KR102463650B1 - 가공 장치 - Google Patents

가공 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR102463650B1
KR102463650B1 KR1020160153194A KR20160153194A KR102463650B1 KR 102463650 B1 KR102463650 B1 KR 102463650B1 KR 1020160153194 A KR1020160153194 A KR 1020160153194A KR 20160153194 A KR20160153194 A KR 20160153194A KR 102463650 B1 KR102463650 B1 KR 102463650B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
processed object
chuck table
unit
workpiece
holding
Prior art date
Application number
KR1020160153194A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20170061599A (ko
Inventor
히데유키 산도
가즈나리 다나카
Original Assignee
가부시기가이샤 디스코
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 가부시기가이샤 디스코 filed Critical 가부시기가이샤 디스코
Publication of KR20170061599A publication Critical patent/KR20170061599A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102463650B1 publication Critical patent/KR102463650B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/70Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
    • H01L21/77Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
    • H01L21/78Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67703Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
    • H01L21/67715Changing the direction of the conveying path
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6835Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6838Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping with gripping and holding devices using a vacuum; Bernoulli devices

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Dicing (AREA)

Abstract

(과제) 프리컷 장치를 사용하지 않고 대형의 피가공물을 가공할 수 있는 가공 장치를 제공한다.
(해결 수단) 판상의 제 1 피가공물 (11) 이 재치되는 재치부 (6) 와, 제 1 피가공물을 분할하여 얻어지는 제 2 피가공물 (13) 을 유지면 (14a) 에서 유지하는 척 테이블 (14) 과, 척 테이블에 의해 유지된 제 2 피가공물을 가공하는 가공 수단 (16) 과, 재치부에 재치된 제 1 피가공물을 유지하여 반송하는 반송 수단 (8) 과, 반송 수단에 의해 유지된 제 1 피가공물을 컷하여 유지면에 대응한 크기의 복수의 제 2 피가공물로 분할하는 프리컷 수단 (26) 을 포함하고, 프리컷 수단은, 반송 수단의 이동 경로 내에 설치되어 반송 수단을 이동시키면서, 반송 수단에 의해 유지된 제 1 피가공물에 프리컷 수단을 절입시킴으로써, 제 1 피가공물을 척 테이블에 반송하기 전에 복수의 제 2 피가공물로 분할한다.

Description

가공 장치{MACHINING APPARATUS}
본 발명은, 판상의 피가공물을 가공하는 가공 장치에 관한 것이다.
IC, LSI 등의 반도체 칩은, 수지 등으로 피복된 패키지 디바이스 (packaged devices) 의 양태로 전자 기기 등에 장착되는 경우가 많다. 이 패키지 디바이스는, 예를 들어, 복수의 반도체 칩을 봉지한 패키지 기판을 소정의 분할 예정 라인 (스트리트) 을 따라 분할함으로써 제조할 수 있다 (예를 들어, 특허문헌 1 참조).
상기 서술한 바와 같은 패키지 디바이스의 제조에 관련된 비용은, 예를 들어, 패키지 기판을 대형화하면 낮출 수 있다. 그 때문에, 패키지 디바이스의 제조시에는, 분할 장치 (가공 장치) 에 의해 분할할 수 있는 범위 내에서 가장 큰 패키지 기판을 형성하는 것이 일반적이다.
일본 공개특허공보 2001-24003호
최근에는, 패키지 기판의 대형화가 비교적 용이하게 되어 있고, 분할 장치로 한 번에 분할할 수 없는 크기의 패키지 기판이 형성되는 경우도 있다. 이 경우에는, 형성된 대형의 패키지 기판을 사전에 컷 (프리컷) 하여, 분할 장치로 분할할 수 있는 크기로 가공할 필요가 있다.
