KR101927011B1 - 적외선 컷 필터, 촬상 장치, 및 적외선 컷 필터의 제조 방법 - Google Patents
적외선 컷 필터, 촬상 장치, 및 적외선 컷 필터의 제조 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR101927011B1 KR101927011B1 KR1020177015028A KR20177015028A KR101927011B1 KR 101927011 B1 KR101927011 B1 KR 101927011B1 KR 1020177015028 A KR1020177015028 A KR 1020177015028A KR 20177015028 A KR20177015028 A KR 20177015028A KR 101927011 B1 KR101927011 B1 KR 101927011B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- containing layer
- cut filter
- infrared cut
- organic dye
- wavelength
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 19
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- RRJHFUHAKCSNRY-UHFFFAOYSA-L [Cu+2].[O-]P([O-])=O Chemical compound [Cu+2].[O-]P([O-])=O RRJHFUHAKCSNRY-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims abstract description 93
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims abstract description 74
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims abstract description 58
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims abstract description 26
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 228
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 87
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 87
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 53
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 32
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 claims description 15
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 13
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 11
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 11
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 10
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 6
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 6
- UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-M phosphonate Chemical compound [O-]P(=O)=O UEZVMMHDMIWARA-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 abstract description 11
- 239000010408 film Substances 0.000 description 78
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 35
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 25
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 22
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 22
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 19
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 16
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 description 15
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 15
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 12
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 12
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 11
- XGJQGEQHHDEVEW-UHFFFAOYSA-N P(=O)(=O)S(=O)(=O)O Chemical compound P(=O)(=O)S(=O)(=O)O XGJQGEQHHDEVEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000000411 transmission spectrum Methods 0.000 description 7
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 6
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 6
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 6
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L copper(ii) acetate Chemical compound [Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 description 4
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 4
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 4
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 4
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 3
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 3
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 3
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WFERVLWLPNZDOV-UHFFFAOYSA-N O[Si](O)(O)OP(=O)=O Chemical compound O[Si](O)(O)OP(=O)=O WFERVLWLPNZDOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RAOSIAYCXKBGFE-UHFFFAOYSA-K [Cu+3].[O-]P([O-])([O-])=O Chemical class [Cu+3].[O-]P([O-])([O-])=O RAOSIAYCXKBGFE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- GATNOFPXSDHULC-UHFFFAOYSA-N ethylphosphonic acid Chemical compound CCP(O)(O)=O GATNOFPXSDHULC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- YIWGJFPJRAEKMK-UHFFFAOYSA-N 1-(2H-benzotriazol-5-yl)-3-methyl-8-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carbonyl]-1,3,8-triazaspiro[4.5]decane-2,4-dione Chemical compound CN1C(=O)N(c2ccc3n[nH]nc3c2)C2(CCN(CC2)C(=O)c2cnc(NCc3cccc(OC(F)(F)F)c3)nc2)C1=O YIWGJFPJRAEKMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKYUBLPCWIXIAR-UHFFFAOYSA-L C(CCCC)P([O-])([O-])=O.[Cu+2] Chemical compound C(CCCC)P([O-])([O-])=O.[Cu+2] LKYUBLPCWIXIAR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- QWZZHSHTSYIPHW-UHFFFAOYSA-N OP(O)(=O)OP(=O)=O Chemical compound OP(O)(=O)OP(=O)=O QWZZHSHTSYIPHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODRMVPLRJFFOCV-UHFFFAOYSA-N [Cu].P(=O)(=O)O[Si](O)(O)O Chemical compound [Cu].P(=O)(=O)O[Si](O)(O)O ODRMVPLRJFFOCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- WYKCOLQQHSQKIU-UHFFFAOYSA-L copper butyl-dioxido-oxo-lambda5-phosphane Chemical compound [Cu++].CCCCP([O-])([O-])=O WYKCOLQQHSQKIU-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FDNRGVVXBWFPGK-UHFFFAOYSA-L copper dioxido-oxo-propyl-lambda5-phosphane Chemical compound C(CC)P([O-])([O-])=O.[Cu+2] FDNRGVVXBWFPGK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BMBHXJHGUQJBFX-UHFFFAOYSA-L copper ethyl-dioxido-oxo-lambda5-phosphane Chemical compound C(C)P([O-])([O-])=O.[Cu+2] BMBHXJHGUQJBFX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- DHGSSULXZRNIPW-UHFFFAOYSA-L copper;dioxido-oxo-phenyl-$l^{5}-phosphane Chemical compound [Cu+2].[O-]P([O-])(=O)C1=CC=CC=C1 DHGSSULXZRNIPW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- WQLXSRSLLUGMSX-UHFFFAOYSA-L copper;methyl-dioxido-oxo-$l^{5}-phosphane Chemical compound [Cu+2].CP([O-])([O-])=O WQLXSRSLLUGMSX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003050 poly-cycloolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 238000009987 spinning Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000009210 therapy by ultrasound Methods 0.000 description 1
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/002—Processes for applying liquids or other fluent materials the substrate being rotated
- B05D1/005—Spin coating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/28—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
- B32B27/283—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42 comprising polysiloxanes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/38—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising epoxy resins
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/41—Organic pigments; Organic dyes
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/22—Absorbing filters
- G02B5/223—Absorbing filters containing organic substances, e.g. dyes, inks or pigments
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/40—Properties of the layers or laminate having particular optical properties
- B32B2307/402—Coloured
- B32B2307/4026—Coloured within the layer by addition of a colorant, e.g. pigments, dyes
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Optical Filters (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
본 발명의 적외선 컷 필터는, 유기 색소 함유층과, 포스폰산구리의 미립자를 함유하고 있는 포스폰산구리 함유층을 구비하고 있다. 유기 색소 함유층은, 적외선 컷 필터의 컷오프 파장에 대해 50nm 작은 파장과 적외선 컷 필터의 컷오프 파장에 대해 50nm 큰 파장 사이의 파장역에서, 파장의 증가에 따라서, 분광 투과율이 70% 이상에서 50% 이하로 저하되도록 유기 색소를 함유하고 있다.
Description
본 발명은, 적외선 컷 필터, 촬상 장치, 및 적외선 컷 필터의 제조 방법에 관한 것이다.
디지털 카메라 등의 촬상 장치에 있어서, 촬상 소자로서, CCD(Charge Coupled Device)나 CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor) 등의 Si(실리콘)을 이용한 반도체 소자가 사용되고 있다. Si을 이용한 촬상 소자는, 적외선(특히 근적외선)에 대한 수광 감도를 갖고, 인간의 시감도와는 상이한 파장 특성을 갖는다. 이 때문에, 촬상 장치에 있어서, 촬상 소자로부터 얻어지는 화상이 인간이 인식한 화상에 가까워지도록, 촬상 소자의 전방에 적외선 컷 필터가 배치되어 있다.
예를 들면, 특허 문헌 1에는, 흡수형 컷 필터(광흡수 소자)와, 흡수형 컷 필터의 표면에 설치된 반사형 컷 코트(간섭막)를 구비하는 복합 필터가 기재되어 있다.
특허 문헌 2에는, 적외선 흡수체와 적외선 반사체가 접착되어 형성되어 있는 적외선 컷 필터가 기재되어 있다. 적외선 흡수체는, 적외선 흡수 유리의 한 주면에 반사 방지막(AR 코트)이 형성됨으로써 제작되고 있다. 적외선 흡수 유리는, 구리 이온 등의 색소를 분산시킨 청색 유리이다. 반사 방지막은, 적외선 흡수 유리의 한 주면에 대해, MgF2로 이루어지는 단층, Al2O2와 ZrO2와 MgF2로 이루어지는 다층막, 및 TiO2와 SiO2로 이루어지는 다층막 중 어느 한 막을 진공 증착 장치에 의해서 진공 증착함으로써 형성되어 있다. 또, 적외선 반사체는, 투명 기판의 한 주면에 적외선 반사막이 형성됨으로써 제작되고 있다. 적외선 반사막은, TiO2 등의 고굴절률 재료로 이루어지는 제1 박막과, SiO2 등의 저굴절률 재료로 이루어지는 제2 박막이 번갈아 복수 적층된 다층막이다. 적외선 반사막은, 진공 증착에 의해서 형성되어 있다.
특허 문헌 3에는, 투명 수지 중에 소정의 디이모늄계 색소를 함유하는 근적외선 흡수층을 갖는 광학 필름이 기재되어 있다. 특허 문헌 3의 표 1에 의하면, 실시예에 따른 광학 필름의 850nm에 있어서의 근적외선의 투과율은 10%를 초과하고 있다.
특허 문헌 4에는, 소정의 인산에스테르 화합물 및 구리 이온으로 이루어지는 성분을 함유하고, 인 원자의 함유량이 구리 이온 1몰에 대해 0.4~1.3몰이며, 구리 이온의 함유량이 2~40중량%인 근적외선 광흡수층을 구비한, 광학 필터가 기재되어 있다.
특허 문헌 1의 반사형 컷 코트 및 특허 문헌 2의 적외선 반사막과 같이, 간섭막에 의한 반사를 이용하여 적외선을 컷하는 경우, 적외선 차단 특성이 광선의 입사각에 의해서 변화할 가능성이 있다. 이 때문에, 예를 들면, 얻어진 화상의 주변 부분에서 푸른 기가 강해지는 등, 얻어진 화상의 중심 부분에 있어서의 색미와, 얻어진 화상의 주변 부분에 있어서의 색미가 상이한 현상이 발생할 가능성이 있다. 또, 반사를 이용하여 적외선을 컷하는 코팅은, 대부분의 경우에는, 진공 증착 또는 스퍼터링 등에 의해서 형성할 필요가 있어, 적외선 컷 필터의 제조가 번잡하다.
특허 문헌 3에 기재된 기술에 있어서, 소정의 디이모늄계 색소가 흡수 가능한 적외선의 파장역은 한정되어 있으므로, 원하는 적외선 흡수 특성을 실현하기 위해서, 소정의 디이모늄계 색소 이외의 색소를 근적외선 흡수층에 함유시키는 것을 생각할 수 있다. 그러나, 복수의 색소를 투명 수지에 분산시키는 것은, 그들 색소가 상호 작용하는 것으로 인해, 곤란한 경우도 있다.
특허 문헌 4에 기재된 근적외선 광흡수층만으로는 원하는 광학 특성을 실현하기 어려운 경우도 있다.
본 발명은, 이러한 사정을 감안하여, 반사형의 적외선 컷 필터 또는 반사형의 적외선 컷 코팅과 병용되지 않아도 원하는 광학 특성을 실현할 수 있고, 또한, 용이하게 제조할 수 있는, 적외선 컷 필터를 제공한다.
