KR102647721B1 - 올리고머 헥사플루오로프로필렌 옥사이드 유도체 - Google Patents
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- PGFXOWRDDHCDTE-UHFFFAOYSA-N hexafluoropropylene oxide Chemical class FC(F)(F)C1(F)OC1(F)F PGFXOWRDDHCDTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 13
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 48
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 11
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 7
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 33
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 24
- 238000004049 embossing Methods 0.000 claims description 23
- 239000002966 varnish Substances 0.000 claims description 22
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 15
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 14
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims description 10
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 7
- 238000001127 nanoimprint lithography Methods 0.000 claims description 7
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 claims description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 4
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims description 4
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 10
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 7
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 7
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 7
- 240000002853 Nelumbo nucifera Species 0.000 description 6
- 235000006508 Nelumbo nucifera Nutrition 0.000 description 6
- 235000006510 Nelumbo pentapetala Nutrition 0.000 description 6
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XWMIXYNBVNTPFV-UHFFFAOYSA-N 2,3,3,3-tetrafluoro-2-[1,1,2,3,3,3-hexafluoro-2-[1,1,2,3,3,3-hexafluoro-2-[1,1,2,3,3,3-hexafluoro-2-(1,1,2,2,3,3,3-heptafluoropropoxy)propoxy]propoxy]propoxy]propan-1-ol Chemical compound OCC(F)(C(F)(F)F)OC(F)(F)C(F)(C(F)(F)F)OC(F)(F)C(F)(C(F)(F)F)OC(F)(F)C(F)(C(F)(F)F)OC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F XWMIXYNBVNTPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- -1 HFPO methacrylates Chemical class 0.000 description 4
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 4
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 4
- NZZFYRREKKOMAT-UHFFFAOYSA-N diiodomethane Chemical compound ICI NZZFYRREKKOMAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N octyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C=C ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N urethane group Chemical group NC(=O)OCC JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IVWMVBZXKIOILW-UHFFFAOYSA-N 2,3,3,3-tetrafluoro-2-[1,1,2,3,3,3-hexafluoro-2-[1,1,2,3,3,3-hexafluoro-2-(1,1,2,2,3,3,3-heptafluoropropoxy)propoxy]propoxy]propan-1-ol Chemical compound OCC(F)(C(F)(F)F)OC(F)(F)C(F)(C(F)(F)F)OC(F)(F)C(F)(C(F)(F)F)OC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F IVWMVBZXKIOILW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DPNXHTDWGGVXID-UHFFFAOYSA-N 2-isocyanatoethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCN=C=O DPNXHTDWGGVXID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006845 Michael addition reaction Methods 0.000 description 3
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- OXBLVCZKDOZZOJ-UHFFFAOYSA-N 2,3-Dihydrothiophene Chemical compound C1CC=CS1 OXBLVCZKDOZZOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000006596 Alder-ene reaction Methods 0.000 description 2
- 241000251730 Chondrichthyes Species 0.000 description 2
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical class CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 2
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 2
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 2
- 150000004662 dithiols Chemical class 0.000 description 2
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 2
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 2
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 2
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000002094 self assembled monolayer Substances 0.000 description 2
- 239000013545 self-assembled monolayer Substances 0.000 description 2
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- ZMDDERVSCYEKPQ-UHFFFAOYSA-N Ethyl (mesitylcarbonyl)phenylphosphinate Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(=O)(OCC)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C ZMDDERVSCYEKPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000002500 effect on skin Effects 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- WCYWZMWISLQXQU-UHFFFAOYSA-N methyl Chemical group [CH3] WCYWZMWISLQXQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 238000007040 multi-step synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 1
- 125000003518 norbornenyl group Chemical group C12(C=CC(CC1)C2)* 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 1
- 229920000307 polymer substrate Polymers 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 238000006479 redox reaction Methods 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
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Abstract
본 발명은 하기 화학식 (I)의 화합물, 화합물을 제조하는 공정, 및 화합물의 용도에 관한 것이다:
상기 식에서, n은 3 내지 8로부터 선택되며, R은 수소 또는 C1-C8 알킬 라디칼이다.
상기 식에서, n은 3 내지 8로부터 선택되며, R은 수소 또는 C1-C8 알킬 라디칼이다.
