(CH2)n-CF3이고, B 및 C는 각각 H, 할로겐, -CF3, -OH, -C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NH2및 -NO2로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환된, 페닐, 피리디닐, 피리미디닐, 푸릴, 티에닐 및 피롤릴 기로부터 독립적으로 선택된다)이다.
  10. 다음 화학식의 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염.
    상기 화학식에서
    R1은 H, 할로겐, -CF3, -OH, -C1-C6알킬, -C1-C6알콕시, -NO2, 페닐, -O-페닐, 벤질, -O-벤질, -S-벤질 및 화학식
    의 잔기로부터 선택되고;
    R6은 H, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, 페닐, -O-페닐, 벤질, -O-벤질이고, 이들 기중의 페닐 및 벤질 환은 할로겐, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NH2, -NO2, -CF3및 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며;
    R7은 -CF3, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NH-(C1-C6알킬), -N-(C1-C6알킬)2, 피리디닐, 티에닐, 푸릴, 피롤릴, 페닐, -O-페닐, 벤질, -O-벤질, 피라졸릴 및 티아졸릴로부터 선택되고, 이들 기중의 환은 할로겐, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, -CF3및 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며;
    R2는 H, 할로겐, -CN, -CHO, -CF3, -OH, -C1-C10알킬, -C1-C10알콕시, -CHO, -CN, -NO2, -NH2, -NH-C1-C6알킬, -N(C1-C6알킬)2, -N-SO2-C1-C6알킬 및 -SO2-C1-C6알킬로부터 선택되고;
    R3은 -COOH, -C(O)-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -(CH2)n-COOH, -CH=CH-COOH, -(CH2)nC(O)NS(O)(O)(C1-C6저급 알킬), -(CH2)nC(O)NS(O)(O)(C1-C6저급 할로알킬),
    로부터 선택되며;
    R8은 H, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH로부터 선택되고;
    R9는 H, 할로겐, -CF3, -OH, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -C1-C6알킬, -O-C1-C6알킬, -NH(C1-C6알킬) 및 -N(C1-C6알킬)2로부터 선택되며;
    R10은 H, 할로겐, -CF3, -OH, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -C1-C6알킬, -O-C1-C6알킬, -NH(C1-C6알킬), -N(C1-C6알킬)2,
    로 이루어진 그룹으로부터 선택되고;
    R11은 H, C1-C6저급 알킬, -CF3, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH 및
    로부터 선택되며;
    n은 0 내지 3의 정수이고;
    R4는 H, -CF3, C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, C3-C10사이클로알킬, -C1-C6알킬-C3-C10사이클로알킬, -CHO, 할로겐 및 화학식 -L2-M2의 잔기로부터 선택되며;
    L2는 화학식 -(CH2)n-, -S-, -O-, -C(O)-, -(CH2)n-C(O)-, -(CH2)n-C(O)-(CH2)n-, -(CH2)n-O-(CH2)n- 또는 -(CH2)n-S-(CH2)n-의 연결 또는 가교기를 나타내고;
    M2는
    a) C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, C3-C10사이클로알킬, 페닐 및 벤질로 이루어진 그룹(여기서, 사이클로알킬, 페닐 또는 벤질 환은 할로겐, C1-C10알킬, C1-C10알콕시, -NO2, -NH2, -CN 및 -CF3로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환된다); 또는
    b) 비제한적으로 푸란, 피롤, 티오펜, 이미다졸, 피라졸, 피롤리딘 또는 테트라졸을 포함하고, 할로겐, C1-C10알킬, C1-C10알콕시, -NO2, -NH2, -CN 및 -CF3로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 및 O로부터 선택된 1개 또는 2개의 환 헤테로원자를 함유하는 헤테로사이클릭 5원 환; 또는
    c) 비제한적으로 피리딘, 피라진, 피리미딘, 피페리딘, 피페라진, 티아진 또는 모르폴린을 포함하고, 할로겐, C1-C10알킬, C1-C10알콕시, -CHO, -NO2, -NH2, -CN, -CF3및 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 및 O로부터 선택된 1개, 2개 또는 3개의 환 헤테로원자를 함유하는 헤테로사이클릭 6원 환; 또는
    d) 비제한적으로 벤조푸란, 크로멘, 인돌, 이소인돌, 인돌린, 이소인돌린, 나프탈렌, 퓨린, 퀴놀린 또는 이소퀴놀린을 포함하고, 할로겐, C1-C10알킬, C1-C10알콕시, -CHO, -NO2, -NH2, -CN, -CF3및 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 및 O로부터 선택된 1개 내지 3개의 환 헤테로원자를 임의로 함유하는 환 원자수 8 내지 10의 비사이클릭 환 잔기로부터 선택되고;
    R5는 C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, -(CH2)n-C3-C5사이클로알킬 또는 -(CH2)n-A, -(CH2)n-S-A 및 -(CH2)n-O-A로부터 선택되며,
    A는
    로부터 선택되고;
    D는 H, C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시 또는 -CF3이고;
    R12는 H, -C1-C6저급알킬, C1-C6저급 알콕시 또는 -CF3이다.