본 발명은,
적외선 컷 필터로서,
상기 적외선 컷 필터의 컷오프 파장에 대해 50nm 작은 파장과 상기 컷오프 파장에 대해 50nm 큰 파장 사이의 파장역에서, 파장의 증가에 따라서, 분광 투과율이 70% 이상에서 50% 이하로 저하되도록 유기 색소를 함유하고 있는, 유기 색소 함유층과,
포스폰산구리의 미립자를 함유하고 있는 포스폰산구리 함유층을 구비하며, 450nm~600nm의 파장역의 전체에 있어서 70% 이상의 분광투과율을 가지며, 800nm~1000nm에서의 평균 투과율이 5% 이하인, 적외선 컷 필터를 제공한다.
또, 본 발명은,
상기 적외선 컷 필터와,
상기 적외선 컷 필터를 투과한 광이 입사하는 촬상 소자를 구비한, 촬상 장치를 제공한다.
또, 본 발명은,
적외선 컷 필터의 제조 방법으로서,
상기 적외선 컷 필터는,
상기 적외선 컷 필터의 컷오프 파장에 대해 50nm 작은 파장과 상기 컷오프 파장에 대해 50nm 큰 파장 사이의 파장역에서, 파장의 증가에 따라서, 분광 투과율이 70% 이상에서 50% 이하로 저하되도록 유기 색소를 함유하고 있는, 유기 색소 함유층과,
포스폰산구리의 미립자를 함유하고 있는 포스폰산구리 함유층을 구비하고, 상기 적외선 컷 필터는, 450nm~600nm의 파장역의 전체에 있어서 70% 이상의 분광투과율을 가지며, 상기 적외선 컷 필터의 800nm~1000nm에서의 평균 투과율이 5% 이하이며,
상기 유기 색소를 함유하는 도포액을 스핀 코팅함으로써 상기 유기 색소 함유층을 형성하는, 적외선 컷 필터의 제조 방법을 제공한다.
상기 적외선 컷 필터는, 반사형의 적외선 컷 필터 또는 반사형의 적외선 컷 코팅과 병용되지 않아도 원하는 광학 특성을 실현할 수 있다. 즉, 컷오프 파장 근방의 파장역에서 분광 투과율이 급격하게 저하되고, 또한, 적외선의 넓은 파장역(예를 들면, 800nm~1100nm)에서 높은 적외선 흡수 특성을 갖는다는 광학 특성을 실현할 수 있다. 또, 유기 색소 함유층 및 포스폰산구리 함유층은, 진공 증착 및 스퍼터링 등의 방법에 의하지 않고 형성할 수 있으므로, 상기 적외선 컷 필터는, 용이하게 제조할 수 있다. 상기 적외선 컷 필터의 제조 방법에 의하면, 적외선 컷 필터의 컷오프 파장을 용이하게 또한 미세하게 조정할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시형태에 따른 적외선 컷 필터의 단면도
도 2는 본 발명의 변형예에 따른 적외선 컷 필터의 단면도
도 3은 본 발명의 변형예에 따른 적외선 컷 필터의 단면도
도 4는 본 발명의 변형예에 따른 적외선 컷 필터의 단면도
도 5는 본 발명의 변형예에 따른 적외선 컷 필터의 단면도
도 6은 본 발명의 변형예에 따른 적외선 컷 필터의 단면도
도 7은 본 발명의 실시형태에 따른 촬상 장치를 나타내는 도면
도 8은 실시예 1에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율 스펙트럼을 나타내는 도면
도 9는 실시예 2에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율 스펙트럼을 나타내는 도면
도 10은 실시예 3에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율 스펙트럼을 나타내는 도면
도 11은 실시예 4에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율 스펙트럼을 나타내는 도면
도 12는 비교예 1에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율 스펙트럼을 나타내는 도면
도 13은 비교예 2에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율 스펙트럼을 나타내는 도면
도 14는 비교예 3에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율 스펙트럼을 나타내는 도면
도 2는 본 발명의 변형예에 따른 적외선 컷 필터의 단면도
도 3은 본 발명의 변형예에 따른 적외선 컷 필터의 단면도
도 4는 본 발명의 변형예에 따른 적외선 컷 필터의 단면도
도 5는 본 발명의 변형예에 따른 적외선 컷 필터의 단면도
도 6은 본 발명의 변형예에 따른 적외선 컷 필터의 단면도
도 7은 본 발명의 실시형태에 따른 촬상 장치를 나타내는 도면
도 8은 실시예 1에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율 스펙트럼을 나타내는 도면
도 9는 실시예 2에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율 스펙트럼을 나타내는 도면
도 10은 실시예 3에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율 스펙트럼을 나타내는 도면
도 11은 실시예 4에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율 스펙트럼을 나타내는 도면
도 12는 비교예 1에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율 스펙트럼을 나타내는 도면
도 13은 비교예 2에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율 스펙트럼을 나타내는 도면
도 14는 비교예 3에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율 스펙트럼을 나타내는 도면
이하, 본 발명의 실시형태에 대해서 도면을 참조하면서 설명한다. 또한, 이하의 설명은, 본 발명의 일례에 관한 것이며, 본 발명은 이들로 한정되는 것은 아니다.
도 1에 나타낸 바와 같이, 적외선 컷 필터(1a)는, 유기 색소 함유층(10)과, 포스폰산구리 함유층(20)을 구비하고 있다. 유기 색소 함유층(10)은, 소정의 유기 색소를 함유하고 있다. 이에 의해, 유기 색소 함유층(10)의 분광 투과율은, 적외선 컷 필터(1a)의 컷오프 파장에 대해 50nm 작은 파장과 적외선 컷 필터(1a)의 컷오프 파장에 대해 50nm 큰 파장 사이의 파장역에서, 파장의 증가에 따라서, 70% 이상에서 50% 이하로 저하된다. 한편, 유기 색소 함유층(10)의 분광 투과율은, 적외선 컷 필터(1a)의 컷오프 파장에 대해 100nm 작은 파장과 적외선 컷 필터(1a)의 컷오프 파장에 대해 100nm 큰 파장 사이의 파장역에서, 파장의 증가에 따라서, 80% 이상에서 20% 이하로 저하되어도 된다. 여기서, 「컷오프 파장」이란, 적외선 컷 필터(1a)의 분광 투과율이 파장의 증가에 따라서 저하되는 근적외광 영역 근방의 가시광 영역 또는 근적외광 영역에 있어서, 적외선 컷 필터(1a)의 분광 투과율이 50%가 되는 파장을 의미한다. 마찬가지로, 적외선 컷 필터(1a) 이외의 적외선 컷 필터의 「컷오프 파장」은, 적외선 컷 필터의 분광 투과율이 파장의 증가에 따라서 저하되는 근적외광 영역 근방의 가시광 영역 또는 근적외광 영역에 있어서, 적외선 컷 필터의 분광 투과율이 50%가 되는 파장을 의미한다. 포스폰산구리 함유층(20)은, 포스폰산구리의 미립자를 함유하고 있다. 여기서, 「미립자」란, 평균 입자 직경이 5nm~200nm인 입자를 의미한다. 평균 입자 직경은, 예를 들면, 주사형 전자현미경으로 50개 이상의 포스폰산구리의 미립자를 관찰함으로써 구할 수 있다.
포스폰산구리 함유층(20)이 포스폰산구리의 미립자를 함유하고 있음으로써, 포스폰산구리 함유층(20)은, 적외선의 넓은 파장역(예를 들면, 800nm~1100nm)에서 높은 적외선 흡수 특성을 갖는다. 환언하면, 적외선 컷 필터(1a)는, 포스폰산구리 함유층(20)을 구비함으로써, 적외선의 넓은 파장역, 특히 800nm~1000nm의 파장역에서, 낮은 분광 투과율(예를 들면, 평균 5% 이하)을 갖는다. 한편, 포스폰산구리 함유층(20)의 분광 투과율은, 적외선 컷 필터(1a)의 컷오프 파장 근방의 파장역에서, 파장의 증가에 따라서 급격하게 저하되지 않는 경우가 있다. 그러나, 적외선 컷 필터(1a)가 포스폰산구리 함유층(20)에 추가해 유기 색소 함유층(10)을 구비하고 있음으로써, 적외선 컷 필터(1a)의 분광 투과율은, 적외선 컷 필터(1a)의 컷오프 파장 근방의 파장역에서, 파장의 증가에 따라서 급격하게 저하된다. 이에 의해, 적외선 컷 필터(1a)는, 반사형의 적외선 컷 필터 또는 반사형의 적외선 컷 코팅과 병용되지 않아도, 예를 들면 디지털 카메라 등의 촬상 장치에 있어서 바람직한 광학 특성을 갖는다.
적외선 컷 필터(1a)의 컷오프 파장은, 예를 들면, 620nm~680nm의 파장역에 있다. 적외선 컷 필터(1a)의 컷오프 파장이 이 파장역에 있는 경우, 적외선 컷 필터(1a)에 의해서, 디지털 카메라 등의 촬상 장치에 있어서 바람직한 광학 특성을 실현할 수 있다. 왜냐하면, 조금이라도 많은 가시광역의 광선을 투과시킬 수 있어, 조금이라도 많은 유해한 적외선역의 광선을 컷할 수 있기 때문이다. 또, 디지털 카메라 등의 촬상 장치에 있어서, 보다 바람직한 광학 특성을 실현하기 위해서, 적외선 컷 필터(1a)가 또한 이하의 (1), (2), 및 (3)의 광학 특성을 만족시키고 있는 것이 바람직하다.
(1) 450nm~600nm의 파장역에 있어서의 분광 투과율이 높다(예를 들면, 70% 이상의 분광 투과율). 이에 의해, 가시역의 분광 투과율이 높음으로써 밝은 화상을 얻을 수 있다.
(2) 컷오프 파장에 대해 100nm 큰 파장에 있어서의 분광 투과율이 낮다(예를 들면, 5% 이하, 바람직하게는 3% 이하의 분광 투과율). 이 조건을 만족함으로써, 적외선역의 광선의 투과율이 좁은 파장역에서 급격하게 저하되고, 또한, 보다 많은 가시광역의 광선을 투과시키는 것이 가능해져, 밝은 화상을 얻기 쉬워진다.
(3) 800~1100nm의 파장역에 있어서의 분광 투과율이 낮다(예를 들면, 5% 이하, 바람직하게는 2% 이하의 분광 투과율). 적외선역의 광에 대해서, 보다 많은 광량을 컷할 수 있으며, 당연히 바람직한 특성이다.
