KR19990041352A - 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 37
- 238000012546 transfer Methods 0.000 title claims description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 37
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 16
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 6
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000008602 contraction Effects 0.000 claims 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 abstract description 46
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 8
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
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- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/48—Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
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- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
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- H01L21/67259—Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
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- H—ELECTRICITY
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- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67098—Apparatus for thermal treatment
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67739—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
- H01L21/67754—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber horizontal transfer of a batch of workpieces
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- H—ELECTRICITY
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67763—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
- H01L21/67766—Mechanical parts of transfer devices
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
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- Y10S414/00—Material or article handling
- Y10S414/135—Associated with semiconductor wafer handling
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
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Abstract
본 발명은 보트의 경사도를 감지하여 웨이퍼를 자동으로 수평조절시키는 자동수평조절장치를 설치함으로써 수평정렬작업시간과 공수를 줄이고, 웨이퍼 가공불량을 방지하게 하는 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치에 관한 것이다.
본 발명에 따른 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치는, 하측에 수평유지되는 베이스를 구비하고, 웨이퍼가 적재되는 보트와, 상기 보트를 공정챔버내로 로딩 및 언로딩하는 엘리베이터와, 상기 보트의 수평여부를 감지하는 센싱수단과, 상기 보트의 베이스와 상기 엘리베이터 사이에 위치하며, 그 간격을 조절함으로써 상기 보트의 수평이 유지되도록 하는 수평조절수단 및 상기 센싱수단으로부터 상기 보트의 수평정보를 인가받아 상기 수평조절수단에 제어신호를 인가하는 제어부를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.
따라서, 웨이퍼의 정확한 수평정렬이 이루어지도록 하고, 정렬시간과 공수를 줄이며, 웨이퍼의 위치이탈을 방지하게 하는 효과를 갖는다.
Description
본 발명은 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 보트의 경사도를 감지하여 웨이퍼를 자동으로 수평조절시키는 자동수평조절장치를 설치함으로써 수평정렬작업시간과 공수를 줄이고, 웨이퍼 가공불량을 방지하게 하는 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 제조에는 여러 가지 공정과, 이에 따른 주설비 및 보조설비가 사용되고 있다.
이러한 여러 가지 공정 중에서 웨이퍼에 산화막을 성장시키거나 전기적인 특성을 갖게 하기 위하여 붕소나 인 등의 불순물을 활성화 및 안정화시키기 위한 어닐링(Annealing)처리 등을 하는 공정으로 확산공정(Diffusion Process)이 있다.
상기 확산공정을 수행하는 주설비로는 로(Furnace)가 있으며, 상기 로는 통상 석영관(Quartz Tube)과 상기 석영관을 가열시키는 히팅(Heating)챔버로 구성된다.
또한, 상기 로의 보조설비로는 가공공정에 필요한 정제된 적당량의 가스류를 적정시간 동안 챔버에 주입시키는 가스공급부와, 보트내에 웨이퍼를 적재하고 승하강하며 상기 웨이퍼를 로에 로딩 및 언로딩시키는 엘리베이터장치와, 상기 보트에 웨이퍼를 로딩 및 언로딩하는 웨이퍼이송장치와, 상기 웨이퍼이송장치에 웨이퍼를 카셋트 단위로 이송하는 카셋트이송장치 및 상기 장치들을 상호 유기적으로 제어하는 설비콘트롤부가 있다.
이러한 종래의 반도체 확산설비는, 도1에서와 같이, 외부의 영향으로부터 공정환경을 보호하도록 제작한 석영관(19)과, 상기 석영관(19)을 가열시키는 히팅챔버(18)와, 보트(14)내에 웨이퍼(10)를 적재하고 승하강하며 상기 웨이퍼(10)를 로에 로딩 및 언로딩시키는 엘리베이터장치와, 상기 보트(14)에 웨이퍼(10)를 로딩 및 언로딩하는 웨이퍼이송장치(13)와, 상기 웨이퍼이송장치(13)에 웨이퍼(10)를 카셋트(11) 단위로 이송하는 카셋트이송장치(12)와, 도시하지는 않았지만, 상기 장치들을 상호 유기적으로 제어하는 콘트롤부 및 가공공정에 필요한 정제된 적당량의 가스류를 적정시간 동안 히팅챔버내에 주입시키는 가스공급부 등을 포함하여 이루어진다.