  11. 다음 화학식의 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염.
    상기 화학식에서
    R1은 H, 할로겐, -CF3, -OH, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, 페닐, -O-페닐, 벤질, -O-벤질, -S-벤질 및 화학식
    의 잔기로부터 선택되고;
    R6은 H, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, 페닐, -O-페닐, 벤질, -O-벤질이고, 이들 기중의 페닐 및 벤질 환은 할로겐, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, -CF3및 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며;
    R7은 -CF3, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NH-(C1-C6알킬), -N-(C1-C6알킬)2, 피리디닐, 티에닐, 푸릴, 피롤릴, 페닐, 피라졸릴, 티아졸릴, -O-페닐, 벤질 및 -O-벤질로부터 선택되고, 이들 기중의 환은 할로겐, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, -CF3및 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며;
    R2는 H, 할로겐, -CN, -CHO, -CF3, -OH, C1-C10알킬, C1-C10알콕시, -CHO, -CN, -NO2, -NH2, -NH-C1-C6알킬, -N(C1-C6알킬)2, -N-SO2-C1-C6알킬 및 -SO2-C1-C6알킬로부터 선택되고;
    R3은 -COOH, -C(O)-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -(CH2)n-COOH, -CH=CH-COOH, -(CH2)n-테트라졸,
    로부터 선택되거나 화학식 -L1-M1로부터 선택된 잔기이고,
    L1은 화학 결합, -(CH2)n-, -S-, -O-, -C(O)-, -(CH2)n-C(O)-, -(CH2)n-C(O)-(CH2)n-, -(CH2)n-O-(CH2)n-, -(CH2)n-S-(CH2)n-, -C(Z)-N(R6)-, -C(Z)-N(R6)-(CH2)n-, -C(O)-C(Z)-N(R6)-, -C(O)-C(Z)-N(R6)-(CH2)n-, -C(Z)-NH-SO2- 및 -C(Z)-NH-SO2-(CH2)n-으로부터 선택된 가교 또는 연결 잔기이고;
    M1은 -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, 테트라졸,
    으로 이루어진 그룹으로부터 선택되며;
    R8은 각각 독립적으로 H, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, 테트라졸,
    로부터 선택되고;
    R9는 H, 할로겐, -CF3, -OH, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -C1-C6알킬, -O-C1-C6알킬, -NH(C1-C6알킬) 및 -N(C1-C6알킬)2로부터 선택되며;
    R10은 H, 할로겐, -CF3, -OH, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -C1-C6알킬, -O-C1-C6알킬, -NH(C1-C6알킬), -N(C1-C6알킬)2,
    로부터 선택되고;
    R11은 H, C1-C6저급 알킬, C1-C6사이클로알킬, -CF3, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH,
    로부터 선택되는데,
    단, R3, L1, M1, R8, R9, R10및/또는 R11의 조합에 의해 생성된 인돌 또는 인돌린 3-위치에서의 완전한 잔기는 카복실산, 테트라졸 또는 화학식
    의 잔기로부터 선택되거나 이를 함유하는 산성 잔기를 1개 이상 함유하여야하며;
    n은 0 내지 3의 정수이고;
    R4는 H, -CF3, C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, C3-C10사이클로알킬, -C1-C6알킬-C3-C10사이클로알킬, -CHO, 할로겐 및 화학식 -L2-M2의 잔기로부터 선택되며;
    L2는 화학식 -(CH2)n-, -S-, -O-, -C(O)-, -(CH2)n-C(O)-, -(CH2)n-C(O)-(CH2)n-, -(CH2)n-O-(CH2)n-, -(CH2)n-S-(CH2)n- 또는 C(O)C(O)X의 연결 또는 가교기를 나타내고;
    M2는
    a) C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, C3-C10사이클로알킬, 페닐 및 벤질로 이루어진 그룹(여기서, 사이클로알킬, 페닐 또는 벤질 환은 할로겐, C1-C10알킬, C1-C10알콕시, -NO2, -NH2, -CN 및 -CF3로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환된다); 또는
    b) 비제한적으로 푸란, 피롤, 티오펜, 이미다졸, 피라졸, 피롤리딘, 또는 테트라졸을 포함하고, 할로겐, C1-C10알킬, C1-C10알콕시, -NO2, -NH2, -CN 및 -CF3로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 및 O로부터 선택된 1개 또는 2개의 환 헤테로원자를 함유하는 헤테로사이클릭 5원 환; 또는
    c) 비제한적으로 피리딘, 피라진, 피리미딘, 피페리딘, 피페라진, 티아진 또는 모르폴린을 포함하고, 할로겐, C1-C10알킬, C1-C10알콕시, -CHO, -NO2, -NH2, -CN, -CF3및 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 및 O로부터 선택된 1개, 2개 또는 3개의 환 헤테로원자를 함유하는 헤테로사이클릭 6원 환; 또는
    d) 비제한적으로 벤조푸란, 크로멘, 인돌, 이소인돌, 인돌린, 이소인돌린, 나프탈렌, 퓨린, 퀴놀린 또는 이소퀴놀린을 포함하고, 할로겐, C1-C10알킬, C1-C10알콕시, -CHO, -NO2, -NH2, -CN, -CF3및 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며, N, S 및 O로부터 선택된 1개 내지 3개의 환 헤테로원자를 임의로 함유하는 환 원자수 8 내지 10의 비사이클릭 환 잔기로부터 선택되고;