Description
본 발명은 헥사플루오로프로필렌 옥사이드(HFPO)를 기반으로 한 신규한 올리고머 화합물, 이러한 화합물을 함유한 조성물, 표면이 이러한 화합물로 개질된 기판, 및 화합물의 제조 방법 및 용도에 관한 것이다.
최신 기술
최신 기술에서, 이미 1% 미만의 질량 백분율에서 UV-NIL 엠보싱된 표면(NIL은 나노 임프린트 리소그래피를 의미함)에 대한 연잎 효과를 생성시킬 수 있는 접착방지 첨가제가 알려져 있다[예를 들어, 문헌["The Lowest Surface Free Energy Based on -CF3 Alignment", Takashi Nishino, Masashi Meguro, Katsuhiko Nakamae, Motonori Matsushita and Yasukiyo Ueda Langmuir 1999, 15, 4321-4323] 참조]. 엠보싱 표면의 구조화 또는 거칠기 이외에, 연잎 효과는 높은 비율의 CF3 기를 기초로 한 것으로서, 이는 -CF2 기보다 훨씬 더 낮은 표면을 갖는다.
고도의 표면-활성 생성물은 아크릴레이트-작용화된 접착 방지 첨가제 올리고-HFPO-2-하이드록시에틸 메타크릴레이트 에스테르(하기에서, "HFPO 메타크릴레이트"로도 지칭됨)이다:
이러한 분자의 이례적인 표면 활성은 CF3 측면 기를 갖는 퍼플루오로폴리에테르 사슬의 분지된 구조로 인한 것이다. HFPO 메타크릴레이트는 HFPO 알코올의 -CH2-OH 알코올 기의 카복실산 기로의 산화 및 2-하이드록시에틸 메타크릴레이트와의 후속 에스테르화에 의해 제조될 수 있다.
본 발명이 해결해야 할 과제
본 발명의 목적은 매우 효과적인 접착 방지 첨가제 및 이를 함유한 조성물(UV-NIL 엠보싱 바니시)을 제공하는 것이다.
다른 목적은 비점착성 첨가제를 제조하는 단순한 방법 및 이의 용도를 제공하는 것이다.
본 발명의 요약
과제는 본 발명에 따른 화합물, 조성물, 폴리머, 코팅된 기판, 방법 및 용도를 제공함으로써 해결되었다.
본 발명에 따른 이러한 목적들은 청구범위에서 규정되어 있다.
본 발명의 장점
본 발명에 따른 화합물은 낮은 표면 에너지를 가지고, 다양한 방식으로서 접착 방지 첨가제로서(예를 들어, (메트)아크릴레이트-기반 V-NIL 엠보싱 바니시용으로) 사용될 수 있다. 이러한 방식으로, 본 발명에 따른 화합물은 엠보싱 바니시로부터 엠보싱 스탬프를 분리하는 동안 접착력 또는 탈형력(demoulding force)을 크게 감소시키고, 또한 UV-NIL 엠보싱된 표면에 방오(dirt-repellent) 또는 자가-세정 특성을 부여하고 적합한 구조에 대한 연잎 효과를 형성시킬 수 있다.
본 발명에 따른 화합물은 HFPO 메타크릴레이트보다 더 단순한 방식으로 그리고 더 높은 수율로 제조될 수 있다.
상응하는 올리고-우레탄 (메트)아크릴레이트를 제공하기 위한 2-이소시아노에틸 (메트)아크릴레이트에 올리고 HFPO 알코올의 직접 첨가는 HFPO 메타크릴레이트의 다단계 합성보다 더 단순하고, 더 높은 수율로 수행될 수 있다.
본 발명에 따른 화합물의 합성을 위해 사용될 수 있는 출발 화합물은 단순하고 저렴하게 제조할 수 있다.
도 1은 본 발명에 따른 화합물의 우레탄 기들 간의 수소 결합의 형성을 개략적으로 도시한 것이다.
도 2는 PFPE-UA-3의 농도에 따른, 불활성 가스 하에서 UV-경화된 실시예 1의 엠보싱 바니시 층에 대한 물 및 다이요오도메탄 접촉각(KW)을 도시한 것이다.
도 3은 PFPE-UA-3 농도에 따른, 불활성 가스 하에서 UV-경화된 실시예 1의 엠보싱 바니시 층에 대한 표면 에너지를 도시한 것이다.