그러나, 상기 서술한 바와 같은 사전의 컷은, 전용의 프리컷 장치를 사용하여 실시되므로, 이 프리컷 장치가 비용 절감을 방해하는 요인이 되고 있었다. 본 발명은 이러한 문제점을 감안하여 이루어진 것으로, 그 목적으로 하는 바는, 프리컷 장치를 사용하지 않고 대형의 피가공물을 가공할 수 있는 가공 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 일 측면에 의하면, 판상의 제 1 피가공물이 재치 (載置) 되는 재치부와, 제 1 피가공물을 분할하여 얻어지는 제 2 피가공물을 유지면에서 유지하는 척 테이블과, 그 척 테이블에 의해 유지된 제 2 피가공물을 가공하는 가공 수단과, 그 재치부에 재치된 제 1 피가공물을 유지하여 반송하는 반송 수단과, 그 반송 수단에 의해 유지된 제 1 피가공물을 컷하여 그 유지면에 대응한 크기의 복수의 제 2 피가공물로 분할하는 프리컷 수단을 구비하고, 그 프리컷 수단은, 그 반송 수단의 이동 경로 내에 설치되고, 그 반송 수단을 이동시키면서, 그 반송 수단에 의해 유지된 제 1 피가공물에 그 프리컷 수단을 절입시킴으로써, 제 1 피가공물을 그 척 테이블에 반송하기 전에 복수의 제 2 피가공물로 분할하는 것을 특징으로 하는 가공 장치가 제공된다.
본 발명의 일 측면에 있어서, 그 반송 수단은, 제 2 피가공물에 각각 대응하는 제 1 피가공물의 복수의 영역을 유지할 수 있도록 구성되어 있고, 그 프리컷 수단에 의해 제 1 피가공물을 복수의 제 2 피가공물로 분할하고 나서, 복수의 제 2 피가공물을 순서대로 그 척 테이블에 반송하는 것이 바람직하다.
본 발명의 일 측면에 관련된 가공 장치에서는, 제 1 피가공물을 유지하여 반송하는 반송 수단의 이동 경로 내에 프리컷 수단이 배치되어 있으므로, 제 1 피가공물을 유지한 반송 수단을 이동시키면서, 이 제 1 피가공물에 프리컷 수단을 절입시킴으로써, 제 1 피가공물을 척 테이블에 반송하기 전에 복수의 제 2 피가공물로 분할할 수 있다.
요컨대, 본 발명의 일 측면에 관련된 가공 장치에서는, 반송 수단과 프리컷 수단을 사용하여, 대형의 제 1 피가공물을, 척 테이블의 유지면에 대응한 크기의 복수의 제 2 피가공물로 분할하므로, 전용의 프리컷 장치를 사용하지 않고 대형의 피가공물을 가공할 수 있다.
도 1 은, 가공 장치의 구성예를 모식적으로 나타내는 평면도이다.
도 2 의 (A) 는, 제 1 반송 유닛의 구조 등을 모식적으로 나타내는 도면이고, 도 2 의 (B) 는, 제 1 반송 유닛의 하면측을 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 3 의 (A) 는, 피가공물이 반입측 테이블로부터 제 1 반송 유닛에 넘겨지는 모습을 모식적으로 나타내는 도면이고, 도 3 의 (B) 는, 피가공물이 프리컷 유닛에 의해 프리컷되는 모습을 모식적으로 나타내는 도면이고, 도 3 의 (C) 는, 분할 후의 피가공물이 제 1 반송 유닛으로부터 척 테이블에 넘겨지는 모습을 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 4 의 (A) 는, 피가공물을 척 테이블에 넘긴 후의 제 1 반송 유닛의 동작을 모식적으로 나타내는 도면이고, 도 4 의 (B) 는, 분할 후의 다른 피가공물이 제 1 반송 유닛으로부터 척 테이블에 넘겨지는 모습을 모식적으로 나타내는 도면이다.
첨부 도면을 참조하여, 본 발명의 일 측면에 관련된 실시형태에 대해 설명한다. 도 1 은, 본 실시형태에 관련된 가공 장치의 구성예를 모식적으로 나타내는 평면도이다. 또한, 본 실시형태에서는, 판상의 피가공물을 절삭하는 가공 장치 (절삭 장치) 에 대해 설명하지만, 본 발명에 관련된 가공 장치는, 피가공물을 레이저 광선으로 가공하는 레이저 가공 장치 등이어도 된다.