또한, 종래의 반도체 보트 이송용 상기 엘리베이터장치는, 다수개의 웨이퍼(10)를 수평상태로 적재하고, 상기 히팅챔버(18)내로 수직이송하는 수직형 보트(14)와, 상기 보트(14)의 하부에 고정되고, 상기 보트(14)를 수직으로 지지하는 베이스(15)과, 승하강운동을 하는 엘리베이터(17)와, 상기 엘리베이터(17)의 상측 안착면과 상기 베이스(15)사이에 연결되어 나사조절됨으로써 상기 베이스(15)의 수평을 조절하는 수동식 수평조절판(16)을 포함하여 이루어진다.
상기 수평조절판(16)을 밑에서 바라보면, 도2에서 도시된 바와 같이, 사방 XY축 방향으로 각축에 2개씩의 육각볼트(20) 모두 4개가 설치되어 각각의 육각볼트(20)를 정방향 또는 역방향 회전시킴으로써 상기 수평조절판(16)과 연결된 상기 베이스(15)의 경사각을 조절하여 상기 웨이퍼(10)를 수평정렬하도록 되어 있으며, 각각의 육각볼트(20)의 좌우에는 육각볼트(20)의 풀림을 방지하도록 상기 육각볼트(20)를 고정시키는 나비너트(21)가 설치되어 있다.
따라서, 수직상태의 상기 보트(14)가 외력에 의한 피로하중이 누적되어 기울어지게 되면 웨이퍼(10)의 수평정렬상태가 불량해지고, 이로 인하여 발생하는 웨이퍼 위치이탈과, 웨이퍼 가공불량 및 설비충돌 등의 현상을 방지하기 위하여 작업자가 정기적으로 상기 수평조절판(16) 밑면에 설치된 상기 나비너트(21)를 풀어서 상기 육각볼트(20)의 회전을 자유롭게 한 다음, 상기 4개의 육각볼트(20)를 각각 회전시켜서 육안으로 상기 베이스(15)을 수평정렬한 후 다시 상기 8개의 나비너트(21)를 재고정시키는 일련의 수평정렬작업을 수행했었다.
그러나, 상기 수평정렬작업이 육안에 의존하기 때문에 상기 육각볼트의 조절을 여러차례 반복하여 실시하게 되고, 상기 엘리베이터장치의 구조상 상기 4개 육각볼트의 조절 및 상기 8개 나비너트의 체결작업이 무척 번거로우므로 숙련된 작업자를 필요로 하며, 작업시간이 길어짐에 따른 시간손실이 증가하는 등의 문제점이 있었다.
본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 그 목적은 보트의 경사도를 감지하여 웨이퍼를 자동으로 수평조절시키는 자동수평조절장치를 설치하여 웨이퍼의 정확한 수평정렬이 이루어지도록 하고, 정렬시간과 공수를 줄이며, 웨이퍼의 위치이탈을 방지하여 양질의 웨이퍼를 생산하도록 하는 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치를 제공함에 있다.
도1은 종래의 반도체 보트 이송용 엘리베이터장치의 작동상태를 나타낸 개략도이다.
도2는 도1의 반도체 보트 이송용 엘리베이터장치를 밑에서 바라본 저면도이다.
도3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치의 작동상태를 나타낸 개략도이다.
도4는 도3의 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치를 측면에서 바라본 개략도이다.
도5는 도4의 수평정렬수단을 밑면에서 바라본 개략도이다.
※ 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
10: 웨이퍼 11: 카셋트
12: 카셋트이송장치 13: 웨이퍼이송장치
14, 34: 보트 15, 35: 베이스
16, 36: 수평조절판 17, 37: 엘리베이터
18: 히팅챔버 19: 석영관
20: 육각볼트 21: 나비너트
40: 수평조절구동부 40a: X축수평조절구동부
40b: Y축수평조절구동부 41: 모터
41a: X축모터 41b: Y축모터
42: 회전축 43: 센서
44: 제어부
상기의 목적은 하측에 수평유지되는 베이스를 구비하고, 웨이퍼가 적재되는 보트와, 상기 보트를 공정챔버내로 로딩 및 언로딩하는 엘리베이터와, 상기 보트의 수평여부를 감지하는 센싱수단과, 상기 보트의 베이스와 상기 엘리베이터 사이에 위치하며, 그 간격을 조절함으로써 상기 보트의 수평이 유지되도록 하는 수평조절수단 및 상기 센싱수단으로부터 상기 보트의 수평정보를 인가받아 상기 수평조절수단에 제어신호를 인가하는 제어부를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치에 의해 달성될 수 있다.