유기 색소 함유층(10)에 함유되는 유기 색소는, 특별히 제한되지 않고, 시아닌계 색소, 프탈로시아닌계 색소, 스쿠아릴륨계 색소, 디이모늄계 색소, 및 아조계 색소 등의 유기 색소 중에서, 유기 색소 함유층(10)이 상기의 광학 특성을 갖는데 적합한 적외선 흡수 특성을 갖는 유기 색소를 선택할 수 있다. 예를 들면, 적외선 컷 필터(1a)의 컷오프 파장이 620nm~680nm의 파장역에 있는 경우, 유기 색소 함유층(10)에 함유되는 유기 색소로서, 흡수 극대 파장이 650nm~900nm에 있는 유기 색소를 사용할 수 있고, 흡수 극대 파장이 700nm~850nm에 있는 유기 색소를 바람직하게 사용할 수 있다. 유기 색소 함유층(10)에 함유되는 유기 색소는, 투명 유리 기판 및 투명 유리 기판 상에 유기 색소 함유층(10)을 형성하는 재료와 동일 종류의 재료로 형성된 층만을 갖는 적외선 컷 필터의 컷오프 파장이, 적외선 컷 필터(1a)의 컷오프 파장보다 크고, 또한, 620nm~720nm의 파장역이 되는, 유기 색소인 것이 바람직하다. 이에 의해, 적외선 컷 필터(1a)의 컷오프 파장이 620nm~680nm의 파장역에 나타나기 쉽다. 유기 색소 함유층(10)에 있어서, 1종류의 유기 색소가 함유되어 있어도 되고, 2종류 이상의 유기 색소가 함유되어 있어도 된다. 또한, 유기 색소 함유층(10)에 함유되는 유기 색소의 종류는, 예를 들면, 유기 색소 함유층(10)의 분광 투과율이 450nm~600nm의 파장역에 있어서 평균 80% 이상이도록, 선택된다.
유기 색소 함유층(10)에 함유되어 있는 유기 색소의 질량은, 예를 들면, 유기 색소 함유층(10)의 최종 고형분 전체의 질량의 0.3%~8%이다. 이에 의해, 적외선 컷 필터(1a)가 보다 확실하게 원하는 광학 특성을 발휘할 수 있다.
유기 색소 함유층(10)은, 예를 들면, 매트릭스 수지에 유기 색소가 분산되어 있음으로써 형성되어 있다. 유기 색소 함유층(10)의 매트릭스 수지는, 가시광선 및 근적외선에 대해 투명하고, 또한, 유기 색소를 분산 가능한 수지이다. 유기 색소 함유층(10)의 매트릭스 수지로는, 예를 들면, 폴리에스테르, 폴리아크릴, 폴리올레핀, 폴리카보네이트, 폴리시클로올레핀, 및 폴리비닐부티랄 등의 수지를 사용할 수 있다.
유기 색소 함유층(10)의 두께는, 예를 들면, 0.5μm~5μm이다. 이에 의해, 적외선 컷 필터(1a)가 보다 확실하게 원하는 광학 특성을 발휘할 수 있다. 유기 색소 함유층(10)의 두께가 커지면, 유기 색소 함유층(10)에 있어서, 광선의 흡수율이 증가해, 광선의 투과율이 감소한다. 이 때문에, 유기 색소 함유층(10)의 두께가 커지면, 적외선 컷 필터(1a)의 컷오프 파장은 짧아지기 쉽다. 이와 같이, 유기 색소 함유층(10)의 두께를 변경함으로써 적외선 컷 필터(1a)의 컷오프 파장을 조정할 수 있다. 예를 들면, 유기 색소 함유층(10)의 두께가 상기 범위에 있으면, 적외선 컷 필터(1a)가 원하는 컷오프 파장을 갖기 쉽다. 유기 색소 함유층(10)의 두께는, 예를 들면, 유기 색소 함유층(10)을 형성하기 위한 도포액의 도포 조건을 변경함으로써 조정할 수 있다. 특히, 유기 색소 함유층(10)을 형성하기 위한 도포액을 스핀 코팅하는 경우, 스핀 코터의 회전수를 변경함으로써 유기 색소 함유층(10)의 두께를 조정할 수 있다. 예를 들면, 스핀 코터의 회전수가 작으면 유기 색소 함유층(10)의 두께를 비교적 두껍게 할 수 있다. 유기 색소 함유층(10)을 형성하기 위한 도포액을 스핀 코팅하는 경우, 스핀 코터의 회전수를 미세하게 조정함으로써, 적외선 컷 필터(1a)의 컷오프 파장을 미세하게 조절할 수 있다.
포스폰산구리 함유층(20)에 함유되어 있는 포스폰산구리의 미립자는, 예를 들면, 메틸포스폰산구리, 에틸포스폰산구리, 프로필포스폰산구리, 부틸포스폰산구리, 펜틸포스폰산구리, 비닐포스폰산구리, 및 페닐포스폰산구리로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 하나의 포스폰산구리에 의해서 형성되어 있다.
포스폰산구리 함유층(20)은, 예를 들면, 매트릭스 수지에 포스폰산구리의 미립자가 분산되어 있음으로써 형성되어 있다. 포스폰산구리 함유층(20)의 매트릭스 수지는, 가시광선 및 근적외선에 대해 투명하며, 또한, 포스폰산구리의 미립자를 분산 가능한 수지이다. 포스폰산구리는, 비교적 극성이 낮은 물질이며, 소수성 재료에 양호하게 분산된다. 이 때문에, 포스폰산구리 함유층(20)의 매트릭스 수지로서, 예를 들면, 아크릴기, 에폭시기, 또는 페닐기를 갖는 수지를 이용할 수 있다. 특히, 포스폰산구리 함유층(20)의 매트릭스 수지로서, 페닐기를 갖는 수지를 이용하는 것이 바람직하다. 이 경우, 포스폰산구리 함유층(20)의 매트릭스 수지가 높은 내열성을 갖는다. 또, 폴리실록산(실리콘 수지)은, 열분해되기 어렵고, 가시광 선 및 근적외선에 대해 높은 투명성을 갖고, 내열성도 높기 때문에, 광학 소자의 재료로서 유리한 특성을 갖는다. 이 때문에, 포스폰산구리 함유층(20)의 매트릭스 수지로서, 폴리실록산을 이용하는 것도 바람직하다. 포스폰산구리 함유층(20)의 매트릭스 수지로서 사용 가능한 폴리실록산의 구체예로는, KR-255, KR-300, KR-2621-1, KR-211, KR-311, KR-216, KR-212, 및 KR-251을 들 수 있다. 이들은 모두 신에츠화학공업사 제조의 실리콘 수지이다.
포스폰산구리 함유층(20)의 분광 투과율은, 800nm~1100nm의 파장역에 있어서 예를 들면 10% 이하이며, 바람직하게는 5% 이하이다. 포스폰산구리 함유층(20)의 분광 투과율은, 예를 들면, 투명 유리 기판 및 투명 유리 기판 상에 포스폰산구리 함유층(20)을 형성하는 재료와 동일 종류의 재료로 형성된 층만을 갖는 적외선 컷 필터를 이용하여 측정할 수 있다. 포스폰산구리 함유층(20)에 함유되어 있는 포스폰산구리의 미립자의 질량은, 예를 들면, 포스폰산구리 함유층(20)의 최종 고형분 전체의 질량의 15%~45%이다. 이에 의해, 적외선 컷 필터(1a)가 보다 확실하게 원하는 광학 특성을 발휘할 수 있다.
포스폰산구리 함유층(20)에 함유되어 있는 포스폰산구리의 미립자의 평균 입자 직경은, 예를 들면, 5nm~200nm이며, 바람직하게는 5nm~100nm이다. 포스폰산구리의 미립자의 평균 입자 직경이 5nm 이상이면, 포스폰산구리의 미립자의 미세화를 행하기 위한 특별한 공정을 필요로 하지 않고, 포스폰산구리의 구조가 파괴되는 것을 방지할 수 있다. 또, 포스폰산구리의 미립자의 평균 입자 직경이 200nm 이하이면, 미 산란(Mie scattering) 등의 광의 산란의 영향을 거의 받지 않고, 광선의 투과율이 저하되는 것을 방지할 수 있어, 촬상 장치로 형성되는 화상의 콘트라스트 및 헤이즈 등의 성능이 저하되는 것을 방지할 수 있다. 또, 포스폰산구리의 미립자의 평균 입자 직경이 100nm 이하이면, 레일리 산란의 영향이 저감되므로, 포스폰산구리 함유층의 가시광역에 대한 투명성이 보다 높아진다. 이 때문에, 포스폰산구리 함유층(20)이 적외선 컷 필터(1a)에 있어서 더욱 바람직한 특성을 갖는다.
포스폰산구리 함유층(20)의 두께는, 예를 들면, 40μm~200μm이다. 이에 의해, 적외선 컷 필터(1a)가 보다 확실하게 원하는 광학 특성을 발휘할 수 있다. 이에 의해, 예를 들면, 800nm~1100nm의 파장역에 있어서의 적외선 컷 필터(1a)의 분광 투과율을 5% 이하로 저감시킬 수 있고, 450nm~600nm의 파장역에 있어서의 적외선 컷 필터(1a)의 분광 투과율을 높게(예를 들면, 70% 이상) 유지할 수 있다.
도 1에 나타낸 바와 같이, 적외선 컷 필터(1a)는, 예를 들면 투명 기판(50)을 더 구비한다. 투명 기판(50)은, 가시광선 및 근적외선에 대해 투명한 유리 또는 수지로 된 기판이다. 적외선 컷 필터(1a)에 있어서, 투명 기판(50)의 한쪽의 주면 상에 유기 색소 함유층(10)이 형성되고, 투명 기판(50)에 접하는 유기 색소 함유층(10)의 한쪽의 주면에 대해 반대측에 위치하는 유기 색소 함유층(10)의 다른쪽의 주면 상에 포스폰산구리 함유층(20)이 형성되어 있다. 이 경우, 예를 들면, 유기 색소 함유층(10)은, 포스폰산구리 함유층(20)의 형성에 앞서 형성된다. 경우에 따라서는, 유기 색소 함유층(10)의 형성에 사용되는 성분이, 포스폰산구리 함유층(20)이 발휘해야 할 특성을 저하시킬 가능성이 있다. 그러나, 적외선 컷 필터(1a)에 의하면, 유기 색소 함유층(10)이 포스폰산구리 함유층(20)의 형성에 앞서 형성됨으로써, 유기 색소 함유층(10)에 있어서 포스폰산구리 함유층(20)이 발휘해야 할 특성을 저하시키는 성분의 대부분이 제거되어 있을 가능성이 높다. 이 때문에, 적외선 컷 필터(1a)에 의하면, 포스폰산구리 함유층(20)이 발휘해야 할 특성이 저하되는 것을 억제할 수 있다.
유기 색소 함유층(10)은, 예를 들면, 이하와 같이 하여 형성할 수 있다. 우선, 매트릭스 수지 및 유기 색소를 용매에 첨가하여 유기 색소 함유층(10)용 도포액을 조제한다. 조제한 도포액을 스핀 코팅 또는 디스펜서에 의한 도포에 의해 기판 상에 도포하여 유기 색소 함유층(10)용 도막을 형성한다. 그 후, 이 도막에 대해 소정의 가열 처리를 행하여 도막을 경화시킨다. 이와 같이 하여, 유기 색소 함유층(10)을 형성할 수 있다. 바람직하게는, 유기 색소를 함유하는 도포액을 스핀 코팅함으로써 유기 색소 함유층(10)을 형성한다. 이 경우, 스핀 코터의 회전수를 조절함으로써, 유기 색소 함유층(10)의 두께를 미세하게 조정할 수 있다. 이에 의해, 적외선 컷 필터(1a)의 컷오프 파장을 용이하게 또한 미세하게 조정할 수 있다.