도 1 에 나타내는 바와 같이, 가공 장치 (절삭 장치) (2) 는, 각 구조를 지지하는 기대 (基臺) (4) 를 구비하고 있다. 기대 (4) 의 전단부에는, 사각형의 개구 (4a) 가 형성되어 있고, 이 개구 (4a) 내에는, 대형의 피가공물 (제 1 피가공물) (11) 을 실은 반입측 테이블 (재치부) (6) 이 배치되어 있다. 피가공물 (11) 로는, 예를 들어, 복수의 반도체 칩을 수지 등으로 봉지한 사각형의 패키지 기판이 사용된다. 단, 피가공물 (11) 의 종류, 크기, 형상 등에 제한은 없다.
반입측 테이블 (6) 의 상방에는, X 축 방향 (전후 방향, 가공 이송 방향) 으로 이동 가능한 제 1 반송 유닛 (반송 수단) (8) 이 형성되어 있다. 반입측 테이블 (6) 에 실린 대형의 피가공물 (11) 은, 이 제 1 반송 유닛 (8) 에 의해 흡인, 유지되어, 후방으로 반송된다. 제 1 반송 유닛 (8) 의 상세한 것에 대해서는 후술한다.
개구 (4a) 의 후방에는, X 축 방향으로 긴 사각형의 개구 (4b) 가 형성되어 있다. 이 개구 (4b) 내에는, X 축 이동 테이블 (10), X 축 이동 테이블 (10) 을 X 축 방향으로 이동시키는 X 축 이동 기구 (도시 생략), 및 X 축 이동 기구를 덮는 방진 방적 커버 (12) 가 배치되어 있다.
X 축 이동 테이블 (10) 의 상방에는, 피가공물 (11) 보다 소형의 피가공물(제 2 피가공물) (13) (도 3 의 (C) 등 참조) 을 유지하는 척 테이블 (14) 이 형성되어 있다. 척 테이블 (14) 은, 상기 서술한 X 축 이동 기구에 의해 X 축 이동 테이블 (10) 과 함께 X 축 방향으로 이동한다. 또, 척 테이블 (14) 은, 모터 등의 회전 구동원 (도시 생략) 에 연결되어 있고, Z 축 방향 (연직 방향) 에 대체로 평행한 회전축의 둘레로 회전한다.
척 테이블 (14) 의 상면은, 피가공물 (13) 을 흡인, 유지하는 유지면 (14a) 이 되어 있다. 이 유지면 (14a) 은, 척 테이블 (14) 의 내부에 형성된 흡인로 (도시 생략) 등을 통해서 흡인원 (도시 생략) 에 접속되어 있고, 피가공물 (13) 을 분할하여 얻어지는 복수의 칩 (도시 생략) 을 개별적으로 흡인, 유지할 수 있다.
개구 (4b) 의 상방에는, 척 테이블 (14) 에 유지된 피가공물 (13) 을 절삭 가공하여 복수의 칩으로 분할하는 절삭 유닛 (가공 유닛, 가공 수단) (16) 이 배치되어 있다. 이 절삭 유닛 (16) 은, 절삭 유닛 이동 기구 (도시 생략) 에 지지된 스핀들 하우징 (18) 을 포함한다. 스핀들 하우징 (18) 의 내부에는, 회전축이 되는 스핀들 (도시 생략) 이 수용되어 있고, 스핀들의 일단측에는, 원환상의 절삭 블레이드 (20) 가 장착되어 있다.
개구 (4b) 의 후방에는, 분할 후의 피가공물 (13) 을 싣는 반출측 테이블 (22) 이 배치되어 있다. 절삭 유닛 (16) 에 의해 복수의 칩으로 분할된 피가공물 (13) 은, 반출측 테이블 (22) 의 근방에 배치된 제 2 반송 유닛 (24) 에 의해, 척 테이블 (14) 로부터 반출측 테이블 (22) 로 반송된다.