이하, 본 발명의 구체적인 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명 한다.
도3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치의 작동상태를 나타낸 개략도이고, 도4는 도3의 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치를 측면에서 바라본 개략도이다.
도3 및 도4를 참조하여 설명하면, 본 발명의 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치는 하측에 수평유지되는 원판형의 베이스(35)를 구비하고, 다수개의 웨이퍼를 수평상태로 적재하며, 공정챔버로 이송하는 석영재질의 수직형 보트(34)와, 승하강운동을 하는 엘리베이터(37)와, 상기 수평조절수단으로서, 상기 엘리베이터(37)의 상측에 수평으로 고정되는 원판형의 수평조절판(36)과, 상기 베이스(35)의 밑면과 상기 수평조절판(36) 상면 사이를 연결하고, 상기 보트(34) 및 상기 베이스(35)을 지지하며, 상기 베이스(35)가 수평상태로 정렬되도록 상기 베이스(35)의 밑면과 상기 수평조절판(36) 상면의 XY축으로 사방에 상하방향의 신축작용이 가능하도록 설치되어 상기 베이스(35)와 상기 수평조절판(36)의 각 지점의 이격된 거리를 조정함으로써 상기 상기 베이스(35)의 XY축 방향 경사를 조절하는 다수개의 수평조절구동부(40)와, 상기 수평조절구동부(40)를 동작시키는 구동력을 발생시키고, 동력전달부를 통하여 상기 다수개의 수평조절구동부(40)에 구동력을 전달하는 구동력발생부를 구비하며, 상기 웨이퍼의 수평정보를 수신받아 각각의 상기 수평조절구동부(40)의 작동을 제어하는 제어부(44) 및 상기 베이스(35) 또는 웨이퍼(10)의 수평상태를 감지하여 상기 제어부(44)에 수평정보를 발신하는 센싱수단으로서, 센서(43)를 포함하여 이루어진다.
상기 다수개의 수평조절구동부(40)는, 상기 베이스(35) 밑면의 X축선상 일측 단부에 설치되어 상기 베이스(35)의 상하방향으로 경사를 조절하는 X축수평조절구동부와, 상기 베이스(35) 밑면의 y축선상 일측 단부에 설치되어 상기 베이스(35)의 상하방향으로 경사를 조절하는 Y축수평조절구동부로 나누어 설치하는 것이 가능하고, 도5에서와 같이, X축수평조절구동부(40a)와 Y축수평조절구동부(40b)를 각각 1개씩 설치하는 것이 바람직하다.
이러한 상기 수평조절구동부(40)는, 상기 구동력발생부로부터 공압 또는 유압을 공급받아 일방향 또는 양방향으로 신장 및 수축이 가능한 유압실린더나 공압실린더 또는 튜브 등 다양한 형태의 구동장치가 가능하다.
상기와 같이 공압 또는 유압을 이용한 구동장치를 수평조절구동부로 사용할 경우에, 상기 구동력발생부로는 공압 또는 유압을 형성하는 유체펌프를 사용하고, 상기 동력전달부로는, 상기 제어부(44)의 제어를 받아 상기 공압 또는 유압을 상기 수평조절구동부에 전달하는 유체이송관을 사용하게 된다. 또한, 상기 수평조절구동부의 작동을 제어하기 위하여 내부 통로의 개폐에 따라서 상기 통로와 연결된 상기 유체이송관을 선택적으로 개폐함으로써 상기 구동력발생부의 구동력을 상기 수평조절구동부의 실린더에 선택적으로 전달하는 제어부(44)를 사용하여 실린더내의 공압 또는 유압을 제어하게 된다.
한편, 상기 수평조절구동부(40)는, 상기 베이스(35)에 연결되고, 내부에 수직방향의 암나사홀이 형성된 암나사부와, 상기 수평조절판(36)과 상기 암나사부를 관통하여 나사결합되고, 정,역회전하며 회전 승하강운동을 하는 수나사부 및 상기 구동력발생부로부터 동력전달부를 통하여 전달받은 회전력을 적정회전수와 적정회전력으로 변환하여 상기 수나사부에 전달하는 변속장치를 포함하여 이루어지는 나사식 승하강장치가 바람직하다.