    R5는 -(CH2)n-S-(CH2)n-C3-C5사이클로알킬, -(CH2)n-O-(CH2)n-C3-C10사이클로알킬이거나
    a) -(CH2)n-페닐-O-페닐, -(CH2)n-페닐-CH2-페닐, -(CH2)n-O-페닐-CH2-페닐, -(CH2)n-페닐-(O-CH2-페닐)2, -CH2-페닐-C(O)-벤조티아졸 및 화학식
    의 잔기(여기서, n은 0 내지 3의 정수이고, Y는 C3-C5사이클로알킬, 페닐, 벤질, 나프틸, 피리디닐, 퀴놀릴, 푸릴, 티에닐, 피롤릴, 벤조티아졸 또는 피리미디닐이고, 이들 기중의 환은 H, 할로겐, -CF3, -OH, -C1-C6알킬, -C1-C6알콕시, -NO2, -NH2및, N, S 및 O로부터 선택된 1개의 헤테로원자를 함유하는 헤테로사이클릭 5원 환으로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환된다); 또는
    b) 화학식의 잔기(여기서, n은 0 내지 3의 정수이고, Y는 나프틸, 피리디닐, 퀴놀릴, 푸릴, 티에닐, 피롤릴, 벤조티아졸 또는 피리미디닐이고 이들 기중의 환은 H, 할로겐, -CF3, -OH, -C1-C6알킬, -C1-C6알콕시, -NH2, -NO2및 N, S 및 O로부터 선택된 1개의 헤테로원자를 함유하는 헤테로사이클릭 5원 환으로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환된다); 또는
    c) 화학식 -(CH2)n-A, -(CH2)n-S-A 또는 -(CH2)n-O-A의 잔기(여기서,
    A는 화학식의 잔기이고, D는 H, C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, -(CH2)n-CF3또는 -CF3이고, B 및 C는 각각 H, 할로겐, -CF3, -OH, -C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NH2및 -NO2로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되는, 페닐, 피리디닐, 피리미디닐, 푸릴, 티에닐 또는 피롤릴 기로부터 독립적으로 선택된다)로부터 선택된다.
  12. 다음 화학식의 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염.
    상기 화학식에서
    R1은 H, 할로겐, -CF3, -OH, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NO2, -NH2, 페닐, -O-페닐, 벤질, -O-벤질, -S-벤질 및 화학식
    의 잔기로부터 선택되고;
    R6은 H, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, 페닐, -O-페닐, 벤질, -O-벤질로부터 선택되고, 이들 기중의 페닐 및 벤질 환은 할로겐, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NH2, -NO2, -CF3및 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며;
    R7은 -CF3, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NH-(C1-C6알킬), -N-(C1-C6알킬)2, 피리디닐, 티에닐, 푸릴, 피롤릴, 페닐, -O-페닐, 벤질, -O-벤질, 피라졸릴 및 티아졸릴로부터 선택되고, 이들 기중의 환은 할로겐, C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NH2, -NO2, -CF3, 및 -OH로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되며;
    R3은 -COOH, -C(O)-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -(CH2)n-COOH, -CH=CH-COOH, -(CH2)nC(O)NS(O)(O)(C1-C6저급 알킬), -(CH2)nC(O)NS(O)(O)(C1-C6저급 할로알킬),
    로부터 선택되고;
    R8및 R9는 독립적으로 H, 할로겐, -CF3, -OH, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -C1-C6알킬, -O-C1-C6알킬, -NH(C1-C6알킬) 및 -N(C1-C6알킬)2로부터 선택되며;
    R10은 H, 할로겐, -CF3, -OH, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH, -C1-C6알킬, -O-C1-C6알킬, -NH(C1-C6알킬), -N(C1-C6알킬)2,
    로 이루어진 그룹으로부터 선택되고;
    R11은 H, C1-C6저급 알킬, -CF3, -COOH, -(CH2)n-COOH, -(CH2)n-C(O)-COOH 및
    로부터 선택되며;
    n은 0 내지 3의 정수이고;
    R4는 H, -CF3, C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시 및 할로겐으로부터 선택되며;
    R5는 C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시, -(CH2)n-C3-C10사이클로알킬이거나
    a) -C(O)-O-(CH2)n-C3-C5사이클로알킬, -(CH2)n-페닐, -(CH2)n-S-페닐, -(CH2)n-페닐-O-페닐, -(CH2)n-페닐-CH2-페닐, -(CH2)n-O-페닐-CH2-페닐, -(CH2)n-페닐-(O-CH2-페닐)2, -C(O)-O-페닐, -C(O)-O-벤질, -C(O)-O-피리디닐, -C(O)-O-나프틸, -(CH2)n-S-나프틸, -(CH2)n-S-피리디닐, -(CH2)n-피리디닐 또는 -(CH2)n-나프틸(여기서, 이들 기중의 페닐, 피리디닐 및 나프틸 환은 H, 할로겐, -CF3, -OH, -C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NH2및 -NO2로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환된다); 또는
    b) 화학식 -(CH2)n-A, -(CH2)n-S-A 또는 -(CH2)n-O-A의 잔기(여기서, A는 화학식의 잔기이고, D는 H, C1-C6저급 알킬, C1-C6저급 알콕시 또는 -CF3이고, B 및 C는 각각 H, 할로겐, -CF3, -OH, -C1-C6알킬, C1-C6알콕시, -NH2및 -NO2로부터 선택된 1 내지 3개의 치환체로 임의로 치환되는, 페닐, 피리디닐, 푸릴, 티에닐 및 피롤릴 기로부터 독립적으로 선택된다)로 이루어진 그룹으로부터 선택된다.