개구 (4a) 와 개구 (4b) 사이의 위치에는, 제 1 반송 유닛 (8) 에 유지된 대형의 피가공물 (11) 을 컷 (프리컷) 하고, 척 테이블 (14) 의 유지면 (14a) 에 대응한 크기의 복수의 피가공물 (13) 로 분할하는 프리컷 유닛 (프리컷 수단) (26) 이 형성되어 있다.
이 프리컷 유닛 (26) 은, 절삭 블레이드 (20) 와 동일한 원환상의 절삭 블레이드 (28) 를 구비하고 있다. 또, 프리컷 유닛 (26) 은, 제 1 반송 유닛 (8) 의 이동 경로 내에 설치되어 있다. 그 때문에, 예를 들어, 피가공물 (11) 을 유지한 제 1 반송 유닛 (8) 을 X 축 방향으로 이동시키면서, 이 피가공물 (11) 에 프리컷 유닛 (26) (절삭 블레이드 (28)) 을 절입시키는 것만으로, 대형의 피가공물 (11) 을 복수의 피가공물 (13) 로 분할할 수 있다.
피가공물 (11) 을 프리컷하여 얻어진 소형의 피가공물 (13) 은, 제 1 반송 유닛 (8) 에 의해 순서대로 척 테이블 (14) 로 반송된다. 또한, 본 실시형태에서는, 원환상의 절삭 블레이드 (28) 를 구비하는 프리컷 유닛 (26) 을 예시하고 있지만, 프리컷 유닛 (26) 의 구성에 제한은 없다. 예를 들어, 드릴이나 라우터 등을 프리컷 유닛 (26) 으로서 사용할 수도 있다.
프리컷 유닛 (26) 과 개구 (4b) 사이의 위치에는, 제 1 반송 유닛 (8) 에 유지된 피가공물 (11, 13) 에 대해 에어 등을 분사하는 세정 유닛 (노즐) (30) 이 배치되어 있다. 이 세정 유닛 (30) 을 사용하여 피가공물 (11, 13) 에 에어를 분사함으로써, 프리컷시에 발생하는 가공 찌꺼기를 피가공물 (11, 13) 로부터 제거할 수 있다. 또한, 세정 유닛 (30) 의 구성에 제한은 없고, 예를 들어, 브러시나 스펀지 등을 세정 유닛 (30) 으로서 사용할 수도 있다.
도 2 의 (A) 는, 제 1 반송 유닛 (8) 의 구조 등을 모식적으로 나타내는 도면이고, 도 2 의 (B) 는, 제 1 반송 유닛 (8) 의 하면측을 모식적으로 나타내는 도면이다. 도 2 의 (A) 및 도 2 의 (B) 에 나타내는 바와 같이, 제 1 반송 유닛 (8) 은, 피가공물 (11, 13) 을 유지하는 유지 핸드 (32) 를 구비하고 있다.
이 유지 핸드 (32) 는, 반송 유닛 이동 기구 (도시 생략) 에 지지되어 있고, X 축 방향 및 Z 축 방향으로 이동한다. 또, 유지 핸드 (32) 의 상부에는, 모터 등의 회전 구동원 (도시 생략) 이 연결되어 있고, 유지 핸드 (32) 는, Z 축 방향으로 대체로 평행한 회전축의 둘레로 회전한다.
유지 핸드 (32) 의 하면에는, 피가공물 (11, 13) 의 상면측을 흡인, 유지하는 복수 (본 실시형태에서는 4 개) 의 흡인 패드 (34) 가 형성되어 있다. 각 흡인 패드 (34) 는, 피가공물 (11) 을 분할 (본 실시형태에서는 4 분할) 하여 얻어지는 피가공물 (13) 에 대응한 형상으로 형성되어 있고, 흡인로 (36), 밸브 (38) 등을 개재하여 흡인원 (40) 에 접속되어 있다. 이로써, 각 흡인 패드 (34) 에 의해 피가공물 (13) 에 대응하는 피가공물 (11) 의 영역을 개별적으로 흡인, 유지할 수 있다.