나사식 승하강장치를 수평조절구동부로 사용하는 경우, 상기 변속장치는, 1개 이상의 변속기어조합이나, 밸트 및 풀리 조합이나, 체인 및 스프로킷휠 조합 또는 와이어 및 도르래 조합을 포함하는 것이 가능하고, 다수개의 기어로 이루어진 변속기어조합을 설치하는 것이 바람직하다.
또한, 회전구동력을 발생시키는 상기 구동력발생부는 모터(41)를 사용하는 것이 바람직하고, 상기 모터(41)는, 상기 제어부(44)로부터 직류전원을 공급받아 회전구동력을 발생시키는 직류모터나 교류전원을 공급받아 회전구동력을 발생시키는 교류모터나 전원을 공급받아 회전구동력을 발생시키고, 내부에 기어조합을 내장하여 적정회전수와 적정회전력을 발생하는 기어드모터 또는 펄스파전원을 공급받아 정밀구동하는 스텝모터 중에서 어느 하나를 선택하여 사용하는 것이 가능하나, 상기 모터(41)는 정밀제어에 적합한 상기 스텝모터를 사용하는 것이 바람직하다.
이러한 상기 모터(41)는, 도5에서와 같이, 상기 X축수평조절구동부(40a)와 상기 Y축수평조절구동부(40b)에 각각 X축모터(41a)와 Y축모터(41b)를 연결하여 설치한다.
또한, 상기 직류 및 교류모터를 제어하는 상기 제어부(44)는, 상기 센서(43)로부터 상기 보트의 수평정보를 수신받아 수신된 정보를 미리 입력된 수평데이타와 비교하여 발생한 오차를 보정하도록 전원의 전압량 또는 전류량을 변환하고, 상기 직류 또는 교류 모터에 상기 전원을 인가하여 제어하게 되며, 상기 스텝모터를 제어하는 경우, 상기 제어부(44)는, 상기 센서(43)로부터 상기 보트의 수평정보를 수신받아 수신된 정보를 미리 입력된 수평데이타와 비교하여 발생한 오차를 보정하도록 상기 전원을 양, 음의 펄스파로 변환하고, 상기 스텝모터에 상기 펄스파를 인가하여 제어하게 된다.
상기 모터(41)의 회전동력을 상기 수평조절구동부(40)의 수나사부에 전달하는 상기 동력전달부의 역할은 상기 모터(41)에 연결되어 회전하는 회전축(42)이 하게 된다. 또한, 상기 베이스(35) 또는 상기 웨이퍼(10)의 경사각을 감지하도록, 2쌍의 발광 및 수광센서를 상기 발광센서에서 조사되는 조사광이 서로 직각으로 교차하도록 수평하게 설치하고, 상기 발광센서에서 조사되는 조사광이 수평정렬이 요구되는 상기 베이스(35) 또는 웨이퍼(10)에 수평으로 근접하게 조사되도록 하여 상기 베이스(35) 또는 웨이퍼(10) 안착면의 수평오차를 감지하는 광센서를 사용하거나 상기 베이스(35)의 하면에 다수개가 설치되어 상기 웨이퍼(10)의 적재시 각각의 하중압력을 감지하는 압력센서 또는 상기 베이스(35)에 수직으로 고정설치되고, 내장된 중력추 주위에 사방으로 접촉센서나 압력센서를 설치하여 중력방향을 감지함으로써 상기 베이스(35) 또는 웨이퍼(10)의 수평오차를 감지하는 수평감지센서 또는 상기 베이스(35)에 수평계를 설치하는 것도 가능하다.
또한, 상기 제어부(44)에는 상기 제어부(44)에 연결되어 상기 센서(43)로부터 수신된 상기 베이스(35) 또는 웨이퍼(10)의 수평정보를 나타내는 표시부와, 상기 제어부(44)에 연결되고, 수평정렬작업 명령을 입력받아 명령코드로 변환하여 이를 상기 제어부(44)에 전달하는 입력부를 설치하는 것이 바람직하다.