  13. 제1항에 있어서,
    a) 4-[(5-{[(사이클로펜틸옥시)카보닐]아미노}-1-프로필-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조산;
    b) 사이클로펜틸-N-{3-[2-메톡시-4-({[(2-메틸페닐)술포닐]아미노}카보닐)벤질]-1-프로필-1H-인돌-5-일}카바메이트;
    c) 4-[(1-벤즈히드릴-5-{[(사이클로펜틸옥시)카보닐]아미노}-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조산;
    d) 4-{[5-{[(사이클로펜틸옥시)카보닐]아미노}-1-(2-나프틸메틸)-1H-인돌-3-일]메틸}-3-메톡시벤조산;
    e) 4-{[5-{[(사이클로펜틸옥시)카보닐]아미노}-1-(사이클로프로필메틸)-1H-인돌-3-일]메틸}-3-메톡시벤조산;
    f) 4-{[5-{[(사이클로펜틸옥시)카보닐]아미노}-1-(사이클로프로필메틸)-1H-인돌-3-일]메틸}-3-메톡시벤조산;
    g) 4-{[5-{[(사이클로펜틸옥시)카보닐]아미노}-1-(4-피리디닐메틸)-1H-인돌-3-일]메틸}-3-메톡시벤조산;
    h) 4-[(5-{[(사이클로펜틸옥시)카보닐]아미노}-1-이소프로필-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조산;
    i) 4-[(1-사이클로펜틸-5-{[(사이클로펜틸옥시)카보닐]아미노}-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조산; 및
    j) 4-[(1-벤즈히드릴-5-{[(부틸아미노)카보닐]아미노}-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조산으로부터 선택되는 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염.
  14. 제1항에 있어서,
    a) 4-({1-벤즈히드릴-5-[(메틸술포닐)아미노]-1H-인돌-3-일}메틸)-3-메톡시벤조산;
    b) 4-({1-벤즈히드릴-5-[(사이클로펜틸카보닐)아미노]-1H-인돌-3-일}메틸)-3-메톡시벤조산;
    c) 4-[(1-벤즈히드릴-5-니트로-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조산;
    d) 4-[(1-벤즈히드릴-5-플루오로-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조산;
    e) 4-[(1-벤즈히드릴-5-메틸-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조산;
    f) 4-[(5-벤즈히드릴-5H-[1,3]디옥솔로[4,5-f]인돌-7-일)메틸]-3-메톡시벤조산;
    g) 4-[(1-벤즈히드릴-5-시아노-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조산;
    h) 4-{[1-벤즈히드릴-5-(메틸술포닐)-1H-인돌-3-일]메틸}-3-메톡시벤조산; 및
    j) 사이클로펜틸-N-{1-벤즈히드릴-3-[2-메톡시-4-({[(2-메톡시페닐)술포닐]아미노}카보닐)벤질]-1H-인돌-5-일}카바메이트로부터 선택된 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염.
  15. 제1항에 있어서,
    a) 사이클로펜틸-N-{3-[2-메톡시-4-({[(2-메톡시페닐)술포닐]아미노}카보닐)벤질]-1-프로필-1H-인돌-5-일}카바메이트;
    b) N-{1-(사이클로프로필메틸)-3-[2-메톡시-4-({[(2-메틸페닐)술포닐]아미노}카보닐)벤질]-1H-인돌-5-일}카바메이트;
    c) 사이클로펜틸-N-[3-[2-메톡시-4-({[(2-메틸페닐)술포닐]아미노}카보닐)벤질]-1-(4-피리디닐메틸)-1H-인돌-5-일]카바메이트;
    d) 사이클로펜틸-N-[3-[2-메톡시-4-({[(2-메톡시페닐)술포닐]아미노}카보닐)벤질]-1-(2-나프틸메틸)-1H-인돌-5-일]카바메이트;
    e) 사이클로펜틸-N-{1-이소프로필-3-[2-메톡시-4-({[(2-메틸페닐)술포닐]아미노}카보닐)벤질]-1H-인돌-5-일]카바메이트;
    f) 사이클로펜틸-N-{1-사이클로펜틸-3-[2-메톡시-4-({[(2-메틸페닐)술포닐]아미노}카보닐)벤질]-1H-인돌-5-일}카바메이트;
    g) 사이클로펜틸-N-{1-벤즈히드릴-3-[2-메톡시-4-({[(2-트리플루오로메틸)술포닐]아미노}카보닐)벤질]-1H-인돌-5-일]카바메이트;
    h) 사이클로펜틸-N-[1-벤즈히드릴-3-(2-메톡시-4-{[(메틸술포닐)아미노]카보닐}벤질)-1H-인돌-5-일]카바메이트;
    i) N-{1-벤즈히드릴-3-[4-({[(2-클로로페닐)술포닐]아미노}카보닐)-2-메톡시벤질]-1H-인돌-5-일]카바메이트; 및
    j) 사이클로펜틸 N-(3-{4-[({[5-(아세틸아미노)-4-메틸-4,5-디하이드로-1,3,4-티아디아졸-2-일]술포닐}아미노)카보닐]-2-메톡시벤질}-1-벤즈히드릴-1H-인돌-5-일)카바메이트로부터 선택된 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염.