다음으로, 상기 서술한 제 1 반송 유닛 (8) 및 프리컷 유닛 (26) 을 사용하는 피가공물 (11, 13) 의 반송 및 프리컷에 대해 설명한다. 먼저, 피가공물 (11) 을 실은 반입측 테이블 (6) 의 상방에 제 1 반송 유닛 (8) 을 위치 결정한다. 다음으로, 유지 핸드 (32) 를 하강시켜, 피가공물 (11) 의 상면에 흡인 패드 (34) 를 접촉시킨다.
이 상태에서, 모든 밸브 (38) 를 열어 흡인원 (40) 의 부압을 각 흡인 패드 (34) 에 작용시키면, 피가공물 (11) 을 유지 핸드 (32) 에 의해 흡인, 유지할 수 있다. 도 3 의 (A) 는, 피가공물 (11) 이 반입측 테이블 (6) 로부터 제 1 반송 유닛 (8) 에 넘겨지는 모습을 모식적으로 나타내는 도면이다. 도 3 의 (A) 에 나타내는 바와 같이, 피가공물 (11) 을 유지 핸드 (32) 에 의해 흡인, 유지한 후에는, 유지 핸드 (32) 를 상승시킨다. 이로써, 피가공물 (11) 은 제 1 반송 유닛 (8) 에 넘겨진다.
제 1 반송 유닛 (8) 에 넘겨진 피가공물 (11) 은, 프리컷 유닛 (26) 에 의해 프리컷된다. 도 3 의 (B) 는, 피가공물 (11) 이 프리컷 유닛 (26) 에 의해 프리컷되는 모습을 모식적으로 나타내는 도면이다. 먼저, 유지 핸드 (32) 의 높이를 조정하고, 유지 핸드 (32) 에 의해 유지한 피가공물 (11) 의 상면보다 약간 높은 위치에 절삭 블레이드 (28) 의 상단을 위치 결정한다.
다음으로, 절삭 블레이드 (28) 를 회전시키면서 유지 핸드 (32) 를 후방으로 이동시키고, 피가공물 (11) 에 절삭 블레이드 (28) 를 절입시킨다. 이로써, 피가공물 (11) 은 2 분할된다. 또한, 피가공물 (11) 에 절삭 블레이드 (28) 를 절입시킬 때에는, 세정 유닛 (30) 으로부터 피가공물 (11) 에 에어를 분사해 둔다. 이로써, 피가공물 (11) 로의 가공 찌꺼기의 부착을 억제할 수 있다.
다음으로, 유지 핸드 (32) 를 회전축의 둘레로 90°회전시켜, 동일한 순서를 반복한다. 이로써, 피가공물 (11) 을 4 분할한 피가공물 (13) 이 얻어진다. 각 흡인 패드 (34) 는, 피가공물 (13) 에 대응하는 형상을 가지고 있으므로, 절삭 블레이드 (28) 를 각 흡인 패드 (34) 에 절입시키지 않고 피가공물 (11) 을 완전히 절단할 수 있다.
또한, 본 실시형태에서는, 피가공물 (11) 을 4 분할하고 있지만, 피가공물 (11) 의 분할 수에 제한은 없다. 예를 들어, 제 1 반송 유닛 (8) 또는 프리컷 유닛 (26) 을 Y 축 방향으로 이동할 수 있도록 구성하면, 피가공물 (11) 을 임의의 수로 분할할 수 있게 된다. 마찬가지로, Y 축 방향으로 복수의 프리컷 유닛 (26) 을 배치함으로써, 피가공물 (11) 의 분할 수를 증가시킬 수 있다.