γ: 전체 표면 에너지; d: 분산 부분, p: 극성 부분.
도 4는 PFPE-UA-3의 농도에 따른, 실시예 2의 엠보싱 바니시 층에 대한 물 및 다이요오도메탄 접촉각을 도시한 것이다.
도 5는 PFPE-UA-3 농도에 따른, 실시예 2의 엠보싱 바니시 층에 대한 표면 에너지를 도시한 것이다.
γ: 전체 표면 에너지; d: 분산 부분, p: 극성 부분.
도 2는 PFPE-UA-3의 농도에 따른, 불활성 가스 하에서 UV-경화된 실시예 1의 엠보싱 바니시 층에 대한 물 및 다이요오도메탄 접촉각(KW)을 도시한 것이다.
도 3은 PFPE-UA-3 농도에 따른, 불활성 가스 하에서 UV-경화된 실시예 1의 엠보싱 바니시 층에 대한 표면 에너지를 도시한 것이다.
γ: 전체 표면 에너지; d: 분산 부분, p: 극성 부분.
도 4는 PFPE-UA-3의 농도에 따른, 실시예 2의 엠보싱 바니시 층에 대한 물 및 다이요오도메탄 접촉각을 도시한 것이다.
도 5는 PFPE-UA-3 농도에 따른, 실시예 2의 엠보싱 바니시 층에 대한 표면 에너지를 도시한 것이다.
γ: 전체 표면 에너지; d: 분산 부분, p: 극성 부분.
본 발명은 하기 화학식 (I)의 화합물을 제공한다:
상기 식에서, n은 3 내지 8로부터 선택되며, R은 수소 또는 C1-C8 알킬 라디칼이다. 바람직하게는, R은 수소 또는 및 메틸 라디칼이다.
중합 가능한 탄소-탄소 이중 결합은 바람직하게는, 광 및/또는 열의 작용 하에서 및/또는 화학적 수단에 의해 유기적으로 중합될 수 있다. 이는 화학선의 작용 하에서 광화학적으로 중합될 수 있는 기, 특히, UV-중합 가능한 기이다.
중합 반응은 일반적으로, 반응성 이중 결합 또는 고리를 열, 광, 이온화 방사선의 영향 하에서 또는 화학적으로(레독스 반응을 통해)(첨가 중합) 폴리머로 전환시키는 중합반응(polyreaction)이다. 유기 중합은 바람직하게는, (메트)아크릴 기를 통해 일어난다.
이와 같은 C=C 이중 결합의 중합 반응(중첨가)에 추가하거나 또는 대안적으로, 마이클 첨가를 통해 이러한 이중 결합을 함유한 화합물과 다이아민 또는 고차 아민 또는 다이티올 또는 고차 티올의 반응(각각 티올-엔 반응 또는 아민과의 유사한 반응)이 또한 가능하다.
본 발명에 따른 화합물은 높은 정도의 CF3 잔기를 갖는다.
화학식 (I)의 구조에서, 모든 CF3 잔기는 -CF2-O- 기가 각 경우에서 끼어들도록 배열된다.
우레탄 기와 인접한 CF3 잔기 사이에 -CF2-O 기와 유사한 -CH2-O 기가 존재한다.
이러한 배열로 인하여, 본 발명에 따른 화합물은 매우 규칙적인 구조를 가지며, 이는 정렬되고 매우 밀집하게 배치된 플루오로-계면활성제-층 구조일 수 있다. 이러한 구조는 본 발명에 따른 화합물의 우레탄 기들 간의 수소 결합을 형성할 가능성에 의해 강화된다(도 1 참조).
전체적으로, 이는 본 발명에 따른 화합물이 예를 들어, 아크릴레이트-기반이고 이에 따라 뚜렷한 연잎 효과를 부여할 수 있는 엠보싱 바니시에서 표면 에너지 및 이에 따라 접착 에너지를 크게 감소하게 한다.
본 발명에 따른 화합물은 알코올과 이소시아네이트의 반응에 의해 수득 가능하다. 종래 기술의 화합물 HFPO 메타크릴레이트의 차이는 제조 공정에서 발생한다.
HFPO 메타크릴레이트는 HFPO 알코올의 -CH2-OH 알코올 기의 카복실산 기로의 산화 및 2-하이드록시에틸 메타크릴레이트로의 후속 에스테르화에 의해 제조될 수 있다.
예를 들어, 본 발명에 따른 화합물은 올리고 우레탄 아크릴레이트이고, 예를 들어, 우레탄 아크릴레이트를 형성하기 위한 2-이소시아네이토에틸 아크릴레이트(AOI)에 대한 첨가에 의해 올리고 HFPO 알코올을 반응시킴으로써 제조될 수 있다.
이는 본 발명과 HFPO 메타크릴레이트 간에 하기 구조적 차이를 야기시킨다:
본 발명의 화합물:
HFPO 메타크릴레이트:
출발 화합물로서 사용되는 올리고머는 오로지 프로필렌 옥사이드로부터 유도된 단위를 가지며, 이에 따라, 이는 단순한 방식으로 제조될 수 있다.
본 발명에 따른 화합물에서 헤드 기(head group)로서 존재하는 우레탄 기는 추가 N 원자로 인해 극성이고, N 원자 상의 H 원자로 인해 추가적으로 H-브릿지 결합을 형성할 수 있다. 이는 폴리머 표면 상에 더욱 고도로 정렬되고 더욱 밀집 배치된 플루오로-계면활성제 단일층을 형성시키고, 이에 따라, 낮은 표면 에너지를 형성시킨다(도 1 참조).
본 발명에 따른 실시예에서, 상이한 HFPO-UA-3 함량을 갖는 UV-경화된 엠보싱 바니시 층이 생성되었으며, 이후에, 이러한 층 상에 놓인 물방울 및 다이요오도메탄 방울의 접촉각이 측정되었으며, 이로부터 표면 에너지가 결정되었다. 이러한 공정에서 측정되고 계산된 값은 HFPO 메타크릴레이트와 적어도 동일한, 놀라운 표면 활성을 입증하였다. 이의 표면 활성은 문헌[M. Leitgeb, D. Nees et al., ACS Nano 10 (5), 4926 (2016)(이러한 문헌에서 PFPE-A1로서 명시됨)]에 기술되어 있다.
본 발명에 따른 조성물은 본 발명에 따른 화합물 및 폴리머 출발 물질을 포함한다. 폴리머 출발 물질은 중합 하에서 본 발명에 따른 화합물에서의 탄소-탄소 이중 결합과 반응할 수 있는 적어도 하나의 반응성 기를 갖는 모노머 및/또는 올리고머를 포함한다. 가장 단순한 경우에, 이는 또한, 탄소-탄소 이중 결합을 갖는 라디칼이다. 이중 결합-함유 기의 예에는 마이클 첨가에 접근 가능한 이중 결합을 갖는 기, 예를 들어, 스티릴, 노르보르네닐 또는 (메트)아크릴산 유도체가 있다. 그러나, 이러한 것은 또한, 비닐 또는 알릴 기일 수 있다. (메트)아크릴 유도체 또는 (메트)아크릴산 유도체는 특히, (메트)아크릴레이트 및 (메트)아크릴아미드를 의미한다. 추가적으로 또는 대안적으로, 폴리머 출발 물질은 또한, 마이클 첨가(각각 티올-엔 반응 또는 아민과의 유사한 반응)를 통해 반응할 수 있는, 다이아민 또는 고차 아민 또는 다이티올 또는 고차 티올을 함유한 잔기를 포함할 수 있다. 임의의 경우에, 폴리머 출발 물질의 중합 가능한 기는 중합이 폴리머에 본 발명의 화합물을 도입할 수 있게 하도록 선택되어야 한다.
본 발명에 따른 조성물은 0.001 내지 10%, 바람직하게는, 0.001 내지 1.0%의 양의 본 발명에 따른 화합물, 및 50 내지 99.999%의 양의 폴리머 출발 물질을 함유한다. 나머지 성분들은 예를 들어, 5 내지 40%의 바람직한 양의 반응성 희석제, 및 광개시제일 수 있다. 본 발명에서 백분율은 달리 명시하지 않는 한 중량 기준이다. 바람직한 조성물은 0.01 내지 3%의 본 발명의 화합물, 50 내지 80% 폴리머 출발 물질, 5 내지 30% 반응성 희석제, 및 0.1 내지 3% 광개시제를 함유하며, 이러한 성분들의 총량은 본 발명의 조성물의 총량의 적어도 90%, 바람직하게는, 적어도 95%이다.