  16. 제1항에 있어서,
    a) 사이클로펜틸 N-(1-벤즈히드릴-3-{4-[({[5-(디메틸아미노)-1-나프틸]술포닐}아미노)카보닐]-2-메톡시벤질}-1H-인돌-5-일)카바메이트;
    b) 사이클로펜틸 N-[1-벤즈히드릴-3-(4-{[(벤질술포닐)아미노]카보닐}-2-메톡시벤질)-1H-인돌-5-일]카바메이트;
    c) 사이클로펜틸 N-[1-벤즈히드릴-3-[4-({[(2,4-디메틸-1,3-티아졸-5-일)술포닐]아미노}카보닐)-2-메톡시벤질]-1H-인돌-5-일}카바메이트;
    d) 사이클로펜틸 N-[1-벤즈히드릴-3-[4-({[(3,5-디메틸-4-이속사졸릴)술포닐]아미노}카보닐)-2-메톡시벤질]-1H-인돌-5-일}카바메이트;
    e) 사이클로펜틸 N-(3-{4-[({[5-(아세틸아미노)-1,3,4-티아디아졸-2-일]술포닐}아미노)카보닐]-2-메톡시벤질}-1-벤즈히드릴-1H-인돌-5-일)카바메이트;
    f) 사이클로펜틸 N-(1-벤즈히드릴-3-{2-메톡시-4-[({[4-(3-메틸-5-옥소-4,5-디하이드로-1H-피라졸-1-일)페닐]술포닐}아미노)카보닐]벤질}-1H-인돌-5-일)카바메이트;
    g) N-{4-[(1-벤즈히드릴-5-니트로-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조일}-2-메틸벤젠술폰아미드;
    h) N-{4-[(1-벤즈히드릴-5-니트로-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조일}-(트리플루오로)메탄술폰아미드;
    i) N-{4-[(1-벤즈히드릴-5-브로모-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조일}-2-메틸벤젠술폰아미드; 및
    j) N-{4-[(1-벤즈히드릴-5-브로모-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조일}-(트리플루오로)메탄술폰아미드로부터 선택된 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염.
  17. 제1항에 있어서,
    a) N-{1-벤즈히드릴-3-[2-메톡시-4-({[(트리플루오로메틸)술포닐]아미노}카보닐)벤질]-1H-인돌-5-일}사이클로펜탄카복스아미드;
    b) N-[4-({1-벤즈히드릴-5-[(메틸술포닐)아미노]-1H-인돌-3-일}메틸)-3-메톡시벤조일](트리플루오로)메탄술폰아미드;
    c) N-{4-[(1-벤즈히드릴-5-{[(부틸아미노)카보닐]아미노}-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조일}(트리플루오로)메탄술폰아미드;
    d) N-{1-벤즈히드릴-3-[2-메톡시-4-({[(2-메틸페닐)술포닐]아미노}카보닐)벤질]-1H-인돌-5-일}사이클로펜탄카복스아미드;
    e) 4-({5-[(사이클로펜틸카보닐)아미노]-1-[페닐(2-피리디닐)메틸]-1H-인돌-3-일}메틸)-3-메톡시벤조산;
    f) N-[4-({1-벤즈히드릴-5-[(벤질술포닐)아미노]-1H-인돌-3-일}메틸)-3-메톡시벤조일](트리플루오로)메탄술폰아미드;
    g) N-{1-벤즈히드릴-3-[2-메톡시-4-({[(트리플루오로메틸)술포닐]아미노}카보닐)벤질]-1H-인돌-5-일}-3-티오펜카복스아미드;
    h) 벤질 N-{1-벤즈히드릴-3-[2-메톡시-4-({[(트리플루오로메틸)술포닐]아미노}카보닐)벤질]-1H-인돌-5-일}카바메이트;
    g) 4-[(1-벤즈히드릴-5-니트로-1H-인돌-3-일)메틸]벤조산;
    h) 4-[(1-벤즈히드릴-5-브로모-1H-인돌-3-일)메틸]벤조산;
    i) 4-[(1-벤즈히드릴-5-{[(사이클로펜틸옥시)카보닐]아미노}-1H-인돌-3-일)메틸]벤조산; 및
    j) 사이클로펜틸 N-{1-벤즈히드릴-3-[4-({[(2-메틸페닐)술포닐]아미노}카보닐)벤질]-1H-인돌-5-일}카바메이트로부터 선택된 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염.