따라서, 작업자가 상기 표시부를 통하여 상기 베이스(35) 또는 상기 웨이퍼(10)의 수평정렬상태를 수시로 점검할 수 있고, 수평정렬상태가 불량할 경우, 상기 입력부를 통하여 작업자의 명령을 상기 제어부(44)로 입력하면 상기 제어부(44)는 상기 센서(43)로부터 받아들인 데이터를 토대로 XY축의 수평보정데이터를 산출하여 상기 수평조절구동부에 회전축으로 연결된 상기 모터를 제어함으로써 상기 베이스 또는 상기 웨이퍼를 수평정렬하게 된다.
또한, 상기 수평정렬작업은, 상기 제어부(44)에 내장된 프로그램에 의해 주기적으로 반복되거나 필요에 따라 작업자의 명령에 의해 단계적으로 수행되는 것이 모두 가능하다.
이상에서와 같이 본 발명에 따른 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치에 의하면, 보트의 경사도를 감지하여 웨이퍼를 자동으로 수평조절시키는 자동수평조절장치를 설치함으로써 웨이퍼의 정확한 수평정렬이 이루어지도록 하고, 정렬시간과 공수를 줄이며, 웨이퍼의 위치이탈을 방지하여 양질의 웨이퍼를 생산하게 하는 효과를 갖는 것이다.
이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.
Claims (28)
- 하측에 수평유지되는 베이스를 구비하고, 웨이퍼가 적재되는 보트;상기 보트를 공정챔버내로 로딩 및 언로딩하는 엘리베이터;상기 보트의 수평여부를 감지하는 센싱수단;상기 보트의 베이스와 상기 엘리베이터 사이에 위치하며, 그 간격을 조절함으로써 상기 보트의 수평이 유지되도록 하는 수평조절수단; 및상기 센싱수단으로부터 상기 보트의 수평정보를 인가받아 상기 수평조절수단에 제어신호를 인가하는 제어부;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 수평조절수단은,상기 엘리베이터의 상측에 고정되는 수평조절판; 및상기 베이스의 밑면과 상기 수평조절판 상면 사이에 설치되고, 상기 보트와 수평상태로 정렬되도록 상기 베이스의 밑면과 상기 수평조절판 상면에 상하 신축가능하도록 설치되어 상기 베이스의 경사를 조절하는 다수개의 수평조절구동부; 및상기 수평조절구동부를 동작시키도록 구동력을 발생하는 구동력발생부;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 상기 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치.
- 제 2 항에 있어서,상기 수평조절구동부는,상기 베이스에 연결되고, 내부에 수직방향의 암나사홀이 형성된 암나사부;상기 수평조절판과 상기 암나사부를 관통하여 나사결합되고, 정,역회전하며 회전 승하강운동을 하는 수나사부; 및상기 구동력발생부로부터 동력전달부를 통하여 전달받은 회전력을 적정회전수와 적정회전력으로 변환하여 상기 수나사부에 전달하는 변속장치;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 상기 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치.
- 제 3 항에 있어서,상기 변속장치는,1개 이상의 변속기어조합을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 상기 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치.
- 제 3 항에 있어서,상기 변속장치는,1개 이상의 밸트 및 풀리 조합을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 상기 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치.
- 제 3 항에 있어서,상기 변속장치는,1개 이상의 체인 및 스프로킷휠 조합을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 상기 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치.
- 제 3 항에 있어서,상기 변속장치는,1개 이상의 와이어 및 도르래 조합을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 상기 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치.
- 제 3 항에 있어서,상기 구동력발생부는,상기 제어부로부터 직류전원을 공급받아 회전구동력을 발생시키는 직류모터를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 상기 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치.
- 제 3 항에 있어서,상기 구동력발생부는,상기 제어부로부터 교류전원을 공급받아 회전구동력을 발생시키는 교류모터를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 상기 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치.
- 제 3 항에 있어서,상기 구동력발생부는,상기 제어부로부터 전원을 공급받아 회전구동력을 발생시키고, 내부에 기어조합을 내장하여 적정회전수와 적정회전력을 발생하는 기어드모터인 것을 특징으로 하는 상기 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치.
- 제 3 항에 있어서,상기 구동력발생부는,상기 제어부로부터 전원을 공급받아 정밀구동하는 스텝모터인 것을 특징으로 하는 상기 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치.