분할 후의 복수의 피가공물 (13) 은, 순서대로 척 테이블 (14) 로 넘겨진다. 도 3 의 (C) 는, 분할 후의 피가공물 (13) 이 제 1 반송 유닛 (8) 으로부터 척 테이블 (14) 에 넘겨지는 모습을 모식적으로 나타내는 도면이다. 먼저, 척 테이블 (14) 을 전방측의 반입 위치에 위치 결정하고, 또, 이 반입 위치의 상방에 제 1 반송 유닛 (8) 을 위치 결정한다. 이로써, 넘겨지는 대상이 되는 피가공물 (13) 이 척 테이블 (14) 의 바로 윗쪽에 배치된다.
다음으로, 유지 핸드 (32) 를 하강시켜, 대상이 되는 피가공물 (13) 의 하면을 척 테이블 (14) 의 유지면 (14a) 에 접촉시킨다. 이 상태에서, 유지면 (14a) 에 흡인원의 부압을 작용시키고, 또, 대상인 피가공물 (13) 에 대응하는 밸브 (38) 를 닫으면, 제 1 반송 유닛 (8) 으로부터 척 테이블 (14) 에 대상인 피가공물 (13) 을 넘겨, 이 피가공물 (13) 을 척 테이블 (14) 에 의해 흡인, 유지할 수 있다.
도 4 의 (A) 는, 피가공물 (13) 을 척 테이블 (14) 에 넘긴 후의 제 1 반송 유닛 (8) 의 동작을 모식적으로 나타내는 도면이다. 또한, 도 4 의 (A) 에서는, 편의적으로 2 개의 피가공물 (13) 만을 나타내고 있다. 도 4 의 (A) 에 나타내는 바와 같이, 대상인 피가공물 (13) 을 척 테이블 (14) 에 넘긴 후에는, 유지 핸드 (32) 를 상승시킨다.
그 후, 척 테이블 (14) 에 의해 흡인, 유지된 피가공물 (13) 은, 상기 서술한 절삭 유닛 (16) 을 사용하여 복수의 칩으로 분할된다. 피가공물 (13) 을 복수의 칩으로 분할한 후에는, 척 테이블 (14) 을 후방측의 반출 위치에 위치 결정하고, 제 2 반송 유닛 (24) 과 피가공물 (13) (복수의 칩) 을 반출측 테이블 (22) 로 반송한다 (도 1).
피가공물 (13) (복수의 칩) 을 반출측 테이블 (22) 로 반송한 후에는, 다른 피가공물 (13) 을 척 테이블 (14) 에 넘긴다. 구체적으로는, 예를 들어, 척 테이블 (14) 을 반입 위치에 위치 결정하고, 유지 핸드 (32) 를 회전축의 둘레로 회전시킴으로써, 넘겨지는 대상이 되는 다른 피가공물 (13) 을 척 테이블 (14) 의 상방에 위치 결정한다. 또한, 유지 핸드 (32) 의 회전은, 사전에 실시해 두어도 된다.
도 4 의 (B) 는, 다른 피가공물 (13) 이 제 1 반송 유닛 (8) 으로부터 척 테이블 (14) 에 넘겨지는 모습을 모식적으로 나타내는 도면이다. 먼저, 유지 핸드 (32) 를 하강시켜, 대상이 되는 피가공물 (13) 의 하면을 척 테이블 (14) 의 유지면 (14a) 에 접촉시킨다. 이 상태에서, 유지면 (14a) 에 흡인원의 부압을 작용시키고, 또, 대상인 피가공물 (13) 에 대응하는 밸브 (38) 를 닫으면, 제 1 반송 유닛 (8) 으로부터 척 테이블 (14) 에 대상인 피가공물 (13) 을 넘겨, 이 피가공물 (13) 을 척 테이블 (14) 에 의해 흡인, 유지할 수 있다.