본 발명에 따른 폴리머는 본 발명에 따른 조성물의 중합 후에 형성된다. 폴리머는 임의의 형태, 예를 들어, 필름과 같은 고체 형태 또는 외관 페인트 또는 스프레이의 액체 형태일 수 있다.
본 발명에 따른 화합물은 기판을 코팅하기 위해 본 발명에 따른 조성물 형태로 사용될 수 있다. 기판은 임의의 물체일 수 있으며, 이의 표면에는 원하는 접착 방지 특성이 제공되어야 한다. 이에 따라, 기판은 미세구조에 엠보싱 바니시 또는 이러한 바니시를 엠보싱하기 위한 스탬프가 제공된 기판 또는 지지체이다. 그러나, 기판은 또한, 임의의 표면, 예를 들어, 유리 표면일 수 있으며, 이의 표면은 방오 또는 자가-세정을 나타내야 한다. 기판의 추가 예는 광전지, 조명 또는 광학의 분야에서의 표면이고, 또한, 자가-세정 또는 방오를 나타내야 하는 텍스타일, 차양, 방수포 및 돛의 표면이다.
이러한 코팅은 원하는 표면 특성, 특히, 접착 방지 특성 및 변경된 표면 에너지를 갖는 본 발명에 따른 코팅된 기판을 형성시킨다.
본 발명에 따른 코팅된 기판은 예를 들어, 엠보싱 바니시로서 본 발명에 따른 폴리머로 코팅된 기판, 또는 접착 방지 코팅으로서 본 발명에 따른 폴리머로 코팅된 나노 임프린트 리소그래피용 작업 스탬프일 수 있거나, 여기서, 엠보싱 구조 또는 엠보싱 릴리프(embossing relief)는 본 발명에 따른 상기 폴리머를 포함한다. 이러한 스탬프는 적어도 필름의 표면 상에 본 발명에 따른 폴리머를 포함하는 구조화된 표면층을 갖는 폴리머 기판 필름(예를 들어, PET)을 포함할 수 있다. 구조화된 표면층은 본 발명에 따른 화합물과 함께 아크릴레이트를 UV 경화시킴으로써 수득 가능한 폴리머일 수 있다.
나노 임프린트 리소그래피 공정을 수행하기 위하여, 스탬핑 바니시 및 스탬핑 표면 둘 모두가 본 발명에 따른 화합물을 포함하는 것이 특히 유리할 수 있다.
본 발명에 따른 코팅된 기판에서, 기판과 본 발명에 따른 폴리머 간의 결합은 원칙적으로, 공유 결합 또는 비-공유 결합을 기반으로 할 수 있다.
비-공유 결합은 예를 들어, 본 발명의 폴리머의 층을 제거하는 것이 요망되는 경우에 바람직하다. 이는 예를 들어, 이러한 층을 교체하고자 하는 경우일 수 있다. 본 발명에 따른 이러한 폴리머의 예는 열가소성 수지이다.
그러나, 공유 결합이 또한 바람직할 수 있다. 이러한 것은 기판에 본 발명의 폴리머를 결합하기 위해 적절한 접착력을 사용함으로써 형성될 수 있다. 그러나, 이러한 것은 또한, 본 발명에 따른 화합물의 중합 동안 본 발명에 따른 화합물의 반응성 기와 반응하고 이에 따라 폴리머에 도입되거나 본 발명에 따른 조성물의 중합 동안 본 발명에 따른 화합물의 반응성 기 및/또는 다른 중합 가능한 성분들과 반응하고 이에 따라 폴리머에 도입되는, 잔기와 결합을 갖는 기판에 의해 형성될 수 있다.이러한 경우에, 본 발명에 따른 코팅된 기판은 본 발명에 따른 조성물을 코팅되지 않은 기판에 적용하고, 이후에 중합시킴으로써 제조될 수 있다.
본 발명에 따른 화합물은 UV-NIL 엠보싱 바니시에서 접착 방지 첨가제로서 사용될 수 있고, 엠보싱 공정에서 작업 스탬프(예를 들어, 니켈, 석영 또는 폴리머로 제조됨)에 대한 접착력을 감소시킬 수 있고/거나, 이는 UV 나노 임프린트 리소그래피를 위한 작업 스탬프에서 접착 방지 첨가제로서 사용될 수 있고, 엠보싱 공정에서 엠보싱 바니시에 대한 접착력을 감소시킬 수 있다.
접착 방지 첨가제는 UV-NIL 엠보싱된 바니시 표면의 표면 에너지를 영구저긍로 감소시키고, 이에 따라, 적합한 마이크로- 및 나노-구조에 대한 물 및 먼지 반발성 및 필요한 경우, 연잎 효과, 즉, 자가-세정 작용성을 야기시킬 수 있다. 연잎 효과는 예를 들어, 알코올로 오염된 표면을 세정함으로써 가역적으로 재생된다.
본 발명에 따른 화합물은 특히, 모든 UV 엠보싱 바니시 포뮬레이션에, 예를 들어, 여러 상이한 구조(상어 피부, 나방 눈, 회절 격자)를 갖는 UV-NIL 엠보싱된 표면에 적합하다.
구체적인 적용에는 반사 방지 코팅(나방-눈 효과)뿐만 아니라 광전지을 위한 방오 또는 자가-세정 코팅, 흐름 마찰을 감소시키는 코팅(상어피부 효과), 조명, 광학, 빌딩 창유리, 등과 같은 기능성 표면이 있다.
본 발명에 따른 화합물의 제조
하기에서, 본 발명에 따른 화합물의 제조는 바람직한 구체예를 참조하여 기술된다.
본 발명에 따른 화합물은 알코올과 이소시아네이트의 반응에 의해 수득 가능하다.
분지된 CF3 측면 기-함유 트라이- 내지 헥사-HFPO(올리고머) 알코올은 상업적으로 입수 가능하다. 이의 예는 하기를 포함한다:
1H,1H-퍼플루오로-2,5,8-트라이메틸-3,6,9-트라이옥사도데칸-1-올:
2-{1,1,2,3,3,3-헥사플루오로-2-[1,1,2,3,3,3-헥사플루오로-2-(헵타플루오로프로폭시)프로폭시]프로폭시}-2,3,3,3-테트라플루오로프로판-1-올(CAS 14620-81-6)
1H,1H-퍼플루오로(2,5,8,11-테트라메틸-3,6,9,12-테트라옥사펜타데칸-1-올):
2,4,4,5,7,7,8,10,10,11,13,13,14,14,15,15,15-헵타데카플루오로-2,5,8,11-테트라키스(트리플루오로메틸)-3,6,9,12-테트라옥사펜타데칸-1-올(CAS 141977-66-4)
1H,1H-퍼플루오로(2,5,8,11,14-펜타메틸-3,6,9,12,15-옥사옥타데칸-1-올)(CAS 27617-34-1).
CAS 14620-81-6 및 CAS 141977-66-4로서 지정된 폴리올이 바람직하다.
이러한 화합물은 우수한 수율로 상응하는 올리고-HFPO 우레탄 아크릴레이트를 제공하기 위해 2-이소시아네이토에틸 아크릴레이트(H2C=CH-CO-O-CH2-CH2-N=C=O; CAS 13641-96-8)와 연결된다.
본 발명에 따른 이러한 화합물의 바람직한 예는 R이 H일 수 있고 n이 3 또는 4일 수 있는 화학식 (I)의 올리고-HFPO 우레탄 아크릴레이트이다.
실시예
본 발명은 하기 실시예를 참조로 하여 추가로 예시된다.
실시예 1
엠보싱 바니시 층(75% E8402, 23% nOA, 2% TPO-L)을 N2 불활성 가스 하에서 경화시켰다. 다양한 농도의 PFPE-UA-3을 접착 방지 첨가제로서 사용하였다. 화합물 PFPE-UA-3은 n이 3이며 R이 H인 본 발명에 따른 화학식 (I)의 화합물이다. E8402(Ebecryl 8402)는 엠보싱 바니시 베이스로서 사용되는 Allnex로부터의 지방족 우레탄 아크릴레이트이다. 사용되는 반응성 희석제(thinner)는 n-옥틸 아크릴레이트(nOA)이다. TPO-L은 광개시제 에틸 (2,4,6-트라이메틸벤조일)페닐포스피네이트이다.
도 2는 물 및 다이요오도메탄의 접촉각이 1% 미만의 매우 낮은 PFPE-UA-3 농도에서 유의미하게 증가됨을 도시한 것이다.
도 3은 표면 에너지가 낮은 PFPE-UA-3 농도에서도 유의미하게 감소함을 도시한 것으로서, 이는 주로 표면 에너지의 분산 부분의 감소로 인한 것이다.
본 발명에서, 표면 에너지는 문헌[Owens, Wendt, Rabel and Kaelble (OWRK) (D. H. Kaelble, Dispersion-Polar Surface Tension Properties of Organic Solids. In: J. Adhesion 2 (1970), pp. 66-81; D. Owens; R. Wendt, Estimation of the Surface Free Energy of Polymers. In: J. Appl. Polym. Sci 13 (1969), pp. 1741-1747; W. Rabel, Einige Aspekte der Benetzungstheorie und ihre Anwendung auf die Untersuchung und Veranderung der Oberflaecheneigenschaften von Polymeren. In: Farbe und Lack 77,10 (1971), pp. 997-1005)]의 방법에 의해 결정된다. OWRK 방법은 여러 액체와의 접촉각으로부터 고체의 표면 자유 에너지를 계산하기 위한 표준 방법이다. 표면 자유 에너지는 극성 부분 및 분산 부분으로 나뉘어진다.
실시예 2
엠보싱된 바니시 층(75% E8402, 23% nOA, 2% TPO-L)을 FPS-코팅된 니켈 시트에 대해 경화시켰다. 다양한 농도의 PFPE-UA-3을 접착 방지 첨가제로서 사용하였다.
FPS는 1H,1H,2H,2H-퍼플루오로옥틸포스폰산이다:
이러한 화합물은 니켈 상에 자가-어셈블링된 단일층(self-assembled monolayer, SAM)을 형성하고, 니켈 스탬프의 접착 방지 코팅용으로 사용된다.
도 4는 접촉각이 1% 미만의 매우 낮은 PFPE-UA-3 농도에서 유의미하게 증가됨을 도시한 것이다.
도 5는 표면 에너지가 낮은 PFPE-UA-3 농도에서도 유의미하게 감소됨을 도시한 것이다.
Claims (14)
- 표면이 하기 화학식 (I)의 화합물 및 중합 가능한 탄소-탄소 이중 결합과 반응성인 폴리머 출발 물질을 포함하는 조성물을 중합 반응시킴으로써 수득되는 폴리머를 함유하는 층을 포함하는 코팅된 기판으로서,
코팅된 기판이 지지체 상에 상기 폴리머를 포함하는 엠보싱된 코팅층을 갖는 지지체, 또는 스탬프 상에 상기 폴리머를 포함하는 구조화된 표면층을 갖는 나노 임프린트 리소그래피를 위한 스탬프인, 코팅된 기판:
상기 식에서, n은 3 내지 8로부터 선택되며, R은 수소 또는 C1-C8 알킬 라디칼이다. - 제1항이 있어서, n은 3 또는 4이며, R이 수소 또는 메틸인, 코팅된 기판.
- 제1항에 있어서, 조성물이 0.001 내지 10 중량% 양의 화학식 (I)의 화합물, 및 50 내지 99.999 중량% 양의 폴리머 출발 물질을 포함하는, 코팅된 기판.
- 제3항에 있어서, 조성물이 0.001 내지 1.0 중량% 양의 화학식 (I)의 화합물을 포함하는, 코팅된 기판.
- 바니시 층을 스탬프로 엠보싱하는 것을 포함하는 나노 임프린트 리소그래피 방법으로서, 상기 바니시 층은 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 기재된 폴리머를 포함하고, 상기 스탬프는 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 기재된 폴리머를 포함하는 구조화된 표면층을 갖는, 나노 임프린트 리소그래피 방법.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 화학식 (I)의 화합물이 코팅의 표면 에너지를 변경시키는, 코팅된 기판.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102019106081.8 | 2019-03-11 | ||
DE102019106081.8A DE102019106081B4 (de) | 2019-03-11 | 2019-03-11 | Oligomere Hexafluorpropylenoxidderivate |
PCT/EP2020/054739 WO2020182452A1 (de) | 2019-03-11 | 2020-02-24 | Oligomere hexafluorpropylenoxidderivate |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20210137509A KR20210137509A (ko) | 2021-11-17 |
KR102647721B1 true KR102647721B1 (ko) | 2024-03-15 |
Family
ID=69650622
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020217032142A KR102647721B1 (ko) | 2019-03-11 | 2020-02-24 | 올리고머 헥사플루오로프로필렌 옥사이드 유도체 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20220204441A1 (ko) |
EP (1) | EP3938411A1 (ko) |
JP (1) | JP7301999B2 (ko) |
KR (1) | KR102647721B1 (ko) |
CN (1) | CN113748144B (ko) |
CA (1) | CA3132086A1 (ko) |
DE (1) | DE102019106081B4 (ko) |
WO (1) | WO2020182452A1 (ko) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104844759A (zh) * | 2015-04-21 | 2015-08-19 | 衢州氟硅技术研究院 | 一种含氨基甲酰基聚合物及其制备方法 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004107589A (ja) | 2002-09-20 | 2004-04-08 | Fuji Photo Film Co Ltd | フルオロ脂肪族基含有高分子化合物 |
DE102004027124A1 (de) | 2003-06-04 | 2005-01-05 | Komag, Inc., San Jose | Beschichtete Prägeschicht für die Nano-Präge-Lithographie |
JP4370843B2 (ja) | 2003-07-18 | 2009-11-25 | 旭硝子株式会社 | フォトレジスト |
US7682771B2 (en) | 2004-12-29 | 2010-03-23 | 3M Innovative Properties Company | Compositions containing photosensitive fluorochemical and uses thereof |
GB2432836A (en) | 2005-12-01 | 2007-06-06 | 3M Innovative Properties Co | Fluorinated surfactant |
WO2013191861A1 (en) * | 2012-06-19 | 2013-12-27 | 3M Innovative Properties Company | Additive comprising low surface energy group and hydroxyl groups and coating compositions |
JP2014026100A (ja) | 2012-07-26 | 2014-02-06 | Toppan Printing Co Ltd | 低屈折率層形成用樹脂組成物、反射防止フィルム |
JP6062680B2 (ja) | 2012-08-01 | 2017-01-18 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 防汚性ハードコートおよび防汚性ハードコート前駆体 |
JP6371032B2 (ja) * | 2012-08-01 | 2018-08-08 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 反射防止ハードコートおよび反射防止物品 |
JP6326966B2 (ja) | 2014-05-26 | 2018-05-23 | ユニマテック株式会社 | 含フッ素ウレタン(メタ)アクリレートの製造法 |
-
2019
- 2019-03-11 DE DE102019106081.8A patent/DE102019106081B4/de active Active
-
2020
- 2020-02-24 US US17/437,183 patent/US20220204441A1/en active Pending
- 2020-02-24 CN CN202080029587.2A patent/CN113748144B/zh active Active
- 2020-02-24 CA CA3132086A patent/CA3132086A1/en not_active Abandoned
- 2020-02-24 KR KR1020217032142A patent/KR102647721B1/ko active IP Right Grant
- 2020-02-24 JP JP2021553855A patent/JP7301999B2/ja active Active
- 2020-02-24 EP EP20706715.8A patent/EP3938411A1/de not_active Withdrawn
- 2020-02-24 WO PCT/EP2020/054739 patent/WO2020182452A1/de unknown
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104844759A (zh) * | 2015-04-21 | 2015-08-19 | 衢州氟硅技术研究院 | 一种含氨基甲酰基聚合物及其制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA3132086A1 (en) | 2020-09-17 |
CN113748144A (zh) | 2021-12-03 |
US20220204441A1 (en) | 2022-06-30 |
JP7301999B2 (ja) | 2023-07-03 |
DE102019106081B4 (de) | 2024-05-08 |
WO2020182452A1 (de) | 2020-09-17 |
EP3938411A1 (de) | 2022-01-19 |
CN113748144B (zh) | 2023-06-16 |
DE102019106081A1 (de) | 2020-09-17 |
KR20210137509A (ko) | 2021-11-17 |
JP2022524160A (ja) | 2022-04-27 |
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