- 제 8 항 내지 제 10 항 중에 어느 한 항에 있어서,상기 제어부는,상기 센싱수단으로부터 상기 보트의 수평정보를 수신받아 수신된 정보를 미리 입력된 수평데이타와 비교하여 발생한 오차를 보정하도록 전원의 전압량 또는 전류량을 변환하고, 상기 직류 또는 교류 모터에 상기 전원을 인가하여 제어하는 것을 특징으로 하는 상기 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치.
- 제 11 항에 있어서,상기 제어부는,상기 센싱수단으로부터 상기 보트의 수평정보를 수신받아 수신된 정보를 미리 입력된 수평데이타와 비교하여 발생한 오차를 보정하도록 상기 전원을 양, 음의 펄스파로 변환하고, 상기 스텝모터에 상기 펄스파를 인가하여 제어하는 것을 특징으로 하는 상기 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치.
- 제 3 항에 있어서,상기 동력전달부는, 회전동력을 전달하는 회전축임을 특징으로 하는 상기 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치.
- 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,상기 수평조절구동부는,상기 베이스 밑면의 X축선상 일측 단부에 설치되어 상기 베이스의 상하방향 경사를 조절하는 X축수평조절구동부; 및상기 베이스 밑면의 y축선상 일측 단부에 설치되어 상기 베이스의 상하방향 경사를 조절하는 Y축수평조절구동부;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 상기 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치.
- 제 2 항에 있어서,상기 수평조절구동부는,상기 구동력발생부로부터 유압을 공급받아 일방향 또는 양방향으로 신장 및 수축이 가능한 유압실린더를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 상기 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치.
- 제 2 항에 있어서,상기 수평조절구동부는,상기 구동력발생부로부터 공압을 공급받아 일방향 또는 양방향으로 신장 및 수축이 가능한 공압실린더를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 상기 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치.
- 제 2 항에 있어서,상기 수평조절구동부는,상기 구동력발생부로부터 공압 또는 유압을 공급받아 일방향 또는 양방향으로 신장 및 수축이 가능한 튜브를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 상기 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치.
- 제 16 항 내지 제 18 항 중에 어느 한 항에 있어서,상기 구동력발생부는,공압 또는 유압을 형성하는 유체펌프인 것을 특징으로 하는 상기 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치.
- 제 16 항 내지 제 18 항 중에 어느 한 항에 있어서,상기 동력전달부는,상기 제어부의 제어를 받아 상기 공압 또는 유압을 상기 수평조절구동부에 전달하는 유체이송관인 것을 특징으로 하는 상기 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치.
- 제 20 항에 있어서,상기 제어부는 내부 통로의 개폐에 따라서 상기 통로와 연결된 상기 유체이송관을 선택적으로 개폐함으로써 상기 구동력발생부의 구동력을 상기 수평조절구동부의 실린더에 선택적으로 전달하는 것을 특징으로 하는 상기 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 센싱수단은,상기 베이스에 설치된 수평계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 상기 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 센싱수단은,2쌍의 발광 및 수광센서를 상기 발광센서에서 조사되는 조사광이 서로 직각으로 교차하도록 수평하게 설치하고, 상기 발광센서에서 조사되는 조사광이 수평정렬이 요구되는 상기 보트에 근접되어 수평으로 조사되도록 하여 상기 보트 안착면의 수평오차를 감지하는 광센서를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 상기 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 센싱수단은,상기 베이스의 하면에 다수개가 설치되어 상기 웨이퍼의 적재시 각각의 하중압력을 감지하는 압력센서를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 상기 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 센싱수단은,상기 베이스에 수직으로 고정설치되고, 내장된 중력추 주위에 사방으로 접촉센서 또는 압력센서를 설치하여 중력방향을 감지함으로써 상기 보트의 수평오차를 감지하는 수평감지센서를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 상기 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 제어부에 연결되어 상기 센싱수단으로부터 수신된 상기 보트의 수평정보를 나타내는 표시부를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 상기 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 제어부에 연결되고, 수평정렬작업 명령을 입력받아 명령코드로 변환하여 이를 상기 제어부에 전달하는 입력부를 더 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 상기 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 제어부는,상기 제어부에 내장된 프로그램에 의해 주기적으로 반복하여 상기 센싱수단으로부터 상기 보트의 수평정보를 인가받아 상기 수평조절수단에 제어신호를 인가하는 것을 특징으로 하는 상기 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019970061934A KR100253091B1 (ko) | 1997-11-21 | 1997-11-21 | 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치 |
JP10234261A JPH11176909A (ja) | 1997-11-21 | 1998-08-20 | 半導体ボート移送用自動水平調節エレベーター装置 |
US09/144,824 US6223096B1 (en) | 1997-11-21 | 1998-09-01 | Elevator system for transferring a wafer boat with automatic horizontal attitude control |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019970061934A KR100253091B1 (ko) | 1997-11-21 | 1997-11-21 | 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR19990041352A true KR19990041352A (ko) | 1999-06-15 |
KR100253091B1 KR100253091B1 (ko) | 2000-04-15 |
Family
ID=19525286
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019970061934A KR100253091B1 (ko) | 1997-11-21 | 1997-11-21 | 반도체 보트 이송용 자동 수평조절 엘리베이터장치 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6223096B1 (ko) |
JP (1) | JPH11176909A (ko) |
KR (1) | KR100253091B1 (ko) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100653683B1 (ko) * | 2000-06-30 | 2006-12-04 | 삼성전자주식회사 | 반도체 제조 설비 |
JP2004281475A (ja) * | 2003-03-12 | 2004-10-07 | Seiko Epson Corp | 枚葉搬送装置および枚葉搬送方法 |
US7785418B2 (en) * | 2005-12-28 | 2010-08-31 | Macronix International Co., Ltd. | Adjusting mechanism and adjusting method thereof |
KR101743709B1 (ko) * | 2015-10-14 | 2017-06-07 | 주식회사 장원엔지니어링 | 연주 몰드용 전자 교반기의 전원공급장치 |
CN108305848A (zh) * | 2018-01-12 | 2018-07-20 | 昆山成功环保科技有限公司 | 一种晶圆自动定位***及包括它的装载机 |
CN114446843A (zh) * | 2020-11-02 | 2022-05-06 | 上海华力集成电路制造有限公司 | 晶圆传送模块及其传送预传送的晶圆的方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03239321A (ja) * | 1990-02-16 | 1991-10-24 | Kokusai Electric Co Ltd | 縦型cvd・拡散装置のボート姿勢修正方法及び装置 |
JP2899911B2 (ja) * | 1990-06-12 | 1999-06-02 | 日本テキサス・インスツルメンツ株式会社 | 板状体移載方法及びその装置 |
JPH0613361A (ja) * | 1992-06-26 | 1994-01-21 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置 |
US5697749A (en) * | 1992-07-17 | 1997-12-16 | Tokyo Electron Kabushiki Kaisha | Wafer processing apparatus |
US5484483A (en) * | 1993-02-05 | 1996-01-16 | Asm Japan, K.K. | Thermal treatment apparatus |
JPH0771929A (ja) * | 1993-09-02 | 1995-03-17 | Kokusai Electric Co Ltd | ウェーハ位置検知方法及び縦型拡散・cvd装置 |
JPH07161799A (ja) * | 1993-12-02 | 1995-06-23 | Nikon Corp | ステージ装置 |
US5604443A (en) * | 1994-05-23 | 1997-02-18 | Tokyo Electron Limited | Probe test apparatus |
JP3674063B2 (ja) * | 1994-06-21 | 2005-07-20 | 東芝機械株式会社 | ウェハ搬送装置 |
JPH08213447A (ja) * | 1995-02-06 | 1996-08-20 | Tokyo Electron Ltd | 被移載体の検出装置 |
US5674039A (en) * | 1996-07-12 | 1997-10-07 | Fusion Systems Corporation | System for transferring articles between controlled environments |
TW331550B (en) * | 1996-08-14 | 1998-05-11 | Tokyo Electron Co Ltd | The cassette receiving room |
-
1997
- 1997-11-21 KR KR1019970061934A patent/KR100253091B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1998
- 1998-08-20 JP JP10234261A patent/JPH11176909A/ja active Pending
- 1998-09-01 US US09/144,824 patent/US6223096B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100253091B1 (ko) | 2000-04-15 |
US6223096B1 (en) | 2001-04-24 |
JPH11176909A (ja) | 1999-07-02 |
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