이상과 같이, 본 실시형태에 관련된 가공 장치 (2) 에서는, 피가공물 (제 1 피가공물) (11) 을 유지하여 반송하는 제 1 반송 유닛 (반송 수단) (8) 의 이동 경로 내에 프리컷 유닛 (프리컷 수단) (26) 이 배치되어 있으므로, 피가공물 (11) 을 유지한 제 1 반송 유닛 (8) 을 이동시키면서, 이 피가공물 (11) 에 프리컷 유닛 (26) (절삭 블레이드 (28)) 을 절입시킴으로써, 피가공물 (11) 을 척 테이블 (14) 에 반송하기 전에 복수의 피가공물 (제 2 피가공물) (13) 로 분할할 수 있다.
요컨대, 본 실시형태에 관련된 가공 장치 (2) 에서는, 제 1 반송 유닛 (8) 과 프리컷 유닛 (26) 을 사용하여, 대형의 피가공물 (11) 을 척 테이블 (14) 의 유지면 (14a) 에 대응한 크기의 복수의 피가공물 (13) 로 분할하므로, 전용의 프리컷 장치를 사용하지 않고 대형의 피가공물 (11) 을 가공할 수 있다.
또한, 본 발명은 상기 실시형태의 기재에 한정되지 않고, 여러 가지 변경하여 실시 가능하다. 예를 들어, 상기 실시형태에서는, 프리컷 유닛 (26) 과 개구 (4b) 사이의 위치에만 세정 유닛 (노즐) (30) 을 배치하고 있지만, 프리컷 유닛 (26) 과 개구 (4a) 사이의 위치에 다른 세정 유닛을 배치해도 된다.
이 경우에는, 예를 들어, 프리컷시에 유지 핸드 (32) 를 전방으로 이동시키고, 피가공물 (11) 에 절삭 블레이드 (28) 를 절입시켜도, 피가공물 (11) 로의 가공 찌꺼기의 부착을 억제할 수 있다. 요컨대, 피가공물 (11) 을 청정하게 유지하면서 왕복 동작에 의한 프리컷이 가능해지므로, 가공 장치 (2) 의 생산성은 높아진다.
그 외에, 상기 실시형태에 관련된 구조, 방법 등은, 본 발명의 목적의 범위를 일탈하지 않는 한 적절히 변경하여 실시할 수 있다.
2 : 가공 장치 (절삭 장치)
4 : 기대
4a, 4b : 개구
6 : 반입측 테이블 (재치부)
8 : 제 1 반송 유닛 (반송 수단)
10 : X 축 이동 테이블
12 : 방진 방적 커버
14 : 척 테이블
14a : 유지면
16 : 절삭 유닛 (가공 유닛, 가공 수단)
18 : 스핀들 하우징
20 : 절삭 블레이드
22 : 반출측 테이블
24 : 제 2 반송 유닛
26 : 프리컷 유닛 (프리컷 수단)
28 : 절삭 블레이드
30 : 세정 유닛 (노즐)
32 : 유지 핸드
34 : 흡인 패드
36 : 흡인로
38 : 밸브
40 : 흡인원
11 : 피가공물 (제 1 피가공물)
13 : 피가공물 (제 2 피가공물)

Claims (2)

  1. 판상의 제 1 피가공물이 재치되는 재치부와, 제 1 피가공물을 분할하여 얻어지는 제 2 피가공물을 유지면에서 유지하는 척 테이블과, 그 척 테이블에 의해 유지된 제 2 피가공물을 가공하는 가공 수단과, 그 재치부에 재치된 제 1 피가공물을 유지하여 반송하는 반송 수단과, 그 반송 수단에 의해 유지된 제 1 피가공물을 컷하여 그 유지면에 대응한 크기의 복수의 제 2 피가공물로 분할하는 프리컷 수단을 구비하고,
    그 프리컷 수단은, 그 반송 수단의 이동 경로 내에 설치되고,
    그 반송 수단을 이동시키면서, 그 반송 수단에 의해 유지된 제 1 피가공물에 그 프리컷 수단을 절입시킴으로써, 제 1 피가공물을 그 척 테이블에 반송하기 전에 복수의 제 2 피가공물로 분할하고,
    그 반송 수단은, 제 2 피가공물에 각각 대응하는 제 1 피가공물의 복수의 영역을 유지할 수 있도록 구성되어 있고, 그 프리컷 수단에 의해 제 1 피가공물을 복수의 제 2 피가공물로 분할하고 나서, 복수의 제 2 피가공물을 순서대로 그 척 테이블에 반송하는 것을 특징으로 하는 가공 장치.