  18. 제1항에 있어서,
    a) 사이클로펜틸 N-{1-벤즈히드릴-3-[4-({[(트리플루오로메틸)술포닐]아미노}카보닐)벤질]-1H-인돌-5-일}카바메이트;
    b) N-{4-[(1-벤즈히드릴-5-니트로-1H-인돌-3-일)메틸]벤조일}(트리플루오로)메탄술폰아미드;
    c) N-{4-[(1-벤즈히드릴-5-니트로-1H-인돌-3-일)메틸]벤조일}-2-메틸벤젠술폰아미드;
    d) N-{4-[(1-벤즈히드릴-5-브로모-1H-인돌-3-일)메틸]벤조일}-2-메틸벤젠술폰아미드;
    e) N-{4-[(1-벤즈히드릴-5-브로모-1H-인돌-3-일)메틸]벤조일}(트리플루오로)메탄술폰아미드;
    f) 3-({2-[1-(4-벤질벤질)-1H-인돌-3-일]-2-옥소아세틸}아미노)벤조산;
    g) 3-({2-[1-(4-{[3,5-비스(트리플루오로메틸)페녹시]메틸}벤질)-1H-인돌-3-일]-2-옥소아세틸}아미노)벤조산;
    h) 3-{[2-(1-벤즈히드릴-1H-인돌-3-일)-2-옥소아세틸]아미노}벤조산;
    i) 3-[(2-{1-[3-(4-벤질페녹시)프로필]-1H-인돌-3-일}-2-옥소아세틸)아미노]벤조산; 및
    j) 3-[(2-{1-[3,4-비스(벤질옥시)벤질]-1H-인돌-3-일}-2-옥소아세틸)아미노]벤조산으로부터 선택된 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염.
  19. 제1항에 있어서,
    a) 3-[(2-{1-[2-(벤질술포닐)벤질]-1H-인돌-3-일}-2-옥소아세틸)아미노]벤조산;
    b) 3-[({1-벤즈히드릴-5-[(사이클로펜틸카보닐)아미노]-1H-인돌-3-일}메틸)아미노]벤조산;
    c) 2-[4-({1-벤즈히드릴-5-[(사이클로펜틸카보닐)아미노]-1H-인돌-3-일}메틸)피페라지노]아세트산;
    d) 2-[1-({1-벤즈히드릴-5-[(사이클로펜틸카보닐)아미노]-1H-인돌-3-일}메틸)-3-옥소-2-피페라지닐]아세트산;
    e) 2-[({1-벤즈히드릴-5-[(사이클로펜틸카보닐)아미노]-1H-인돌-3-일}메틸)아미노]-3-하이드록시프로판산;
    f) 2-[1-(4-벤질벤질)-5-(벤질옥시)-1H-인돌-3-일]-2-옥소아세트산;
    g) 2-{5-(벤질옥시)-1-[2,4-비스(트리플루오로메틸)벤질]-1H-인돌-3-일}-2-옥소아세트산;
    h) 3-({2-[1-(4-벤질벤질)-5-(벤질옥시)-1H-인돌-3-일]-2-옥소아세틸}아미노벤조산;
    i) 5-[(2-{5-(벤질옥시)-1-[2,4-비스(트리플루오로메틸)벤질]-1H-인돌-3-일} -2-옥소아세틸)아미노]이소프탈산; 및
    j) 3-[(2-{5-(벤질옥시)-1-[2,4-비스(트리플루오로메틸)벤질]-1H-인돌-3-일} -2-옥소아세틸)아미노]벤조산으로부터 선택된 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염.
  20. 제1항에 있어서,
    a) 5-({2-[1-(4-벤질벤질)-5-(벤질옥시)-1H-인돌-3-일]-2-옥소아세틸}아미노)-2-[(5-클로로-3-피리디닐)옥시]벤조산;
    b) 5-[(2-{5-(벤질옥시)-1-[2,4-비스(트리플루오로메틸)벤질]-1H-인돌-3-일} -2-옥소아세틸)아미노]-2-[(5-클로로-3-피리디닐)옥시]벤조산;
    c) 2-[1-(4-벤질벤질)-5-(벤질옥시)-1H-인돌-3-일]-N-[3-({[(4-메틸페닐)술포닐]아미노}카보닐)페닐]-2-옥소아세트아미드;
    d) 2-[5-브로모-1-(사이클로프로필메틸)-1H-인돌-3-일]아세트산;
    e) 2-[1-(사이클로프로필메틸)-5-(2-티에닐)-1H-인돌-3-일]아세트산;
    f) 2-{1-(사이클로프로필메틸)-5-[3-(트리플루오로메틸)페닐]-1H-인돌-3-일}아세트산;
    g) 2-[5-(1-벤조푸란-2-일)-1-벤질-1H-인돌-3-일]아세트산;
    h) 2-(1-벤질-5-페닐-1H-인돌-3-일)아세트산;
    i) 4-{[5-((E)-{1-[3-(3-벤질페녹시)프로필]-1H-인돌-3-일}메틸리덴)-2,4-디옥소-1,3-티아졸란-3-일]메틸}벤조산; 및
    j) 2-[5-((E)-{1-[3-(3-벤질페녹시)프로필]-1H-인돌-3-일}메틸리덴)-2,4-디옥소-1,3-티아졸란-3-일]아세트산으로부터 선택된 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염.
  21. 제1항에 있어서,
    a) 3-{1-[3-(3-벤질페녹시)프로필]-1H-인돌-3-일}프로판산;
    b) 3-{1-벤즈히드릴-5-[(사이클로펜틸카보닐)아미노]-1H-인돌-3-일}프로판산;
    c) N-(1-벤즈히드릴-3-{3-[(메틸술포닐)아미노]-3-옥소프로필}-1H-인돌-5-일)사이클로펜탄카복스아미드;
    d) (E)-3-{1-벤즈히드릴-5-[(사이클로펜틸카보닐)아미노]-1H-인돌-3-일}-2-프로펜산;
    e) N-(1-벤즈히드릴-3-{(E)-3-[(메틸술포닐)아미노]-3-옥소-1-프로페닐}-1H-인돌-5-일)사이클로펜탄카복스아미드;
    f) (E)-3-{1-벤즈히드릴-5-니트로-1H-인돌-3-일}-2-프로펜산 에스테르;
    g) N-((E)-3-{1-벤즈히드릴-5-니트로-1H-인돌-3-일}-2-프로페노일)메탄술폰아미드;
    h) 4-{[1-벤즈히드릴-5-({[4-(트리플루오로메틸)페닐]술포닐}아미노)-1H-인돌-3-일]메틸}-3-메톡시벤조산;
    i) 4-{[5-({[2-(아세틸아미노)-4-메틸-1,3-티아졸-5-일]술포닐}아미노)-1-벤즈히드릴-1H-인돌-3-일]메틸}-3-메톡시벤조산; 및
    j) 4-[(1-벤즈히드릴-5-{[(4-클로로-3-니트로페닐)술포닐]아미노}-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조산으로부터 선택된 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염.
  22. 제1항에 있어서,
    a) 4-[(1-벤즈히드릴-5-{[(디메틸아미노)술포닐]아미노}-1H-인돌-3-일)메틸] -3-메톡시벤조산;
    b) 4-{[1-벤즈히드릴-5-({[4-(트리플루오로메톡시)페닐]술포닐}아미노)-1H-인돌-3-일]메틸}-3-메톡시벤조산;
    c) 4-[(1-벤즈히드릴-5-{[(2-메틸페닐)술포닐]아미노}-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조산;
    d) 4-[(1-벤즈히드릴-5-{[(5-클로로-1,3-디메틸-1H-피라졸-4-일)술포닐]아미노}-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조산;
    e) 4-[(1-벤즈히드릴-5-{[(3,5-디메틸-4-이속사졸릴)술포닐]아미노}-1H-인돌 -3-일)메틸]-3-메톡시벤조산;
    f) 사이클로펜틸 N-{3-[4-(아미노카보닐)-2-메톡시벤질]-1-벤즈히드릴-1H-인돌-5-일}카바메이트;
    g) 사이클로펜틸 N-{1-벤즈히드릴-3-[2-메톡시-4-(1H-1,2,3,4-테트라졸-5-일)벤질]-1H-인돌-5-일}카바메이트;
    h) 4-[({1-벤즈히드릴-5-[(사이클로펜틸카보닐)아미노]-1H-인돌-3-일}카보닐)아미노]-3-티오펜카복실산;
    i) 3-[({1-벤즈히드릴-5-[(사이클로펜틸카보닐)아미노]-1H-인돌-3-일}카보닐)아미노]벤조산; 및
    j) 3-[({1-벤즈히드릴-5-[(사이클로펜틸카보닐)아미노]-1H-인돌-3-일}카보닐)아미노]프로판산으로부터 선택된 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염.
  23. 제1항에 있어서,
    a) N-[1-벤즈히드릴-3-({[(2-메틸페닐)술포닐]아미노}카보닐)-1H-인돌-5-일]사이클로펜탄카복스아미드;
    b) 3-[(2-{1-벤즈히드릴-5-[(사이클로펜틸카보닐)아미노]-1H-인돌-3-일}-2-옥소아세틸)아미노]프로판산;
    c) 3-[(2-{1-벤즈히드릴-5-[(사이클로펜틸카보닐)아미노]-1H-인돌-3-일}-2-옥소아세틸)아미노]벤조산;
    d) 3-({2-[1-(4-벤질벤질)-5-(벤질옥시)-1H-인돌-3-일]아세틸}아미노)벤조산;
    e) 3-[(2-{5-(벤질옥시)-1-[2,4-비스(트리플루오로메틸)벤질]-1H-인돌-3-일}아세틸)아미노]벤조산;
    f) 5-(벤질옥시)-1-[2,4-비스(트리플루오로메틸)벤질]-2-메틸-1H-인돌-3-카복실산;
    g) 5-[({5-(벤질옥시)-1-[2,4-비스(트리플루오로메틸)벤질]-2-메틸-1H-인돌-3-일}카보닐)아미노]이소프탈산;
    h) 5-(벤질옥시)-2-메틸-1-(2-나프틸메틸)-1H-인돌-3-카복실산;
    i) 5-({[5-(벤질옥시)-2-메틸-1-(2-나프틸메틸)-1H-인돌-3-일]카보닐}아미노)이소프탈산; 및
    j) 1-벤질-5-(벤질옥시)-2-메틸-1H-인돌-3-카복실산으로부터 선택된 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염.
  24. 제1항에 있어서,
    a) 3-[(2-{5-(벤질옥시)-1-(4-클로로벤질)-2-[(2-나프틸술파닐)메틸]-1H-인돌-3-일}-2-옥소아세틸)아미노]벤조산;
    b) 3-[(2-{5-(벤질옥시)-1-메틸-2-[(2-나프틸술파닐)메틸]-1H-인돌-3-일}-2-옥소아세틸)아미노]벤조산;
    c) 2-{4-[(1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-인돌-3-일)메틸]-2,6-디메틸페녹시}아세트산;
    d) 2-{4-[(1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시페녹시}아세트산;
    e) 2-{4-[(1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-인돌-3-일)메틸]페녹시}아세트산;
    f) 2-{4-[(1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-인돌-3-일)메틸]-3-클로로페녹시}아세트산;
    g) 2-{4-[(1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-인돌-3-일)메틸]-2-메톡시페녹시}아세트산;
    h) (E)-4-{4-[(1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-인돌-3-일)메틸]페녹시}-2-부텐산;
    i) 4-{4-[(1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-인돌-3-일)메틸]아닐리노}-4-옥소부탄산; 및
    j) 나트륨 3-{4-[(1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-인돌-3-일)메틸]아닐리노}-3-옥소프로판산으로부터 선택된 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염.
  25. 제1항에 있어서,
    a) 2-{4-[(1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-인돌-3-일)메틸]아닐리노}-2-옥소아세트산;
    b) 2-[(1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-인돌-3-일)메틸]사이클로프로판카복실산;
    c) 2-[(1-벤즈히드릴-6-클로로-5-플루오로-1H-인돌-3-일)메틸]사이클로프로판카복실산;
    d) 2-[(1-벤즈히드릴-5,6-디클로로-1H-인돌-3-일)메틸]사이클로프로판카복실산;
    e) 2-({1-[비스(4-하이드록시페닐)메틸]-6-클로로-1H-인돌-3-일}메틸)사이클로프로판카복실산;
    f) '4-[(1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-인돌-3-일)메틸]-3-하이드록시벤조산;
    g) '4-[(1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-인돌-3-일)메틸]-3-(3-하이드록시프로폭시)벤조산;
    h) '4-({1-[(4-아미노페닐)(페닐)메틸]-6-클로로-1H-인돌-3-일}메틸)-3-메톡시벤조산;
    i) '4-({6-클로로-1-[(4-메톡시페닐)(페닐)메틸]-1H-인돌-3-일}메틸)-3-메톡시벤조산;
    j) '4-({1-[비스(4-메톡시페닐)메틸]-6-클로로-1H-인돌-3-일}메틸)-3-메톡시벤조산;
    k) '4-({6-클로로-1-[(2-모르폴리노페닐)(페닐)메틸]-1H-인돌-3-일}메틸)-3-메톡시벤조산;
    l) 4-({6-클로로-1-[(2,4-디메톡시-5-피리미디닐)(페닐)메틸]-1H-인돌-3-일}메틸)-3-메톡시벤조산;
    m) '4-[(1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조산; 및
    n) 2-({4-[(1-벤즈히드릴-6-클로로-1H-인돌-3-일)메틸]-3-메톡시벤조일}아미노)아세트산으로부터 선택된 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염.
  26. 제1항의 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염과 약제학적으로 허용되는 담체 또는 부형제를 포함하는 약제학적 조성물.
  27. 제5항의 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염과 약제학적으로 허용되는 담체 또는 부형제를 포함하는 약제학적 조성물.
  28. 제7항의 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염과 약제학적으로 허용되는 담체 또는 부형제를 포함하는 약제학적 조성물.
  29. 제8항의 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염과 약제학적으로 허용되는 담체 또는 부형제를 포함하는 약제학적 조성물.
  30. 제9항의 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염과 약제학적으로 허용되는 담체 또는 부형제를 포함하는 약제학적 조성물.
  31. 제10항의 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염과 약제학적으로 허용되는 담체 또는 부형제를 포함하는 약제학적 조성물.
  32. 제11항의 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염과 약제학적으로 허용되는 담체 또는 부형제를 포함하는 약제학적 조성물.
  33. 염증 치료를 필요로 하는 포유동물에게 약제학적 유효량의 제1항의 화합물 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염을 투여함을 포함하여, 포유동물에서 염증을 치료하는 방법.
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