포스폰산구리 함유층(20)은, 예를 들면, 이하와 같이 하여 형성할 수 있다. 아세트산구리 등의 구리의 염을 테트라히드로퓨란(THF) 등의 소정의 용매에 첨가해 초음파 처리 등에 의해 용해시키고, 또한 인산에스테르를 첨가하여 A액을 조제한다. 또, THF 등의 소정의 용매에 에틸포스폰산 등의 포스폰산을 더하고 교반해, B액을 조제한다. A액과 B액을 혼합한 용액을 실온에서 수십 시간 교반한다. 그 후, 용액에 톨루엔 등의 소정의 용매를 더하고, 소정의 온도로 가열 처리를 행하여 용매를 휘발시킨다. 다음에, 원심 분리에 의해서 용액 중의 불순물을 제거하고, 톨루엔 등의 소정의 용매를 더하고, 소정의 온도로 가열 처리를 행하여 용매를 휘발시킨다. 이와 같이 하여, 포스폰산구리의 미립자의 분산액을 조제한다. 다음에, 포스폰산구리의 미립자의 분산액에 실리콘 수지 등의 매트릭스 수지를 더해 교반한다. 이와 같이 하여, 포스폰산구리 함유층(20)용 도포액을 조제한다. 조제한 도포액을 스핀 코팅 또는 디스펜서에 의한 도포에 의해 기판 상에 도포하여 포스폰산구리 함유층(20)용 도막을 형성한다. 그 후, 이 도막에 대해 소정의 가열 처리를 행하여 도막을 경화시킨다. 이와 같이 하여, 포스폰산구리 함유층(20)을 형성할 수 있다.
다른 실시형태에 의하면, 적외선 컷 필터(1a)는, 도 2에 나타낸, 적외선 컷 필터(1b)와 같이 변경되어도 된다. 적외선 컷 필터(1b)에 있어서, 투명 기판(50)의 한쪽의 주면 상에 포스폰산구리 함유층(20)이 형성되고, 투명 기판(50)에 접하는 포스폰산구리 함유층(20)의 한쪽의 주면에 대해 반대측에 위치하는 포스폰산구리 함유층(20)의 다른쪽의 주면 상에 유기 색소 함유층(10)이 형성되어 있다. 이 경우, 예를 들면, 포스폰산구리 함유층(20)은, 유기 색소 함유층(10)의 형성에 앞서 형성된다. 경우에 따라서는, 포스폰산구리 함유층(20)의 형성에 사용되는 성분이, 유기 색소 함유층(10)이 발휘해야 할 특성을 저하시킬 가능성이 있다. 그러나, 적외선 컷 필터(1b)에 의하면, 포스폰산구리 함유층(20)이 유기 색소 함유층(10)의 형성에 앞서 형성됨으로써, 포스폰산구리 함유층(20)에 있어서 유기 색소 함유층(10)이 발휘해야 할 특성을 저하시키는 성분의 대부분이 제거되어 있을 가능성이 높다. 이 때문에, 적외선 컷 필터(1b)에 의하면, 유기 색소 함유층(10)이 발휘해야 할 특성이 저하되는 것을 억제할 수 있다.
또 다른 실시형태에 의하면, 적외선 컷 필터(1a)는, 도 3에 나타낸, 적외선 컷 필터(1c)와 같이 변경되어도 된다. 적외선 컷 필터(1c)에 있어서, 투명 기판(50)의 한쪽의 주면 상에 포스폰산구리 함유층(20)이 형성되고, 투명 기판(50)의 다른쪽의 주면 상에 유기 색소 함유층(10)이 형성되어 있다. 이 경우, 유기 색소 함유층(10)과 포스폰산구리 함유층(20)의 상호 작용에 의해, 유기 색소 함유층(10) 또는 포스폰산구리 함유층(20)이 발휘해야 할 특성이 저하되는 것을 억제할 수 있다.
또 다른 실시형태에 의하면, 적외선 컷 필터(1a)는, 도 4에 나타낸, 적외선 컷 필터(1d)와 같이 변경되어도 된다. 적외선 컷 필터(1d)는, 중간 보호층(30)(패시베이션층)을 구비하고 있는 점을 제외하고, 적외선 컷 필터(1a)와 동일한 구성을 갖는다. 중간 보호층(30)은, 적외선 컷 필터(1d)의 두께 방향에 있어서, 유기 색소 함유층(10)과 포스폰산구리 함유층(20) 사이에 형성되어 있다. 적외선 컷 필터(1d)에 있어서는, 유기 색소 함유층(10)이 중간 보호층(30)보다 투명 기판(50)에 가까운 위치에 배치되고, 또한, 중간 보호층(30)이 포스폰산구리 함유층(20)보다 투명 기판(50)에 가까운 위치에 배치되어 있다. 또한, 적외선 컷 필터에 있어서, 포스폰산구리 함유층(20)이 중간 보호층(30)보다 투명 기판(50)에 가까운 위치에 배치되고, 또한, 중간 보호층(30)이 유기 색소 함유층(10)보다 투명 기판(50)에 가까운 위치에 배치되어 있어도 된다.
유기 색소 함유층(10)과 포스폰산구리 함유층(20)이 접촉하고 있는 경우, 경우에 따라서는, 유기 색소 함유층(10)과 포스폰산구리 함유층(20)의 상호 작용에 의해, 유기 색소 함유층(10)이 발휘해야 할 특성 또는 포스폰산구리 함유층(20)이 발휘해야 할 특성이 저하될 가능성이 있다. 예를 들면, 유기 색소 함유층(10) 상에 포스폰산구리 함유층(20)을 형성하는 경우, 포스폰산구리의 미립자에 포함되는 불순물의 제거가 불충분하면, 유기 색소 함유층(10)에 포함되는 유기 색소가 그 불순물의 영향을 받을 가능성이 있다. 또, 포스폰산구리 함유층(20) 상에 유기 색소 함유층(10)을 형성하는 경우, 유기 색소 함유층(10)의 형성에 사용되는 경화제, 촉매, 또는 가교 촉진제 등의 성분이 포스폰산구리 함유층(20)의 특성에 영향을 미칠 가능성이 있다. 적외선 컷 필터(1d)에 의하면, 중간 보호층(30)에 의해서, 유기 색소 함유층(10)과 포스폰산구리 함유층(20)의 상호 작용이 방지되고, 유기 색소 함유층(10)이 발휘해야 할 특성 또는 포스폰산구리 함유층(20)이 발휘해야 할 특성이 저하되는 것을 방지할 수 있다.
중간 보호층(30)을 형성하는 재료는, 유기 색소 함유층(10)과 포스폰산구리 함유층(20)의 상호 작용을 방지 가능한 한 특별히 제한되지 않지만, 중간 보호층(30)은, 예를 들면, 폴리실록산을 포함하고 있다. 이에 의해, 중간 보호층(30)이 높은 내열성을 갖는다. 중간 보호층(30)에 함유되는 폴리실록산의 질량은, 예를 들면, 중간 보호층(30)의 전체의 질량에 대해 50%~99.5%이다.
중간 보호층(30)은, 예를 들면, 에폭시 수지를 포함한다. 이 경우, 중간 보호층(30)은 폴리실록산을 포함하고 있어도 되고, 중간 보호층(30)은 폴리실록산을 포함하지 않아도 된다. 이에 의해, 중간 보호층(30)의 치밀성이 향상된다. 중간 보호층(30)에 함유되는 에폭시 수지의 질량은, 예를 들면, 중간 보호층(30)의 최종 고형분 전체의 질량에 대해 0.5%~50%이다.
중간 보호층(30)의 두께는, 예를 들면, 0.3μm~5μm이다. 이에 의해, 유기 색소 함유층(10)과 포스폰산구리 함유층(20)의 상호 작용을 확실히 방지하면서, 적외선 컷 필터(1d)의 두께가 커지는 것을 억제할 수 있다.
중간 보호층(30)은, 예를 들면, 이하와 같이 하여 형성할 수 있다. 우선, 소정의 용매에 폴리실록산의 원료 및 에폭시 수지를 첨가하여 소정 시간 교반함으로써, 중간 보호층(30)용 도포액을 조제한다. 이 경우, 예를 들면, 중간 보호층(30)용 도포액을 조제하는 과정에서 소정의 알콕시실란의 가수분해 중축합 반응을 진행시킴으로써 폴리실록산이 생성되어도 된다. 다음에, 중간 보호층(30)용 도포액을, 스핀 코팅에 의해 이미 형성되어 있는 유기 색소 함유층(10) 또는 포스폰산구리 함유층(20) 상에 도포하여, 중간 보호층(30)용 도막을 형성한다. 다음에, 중간 보호층(30)용 도막에 대해 소정의 가열 처리를 행하여, 도막을 경화시킨다. 이와 같이 하여, 중간 보호층(30)을 형성할 수 있다.
또 다른 실시형태에 의하면, 적외선 컷 필터(1a)는, 도 5에 나타낸, 적외선 컷 필터(1e)와 같이 변경되어도 된다. 적외선 컷 필터(1e)는, 유기 색소 함유층(10)과 포스폰산구리 함유층(20) 사이에 중간 보호층(30)이 배치되어 있는 것에 추가해, 적외선 컷 필터(1e)의 표면에 반사 방지막(40)을 구비하고 있는 점을 제외하고, 적외선 컷 필터(1a)와 동일한 구성을 갖고 있다. 이에 의해, 가시광역의 투과율이 향상되므로, 예를 들면, 적외선 컷 필터(1e)를 디지털 카메라 등의 촬상 장치에 이용한 경우에, 밝은 화상을 얻을 수 있다. 또한, 경우에 따라서는, 중간 보호층(30)은 생략되어도 되고, 도 2에 나타낸 바와 같이, 포스폰산구리 함유층(20)이 유기 색소 함유층(10)보다 투명 기판(50)에 가까운 위치에 배치되어 있어도 된다.
반사 방지막(40)은, 단층막 또는 적층 다층막이다. 반사 방지막(40)이 단층막인 경우, 반사 방지막(40)은, 낮은 굴절률을 갖는 재료로 되어 있다. 반사 방지막(40)이 적층 다층막인 경우, 반사 방지막(40)은, 낮은 굴절률을 갖는 재료의 층과 높은 굴절률을 갖는 재료의 층을 번갈아 적층함으로써 형성되어 있다. 반사 방지막(40)을 형성하는 재료는, 예를 들면, SiO2, TiO2, 및 MgF2 등의 무기 재료 또는 불소 수지 등의 유기 재료이다. 반사 방지막(40)을 형성하는 방법은, 특별히 제한되지 않고, 반사 방지막(40)을 형성하는 재료의 종류에 따라서, 진공 증착, 스퍼터링, CVD(Chemical Vapor Deposition), 및 스핀 코팅 또는 스프레이 코팅을 이용한 졸겔법 중 어느 한 쪽을 이용할 수 있다. 또한, 적외선 컷 필터(1e)의 두께 방향 양측의 표면에 반사 방지막(40)이 형성되어 있어도 된다. 이에 의해, 보다 밝은 화상을 얻을 수 있다.
반사 방지막(40)은, 반사 방지 기능에 추가해, 예를 들면, 적외선 컷 필터를 습기 또는 고온의 가스로부터 보호하는 기능을 갖고 있어도 된다.
또 다른 실시형태에 의하면, 적외선 컷 필터(1a)는, 도 6에 나타낸, 적외선 컷 필터(1f)와 같이 변경되어도 된다. 적외선 컷 필터(1f)는, 중간 보호층(30) 및 반사 방지막(40)에 추가해, 유기 색소 함유층(10)용 하지층(11) 및 포스폰산구리 함유층(20)용 하지층(21)을 구비하고 있는 점을 제외하고, 적외선 컷 필터(1a)와 동일한 구성을 갖고 있다. 또한, 경우에 따라서는, 중간 보호층(30) 및 반사 방지막(40) 중 적어도 하나는 생략되어도 되고, 도 2에 나타낸 바와 같이, 포스폰산구리 함유층(20)이 유기 색소 함유층(10)보다 투명 기판(50)에 가까운 위치에 배치되어 있어도 된다.
하지층(11) 및 하지층(21)은, 각각, 실란 커플링제 또는 티탄 커플링제를, 스핀 코팅, 다이 코팅, 또는 디스펜서를 이용한 도포에 의해서 도포면에 도포하여 도막을 형성하고, 이 도막을 건조시킴으로써 형성할 수 있다. 하지층(11)에 의해서 유기 색소 함유층(10)의 밀착 강도를 높일 수 있어, 하지층(21)에 의해서 포스폰산구리 함유층(20)의 밀착 강도를 높일 수 있다. 이에 의해, 적외선 컷 필터(1f)가 높은 신뢰성을 갖는다. 또한, 경우에 따라서는, 하지층(11) 및 하지층(21) 중 어느 한쪽만 형성되어 있어도 된다.
또 다른 실시형태에 의하면, 적외선 컷 필터(1a)는, 디지털 카메라 등의 촬상 장치에 사용된다. 도 7에 나타낸 바와 같이, 촬상 장치(100)는, 적외선 컷 필터(1a)와, 촬상 소자(2)를 구비하고 있다. 촬상 소자(2)는, 예를 들면, CCD 또는 CMOS 등의 고체 촬상 소자이다. 촬상 장치(100)는, 촬상 렌즈(3)를 더 구비하고 있다. 도 7에 나타낸 바와 같이, 피사체로부터의 광은, 촬상 렌즈(3)에 의해서 집광되고, 적외선 컷 필터(1a)에 의해서 적외선이 컷된 후, 촬상 소자(2)에 입사된다. 이 때문에, 색 재현성이 높은 양호한 화상을 얻을 수 있다. 촬상 장치(100)는, 적외선 컷 필터(1a) 대신에, 적외선 컷 필터(1b~1f) 중 어느 한쪽을 구비하고 있어도 된다.
실시예
실시예에 의해, 본 발명을 보다 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명은 이하의 실시예로 한정되지 않는다.
<실시예 1>
포스폰산구리 함유층용 도포액을 이하와 같이 하여 조제했다. 아세트산구리 1.8g과, 용매로서의 테트라히드로퓨란(THF) 72g을 혼합하고, 초음파 세정 및 원심분리에 의해서 용해되어 있지 않은 아세트산구리를 제거하여, 아세트산구리 용액을 얻었다. 다음에, 아세트산구리 용액 60g에, 인산에스테르(다이이치공업제약사 제조, 제품명:PLYSURF A208F)를 1g 더하고 교반해, A액을 얻었다. 또, 에틸포스폰산 0.63g에 THF 6g을 더하고 교반해, B액을 얻었다. 다음에, A액을 교반하면서 A액에 B액을 더하고, 실온에서 16시간 교반했다. 다음에, 이 용액에 톨루엔 12g을 더한 후, 85℃의 환경에서 3시간에 걸쳐 용매를 휘발시켰다. 다음에, 이 용액에 톨루엔 24g을 더한 후, 원심 분리에 의해서 불순물을 제거하고, 또한 톨루엔 36g을 더했다. 다음에, 이 용액을 85℃의 환경에서 10시간에 걸쳐 용매를 휘발시켰다. 이와 같이 하여, 포스폰산구리의 미립자의 분산액 5.4g을 조제했다. 포스폰산구리의 미립자의 분산액 중의 포스폰산구리의 미립자의 평균 입자 직경을, 동적 광산란법에 의해 측정했다. 이 측정 결과, 포스폰산구리의 미립자의 분산액 중의 포스폰산구리의 미립자의 평균 입자 직경은, 75nm였다. 측정 장치로서 오오츠카전자주식회사 제조의 입경 애널라이저 FPAR-1000을 이용했다. 포스폰산구리의 미립자의 분산액 5.4g에 대해, 실리콘 수지(신에츠화학공업사 제조, 제품명:KR-300) 5.28g을 더하고 1시간 교반했다. 이와 같이 하여, 포스폰산구리 함유층용 도포액을 얻었다.
유기 색소 함유층용 도포액을 이하와 같이 하여 조제했다. 시클로펜타논 20g에, 유기 색소로서의 YKR-2900(야마모토카세이주식회사 제조, 흡수 극대 파장:830nm) 0.10g을 더하고 1시간 교반했다. 다음에, 폴리비닐부티랄 수지(세키스이 화학공업 주식회사 제조, 제품명:S-LEC KS-10) 2g을 더해 1시간 교반하고, 그 후, 2,4-디이소시안산톨릴렌 1g을 또한 더하고 교반해, 유기 색소 함유층용 도포액을 얻었다.
76mm×76mm×0.21mm의 치수를 갖는 붕규산 유리로 된 투명 유리 기판(Schott사 제조, 제품명:D263)의 표면에 유기 색소 함유층용 도포액을 스핀 코팅(회전수:500rpm)에 의해서 도포해, 도막을 형성했다. 이 도막에 대해 140℃에서 60분간의 조건으로 가열 처리를 행하여 도막을 경화시켜, 유기 색소 함유층을 형성했다. 유기 색소 함유층의 두께는, 약 1.4μm였다. 최종적으로 유기 색소 함유층에 포함되는 유기 색소 성분의 질량은, 화학량론적으로 유기 색소 함유층의 최종 고형분 전체의 질량의 약 3.2%였다. 다음에, 유기 색소 함유층의 표면의 60mm×60mm의 범위에 디스펜서를 이용해 포스폰산구리 함유층용 도포액 0.88g을 도포해 도막을 형성했다. 85℃에서 7시간, 125℃에서 3시간, 및 150℃에서 1시간의 조건으로 도막에 대해 가열 처리를 행하고, 도막을 경화시켜, 포스폰산구리 함유층을 형성했다. 최종적으로 포스폰산구리 함유층에 있어서의 포스폰산구리 미립자의 질량은, 화학량론적으로 최종 고형분 전체의 질량의 약 33%였다. 이와 같이 하여, 실시예 1에 따른 적외선 컷 필터를 제작했다. 실시예 1에 따른 적외선 컷 필터에 있어서의 유기 색소 함유층 및 포스폰산구리 함유층으로 이루어지는 부분의 두께는 약 123μm였다.
실시예 1에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율을 측정했다. 이 측정에는, 자외가시분광광도계(일본분광주식회사 제조, 제품명:V-670)을 이용해, 입사각을 0°(도)로 설정했다. 측정 결과를 표 1 및 도 8에 나타냈다.
도 8에 나타낸 바와 같이, 실시예 1에 따른 적외선 컷 필터는, 450nm~600nm의 파장역에 있어서 70% 이상의 높은 분광 투과율을 갖고, 800nm~1100nm의 파장역에서 5% 이하의 분광 투과율을 갖고 있었다. 또, 실시예 1에 따른 적외선 컷 필터의 컷오프 파장은, 약 663nm였다. 또한, 컷오프 파장에 대해 100nm 큰 파장(약 763nm)에 있어서의 적외선 컷 필터의 투과율은 약 1.3%이며, 적외선 컷 필터로서 필요로 하는, 투과율이 5% 이하라는 조건을 만족하고 있었다. 이 때문에, 실시예 1에 따른 적외선 컷 필터는, 디지털 카메라 등의 촬상 장치에 있어서 바람직한 적외선 차폐 특성을 갖고 있는 것이 시사되었다.
<실시예 2>
중간 보호층용 도포액을 이하와 같이 하여 조제했다. 에탄올 11.5g에, 글리시독시프로필트리메톡시실란 2.83g, 에폭시 수지(사카모토약품공업사 제조, 제품명:SR-6GL) 0.11g, 테트라에톡시실란 5.68g, 질산의 에탄올 희석액(질산의 농도:10 중량%) 0.06g, 및 물 5.5g을 이 순번으로 더하고, 약 1시간 교반했다. 이와 같이 하여, 중간 보호층용 도포액을 얻었다.
76mm×76mm×0.21mm의 치수를 갖는 붕규산 유리로 된 투명 유리 기판(Schott사 제조, 제품명:D263)의 표면에 실시예 1에서 이용한 유기 색소 함유층용 도포액을 스핀 코팅(회전수:300rpm)에 의해서 도포해, 도막을 형성했다. 이 도막에 대해 140℃에서 60분간의 조건으로 가열 처리를 행하여, 도막을 경화시켰다. 이와 같이 하여, 유기 색소 함유층을 형성했다. 유기 색소 함유층의 두께는 약 1.8μm였다. 다음에, 유기 색소 함유층의 표면에 중간 보호층용 도포액을 스핀 코팅(회전수:300rpm)에 의해서 도포해, 도막을 형성했다. 이 도막에 대해, 150℃에서 20분간의 조건으로 가열 처리를 행하여, 도막을 경화시켰다. 이와 같이 하여, 중간 보호층을 형성했다. 중간 보호층에 있어서의 폴리실록산 성분의 최종적인 질량은, 화학량론적으로 중간 보호층의 최종 고형분 전체의 질량의 약 97%이며, 중간 보호층에 있어서의 에폭시 수지의 질량은, 화학량론적으로 중간 보호층의 최종 고형분 전체의 질량의 약 2.1%였다. 중간 보호층의 두께는 약 1.7μm였다. 다음에, 중간 보호층의 표면의 60mm×60mm의 범위에 디스펜서를 이용해 실시예 1에서 사용한 포스폰산구리 함유층용 도포액 0.86g을 도포해, 도막을 형성했다. 이 도막에 대해, 85℃에서 3시간, 125℃에서 3시간, 및 150℃에서 1시간의 조건으로 가열 처리를 행하여 도막을 경화시켜, 포스폰산구리 함유층을 형성했다. 이와 같이 하여, 실시예 2에 따른 적외선 컷 필터를 제작했다. 실시예 2의 적외선 컷 필터에 있어서의, 유기 색소 함유층, 중간 보호층, 및 포스폰산구리 함유층으로 이루어지는 부분의 두께는, 122μm였다.
실시예 2에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율을 실시예 1과 동일하게 하여 측정했다. 결과를 표 1 및 도 9에 나타냈다. 도 9에 나타낸 바와 같이, 실시예 2에 따른 적외선 컷 필터는, 450nm~600nm의 파장역에 있어서 70% 이상의 높은 분광 투과율을 갖고, 800nm~1100nm의 파장역에서 5% 이하의 분광 투과율을 갖고 있었다. 또, 실시예 2에 따른 적외선 컷 필터의 컷오프 파장은, 약 655nm였다. 또한, 컷오프 파장에 대해 100nm 큰 파장(약 755nm)에 있어서의 적외선 컷 필터의 투과율은 약 1.3%이며, 적외선 컷 필터로서 필요로 하는, 투과율이 5% 이하라는 조건을 만족했다. 이 때문에, 실시예 2에 따른 적외선 컷 필터는, 디지털 카메라 등의 촬상 장치에 있어서 바람직한 적외선 차폐 특성을 갖고 있는 것이 시사되었다.
<실시예 3>
76mm×76mm×0.21mm의 치수를 갖는 붕규산 유리로 된 투명 유리 기판(Schott사 제조, 제품명:D263)의 표면의 60mm×60mm의 범위에 디스펜서를 이용하여 실시예 1에서 사용한 포스폰산구리 함유층용 도포액 1g을 도포해 도막을 형성했다. 이 도막에 대해 85℃에서 3시간, 125℃에서 3시간, 및 150℃에서 1시간의 조건으로 가열 처리를 행하여, 도막을 경화시켰다. 이와 같이 하여 포스폰산구리 함유층을 형성했다. 다음에, 포스폰산구리 함유층의 표면에 실시예 2에서 사용한 중간 보호층용 도포액을 스핀 코팅(회전수:300rpm)에 의해서 도포하여 도막을 형성했다. 다음에, 이 도막에 대해 150℃에서 20분간의 조건으로 가열 처리를 행하여, 도막을 경화시켰다. 이와 같이 하여 중간 보호층을 형성했다. 중간 보호층의 두께는 약 1.7μm였다. 다음에, 중간 보호층의 표면에 실시예 1에서 사용한 유기 색소 함유층용 도포액을 스핀 코팅(회전수:200rpm)에 의해서 도포하여 도막을 형성했다. 이 도막에 대해 140℃에서 60분간의 조건으로 가열 처리를 행하여 도막을 경화시켜, 유기 색소 함유층을 형성했다. 유기 색소 함유층의 두께는 약 2.4μm였다. 이와 같이 하여, 실시예 3에 따른 적외선 컷 필터를 제작했다. 실시예 3의 적외선 컷 필터에 있어서의, 포스폰산구리 함유층, 중간 보호층, 및 유기 색소 함유층으로 이루어지는 부분의 두께는 141μm였다.
실시예 3에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율을 실시예 1과 동일하게 하여 측정했다. 결과를 표 1 및 도 10에 나타냈다. 도 10에 나타낸 바와 같이, 실시예 3에 따른 적외선 컷 필터는, 450nm~600nm의 파장역에 있어서 70% 이상의 높은 분광 투과율을 갖고, 800nm~1100nm의 파장역에서 5% 이하의 분광 투과율을 갖고 있었다. 또, 실시예 3에 따른 적외선 컷 필터의 컷오프 파장은, 약 648nm였다. 또한, 컷오프 파장에 대해 100nm 큰 파장(약 748nm)에 있어서의 적외선 컷 필터의 투과율은 약 0.9%이며, 적외선 컷 필터로서 필요로 하는, 투과율이 5% 이하라는 조건을 만족했다. 이 때문에, 실시예 3에 따른 적외선 컷 필터는, 디지털 카메라 등의 촬상 장치에 있어서 바람직한 적외선 차폐 특성을 갖고 있는 것이 시사되었다.
<실시예 4>
유기 색소 함유층용 도포액을 이하와 같이 하여 조제했다. 시클로펜타논 20g에, 유기 색소로서의 KAYASORB CY-40MC(일본화약주식회사 제조, 흡수 극대 파장:835nm) 0.149g을 더하고 1시간 교반했다. 다음에, 폴리비닐부티랄 수지(스미토모화학주식회사 제조, 제품명:S-LEC KS-10) 2.0g을 더해 1시간 교반하고, 그 후, 2,4-디이소시안산톨릴렌 1.0g을 또한 더하고 교반해, 유기 색소 함유층용 도포액을 얻었다.
76mm×76mm×0.21mm의 치수를 갖는 붕규산 유리로 된 투명 유리 기판(Schott사 제조, 제품명:D263)의 표면에 유기 색소 함유층용 도포액을 스핀 코팅(회전수:300rpm)에 의해서 도포해, 도막을 형성했다. 이 도막에 대해 140℃에서 60분간의 조건으로 가열 처리를 행하여, 도막을 경화시켰다. 이와 같이 하여, 유기 색소 함유층을 형성했다. 유기 색소 함유층의 두께는 약 1.9μm였다. 최종적으로 유기 색소 함유층에 포함되는 유기 색소 성분의 질량은, 화학량론적으로 유기 색소 함유층의 최종 고형분 전체의 질량의 약 4.7%였다. 다음에, 유기 색소 함유층의 표면에 실시예 2에서 사용한 중간 보호층용 도포액을 스핀 코팅(회전수:300rpm)에 의해서 도포해, 도막을 형성했다. 이 도막에 대해, 150℃에서 20분간의 조건으로 가열 처리를 행하여, 도막을 경화시켰다. 이와 같이 하여, 중간 보호층을 형성했다. 중간 보호층의 두께는 약 1.7μm였다. 다음에, 중간 보호층의 표면의 60mm×60mm의 범위에 디스펜서를 이용해 실시예 1에서 사용한 포스폰산구리 함유층용 도포액 0.60g을 도포해, 도막을 형성했다. 이 도막에 대해, 85℃에서 3시간, 125℃에서 3시간, 및 150℃에서 1시간의 조건으로 가열 처리를 행하여 도막을 경화시켜, 포스폰산구리 함유층을 형성했다. 이와 같이 하여, 실시예 4에 따른 적외선 컷 필터를 제작했다. 실시예 4의 적외선 컷 필터에 있어서의, 유기 색소 함유층, 중간 보호층, 및 포스폰산구리 함유층으로 이루어지는 부분의 두께는, 85μm였다.
실시예 4에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율을 실시예 1과 동일하게 하여 측정했다. 결과를 표 1 및 도 11에 나타냈다. 도 11에 나타낸 바와 같이, 실시예 4에 따른 적외선 컷 필터는, 450nm~600nm의 파장역에 있어서 70% 이상의 높은 분광 투과율을 갖고, 800nm~1100nm의 파장역에서 평균 5% 이하의 분광 투과율을 갖고 있었다. 또, 실시예 4에 따른 적외선 컷 필터의 컷오프 파장은, 약 664nm였다. 또한 컷오프 파장에 대해 100nm 큰 파장(약 764nm)에 있어서의 투과율은 약 1.4%이며, 적외선 컷 필터로서 필요로 하는, 투과율 5% 이하이라는 조건을 만족시키고 있었다. 이 때문에, 실시예 4에 따른 적외선 컷 필터는, 디지털 카메라 등의 촬상 장치에 있어서 바람직한 적외선 차폐 특성을 갖고 있는 것이 시사되었다.
<비교예 1>
76mm×76mm×0.21mm의 치수를 갖는 붕규산 유리로 된 투명 유리 기판(Schott사 제조, 제품명:D263)의 표면의 60mm×60mm의 범위에 디스펜서를 이용해 포스폰산구리 함유층용 도포액 0.7g을 도포해 도막을 형성했다. 85℃에서 3시간, 125℃에서 3시간, 150℃에서 1시간의 조건으로 도막에 대해 가열 처리를 행하여, 도막을 경화시켜, 포스폰산구리 함유층을 형성했다. 이와 같이 하여, 투명 유리 기판에 포스폰산구리 함유층만이 형성된 비교예 1에 따른 적외선 컷 필터를 얻었다. 비교예 1에 따른 적외선 컷 필터에 있어서의 포스폰산구리 함유층의 두께는, 약 91μm였다.
비교예 1에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율을 실시예 1과 동일하게 하여 측정했다. 측정 결과를 표 1 및 도 12에 나타냈다. 도 12에 나타낸 바와 같이, 비교예 1에 따른 적외선 컷 필터는, 450nm~600nm의 파장역에서 높은 분광 투과율(80% 이상)을 갖고, 800nm~1100nm의 파장역에서 낮은 분광 투과율(10% 이하)을 갖고 있었다. 한편, 비교예 1에 따른 적외선 컷 필터는, 컷오프 파장이 약 718nm이며, 촬상 소자에 사용되는 적외선 컷 필터에 필요한, 컷오프 파장이 620nm~680nm의 파장역에 없으면 안 된다는 조건을 만족시키고 있지 않았다. 이 때문에, 포스폰산구리 함유층만을 갖는 적외선 컷 필터에 의해서, 디지털 카메라 등의 촬상 장치에 요구되는 적외선 차폐 특성을 실현하는 것은 어려운 것이 시사되었다.
<비교예 2>
76mm×76mm×0.21mm의 치수를 갖는 붕규산 유리로 된 투명 유리 기판(Schott사 제조, 제품명:D263)의 표면에 실시예 1에서 사용한 유기 색소 함유층용 도포액을 스핀 코팅(회전수:300rpm)에 의해서 도막을 형성했다. 이 도막에 대해 140℃에서 60분간의 조건으로 가열 처리를 행하여 도막을 경화시켜, 유기 색소 함유층을 형성했다. 이와 같이 하여, 투명 유리 기판에 유기 색소 함유층만이 형성된 비교예 2에 따른 적외선 컷 필터를 얻었다. 비교예 2에 따른 적외선 컷 필터에 있어서의 유기 색소 함유층의 두께는, 약 1.7μm였다.
비교예 2에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율을 실시예 1과 동일하게 하여 측정했다. 측정 결과를 표 1 및 도 13에 나타냈다. 도 13에 나타낸 바와 같이, 비교예 2에 따른 적외선 컷 필터에 있어서의 유기 색소 함유층은, 350nm~600nm의 파장역에서는 대체로 높은 분광 투과율(70% 이상)을 갖고, 약 600nm~약 900nm의 파장역의 광을 흡수하는 특성을 갖고 있었다. 또, 비교예 2에 따른 적외선 컷 필터에 있어서의 유기 색소 함유층은, 600nm~750nm의 파장역에서, 파장의 증가에 따라서, 분광 투과율이 80% 이상에서 10% 이하로 저하된다는 특성을 갖고 있었다. 비교예 2에 따른 적외선 컷 필터의 컷오프 파장은, 약 688nm이며, 촬상 소자에 사용되는 적외선 컷 필터에 필요한, 컷오프 파장이 620nm~680nm의 파장역에 없으면 안 된다고 하는 조건을 만족시키고 있지 않았다. 또한, 비교예 2에 따른 적외선 컷 필터에 있어서의 유기 색소 함유층은, 900nm 이상의 파장역에서, 높은 투과율을 나타내는 특성을 갖고 있었다. 이 때문에, 유기 색소 함유층만을 갖는 적외선 컷 필터에 의해서, 디지털 카메라 등의 촬상 장치에 요구되는 적외선 차폐 특성을 실현하는 것은 어려운 것이 시사되었다.
<비교예 3>
76mm×76mm×0.21mm의 치수를 갖는 붕규산 유리로 된 투명 유리 기판(Schott사 제조, 제품명:D263)의 표면에 실시예 4에서 제작한 유기 색소 함유층용 도포액을 스핀 코팅(회전수:300rpm)에 의해서 도막을 형성했다. 이 도막에 대해 140℃에서 60분간의 조건으로 가열 처리를 행하여 도막을 경화시켜, 유기 색소 함유층을 형성했다. 이와 같이 하여, 투명 유리 기판에 유기 색소 함유층만이 형성된 비교예 3에 따른 적외선 컷 필터를 얻었다. 비교예 3에 따른 적외선 컷 필터에 있어서의 유기 색소 함유층의 두께는, 약 1.9μm였다.
비교예 3에 따른 적외선 컷 필터의 분광 투과율을 실시예 1과 동일하게 하여 측정했다. 측정 결과를 표 1 및 도 14에 나타냈다. 도 14에 나타낸 바와 같이, 비교예 3에 따른 적외선 컷 필터에 있어서의 유기 색소 함유층은, 450nm~600nm의 파장역에서는 대체로 높은 분광 투과율(70% 이상)을 갖고, 약 600nm~900nm의 파장역의 광을 흡수하는 특성을 갖고 있었다. 또, 비교예 3에 따른 적외선 컷 필터에 있어서의 유기 색소 함유층은, 약 600nm~750nm의 파장역에서, 파장의 증가에 따라서, 분광 투과율이 80% 이상에서 20% 이하로 저하된다는 특성을 갖고 있었다. 한편, 비교예 3에 따른 적외선 컷 필터의 컷오프 파장은, 620nm~680nm 사이의 파장역으로부터 벗어나, 692nm 부근에 존재했다. 또, 비교예 3에 따른 적외선 컷 필터는 900nm 이상의 파장역에서, 높은 투과율을 나타내는 특성을 갖고 있었다. 이 때문에, 유기 색소 함유층만을 갖는 적외선 컷 필터에 의해서, 디지털 카메라 등의 촬상 장치에 요구되는 적외선 차폐 특성을 실현하는 것은 어려운 것이 시사되었다.
Claims (17)
- 적외선 컷 필터로서,
상기 적외선 컷 필터의 컷오프 파장에 대해 50nm 작은 파장과 상기 컷오프 파장에 대해 50nm 큰 파장 사이의 파장역에서, 파장의 증가에 따라서, 분광 투과율이 70% 이상에서 50% 이하로 저하되도록 유기 색소를 함유하고 있는, 유기 색소 함유층과,
포스폰산구리의 미립자를 함유하고 있는 포스폰산구리 함유층을 구비하며,
450nm~600nm의 파장역의 전체에 있어서 70% 이상의 분광투과율을 가지며,
800nm~1000nm에서의 평균 투과율이 5% 이하인,
적외선 컷 필터. - 삭제
- 청구항 1에 있어서,
상기 컷오프 파장은 620nm~680nm의 파장역에 있는, 적외선 컷 필터. - 청구항 1에 있어서,
상기 유기 색소 함유층의 컷오프 파장은, 상기 적외선 컷 필터의 컷오프 파장보다 크며, 또한 620nm~720nm의 파장역에 있는, 적외선 컷 필터. - 청구항 1에 있어서,
상기 유기 색소 함유층은, 650nm~900nm에 흡수 극대 파장을 갖는 유기 색소를 함유하고 있는, 적외선 컷 필터. - 청구항 1에 있어서,
상기 유기 색소 함유층의 450nm~600nm의 파장역에 있어서의 분광 투과율은 평균하여 80% 이상인, 적외선 컷 필터. - 청구항 1에 있어서,
상기 포스폰산구리 함유층의 800nm~1100nm의 파장역에 있어서의 분광 투과율은 10% 이하인, 적외선 컷 필터. - 청구항 1에 있어서,
상기 포스폰산구리 함유층의 450nm~600nm의 파장역에 있어서의 분광 투과율은 70% 이상인, 적외선 컷 필터. - 청구항 1에 있어서,
상기 포스폰산구리의 미립자의 질량은, 상기 포스폰산구리 함유층의 최종 고형분 전체의 질량의 15%~45%인, 적외선 컷 필터. - 청구항 1에 있어서,
상기 유기 색소 함유층의 두께는 0.5μm~5μm인, 적외선 컷 필터. - 청구항 3에 있어서,
상기 유기 색소 함유층의 두께는 0.5μm~5μm인, 적외선 컷 필터. - 청구항 1에 있어서,
상기 적외선 컷 필터의 두께 방향에 있어서, 상기 유기 색소 함유층과 상기 포스폰산구리 함유층 사이에 형성된 중간 보호층을 더 구비한, 적외선 컷 필터. - 청구항 12에 있어서,
상기 중간 보호층은 폴리실록산을 포함하는, 적외선 컷 필터. - 청구항 12에 있어서,
상기 중간 보호층은 에폭시 수지를 포함하는, 적외선 컷 필터. - 청구항 13에 있어서,
상기 중간 보호층은 에폭시 수지를 포함하는, 적외선 컷 필터. - 청구항 1, 및 청구항 3 내지 청구항 15 중 어느 한 항에 기재된 적외선 컷 필터와,
상기 적외선 컷 필터를 투과한 광이 입사하는 촬상 소자를 구비한, 촬상 장치. - 적외선 컷 필터의 제조 방법으로서,
상기 적외선 컷 필터는,
상기 적외선 컷 필터의 컷오프 파장에 대해 50nm 작은 파장과 상기 컷오프 파장에 대해 50nm 큰 파장 사이의 파장역에서, 파장의 증가에 따라서, 분광 투과율이 70% 이상에서 50% 이하로 저하되도록 유기 색소를 함유하고 있는, 유기 색소 함유층과,
포스폰산구리의 미립자를 함유하고 있는 포스폰산구리 함유층을 구비하고,
상기 적외선 컷 필터는, 450nm~600nm의 파장역의 전체에 있어서 70% 이상의 분광투과율을 가지며,
상기 적외선 컷 필터의 800nm~1000nm에서의 평균 투과율이 5% 이하이며,
상기 유기 색소를 함유하는 도포액을 스핀 코팅함으로써 상기 유기 색소 함유층을 형성하는, 적외선 컷 필터의 제조 방법.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015137675 | 2015-07-09 | ||
| JPJP-P-2015-137675 | 2015-07-09 | ||
| PCT/JP2016/003254 WO2017006571A1 (ja) | 2015-07-09 | 2016-07-08 | 赤外線カットフィルタ、撮像装置、及び赤外線カットフィルタの製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020187034634A Division KR20180132163A (ko) | 2015-07-09 | 2016-07-08 | 적외선 컷 필터, 촬상 장치, 및 적외선 컷 필터의 제조 방법 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20170081217A KR20170081217A (ko) | 2017-07-11 |
| KR101927011B1 true KR101927011B1 (ko) | 2018-12-07 |
Family
ID=57685010
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020177015028A KR101927011B1 (ko) | 2015-07-09 | 2016-07-08 | 적외선 컷 필터, 촬상 장치, 및 적외선 컷 필터의 제조 방법 |
| KR1020187034634A KR20180132163A (ko) | 2015-07-09 | 2016-07-08 | 적외선 컷 필터, 촬상 장치, 및 적외선 컷 필터의 제조 방법 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020187034634A KR20180132163A (ko) | 2015-07-09 | 2016-07-08 | 적외선 컷 필터, 촬상 장치, 및 적외선 컷 필터의 제조 방법 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10830931B2 (ko) |
| JP (3) | JP6281023B2 (ko) |
| KR (2) | KR101927011B1 (ko) |
| CN (2) | CN110837144B (ko) |
| TW (3) | TWI709768B (ko) |
| WO (1) | WO2017006571A1 (ko) |
Families Citing this family (30)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106772746B (zh) * | 2016-12-26 | 2023-05-05 | 信阳舜宇光学有限公司 | 红外截止滤光片及其制备方法 |
| WO2018155050A1 (ja) * | 2017-02-24 | 2018-08-30 | 富士フイルム株式会社 | 近赤外線カットフィルタ、固体撮像素子、カメラモジュールおよび画像表示装置 |
| CN110462461B (zh) * | 2017-03-22 | 2021-12-31 | 日本板硝子株式会社 | 紫外线和红外线吸收性组合物以及紫外线和红外线吸收滤光片 |
| WO2018221424A1 (ja) * | 2017-05-29 | 2018-12-06 | Jsr株式会社 | 環境光センサー用光学フィルター |
| JP6267823B1 (ja) * | 2017-07-27 | 2018-01-24 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ、カメラモジュール、及び情報端末 |
| JP6232161B1 (ja) | 2017-07-27 | 2017-11-15 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ |
| WO2019054394A1 (ja) * | 2017-09-14 | 2019-03-21 | コニカミノルタ株式会社 | 近赤外線吸収性組成物、近赤外線吸収性膜及び固体撮像素子用イメージセンサー |
| JP6273063B1 (ja) * | 2017-10-03 | 2018-01-31 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ及び撮像装置 |
| JP6273064B1 (ja) * | 2017-10-03 | 2018-01-31 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ及び撮像装置 |
| JP6259155B1 (ja) * | 2017-10-03 | 2018-01-10 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ及び撮像装置 |
| JP6273062B1 (ja) * | 2017-10-03 | 2018-01-31 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ及び撮像装置 |
| JP6435033B1 (ja) * | 2017-10-20 | 2018-12-05 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ |
| JP6368417B1 (ja) * | 2017-10-20 | 2018-08-01 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ |
| US20200270455A1 (en) * | 2017-11-07 | 2020-08-27 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Light-absorbing composition and optical filter |
| US11550086B2 (en) | 2017-12-06 | 2023-01-10 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Optical filter and imaging apparatus |
| WO2019111965A1 (ja) * | 2017-12-07 | 2019-06-13 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ及び撮像装置 |
| JP6545780B2 (ja) * | 2017-12-22 | 2019-07-17 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ及びカメラ付き情報端末 |
| JP6368443B1 (ja) * | 2018-01-24 | 2018-08-01 | 日本板硝子株式会社 | Ｕｖ‐ｉｒ吸収性組成物 |
| JP6778222B2 (ja) * | 2018-01-24 | 2020-10-28 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ及びカメラモジュール |
| CN110927852A (zh) * | 2018-09-19 | 2020-03-27 | 张家港康得新光电材料有限公司 | 红外宽波段截止滤波器及其应用 |
| CN112789525B (zh) * | 2018-10-05 | 2023-06-27 | 日本板硝子株式会社 | 滤光器和光吸收性组合物 |
| JP7155855B2 (ja) * | 2018-10-18 | 2022-10-19 | Jsr株式会社 | 光学フィルターおよびその用途 |
| KR20200121579A (ko) | 2019-04-16 | 2020-10-26 | 삼성전자주식회사 | 근적외선 흡수 조성물, 광학 구조체, 및 이를 포함하는 카메라 모듈 및 전자 장치 |
| JP6634540B1 (ja) * | 2019-10-24 | 2020-01-22 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ、カメラモジュール、及び情報端末 |
| JP6634541B1 (ja) * | 2019-10-24 | 2020-01-22 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ、カメラモジュール、及び情報端末 |
| JP2020057009A (ja) * | 2019-12-16 | 2020-04-09 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ及びカメラ付き情報端末 |
| WO2021187430A1 (ja) * | 2020-03-16 | 2021-09-23 | 日東電工株式会社 | 光学フィルタ、その製造方法および光学モジュール |
| WO2022044286A1 (ja) * | 2020-08-28 | 2022-03-03 | Hoya株式会社 | 近赤外線カットフィルタ及びそれを備える撮像装置 |
| KR20230084169A (ko) | 2020-10-13 | 2023-06-12 | 니혼 이타가라스 가부시키가이샤 | 광학 필터, 광학 장치, 및 광흡수성 조성물 |
| CN114038343A (zh) * | 2021-07-20 | 2022-02-11 | 重庆康佳光电技术研究院有限公司 | 一种显示屏及终端 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005189641A (ja) | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Toyobo Co Ltd | 近赤外線吸収フィルムおよびその製造方法 |
| JP2007286159A (ja) | 2006-04-13 | 2007-11-01 | Mitsui Chemicals Inc | ディスプレイ用光学フィルターおよびそれを用いたプラズマディスプレイパネル |
| JP2009242650A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Kureha Corp | 銅塩組成物、並びに、これを用いた樹脂組成物、赤外吸収膜及び光学部材 |
| JP2014052482A (ja) * | 2012-09-06 | 2014-03-20 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 赤外線カットフィルタおよび撮像装置 |
| JP2014197170A (ja) * | 2013-02-14 | 2014-10-16 | 富士フイルム株式会社 | 赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キット、これを用いた赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法 |
Family Cites Families (25)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5433A (en) * | 1977-06-03 | 1979-01-05 | Sumitomo Chemical Co | Inorganic compositions for binding or coating |
| JP3933215B2 (ja) * | 1996-01-30 | 2007-06-20 | 株式会社クレハ | 熱線吸収性複合体 |
| JP2000235115A (ja) * | 1999-02-15 | 2000-08-29 | Toray Ind Inc | プラズマディスプレイ用前面フィルター |
| JP2000248210A (ja) * | 1999-02-25 | 2000-09-12 | Kureha Chem Ind Co Ltd | 熱線吸収性コーティング剤及び熱線吸収性複合体並びに熱線吸収性粘着剤 |
| JP2001042230A (ja) | 1999-07-27 | 2001-02-16 | Olympus Optical Co Ltd | 撮像光学系 |
| JP4422866B2 (ja) * | 1999-09-16 | 2010-02-24 | 株式会社クレハ | 光学フィルタ及びその製造方法 |
| JP2001272633A (ja) * | 2000-03-23 | 2001-10-05 | Daishinku Corp | 光学ローパスフィルタ及び光学ローパスフィルタ用赤外線カット手段 |
| US7332257B2 (en) | 2003-07-11 | 2008-02-19 | Asahi Glass Company, Limited | Composition for optical film, and optical film |
| JP2008165215A (ja) | 2003-07-16 | 2008-07-17 | Asahi Glass Co Ltd | 光学フィルム及びプラズマディスプレイ用光学フィルタ |
| SI1790701T2 (sl) * | 2005-11-25 | 2012-05-31 | Sicpa Holding Sa | Ir absorbirajoča tiskarska barva za intaglio |
| TWI438953B (zh) * | 2008-01-30 | 2014-05-21 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | 電子組件之製造方法及電子組件 |
| WO2009123016A1 (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-08 | 株式会社クレハ | ホスホン酸銅化合物、並びにこれを含む赤外吸収材料及び積層体 |
| JP5611631B2 (ja) | 2010-03-25 | 2014-10-22 | 株式会社クレハ | 近赤外線吸収フィルターおよびその製造方法 |
| JP5013022B2 (ja) | 2010-06-18 | 2012-08-29 | 株式会社大真空 | 赤外線カットフィルタ |
| KR101931072B1 (ko) * | 2011-06-06 | 2018-12-19 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 광학 필터, 고체 촬상 소자, 촬상 장치용 렌즈 및 촬상 장치 |
| KR101483386B1 (ko) * | 2011-10-24 | 2015-01-14 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 광학 필터와 그의 제조 방법, 및 촬상 장치 |
| JP6233308B2 (ja) * | 2012-08-23 | 2017-11-22 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線カットフィルタおよび固体撮像装置 |
| JP6302650B2 (ja) * | 2012-11-30 | 2018-03-28 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性樹脂組成物、これを用いた、色素含有層の形成方法、イメージセンサチップの製造方法及びイメージセンサチップ |
| JP2014184688A (ja) * | 2013-03-25 | 2014-10-02 | Fujifilm Corp | 熱線遮蔽材ならびに熱線遮蔽材を用いた窓ガラス、合わせガラス用中間膜および合わせガラス |
| JP6247033B2 (ja) * | 2013-07-02 | 2017-12-13 | 光伸光学工業株式会社 | Ｉｒカットフィルタ |
| JP2016014846A (ja) * | 2013-07-12 | 2016-01-28 | 富士フイルム株式会社 | 近赤外線カットフィルタの製造方法および固体撮像素子 |
| JP6180379B2 (ja) * | 2013-07-12 | 2017-08-16 | 富士フイルム株式会社 | 近赤外線吸収性組成物、近赤外線カットフィルタおよびその製造方法、ならびに固体撮像素子 |
| KR101497112B1 (ko) * | 2013-07-18 | 2015-03-03 | 이태훈 | 열선 차폐 필름용 조성물, 이를 이용하여 제조된 열선 차폐 필름 및 열선 차폐 필름의 제조 방법 |
| CN107077046A (zh) * | 2014-10-20 | 2017-08-18 | 肖特玻璃科技(苏州)有限公司 | 用于相机模块的光学***、具有光学***的相机模块和制造光学***的方法 |
| WO2016158818A1 (ja) * | 2015-03-31 | 2016-10-06 | 富士フイルム株式会社 | 赤外線カットフィルタ、キット、および固体撮像素子 |
-
2016
- 2016-07-08 WO PCT/JP2016/003254 patent/WO2017006571A1/ja active Application Filing
- 2016-07-08 CN CN201911123938.1A patent/CN110837144B/zh active Active
- 2016-07-08 JP JP2017517813A patent/JP6281023B2/ja active Active
- 2016-07-08 KR KR1020177015028A patent/KR101927011B1/ko active IP Right Grant
- 2016-07-08 CN CN201680003708.XA patent/CN107076896B/zh active Active
- 2016-07-08 KR KR1020187034634A patent/KR20180132163A/ko active Application Filing
- 2016-07-08 US US15/542,017 patent/US10830931B2/en active Active
- 2016-07-11 TW TW109106937A patent/TWI709768B/zh active
- 2016-07-11 TW TW105121730A patent/TWI670527B/zh active
- 2016-07-11 TW TW108127153A patent/TWI690737B/zh active
-
2018
- 2018-01-22 JP JP2018007798A patent/JP6619828B2/ja active Active
-
2019
- 2019-11-15 JP JP2019207160A patent/JP6823143B2/ja active Active
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005189641A (ja) | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Toyobo Co Ltd | 近赤外線吸収フィルムおよびその製造方法 |
| JP2007286159A (ja) | 2006-04-13 | 2007-11-01 | Mitsui Chemicals Inc | ディスプレイ用光学フィルターおよびそれを用いたプラズマディスプレイパネル |
| JP2009242650A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Kureha Corp | 銅塩組成物、並びに、これを用いた樹脂組成物、赤外吸収膜及び光学部材 |
| JP2014052482A (ja) * | 2012-09-06 | 2014-03-20 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 赤外線カットフィルタおよび撮像装置 |
| JP2014197170A (ja) * | 2013-02-14 | 2014-10-16 | 富士フイルム株式会社 | 赤外線吸収組成物ないしは赤外線吸収組成物キット、これを用いた赤外線カットフィルタ及びその製造方法、並びに、カメラモジュール及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN110837144A (zh) | 2020-02-25 |
| JP6823143B2 (ja) | 2021-01-27 |
| JPWO2017006571A1 (ja) | 2017-07-13 |
| CN107076896A (zh) | 2017-08-18 |
| CN110837144B (zh) | 2022-06-03 |
| TW202024682A (zh) | 2020-07-01 |
| CN107076896B (zh) | 2019-12-10 |
| WO2017006571A1 (ja) | 2017-01-12 |
| JP2018060236A (ja) | 2018-04-12 |
| JP2020042289A (ja) | 2020-03-19 |
| KR20180132163A (ko) | 2018-12-11 |
| JP6619828B2 (ja) | 2019-12-11 |
| US20180003872A1 (en) | 2018-01-04 |
| TW201940903A (zh) | 2019-10-16 |
| TWI670527B (zh) | 2019-09-01 |
| TWI690737B (zh) | 2020-04-11 |
| TW201716808A (zh) | 2017-05-16 |
| US10830931B2 (en) | 2020-11-10 |
| TWI709768B (zh) | 2020-11-11 |
| JP6281023B2 (ja) | 2018-02-14 |
| KR20170081217A (ko) | 2017-07-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101927011B1 (ko) | 적외선 컷 필터, 촬상 장치, 및 적외선 컷 필터의 제조 방법 | |
| JP6695887B2 (ja) | 赤外線吸収層用組成物、赤外線カットフィルタ、及び撮像装置 | |
| US10809427B2 (en) | Infrared-absorbing composition, infrared-cut filter, and imaging optical system | |
| TW201831928A (zh) | 光吸收性組成物及濾光器 | |
| CN113795559B (zh) | 光吸收性组合物、光吸收膜以及滤光器 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
| GRNT | Written decision to grant |