  2. 삭제
KR1020160153194A 2015-11-26 2016-11-17 가공 장치 KR102463650B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2015-230740 2015-11-26
JP2015230740A JP6579929B2 (ja) 2015-11-26 2015-11-26 加工装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20170061599A KR20170061599A (ko) 2017-06-05
KR102463650B1 true KR102463650B1 (ko) 2022-11-03

Family

ID=58803853

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020160153194A KR102463650B1 (ko) 2015-11-26 2016-11-17 가공 장치

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP6579929B2 (ko)
KR (1) KR102463650B1 (ko)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022083106A (ja) * 2020-11-24 2022-06-03 Towa株式会社 切断装置及び切断品の製造方法
JP2022083118A (ja) * 2020-11-24 2022-06-03 Towa株式会社 切断装置及び切断品の製造方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005129567A (ja) 2003-10-21 2005-05-19 Trecenti Technologies Inc 半導体装置の製造方法
JP2009302369A (ja) 2008-06-16 2009-12-24 Disco Abrasive Syst Ltd 板状物の加工方法及び加工装置
JP2014093444A (ja) 2012-11-05 2014-05-19 Disco Abrasive Syst Ltd ウエーハの加工方法
JP2015191992A (ja) 2014-03-28 2015-11-02 株式会社東京精密 半導体製造装置及び半導体の製造方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09148275A (ja) * 1995-11-17 1997-06-06 Disco Abrasive Syst Ltd 大口径ウェーハのダイシングシステム
JP4339452B2 (ja) 1999-07-09 2009-10-07 株式会社ディスコ Csp基板分割装置
KR100596505B1 (ko) * 2004-09-08 2006-07-05 삼성전자주식회사 소잉/소팅 시스템

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005129567A (ja) 2003-10-21 2005-05-19 Trecenti Technologies Inc 半導体装置の製造方法
JP2009302369A (ja) 2008-06-16 2009-12-24 Disco Abrasive Syst Ltd 板状物の加工方法及び加工装置
JP2014093444A (ja) 2012-11-05 2014-05-19 Disco Abrasive Syst Ltd ウエーハの加工方法
JP2015191992A (ja) 2014-03-28 2015-11-02 株式会社東京精密 半導体製造装置及び半導体の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP6579929B2 (ja) 2019-09-25
KR20170061599A (ko) 2017-06-05
JP2017098465A (ja) 2017-06-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106956370B (zh) 加工装置的搬送机构
JP6218600B2 (ja) 加工装置
KR102463650B1 (ko) 가공 장치
KR20180113165A (ko) 절삭 장치
JP6720043B2 (ja) 加工方法
CN109986461B (zh) 切削装置
KR102046667B1 (ko) 절삭 장치
JP6847525B2 (ja) 切削装置
JP2009131921A (ja) 基板切断装置
JP5244548B2 (ja) 保持テーブルおよび加工装置
JP5680955B2 (ja) 加工装置
KR102457882B1 (ko) 부채형 웨이퍼편의 가공 방법
JP6305245B2 (ja) チャックテーブル
JP2017112227A (ja) 加工装置
JP6821254B2 (ja) 切削装置
JP7294777B2 (ja) 被加工物の乾燥方法及び切削装置
JP6812079B2 (ja) 被加工物の加工方法
JP2018032825A (ja) 被加工物のアライメント方法
JP2005158983A (ja) 半導体装置の製造方法及び製造装置
JP6084115B2 (ja) 加工装置
JP2013222835A (ja) パッケージ基板の分割方法及び分割装置
JP6855130B2 (ja) 加工装置
JP3222726U (ja) 切削装置
JP5386276B2 (ja) 切削装置
JP6987450B2 (ja) 切削装置

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant