KR101931072B1 - 광학 필터, 고체 촬상 소자, 촬상 장치용 렌즈 및 촬상 장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 특정한 근적외선 흡수 색소를, 굴절률이 1.54 이상인 투명 수지에 분산시켜서 이루어지는 근적외선 흡수층을 구비하는 광학 필터, 고체 촬상 소자 및 촬상 장치용 렌즈에 관한 것이다. 또한, 당해 고체 촬상 소자 또는 촬상 장치용 렌즈를 구비하는 촬상 장치에 관한 것이기도 하다. 상기 근적외선 흡수층은, 450 내지 600nm의 가시광의 투과율이 70% 이상이며, 695 내지 720nm의 파장 영역에서의 광의 투과율이 10% 이하이며, 또한 투과율의 변화량이 -0.8 이하다.
Description
본 발명은 근적외선 차폐 효과를 갖는 광학 필터, 고체 촬상 소자 및 촬상 장치용 렌즈에 관한 것이며, 또한, 그것들을 사용한 촬상 장치에 관한 것이다.
최근 들어, 다양한 용도에, 가시 파장 영역의 광은 충분히 투과하지만, 근적외 파장 영역의 광은 차폐하는 광학 필터가 사용되고 있다.
예를 들어, 고체 촬상 소자(CCD, CMOS 등)를 사용한 디지털 스틸 카메라, 디지털 비디오 등의 촬상 장치나, 수광 소자를 사용한 자동 노출계 등의 표시 장치에서는, 고체 촬상 소자 또는 수광 소자의 감도를 인간의 시감도에 근접시키기 위해서, 촬상 렌즈와 고체 촬상 소자 또는 수광 소자의 사이에 그러한 광학 필터를 배치하고 있다. 또한, PDP(플라즈마 디스플레이 패널)에서는, 근적외선으로 작동하는 가전 제품용 리모콘 장치의 오작동을 방지하기 위해서, 전방면(시인측)에 광학 필터를 배치하고 있다.
이들 중에서도 촬상 장치용의 광학 필터로서는, 근적외 파장 영역의 광을 선택적으로 흡수하도록, 불소인산염계 유리나, 인산염계 유리에 CuO 등을 첨가한 유리 필터가 알려져 있지만, 광 흡수형의 유리 필터는, 고가인데다가 박형화가 곤란해서, 최근의 촬상 장치의 소형화·박형화 요구에 충분히 부응할 수 없다는 문제가 있었다.
따라서, 상기 문제를 해결하고자, 기판 위에, 예를 들어 산화 실리콘(SiO2)층과 산화티타늄(TiO2)층을 교대로 적층하여, 광의 간섭에 의해 근적외 파장 영역의 광을 반사하여 차폐하는 반사형의 간섭 필터, 투명 수지 중에 근적외 파장 영역의 광을 흡수하는 색소를 함유시킨 필름 등이 개발되어 있다(예를 들어, 특허문헌 1 참조). 또한, 이들을 조합한 근적외선을 흡수하는 색소를 함유하는 수지층과 근적외선을 반사하는 층을 적층한 광학 필터도 개발되어 있다(예를 들어, 특허문헌 2 참조). 또한, 근적외선을 흡수하는 색소를 함유하는 수지층에 대해서는, 예를 들어 특허문헌 3에 기재되어 있다.
그러나, 이들 종래의 촬상 장치용의 광학 필터에서는, 근적외 영역의 파장의 광을 차폐하는 성능이나, 암부를 보다 밝게 촬영하기 위해서 요구되는 파장대(630 내지 700nm)의 투과성이 충분하지 않고, 또한, 고체 촬상 소자의 기능을 저해시키지 않는다는 층 형성상의 제약도 있기 때문에, 충분한 근적외선 커트 필터 기능을 갖는 광학 필터를 얻을 수 없는 것이 현 실정이다.
한편, 700 내지 750nm 부근에 최대 흡수 파장을 나타내고, 파장 630 내지 700nm의 광의 흡수 곡선의 경사가 급준한 근적외선 흡수 색소는, 다른 차폐 성분이나 차폐 부재와 조합하여 사용함으로써, 양호한 근적외선 차폐 특성이 얻어진다고 하여, 이것을 투명 수지, 예를 들어 시클로올레핀 수지에 분산시킨 수지층으로서 근적외선 커트 필터에 사용되고 있다. 그러나, 이러한 근적외선 흡수 색소는, 근적외선 흡수 파장 영역이 좁고, 다른 차폐 부재와 조합해도 흡수가 충분하지 않은 파장 영역이 출현하는 경우가 많아 문제였다.
본 발명은 근적외선 흡수 색소를 효과적으로 사용한, 단독으로 또는 다른 선택 파장 차폐 부재와 조합하여 사용했을 때, 근적외선 차폐 특성이 우수함과 함께, 충분한 소형화, 박형화가 가능한 광학 필터의 제공을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 단독으로 또는 다른 선택 파장 차폐 부재와 조합하여 사용했을 때, 양호한 근적외선 차폐 특성을 가짐과 함께, 촬상 장치가 충분한 소형화, 박형화, 저비용화를 이룰 수 있는 고체 촬상 소자, 촬상 장치용 렌즈 및 근적외선 차폐 특성을 갖는 촬상 장치의 제공을 목적으로 한다.
본 발명의 일 형태에 의하면, 근적외선 흡수 색소(A)를 투명 수지(B)에 분산시켜서 이루어지는 근적외선 흡수층을 구비하는 광학 필터이며,
상기 근적외선 흡수 색소(A)는, 굴절률(n20d)이 1.500 미만인 색소용 용매에 용해하여 측정되는 파장 영역 400 내지 1000nm의 광의 흡수 스펙트럼에 있어서, 피크 파장이 695 내지 720nm의 영역에 있고, 반치 전폭이 60nm 이하며, 또한 상기 피크 파장에서의 흡광도를 1로 해서 산출되는 630nm에서의 흡광도와 상기 피크 파장에서의 흡광도의 차를, 630nm와 상기 피크 파장의 파장 차로 나눈 값이 0.010 내지 0.050인 최대 흡수 피크를 갖는 근적외선 흡수 색소(A1)을 함유하고,
상기 투명 수지(B)는 굴절률(n20d)이 1.54 이상이며,
상기 근적외선 흡수층은, 450 내지 600nm의 가시광의 투과율이 70% 이상이며, 695 내지 720nm의 파장 영역에서의 광의 투과율이 10% 이하며, 또한 하기식 (1)로 표현되는 투과율의 변화량(D)이 -0.8 이하인 광학 필터가 제공된다.
D(%/nm)=[T700(%)-T630(%)]/[700(nm)-630(nm)] … (1)
식 (1) 중, T700은, 상기 근적외선 흡수층의 투과 스펙트럼에서의 파장 700nm의 투과율이며, T630은, 상기 근적외선 흡수층의 투과 스펙트럼에서의 파장 630nm의 투과율이다.
또한, 굴절률(n20d)이란, 20℃에서 파장 589nm의 광선을 사용하여 측정되는 굴절률을 말한다. 여기서 사용하는 색소용 용매란, 실온 부근에서 색소를 충분히 용해시켜 흡광도를 측정할 수 있는 용매를 말한다.
상기 근적외선 흡수 색소(A1)은, 상기 흡수 스펙트럼에 있어서 700 내지 720nm의 영역에 피크 파장을 나타내는 최대 흡수 피크를 갖는 색소이면 되며, 상기 근적외선 흡수층은, 상기 식 (1)로 표현되는 투과율의 변화량(D)이 -0.86 이하면 된다.
상기 근적외선 흡수 색소(A1)은, 하기 화학식 (F1)로 표시되는 스쿠아릴륨계 화합물에서 선택되는 적어도 1종으로 이루어져도 된다.
단, 식 (F1) 중의 기호는 이하와 같다.
R1 및 R2는 서로 연결하여 질소 원자와 함께 5원환 또는 6원환의 환 구성 원자로서 산소 원자를 포함할 수 있는 복소환(환 A)을 형성하거나, R2 및 R5는 서로 연결하여 질소 원자와 함께 5원환 또는 6원환의 환 구성 원자로서 산소 원자를 포함할 수 있는 복소환(환 B)을 형성한다. 복소환을 형성하지 않은 경우의, R1 및 R5는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자, 브롬 원자, 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 치환기를 가질 수 있는 알릴기, 치환기를 가질 수 있는 탄소수 6 내지 10의 아릴기 또는 치환기를 가질 수 있는 탄소수 7 내지 11의 아르아릴기를 나타낸다. 알킬기는, 직쇄상, 분지쇄상, 환상 중 어느 것이어도 된다.
R4 및 R6은, 각각 독립적으로, 수소 원자, -NR7R8(R7 및 R8은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1 내지 20의 알킬기 또는 -C(=O)-R9(R9는, 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 20의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 10의 아릴기))을 나타낸다.
R3은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타낸다.
상기 근적외선 흡수 색소(A)는 또한, 굴절률(n20d)이 1.500 미만인 색소용 용매에 용해하여 측정되는 파장 영역 400 내지 1000nm의 광의 흡수 스펙트럼에 있어서, 피크 파장이 720nm 초과 800nm 이하의 영역에 있고, 반치 전폭이 100nm 이하인 최대 흡수 피크를 갖는 근적외선 흡수 색소(A2)를 함유해도 된다.
상기 근적외선 흡수 색소(A2)는 하기 화학식 (F2)로 표시되는 시아닌계 화합물에서 선택되는 적어도 1종으로 이루어져도 된다.
단, 식 (F2) 중의 기호는 이하와 같다.
R11은, 각각 독립적으로, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 알콕시기, 알킬 술폰기 또는 그의 음이온 종을 나타낸다.
R12 및 R13은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 20의 알킬기를 나타낸다.
Z는, PF6, ClO4, Rf-SO2, (Rf-SO2)2-N(Rf는 적어도 1개의 불소 원자로 치환된 알킬기를 나타냄) 또는 BF4를 나타낸다.
R14, R15, R16 및 R17은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타낸다.
n은 1 내지 6의 정수를 나타낸다.
상기 투명 수지(B)는, 아크릴계 수지, 에폭시계 수지, 엔·티올계 수지, 폴리카르보네이트계 수지 및 폴리에스테르계 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함해도 된다. 또한, 상기 "아크릴계 수지"라는 용어는, 아크릴 수지 외에도 아크릴 수지가 변성된 수지 등의 아크릴 수지류의 수지를 포함하는 것으로서 사용된다. 그 밖의 수지에 대해서도 마찬가지이다.
상기 근적외선 흡수층에서의, 상기 근적외선 흡수 색소(A)의 전량에 대한 상기 근적외선 흡수 색소(A1)의 비율은 3 내지 100질량%의 범위가 되어도 좋고, 상기 투명 수지(B) 100질량부에 대한 상기 근적외선 흡수 색소(A)의 비율은 0.05 내지 5질량부이어도 좋다.
상기 근적외선 흡수층의 막 두께는, 0.1 내지 100㎛이면 된다.
상기 광학 필터는, 상기 근적외선 흡수층의 편측 또는 양측에, 420 내지 695nm의 가시광을 투과하고 710 내지 1100nm의 파장 영역의 광을 차폐하는 선택 파장 차폐층을 더 구비해도 된다.
상기 광학 필터가 갖는 선택 파장 차폐층은, 저굴절률의 유전체막과 고굴절률의 유전체막을 교대로 적층한 유전체 다층막을 포함하여 이루어져도 된다.
이러한 선택 파장 차폐층을 구비하는 상기 광학 필터는, 420 내지 620nm의 가시광의 투과율이 70% 이상이며, 710 내지 860nm의 파장 영역에서의 광의 투과율이 0.3% 이하며, 또한 하기식 (2)로 표현되는 투과율의 변화량(Df)이 -0.8 이하의 광학 필터이면 된다.
Df(%/nm)=[Tf700(%)-Tf630(%)]/[700(nm)-630(nm)] … (2)
식 (2) 중, Tf700은, 상기 광학 필터의 투과 스펙트럼에서의 파장 700nm의 투과율이며, Tf630은, 상기 광학 필터의 투과 스펙트럼에서의 파장 630nm의 투과율이다.
본 발명의 다른 형태에 의하면, 광전 변환 소자와, 상기 광전 변환 소자 상에 설치된, 근적외선 흡수 색소(A)를 투명 수지(B)에 분산시켜서 이루어지는 근적외선 흡수층을 구비하는 고체 촬상 소자이며,
상기 근적외선 흡수 색소(A)는 굴절률(n20d)이 1.500 미만인 색소용 용매에 용해하여 측정되는 파장 영역 400 내지 1000nm의 광의 흡수 스펙트럼에 있어서, 피크 파장이 695 내지 720nm의 영역에 있고, 반치 전폭이 60nm 이하며, 또한 상기 피크 파장에서의 흡광도를 1로 해서 산출되는 630nm에서의 흡광도와 상기 피크 파장에서의 흡광도의 차를, 630nm와 상기 피크 파장의 파장 차로 나눈 값이 0.010 내지 0.050인 최대 흡수 피크를 갖는 근적외선 흡수 색소(A1)을 함유하고,
상기 투명 수지(B)는 굴절률(n20d)이 1.54 이상이며,
상기 근적외선 흡수층은, 450 내지 600nm의 가시광의 투과율이 70% 이상이며, 695 내지 720nm의 파장 영역에서의 광의 투과율이 10% 이하며, 또한 상기 식 (1)로 표현되는 투과율의 변화량(D)이 -0.8 이하인 고체 촬상 소자가 제공된다.
상기 고체 촬상 소자는, 광전 변환 소자 위에, 차광층, 평탄화층, 컬러 필터층 및 마이크로렌즈에서 선택되는 적어도 하나를 더 구비해도 된다.
상기 고체 촬상 소자는, 상기 근적외선 흡수층의 편측 또는 양측에, 420 내지 695nm의 가시광을 투과하고 710 내지 1100nm의 파장 영역의 광을 차폐하는 선택 파장 차폐층을 더 구비해도 된다.
상기 고체 촬상 소자가 갖는 선택 파장 차폐층은, 저굴절률의 유전체막과 고굴절률의 유전체막을 교대로 적층한 유전체 다층막을 포함하여 이루어져도 좋다.
본 발명의 다른 형태에 의하면, 근적외선 흡수 색소(A)를 투명 수지(B)에 분산시켜서 이루어지는 근적외선 흡수층을 구비하는 촬상 장치용 렌즈이며,
상기 근적외선 흡수 색소(A)는 굴절률(n20d)이 1.500 미만인 색소용 용매에 용해하여 측정되는 파장 영역 400 내지 1000nm의 광의 흡수 스펙트럼에 있어서, 피크 파장이 695 내지 720nm의 영역에 있고, 반치 전폭이 60nm 이하며, 또한 상기 피크 파장에서의 흡광도를 1로 해서 산출되는 630nm에서의 흡광도와 상기 피크 파장에서의 흡광도의 차를, 630nm와 상기 피크 파장의 파장 차로 나눈 값이 0.010 내지 0.050인 최대 흡수 피크를 갖는 근적외선 흡수 색소(A1)을 함유하고,
상기 투명 수지(B)는 굴절률(n20d)이 1.54 이상이며,
상기 근적외선 흡수층은, 450 내지 600nm의 가시광의 투과율이 70% 이상이며, 695 내지 720nm의 파장 영역에서의 광의 투과율이 10% 이하며, 또한 상기 식 (1)로 표현되는 투과율의 변화량(D)이 -0.8 이하인 촬상 장치용 렌즈가 제공된다.
상기 근적외선 흡수층은, 렌즈 본체 중 적어도 한쪽 면에 형성된 층이면 된다.
상기 촬상 장치용 렌즈는, 상기 근적외선 흡수층의 편측 또는 양측에, 420 내지 695nm의 가시광을 투과하고 710 내지 1100nm의 파장 영역의 광을 차폐하는 선택 파장 차폐층을 더 구비해도 된다.
상기 촬상 장치용 렌즈가 갖는 선택 파장 차폐층은, 저굴절률의 유전체막과 고굴절률의 유전체막을 교대로 적층한 유전체 다층막을 포함하여 이루어져도 좋다.
본 발명의 다른 형태에 의하면, 상기 고체 촬상 소자를 구비하는, 촬상 장치가 제공된다.
본 발명의 다른 형태에 의하면, 상기 촬상 장치용 렌즈를 구비하는 촬상 장치가 제공된다.
여기서, 본 명세서에서, 특별히 언급하지 않는 한, 광을 투과한다는 것은, 그 파장에서의 광의 투과율이 85% 이상인 것을 말한다. 또한, 광을 차폐한다는 것은, 그 파장에서의 광의 투과율이 5% 이하인 것을 말한다. 또한, 광을 반사한다는 것은, 광을 차폐하는 것과 마찬가지로, 그 파장에서의 광의 투과율이 5% 이하인 것을 말한다. 또한, 특정한 파장 영역의 투과율에 대해서, 투과율이 예를 들어 85% 이상이란, 그 파장 영역의 전 파장에 있어서 투과율이 85%를 하회하지 않는 것을 말하고, 마찬가지로 투과율이 예를 들어 5% 이하란, 그 파장 영역의 전 파장에 있어서 투과율이 5%를 초과하지 않는 것을 말한다.
본 발명에 따르면, 단독으로 또는 다른 선택 파장 차폐 부재와 조합하여 사용했을 때에, 양호한 근적외선 차폐 기능을 갖고, 또한 촬상 장치가 충분한 소형화, 박형화, 저비용화를 이룰 수 있는, 광학 필터, 고체 촬상 소자 및 렌즈, 및 이들을 사용한 촬상 장치를 얻을 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시 형태에 따른 광학 필터를 개략적으로 도시하는 단면도이다.
도 2는 본 발명의 실시 형태의 광학 필터를 사용한 촬상 장치의 일례를 도시하는 단면도이다.
도 3은 본 발명의 실시 형태에 따른 고체 촬상 소자의 일례를 도시하는 단면도이다.
도 4는 본 발명의 실시 형태의 고체 촬상 소자의 변형예를 도시하는 단면도이다.
도 5는 본 발명의 실시 형태에 따른 촬상 장치용 렌즈의 일례를 도시하는 단면도이다.
도 6은 본 발명의 실시 형태에 따른 촬상 장치용 렌즈의 변형예를 도시하는 단면도이다.
도 7은 본 발명의 실시 형태의 고체 촬상 소자를 사용한 촬상 장치의 일례를 도시하는 단면도이다.
도 8은 본 발명의 실시 형태에 따른 근적외선 흡수층과 조합하여 사용하는 선택 파장 차폐층의 투과 스펙트럼을 도시하는 도면이다.
도 9는 본 발명의 실시예와 비교예에서의 근적외선 흡수층의 투과 스펙트럼을 도시하는 도면이다.
도 10은 본 발명의 실시예와 비교예의 투과 스펙트럼을 도시하는 도면이다.
도 11은 도 10의 투과 스펙트럼의 근적외 파장 영역을 확대하여 도시하는 도면이다.
도 2는 본 발명의 실시 형태의 광학 필터를 사용한 촬상 장치의 일례를 도시하는 단면도이다.
도 3은 본 발명의 실시 형태에 따른 고체 촬상 소자의 일례를 도시하는 단면도이다.
도 4는 본 발명의 실시 형태의 고체 촬상 소자의 변형예를 도시하는 단면도이다.
도 5는 본 발명의 실시 형태에 따른 촬상 장치용 렌즈의 일례를 도시하는 단면도이다.
도 6은 본 발명의 실시 형태에 따른 촬상 장치용 렌즈의 변형예를 도시하는 단면도이다.
도 7은 본 발명의 실시 형태의 고체 촬상 소자를 사용한 촬상 장치의 일례를 도시하는 단면도이다.
도 8은 본 발명의 실시 형태에 따른 근적외선 흡수층과 조합하여 사용하는 선택 파장 차폐층의 투과 스펙트럼을 도시하는 도면이다.
도 9는 본 발명의 실시예와 비교예에서의 근적외선 흡수층의 투과 스펙트럼을 도시하는 도면이다.
도 10은 본 발명의 실시예와 비교예의 투과 스펙트럼을 도시하는 도면이다.
도 11은 도 10의 투과 스펙트럼의 근적외 파장 영역을 확대하여 도시하는 도면이다.
이하, 본 발명의 실시 형태를 상세하게 설명한다.
(제1 실시 형태)
본 실시 형태는, 하기 근적외선 흡수 색소(A)를 굴절률(n20d)이 1.54 이상인 투명 수지(B)에 분산시켜서 이루어지는 근적외선 흡수층이며, 450 내지 600nm의 가시광의 투과율이 70% 이상이고, 695 내지 720nm의 파장 영역에서의 광의 투과율이 10% 이하며, 또한 상기 식 (1)로 표현되는 투과율의 변화량(D)이 -0.8 이하인 근적외선 흡수층을 구비하는 광학 필터에 관한 것이다. 또한, 본 명세서에서 굴절률은, 특별히 언급하지 않는 한 굴절률(n20d)을 말한다.
본 실시 형태에 사용되는 근적외선 흡수 색소(A)는 굴절률이 1.500 미만인 색소용 용매에 용해하여 측정되는 파장 영역 400 내지 1000nm의 광의 흡수 스펙트럼에 있어서, 피크 파장이 695 내지 720nm의 영역에 있고, 반치 전폭이 60nm 이하며, 또한 상기 피크 파장에서의 흡광도를 1로 해서 산출되는 630nm에서의 흡광도와 상기 피크 파장에서의 흡광도의 차를, 630nm와 상기 피크 파장의 파장 차로 나눈 값이 0.010 내지 0.050인 최대 흡수 피크를 갖는 근적외선 흡수 색소(A1)을 함유한다.
본 명세서에서, 근적외선 흡수 색소를 NIR 흡수 색소라고도 말한다. 또한, NIR 흡수 색소(A1)을 상기 미리 정해진 색소용 용매에 최대 흡수 피크의 피크 파장에서의 흡광도가 1이 되는 농도로 용해하여 측정되는 파장 영역 400 내지 1000nm의 광의 흡수 스펙트럼을, 간단히 NIR 흡수 색소(A1)의 흡수 스펙트럼이라고 한다. 또한, NIR 흡수 색소(A1)의 흡수 스펙트럼에서의 최대 흡수 피크의 피크 파장을 NIR 흡수 색소(A1)의 λmax 또는, λmax(A1)이라고 한다. NIR 흡수 색소(A1) 이외의 NIR 흡수 색소(A)에 대해서도 마찬가지이다.
NIR 흡수 색소(A1)의 흡수 스펙트럼에서의 최대 흡수 피크의 피크 파장인 λmax(A1)에서의 흡광도를 1로 해서 산출되는 630nm에서의 흡광도(Ab630)와 λmax(A1)에서의 흡광도의 차를, 630nm와 λmax(A1)의 파장 차로 나눈 값을, 이하, "흡수 스펙트럼 기울기"라고 한다. NIR 흡수 색소(A1) 이외의 NIR 흡수 색소(A)에 대해서도 마찬가지이다. 또한, 흡수 스펙트럼 기울기를 식으로 나타내면 이하와 같다.
흡수 스펙트럼 기울기=(1-Ab630)/(λmax(A1)-630)
또한, 근적외선 흡수층에서의 상기 식 (1)로 표현되는 투과율의 변화량(D)을, 간단히 투과율의 변화량(D)이라고도 한다.
NIR 흡수 색소(A)의 흡수 스펙트럼을 측정하기 위해 사용하는 색소용 용매로서는, 굴절률이 1.500 미만이고, 측정되는 NIR 흡수 색소(A)에 대하여 규정의 색소용 용매이면 특별히 제한되지 않는다. NIR 흡수 색소(A)의 종류에 따라 다르지만, 구체적으로는, 메탄올, 에탄올 등의 알코올류, 아세톤 등의 케톤계 용매, 디클로로메탄 등의 할로겐계 용매, 톨루엔 등의 방향족 용매, 시클로헥사논 등의 지환족 용매를 들 수 있다.
NIR 흡수 색소(A1)의 흡수 스펙트럼의 최대 흡수 피크에서의 λmax는, 695 내지 720nm의 영역에 있는데, 700 내지 720nm에 있는 것이 바람직하다. NIR 흡수 색소(A1)의 흡수 스펙트럼의 최대 흡수 피크에서의 반치 전폭은 60nm 이하이지만, 50nm 이하가 바람직하고, 35nm 이하가 보다 바람직하다. NIR 흡수 색소(A1)의 흡수 스펙트럼의 최대 흡수 피크에서의 흡수 스펙트럼 기울기는, 0.010 내지 0.050인데, 0.010 내지 0.030이 바람직하고, 0.010 내지 0.014가 보다 바람직하다.
또한, NIR 흡수 색소(A1)로서는, 그 흡수 스펙트럼이 상기 특징을 갖는 것 이외에, 그 흡수 스펙트럼에 있어서, 상기 최대 흡수 피크 이외에 반치 전폭이 100nm 이하인, 형상이 샤프한 흡수 피크를 갖지 않는 것이 바람직하다. NIR 흡수 색소(A1)의 상기 흡광 특성은, 근적외선 커트 필터에 요구되는 파장 630 내지 700nm 부근의 사이에서 급준하게 흡광도가 변화하는 광학 특성에 합치한다.
본 실시 형태의 광학 필터에서는, NIR 흡수 색소(A1)을 포함하는 NIR 흡수 색소(A)를 사용하고, 이것을 후술하는 투명 수지(B)에 분산시켜서, 근적외선 흡수층을 형성함으로써, 상기 근적외선 흡수층의 상기 흡광 특성, 즉, 450 내지 600nm의 가시광의 투과율이 70% 이상이며, 695 내지 720nm의 파장 영역에서의 광의 투과율이 10% 이하며, 또한 투과율의 변화량(D)이 -0.8 이하인 흡광 특성을 달성하고 있다.
즉, NIR 흡수 색소(A)는 근적외선 흡수층에서의 450 내지 600nm의 가시 파장 대역을 고투과로 하고, 695 내지 720nm의 근적외 파장 대역을 저투과(차광)로 하고, 그 경계 영역을 급준하게 하는 작용을 갖는다. NIR 흡수 색소(A)의 이 작용은, NIR 흡수 색소(A1)에 의해 실현된다. 그 때문에, NIR 흡수 색소(A)는 실질적으로 NIR 흡수 색소(A1)의 λmax(A1)의 최소값인 695nm보다 단파장측에 λmax를 갖는 NIR 흡수 색소(A)를 함유하지 않는다. 이 관점에서, NIR 흡수 색소(A)는 NIR 흡수 색소(A1)만으로 구성되어도 된다.
그러나, 본 실시 형태의 광학 필터에서는, 근적외 파장 영역의 투과율을 광범위하게 억제하는 것이 바람직하고, 그 때문에, 바람직한 형태로서, 상기 근적외선 흡수층과, 예를 들어 저굴절률의 유전체막과 고굴절률의 유전체막을 교대로 적층한 유전체 다층막을 포함하여 이루어지는 선택 파장 차폐층이 조합되어 사용되는 경우가 있다.
그런데, 유전체 다층막 등을 포함하여 이루어지는 선택 파장 차폐층은, 시선 각도에 따라 분광 스펙트럼이 변동하는 것으로 알려져 있다. 이로 인해, 광학 필터의 실사용에 있어서는, 근적외선 흡수층과 선택 파장 차폐층의 조합에 있어서, 이러한 분광 스펙트럼의 변동을 배려할 필요가 있다. 이러한 선택 파장 차폐층과의 조합을 고려하면, 근적외선 흡수층은 상기 흡광 특성을 갖는 한, 또한 장파장 영역의 광을 차광하는 것이 바람직하고, 그 때문에, NIR 흡수 색소(A)는 그 흡수 스펙트럼에 있어서, NIR 흡수 색소(A1)의 λmax(A1)의 최대값인 720nm를 초과하고 800nm 이하의 파장 영역에 피크 파장이 있고 반치 전폭이 100nm 이하인 최대 흡수 피크를 갖는 NIR 흡수 색소(A2)를 함유하는 것이 바람직하다.
즉, NIR 흡수 색소(A)는, 이것을 함유하는 근적외선 흡수층에, 가시 파장 대역과 근적외 파장 대역의 경계 영역에서 광의 흡수 곡선의 경사를 급준하게 하는 작용이 요구되고, 더욱 바람직하게는, 근적외 파장 대역의 장파장측까지 충분히 흡광하는 성질을 부여할 것이 요구된다. 따라서, NIR 흡수 색소(A)로서는, 근적외선 흡수층에 있어서 가시 파장 대역과 근적외 파장 대역의 경계 영역에서 광의 흡수 곡선의 경사가 급준하게 되도록, NIR 흡수 색소(A1)을 사용하고, 더욱 바람직하게는 근적외 파장 대역의 장파장측까지 충분히 흡광시키기 위해서, NIR 흡수 색소(A1) 외에 NIR 흡수 색소(A2)를 조합하여 사용한다.
NIR 흡수 색소(A2)의 흡수 스펙트럼의 최대 흡수 피크에서의 λmax(λmax(A2))는 720nm를 초과하고 800nm 이하의 영역에 있지만, 720nm를 초과하고 760nm에 있는 것이 바람직하다. NIR 흡수 색소(A2)의 흡수 스펙트럼의 최대 흡수 피크에서의 반치 전폭은 100nm 이하며 60nm 이하가 바람직하다. 반치 전폭의 하한으로서는 30nm가 바람직하고, 40nm가 보다 바람직하다. NIR 흡수 색소(A2)의 흡수 스펙트럼의 최대 흡수 피크에서의 흡수 스펙트럼 기울기는, 0.007 내지 0.011이 바람직하고, 0.008 내지 0.010이 보다 바람직하다.
또한, NIR 흡수 색소(A2)로서는, 그 흡수 스펙트럼이 상기 특징을 갖는 것 이외에, 그 흡수 스펙트럼에 있어서, 상기 최대 흡수 피크 이외에 반치 전폭이 100nm 이하의, 형상이 샤프한 흡수 피크를 갖지 않는 것이 바람직하다.
이하, 이러한 NIR 흡수 색소(A1) 및 NIR 흡수 색소(A2) 각각에 대하여 설명하고, 계속해서 이것들을 포함하는 NIR 흡수 색소(A)에 대하여 설명한다.
(NIR 흡수 색소(A1))
NIR 흡수 색소(A1)로서는, 상기 흡광 특성을 갖는 화합물이면, 특별히 제한되지 않는다. 일반적으로 NIR 흡수 색소로서 사용되는 시아닌계 화합물, 프탈로시아닌계 화합물, 나프탈로시아닌계 화합물, 디티올 금속 착체계 화합물, 디이모늄계 화합물, 폴리메틴계 화합물, 프탈라이드 화합물, 나프토퀴논계 화합물, 안트라퀴논계 화합물, 인도 페놀계 화합물, 스쿠아릴륨계 화합물 등에서, 상기 흡광 특성을 갖는 화합물을 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 이들 중에서도, 특히 스쿠아릴륨계 화합물은, 화학 구조를 조정함으로써 상기 NIR 흡수 색소(A1)로서 요구되는 파장대에서 급준한 흡수 기울기가 얻어짐과 함께, 보존 안정성 및 광에 대한 안정성을 확보할 수 있는 점에서 바람직하다.
NIR 흡수 색소(A1)로서, 구체적으로는, 하기식 (F1)로 표시되는 스쿠아릴륨계 화합물에서 선택되는 적어도 1종을 들 수 있다. 본 명세서에서, 식 (F1)로 표시되는 화합물을 화합물(F1)이라고도 한다. 다른 화합물에 대해서도 마찬가지이다.
화합물(F1)은 스쿠아릴륨 골격의 좌우에 벤젠환이 결합하고, 또한 벤젠환의 4위에 질소 원자가 결합하는 동시에 상기 질소 원자를 포함하는 포화 복소환이 형성된 구조를 갖는 스쿠아릴륨계 화합물이며, 상기 NIR 흡수 색소(A1)로서의 흡광 특성을 갖는 화합물이다. 화합물(F1)에서는, 근적외선 흡수층을 형성할 때에 사용하는 용매(이하, "호스트 용매"라고도 함)나 투명 수지(B)에 대한 용해성을 높이는 등의 기타 요구 특성에 따라, 이하의 범위에서 벤젠환의 치환기를 적절히 조정할 수 있다.
단, 식 (F1) 중의 기호는 이하와 같다.
R1 및 R2는 서로 연결하여 질소 원자와 함께(5원환 또는 6원환의 환 구성 원자로서 산소 원자를 포함할 수 있는 복소환(환 A)을 형성하거나, R2 및 R5는 서로 연결하여 질소 원자와 함께 5원환 또는 6원환의 환 구성 원자로서 산소 원자를 포함할 수 있는 복소환(환 B)을 형성한다. 복소환을 형성하지 않은 경우의, R1 및 R5는, 각각 독립적으로 수소 원자, 불소 원자, 브롬 원자, 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 치환기를 가질 수 있는 알릴기, 치환기를 가질 수 있는 탄소수 6 내지 10의 아릴기 또는 치환기를 가질 수 있는 탄소수 7 내지 11의 아르아릴기를 나타낸다. 알킬기는, 직쇄상, 분지쇄상, 환상 중 어느 것이어도 된다. 치환기로서는, 불소 원자, 브롬 원자, 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 탄소수 1 내지 6의 플루오로 알킬기, 탄소수 1 내지 6의 알콕시기 등을 들 수 있다.
R4 및 R6은, 각각 독립적으로 수소 원자, -NR7R8(R7 및 R8은, 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1 내지 20의 알킬기 또는 -C(=O)-R9(R9는, 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 20의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 10의 아릴기))를 나타낸다.
R3은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타낸다.
또한, 화합물(F1)은 상기 화학식 (F1)로 표시되는 구조의 공명 구조를 갖는 식 (F1-1)로 표시되는 화합물(F1-1)을 포함한다.
단, 식 (F1-1) 중의 기호는, 상기 식 (F1)에서의 규정과 동일하다.
화합물(F1)에서, R1 및 R2는 서로 연결하여 질소 원자와 함께 5원환 또는 6원환의 환 구성 원자로서 산소 원자를 포함할 수 있는 복소환(환 A)을 형성하거나, R2 및 R5는 서로 연결하여 질소 원자와 함께 5원환 또는 6원환의 환 구성 원자로서 산소 원자를 포함할 수 있는 복소환(환 B)을 형성한다.
R1 및 R2가 환 A를 형성하고 있는 경우의 R5, R2 및 R5가 환 B를 형성하고 있는 경우의 R1은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자, 브롬 원자, 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 치환기를 가질 수 있는 알릴기, 치환기를 가질 수 있는 탄소수 6 내지 10의 아릴기 또는 치환기를 가질 수 있는 탄소수 7 내지 11의 아르아릴기를 나타낸다. 알킬기는, 직쇄상, 분지쇄상, 환상 중 어느 것이어도 된다. 치환기로서는, 불소 원자, 브롬 원자, 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 탄소수 1 내지 6의 플루오로 알킬기, 탄소수 1 내지 6의 알콕시기 등을 들 수 있다.
이들 중에서도 R1 및 R5로서는, 호스트 용매나 투명 수지(B)에 대한 용해성의 관점에서, 탄소수 1 내지 3의 알킬기가 바람직하고, 메틸기가 특히 바람직하다.
R4 및 R6은, 각각 독립적으로, 수소 원자, -NR7R8(R7 및 R8은, 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1 내지 20의 알킬기 또는 -C(=O)-R9(R9는, 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 20의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 10의 아릴기))을 나타낸다. R4 및 R6은, 어느 한쪽이 수소 원자이고, 다른 쪽이 -NR7R8인 조합이 바람직하다.
-NR7R8로서는, 호스트 용매나 투명 수지(B)에 대한 용해성의 관점에서, -NH-C(=O)-R9가 바람직하다. R9로서는, 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 20의 알킬기 또는 치환기를 가질 수 있는 탄소수 6 내지 10의 아릴기를 들 수 있다. 치환기로서는, 불소 원자, 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 탄소수 1 내지 6의 플루오로 알킬기, 탄소수 1 내지 6의 알콕시기 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 불소 원자로 치환되어도 되는 탄소수 1 내지 6의 알킬기 및 탄소수 1 내지 6의 플루오로 알킬기 및/또는 탄소수 1 내지 6의 알콕시기로 치환되어도 되는 페닐기에서 선택되는 기가 바람직하다.
또한, 화합물(F1)에서, 스쿠아릴륨 골격의 좌우에 결합하는 벤젠환이 갖는 기 R1 내지 R6은, 좌우가 상이할 수도 있지만, 좌우가 동일한 것이 바람직하다.
화합물(F1)로서, 바람직하게는 하기식 (F11)로 표시되는 화합물 및 하기식 (F12)로 표시되는 화합물을 들 수 있다. 또한, 하기식 (F11)로 표시되는 화합물은, 미국 특허 제5,543,086호 명세서에 기재된 화합물이다.
단, 식 (F11) 중의 기호는 이하와 같다.
R1, R3, R6, R7 및 R8은, 상기 식 (F1)에서의 규정과 동일하며, 바람직한 형태도 마찬가지이다. 또한, -NR7R8로서는, -NH-C(=O)-CH3, -NH-C(=O)-C6H13, -NH-C(=O)-C6H5 등이 바람직하다.
Y는, 수소 원자가 탄소수 1 내지 3의 알킬기로 치환되어도 되는 -CH2-를 나타내고, X는, 수소 원자가 탄소수 1 내지 6의 알킬기로 치환되어도 되는 -CH2- 또는 -CH2CH2-를 나타낸다. Y는, -CH2-, -C(CH3)2-가 바람직하고, X는, -CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-가 바람직하다.
단, 식 (F12) 중의 기호는, 이하와 같다.
R3, R5, R6, R7 및 R8은, 상기 식 (F1)에서의 규정과 동일하고, 바람직한 형태도 마찬가지이다. 또한, -NR7R8로서는, -NH-C(=O)-(CH2)m-CH3(m은, 0 내지 19), -NH-C(=O)-Ph-R10(R10은, 탄소수 1 내지 3의 알킬기, 탄소수 1 내지 3의 알콕시기 또는 탄소수 1 내지 3의 퍼플루오로 알킬기를 나타냄)
등이 바람직하다.
Y는, 수소 원자가 탄소수 1 내지 3의 알킬기로 치환되어도 되는 -CH2-를 나타내고, X는, 수소 원자가 탄소수 1 내지 3의 알킬기로 치환되어도 되는 -CH2- 또는 -CH2CH2-를 나타낸다. Y, X 모두 -CH2-, -C(CH3)2-가 바람직하다.
여기서, 화합물(F12)은 그 λmax가 700 내지 720nm의 사이에 있고, 이것을 함유하는 근적외선 흡수층에서의 투과율의 변화량(D)을 -0.86 이하로 할 수 있는, NIR 흡수 색소(A1)로서 바람직한 화합물이다. λmax를 상기 범위로 함으로써, 가시 파장대의 투과 영역을 확장하는 것이 가능하게 된다.
이하에, 화합물(F11) 및 화합물(F12)의 구체예의 화학 구조 및 흡광 특성을 나타낸다.
화합물(F11)로서, 구체적으로는, 하기식 (F11-1)로 표시되는 화합물을 들 수 있다.
또한, 화합물(F12)로서, 구체적으로는, 하기식 (F12-1), 식 (F12-1), 식 (F12-2), 식 (F12-3), 식 (F12-4), 식 (F12-5)로 각각 나타나는 화합물을 들 수 있다.
상기 화합물(F11-1) 및 화합물(F12-1) 내지 화합물(F12-5)의 흡광 특성을 표 1에 나타내었다.
또한, 상기 화합물(F11)이나 화합물(F12) 등의 화합물(F1)은 종래 공지된 방법으로 제조 가능하다.
화합물(F11-1) 등의 화합물(F11)은 예를 들어 본 명세서에 참조에 의해 인용되는 미국 특허 제5,543,086호 명세서에 기재된 방법으로 제조할 수 있다.
또한, 화합물(F12)는 예를 들어 여기에 참조에 의해 인용되는 J. Org. Chem. 2005, 70(13), 5164-5173에 기재된 방법으로 제조할 수 있다.
이들 중에서도, 화합물(F12-1) 내지 화합물(12-5)는 예를 들어 이하의 반응식 (F3)에 나타내는 합성 경로에 따라서 제조할 수 있다.
반응식 (F3)에 의하면, 1-메틸-2-요오도-4-아미노 벤젠의 아미노기에 원하는 치환기 R9를 갖는 카르복실산 염화물을 반응시켜서 아미드를 형성한다. 계속해서, 피롤리딘을 반응시키고, 또한 3,4-디히드록시-3-시클로부텐-1,2-디온과 반응시킴으로써, 화합물(F12-1) 내지 화합물(12-5)가 얻어진다.
반응식 (F3) 중 R9는, -CH3, -(CH2)5-CH3, -Ph, -Ph-OCH3, Ph-CF3을 나타낸다. -Ph는 페닐기, -Ph-는 1,4-페닐렌기를 나타낸다. Et는 에틸기, THF는 테트라히드로푸란을 나타낸다.
본 실시 형태에서는, NIR 흡수 색소(A1)로서, 상기 NIR 흡수 색소(A1)로서의 흡광 특성을 갖는 복수의 화합물에서 선택되는 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.
(NIR 흡수 색소(A2))
NIR 흡수 색소(A2)로서는, 상기 흡광 특성을 갖는, 구체적으로는, 그 흡수 스펙트럼에 있어서, λmax(A2)가 720nm 초과 800nm 이하의 파장 영역에 있고 반치 전폭이 100nm 이하인 최대 흡수 피크를 갖는 화합물이면, 특별히 제한되지 않는다. 일반적으로 NIR 흡수 색소로서 사용되는 시아닌계 화합물, 프탈로시아닌계 화합물, 나프탈로시아닌계 화합물, 디티올 금속 착체계 화합물, 디이모늄계 화합물, 폴리메틴계 화합물, 프탈라이드 화합물, 나프토퀴논계 화합물, 안트라퀴논계 화합물, 인도 페놀계 화합물, 스쿠아릴륨계 화합물 등에서, 상기 흡광 특성을 갖는 화합물을 적절히 선택하여 사용할 수 있다.
NIR 흡수 색소(A2)로서는, 상기한 바와 같이 NIR 흡수 색소(A1)의 가시 파장 대역과 근적외 파장 대역의 경계 영역에서의 광의 흡수 특성을 저해하지 않는 범위에서, 근적외 파장 대역의 비교적 장파장측에서의 광의 흡수를 가능한 한 폭넓게 확보할 수 있는 화합물이 바람직하다. 이러한 관점에서 NIR 흡수 색소(A2)로서는, 화학 구조를 조정함으로써 상기 NIR 흡수 색소(A2)로서 요구되는 흡광 특성이 부여된 시아닌계 화합물이 바람직하다. 시아닌계 화합물은 오래전부터 CD-R 등의 기록 색소로서 사용되어 온 색소로서 저비용이며, 염을 형성함으로써 장기 안정성도 확보할 수 있는 것으로 알려져 있다.
NIR 흡수 색소(A2)로서 사용 가능한 시아닌계 화합물로서, 구체적으로는, 하기 화학식 (F2)에 나타나는 화합물을 들 수 있다.
단, 식 (F2) 중의 기호는 이하와 같다.
R11은, 각각 독립적으로, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 알콕시기, 알킬 술폰기 또는 그의 음이온 종을 나타낸다.
R12 및 R13은, 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 20의 알킬기를 나타낸다.
Z는, PF6, ClO4, Rf-SO2, (Rf-SO2)2-N(Rf는 적어도 1개의 불소 원자로 치환된 알킬기를 나타냄) 또는 BF4를 나타낸다.
R14, R15, R16 및 R17은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타낸다.
n은 1 내지 6의 정수를 나타낸다.
또한, 화합물(F2)에서의 R11로서는, 탄소수 1 내지 20의 알킬기가 바람직하고, R12 및 R13은 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기가 바람직하다. R14, R15, R16 및 R17은, 각각 독립적으로 수소 원자가 바람직하고, n은 1 내지 4의 정수가 바람직하다. n개의 반복 단위를 사이에 끼운 좌우의 구조는 상이할 수도 있지만, 동일한 구조가 바람직하다.
화합물(F2)로서 보다 구체적으로는, 하기식 (F21)로 표시되는 화합물, 하기식 (F22)로 표시되는 화합물 등이 예시된다.
또한, NIR 흡수 색소(A2)로서, 하기식 (F4)로 표시되는 스쿠아릴륨계 화합물을 사용할 수도 있다.
상기 NIR 흡수 색소(A2)로서 바람직하게 사용되는, 화합물(F21), 화합물(F22) 및 화합물(F4)의 흡광 특성을 표 2에 나타내었다.
또한, 상기 화합물(F21), 화합물(F22) 및 화합물(F4)는 종래 공지된 방법으로 제조 가능하다. 본 실시 형태에서는, NIR 흡수 색소(A2)로서, 상기 NIR 흡수 색소(A2)로서의 흡광 특성을 갖는 복수의 화합물에서 선택되는 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.
(NIR 흡수 색소(A))
본 실시 형태에 사용되는 NIR 흡수 색소(A)는 NIR 흡수 색소(A1)을 필수 성분으로서 함유하고, 더욱 바람직하게는 NIR 흡수 색소(A2)를 함유한다.
NIR 흡수 색소(A)에서의, NIR 흡수 색소(A1)의 함유량은, NIR 흡수 색소(A)가 NIR 흡수 색소(A1) 이외에 함유하는 NIR 흡수 색소(A), 예를 들어 NIR 흡수 색소(A2) 등의 종류에 따라 다르지만, NIR 흡수 색소(A)의 전량에 대하여 3 내지 100질량%의 범위가 바람직하고, 30 내지 100질량%가 보다 바람직하고, 50 내지 100질량%가 특히 바람직하다. NIR 흡수 색소(A1)의 함유량을 상기 범위로 함으로써, NIR 흡수 색소(A)는 이것을 함유하는 근적외선 흡수층에, 가시 파장 대역과 근적외 파장 대역의 경계 영역에서 광의 흡수 곡선의 경사를 급준하게 하는 특성, 구체적으로는, 투과율의 변화량(D)을 -0.8 이하로 하는 특성의 부여가 가능하게 된다.
또한, NIR 흡수 색소(A)에서의, NIR 흡수 색소(A2)의 함유량은, NIR 흡수 색소(A)의 전량에 대하여 0 내지 97질량%의 범위가 바람직하고, 0 내지 70질량%가 보다 바람직하고, 0 내지 50질량%가 특히 바람직하다.
NIR 흡수 색소(A2)의 함유량을 상기 범위로 함으로써, NIR 흡수 색소(A)는 NIR 흡수 색소(A1)에 의한 상기 효과를 저해하지 않고, 이것을 함유하는 근적외선 흡수층에, 근적외 파장 대역의 장파장측까지 충분히 흡광하는 특성을 부여하는 것이 가능하게 된다.
NIR 흡수 색소(A)는, NIR 흡수 색소(A1)의 1종 또는 2종 이상을 함유하고, 바람직하게는 이것 외에 NIR 흡수 색소(A2)의 1종 또는 2종 이상을 함유한다. 또한, NIR 흡수 색소(A)는 NIR 흡수 색소(A1), NIR 흡수 색소(A2)에 의한 상기 효과를 저해하지 않는 한에, 필요에 따라서 그 밖의 NIR 흡수 색소(A)를 함유해도 된다.
여기서, 본 실시 형태에서, NIR 흡수 색소(A)로서는, 상기한 바와 같이, 근적외선 흡수층에, 가시 파장 대역과 근적외 파장 대역의 경계 영역에서 광의 흡수 곡선의 경사를 급준하게 하는 특성 및 근적외 파장 대역의 장파장측까지 충분히 흡광하는 특성을 부여하기 위해서, NIR 흡수 색소(A1)을 포함하는 복수의 NIR 흡수 색소(A)를 사용하는 것이 바람직하다. 복수의 NIR 흡수 색소(A)를 사용하는 경우, 그 수에 제한은 없지만 2 내지 4가 바람직하다. 복수의 NIR 흡수 색소(A)는 서로 상용성이 가까운 것이 바람직하다.
또한, 사용하는 복수의 NIR 흡수 색소(A)의 λmax 중, 가장 장파장측에 λmax를 갖는 NIR 흡수 색소(A)와, 가장 단파장측에 λmax를 갖는 NIR 흡수 색소(A)의 관계는, 흡수광의 누설을 억제할 필요로부터 이하의 관계에 있는 것이 바람직하다.
NIR 흡수 색소(A) 중에서 가장 장파장측에 λmax를 갖는 NIR 흡수 색소(A)를 NIR 흡수 색소(Ay), 그 λmax를 λmax(Ay)로 하고, NIR 흡수 색소(A) 중에서 가장 단파장측에 λmax를 갖는 NIR 흡수 색소(A)를 NIR 흡수 색소(Ax), 그 λmax를 λmax(Ax)로 하여, 10nm≤λmax(Ay)-λmax(Ax)≤40nm의 관계에 있는 것이 바람직하다.
또한, NIR 흡수 색소(Ax)는 NIR 흡수 색소(A1)에서 선택된다. NIR 흡수 색소(Ay)는 NIR 흡수 색소(A1)에서 선택되어도 되지만, 바람직하게는 NIR 흡수 색소(A2)에서 선택된다. NIR 흡수 색소(Ay)가 NIR 흡수 색소(A2)에서 선택되는 경우, 예를 들어 흡수 스펙트럼 기울기가 0.007 내지 0.011이며 반치 전폭 30 내지 100nm의 NIR 흡수 색소(A2)를 사용함으로써 근적외 파장 대역의 흡수대를 넓게 확보하면서, 가시 파장 대역을 고투과로 하는 것이 가능하게 되어 바람직하다.
본 발명에서는, 상기 NIR 흡수 색소(A)를 이하의 투명 수지(B)에 분산시켜서 사용함으로써, 얻어지는 NIR 흡수 색소(A)를 함유하는 수지층, 즉 근적외선 흡수층에 있어서, 광학 필터, 특히 근적외선 커트 필터에 있어서 중요한 파장 630 내지 700nm의 사이에서 급준하게 흡수 곡선이 변화하는 광학 특성을 유지하면서, 차폐 영역을 NIR 흡수 색소(A)의 최대 흡수 피크의 피크 파장에서부터 장파장 영역에까지 확장하는 것을 가능하게 하였다. 이러한 본 실시 형태에서의 근적외선 흡수층의 광학 특성은, 구체적으로는 450 내지 600nm의 가시광의 투과율이 70% 이상이며, 695 내지 720nm의 파장 영역에서의 광의 투과율이 10% 이하이며, 또한 상기 식 (1)로 표현되는 투과율의 변화량(D)이 -0.8 이하다.
본 실시 형태에 따른 광학 필터가 갖는 근적외선 흡수층은, 상기 NIR 흡수 색소(A)를 굴절률이 1.54 이상인 투명 수지(B)에 분산시켜서 이루어진다. 투명 수지(B)의 굴절률은, 1.55 이상이 바람직하고, 1.56 이상이 보다 바람직하다. 투명 수지(B)의 굴절률의 상한은 특별히 없지만, 입수의 용이성 등에서 1.72 정도를 들 수 있다.
투명 수지(B)로서는, 굴절률이 1.54 이상인 투명 수지이면, 특별히 제한되지 않는다. 구체적으로는, 폴리에스테르계 수지, 아크릴계 수지, 폴리올레핀계 수지, 폴리카르보네이트계 수지, 폴리아미드계 수지, 알키드계 수지 등의 열가소성 수지, 엔·티올계 수지, 에폭시계 수지, 열경화형 아크릴계 수지, 광경화형 아크릴계 수지, 실리콘계 수지, 실세스퀴옥산계 수지 등의 열 또는 광에 의해 경화시키는 수지에 있어서, 굴절률이 1.54 이상인 투명 수지(B)가 사용된다.
이들 중에서도 투명성의 관점에서, 굴절률이 1.54 이상인 아크릴계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리카르보네이트계 수지, 엔·티올계 수지, 에폭시계 수지 등이 바람직하게 사용되고, 또한, 굴절률이 1.54 이상인 아크릴계 수지, 폴리에스테르계 수지, 폴리카르보네이트계 수지가 보다 바람직하게 사용된다. 투명 수지의 굴절률이 1.54 이상이면, 상기 수지를 혼합하여 사용해도 되고, 알로이화한 수지를 사용해도 된다.
투명 수지(B)로서는, 상기에 분류되는 투명 수지의 제조시에 원료 성분의 분자 구조를 조정하는 등에 의해 중합체의 주쇄나 측쇄에 특정한 구조를 도입하는 등의 종래 공지된 방법으로 굴절률을 상기 범위로 조정한 것이 사용된다.
투명 수지(B)로서는, 시판품을 사용해도 된다. 시판품으로서는, 아크릴계 수지로서, 오그솔 EA-F5503(상품명, 오사까 가스 케미컬사 제조, 굴절률: 1.60), 오그솔 EA-F5003(상품명, 오사까 가스 케미컬사 제조, 굴절률: 1.60)을 경화시킨 수지 등을 들 수 있다. 또한, 폴리에스테르계 수지로서는, OKPH4HT(상품명, 오사까 가스 케미컬사 제조, 굴절률: 1.64), OKPH4(상품명, 오사까 가스 케미컬사 제조, 굴절률: 1.61), B-OKP2(상품명, 오사까 가스 케미컬사 제조, 굴절률: 1.64), 바이런 103(상품명, 도요보사 제조, 굴절률: 1.55), 폴리카르보네이트계 수지로서 LeXanML9103(상품명, sabic사 제조, 굴절률 1.59), 중합체 알로이로서는 폴리카르보네이트와 폴리에스테르의 알로이로서 팬라이트 AM-8 시리즈(상품명, 데이진카세이사 제조)나 xylex 7507(상품명, sabic사 제조)을 들 수 있다.
투명 수지(B)에서, 굴절률을 1.54 이상으로 하기 위해 도입되는 구조로서는, 굴절률을 상기 범위로 할 수 있는 구조이면 특별히 제한은 없다. 예를 들어, 폴리에스테르 수지로서는, 하기식 (B1)에 나타나는 플루오렌 유도체가 방향족 디올로서 도입된 폴리에스테르 수지를, 굴절률 값이나 가시광 영역에서의 투명성의 점에서 적절하게 사용할 수 있다.
(단, 식 (B1) 중, R21은 탄소수가 2 내지 4의 알킬렌기, R22, R23, R24 및 R25는, 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수가 1 내지 7의 알킬기 또는 탄소수가 6 내지 7의 아릴기를 나타냄)
근적외선 흡수층에서의 NIR 흡수 색소(A)의 함유량은, 투명 수지(B) 100질량부에 대하여 0.05 내지 5질량부의 비율이 바람직하고, 0.05 내지 3질량부의 비율이 보다 바람직하다. NIR 흡수 색소(A)의 함유량이 투명 수지(B) 100질량부에 대하여 0.05질량부 이상이면, 충분한 근적외선 흡수 특성을 유지할 수 있다. 5질량부 이하이면 가시 영역의 투과율을 손상시키지 않고, 충분한 근적외 흡수 특성을 유지할 수 있다.
본 실시 형태의 광학 필터는 상기 근적외선 흡수층을 구비한다. 근적외선 흡수층은, 예를 들어 기재를 사용하여 이하와 같이 해서 제조할 수 있다. 박리성의 기재를 사용하여, 상기 기재 위에 근적외선 흡수층을 성형한 후, 상기 기재로부터 이것을 박리하여 필름 형상으로 한 것을 광학 필터에 사용해도 된다. 또한, 기재로서 광학 필터에 적용 가능한 투명 기재를 사용하여, 상기 투명 기재 위에 근적외선 흡수층을 성형한 것을 광학 필터에 사용할 수 있다.
기재 위에 근적외선 흡수층을 형성하기 위해서는, 우선, NIR 흡수 색소(A) 및 투명 수지(B) 또는 투명 수지(B)의 원료 성분과 필요에 따라서 배합되는 다른 성분을, 용매에 분산 또는 용해시켜서 도포 시공액을 제조한다.
필요에 따라 배합되는 다른 성분으로서는, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서 배합되는, 근적외선 또는 적외선 흡수제, 색조 보정 색소, 자외선 흡수제, 레벨링제, 대전 방지제, 열 안정제, 광 안정제, 산화 방지제, 분산제, 난연제, 활제, 가소제, 실란 커플링제, 열 또는 광중합 개시제, 중합 촉매 등을 들 수 있다. 이들 임의 성분은, 도포 시공액 내의 투명 수지(B) 또는 투명 수지(B)의 원료 성분 100질량부에 대하여 각각 15질량부 이하의 양으로 배합하는 것이 바람직하다. 또한, 본 명세서에서, 근적외선 또는 적외선 흡수제의 용어는, 근적외선 흡수 색소를 포함하지 않는 것으로서 사용된다.
상기 근적외선 또는 적외선 흡수제 중 무기 미립자로서는, ITO(Indium Tin Oxides), ATO(Antimony-doped Tin Oxides), 붕화 란탄 등을 들 수 있다. 그 중에서도, ITO 미립자는, 가시 파장 영역의 광의 투과율이 높고, 또한 1200nm를 초과하는 적외 파장 영역도 포함한 광범위한 광 흡수성을 갖기 때문에, 적외 파장 영역의 광의 차폐성을 필요로 하는 경우에 특히 바람직하다.
ITO 미립자의 수 평균 응집 입자 직경은, 산란을 억제하고, 투명성을 유지하는 점에서, 5 내지 200nm인 것이 바람직하고, 5 내지 100nm인 것이 보다 바람직하고, 5 내지 70nm인 것이 보다 한층 바람직하다. 여기서, 본 명세서에서, 수 평균 응집 입자 직경이란, 검체 미립자를 물, 알코올 등의 분산매에 분산시킨 입자 직경 측정용 분산액에 대해서, 동적 광 산란식 입도 분포 측정 장치를 사용하여 측정한 값을 말한다.
근적외선 내지 적외선 흡수제는, 근적외선 흡수층에 요구되는 다른 물성을 확보하면서, 근적외선 내지 적외선 흡수제가 그 기능을 발휘할 수 있는 양의 범위로서, 투명 수지(B) 또는 투명 수지(B)의 원료 성분 100질량부에 대하여 바람직하게는 0.1 내지 20질량부, 보다 바람직하게는 0.3 내지 10질량부의 비율로 배합할 수 있다.
자외선 흡수제로서는, 벤조트리아졸계 자외선 흡수제, 벤조페논계 자외선 흡수제, 살리실레이트계 자외선 흡수제, 시아노아크릴레이트계 자외선 흡수제, 트리아진계 자외선 흡수제, 옥사닐리드계 자외선 흡수제, 니켈 착염계 자외선 흡수제, 무기계 자외선 흡수제 등을 바람직하게 들 수 있다. 시판품으로서, Ciba사 제조, 상품명 "티누빈(TINUVIN) 479" 등을 들 수 있다.
무기계 자외선 흡수제로서는, 예를 들어 산화아연, 산화티타늄, 산화세륨, 산화지르코늄, 운모, 카올린, 세리사이트 등의 입자를 들 수 있다. 무기계 자외선 흡수제의 수 평균 응집 입자 직경은, 투명성의 관점에서, 5 내지 200nm인 것이 바람직하고, 5 내지 100nm인 것이 보다 바람직하고, 5 내지 70nm인 것이 보다 한층 바람직하다.
자외선 흡수제는, 근적외선 흡수층에 요구되는 다른 물성을 확보하면서, 자외선 흡수제가 그 기능을 발휘할 수 있는 양의 범위로서, 투명 수지(B) 또는 투명 수지(B)의 원료 성분 100질량부에 대하여 바람직하게는 0.01 내지 10질량부, 보다 바람직하게는 0.05 내지 5질량부의 비율로 배합할 수 있다.
광 안정제로서는, 힌더드 아민류; 니켈 비스(옥틸페닐)술피드, 니켈 컴플렉스-3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질 인산 모노에틸레이트, 니켈디부틸디티오카르바메이트 등의 니켈 착체를 들 수 있다. 이것들은 2종 이상을 병용해도 된다. 도포 시공액 내의 광 안정제의 함유량은, 투명 수지(B) 또는 투명 수지(B)의 원료 성분 100질량부에 대하여 0.01 내지 10질량부인 것이 바람직하고, 0.5 내지 5질량부가 특히 바람직하다.
실란 커플링제로서는, 예를 들어 γ-아미노프로필 트리에톡시실란, N-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필 트리메톡시실란, N-β-(아미노에틸)-N'-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필 트리에톡시실란, γ-아닐리노프로필 트리메톡시실란과 같은 아미노실란류나, γ-글리시독시프로필 트리메톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란과 같은 에폭시 실란류, 비닐 트리메톡시실란, N-β-(N-비닐벤질아미노에틸)-γ-아미노프로필 트리메톡시실란과 같은 비닐실란류, γ-메타크릴옥시프로필 트리메톡시실란, γ-클로로프로필 트리메톡시실란, γ-머캅토프로필 트리메톡시실란 등을 들 수 있다.
사용하는 실란 커플링제의 종류는, 조합하여 사용하는 투명 수지(B)에 따라서 적절히 선택할 수 있다. 도포 시공액 내의 실란 커플링제의 함유량은, 투명 수지(B) 또는 투명 수지(B)의 원료 성분 100질량부에 대하여 1 내지 20질량부인 것이 바람직하고, 5 내지 15질량부가 특히 바람직하다.
광중합 개시제로서는, 아세토페논류, 벤조페논류, 벤조인류, 벤질류, 미힐러 케톤류, 벤조인 알킬에테르류, 벤질디메틸케탈류 및 티오크산톤류 등을 들 수 있다. 또한 열 중합 개시제로서 아조비스계 및 과산화물계의 중합 개시제를 들 수 있다. 이것들은 2종 이상을 병용해도 된다. 도포 시공액 내의 광 또는 열 중합 개시제의 함유량은, 투명 수지(B) 또는 투명 수지(B)의 원료 성분 100질량부에 대하여 0.01 내지 10질량부인 것이 바람직하고, 0.5 내지 5질량부가 특히 바람직하다.
도포 시공액이 함유하는 용매로서는, NIR 흡수 색소(A) 및 투명 수지(B) 또는 투명 수지(B)의 원료 성분을 안정적으로 분산 또는 용해하는 것이 가능한 용매이면, 특별히 한정되지 않는다. 구체적으로는, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논 등의 케톤류; 테트라히드로푸란, 1,4-디옥산, 1,2-디메톡시에탄 등의 에테르류; 아세트산 에틸, 아세트산 부틸, 아세트산 메톡시에틸 등의 에스테르류; 메탄올, 에탄올, 1-프로판올, 2-프로판올, 1-부탄올, 2-부탄올, 2-메틸-1-프로판올, 2-메톡시에탄올, 4-메틸-2-펜탄올, 2-부톡시에탄올, 1-메톡시-2-프로판올, 디아세톤 알코올 등의 알코올류; n-헥산, n-헵탄, 이소옥탄, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 가솔린, 경유, 등유 등의 탄화수소류; 아세토니트릴, 니트로메탄, 물 등을 들 수 있다. 이것들은 2종 이상을 병용해도 된다.
용매의 양은, 투명 수지(B) 또는 투명 수지(B)의 원료 성분 100질량부에 대하여 10 내지 5000질량부인 것이 바람직하고, 30 내지 2000질량부가 특히 바람직하다. 또한, 도포 시공액 내의 불휘발 성분(고형분)의 함유량은, 도포 시공액 전량에 대하여 2 내지 50질량%가 바람직하고, 5 내지 40질량%가 특히 바람직하다.
도포 시공액의 제조에는, 자기 교반 막대, 자전·공전식 믹서, 비즈 밀, 유성 밀, 초음파 균질기 등의 교반 장치를 사용할 수 있다. 높은 투명성을 확보하기 위해서는, 교반을 충분히 행하는 것이 바람직하다. 교반은, 연속적으로 행해도 되고, 단속적으로 행해도 된다.
도포 시공액의 도포 시공에는, 침지 코팅법, 캐스트 코팅법, 스프레이 코팅법, 스피너 코팅법, 비드 코팅법, 와이어 바 코팅법, 블레이드 코팅법, 롤러 코팅법, 커튼 코팅법, 슬릿 다이 코터법, 그라비아 코터법, 슬릿 리버스 코터법, 마이크로 그라비아법, 잉크젯법 또는 콤마 코터법 등의 코팅법을 사용할 수 있다. 그 외, 바 코터법, 스크린 인쇄법, 플렉소 인쇄법 등도 사용할 수 있다.
도포 시공액을 도포 시공하는 박리성의 지지 기재는, 필름 형상이거나 판상이어도 되고, 박리성을 갖는 것이면, 재료도 특별히 한정되지 않는다. 구체적으로는, 유리판이나, 이형 처리된 플라스틱 필름, 예를 들어 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리부틸렌테레프탈레이트(PBT) 등의 폴리에스테르 수지, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌아세트산 비닐 공중합체 등의 폴리올레핀 수지, 폴리아크릴레이트, 폴리메틸메타크릴레이트 등의 아크릴 수지, 우레탄 수지, 염화비닐 수지, 불소 수지, 폴리카르보네이트 수지, 폴리비닐부티랄 수지, 폴리비닐알코올 수지 등을 포함하여 이루어지는 필름, 스테인리스 강판 등이 사용된다.
또한, 도포 시공액을 도포 시공해서 얻어지는 근적외선 흡수층과 함께, 그대로 광학 필터에 사용하는 투명 기재로서는, 후술하는 투명 기재를 들 수 있다.
이러한 기재 위에 상기 도포 시공액을 도포 시공한 후, 건조시킴으로써 상기 기재 위에 근적외선 흡수층이 형성된다. 도포 시공액이 투명 수지(B)의 원료 성분을 함유하는 경우에는, 또한 경화 처리를 행한다. 반응이 열 경화인 경우에는 건조와 경화를 동시에 행할 수 있지만, 광 경화의 경우에는, 건조와 별도로 경화 처리를 실시한다. 또한, 박리성의 지지 기재 위에 형성된 근적외선 흡수층은 박리하여 광학 필터의 제조에 사용한다.
본 실시 형태의 광학 필터에 관한 근적외선 흡수층은, 투명 수지(B)의 종류에 따라서는, 압출 성형에 의해 제조하는 것도 가능하고, 또한, 이렇게 제조한 복수의 필름을 적층해서 열 압착 등에 의해 일체화시켜도 된다.
본 실시 형태에서, 근적외선 흡수층의 두께는, 특별히 한정되는 것이 아니라, 용도, 즉 사용하는 장치 내의 배치 스페이스나 요구되는 흡수 특성 등에 따라서 적절히 정해져도 좋다. 바람직하게는 0.1 내지 100㎛의 범위이며, 보다 바람직하게는 1 내지 50㎛의 범위이다. 상기 범위로 함으로써, 충분한 근적외선 흡수능과 막 두께의 평탄성을 양립시킬 수 있다. 0.1㎛ 이상, 나아가 1㎛ 이상으로 함으로써 근적외선 흡수능을 충분히 발현시킬 수 있다. 100㎛ 이하로 하면, 막 두께의 평탄성이 얻기 쉬워지고, 흡수율의 편차가 발생하기 어렵게 할 수 있다. 50㎛ 이하이면, 더욱 장치의 소형화에 유리해진다.
본 실시 형태에 사용하는 근적외선 흡수층은, 450 내지 600nm의 가시광의 투과율이 70% 이상이며, 695 내지 720nm의 파장 영역에서의 광의 투과율이 10% 이하이며, 또한 하기식 (1)로 표현되는 투과율의 변화량(D)이 -0.8 이하다.
D(%/nm)=[T700(%)-T630(%)]/[700(nm)-630(nm)] … (1)
식 (1) 중, T700은, 상기 근적외선 흡수층의 투과 스펙트럼에서의 파장 700nm의 투과율이며, T630은, 상기 근적외선 흡수층의 투과 스펙트럼에서의 파장 630nm의 투과율이다.
또한, 근적외선 흡수층의 투과율은, 자외 가시 분광 광도계를 사용하여 측정할 수 있다.
근적외선 흡수층의, 450 내지 600nm의 가시광의 투과율은 70% 이상이며, 80% 이상이 바람직하다. 또한, 695 내지 720nm의 파장 영역에서의 광의 투과율은 10% 이하고, 8% 이하가 바람직하다. 또한, 투과율의 변화량(D)이 -0.8 이하고, -0.86 이하가 바람직하다.
450 내지 600nm의 가시광 파장 영역에서의 투과율이 70% 이상, 바람직하게는 80% 이상이며, 695 내지 720nm의 파장 영역에서의 광의 투과율이 10% 이하, 바람직하게는 8% 이하이면 근적외선 커트 필터로서의 용도에 유용하다. 또한, 투과율의 변화량(D)이 -0.8 이하, 바람직하게는 -0.86 이하이면, 파장 630 내지 700nm의 사이에서의 투과율의 변화가 충분히 급준하게 되고, 예를 들어 디지털 스틸 카메라나 디지털 비디오 등의 근적외선 흡수재에 적합해진다. 투과율의 변화량(D)이 -0.8 이하, 바람직하게는 -0.86 이하이면, 또한, 근적외 파장 영역의 광을 차폐하면서 가시 파장 영역의 광의 이용 효율이 향상되어, 암부 촬상에서의 노이즈 억제의 점에서 유리해진다.
본 실시 형태의 광학 필터에 관한 근적외선 흡수층은, NIR 흡수 색소(A)로서 함유하는 NIR 흡수 색소(A1), 예를 들어 표 1에 나타낸 바와 같은 화합물의 광학 특성에 의해 가시 파장 영역의 광의 투과율(630nm에서의 투과율로 대표)이 높고, 파장 630 내지 700nm의 사이에서 급준하게 투과율이 변화하는 특성을 갖고, 또한 이것과 조합하는 굴절률이 1.54 이상을 나타내는 투명 수지(B)의 작용에 의해, 종래의 근적외선 흡수층에 비해, 차광 파장 영역이 695 내지 720nm까지의 폭넓은 특성을 갖는다. 따라서, 근적외선 흡수층을 그 자체 단독으로 또는 다른 선택 파장 차폐층 등과 조합해서 사용하여 NIR 흡수 색소(A)의 흡광 특성이 유효하게 이용된 광학 필터가 얻어진다.
또한, 그 근적외선 차폐 특성은, NIR 흡수 색소(A)에 의한 근적외선의 흡수를 이용하는 것이기 때문에, 반사형 필터와 같은 분광 투과율의 입사각 의존성의 문제가 발생하는 일도 없다.
또한, 본 실시 형태의 광학 필터에 관한 근적외선 흡수층은, NIR 흡수 색소(A) 및 투명 수지(B)를 용매에 분산, 용해시켜서 제조한 도포 시공액을 기재 위에 도포 시공하여 건조시키고, 또한 필요에 따라 경화시킴으로써 제조할 수 있기 때문에, 용이하면서도 또한 충분히 광학 필터의 소형화, 박형화를 할 수 있다.
본 실시 형태의 광학 필터는 상기 근적외선 흡수층을 구비한다. 광학 필터의 구성은, 근적외선 흡수층을 구비하는 것 이외는 특별히 제한되지 않고, 근적외선 흡수층이 그 자체 단독으로 광학 필터를 구성해도 되고, 다른 구성 요소와 함께 광학 필터를 구성해도 된다. 다른 구성 요소로서는, 상기 투명 기재 외에, 특정한 파장 영역의 광의 투과와 차폐를 제어하는 선택 파장 차폐층을 들 수 있다.
선택 파장 차폐층으로서는, 420 내지 695nm의 가시광을 투과하고 소정의 파장 영역의 광을 차폐하는 선택 파장 차폐층이 바람직하다. 예를 들어, 광학 필터를 고체 촬상 소자용의 근적외선 커트 필터로서 사용하는 경우에는, 선택 파장 차폐층이 차폐하는 광의 파장 영역은 710 내지 1100nm가 바람직하고, 710 내지 1200nm가 보다 바람직하다. 또한, 선택 파장 차폐층이 차폐하는 광의 파장 영역의 하한은, 조합하는 근적외선 흡수층이 함유하는 색소의 흡광 특성에 따라서 적절히 변경 가능하다. 예를 들어, NIR 흡수 색소(A1)로서 그 흡수 스펙트럼의 최대 흡수 피크에서의 λmax가 700 내지 720nm에 있는 NIR 흡수 색소(A1)을 사용하는 경우에는, 이 색소를 함유하는 근적외선 흡수층과 조합하는 선택 파장 차폐층이 차폐하는 광의 파장 영역의 하한은 720nm이어도 된다. 상한에 대해서는 상기한 바와 마찬가지로 1100nm가 바람직하고, 1200nm가 보다 바람직하다. 또한, 이하에서, NIR 흡수 색소(A1)을 함유하는 근적외선 흡수층과 조합하는 선택 파장 차폐층이 차폐하는 광의 파장 영역의 하한에 대해서는, 상기와 마찬가지로 사용하는 NIR 흡수 색소(A1)에 맞춰서 적절히 조정할 수 있다.
또한, 선택 파장 차폐층은 400nm 이하의 자외선 파장 영역의 광을 차폐하는 광학 특성을 갖는 것이 바람직하고, 410nm 이하의 광의 차폐성을 갖는 것이 보다 바람직하다. 선택 파장 차폐층은 1층으로 소정의 파장 영역의 광을 차폐하도록 해도 되고, 복수 층을 조합해서 소정의 파장 영역의 광을 차폐하도록 해도 된다. 본 실시 형태에서는, 상기 근적외선 흡수층의 흡광 특성과 조합하는 선택 파장 차폐층의 광학 특성에 의해 특정한 파장 영역을 고성능으로 차폐하는 광학 필터로 할 수 있다.
이렇게 본 실시 형태의 광학 필터가 420 내지 695nm의 가시광을 투과하고 소정의 파장 영역의 광, 예를 들어 710 내지 1100nm의 파장 영역의 광을 차폐하는 선택 파장 차폐층을 구비하는 경우에는, 상기 광학 필터가 갖는 광학 특성으로서 구체적으로는, 이하의 광학 특성이 바람직하다.
420 내지 620nm의 가시광에서의 투과율은 70% 이상이 바람직하고, 75% 이상이 보다 바람직하다. 또한, 710 내지 860nm의 파장 영역에서의 광의 투과율은 0.3% 이하가 바람직하다. 또한, 하기식 (2)로 표현되는 투과율의 변화량(Df)은 -0.8 이하가 바람직하고, -0.86 이하가 보다 바람직하다.
Df(%/nm)=[Tf700(%)-Tf630(%)]/[700(nm)-630(nm)] … (2)
식 (2) 중, Tf700은, 상기 광학 필터의 투과 스펙트럼에서의 파장 700nm의 투과율이며, Tf630은, 상기 광학 필터의 투과 스펙트럼에서의 파장 630nm의 투과율이다.
상기 광학 특성을 갖는 본 실시 형태의 광학 필터는, 파장 630 내지 700nm의 사이에서의 투과율의 변화가 충분히 급준해서, 근적외 파장 영역의 광을 차폐하면서 가시 파장 영역의 광의 이용 효율이 향상된 광학 필터이다. 이러한 광학 필터는, 예를 들어 디지털 스틸 카메라나 디지털 비디오 등의 근적외선 흡수 필터로서 적합해서, 암부 촬상에서의 노이즈 억제의 점에서 유리하다.
선택 파장 차폐층은, 광학 필터의 용도에 따라서 상기 근적외선 흡수층의 편측 또는 양측에 배치된다. 배치되는 선택 파장 차폐층의 수는 제한되지 않는다. 용도에 따라서 편측에만 1 이상의 선택 파장 차폐층을 배치해도 되고, 양측에 각각 독립된 수의 1 이상의 선택 파장 차폐층을 배치해도 된다. 투명 기재를 포함하여 광학 필터의 각 구성 요소의 적층순은 특별히 제한되지 않는다. 광학 필터가 사용되는 용도에 따라서 적절히 설정된다.
또한, 광의 이용 효율을 높이기 위해서, 모스아이 구조와 같이 표면 반사를 저감하는 구성을 설치해도 된다. 모스아이 구조는, 예를 들어 400nm보다 작은 주기로 규칙적인 돌기 배열을 형성한 구조로, 두께 방향으로 실효적인 굴절률이 연속적으로 변화하기 때문에, 주기보다 긴 파장의 광의 표면 반사율을 억제하는 구조이며, 몰드 성형 등에 의해 광학 필터의 표면에 형성할 수 있다.
도 1은, 본 실시 형태에 따른 광학 필터의 예를 개략적으로 도시하는 단면도이다. 도 1의 (a)는 투명 기재(12) 위에 근적외선 흡수층(11)을 갖는 광학 필터(10A)의 단면도를 도시한다. 또한, 도 1의 (b)는 근적외선 흡수층(11)의 양쪽의 주면에 선택 파장 차폐층(13)이 배치된 광학 필터(10B)의 단면도를 도시한다.
도 1의 (a)에 나타내는 구성, 즉, 투명 기재(12) 위에 근적외선 흡수층(11)을 갖는 구성은, 상기한 바와 같이 투명 기재(12) 위에 근적외선 흡수층(11)을 직접 형성시키는 방법과, 상기에서 얻어진 필름 형상의 근적외선 흡수층(11)의 단체를, 필름 형상 또는 판상의 투명 기재 중 어느 하나의 주면에, 도시되어 있지 않은 점착제층을 개재하여 접착함으로써 제작하는 방법을 들 수 있다. 또한, 본 실시 형태에 따른 광학 필터에서의 투명 기재(12) 위에 근적외선 흡수층(11)을 갖는 구성의 변형으로서, 근적외선 흡수층(11)을 2장의 투명 기재(12) 사이에 끼워 넣는 구성이나, 투명 기재(12)의 양쪽의 주면에 근적외선 흡수층(11)이 형성 또는 접착된 구성을 들 수 있다.
상기 점착제층에서의 점착제로서는, 예를 들어 아크릴산에스테르 공중합체계, 폴리염화비닐계, 에폭시 수지계, 폴리우레탄계, 아세트산 비닐 공중합체계, 스티렌-아크릴 공중합체계, 폴리에스테르계, 폴리아미드계, 스티렌-부타디엔 공중합체계, 부틸 고무계, 실리콘 수지계 등의 점착제를 들 수 있다. 점착제층은 미리 근적외선 흡수층(11) 위에 설치해 두어도 된다. 이 경우, 그 점착면에 실리콘이나 PET 등의 이형 필름을 부착해 두는 것이, 작업성, 취급성의 점에서 바람직하다. 점착제에는, 자외선 흡수제 등의 다양한 기능을 갖는 첨가제를 첨가해도 된다.
투명 기재(12)로서는, 가시 파장 영역의 광을, 근적외선 흡수층(11)과 조합하여 광학 필터로 했을 때에 그 기능을 달성할 수 있을 정도로 충분히 투과하는 것이면, 그 형상은 특별히 한정되는 것이 아니며, 블록 형상이나 판상이나, 필름 형상이어도 된다. 투명 기재를 구성하는 재료로서는, 수정, 니오븀산 리튬, 사파이어 등의 결정, 유리, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리부틸렌테레프탈레이트(PBT) 등의 폴리에스테르 수지, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌아세트산 비닐 공중합체 등의 폴리올레핀 수지, 노르보르넨 수지, 폴리아크릴레이트, 폴리메틸메타크릴레이트 등의 아크릴 수지, 우레탄 수지, 염화비닐 수지, 불소 수지, 폴리카르보네이트 수지, 폴리비닐부티랄 수지, 폴리비닐알코올 수지 등을 들 수 있다. 이들 재료는, 자외 영역 및/또는 근적외 영역의 파장에 대하여 흡수 특성을 갖는 것이어도 된다. 투명 기재(12)는 예를 들어, 불소 인산염계 유리나 인산염계 유리 등에 CuO 등을 첨가한 흡수형의 유리 필터이어도 된다.
투명 기재(12)로서의 유리는, 가시 영역에서 투명한 재료에서, 사용하는 장치, 배치하는 장소 등을 고려하여, 알칼리 성분의 함유 유무나 선팽창 계수의 크기 등의 특성을 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 특히, 붕규산 유리는, 가공이 용이하고, 광학면에서의 흠집이나 이물 등의 발생이 억제되기 때문에 바람직하고, 알칼리 성분을 포함하지 않는 유리는, 접착성, 내후성 등이 향상하기 때문에 바람직하다.
또한, 수정, 니오븀산 리튬, 사파이어 등의 결정은, 디지털 스틸 카메라, 디지털 비디오 카메라, 감시 카메라, 차량 탑재용 카메라, 웹 카메라 등의 촬상 장치에 있어서, 무아레나 위조색을 저감하기 위한 저역 통과 필터나 파장판의 재료로서 사용되고 있고, 투명 기재(12)의 재료로서, 이들 결정을 사용한 경우에는, 본 실시 형태에 따른 광학 필터에, 저역 통과 필터나 파장판의 기능도 부여할 수 있고, 촬상 장치의 더 이상의 소형화, 박형화를 이룰 수 있는 점에서 바람직하다.
또한, 상기 촬상 장치의 고체 촬상 소자 또는 고체 촬상 소자 패키지에는, 상기 고체 촬상 소자를 보호하는 커버가 기밀 봉착되어 있다. 이 커버를 투명 기재(12)로서 사용하면, 커버로서 사용 가능한 광학 필터가 얻어져서, 촬상 장치의 새로운 소형화, 박형화를 이룰 수 있다. 커버의 재료는, 결정이나 유리나 수지이어도 되지만, 내열성의 관점에서는, 결정이나 유리가 바람직하다. 수지를 선택하는 경우에는, 내열성을 고려한 재료, 예를 들어 아크릴 수지, 실리콘 수지, 불소 수지, 실세스퀴옥산 등을 함유한 유기 무기 하이브리드 재료 등이 바람직하다. 커버 중에 불순물로서 α선 방출성 원소(방사성 동위 원소)가 포함되어 있으면, α선을 방출하여 고체 촬상 소자에 일과성의 오동작(소프트 에러)을 일으킨다. 따라서, 커버에는, α선 방출성 원소 함유량이 가능한 한 적은 고순도로 정제된 원료를 사용하고, 제조 공정에서도 이들 원소의 혼입을 가능한 한 방지하는 것이 바람직하다. α선 방출성 원소 중에서도 U, Th의 함유량을, 20ppb 이하로 하는 것이 바람직하고, 5ppb 이하로 하는 것이 보다 바람직하다. 또한, 커버의 일면(고체 촬상 소자에 근접하는 면)에 α선을 차폐하는 막을 설치해도 된다.
투명 기재(12)로서 사용하는 유리판은, 표면에 실란 커플링제에 의한 표면 처리가 실시되어 있어도 된다. 실란 커플링제에 의한 표면 처리가 실시된 유리판을 사용함으로써, 근적외선 흡수층(11)과의 밀착성을 높일 수 있다. 실란 커플링제로서는, 예를 들어 γ-아미노프로필 트리에톡시실란, N-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필 트리메톡시실란, N-β-(아미노에틸)-N'-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필 트리에톡시실란, γ-아닐리노프로필 트리메톡시실란과 같은 아미노실란류나, γ-글리시독시프로필 트리메톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란과 같은 에폭시 실란류, 비닐 트리메톡시실란, N-β-(N-비닐벤질아미노에틸)-γ-아미노프로필 트리메톡시실란과 같은 비닐실란류, γ-메타크릴옥시프로필 트리메톡시실란, γ-클로로프로필 트리메톡시실란, γ-머캅토프로필 트리메톡시실란 등을 사용할 수 있다. 유리판의 두께는, 장치의 소형화, 박형화 및 취급시의 파손을 억제하는 점에서, 0.03 내지 5mm의 범위가 바람직하고, 경량화 및 강도의 관점에서, 0.05 내지 1mm의 범위가 보다 바람직하다.
투명 기재(12)로서, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 등의 투명 플라스틱을 포함하여 이루어지는 필름을 사용하는 경우, 그 두께는, 10 내지 300㎛의 범위가 바람직하다. 또한, 근적외선 흡수층(11)을 형성하기 전에, 필름의 표면에 코로나 처리나 접착 용이화 처리를 실시하는 것이 바람직하다.
투명 기재(12)로서, 투명 플라스틱을 포함하여 이루어지는 필름을 사용한 경우에는, 투명 기재(12)의 다른 쪽의 주면을 점착제 또는 접착제를 개재하여 유리판에 접착할 수 있다. 유리판에는, 투명 기재(12)의 재료로서 예시한 것과 마찬가지의 것을 사용할 수 있고, 특히, 붕규산 유리는, 가공이 용이하고, 광학면에서의 흠집이나 이물 등의 발생이 억제되기 때문에 바람직하다.
후술하는 바와 같이, 광학 필터(10A)는, 투명 기재(12)측을, 예를 들어 촬상 장치의 고체 촬상 소자에 직접 부착하여 사용되는 경우가 있다. 이 경우, 투명 기재(12)의 선팽창 계수와 피부착부의 선팽창 계수의 차가 30×10-7/K 이하인 것이, 부착 후의 박리 등을 억제하는 관점에서 바람직하다. 예를 들어, 피부착부의 재질이 실리콘이면, 선팽창 계수가 30×10-7 내지 40×10-7/K 근방의 재료, 예를 들어 쇼트사 제조의 AF33, 템팩스, 아사히 글래스사 제조의 SW-3, SW-Y, SW-YY, AN100, EN-A1 등(이상, 상품명)의 유리가 투명 기재(12)의 재료로 하여 적합하다. 피부착부의 재질이 알루미나 등의 세라믹이면, 선팽창 계수가 50×10-7 내지 80×10-7/K 근방의 재료, 예를 들어 쇼트사 제조의 D263, B270, 아사히 글래스사 제조의 FP1, FP01eco 등의 유리가 투명 기재(12)의 재료로서 적합하다.
도 1의 (b)에 나타내는 구성의 광학 필터(10B)에 있어서 근적외선 흡수층(11)의 양쪽의 주면에 형성되는 선택 파장 차폐층(13)으로서는, 유전체 다층막이나 근적외선 또는 적외선 흡수제, 색조 보정 색소 및 자외선 흡수제에서 선택되는 적어도 1종을 함유하는 특정한 파장의 광을 흡수하는 층 등을 들 수 있다.
광학 필터(10B)에 있어서, 조합하는 2장의 선택 파장 차폐층(13)은 동일하거나 상이할 수도 있다. 2장의 선택 파장 차폐층(13)이, 광학 특성이 상이한 제1 선택 파장 차폐층(13a), 제2 선택 파장 차폐층(13b)으로서 구성되는 경우, 사용되는 광학 장치에 의해 선택 파장 차폐 특성과 그 정렬 순서가 적절히 조정된다. 이 관점에서, 근적외선 흡수층(11), 제1 선택 파장 차폐층(13a) 및 제2 선택 파장 차폐층(13b)의 위치 관계로서, 구체적으로는 이하의 (i) 내지 (iii)의 위치 관계를 들 수 있다.
(i) 제1 선택 파장 차폐층(13a), 근적외선 흡수층(11), 제2 선택 파장 차폐층(13b)
(ii) 근적외선 흡수층(11), 제1 선택 파장 차폐층(13a), 제2 선택 파장 차폐층(13b)
(iii) 근적외선 흡수층(11), 제2 선택 파장 차폐층(13b), 제1 선택 파장 차폐층(13a)
이와 같이 하여 얻어지는 광학 필터(10B)를 장치에 설치할 때의 방향에 대해서는, 설계에 따라서 적절히 선택된다.
또한, 근적외선 흡수층(11)이 투명 기재 위에 설치되어 있는 경우에는, 투명 기재가, 제1 선택 파장 차폐층(13a) 또는 제2 선택 파장 차폐층(13b)에 접하는 측에 배치되는 것이 바람직하다. 즉, 투명 기재를 갖는 경우, 투명 기재가 최외층에 위치하지 않는 것이 바람직하다.
유전체 다층막은, 저굴절률의 유전체막과 고굴절률의 유전체막을 교대로 적층함으로써, 광의 간섭을 이용하여 특정한 파장 영역의 광의 투과와 차폐를 제어하는 기능을 발현시킨 선택 파장 차폐층이다.
고굴절률의 유전체막을 구성하는 고굴절률 재료로서는, 굴절률이 이것과 조합하여 사용되는 저굴절률 재료에 비해 높은 재료이면 특별히 제한되지 않는다. 구체적으로는, 굴절률이 1.6을 초과하는 재료가 바람직하다. 보다 구체적으로는, Ta2O5(2.22), TiO2(2.41), Nb2O5(2.3), ZrO2(1.99) 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 본 발명에서는, 성막성과 굴절률 등을 그 재현성, 안정성을 포함해서 종합적으로 판단하여, TiO2 등이 바람직하게 사용된다. 또한, 화합물 뒤의 괄호 내의 숫자는 굴절률을 나타낸다. 이하, 저굴절률 재료에 대해서도 마찬가지로 화합물 뒤의 괄호 내의 숫자는 굴절률을 나타낸다.
저굴절률의 유전체막을 구성하는 저굴절률 재료로서는, 굴절률이 이것과 조합하여 사용되는 고굴절률 재료에 비해 낮은 재료이면 특별히 제한되지 않는다. 구체적으로는, 굴절률이 1.55 미만인 재료가 바람직하다. 보다 구체적으로는, SiO2(1.46), SiOxNy(1.46 이상 1.55 미만), MgF2(1.38) 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 본 발명에서는, SiO2가 성막성에서의 재현성, 안정성, 경제성 등의 점에서 바람직하다.
근적외선 또는 적외선 흡수제, 색조 보정 색소 및 자외선 흡수제에서 선택되는 적어도 1종을 함유하는 특정한 파장의 광을 흡수하는 층으로서는, 예를 들어 종래 공지된 방법으로 각 흡수제를 투명 수지에 분산시킨 광 흡수층을 들 수 있다. 투명 수지로서는, 폴리에스테르계 수지, 아크릴계 수지, 폴리올레핀계 수지, 폴리카르보네이트계 수지, 폴리아미드계 수지, 알키드계 수지 등의 열가소성 수지, 엔·티올계 수지, 에폭시계 수지, 열경화형 아크릴계 수지, 광경화형 아크릴계 수지, 실세스퀴옥산계 수지 등의 열이나 광에 의해 경화되는 수지 등을 들 수 있다. 이들 광 흡수층에서의 각 흡수제의 함유량은 각 흡수제의 광 흡수능에 따라, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서 적절히 조정된다.
예를 들어, ITO 미립자를 투명 수지에 분산시킨 적외선 흡수층을 사용하는 경우에는, ITO 미립자를 적외선 흡수층 중에 0.5 내지 30질량%의 비율로 함유시키는 것이 바람직하고, 1 내지 30질량% 함유시키는 것이 보다 바람직하다. ITO 미립자의 함유량이 0.5질량% 이상이면, 적외 파장 영역의 광의 차폐성에 대하여 일정한 효과가 얻어진다. 또한, ITO 미립자의 함유량이 30질량% 이하이면 가시 파장 영역의 광에 흡수를 나타내지 않고, 투명성을 유지할 수 있다.
본 실시 형태에 따른 광학 필터를, 예를 들어 고체 촬상 소자용의 근적외선 커트 필터로서 사용하는 경우에는, 상기 근적외선 흡수층(11)과 조합하여 사용하는 선택 파장 차폐층이 차폐하는 광의 파장 영역은 710 내지 1100nm가 바람직하고, 710 내지 1200nm가 보다 바람직하다. 또한, 선택 파장 차폐층은 400nm 이하의 자외선 파장 영역의 광을 차폐하는 광학 특성을 갖는 것이 바람직하고, 410nm 이하의 광의 차폐성을 갖는 것이 보다 바람직하다. 이러한 선택 파장 차폐층을 유전체 다층막으로 구성하는 경우, 예를 들어 도 1의 (b)에 도시한 바와 같은, 근적외선 흡수층(11)을, 광을 차폐하는 파장 영역이 상이한 제1 유전체 다층막(13a) 및 제2 유전체 다층막(13b) 사이에 끼워 넣은 구조의 광학 필터(10B)로 하는 것이 바람직하다.
이 경우, 제1 유전체 다층막(13a)은, 예를 들어 420 내지 695nm의 가시광을 투과하고, 710nm 이상, 근적외선 흡수층(11)에 의한 흡수 파장 영역의 장파장측의 단부의 파장 이하의 파장을 단파장측의 단부의 파장으로 하고, 820 내지 950nm 부근의 파장을 장파장측의 단부의 파장으로 하는, 파장 영역의 광을 반사하는 광학 특성을 갖는 층으로 할 수 있다.
여기서, 근적외선 흡수층(11)에 의한 흡수 파장 영역이란, 가시광에서부터 근적외광 영역에서 투과율이 5% 이하가 되는 파장 영역을 말한다. 또한, 제1 유전체 다층막(13a)이 반사하는 광의 파장 영역의 단파장측의 단부의 파장은, 구체적으로는 근적외선 흡수층(11)에 의한 흡수 파장 영역의 장파장측의 단부의 파장보다 10nm 짧은 파장에서부터 상기 장파장측의 단부의 파장까지의 범위에 있는 것이 바람직하고, 또한, 상기 장파장측의 단부의 파장보다 3 내지 10nm 짧은 파장이 보다 바람직하다. 제1 유전체 다층막(13a)은 또한 필요에 따라 상기 이외의 반사 파장 영역을 가져도 된다.
또한, 제2 유전체 다층막(13b)은, 예를 들어 420 내지 695nm의 가시광을 투과하고, 바람직하게는 400nm 이하, 보다 바람직하게는 410nm 이하의 자외선 파장 영역의 광과, 적어도, 710nm를 초과하고 상기 제1 유전체 다층막(13a)의 반사 파장 영역의 장파장측의 단부의 파장 이하의 파장을 단파장측의 단부의 파장으로 하고, 바람직하게는 1100nm 이상, 보다 바람직하게는 1200nm 이상의 파장을 장파장측의 단부의 파장으로 하는, 파장 영역의 광을 반사하는 광학 특성을 갖는 층으로 할 수 있다. 또한, 제2 유전체 다층막(13b)이 반사하는 광의 파장 영역의 단파장측의 단부의 파장은, 구체적으로는 상기 제1 유전체 다층막(13a)의 반사 파장 영역의 장파장측의 단부의 파장보다 100nm 짧은 파장에서부터 상기 장파장측의 단부의 파장까지의 범위에 있는 것이 바람직하다.
예를 들어, 근적외선 흡수층(11)에 의한 흡수 파장 영역이 695 내지 720nm인 경우, 제1 유전체 다층막(13a)의 반사 파장 영역은, 단파장측의 단부의 파장을 710 내지 717nm에서 선택되는 파장으로 하고, 장파장측의 단부의 파장을 820 내지 950nm에서 선택되는 파장으로 하는 것이 바람직하다. 이 경우 제2 유전체 다층막(13b)의 반사 파장 영역은, 제1 유전체 다층막(13a)의 장파장측의 단부의 파장에서부터 20 내지 100nm 짧은 파장을 단파장측의 단부의 파장으로 하고, 1100 내지 1200nm를 장파장측의 단부의 파장으로 하는 것이 바람직하다.
제2 유전체 다층막(13b)은 바람직하게는 400nm 이하, 보다 바람직하게는 410nm 이하의 자외선 파장 영역의 광을 반사하는 광학 특성을 갖는 유전체 다층막과, 적어도, 710nm를 초과하고, 상기 제1 유전체 다층막(13a)의 반사 파장 영역의 장파장측의 단부의 파장 이하의 파장을 단파장측의 단부의 파장으로 하고, 바람직하게는 1100nm 이상, 보다 바람직하게는 1200nm 이상의 파장을 장파장측의 단부의 파장으로 하는, 파장 영역의 광을 반사하는 광학 특성을 갖는 유전체 다층막으로 나누어서 설계하여 따로따로 설치되어도 되지만, 1개의 유전체 다층막으로서 설계되는 것이 박막화의 관점에서 바람직하다.
또한, 제1 유전체 다층막(13a)은, 근적외선 흡수층(11)에 비해 고체 촬상 소자로부터 먼 측에 설치되는 것이 바람직하다. 제2 유전체 다층막(13b)의 배치 위치는 특별히 제한되지 않는다. 근적외선 흡수층(11), 제1 유전체 다층막(13a) 및 제2 유전체 다층막(13b)의 위치 관계로서, 구체적으로는 고체 촬상 소자로부터 가까운 순서대로 이하의 (i) 내지 (iii)의 위치 관계를 들 수 있다.
(i) 제2 유전체 다층막(13b), 근적외선 흡수층(11), 제1 유전체 다층막(13a)
(ii) 근적외선 흡수층(11), 제1 유전체 다층막(13a), 제2 유전체 다층막(13b)
(iii) 근적외선 흡수층(11), 제2 유전체 다층막(13b), 제1 유전체 다층막(13a)
이들 중에서도, 본 실시 형태에서는, 얻어지는 광학 필터(10B)에 제조상의 왜곡 등이 발생하지 않는 관점에서 (i)의 배치가 가장 바람직하다.
또한, 투명 기재 위에 근적외선 흡수층(11)을 형성한 것을 사용해도 되고, 그 경우에도, 고체 촬상 소자로부터의, 근적외선 흡수층(11), 제1 유전체 다층막(13a) 및 제2 유전체 다층막(13b)의 위치 관계는, 상기 (i) 내지 (iii)의 위치 관계를 들 수 있다. 투명 기재와 근적외선 흡수층(11)의 위치 관계는, 근적외선 흡수층(11)이 고체 촬상 소자에 가까운 측의 배치로 된다. 이것들을 조합하면, 투명 기재 위에 근적외선 흡수층(11)이 형성된 것을 사용하는 경우에는, 고체 촬상 소자로부터 가까운 순서대로 이하의 (i') 내지 (iii')의 배치가 가능하게 된다.
(i') 제2 유전체 다층막(13b), 근적외선 흡수층(11), 투명 기재, 제1 유전체 다층막(13a)
(ii') 근적외선 흡수층(11), 투명 기재, 제1 유전체 다층막(13a), 제2 유전체 다층막(13b)
(iii') 근적외선 흡수층(11), 투명 기재, 제2 유전체 다층막(13b), 제1 유전체 다층막(13a)
이들 중에서도, 본 실시 형태에서는, (i')의 배치가 가장 바람직하다.
유전체 다층막의 구체적인 층수나 막 두께에 대해서는, 제1 유전체 다층막(13a) 및 제2 유전체 다층막(13b)에 있어서, 각각 요구되는 광학 특성에 따라, 사용하는 고굴절률 재료 및 저굴절률 재료의 굴절률에 기초하여, 유전체 다층막을 사용한 종래의 대역 통과 필터 등의 설계 방법을 사용하여 설정된다. 또한, 설정에 따라서 각 층의 재료를 선택하면, 이것을 사용하여 각 층의 두께를 조정하여 적층하는 방법은 확립되어 있으므로, 유전체 다층막을 설계대로 제조하는 것은 용이하다.
광학 필터의 분광 특성에서는, 투과광 파장과 차광 파장의 경계 파장 영역에서 투과율을 급준하게 변화시키는 성능이 요구된다. 투과광 파장과 차광 파장의 경계 파장 영역에서 투과율을 급준하게 변화시키는 성능을 얻기 위해서는, 유전체 다층막은, 저굴절률의 유전체막과 고굴절률의 유전체막의 합계 적층수로서 15층 이상이 바람직하고, 25층 이상이 보다 바람직하고, 30층 이상이 더욱 바람직하다. 합계 적층수가 증가하면 제작시의 택트가 길어져, 유전체 다층막의 휨 등이 발생하기 때문에, 또한, 유전체 다층막의 막 두께가 증가하기 때문에, 100층 이하가 바람직하고, 75층 이하가 보다 바람직하고, 60층 이하가 더욱 바람직하다. 저굴절률 유전체막과 고굴절률 유전체막의 적층순은 교대이면, 최초의 층이 저굴절률 유전체막이거나 고굴절률 유전체막이어도 되고, 적층의 합계 총 수가 홀수이거나 짝수이어도 된다.
유전체 다층막의 막 두께로서는, 상기 바람직한 적층수를 만족한 상태에서, 광학 필터의 박형화의 관점에서는, 얇은 것이 바람직하다. 이러한 유전체 다층막의 막 두께로서는, 선택 파장 차폐 특성에 따라 다르지만, 2000 내지 5000nm가 바람직하다. 또한, 근적외 흡수층의 양면, 또는 투명 기재와 상기 투명 기재 위에 형성된 근적외 흡수층의 각각의 면에 유전체 다층막을 배치할 경우, 유전체 다층막의 응력에 의해 휨이 발생하는 경우가 있다. 이 휨의 발생을 억제하기 위하여 각각의 면에 성막되는 유전체 다층막의 막 두께의 차는, 원하는 선택 파장 차폐 특성을 갖도록 성막한 상태에서, 가능한 한 적은 것이 바람직하다.
유전체 다층막은, 그 형성시에, 예를 들어 CVD법, 스퍼터링법, 진공 증착법 등의 진공 성막 프로세스나, 스프레이법, 침지법 등의 습식 성막 프로세스 등을 사용할 수 있다.
본 실시 형태의 광학 필터(10A, 10B)는, 근적외선 흡수층(11)을 구비한다. 근적외선 흡수층(11)은, 함유하는 NIR 흡수 색소(A)의 광학 특성에 의해 가시 파장 영역의 광의 투과율이 높고, 파장 630 내지 700nm의 사이에서 급준하게 투과율이 변화하는 특성을 갖고, 또한 이것과 조합하는 투명 수지(B)의 작용에 의해, 차광 파장 영역이 695 내지 720nm까지의 폭넓은 특성을 갖는다. 이 근적외선 흡수층(11)을 가짐으로써, 상기 NIR 흡수 색소(A)의 흡광 특성이 유효하게 이용된 광학 특성을 갖는 본 실시 형태의 광학 필터(10A, 10B)가 얻어진다.
본 실시 형태의 광학 필터(10A)에서는, 광학 필터(10A)가 사용되는 용도에 따라, 광학 필터(10A)와, 다른 선택 파장 차폐층, 특히, 상기 420 내지 695nm의 가시광을 투과하고, 710 내지 1100nm의 파장 영역의 광을 차폐하는 광학 특성을 갖는 선택 파장 차폐층을 갖는 부재와 함께 사용함으로써 상기 NIR 흡수 색소(A)의 흡광 특성이 유효하게 이용된 우수한 근적외선 차폐 특성이 발휘된다.
또한, NIR 흡수 색소(A) 및 투명 수지(B) 또는 투명 수지(B)의 원료 성분과 필요에 따라서 배합되는 다른 성분을, 용매에 분산 또는 용해시켜서 제조한 도포 시공액을 투명 기재(12)의 주면에, 도포 시공, 건조, 또한 필요에 따라 경화 처리함으로써, 근적외선 흡수층(11)을 형성할 수 있기 때문에, 광학 필터(10A)는, 용이하면서도, 또한 저비용으로 제조할 수 있고, 또한, 소형화, 박형화에도 대응할 수 있다.
또한, 본 실시 형태의 광학 필터(10B)는, 근적외선 흡수층(11)과, 다른 선택 파장 차폐층, 특히, 상기 420 내지 695nm의 가시광을 투과하고, 710 내지 1100nm의 파장 영역의 광을 차폐하는 광학 특성을 갖는 선택 파장 차폐층을 조합하여 갖고, 더욱 바람직하게는, 상기 선택 파장 차폐층이 400nm 이하의 자외선 파장 영역의 광을 차폐하는 광학 특성을 갖는 점에서, 상기 NIR 흡수 색소(A)의 흡광 특성이 유효하게 이용된 우수한 근적외선 차폐 특성을 갖는 근적외선 커트 필터로서 사용할 수 있다.
이러한 본 실시 형태의 광학 필터(10B)에 의하면, 예를 들어 420 내지 620nm의 가시광의 투과율이 70% 이상이며, 710 내지 860nm의 파장 영역에서의 광의 투과율이 0.3% 이하며, 또한 상기 식 (2)로 표현되는 투과율의 변화량(Df)이 -0.8 이하인 근적외선 차폐 특성이 우수한 광학 특성을 달성할 수 있다.
또한, 본 실시 형태의 광학 필터(10B)에서는, 근적외선 흡수층(11)과 조합하여 사용하는 것이 바람직한 선택 파장 차폐층에 대해서도, 상기 NIR 흡수 색소(A) 이외의 근적외선 또는 적외선 흡수제, 색조 보정 색소, 자외선 흡수제 등의 각종 흡수제를 투명 수지에 분산시켜서 이루어지는 층의 경우, 근적외선 흡수층(11)과 마찬가지의 공정으로 형성할 수 있기 때문에, 용이하면서도, 또한 저비용으로 제조할 수 있다. 또한, 유전체 다층막에 대해서도 그 제조는 충분히 알려진 방법으로 행할 수 있어 용이하게 제작할 수 있다. 따라서, 본 실시 형태의 광학 필터(10B)에 대해서도, 용이하면서도, 또한 저비용으로 제조할 수 있고, 또한, 소형화, 박형화에도 대응할 수 있다.
본 실시 형태의 광학 필터는, 디지털 스틸 카메라나 디지털 비디오 카메라, 감시 카메라, 차량 탑재용 카메라, 웹 카메라 등의 촬상 장치나 자동 노출계 등의 근적외선 커트용의 광학 필터, PDP용의 광학 필터 등으로서 사용할 수 있다. 본 실시 형태의 광학 필터는 디지털 스틸 카메라나 디지털 비디오 카메라, 감시 카메라, 차량 탑재용 카메라, 웹 카메라 등의 촬상 장치에 있어서 적절하게 사용되고, 광학 필터는, 예를 들어 촬상 렌즈와 고체 촬상 소자의 사이에 배치된다.
또한, 본 실시 형태의 광학 필터는, 디지털 스틸 카메라, 디지털 비디오 카메라, 감시 카메라, 차량 탑재용 카메라, 웹 카메라 등의 촬상 장치의 고체 촬상 소자, 자동 노출계의 수광 소자, 촬상 렌즈, PDP 등에 점착제층을 개재하여 직접 부착하여 사용할 수도 있다. 또한, 차량(자동차 등)의 유리 창이나 램프에도 마찬가지로 점착제층을 개재하여 직접 부착하여 사용할 수 있다.
이하에 도 2를 참조하면서, 본 실시 형태의 광학 필터를 촬상 렌즈와 고체 촬상 소자의 사이에 배치하여 사용한 촬상 장치의 예를 설명한다.
도 2의 (a)는, 상기 광학 필터(10A)를 사용한 촬상 장치의 일례의 주요부를 개략적으로 도시하는 단면도이다. 이 촬상 장치(9A)는, 도 2의 (a)에 도시한 바와 같이, 전방면에 선택층으로서, 상기 광학 필터(10B)가 갖는 제2 유전체 다층막(13b)과 마찬가지의 제2 유전체 다층막(8)이 형성된 고체 촬상 소자(3)와, 그 전방면에 이하의 순서로, 광학 필터(10A)와, 2장의 촬상 렌즈(4)와, 커버 유리(5)를 갖고, 또한 이것들을 고정하는 하우징(6)을 갖는다. 2장의 렌즈(4)는 고체 촬상 소자(3)의 촬상면을 향해 배치된, 제1 렌즈(4a), 제2 렌즈(4b)로 이루어진다. 커버 유리(5)는 제1 렌즈(4a)측에 상기 광학 필터(10B)가 갖는 제1 유전체 다층막(13a)과 마찬가지의 제1 유전체 다층막(7)이 형성되어 있다.
광학 필터(10A)는, 고체 촬상 소자(3)측에 투명 기재(12)가 제2 렌즈(4b)측에 근적외선 흡수층(11)이 위치하도록 배치되어 있다. 또는, 광학 필터(10A)는, 고체 촬상 소자(3)측에 근적외선 흡수층(11)이 제2 렌즈(4b)측에 투명 기재(12)가 위치하도록 배치되어 있어도 된다. 고체 촬상 소자(3)와, 2장의 렌즈(4)는, 광축 x를 따라 배치되어 있다.
촬상 장치(9A)에서는, 피사체측에서 입사한 광은, 커버 유리(5) 및 제1 유전체 다층막(7), 제1 렌즈(4a), 제2 렌즈(4b), 광학 필터(10A), 또한 제2 유전체 다층막(8)을 통해 고체 촬상 소자에 수광된다. 이 수광된 광을 고체 촬상 소자(3)가 전기 신호로 변환하여, 화상 신호로서 출력된다. 입사광은 제1 유전체 다층막(7), 근적외선 흡수층(11)을 갖는 광학 필터(10A), 제2 유전체 다층막(8)의 순서대로 통과함으로써, 충분히 근적외선이 차폐된 광으로서 고체 촬상 소자(3)에서 수광된다.
도 2의 (b)는 상기 광학 필터(10B)를 사용한 촬상 장치의 일례의 주요부를 개략적으로 도시하는 단면도이다. 이 촬상 장치(9B)는, 도 2의 (b)에 도시한 바와 같이, 고체 촬상 소자(3)와, 그 전방면에 이하의 순서로, 광학 필터(10B)와, 2장의 촬상 렌즈(4)와, 커버 유리(5)를 갖고, 또한 이것들을 고정하는 하우징(6)을 갖는다. 2장의 렌즈(4)는 고체 촬상 소자(3)의 촬상면을 향해 배치된, 제1 렌즈(4a), 제2 렌즈(4b)로 이루어진다. 광학 필터(10B)는, 고체 촬상 소자(3)측에 제2 유전체 다층막(13b)이, 제2 렌즈(4b)측에 제1 유전체 다층막(13a)이 위치하도록 배치되어 있다. 고체 촬상 소자(3)와, 2장의 렌즈(4)는, 광축 x를 따라 배치되어 있다.
촬상 장치(9B)에서는, 피사체측에서 입사한 광은, 커버 유리(5), 제1 렌즈(4a), 제2 렌즈(4b), 광학 필터(10B)를 통해 고체 촬상 소자(3)에 수광된다. 이 수광한 광을 고체 촬상 소자(3)가 전기 신호로 변환하여, 화상 신호로서 출력된다. 광학 필터(10B)는, 상기한 바와 같이 NIR 흡수 색소(A)의 흡광 특성이 유효하게 이용된, 우수한 근적외선 차폐 기능을 갖는 광학 필터이기 때문에, 충분히 근적외선이 차폐된 광이 고체 촬상 소자(3)에서 수광된다.
또한, 촬상 장치(9B)에서, 고체 촬상 소자(3)의 전방면에 설치된 광학 필터(10B)를 투명 기재로 바꾸고, 그 대신에 촬상 장치(9B)에서 최전방면에 위치하는 커버 유리(5)를 본 실시 형태의, 근적외선 흡수층(11)을 갖는 광학 필터(10A, 10B)로 치환하여 배치하는 구성으로 해도 된다. 광학 필터(10A)를 사용하는 경우에는, 고체 촬상 소자에 가까운 측의 주면에 근적외선 흡수층(11)이 위치하도록 배치된다. 이 경우, 광학 필터(10A)의 근적외선 흡수층(11)의 고체 촬상 소자측의 주면에, 상기 제2 유전체 다층막을 배치할 수 있다. 또는, 제2 유전체 다층막은, 제1 렌즈(4a), 제2 렌즈(4b) 및 투명 기재에 있어서의 어느 하나의 주면, 고체 촬상 소자의 투명 기재측의 주면 또는 고체 촬상 소자의 광전 변환 소자보다 외측의 내부, 예를 들어 상기 평탄화층의 외측에 배치할 수 있다.
한편, 제1 유전체 다층막은, 광학 필터(10A)가 갖는 투명 기재(12)의 고체 촬상 소자와는 반대측의 주면에 배치할 수 있다. 광학 필터(10B)를 사용하는 경우에는, 상기 (i) 내지 (iii)에 설명한 배치순이 되도록 촬상 장치(30)에 광학 필터(10B)를 배치한다.
(제2 실시 형태)
도 3은, 본 실시 형태에 따른 고체 촬상 소자의 일부를 개략적으로 도시하는 단면도이다. 본 실시 형태의 고체 촬상 소자는, 디지털 스틸 카메라, 디지털 비디오 카메라, 휴대 전화, 노트북형 퍼스널 컴퓨터, PDA(Personal Digital Assistant) 등의 정보 기기에 내장되는, 소형 카메라 등의 촬상 장치에 사용되는 고체 촬상 소자이다. 이 이후의 실시 형태에서는, 중복되는 설명을 피하기 위해서, 제1 실시 형태와 공통되는 점에 대해서는 경우에 따라 설명을 생략하고, 차이점을 중심으로 설명한다.
도 3에 도시한 바와 같이, 이 고체 촬상 소자(20A)에서는, 광전 변환 소자(101) 및 차광층(102)이 형성된 실리콘 기판 등의 반도체 기판(103) 위에 평탄화층(104), 컬러 필터층(105) 및 마이크로렌즈(106)가 순서대로 설치되어 있다. 또한 마이크로렌즈(106) 위에 상기 광학 필터와 마찬가지의 NIR 흡수 색소(A)가 투명 수지(B)에 분산된 근적외선 흡수층(107)이 설치되어 있다.
광전 변환 소자(101)는, 반도체 기판(103)의 표층에 복수 형성되어 있고, 그러한 광전 변환 소자(101)를 제외한 부분에 가시광을 포함하는 전체 광선을 차폐하는 차광층(102)이 형성되어 있다. 광전 변환 소자(101)에 입사된 광은 포토 다이오드에 의해 광전 변환된다. 평탄화층(104)은 수광 소자(101) 및 차광층(102) 위에 형성되어, 전체를 평평하게 하고 있다.
컬러 필터층(105)은, 광전 변환 소자(101)에 대응하여 형성되고, 예를 들어 원색계의 경우, 적색(R), 녹색(G), 청색(B)의 컬러 필터를 포함하여 이루어지며, 보색계(YMC)의 경우, 옐로우(Y), 마젠타(Mg), 시안(Cy)의 컬러 필터를 포함하여 이루어진다. 컬러 필터의 컬러 수에 제한은 없고, 보다 색 재현성을 확장하기 위해서, 예를 들어 상기 원색계에서는, 황색 등을 추가해서 3색 이상으로 해도 된다. 또한, 각 색의 배치도 특별히 제한은 없다. 또한, 본 실시 형태에서는, 컬러 필터층(105)이 전체면에 설치되어 있지만, 그 일부가 설치되어 있지 않거나, 또는 컬러 필터층(105) 자체를 갖지 않은 구조이어도 된다. 컬러 필터는, 예를 들어 안료 또는 염료를 함유하는 수지에 의해 형성된다.
마이크로렌즈(106)는, 예를 들어 폴리스티렌 수지, 아크릴 수지, 폴리올레핀 수지, 폴리이미드 수지, 폴리아미드 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리에틸렌 수지, 노볼락 수지 등의 수지에 의해, 가열 성형법이나 에칭법 등을 사용하여 형성된다. 마이크로렌즈(106)는, 수지 외에, 유리, 결정 등에 의해 형성되어도 된다. 마이크로렌즈(106)를 통과한 광이, 광전 변환 소자(101)에 집광된다.
근적외선 흡수층(107)은, 상기 제1 실시 형태와 마찬가지로 제조한 도포 시공액을 마이크로렌즈(106) 위에 도포 시공하여 건조시키고, 또한 필요에 따라 경화시킴으로써 형성할 수 있다. 또한, 도포 시공, 건조, 필요에 따라서 행해지는 경화는, 복수회로 나누어서 행할 수 있다. 도포 시공액의 제조 방법, 도포 시공액의 도포 시공 방법으로서는, 제1 실시 형태에서 사용한 것과 마찬가지의 것이 사용된다. 따라서, 제1 실시 형태에서 기재한 설명은, 모두 본 실시 형태에도 적용된다.
또한, 근적외선 흡수층(107)의 두께, 광학 특성 등에 대해서도, 상기 제1 실시 형태에서의 근적외선 흡수층과 마찬가지로 할 수 있다.
본 실시 형태의 고체 촬상 소자(20A)는, 도시되어 있지 않으나, 근적외선 흡수층(107)의 편측 또는 양측에 선택 파장 차폐층을 더 구비하는 것이 바람직하다.
선택 파장 차폐층으로서는, 420 내지 695nm의 가시광을 투과하고, 710 내지 1100nm의 파장 영역의 광을 차폐하는 광학 특성을 갖는 것이 바람직하다. 차폐하는 파장 영역은, 710 내지 1200nm가 보다 바람직하다. 근적외선 흡수층(107)을 이러한 선택 파장 차폐층과 조합하여 사용하면, 근적외선 영역의 광을 고성능으로 차폐할 수 있다. 선택 파장 차폐층은 또한, 400nm 이하의 자외선 파장 영역의 광을 차폐하는 광학 특성을 갖는 것이 바람직하고, 410nm 이하의 광의 차폐성을 갖는 것이 보다 바람직하다.
선택 파장 차폐층은 1층으로 상기 소정의 파장 영역의 광을 차폐하도록 해도 되고, 복수 층을 조합하여 소정의 파장 영역의 광을 차폐하도록 해도 된다. 또한, 선택 파장 차폐층은, 근적외선 흡수층(107)의 내측에서는 반드시 근적외선 흡수층(107)에 접하게 설치할 필요는 없으며, 광전 변환 소자(101)와 근적외선 흡수층(107)의 사이이면 배치하는 위치는 적절히 선택할 수 있다. 예를 들어, 마이크로렌즈(106)의 하면, 컬러 필터층(105)의 하면 또는 평탄화층(104)의 하면에 설치되어 있어도 되고, 또는, 이것들의 2군데 이상에 설치되어 있어도 된다.
본 실시 형태의 고체 촬상 소자(20A)에 있어서, 선택 파장 차폐층을 근적외선 흡수층(107)의 외측에 설치하는 경우에는, 근적외선 흡수층(107)보다 외측에 구성 요소가 존재하지 않기 때문에, 필연적으로 근적외선 흡수층(107)의 외측 표면에 설치하게 된다. 그러나, 반드시, 고체 촬상 소자(20A)만으로 완전히 근적외선 차폐를 달성할 필요는 없으며, 상기 근적외선 흡수층(107)의 외측에 설치하는 선택 파장 차폐층을, 후술하는 촬상 장치에 있어서 고체 촬상 소자(20A)의 전방면에 배치되는 각종 광학 부재의 주면 중 어느 하나에 설치함으로써 대응할 수도 있다. 용도에 따라, 이들 중에서 설치 개소를 적절히 선택하면 된다.
근적외선 흡수층(107)과 선택 파장 차폐층의 구체적인 조합으로서는, 광전 변환 소자(101)로부터 먼 측부터 순서대로 420 내지 695nm의 가시광은 투과하고 이하의 반사 파장 영역을 갖는 제1 유전체 다층막, 근적외선 흡수층(107), 420 내지 695nm의 가시광은 투과하고 이하의 반사 파장 영역을 갖는 제2 유전체 다층막이 배치되는 조합을 들 수 있다.
제1 유전체 다층막이 갖는 반사 파장 영역은, 예를 들어 그 단파장측의 단부의 파장이, 710nm 이상, 근적외선 흡수층(107)에 의한 흡수 파장 영역의 장파장측의 단부의 파장 이하고, 그 장파장측의 단부의 파장이 바람직하게는 820 내지 950nm 부근의 파장의 영역을 포함하는 것이다. 상기 반사 파장 영역은, 또한 필요에 따라서 다른 영역을 포함해도 된다.
제2 유전체 다층막이 갖는 반사 파장 영역은, 예를 들어 그 단파장측의 단의 파장이, 710nm를 초과하고 상기 제1 유전체 다층막의 반사 파장 영역의 장파장측의 단부의 파장 이하고, 그 장파장측의 단부의 파장이, 바람직하게는 1100nm 이상, 보다 바람직하게는 1200nm 이상의 파장의 영역을 포함하는 것이다. 상기 반사 파장 영역은, 400nm 이하, 보다 바람직하게는 410nm 이하의 자외선 파장 영역을 포함하는 것이 바람직하다.
이 경우, 상술한 바와 같이 제1 유전체 다층막은, 근적외선 흡수층(107)의 상면에 형성되는데, 제2 유전체 다층막은, 마이크로렌즈(106)의 상면 또는 하면, 또는, 컬러 필터층(105)의 하면 또는 평탄화층(104)의 하면에 설치되어 있어도 된다.
또한, 고체 촬상 소자(20A)에는, 예를 들어 마이크로렌즈(106)의 상면, 또는 마이크로렌즈(106)의 상면에 설치된 근적외선 흡수층(107)이나 그 위에 선택 파장 차폐층이 형성되어 있는 경우에는, 그 위에 종래 공지된 방법으로 반사 방지층을 형성하도록 해도 된다. 반사 방지층을 형성함으로써, 입사광의 재반사를 방지할 수 있고, 촬상 화상의 품질을 향상시킬 수 있다. 또한, 선택 파장 차폐층에 대한 구체적인 형태는 바람직한 형태를 포함해서, 상기 제1 실시 형태의 광학 필터에서의 선택 파장 차폐층과 마찬가지로 할 수 있다.
고체 촬상 소자(20A)에서는, 마이크로렌즈(106)의 상면에 근적외선 흡수층(107)이 1층 설치되어 있지만, 근적외선 흡수층(107)은, 마이크로렌즈(106)의 하면, 컬러 필터층(105)의 하면 또는 평탄화층(104)의 하면에 설치되어 있어도 되고, 또는, 이것들의 2군데 이상에 설치되어 있어도 된다.
도 4는 그러한 예를 나타낸 것이다. 도 4에 도시하는 고체 촬상 소자(20B)에서는, 근적외선 흡수층(107)은 평탄화층(104)과 컬러 필터층(105)의 사이에 설치되어 있다. 고체 촬상 소자(20B)에서는, 마이크로렌즈(106) 상면에 비해 편평한 면에 대한 설치가 되기 때문에, 고체 촬상 소자(20A)에 비하여, 근적외선 흡수층(107)의 형성이 용이하게 된다.
도시되어 있지 않으나, 고체 촬상 소자(20B)에서도, 근적외선 흡수층(107)의 편측 또는 양측에 선택 파장 차폐층을 더 구비하는 것이 바람직하다. 선택 파장 차폐층의 광학 특성이나 배치는, 상기 고체 촬상 소자(20A)에서 설명한 것과 마찬가지로 할 수 있다. 근적외선 흡수층(107)에 접하도록 선택 파장 차폐층을 설치하는 경우에는, 상기 층을 형성하는 면도 편평한 면이 되므로, 고체 촬상 소자(20A)에 비해 이들의 층의 형성도 용이하게 된다.
본 실시 형태의 고체 촬상 소자(20A, 20B)가, 근적외선 흡수층(107)과, 상기 420 내지 695nm의 가시광을 투과하고, 710 내지 1100nm의 파장 영역의 광을 차폐하는 광학 특성을 갖는 선택 파장 차폐층을 조합하여 갖는 경우에는, 종래, 별체로 배치했던 근적외선 커트 필터를 생략할 수 있어, 촬상 장치의 소형화, 박형화, 저비용화를 이룰 수 있다.
근적외선 흡수층(107)은, 함유하는 NIR 흡수 색소(A)의 광학 특성에 의해 가시 파장 영역의 광의 투과율이 높고, 파장 630 내지 700nm의 사이에서 급준하게 투과율이 변화하는 특성을 갖고, 또한 이것과 조합하는 투명 수지(B)의 작용에 의해, 차광 파장 영역이 695 내지 720nm까지의 폭넓은 특성을 갖는다. 이 근적외선 흡수층(107)을 가짐으로써, 상기 NIR 흡수 색소(A)의 흡광 특성이 유효하게 이용된 광학 특성을 갖는 본 실시 형태의 고체 촬상 소자(20A, 20B)가 얻어진다.
본 실시 형태의 고체 촬상 소자(20A, 20B)에서는, 이 근적외선 흡수층(107)과 다른 선택 파장 차폐층, 특히 상기 420 내지 695nm의 가시광을 투과하고, 710 내지 1100nm의 파장 영역의 광을 차폐하는 광학 특성을 갖는 선택 파장 차폐층을 조합하여 가짐으로써, 상기 NIR 흡수 색소(A)의 흡광 특성이 유효하게 이용된, 우수한 근적외선 차폐 특성을 갖는 고체 촬상 소자로 할 수 있다.
또한, 고체 촬상 소자(20A, 20B)가, 근적외선 흡수층(107)과 함께 사용함으로써 근적외선 커트 필터 기능이 발휘되는 상기 420 내지 695nm의 가시광을 투과하고, 710 내지 1100nm의 파장 영역의 광을 차폐하는 광학 특성을 갖는 선택 파장 차폐층을 갖지 않는 경우에도, 고체 촬상 소자(20A, 20B)가 사용되는 촬상 장치에 있어서, 고체 촬상 소자(20A, 20B)의 전방면에 배치되는 상기 촬상 장치를 구성하는 다른 광학 부재에 상기 선택 파장 차폐층을 형성함으로써, 상기 NIR 흡수 색소(A)의 흡광 특성이 유효하게 이용된, 우수한 근적외선 차폐 특성을 갖는 촬상 장치로 할 수 있다.
또한, NIR 흡수 색소(A) 및 투명 수지(B) 또는 투명 수지(B)의 원료 성분과 필요에 따라서 배합되는 다른 성분을, 용매에 분산 또는 용해시켜서 제조한 도포 시공액을 마이크로렌즈(106)의 상면에, 도포 시공, 건조, 또한 필요에 따라 경화 처리함으로써, 근적외선 흡수층(107)을 형성할 수 있기 때문에, 고체 촬상 소자로서의 기능을 손상시키지 않는다. 또한, 근적외선 흡수층(107)과 조합하여 사용하는 것이 바람직한 선택 파장 차폐층에 대해서도, 상기 NIR 흡수 색소(A) 이외의 근적외선 또는 적외선 흡수제, 색조 보정 색소, 자외선 흡수제 등의 각종 흡수제를 투명 수지에 분산시켜서 이루어지는 층의 경우, 근적외선 흡수층(107)과 마찬가지의 공정으로 형성할 수 있기 때문에, 고체 촬상 소자로서의 기능을 손상시키는 일도 없다. 또한, 유전체 다층막에 대해서도 고체 촬상 소자로서의 기능을 손상시키지 않고 형성할 수 있다.
이로 인해, 본 실시 형태의 고체 촬상 소자(20A, 20B)는, 상기 NIR 흡수 색소(A)의 흡광 특성이 유효하게 이용된 광학 특성과 고체 촬상 소자로서의 기능을 겸비할 수 있고, 이것을 사용하여, 소형이면서 또한 박형이며, 저비용으로, 게다가 촬상 화상의 품질이 우수한 촬상 장치를 얻을 수 있다.
(제3 실시 형태)
도 5는 본 실시 형태에 따른 촬상 장치용 렌즈를 도시하는 단면도이다. 이 촬상 장치용 렌즈는, 디지털 스틸 카메라, 디지털 비디오 카메라, 휴대 전화, 노트북형 퍼스널 컴퓨터, PDA 등의 정보 기기에 내장되는 소형 카메라 등의 촬상 장치의, 고체 촬상 소자에 결상시키는 렌즈계의 전부 또는 일부를 구성하는 렌즈이다.
도 5에 도시하는 촬상 장치용 렌즈(70A)에서는, 렌즈 본체(71)로서, 한쪽 면(71a)이 오목면을 갖고, 다른 쪽의 면(71b)이 볼록면을 갖고, 또한, 외주부에 평판부(74)을 갖는 유리 요철 렌즈가 사용되고 있다. 이 유리 요철 렌즈의 오목면측의 면(71a)에 상기 광학 필터와 마찬가지의 NIR 흡수 색소(A)가 투명 수지(B)에 분산된 근적외선 흡수층(72)이 설치되고, 다른 쪽의 볼록면측의 면(71b)에 반사 방지막(73)이 설치되어 있다. 도 5에 도시한 바와 같은 요철 렌즈는, 볼록 렌즈의 기능을 갖는 것은 볼록 메니스커스, 오목 렌즈의 기능을 갖는 것은 오목 메니스커스라고 불리고 있다.
근적외선 흡수층(72)은, 상기 제1 실시 형태와 마찬가지로 제조한 도포 시공액을 렌즈 본체(71)의 한쪽 면(71a) 위에 도포 시공하여 건조시키고, 또한 필요에 따라 경화시킴으로써 형성할 수 있다. 또한, 도포 시공, 건조, 필요에 따라서 행해지는 경화는, 복수회로 나누어서 행할 수 있다. 도포 시공액의 제조 방법, 도포 시공액의 도포 시공 방법으로서는, 제1 실시 형태에서 사용한 것과 마찬가지의 것이 사용된다. 따라서, 제1 실시 형태에서 기재한 설명은, 모두 본 실시 형태에도 적용된다.
또한, 근적외선 흡수층(72)의 두께, 광학 특성 등에 대해서도, 상기 제1 실시 형태에서의 근적외선 흡수층과 마찬가지로 할 수 있다.
또한, 예를 들어 렌즈 본체(71)의 한쪽 면(71a)에 종래 공지된 방법으로 반사 방지막(73)을 설치하고, 다른 쪽의 면(71b)에 근적외선 흡수층(72)을 설치할 수도 있다. 또한, 다른 쪽의 면(71b)에, 반사 방지막(73) 대신에, 한쪽 면(71a)과 마찬가지의 근적외선 흡수층(72)을 형성해도 된다. 즉, 렌즈 본체(71)의 양쪽의 주면(71a, 71b)에 모두 근적외선 흡수층(72)을 설치할 수도 있다.
본 실시 형태의 촬상 장치용 렌즈(70A)는, 도시되어 있지 않으나, 근적외선 흡수층(72)의 편측 또는 양측에 선택 파장 차폐층을 더 구비하는 것이 바람직하다.
선택 파장 차폐층으로서는, 420 내지 695nm의 가시광을 투과하고, 710 내지 1100nm의 파장 영역의 광을 차폐하는 광학 특성을 갖는 것이 바람직하다. 광을 차폐하는 파장 영역은, 710 내지 1200nm가 보다 바람직하다. 근적외선 흡수층(72)을 이러한 선택 파장 차폐층과 조합하여 사용하면, 근적외선 영역의 광을 고성능으로 차폐할 수 있다. 선택 파장 차폐층은 또한, 400nm 이하의 자외선 파장 영역의 광을 차폐하는 광학 특성을 갖는 것이 바람직하고, 410nm 이하의 광의 차폐성을 갖는 것이 보다 바람직하다.
선택 파장 차폐층은 1층으로 상기 소정의 파장 영역의 광을 차폐하도록 해도 되고, 복수 층을 조합하여 소정의 파장 영역의 광을 차폐하도록 해도 된다. 또한, 선택 파장 차폐층은, 근적외선 흡수층(72)의 내측에서는 반드시 근적외선 흡수층(72)에 접하게 설치할 필요는 없으며, 예를 들어 렌즈 본체(71)의 근적외선 흡수층(72)을 갖는 면의 반대면에 설치되어 있어도 된다.
본 실시 형태의 촬상 장치용 렌즈(70A)에 있어서, 선택 파장 차폐층을 근적외선 흡수층(72)의 외측에 설치하는 경우에는, 근적외선 흡수층(72)보다 외측에 구성 요소가 존재하지 않기 때문에, 필연적으로 근적외선 흡수층(72)의 외측 표면에 설치하게 된다.
여기서, 촬상 장치용 렌즈(70A)에 있어서, 촬상 장치용 렌즈만으로 완전히 근적외선 차폐를 달성할 필요는 없으며, 상기 근적외선 흡수층(72)의 편측 또는 양측에 설치하는 선택 파장 차폐층을, 후술하는 촬상 장치에 있어서 고체 촬상 소자의 전방면에 촬상 장치용 렌즈(70A)와 함께 배치되는 다른 광학 부재의 주면이나 고체 촬상 소자의 표면, 즉 전방측의 주면에 설치함으로써 대응할 수도 있다. 용도에 따라, 이들 중에서 설치 개소를 적절히 선택하면 된다.
근적외선 흡수층(72)과 선택 파장 차폐층의 구체적인 조합으로서는, 고체 촬상 소자로부터 먼 측부터 순서대로 420 내지 695nm의 가시광은 투과하고 이하의 반사 파장 영역을 갖는 제1 유전체 다층막, 근적외선 흡수층(72), 420 내지 695nm의 가시광은 투과하고 이하의 반사 파장 영역을 갖는 제2 유전체 다층막이 배치되는 조합을 들 수 있다.
제1 유전체 다층막이 갖는 반사 파장 영역은, 예를 들어 그 단파장측의 단부의 파장이, 710nm 이상, 근적외선 흡수층(72)에 의한 흡수 파장 영역의 장파장측의 단부의 파장 이하고, 그 장파장측의 단부의 파장이 바람직하게는 820 내지 950nm 부근의 파장의 영역을 포함하는 것이다. 상기 반사 파장 영역은, 또한 필요에 따라서 다른 영역을 포함해도 된다.
제2 유전체 다층막이 갖는 반사 파장 영역은, 예를 들어 그 단파장측의 단부의 파장이, 710nm를 초과하고 상기 제1 유전체 다층막의 반사 파장 영역의 장파장측의 단부의 파장 이하고, 그 장파장측의 단부의 파장이, 바람직하게는 1100nm 이상, 보다 바람직하게는 1200nm 이상의 파장의 영역을 포함하는 것이다. 상기 반사 파장 영역은, 400nm 이하, 보다 바람직하게는 410nm 이하의 자외선 파장 영역을 포함하는 것이 바람직하다.
촬상 장치에 있어서 고체 촬상 소자의 전방면에 배치되는 촬상 장치용 렌즈(70A)의 방향에 따라, 촬상 장치용 렌즈(70A)에서의 상기 제1 유전체 다층막 및 제2 유전체 다층막의 배치 위치를 결정한다.
렌즈 본체(71)에 사용되는 렌즈는, 종래, 이러한 종류의 용도로 사용되는 렌즈이면, 형상이나 재질 등은 특별히 한정되는 것은 아니다.
렌즈 본체(71)를 구성하는 재료로서는, 예를 들어 수정, 니오븀산 리튬, 사파이어 등의 결정; BK7, 석영, 정밀 프레스 성형용 저융점 유리 등의 유리; 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리부틸렌테레프탈레이트(PBT) 등의 폴리에스테르 수지, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌아세트산 비닐 공중합체 등의 폴리올레핀 수지, 노르보르넨 수지, 폴리아크릴레이트, 폴리메틸메타크릴레이트 등의 아크릴 수지, 우레탄 수지, 염화비닐 수지, 불소 수지, 폴리카르보네이트 수지, 폴리비닐부티랄 수지, 폴리비닐알코올 수지 등의 플라스틱 등을 들 수 있다. 이들 재료는, 자외 영역 및/또는 근적외 영역의 파장의 광에 대하여 흡수 특성을 갖는 것이어도 된다. 또한, 렌즈 본체(71)는, 예를 들어 불소 인산염계 유리나 인산염계 유리 등에 CuO 등을 첨가한 색 유리로 구성되어 있어도 된다. 또한, 도면은, 모두 굴절형 렌즈의 예인데, 프레넬 렌즈 등의 회절을 이용한 회절 렌즈나, 굴절과 회절을 병용한 하이브리드 렌즈 등이어도 된다.
렌즈 본체(71)는 또한, 복수의 렌즈를 접착제로 접합한 구조의 것이어도 좋고, 이 경우, 접합면에 근적외선 흡수층(72)을 설치할 수 있다. 도 6은, 그러한 촬상 장치용 렌즈의 일례를 나타낸 것이다. 이 촬상 장치용 렌즈(70B)는, 렌즈 본체(71)가 2개의 렌즈(71A, 71B)로 구성되며, 렌즈(71A, 71B)는, 외주부에 평판부(74)를 갖고, 렌즈(71A, 71B)의 접합면에 근적외선 흡수층(72)을 설치함과 함께, 접합면과는 반대측의 면에 반사 방지막(73)을 설치하고 있다. 이 촬상 장치용 렌즈(70B)는, 2개의 렌즈(71A, 71B)의 한쪽, 예를 들어 렌즈(71A)에 근적외선 흡수층(72)을 설치하고, 접착제로 다른 쪽, 예를 들어 렌즈(71B)와 일체로 접합하여 형성하도록 해도 되고, 또는, 2개의 렌즈(71A, 71B)를, 근적외선 흡수층(72)을 접착제로서 접합하도록 해도 된다.
도시되어 있지 않으나, 촬상 장치용 렌즈(70B)에서도, 근적외선 흡수층(72)의 편측 또는 양측에 선택 파장 차폐층을 더 구비하는 것이 바람직하다. 선택 파장 차폐층의 광학 특성이나 배치는, 상기 촬상 장치용 렌즈(70A)에서 설명한 것과 마찬가지로 할 수 있다.
렌즈 본체(71)에 사용하는 렌즈의 종류나, 반사 방지막(73)의 유무 등은, 용도나, 조합하여 사용하는 렌즈의 종류, 배치 장소 등을 고려하여 적절히 정해진다.
렌즈 본체(71)로서 유리를 포함하여 이루어지는 렌즈를 사용하는 경우, 그 표면은, 근적외선 흡수층(72)이나 반사 방지막(73)과의 밀착성을 높이기 위해서, 실란 커플링제에 의한 표면 처리가 실시되어 있어도 된다. 실란 커플링제로서는, 예를 들어 γ-아미노프로필 트리에톡시실란, N-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필 트리메톡시실란, N-β-(아미노에틸)-N'-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필 트리에톡시실란, γ-아닐리노프로필 트리메톡시실란과 같은 아미노실란류나, γ-글리시독시프로필 트리메톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란과 같은 에폭시 실란류, 비닐 트리메톡시실란, N-β-(N-비닐벤질아미노에틸)-γ-아미노프로필 트리메톡시실란과 같은 비닐실란류, γ-메타크릴옥시프로필 트리메톡시실란, γ-클로로프로필 트리메톡시실란, γ-머캅토프로필 트리메톡시실란 등을 사용할 수 있다.
렌즈 본체(71)로서 플라스틱을 포함하여 이루어지는 렌즈를 사용하는 경우, 근적외선 흡수층(72)이나 반사 방지막(73)을 형성하기 전에, 렌즈 표면에 코로나 처리나 접착 용이화 처리를 실시하는 것이 바람직하다.
본 실시 형태의 촬상 장치용 렌즈(70A, 70B)가, 근적외선 흡수층(72)과, 상기 420 내지 695nm의 가시광을 투과하고, 710 내지 1100nm의 파장 영역의 광을 차폐하는 광학 특성을 갖는 선택 파장 차폐층을 조합하여 갖는 경우에는, 종래, 별체로 배치했던 근적외선 커트 필터를 생략할 수 있어, 촬상 장치의 소형화, 박형화, 저비용화를 이룰 수 있다.
근적외선 흡수층(72)은, 함유하는 NIR 흡수 색소(A)의 광학 특성에 의해 가시 파장 영역의 광의 투과율이 높고, 파장 630 내지 700nm의 사이에서 급준하게 투과율이 변화하는 특성을 갖고, 또한 이것과 조합하는 투명 수지(B)의 작용에 의해, 차광 파장 영역이 695 내지 720nm까지의 폭넓은 특성을 갖는다. 이 근적외선 흡수층(72)을 가짐으로써, 상기 NIR 흡수 색소(A)의 흡광 특성이 유효하게 이용된 광학 특성을 갖는 본 실시 형태의 촬상 장치용 렌즈(70A, 70B)가 얻어진다.
본 실시 형태의 촬상 장치용 렌즈(70A, 70B)에서는, 이 근적외선 흡수층(72)과 다른 선택 파장 차폐층, 특히 상기 420 내지 695nm의 가시광을 투과하고, 710 내지 1100nm의 파장 영역의 광을 차폐하는 광학 특성을 갖는 선택 파장 차폐층을 조합하여 가짐으로써, 상기 NIR 흡수 색소(A)의 흡광 특성이 유효하게 이용된, 우수한 근적외선 차폐 특성을 갖는 촬상 장치용 렌즈로 할 수 있다.
또한, 촬상 장치용 렌즈(70A, 70B)가, 근적외선 흡수층(72)과 함께 사용함으로써 근적외선 커트 필터 기능이 발휘되는 상기 420 내지 695nm의 가시광을 투과하고, 710 내지 1100nm의 파장 영역의 광을 차폐하는 광학 특성을 갖는 선택 파장 차폐층을 갖지 않는 경우에도, 촬상 장치용 렌즈(70A, 70B)가 사용되는 촬상 장치에 있어서, 촬상 장치용 렌즈(70A, 70B)와 함께 상기 촬상 장치를 구성하는 다른 광학 부재에 상기 선택 파장 차폐층을 형성함으로써, 상기 NIR 흡수 색소(A)의 흡광 특성이 유효하게 이용된, 우수한 근적외선 차폐 특성을 갖는 촬상 장치로 할 수 있다.
또한, NIR 흡수 색소(A) 및 투명 수지(B) 또는 투명 수지(B)의 원료 성분과 필요에 따라서 배합되는 다른 성분을, 용매에 분산 또는 용해시켜서 제조한 도포 시공액을 렌즈 본체(71)의 주면에, 도포 시공, 건조, 또한 필요에 따라 경화 처리함으로써, 근적외선 흡수층(72)을 형성할 수 있기 때문에, 촬상 장치용 렌즈(70)는 용이하면서도 또한 저비용으로 제조할 수 있다. 또한, 근적외선 흡수층(72)과 조합하여 사용하는 것이 바람직한 선택 파장 차폐층에 대해서도, 상기 NIR 흡수 색소(A) 이외의 근적외선 또는 적외선 흡수제, 색조 보정 색소, 자외선 흡수제 등의 각종 흡수제를 투명 수지에 분산시켜서 이루어지는 층의 경우, 근적외선 흡수층(72)과 마찬가지의 공정으로 형성할 수 있기 때문에, 용이하면서도 또한 저비용으로 제조할 수 있다. 또한, 유전체 다층막에 대해서도 그 제조는 충분히 알려진 방법으로 행할 수 있어 용이하게 제작할 수 있다.
이로 인해, 본 실시 형태의 촬상 장치용 렌즈(70A, 70B)는, 상기 NIR 흡수 색소(A)의 흡광 특성이 유효하게 이용된 광학 특성과 촬상 장치용 렌즈로서의 기능을 겸비할 수 있고, 이것을 사용하여, 소형이면서도 또한 박형이며, 저비용으로, 게다가 촬상 화상의 품질이 우수한 촬상 장치를 얻을 수 있다.
(제4 실시 형태)
도 7은, 상기 제2 실시 형태의 고체 촬상 소자(20A)를 사용한 본 실시 형태에 따른 촬상 장치의 일례의 주요부를 개략적으로 도시하는 단면도이다. 이 촬상 장치(30)는, 도 7에 도시한 바와 같이, 고체 촬상 소자(20A)와, 커버 유리(31)와, 복수의 렌즈군(32)과, 조리개(33)와, 이들을 고정하는 하우징(34)을 갖는다. 복수의 렌즈군(32)은, 고체 촬상 소자(20A)의 촬상면을 향해 배치된, 제1 렌즈(L1), 제2 렌즈(L2), 제3 렌즈(L3) 및 제4 렌즈(L4)를 포함하여 이루어진다. 제4 렌즈(L4)와 제3 렌즈(L3)의 사이에, 조리개(33)가 배치되어 있다. 고체 촬상 소자(20A)와, 렌즈군(32)과, 조리개(33)는, 광축 x를 따라 배치되어 있다.
또한, 고체 촬상 소자(20A)에서는, 근적외선 흡수층(107)의 편측 또는 양측에 420 내지 695nm의 가시광을 투과하고, 710 내지 1100nm의 파장 영역의 광을 차폐하는 광학 특성을 갖는 선택 파장 차폐층이 설치되어 있다. 여기서, 광을 차폐하는 파장 영역은, 710 내지 1200nm가 보다 바람직하다.
촬상 장치(30)에서는, 피사체측에서 입사한 광은, 제1 렌즈(L1), 제2 렌즈(L2), 제3 렌즈(L3), 조리개(33), 제4 렌즈(L4) 및 커버 유리(31)를 통해 고체 촬상 소자(20A)에 수광된다. 이 수광된 광을 고체 촬상 소자(20A)가 전기 신호로 변환하여, 화상 신호로서 출력된다. 고체 촬상 소자(20A)에는, 근적외선 흡수층(107)이 설치되어 있고, 또한, 근적외선 흡수층(107)의 편측 또는 양측에 420 내지 695nm의 가시광을 투과하고, 710 내지 1100nm의 파장 영역의 광을 차폐하는 광학 특성을 갖는 선택 파장 차폐층이 설치되어 있기 때문에, 근적외선이 차폐된 광이 고체 촬상 소자(20A)에서 수광된다.
상기에서 선택 파장 차폐층은, 근적외선 흡수층(107)의 편측 또는 양측의 주면 위에 접하는 형태로 설치되어도 되고, 또는, 고체 촬상 소자(20A) 내의 근적외선 흡수층(107)과 광전 변환 소자(101)의 사이의 어느 하나의 층간에 설치되어도 된다. 또한, 필요에 따라 상기 렌즈군(32)이나 커버 유리(31)에서 선택되는 어느 하나의 부재의 편측 또는 양측의 주면 위에 설치되어도 된다.
상기에서 사용하는 선택 파장 차폐층은 또한, 400nm 이하의 자외선 파장 영역의 광을 차폐하는 광학 특성을 갖는 것이 바람직하고, 410nm 이하의 광의 차폐성을 갖는 것이 보다 바람직하다. 상기 선택 파장 차폐층이 근적외선 영역의 광은 차폐하는데 400nm 이하의 자외선 파장 영역의 광을 차폐하는 광학 특성을 갖지 않는 경우에는, 이것과는 별도로 이러한 자외선 파장 영역의 광을 차폐하는 선택 파장 차폐층을 형성해도 된다. 상기 선택 파장 차폐층이 배치되는 위치는, 특별히 제한되지 않지만, 근적외선 흡수층(107)의 내측으로, 광전 변환 소자(101)와의 사이의 어느 하나의 층간이어도 된다. 또한, 이러한 선택 파장 차폐층을, 2군데 이상에 설치할 수도 있다.
여기서, 고체 촬상 소자(20A)가 갖는 근적외선 흡수층(107)과 선택 파장 차폐층의 구체적인 조합으로서, 광전 변환 소자(101)로부터 먼 측부터 순서대로 상기 제2 실시 형태에서 설명한 것과 마찬가지의 광학 특성을 갖는 제1 유전체 다층막, 근적외선 흡수층(107), 상기 제2 실시 형태에서 설명한 것과 마찬가지의 광학 특성을 갖는 제2 유전체 다층막이 배치되는 조합을 들 수 있다. 이것들이 배치되는 조합에 대해서는 이하와 같이 할 수 있다.
제1 유전체 다층막은, 고체 촬상 소자(20A)가 갖는 근적외선 흡수층(107)의 표면, 즉 커버 유리(31)측의 주면, 또는 커버 유리(31)의 양쪽의 주면, 제2 내지 제4 각 렌즈에서의 양쪽의 주면, 제1 렌즈의 내측의 주면에서 선택되는 어느 하나의 면 위에 설치할 수 있다. 제2 유전체 다층막의 배치에 대해서는, 상기 고체 촬상 소자(20A)에서 설명한 위치에 설치할 수 있다.
촬상 장치(30)에 있어서, 근적외선 흡수층(107)을 갖지 않는 것 이외는 고체 촬상 소자(20A)와 마찬가지의 고체 촬상 소자를 사용하고, 그 대신에 제4 렌즈(L4)를, 상기 제3 실시 형태의, 근적외선 흡수층(72)을 갖는 촬상 장치용 렌즈(70A)로 치환하여 배치한 경우에 대하여 설명한다. 이 촬상 장치에 있어서, 촬상 장치용 렌즈(70A)는, 상기 렌즈가 갖는 근적외선 흡수층(72)이 고체 촬상 소자보다 먼 측에 위치하도록 배치되어 있다. 이 경우, 촬상 장치용 렌즈(70A)에는, 근적외선 흡수층(72)을 갖는 측과 반대측의 주면에, 위에서 설명한 반사 방지막(73) 대신에, 상기 제2 유전체 다층막을 배치할 수 있다. 제2 유전체 다층막은, 또는, 렌즈(32)의 어느 하나의 주면, 커버 유리(31)의 어느 하나의 주면, 또는, 고체 촬상 소자의 커버 유리(31)측의 주면 또는 고체 촬상 소자의 광전 변환 소자보다 외측의 내부, 예를 들어 상기 평탄화층의 외측에 배치할 수 있다.
한편, 제1 유전체 다층막은, 촬상 장치용 렌즈(70A)가 갖는 근적외선 흡수층(72)의 촬상 소자와는 반대측의 주면, 즉 제3 렌즈(L3)측의 주면 또는 제2 렌즈(L2), 제3 렌즈(L3)에서의 양쪽의 주면, 제1 렌즈의 내측의 주면에서 선택되는 어느 한쪽 면 위에 배치할 수 있다.
또한, 촬상 장치(30)에 있어서, 근적외선 흡수층(107)을 갖지 않는 것 이외는 고체 촬상 소자(20A)와 마찬가지의 고체 촬상 소자를 사용하고, 그 대신에 커버 유리(31)를 상기 제1 실시 형태의, 예를 들어 근적외선 흡수층(11)을 갖는 광학 필터(10A, 10B)로 치환하여 배치하는 구성으로 해도 된다. 광학 필터(10A)를 사용하는 경우에는, 고체 촬상 소자에 가까운 측의 주면에 근적외선 흡수층(11)이 위치하도록 배치된다. 이 경우, 광학 필터(10A)의 근적외선 흡수층(11)의 고체 촬상 소자측의 주면에, 상기 제2 유전체 다층막을 배치할 수 있다. 제2 유전체 다층막은, 또는, 고체 촬상 소자의 광학 필터(10A)측의 주면 또는 고체 촬상 소자의 광전 변환 소자보다 외측의 내부, 예를 들어 상기 평탄화층의 외측에 배치할 수 있다.
한편, 제1 유전체 다층막은, 광학 필터(10A)가 갖는 투명 기재(12)의 고체 촬상 소자와는 반대측의 주면, 즉 제4 렌즈(L4)측의 주면, 또는 제2 렌즈(L2), 제3 렌즈(L3), 제4 렌즈(L4)에서의 양쪽의 주면, 제1 렌즈의 내측의 주면에서 선택되는 어느 한쪽 면 위에 배치할 수 있다.
광학 필터(10B)와 같은 상기 근적외선 흡수층, 제1 유전체 다층막 및 제2 유전체 다층막을 조합하여 갖는 광학 필터를 사용하는 경우에는, 상기 (i) 내지 (iii)에 설명한 배치순이 되도록 촬상 장치(30)에 광학 필터(10B) 등을 배치한다.
상술한 바와 같이, 고체 촬상 소자(20A)가 갖는 근적외선 흡수층(107), 촬상 장치용 렌즈(70A)가 갖는 근적외선 흡수층(72), 광학 필터(10A, 10B)가 갖는 근적외선 흡수층(11)이 함유하는 NIR 흡수 색소(A)의 광학 특성에 의해 가시 파장 영역의 광의 투과율이 높고, 파장 630 내지 700nm의 사이에서 급준하게 투과율이 변화하는 특성을 갖고, 또한 이것과 조합하는 투명 수지(B)의 작용에 의해, 차광 파장 영역이 695 내지 720nm까지의 폭넓은 특성을 갖는다. 따라서, 본 실시 형태에 따른 촬상 장치가 갖는 고체 촬상 소자(20A), 촬상 장치용 렌즈(70A), 또는 광학 필터(10A, 10B)는, 근적외선 흡수층을 가짐으로써, 상기 NIR 흡수 색소(A)의 흡광 특성이 유효하게 이용된 광학 특성을 갖는다.
이러한, 고체 촬상 소자(20A), 촬상 장치용 렌즈(70A) 및 광학 필터(10A, 10B)는, 이 근적외선 흡수층과 다른 선택 파장 차폐층, 특히 상기 420 내지 695nm의 가시광을 투과하고, 710 내지 1100nm의 파장 영역의 광을 차폐하는 광학 특성을 갖는 선택 파장 차폐층을 조합하여 가짐으로써, 상기 NIR 흡수 색소(A)의 흡광 특성이 유효하게 이용된, 우수한 근적외선 차폐 특성을 갖는 고체 촬상 소자, 촬상 장치용 렌즈로 할 수 있다. 따라서, 이러한 고체 촬상 소자(20A) 또는 촬상 장치용 렌즈(70A), 또는 커버 유리(31) 대신에 설치된 광학 필터(10A, 10B)를 구비하는 본 실시 형태에 따른 촬상 장치에서는, 종래, 별체로 배치했던 근적외선 커트 필터를 생략할 수 있어, 촬상 장치의 소형화, 박형화, 저비용화가 도모되는 동시에, 품질이 좋은 촬상 화상을 얻을 수 있다.
또한, 상술한 바와 같이 본 실시 형태에 따른 촬상 장치는, 상기 근적외선 흡수층을 갖는 고체 촬상 소자(20A) 또는 촬상 장치용 렌즈(70A)를 갖고, 또한, 이 근적외선 흡수층과 조합하는 다른 선택 파장 차폐층, 특히 상기 420 내지 695nm의 가시광을 투과하고, 710 내지 1100nm의 파장 영역의 광을 차폐하는 광학 특성을 갖는 선택 파장 차폐층이, 고체 촬상 소자(20A) 또는 촬상 장치용 렌즈(70A)와는 별도로 상기 촬상 장치의 광축 x를 따라 배치되는 광학 부재 위에 배치된 구성이어도 된다.
이러한 구성으로 함으로써도, 상기 NIR 흡수 색소(A)의 흡광 특성이 유효하게 이용된, 우수한 근적외선 차폐 특성을 갖는 본 실시 형태에 따른 촬상 장치가 얻어진다. 이 경우도, 종래, 별체로 배치했던 근적외선 커트 필터를 생략할 수 있어, 촬상 장치의 소형화, 박형화, 저비용화가 도모되는 동시에, 품질이 좋은 촬상 화상을 얻을 수 있다.
또한, 본 실시 형태의 고체 촬상 소자가 사용되는 촬상 장치도, 도 7에 나타내는 구조의 것에 한정되는 것이 아니라, 고체 촬상 소자를 구비한 것이면 다양한 구조의 촬상 장치에 적용할 수 있다.
실시예
이하에, 본 발명을 실시예에 의해 더욱 상세하게 설명한다. 예 1 내지 7 및 예 10 내지 16이 실시예이며, 예 8, 9 및 예 17, 18이 비교예이다.
또한, 실시예 중의 투과율 및 투과율의 변화량(D)은 하기에 나타내는 방법으로 측정하였다.
[투과율 및 투과율의 변화량(D, Df)]
근적외선 흡수층 및 광학 필터에 대하여 자외 가시 분광 광도계(히타치 하이테크놀러지즈사 제조, U-4100형)를 사용하여 투과 스펙트럼(투과율)을 측정하여 산출하였다.
[광학 필터의 제조]
NIR 흡수 색소(A)로서, 상기 표 1에 나타내는 NIR 흡수 색소(A1) 및 상기 표 2에 나타내는 NIR 흡수 색소(A2)를 사용하여, 도 1의 (a)에 나타내는 투명 기판 기재(12) 위에 근적외선 흡수층(11)이 형성된 구성의 실시예 및 비교예의 광학 필터를 제조하였다.
(예 1)
NIR 흡수 색소(A)로서 NIR 흡수 색소(A1)만을 사용하였다. NIR 흡수 색소(A1)로서 표 1에 나타내는 화합물(F12-1)과, 아크릴 수지(오사까 가스 케미컬사 제조, 상품명: 오그솔 EA-F5003, 굴절률 1.60)의 50질량% 테트라히드로푸란 용액을, 아크릴 수지 100질량부에 대하여 화합물(F12-1)이 0.23질량부가 되는 비율로 혼합한 후, 실온에서 교반·용해함으로써 도포 시공액을 얻었다. 얻어진 도포 시공액을, 두께 1mm의 유리판(소다 유리) 위에 다이 코트법에 의해 도포하고, 100℃에서 5분간 가열 건조시켰다. 그 후, 도막에 파장 365nm의 자외선을 360mJ/cm2 조사하여 경화시켜, 유리판 위에 막 두께 10㎛의 근적외선 흡수층이 형성된 광학 필터 1을 얻었다. 얻어진 광학 필터 1의 투과율을 측정하였다. 그 투과 결과로부터, 근적외선 흡수층이 형성되어 있지 않은 두께 1mm의 유리판에 대하여 측정한 투과율의 측정 결과를 차분한 결과를, 표 3에 나타내었다.
(예 2)
NIR 흡수 색소(A1)로서 상기 표 1에 나타내는 화합물(F12-2)를 사용한 것 이외는 예 1과 마찬가지로 하여 유리판 위에 막 두께 10㎛의 근적외선 흡수층이 형성된 광학 필터 2를 얻었다. 얻어진 광학 필터 2의 투과율을 측정하였다. 그 투과 결과로부터, 근적외선 흡수층이 형성되어 있지 않은 두께 1mm의 유리판에 대하여 측정한 투과율의 측정 결과를 차분한 결과를, 표 3에 나타내었다.
(예 3)
NIR 흡수 색소(A1)로서 상기 표 1에 나타내는 화합물(F12-4)를 사용하고, 아크릴 수지 100질량부에 대한 화합물(F12-4)의 양을 0.23질량부가 되는 비율로 한 것 이외는 예 1과 마찬가지로 하여 유리판 위에 막 두께 10㎛의 근적외선 흡수층이 형성된 광학 필터 3을 얻었다. 얻어진 광학 필터 3의 투과율을 측정하였다. 그 투과 결과로부터, 근적외선 흡수층이 형성되어 있지 않은 두께 1mm의 유리판에 대하여 측정한 투과율의 측정 결과를 차분한 결과를, 표 3에 나타내었다.
(예 4)
NIR 흡수 색소(A1)로서 상기 표 1에 나타내는 화합물(F12-5)를 사용한 것 이외는 예 4와 마찬가지로 하여 유리판 위에 막 두께 10㎛의 근적외선 흡수층이 형성된 광학 필터 4를 얻었다. 얻어진 광학 필터 4의 투과율을 측정하였다. 그 투과 결과로부터, 근적외선 흡수층이 형성되어 있지 않은 두께 1mm의 유리판에 대하여 측정한 투과율의 측정 결과를 차분한 결과를, 표 3에 나타내었다.
(예 5)
NIR 흡수 색소(A1)로서 상기 표 1에 나타내는 화합물(F11-1)을 사용하고, 아크릴 수지 100질량부에 대한 화합물(F11-1)의 양을 1.2질량부가 되는 비율로 한 것 이외는 예 1과 마찬가지로 하여 유리판 위에 막 두께 3㎛의 근적외선 흡수층이 형성된 광학 필터 5를 얻었다. 얻어진 광학 필터 5의 투과율을 측정하였다. 그 투과 결과로부터, 근적외선 흡수층이 형성되어 있지 않은 두께 1mm의 유리판에 대하여 측정한 투과율의 측정 결과를 차분한 결과를, 표 3에 나타내었다. 또한, 300 내지 900nm의 파장 영역의 투과 스펙트럼을 도 9에 실선으로 나타낸다.
(예 6)
NIR 흡수 색소(A)로서 NIR 흡수 색소(A1)만을 사용하였다. NIR 흡수 색소(A1)로서 상기 표 1에 나타내는 화합물(F11-1)과, 폴리카르보네이트 수지(sabic사 제조, 샘플명: Lexan ML9103, 굴절률: 1.59)의 10질량% 시클로펜타논 용액을, 폴리카르보네이트 수지 100질량부에 대하여 화합물(F11-1)이 0.45질량부가 되는 비율로 혼합한 후, 실온에서 교반·용해함으로써 도포 시공액을 얻었다. 얻어진 도포 시공액을, 두께 1mm의 유리판(소다 유리) 위에 다이 코트법에 의해 도포하고, 150℃에서 30분간 가열 건조시켜 유리판 위에 막 두께 10㎛의 근적외선 흡수층이 형성된 광학 필터 6을 얻었다. 얻어진 광학 필터 6의 투과율을 측정하였다. 그 투과 결과로부터, 근적외선 흡수층이 형성되어 있지 않은 두께 1mm의 유리판에 대하여 측정한 투과율의 측정 결과를 차분한 결과를 표 3에 나타내었다.
(예 7)
NIR 흡수 색소(A)로서 NIR 흡수 색소(A1) 및 NIR 흡수 색소(A2)를 사용하였다. NIR 흡수 색소(A1)로서 상기 표 1에 나타내는 화합물(F12-1) 및 NIR 흡수 색소(A2)로서 상기 표 2에 나타내는 화합물(F21)과, 폴리에스테르 수지(오사까 가스 케미컬사 제조, 상품명: B-OKP2, 굴절률 1.64)의 20질량% 시클로헥사논 용액을, 폴리에스테르 수지 100질량부에 대하여 화합물(F12-1)이 0.08질량부, 화합물(F21)이 2.1질량부가 되는 비율로 혼합한 후, 실온에서 교반·용해함으로써 도포 시공액을 얻었다. 얻어진 도포 시공액을, 두께 1mm의 유리판(소다 유리) 위에 다이 코트법에 의해 도포하고, 150℃에서 30분간 가열 건조시켜 유리판 위에 막 두께 10㎛의 근적외선 흡수층이 형성된 광학 필터 7을 얻었다. 얻어진 광학 필터 7의 투과율을 측정하였다. 그 투과 결과로부터, 근적외선 흡수층이 형성되어 있지 않은 두께 1mm의 유리판에 대하여 측정한 투과율의 측정 결과를 차분한 결과를 표 3에 나타내었다.
(예 8)
NIR 흡수 색소(A)로서 NIR 흡수 색소(A1)만을 사용하였다. NIR 흡수 색소(A1)로서 상기 표 1에 나타내는 화합물(F11-1)과, 아크릴 수지(미쯔비시 레이온사 제조, 상품명: BR-80, 굴절률 1.49)의 15질량% 시클로헥사논 용액을, 아크릴 수지 100질량부에 대하여 화합물(F11-1)이 0.45질량부가 되는 비율로 혼합한 후, 실온에서 교반·용해함으로써 도포 시공액을 얻었다. 얻어진 도포 시공액을, 두께 1mm의 유리판(소다 유리) 위에 다이 코트법에 의해 도포하고, 150℃에서 30분간 가열 건조시켜 유리판 위에 막 두께 10㎛의 근적외선 흡수층이 형성된 광학 필터 8을 얻었다. 얻어진 광학 필터 8의 투과율을 측정하였다. 그 투과 결과로부터, 근적외선 흡수층이 형성되어 있지 않은 두께 1mm의 유리판에 대하여 측정한 투과율의 측정 결과를 차분한 결과를 표 3에 나타내었다.
(예 9)
NIR 흡수 색소(A)로서 NIR 흡수 색소(A1)만을 사용하였다. NIR 흡수 색소(A1)로서 상기 표 1에 나타내는 화합물(F11-1)과, 시클로올레핀 수지(JSR사 제조, 상품명: 아톤 RH5200, 굴절률 1.52)의 25질량% 톨루엔 용액을, 시클로올레핀 수지 100질량부에 대하여 화합물(F11-1)이 0.2질량부가 되는 비율로 혼합한 후, 실온에서 교반·용해함으로써 도포 시공액을 얻었다. 얻어진 도포 시공액을, 두께 1mm의 유리판(소다 유리) 위에 다이 코트법에 의해 도포하고 70℃에서 10분간 가열한 후, 또한 110℃에서 10분간 가열함으로써 건조시켜 유리판 위에 막 두께 22㎛의 근적외선 흡수층이 형성된 광학 필터 9를 얻었다. 얻어진 광학 필터(9)의 투과율을 측정하였다. 그 투과 결과로부터, 근적외선 흡수층이 형성되어 있지 않은 두께 1mm의 유리판에 대하여 측정한 투과율의 측정 결과를 차분한 결과를 표 3에 나타내었다.
또한, 300 내지 900nm의 파장 영역의 투과 스펙트럼을 도 9에 파선으로 나타낸다.
[광학 필터의 설계]
예 1 내지 9에서 제작한 근적외선 흡수층을 포함하여 이루어지는 광학 필터 1 내지 9를 사용하여, 도 1의 (b)에 나타내는 제1 유전체 다층막(13a), 근적외선 흡수층(11), 제2 유전체 다층막(13b)의 순서대로 적층된 구성의 예 10 내지 18의 광학 필터를 설계하였다.
(예 10 내지 18)
유전체 다층막은, 예 10 내지 18에서 모두 마찬가지로 하여 설계하였다. 제1 유전체 다층막 및 제2 유전체 다층막 모두, 고굴절률의 유전막으로서 TiO2막, 저굴절률의 유전막으로서 SiO2막을 상정하였다. 구체적으로는, 마그네트론 스퍼터 장치에, Ti 또는 Si의 타깃을 사용하여, Ar 가스와 O2 가스를 도입한 반응성 스퍼터에 의해 TiO2막, SiO2막을 샘플로서 제작하였다. 얻어진 TiO2막 및 SiO2막의 광학 상수를, 분광 투과율 측정에 의해 구하였다.
고굴절률의 유전막과 저굴절률의 유전막이 교대로 적층된 유전체 다층막이 형성된 구성에 있어서, 유전체 다층막의 적층 수, TiO2막(고굴절률 유전체막)의 막 두께, SiO2막(저굴절률 유전체막)의 막 두께를 파라미터로 해서 시뮬레이션하여, 파장 400 내지 700nm의 광을 90% 이상 투과하고, 파장 715 내지 900nm의 광의 투과율이 5% 이하가 되는 제1 유전체 다층막의 구성을 구하였다. 얻어진 제1 유전체 다층막의 구성을 표 4에, 이 제1 유전체 다층막의 투과율 스펙트럼을 도 8의 (a)에 IR-1로서 점선으로 나타낸다. 또한, 제1 유전체 다층막에서는 제1층이 근적외선 흡수층측에 형성되는 설정이며, 전체의 막 두께는 3536nm이었다.
상기한 바와 마찬가지로 고굴절률의 유전막과 저굴절률의 유전막이 교대로 적층된 유전체 다층막이 형성된 구성에 있어서, 유전체 다층막의 적층 수, TiO2막(고굴절률 유전체막)의 막 두께, SiO2막(저굴절률 유전체막)의 막 두께를 파라미터로 해서 시뮬레이션하여, 파장 420 내지 780nm의 광을 90% 이상 투과하고, 파장 410nm 이하의 광 및 850 내지 1200nm의 광의 투과율이 함께 5% 이하가 되는 제2 유전체 다층막의 구성을 구하였다. 얻어진 제2 유전체 다층막의 구성을 표 5에, 이 제2 유전체 다층막의 투과율 스펙트럼을 도 8의 (a)에 IR-2로서 파선으로 나타낸다. 또한, 제2 유전체 다층막에서는, 제1층이 근적외선 흡수층측에 형성되는 설정이며, 전체의 막 두께는 4935nm이었다. 또한, 도 8의 (b)에, 상기 제1 유전체 다층막 및 제2 유전체 다층막을 적층한 경우의 투과율 스펙트럼을 IR-1+IR-2로서 실선으로 나타냈다.
상기에서 설계한 예 10 내지 18의 광학 필터에 대하여 투과 스펙트럼을 작성하였다. 표 6에 광학 필터의 사양 및 광학 특성을 나타낸다. 예 13 및 예 17의 광학 필터의, 300 내지 900nm의 파장 영역의 투과 스펙트럼(0 내지 100%)을 도 10에, 650 내지 800nm의 파장 영역의 투과 스펙트럼(0 내지 20%)을 도 11에 도시한다. 또한, 도 10 및 도 11에서 실선은 예 13의 투과 스펙트럼을, 파선은 예 17의 투과 스펙트럼을 각각 나타낸다.
본 발명은 이상 설명한 실시 형태 및 실시예에 전혀 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 요지를 일탈하지 않는 범위에서 다양한 형태로 실시할 수 있음은 말할 필요도 없다.
또한, 본 출원은, 2011년 6월 6일자로 출원된 일본 특허 출원(일본 특허 출원 제2011-126555)에 기초하고 있으며, 그 전체가 인용에 의해 원용된다.
<산업상의 이용가능성>
본 발명의 광학 필터는, 단독으로 또는 다른 선택 파장 차폐 부재와 조합하여 사용했을 때에, 양호한 근적외선 차폐 특성을 가짐과 함께, 충분한 소형화, 박형화를 이룰 수 있는 점에서, 디지털 스틸 카메라 등의 촬상 장치, 플라즈마 디스플레이 등의 표시 장치, 차량(자동차 등)용 유리 창, 램프 등에 유용하다. 본 발명의 고체 촬상 소자는, 단독으로 또는 다른 선택 파장 차폐 부재와 조합하여 사용했을 때에, 양호한 근적외선 차폐 기능과 고체 촬상 소자로서의 기능을 겸비할 수 있는 점에서, 디지털 스틸 카메라, 디지털 비디오 카메라, 휴대 전화, 노트북형 퍼스널 컴퓨터, PDA 등의 정보 기기에 내장되는 소형 카메라 등의 촬상 장치에 유용하다. 본 발명의 촬상 장치용 렌즈는, 단독으로 또는 다른 선택 파장 차폐 부재와 조합하여 사용했을 때에, 양호한 근적외선 차폐 기능을 갖고, 또한 촬상 장치가 충분한 소형화, 박형화, 저비용화를 이룰 수 있는 점에서, 디지털 스틸 카메라, 디지털 비디오 카메라, 휴대 전화, 노트북형 퍼스널 컴퓨터, PDA 등의 정보 기기에 내장되는 소형 카메라 등의, 고체 촬상 소자를 사용한 촬상 장치에 유용하다.
10A, 10B : 광학 필터 12 : 투명 기재
11, 72, 107 : 근적외선 흡수층 13 : 선택 파장 차폐층
7, 13a : 제1 유전체 다층막 8, 13b : 제2 유전체 다층막
20A, 20B : 고체 촬상 소자 9A, 9B, 30 : 촬상 장치
5, 31 : 커버 유리 4, 32, 70A, 70B : 촬상 장치용 렌즈
71 : 렌즈 본체 101 : 광전 변환 소자
102 : 차광층 103 : 반도체 기판
104 : 평탄화층 105 : 컬러 필터층
106 : 마이크로렌즈 L1 내지 L4 : 제1 내지 제4 렌즈
11, 72, 107 : 근적외선 흡수층 13 : 선택 파장 차폐층
7, 13a : 제1 유전체 다층막 8, 13b : 제2 유전체 다층막
20A, 20B : 고체 촬상 소자 9A, 9B, 30 : 촬상 장치
5, 31 : 커버 유리 4, 32, 70A, 70B : 촬상 장치용 렌즈
71 : 렌즈 본체 101 : 광전 변환 소자
102 : 차광층 103 : 반도체 기판
104 : 평탄화층 105 : 컬러 필터층
106 : 마이크로렌즈 L1 내지 L4 : 제1 내지 제4 렌즈
Claims (42)
- 근적외선 흡수 색소(A)와 투명 수지(B)를 갖고, 상기 투명 수지(B)에 상기 근적외선 흡수 색소(A)를 분산시켜서 이루어지는 근적외선 흡수층과,
상기 근적외선 흡수층의 편측 또는 양측에, 420 내지 695nm의 파장 범위의 가시광을 투과하고 720 내지 1100nm의 파장 범위의 근적외광을 차폐하는 선택 파장 차폐층
을 구비하는 광학 필터이며,
상기 근적외선 흡수 색소(A)는 근적외선 흡수 색소(A1)을 함유하고, 상기 근적외선 흡수 색소(A1)은 굴절률(n20d)이 1.500 미만인 용매에 용해하여 측정되는 400 내지 1000nm의 파장대에서의 흡수 스펙트럼의 최대 흡수 피크가 되는 피크 파장을 갖고,
상기 근적외선 흡수 색소(A1)의 흡수 스펙트럼은 (a) 및 (b)의 조건을 만족하고,
(a) 상기 최대 흡수 피크의 반치 전폭이 60nm 이하임.
(b) 상기 피크 파장에서의 흡광도를 1로 해서 산출되는 630nm에서의 흡광도와 상기 피크 파장에서의 흡광도의 차를, 630nm와 상기 피크 파장의 파장 차로 나눈 값이 0.010 내지 0.050인 최대 흡수 피크를 가짐.
상기 선택 파장 차폐층은 제1의 유전체 다층막과 제2의 유전체 다층막을 갖고,
상기 제1의 유전체 다층막은 상기 가시광을 투과함과 함께 상기 근적외광을 반사하여 상기 근적외광의 투과율이 5% 이하인 제1의 반사 영역을 갖고,
상기 제2의 유전체 다층막은 가시광을 투과함과 함께 자외광을 반사함과 함께 근적외광을 반사하지 않거나 반사하여 상기 자외광의 투과율이 5% 이하인 제2의 반사 영역을 갖고,
상기 근적외선 흡수층은, 450 내지 600nm의 가시광의 투과율이 70% 이상이며, 또한 식 (1)로 표현되는 투과율의 변화량(D)이 -0.8 이하인 광학 필터.
D(%/nm)=[T700(%)-T630(%)]/[700(nm)-630(nm)] … (1)
식 (1) 중, T700은, 상기 근적외선 흡수층의 투과 스펙트럼에서의 파장 700nm의 투과율이며, T630은, 상기 근적외선 흡수층의 투과 스펙트럼에서의 파장 630nm의 투과율이다. - 제1항에 있어서,
제1의 유전체 다층막은, 420 내지 695nm의 가시광을 투과하고, 상기 근적외선 흡수층은 투과율이 5% 이하로 되는 710nm 이상의 파장에 근적외선 흡수 영역을 갖고, 상기 제1의 반사 영역의 단파장측의 단부의 파장은, 상기 근적외선 흡수층의 상기 근적외선 흡수 영역의 파장의 단부와 동일하거나 그것보다 짧은 광학 필터. - 제1항에 있어서,
상기 제2의 유전체 다층막은, 420 내지 695nm의 가시광을 투과하고, 상기 제2의 유전체 다층막은 400nm 이하의 자외선 파장 영역의 광을 반사하고, 상기 제2의 반사 영역의 단파장측의 단부의 파장은 상기 제1의 반사 영역의 장파장측의 단부와 동일하거나 그것보다 짧고, 상기 제2의 반사 영역의 장파장측의 단부의 파장은 1100nm 이상인 광학 필터. - 제1항에 있어서,
상기 제2의 유전체 다층막의 반사 파장 영역의 단파장 측의 단부의 파장은, 상기 제1의 반사 영역의 장파장측의 단부의 파장보다 20 내지 100nm 짧은 광학 필터. - 제1항에 있어서,
상기 근적외선 흡수 색소(A1)에서의 상기 최대 흡수 피크의 상기 반치 전폭이 35nm 이하인 광학 필터. - 제1항에 있어서,
상기 근적외선 흡수 색소(A1)은, 상기 피크 파장에서의 흡광도를 1로 해서 산출되는 630nm에서의 흡광도와 상기 피크 파장에서의 흡광도의 차를, 630nm와 상기 피크 파장의 파장 차로 나눈 값이 0.010 내지 0.014인 최대 흡수 피크를 갖는 광학 필터. - 제1항에 있어서,
695 내지 720nm의 파장 영역에서의 상기 근적외선 흡수층의 광의 투과율이 10% 이하인 광학 필터. - 제1항에 있어서,
상기 근적외선 흡수 색소(A1)이 하기 화학식 (F1)로 표시되는 스쿠아릴륨계 화합물에서 선택되는 적어도 1종을 포함하여 이루어지는 광학 필터.
R1 및 R2는 서로 연결하여 질소 원자와 함께 환 A를 형성하고, 상기 환 A는 5원환 또는 6원환의 환 구성 원자로서 산소 원자를 포함할 수 있는 복소환을 형성하거나, R2 및 R5는 서로 연결하여 질소 원자와 함께 환 B를 형성하고, 상기 환 B는 5원환 또는 6원환의 환 구성 원자로서 산소 원자를 포함할 수 있는 복소환을 형성하고,
환 A를 형성하고 있지 않은 R1 및 환 B를 형성하고 있지 않은 R5는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자, 브롬 원자, 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 치환기를 가질 수 있는 알릴기, 치환기를 가질 수 있는 탄소수 6 내지 10의 아릴기 또는 치환기를 가질 수 있는 탄소수 7 내지 11의 아르아릴기를 나타내고, 탄소수 1 내지 6의 알킬기는, 직쇄상, 분지쇄상, 환상 중 어느 것이어도 되고,
R4 및 R6은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 -NR7R8이고, R7 및 R8은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1 내지 20의 알킬기 또는 -C(=O)-R9이고, R9는, 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 20의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 10의 아릴기를 나타내고,
R3은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타낸다. - 제1항에 있어서,
상기 근적외선 흡수 색소(A)가 또한, 굴절률(n20d)이 1.500 미만인 색소용 용매에 용해하여 측정되는 파장 영역 400 내지 1000nm의 광의 흡수 스펙트럼에 있어서, 최대 흡수 피크를 갖는 근적외선 흡수 색소(A2)를 갖고, 상기 근적외선 흡수 색소(A2)의 흡수 스펙트럼은 (c) 및 (d)의 조건을 만족하는 광학 필터.
(c) 피크 파장이 720nm 초과 800nm 이하의 영역에 있음.
(d) 최대 흡수 피크의 반치 전폭이 100nm 이하임. - 제9항에 있어서,
상기 근적외선 흡수 색소(A2)가 하기 화학식 (F2)로 표시되는 시아닌계 화합물에서 선택되는 적어도 1종을 포함하여 이루어지는 광학 필터.
R11은, 각각 독립적으로, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 알콕시기, 알킬 술폰기 또는 그의 음이온 종을 나타낸다.
R12 및 R13은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 20의 알킬기를 나타낸다.
Z는, PF6, ClO4, Rf-SO2, (Rf-SO2)2-N 또는 BF4를 나타내고, Rf는 적어도 1개의 불소 원자로 치환된 알킬기이다.
R14, R15, R16 및 R17은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타낸다.
n은 1 내지 6의 정수를 나타낸다. - 제1항에 있어서,
상기 투명 수지(B)가 아크릴계 수지, 에폭시계 수지, 엔·티올계 수지, 폴리카르보네이트계 수지 및 폴리에스테르계 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 광학 필터. - 제1항에 있어서,
상기 근적외선 흡수층에서의, 상기 근적외선 흡수 색소(A)의 전량에 대한 상기 근적외선 흡수 색소(A1)의 비율이 3 내지 100질량%이며, 상기 투명 수지(B) 100질량부에 대한 상기 근적외선 흡수 색소(A)의 비율이 0.05 내지 5질량부인 광학 필터. - 제1항에 있어서,
상기 근적외선 흡수층의 막 두께가 0.1 내지 100㎛인 광학 필터. - 삭제
- 제1항에 있어서,
420 내지 620nm의 가시광의 투과율이 70% 이상이며, 710 내지 860nm의 파장 영역에서의 광의 투과율이 0.3% 이하이고, 또한 식 (2)로 표현되는 투과율의 변화량(Df)이 -0.8 이하인 광학 필터.
Df(%/nm)=[Tf700(%)-Tf630(%)]/[700(nm)-630(nm)] … (2)
식 (2) 중, Tf700은, 상기 광학 필터의 투과 스펙트럼에서의 파장 700nm의 투과율이며, Tf630은, 상기 광학 필터의 투과 스펙트럼에서의 파장 630nm의 투과율이다. - 제1항에 있어서,
추가로 투명 기재를 갖고,
상기 근적외선 흡수층은 상기 투명 기재 상에 직접적 또는 간접적으로 구비되고,
상기 투명 기재는 CuO를 갖는 색 유리 기판인 광학 필터. - 제1항에 있어서,
추가로 투명 기재를 갖고,
상기 근적외선 흡수층은 상기 투명 기재 상에 직접적 또는 간접적으로 구비되고,
상기 투명 기재는 수지를 포함하는 광학 필터. - 광전 변환 소자와, 제1항에 기재된 광학 필터를 갖는 고체 촬상 소자.
- 렌즈의 적어도 1 표면에 형성된 근적외선 흡수 색소(A)와 투명 수지(B)를 갖고, 상기 투명 수지(B)에 상기 근적외선 흡수 색소를 분산시켜서 이루어지는 근적외선 흡수층과,
상기 근적외선 흡수층의 편측 또는 양측에, 420 내지 695nm의 파장 범위의 가시광을 투과하고 720 내지 1100nm의 파장 범위의 근적외광을 차폐하는 선택 파장 차폐층
을 구비하는 촬상 장치용 렌즈이며,
상기 근적외선 흡수 색소(A)는 근적외선 흡수 색소(A1)을 함유하고, 상기 근적외선 흡수 색소(A1)은 굴절률(n20d)이 1.500 미만인 용매에 용해하여 측정되는 400 내지 1000nm의 파장대에서의 흡수 스펙트럼의 최대 흡수 피크가 되는 피크 파장을 갖고,
상기 근적외선 흡수 색소(A1)의 흡수 스펙트럼은 (a) 및 (b)의 조건을 만족하고,
(a) 상기 최대 흡수 피크의 반치 전폭이 60nm 이하임.
(b) 상기 피크 파장에서의 흡광도를 1로 해서 산출되는 630nm에서의 흡광도와 상기 피크 파장에서의 흡광도의 차를, 630nm와 상기 피크 파장의 파장 차로 나눈 값이 0.010 내지 0.050인 최대 흡수 피크를 가짐.
상기 선택 파장 차폐층은 제1의 유전체 다층막과 제2의 유전체 다층막을 갖고,
상기 제1의 유전체 다층막은 가시광을 투과함과 함께 근적외광을 반사하여 상기 근적외광의 투과율이 5% 이하인 제1의 반사 영역을 갖고,
상기 제2의 유전체 다층막은 가시광을 투과함과 함께 자외광을 반사함과 함께 근적외광을 반사하지 않거나 반사하여 상기 근적외광의 투과율이 5% 이하인 제2의 반사 영역을 갖고,
상기 근적외선 흡수층은, 450 내지 600nm의 가시광의 투과율이 70% 이상이며, 또한 식 (1)로 표현되는 투과율의 변화량(D)이 -0.8 이하인 촬상 장치용 렌즈.
D(%/nm)=[T700(%)-T630(%)]/[700(nm)-630(nm)] … (1)
식 (1) 중, T700은, 상기 근적외선 흡수층의 투과 스펙트럼에서의 파장 700nm의 투과율이며, T630은, 상기 근적외선 흡수층의 투과 스펙트럼에서의 파장 630nm의 투과율이다. - 제19항에 있어서,
제1의 유전체 다층막은, 420 내지 695nm의 가시광을 투과하고, 상기 근적외선 흡수층은 투과율이 5% 이하로 되는 710nm 이상의 파장에 근적외선 흡수 영역을 갖고, 상기 제1의 반사 영역의 단파장측의 단부의 파장은, 상기 근적외선 흡수층의 상기 근적외선 흡수 영역의 파장의 단부와 동일하거나 그것보다 짧은 촬상 장치용 렌즈. - 제19항에 있어서,
상기 제2의 유전체 다층막은, 420 내지 695nm의 가시광을 투과하고, 상기 제2의 유전체 다층막은 400nm 이하의 자외선 파장 영역의 광을 반사하고, 상기 제2의 반사 영역의 단파장 측의 단부의 파장은 상기 제1의 반사 영역의 장파장측의 단부와 동일하거나 그것보다 짧고, 상기 제2의 반사 영역의 장파장측의 단부의 파장은 1100nm 이상인 촬상 장치용 렌즈. - 제19항에 있어서,
상기 제2의 유전체 다층막의 반사 파장 영역의 단파장 측의 단부의 파장은, 상기 제1의 반사 영역의 장파장측의 단부의 파장보다 20 내지 100nm 짧은 촬상 장치용 렌즈. - 제19항에 있어서,
상기 근적외선 흡수 색소(A1)에서의 상기 최대 흡수 피크의 상기 반치 전폭이 35nm 이하인 촬상 장치용 렌즈. - 제19항에 있어서,
상기 흡수 스펙트럼에서의 상기 근적외선 흡수 색소(A1)은, 상기 피크 파장에서의 흡광도를 1로 해서 산출되는 630nm에서의 흡광도와 상기 피크 파장에서의 흡광도의 차를, 630nm와 상기 피크 파장의 파장 차로 나눈 값이 0.010 내지 0.014인 최대 흡수 피크를 갖는 촬상 장치용 렌즈. - 제19항에 있어서,
상기 근적외선 흡수층은 695 내지 720nm의 파장 영역에서의 광의 투과율이 10% 이하인 촬상 장치용 렌즈. - 근적외선 흡수 색소(A)와 투명 수지(B)를 갖고, 상기 투명 수지(B)에 상기 근적외선 흡수 색소(A)를 분산시켜서 이루어지는 근적외선 흡수층과,
상기 근적외선 흡수층의 편측 또는 양측에, 가시광을 투과하고 근적외광을 차폐하는 선택 파장 차폐층
을 구비하는 광학 필터이며,
상기 근적외선 흡수 색소(A)는 근적외선 흡수 색소(A1)을 함유하고, 상기 근적외선 흡수 색소(A1)은 굴절률(n20d)이 1.500 미만인 용매에 용해하여 측정되는 400 내지 1000nm의 파장대에서의 흡수 스펙트럼의 최대 흡수 피크가 되는 피크 파장을 갖고,
상기 근적외선 흡수 색소(A1)의 흡수 스펙트럼은 (a) 및 (b)의 조건을 만족하고,
(a) 상기 최대 흡수 피크의 반치 전폭이 60nm 이하임.
(b) 상기 피크 파장에서의 흡광도를 1로 해서 산출되는 630nm에서의 흡광도와 상기 피크 파장에서의 흡광도의 차를, 630nm와 상기 피크 파장의 파장 차로 나눈 값이 0.010 내지 0.050인 최대 흡수 피크를 가짐.
상기 선택 파장 차폐층은 제1의 유전체 다층막과 제2의 유전체 다층막을 갖고,
상기 제1의 유전체 다층막은 가시광을 투과함과 함께 근적외광을 반사하여 상기 근적외광의 투과율이 5% 이하인 제1의 반사 영역을 갖고,
상기 제2의 유전체 다층막은 420 내지 695nm의 가시광을 투과하고, 상기 제2의 유전체 다층막은 400nm 이하의 자외광을 반사함과 함께 근적외광을 반사하여 상기 근적외광의 투과율이 5% 이하인 제2의 반사 영역을 갖고,
상기 제2의 반사 영역의 단파장측의 단부의 파장은 상기 제1의 반사 영역의 장파장측의 단부와 동일하거나 그것보다 짧은 상기 제2의 반사 영역의 장파장측의 단부의 파장은 1100nm 이상이고,
상기 근적외선 흡수층은, 450 내지 600nm의 가시광의 투과율이 70% 이상이며, 또한 식 (1)로 표현되는 투과율의 변화량(D)이 -0.8 이하인 광학 필터.
D(%/nm)=[T700(%)-T630(%)]/[700(nm)-630(nm)] … (1)
식 (1) 중, T700은, 상기 근적외선 흡수층의 투과 스펙트럼에서의 파장 700nm의 투과율이며, T630은, 상기 근적외선 흡수층의 투과 스펙트럼에서의 파장 630nm의 투과율이다. - 제26항에 있어서,
제1의 유전체 다층막은, 420 내지 695nm의 가시광을 투과하고, 상기 근적외선 흡수층은 투과율이 5% 이하로 되는 710nm 이상의 파장에 근적외선 흡수 영역을 갖고, 상기 제1의 반사 영역의 단파장측의 단부의 파장은, 상기 근적외선 흡수층의 상기 근적외선 흡수 영역의 파장의 단부와 동일하거나 그것보다 짧은 광학 필터. - 제26항에 있어서,
상기 제2의 유전체 다층막의 반사 파장 영역의 단파장 측의 단부의 파장은, 상기 제1의 반사 영역의 장파장측의 단부의 파장보다 20 내지 100nm 짧은 광학 필터. - 제26항에 있어서,
상기 근적외선 흡수 색소(A1)에서의 상기 최대 흡수 피크의 상기 반치 전폭이 35nm 이하인 광학 필터. - 제26항에 있어서,
상기 근적외선 흡수 색소(A1)은, 상기 피크 파장에서의 흡광도를 1로 해서 산출되는 630nm에서의 흡광도와 상기 피크 파장에서의 흡광도의 차를, 630nm와 상기 피크 파장의 파장 차로 나눈 값이 0.010 내지 0.014인 최대 흡수 피크를 갖는, 광학 필터. - 제26항에 있어서,
695 내지 720nm의 파장 영역에 있어서, 상기 근적외선 흡수층의 광의 투과율이 10% 이하인 광학 필터. - 제26항에 있어서,
상기 근적외선 흡수 색소(A1)이 하기 화학식 (F1)로 표시되는 스쿠아릴륨계 화합물에서 선택되는 적어도 1종을 포함하여 이루어지는 광학 필터.
R1 및 R2는 서로 연결하여 질소 원자와 함께 환 A를 형성하고, 상기 환 A는 5원환 또는 6원환의 환 구성 원자로서 산소 원자를 포함할 수 있는 복소환을 형성하거나, R2 및 R5는 서로 연결하여 질소 원자와 함께 환 B를 형성하고, 상기 환 B는 5원환 또는 6원환의 환 구성 원자로서 산소 원자를 포함할 수 있는 복소환을 형성하고,
환 A를 형성하고 있지 않은 R1 및 환 B를 형성하고 있지 않은 R5는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 불소 원자, 브롬 원자, 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 치환기를 가질 수 있는 알릴기, 치환기를 가질 수 있는 탄소수 6 내지 10의 아릴기 또는 치환기를 가질 수 있는 탄소수 7 내지 11의 아르아릴기를 나타내고, 탄소수 1 내지 6의 알킬기는, 직쇄상, 분지쇄상, 환상 중 어느 것이어도 되고,
R4 및 R6은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 -NR7R8이고, R7 및 R8은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1 내지 20의 알킬기 또는 -C(=O)-R9이고, R9는, 치환기를 가질 수 있는 탄소수 1 내지 20의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 10의 아릴기를 나타내고,
R3은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타낸다. - 제26항에 있어서,
상기 근적외선 흡수 색소(A)가 또한, 굴절률(n20d)이 1.500 미만인 색소용 용매에 용해하여 측정되는 파장 영역 400 내지 1000nm의 광의 흡수 스펙트럼에 있어서, 최대 흡수 피크를 갖는 근적외선 흡수 색소(A2)를 갖고, 상기 근적외선 흡수 색소(A2)의 흡수 스펙트럼은 (c) 및 (d)의 조건을 만족하는 광학 필터.
(c) 피크 파장이 720nm 초과 800nm 이하의 영역에 있음.
(d) 최대 흡수 피크의 반치 전폭이 100nm 이하임. - 제33항에 있어서,
상기 근적외선 흡수 색소(A2)가 하기 화학식 (F2)로 표시되는 시아닌계 화합물에서 선택되는 적어도 1종을 포함하여 이루어지는 광학 필터.
R11은, 각각 독립적으로, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 알콕시기, 알킬 술폰기 또는 그의 음이온 종을 나타낸다.
R12 및 R13은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 20의 알킬기를 나타낸다.
Z는, PF6, ClO4, Rf-SO2, (Rf-SO2)2-N 또는 BF4를 나타내고, Rf는 적어도 1개의 불소 원자로 치환된 알킬기이다.
R14, R15, R16 및 R17은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기를 나타낸다.
n은 1 내지 6의 정수를 나타낸다. - 제26항에 있어서,
상기 투명 수지(B)가 아크릴계 수지, 에폭시계 수지, 엔·티올계 수지, 폴리카르보네이트계 수지 및 폴리에스테르계 수지로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 광학 필터. - 제26항에 있어서,
상기 근적외선 흡수층에서의, 상기 근적외선 흡수 색소(A)의 전량에 대한 상기 근적외선 흡수 색소(A1)의 비율이 3 내지 100질량%이며, 상기 투명 수지(B) 100질량부에 대한 상기 근적외선 흡수 색소(A)의 비율이 0.05 내지 5질량부인 광학 필터. - 제26항에 있어서,
상기 근적외선 흡수층의 막 두께가 0.1 내지 100㎛인 광학 필터. - 제26항에 있어서,
상기 선택 파장 차폐층이 저굴절률의 유전체막과 고굴절률의 유전체막을 교대로 적층한 유전체 다층막을 포함하여 이루어지는 광학 필터. - 제26항에 있어서,
420 내지 620nm의 가시광의 투과율이 70% 이상이며, 710 내지 860nm의 파장 영역에서의 광의 투과율이 0.3% 이하이고, 또한 식 (2)로 표현되는 투과율의 변화량(Df)이 -0.8 이하인 광학 필터.
Df(%/nm)=[Tf700(%)-Tf630(%)]/[700(nm)-630(nm)] … (2)
식 (2) 중, Tf700은, 상기 광학 필터의 투과 스펙트럼에서의 파장 700nm의 투과율이며, Tf630은, 상기 광학 필터의 투과 스펙트럼에서의 파장 630nm의 투과율이다. - 제26항에 있어서,
추가로 투명 기재를 갖고,
상기 근적외선 흡수층은 상기 투명 기재 상에 직접적 또는 간접적으로 구비되고,
상기 투명 기재는 CuO를 갖는 색 유리 기판인 광학 필터. - 제26항에 있어서,
추가로 투명 기재를 갖고,
상기 근적외선 흡수층은 상기 투명 기재 상에 직접적 또는 간접적으로 구비되고,
상기 투명 기재는 수지를 포함하는 광학 필터. - 광전 변환 소자와, 제26항에 기재된 광학 필터를 갖는 고체 촬상 소자.
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Families Citing this family (136)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103608705B (zh) * | 2011-06-06 | 2016-10-12 | 旭硝子株式会社 | 滤光片、固体摄像元件、摄像装置用透镜和摄像装置 |
| KR102004816B1 (ko) * | 2011-09-15 | 2019-07-29 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 근적외선 차단 필터 및 근적외선 차단 필터를 이용한 장치 |
| JP6017805B2 (ja) * | 2012-03-13 | 2016-11-02 | 株式会社日本触媒 | 光選択透過フィルター、紫光吸収シート及び固体撮像素子 |
| CN104755969B (zh) * | 2012-08-23 | 2018-06-08 | 旭硝子株式会社 | 近红外线截止滤波器和固体摄像装置 |
| JP6183048B2 (ja) * | 2012-08-27 | 2017-08-23 | 旭硝子株式会社 | 光学フィルタおよび固体撮像装置 |
| JP6296701B2 (ja) * | 2012-10-15 | 2018-03-20 | 住友化学株式会社 | 電子デバイスの製造方法 |
| US9523803B2 (en) * | 2012-10-17 | 2016-12-20 | Sony Corporation | Image capturing element and image capturing apparatus for removing infrared components from light |
| JP6241419B2 (ja) * | 2012-11-30 | 2017-12-06 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線カットフィルタ |
| KR20150072428A (ko) | 2012-11-30 | 2015-06-29 | 후지필름 가부시키가이샤 | 경화성 수지 조성물, 이것을 사용한 이미지 센서칩의 제조 방법 및 이미지 센서칩 |
| JP6248945B2 (ja) * | 2012-12-06 | 2017-12-20 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線カットフィルタ |
| JPWO2014103921A1 (ja) * | 2012-12-27 | 2017-01-12 | コニカミノルタ株式会社 | Ｉｒカットフィルターおよびそれを備えた撮像装置 |
| CN104969352B (zh) * | 2013-01-29 | 2018-04-06 | 唯亚威通讯技术有限公司 | 可变滤光器及基于此的波长选择传感器 |
| DE102013101001B4 (de) * | 2013-01-31 | 2020-10-08 | OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Optoelektronisches Halbleiterbauteil und Strahlungssensor |
| KR101527821B1 (ko) * | 2013-04-04 | 2015-06-16 | 주식회사 엘엠에스 | 근적외선 커트 필터 및 이를 포함하는 고체 촬상 장치 |
| WO2014168189A1 (ja) * | 2013-04-10 | 2014-10-16 | 旭硝子株式会社 | 赤外線遮蔽フィルタ |
| US9359261B2 (en) * | 2013-05-07 | 2016-06-07 | Corning Incorporated | Low-color scratch-resistant articles with a multilayer optical film |
| US9110230B2 (en) | 2013-05-07 | 2015-08-18 | Corning Incorporated | Scratch-resistant articles with retained optical properties |
| US9366784B2 (en) | 2013-05-07 | 2016-06-14 | Corning Incorporated | Low-color scratch-resistant articles with a multilayer optical film |
| WO2014192714A1 (ja) * | 2013-05-29 | 2014-12-04 | Jsr株式会社 | 光学フィルターおよび前記フィルターを用いた装置 |
| WO2014192715A1 (ja) * | 2013-05-29 | 2014-12-04 | Jsr株式会社 | 光学フィルターおよび前記フィルターを用いた装置 |
| JP6400654B2 (ja) * | 2013-06-12 | 2018-10-03 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、硬化膜、近赤外線カットフィルタ、カメラモジュールおよびカメラモジュールの製造方法 |
| JP2015017244A (ja) * | 2013-06-12 | 2015-01-29 | 富士フイルム株式会社 | 硬化性組成物、硬化膜、近赤外線カットフィルタ、カメラモジュールおよびカメラモジュールの製造方法 |
| WO2015022892A1 (ja) * | 2013-08-13 | 2015-02-19 | Jsr株式会社 | 光学フィルターおよび前記フィルターを用いた装置 |
| JP6331191B2 (ja) * | 2013-09-20 | 2018-05-30 | 国立大学法人九州大学 | 光測定装置、光測定方法、フィルタ部材及びフィルタ部材を生産する方法 |
| JP5884953B2 (ja) | 2013-10-17 | 2016-03-15 | Jsr株式会社 | 光学フィルター、固体撮像装置およびカメラモジュール |
| US20150116576A1 (en) * | 2013-10-30 | 2015-04-30 | Blackberry Limited | Image capture assembly, digital camera and a mobile device having an improved construction |
| JP6020746B2 (ja) | 2013-12-26 | 2016-11-02 | 旭硝子株式会社 | 光学フィルタ |
| JP6535979B2 (ja) * | 2014-04-16 | 2019-07-03 | ソニー株式会社 | 撮像素子及び撮像装置 |
| US11267973B2 (en) | 2014-05-12 | 2022-03-08 | Corning Incorporated | Durable anti-reflective articles |
| US9790593B2 (en) | 2014-08-01 | 2017-10-17 | Corning Incorporated | Scratch-resistant materials and articles including the same |
| KR102403290B1 (ko) * | 2014-10-08 | 2022-05-27 | 가부시키가이샤 닛폰 쇼쿠바이 | 옥소카본계 화합물, 이것을 함유하는 수지 조성물, 및 그 수지 조성물을 함유하는 필터 |
| JP6470650B2 (ja) * | 2015-03-05 | 2019-02-13 | 株式会社日本触媒 | オキソカーボン系化合物含有樹脂組成物及び該樹脂組成物を含む光学フィルター |
| KR102305998B1 (ko) * | 2014-12-08 | 2021-09-28 | 엘지이노텍 주식회사 | 영상 처리 장치 |
| WO2016098810A1 (ja) * | 2014-12-19 | 2016-06-23 | 旭硝子株式会社 | 光学フィルタ及びこれを用いた装置 |
| JP6103152B2 (ja) | 2015-01-14 | 2017-03-29 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線カットフィルタおよび固体撮像装置 |
| CN106062592B (zh) | 2015-01-14 | 2018-11-23 | Ａｇｃ株式会社 | 近红外线截止滤波器和摄像装置 |
| JP6629508B2 (ja) * | 2015-01-30 | 2020-01-15 | 株式会社日本触媒 | 赤外線吸収フィルター |
| WO2016125792A1 (ja) | 2015-02-06 | 2016-08-11 | 旭硝子株式会社 | 光選択透過型ガラスおよび積層基板 |
| JP6484053B2 (ja) * | 2015-02-12 | 2019-03-13 | 株式会社日本触媒 | 近赤外線カットフィルター |
| JP6065169B1 (ja) | 2015-02-18 | 2017-01-25 | 旭硝子株式会社 | 光学フィルタおよび撮像装置 |
| JP6530935B2 (ja) * | 2015-03-19 | 2019-06-12 | 株式会社日本触媒 | 近赤外線カットフィルター |
| US20180074242A1 (en) * | 2015-03-24 | 2018-03-15 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Optical Laminate Including Infrared Shielding Layer And Polarizing Film |
| CN107407754B (zh) * | 2015-03-27 | 2020-02-07 | Jsr株式会社 | 光学滤波器及使用光学滤波器的装置 |
| KR101815823B1 (ko) | 2015-04-23 | 2018-01-05 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 광학 필터 및 촬상 장치 |
| JP6498284B2 (ja) * | 2015-05-01 | 2019-04-10 | 富士フイルム株式会社 | 膜、膜の製造方法、固体撮像素子および赤外線センサ |
| JP6720969B2 (ja) * | 2015-05-12 | 2020-07-08 | Ａｇｃ株式会社 | 光学フィルタおよび撮像装置 |
| CN107533170B (zh) * | 2015-05-20 | 2021-06-15 | 富士胶片株式会社 | 红外线吸收组合物、红外线截止滤波器、层叠体、图案形成方法及固体成像元件 |
| WO2017006571A1 (ja) * | 2015-07-09 | 2017-01-12 | 日本板硝子株式会社 | 赤外線カットフィルタ、撮像装置、及び赤外線カットフィルタの製造方法 |
| TWI709767B (zh) | 2015-07-28 | 2020-11-11 | 日商Ｊｓｒ股份有限公司 | 光學濾波器、環境光感測器及電子設備 |
| WO2017043175A1 (ja) * | 2015-09-09 | 2017-03-16 | 富士フイルム株式会社 | 近赤外線吸収性硬化性組成物、硬化膜、固体撮像素子、赤外線吸収剤および化合物 |
| EP3770649A1 (en) | 2015-09-14 | 2021-01-27 | Corning Incorporated | High light transmission and scratch-resistant anti-reflective articles |
| KR101887846B1 (ko) | 2015-09-25 | 2018-08-10 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 광학 필터 및 촬상 장치 |
| EP3358618B1 (en) * | 2015-09-29 | 2021-08-11 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Imaging module and imaging device |
| US10451880B2 (en) * | 2015-10-28 | 2019-10-22 | Sony Corporation | Optical device, display device, and method for manufacturing light emitting element |
| ES2927849T3 (es) * | 2015-11-25 | 2022-11-11 | Jins Holdings Inc | Elemento óptico |
| KR20180087265A (ko) * | 2015-11-30 | 2018-08-01 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 광학 필터, 환경 광 센서 및 센서 모듈 |
| JP6202230B1 (ja) * | 2015-12-01 | 2017-09-27 | 旭硝子株式会社 | 光学フィルタおよび撮像装置 |
| JP2017112169A (ja) | 2015-12-15 | 2017-06-22 | ソニー株式会社 | イメージセンサ、撮像システム及びイメージセンサの製造方法 |
| CN108474887B (zh) * | 2016-01-29 | 2021-07-13 | 松下知识产权经营株式会社 | 隔热滤光片和监视*** |
| KR102247282B1 (ko) * | 2016-01-29 | 2021-05-03 | 후지필름 가부시키가이샤 | 조성물, 막, 근적외선 차단 필터, 적층체, 패턴 형성 방법, 고체 촬상 소자, 화상 표시 장치, 적외선 센서 및 컬러 필터 |
| CN108603038A (zh) | 2016-02-02 | 2018-09-28 | Ａｇｃ株式会社 | 近红外线吸收色素、光学滤波器和摄像装置 |
| KR101904500B1 (ko) | 2016-02-24 | 2018-11-28 | 주식회사 엘엠에스 | 광학물품 및 이를 포함하는 광학필터 |
| WO2017146413A2 (ko) * | 2016-02-24 | 2017-08-31 | 주식회사 엘엠에스 | 광학물품 및 이를 포함하는 광학필터 |
| JP6723762B2 (ja) * | 2016-02-26 | 2020-07-15 | 株式会社日本触媒 | 樹脂組成物 |
| JP6813021B2 (ja) * | 2016-03-28 | 2021-01-13 | コニカミノルタ株式会社 | 画像読取装置及びインクジェット記録装置 |
| JP6777146B2 (ja) * | 2016-06-08 | 2020-10-28 | Jsr株式会社 | 光学フィルターおよび光学センサー装置 |
| TWI617451B (zh) * | 2016-06-17 | 2018-03-11 | 白金科技股份有限公司 | 薄膜型紅外線吸收式光學濾光片及其製造方法 |
| CN106094241A (zh) * | 2016-06-22 | 2016-11-09 | 温岭市现代晶体有限公司 | 水晶涂布式光学低通滤波器及制造方法 |
| WO2018016232A1 (ja) * | 2016-07-21 | 2018-01-25 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、積層体、赤外線透過フィルタ、固体撮像素子および赤外線センサ |
| KR102180286B1 (ko) * | 2016-08-29 | 2020-11-18 | 후지필름 가부시키가이샤 | 조성물, 막, 근적외선 차단 필터, 패턴 형성 방법, 적층체, 고체 촬상 소자, 화상 표시 장치, 카메라 모듈 및 적외선 센서 |
| KR102434709B1 (ko) * | 2016-08-31 | 2022-08-22 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 광학 필터 및 광학 필터를 사용한 장치 |
| KR102219156B1 (ko) * | 2016-09-27 | 2021-02-23 | 후지필름 가부시키가이샤 | 드라이 에칭용 조성물, 키트, 패턴 형성 방법 및 광학 필터의 제조 방법 |
| JP6804257B2 (ja) | 2016-10-13 | 2020-12-23 | 浜松ホトニクス株式会社 | 放射線画像読取装置 |
| JP7328197B2 (ja) * | 2016-10-13 | 2023-08-16 | 浜松ホトニクス株式会社 | 放射線画像読取装置 |
| CN109923447B (zh) * | 2016-11-14 | 2021-03-30 | 日本板硝子株式会社 | 光吸收性组合物及滤光器 |
| EP3538934B1 (en) * | 2016-11-14 | 2023-05-24 | Turun Yliopisto | A lens array for an optical instrument |
| US10539725B2 (en) * | 2016-11-30 | 2020-01-21 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Optical filter and camera module and electronic device |
| US10168459B2 (en) | 2016-11-30 | 2019-01-01 | Viavi Solutions Inc. | Silicon-germanium based optical filter |
| CN206339678U (zh) * | 2016-12-26 | 2017-07-18 | 信阳舜宇光学有限公司 | 红外截止滤光片 |
| KR101866104B1 (ko) * | 2016-12-29 | 2018-06-08 | 주식회사 엘엠에스 | 카메라 모듈에 포함되는 근적외선 컷-오프 필터용 광학물품 및 이를 포함하는 카메라 모듈용 근적외선 컷-오프 필터 |
| JP6848477B2 (ja) * | 2017-01-25 | 2021-03-24 | Jsr株式会社 | 光学フィルターおよびその用途 |
| TWI701496B (zh) * | 2017-02-24 | 2020-08-11 | 日商光馳股份有限公司 | 攝影機構造，攝像裝置 |
| JP2018146878A (ja) * | 2017-03-08 | 2018-09-20 | カンタツ株式会社 | レンズ素子および撮像レンズユニット |
| CN106772745A (zh) * | 2017-04-01 | 2017-05-31 | 东莞市微科光电科技有限公司 | 一种红外截止滤光片的设计方法 |
| KR101907970B1 (ko) * | 2017-04-10 | 2018-10-16 | 주식회사 엘엠에스 | 광학물품 및 이를 포함하는 광학필터 |
| CN107203743B (zh) * | 2017-05-08 | 2020-06-05 | 杭州电子科技大学 | 一种人脸深度跟踪装置及实现方法 |
| EP3635454A4 (en) * | 2017-05-17 | 2021-02-24 | Everix, Inc. | HYBRID, ULTRA-THIN AND FLEXIBLE HYBRID ABSORBENT REFLECTION THIN FILTER FILTERS, AND METHODS FOR MANUFACTURING THE SAME |
| CN110678785B (zh) * | 2017-05-29 | 2022-04-05 | Jsr株式会社 | 环境光传感器用光学滤波器、环境光传感器以及电子机器 |
| JP2019012121A (ja) * | 2017-06-29 | 2019-01-24 | Ａｇｃ株式会社 | 光学フィルタおよび撮像装置 |
| CN110741288A (zh) * | 2017-06-30 | 2020-01-31 | Jsr株式会社 | 固体摄像装置 |
| CN116884966A (zh) * | 2017-07-21 | 2023-10-13 | 日亚化学工业株式会社 | 背光装置以及光源 |
| CN110892296B (zh) * | 2017-07-26 | 2022-03-22 | Jsr株式会社 | 红外线透过膜形成用组合物、红外线透过膜的形成方法、显示装置用保护板及显示装置 |
| US10249771B2 (en) * | 2017-07-27 | 2019-04-02 | Visera Technologies Company Limited | Filter collimators and methods for forming the same |
| CN110832362B (zh) * | 2017-07-27 | 2022-01-11 | Jsr株式会社 | 近红外线截止滤波器及其制造方法、固体摄像装置以及照相机模块 |
| US10714520B1 (en) * | 2017-08-04 | 2020-07-14 | Facebook Technologies, Llc | Manufacturing an on-chip microlens array |
| KR102491491B1 (ko) * | 2017-09-08 | 2023-01-20 | 삼성전자주식회사 | 근적외선 흡수 필름용 조성물, 근적외선 흡수 필름, 카메라 모듈 및 전자 장치 |
| KR20200038301A (ko) * | 2017-09-21 | 2020-04-10 | 후지필름 가부시키가이샤 | 근적외선 차단 필터의 제조 방법, 적층체 및 키트 |
| WO2019064771A1 (ja) * | 2017-09-29 | 2019-04-04 | 日本電産株式会社 | レンズ、レンズユニットおよび撮像装置 |
| JP6273063B1 (ja) * | 2017-10-03 | 2018-01-31 | 日本板硝子株式会社 | 光学フィルタ及び撮像装置 |
| JP7118615B2 (ja) * | 2017-10-12 | 2022-08-16 | キヤノン株式会社 | 光学素子、光学系および撮像装置 |
| WO2019088976A1 (en) * | 2017-10-30 | 2019-05-09 | Honeywell International Inc. | Small form factor spectrally selective absorber with high acceptance angle for use in gas detection |
| CN109932772B (zh) | 2017-12-19 | 2022-08-09 | 白金光学科技（苏州）有限公司 | 吸收式近红外线滤光片 |
| CN114637066A (zh) * | 2018-02-05 | 2022-06-17 | Ａｇｃ株式会社 | 滤光片以及成像装置 |
| CN111684318B (zh) * | 2018-02-05 | 2022-04-12 | Ａｇｃ株式会社 | 滤光片以及成像装置 |
| CN108388040B (zh) * | 2018-02-08 | 2020-09-22 | 苏州市联超光电科技有限公司 | 一种树脂滤光片及其制备方法 |
| JP7200985B2 (ja) * | 2018-03-02 | 2023-01-10 | Jsr株式会社 | 光学フィルター、カメラモジュールおよび電子機器 |
| JP7016403B2 (ja) | 2018-03-13 | 2022-02-04 | 富士フイルム株式会社 | 硬化膜の製造方法、固体撮像素子の製造方法 |
| KR101883740B1 (ko) * | 2018-04-10 | 2018-08-29 | 주식회사 이엘피 | 광 흡수 소자의 제조방법 |
| JP7052808B2 (ja) | 2018-05-22 | 2022-04-12 | 三菱ケミカル株式会社 | カラー表示装置、車両内外装部材、照明灯用ランプ、表示用看板及び車両 |
| CN112166165B (zh) * | 2018-05-25 | 2023-01-10 | 3M创新有限公司 | 相分离制品 |
| CN108897085A (zh) * | 2018-08-06 | 2018-11-27 | 信阳舜宇光学有限公司 | 滤光片及包含该滤光片的红外图像传感*** |
| KR20230146673A (ko) | 2018-08-17 | 2023-10-19 | 코닝 인코포레이티드 | 얇고, 내구성 있는 반사-방지 구조를 갖는 무기산화물 물품 |
| JPWO2020049930A1 (ja) | 2018-09-07 | 2021-09-02 | 富士フイルム株式会社 | 車両用ヘッドライトユニット、ヘッドライト用の遮光膜、ヘッドライト用の遮光膜の製造方法 |
| KR102420769B1 (ko) * | 2018-09-20 | 2022-07-14 | 후지필름 가부시키가이샤 | 경화성 조성물, 경화막, 적외선 투과 필터, 적층체, 고체 촬상 소자, 센서, 및 패턴 형성 방법 |
| FR3087903B1 (fr) * | 2018-10-25 | 2023-03-03 | Safran Electronics & Defense | Composant optique a filtre |
| CN109164528A (zh) * | 2018-11-05 | 2019-01-08 | 无锡泓瑞航天科技有限公司 | 五通道多色滤光片的光学膜层制备方法 |
| WO2020131318A1 (en) * | 2018-12-20 | 2020-06-25 | Flir Systems Ab | Gas lens filter systems and methods |
| CN111367005A (zh) * | 2018-12-25 | 2020-07-03 | 张家港康得新光电材料有限公司 | 红外截止滤光片、其制备方法及应用 |
| US11378726B2 (en) * | 2019-01-23 | 2022-07-05 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Filter structure, filter layer and display panel |
| DE112020001319T5 (de) | 2019-03-19 | 2021-12-02 | Applied Materials, Inc. | Hydrophobe und eisphobe Beschichtung |
| JP2020173294A (ja) * | 2019-04-08 | 2020-10-22 | Jsr株式会社 | 光学フィルターおよびその用途 |
| JP2021009271A (ja) * | 2019-07-03 | 2021-01-28 | Jsr株式会社 | カメラモジュールおよび電子機器 |
| JP2021018285A (ja) * | 2019-07-18 | 2021-02-15 | Jsr株式会社 | レンズおよび撮像装置 |
| DE102019120668A1 (de) * | 2019-07-31 | 2021-02-04 | Leica Camera Aktiengesellschaft | Sensoreinheit |
| CN110649081B (zh) * | 2019-09-30 | 2022-02-01 | 武汉天马微电子有限公司 | 一种显示面板、制备方法及显示装置 |
| CN112839215B (zh) * | 2019-11-22 | 2022-05-13 | 华为技术有限公司 | 摄像模组、摄像头、终端设备、图像信息确定方法及存储介质 |
| JP7337189B2 (ja) * | 2019-11-26 | 2023-09-01 | 富士フイルム株式会社 | 組成物、膜、マイクロレンズ、固体撮像素子および表示装置 |
| WO2021126058A1 (en) * | 2019-12-18 | 2021-06-24 | Fingerprint Cards Ab | Biometric imaging device and electronic device |
| JP7061647B2 (ja) | 2020-08-07 | 2022-04-28 | 東京応化工業株式会社 | 固体撮像素子の製造方法、積層体、及びドライフィルム |
| US20220107449A1 (en) * | 2020-10-06 | 2022-04-07 | Viavi Solutions Inc. | Composite optical filter |
| CN112346164A (zh) * | 2020-11-10 | 2021-02-09 | Oppo广东移动通信有限公司 | 电子设备、摄像装置及其滤光片 |
| TWI752677B (zh) * | 2020-11-12 | 2022-01-11 | 晶瑞光電股份有限公司 | 紅外截止濾光片結構 |
| CN112420959A (zh) * | 2020-11-19 | 2021-02-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 有机发光显示基板、其制作方法、显示面板及显示装置 |
| TW202231641A (zh) | 2020-12-16 | 2022-08-16 | 日商富士軟片股份有限公司 | 組成物、膜、濾光器、固體攝像元件、圖像顯示裝置及紅外線感測器 |
| JPWO2022130773A1 (ko) | 2020-12-17 | 2022-06-23 | ||
| JP2024520623A (ja) * | 2022-03-03 | 2024-05-24 | エルジー・ケム・リミテッド | 光学フィルム、コーティング層形成用組成物、および電子機器 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20020017636A1 (en) | 2000-07-06 | 2002-02-14 | Toru Harada | Optical filter comprising transparent support and filter layer having three absorption maximums |
| JP2011007894A (ja) | 2009-06-24 | 2011-01-13 | Bridgestone Corp | 光学フィルタ、及びこれを用いたディスプレイ用光学フィルタ |
| JP2011508258A (ja) | 2007-12-24 | 2011-03-10 | チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド | 近赤外線透過率制御用光学フィルムおよびこれを用いたディスプレイフィルタ |
Family Cites Families (39)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5543086A (en) * | 1987-08-12 | 1996-08-06 | Gentex Corporation | Squarylium dyestuffs and compostions containing same |
| JPH01228960A (ja) * | 1988-03-09 | 1989-09-12 | Konica Corp | スクアリリウムの化合物 |
| JP3965352B2 (ja) * | 2002-10-16 | 2007-08-29 | Ｈｏｙａ株式会社 | 銅含有ガラス、近赤外光吸収素子および近赤外光吸収フィルター |
| JP4592327B2 (ja) * | 2004-05-18 | 2010-12-01 | 株式会社Ａｄｅｋａ | 光学フィルター |
| JP4513420B2 (ja) | 2004-05-26 | 2010-07-28 | Ｊｓｒ株式会社 | 近赤外線カットフィルターおよびその製造方法 |
| KR20070041718A (ko) * | 2004-07-12 | 2007-04-19 | 니폰 가야꾸 가부시끼가이샤 | 필터, 및 시아닌 화합물 |
| JP4421962B2 (ja) * | 2004-07-13 | 2010-02-24 | カンタツ株式会社 | 携帯電話搭載用小型撮像モジュール |
| JP2006106570A (ja) | 2004-10-08 | 2006-04-20 | Adl:Kk | 光吸収フィルター |
| JP2006301489A (ja) | 2005-04-25 | 2006-11-02 | Nidec Copal Corp | 近赤外線カットフィルタ |
| JP2006350081A (ja) * | 2005-06-17 | 2006-12-28 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 近赤外線遮蔽膜とそれを備えた近赤外線遮蔽部材および表示装置並びに近赤外線遮蔽膜形成用塗料 |
| JP4785588B2 (ja) * | 2006-03-24 | 2011-10-05 | 株式会社Ａｄｅｋａ | 光学フィルター |
| JP4958461B2 (ja) | 2006-03-30 | 2012-06-20 | 富士フイルム株式会社 | 近赤外吸収色素含有硬化性組成物 |
| JP5036229B2 (ja) * | 2006-06-21 | 2012-09-26 | Ａｇｃテクノグラス株式会社 | 視感度補正フィルタガラス及び視感度補正フィルタ |
| JP2008051985A (ja) | 2006-08-24 | 2008-03-06 | Nidec Copal Corp | 近赤外線吸収フィルタ |
| JP4991479B2 (ja) * | 2006-10-27 | 2012-08-01 | 大阪瓦斯株式会社 | 光学フィルム及びその製造方法 |
| US8014071B2 (en) | 2006-12-28 | 2011-09-06 | Nippon Shokubai Co., Ltd. | Light selective transmission filter |
| JP5168917B2 (ja) | 2007-01-26 | 2013-03-27 | Ｊｓｒ株式会社 | 近赤外線カットフィルターおよびその製造方法 |
| JP2008209574A (ja) * | 2007-02-26 | 2008-09-11 | Fujimori Kogyo Co Ltd | 近赤外線遮蔽用の両面粘着フィルム及びｐｄｐ用光学フィルター |
| JP5169032B2 (ja) | 2007-06-11 | 2013-03-27 | 旭硝子株式会社 | 撮像装置用近赤外線カットフィルタおよび撮像装置 |
| JP5489669B2 (ja) | 2008-11-28 | 2014-05-14 | Ｊｓｒ株式会社 | 近赤外線カットフィルターおよび近赤外線カットフィルターを用いた装置 |
| JP5769918B2 (ja) * | 2009-08-26 | 2015-08-26 | ソニー株式会社 | 光学素子、撮像光学系及び撮像装置 |
| JP5490475B2 (ja) * | 2009-09-24 | 2014-05-14 | 富士フイルム株式会社 | 近赤外吸収性色素を含有する硬化性組成物、インク用組成物および近赤外線吸収フィルタの製造方法 |
| WO2011040578A1 (ja) * | 2009-09-30 | 2011-04-07 | 旭硝子株式会社 | 近赤外線吸収粒子、その製造方法、分散液およびその物品 |
| US9244204B2 (en) * | 2009-10-27 | 2016-01-26 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Image source unit and image display unit |
| JP2011101089A (ja) * | 2009-11-04 | 2011-05-19 | Sony Corp | 撮像光学系及び撮像装置 |
| JP5450170B2 (ja) | 2010-03-04 | 2014-03-26 | 株式会社日本触媒 | 積層体及び光選択透過フィルター |
| JP5810604B2 (ja) | 2010-05-26 | 2015-11-11 | Jsr株式会社 | 近赤外線カットフィルターおよび近赤外線カットフィルターを用いた装置 |
| WO2011158635A1 (ja) * | 2010-06-18 | 2011-12-22 | 株式会社大真空 | 赤外線カットフィルタ |
| JP5936299B2 (ja) * | 2010-11-08 | 2016-06-22 | Jsr株式会社 | 近赤外線カットフィルター、およびそれを備える固体撮像素子ならびに固体撮像装置 |
| JP5759717B2 (ja) | 2010-12-27 | 2015-08-05 | キヤノン電子株式会社 | 監視カメラ用撮像光学系 |
| JP5819063B2 (ja) | 2010-12-27 | 2015-11-18 | キヤノン電子株式会社 | 光学フィルタ |
| JP5789373B2 (ja) | 2010-12-27 | 2015-10-07 | キヤノン電子株式会社 | 光学フィルタ |
| JP2012137649A (ja) | 2010-12-27 | 2012-07-19 | Canon Electronics Inc | 光学フィルタ |
| JP5823119B2 (ja) | 2010-12-27 | 2015-11-25 | キヤノン電子株式会社 | 紫外赤外線カット用光学フィルタ |
| JP5693949B2 (ja) | 2010-12-27 | 2015-04-01 | キヤノン電子株式会社 | 光学フィルタ |
| JP2012137651A (ja) | 2010-12-27 | 2012-07-19 | Canon Electronics Inc | 光学フィルタ |
| CN103608705B (zh) * | 2011-06-06 | 2016-10-12 | 旭硝子株式会社 | 滤光片、固体摄像元件、摄像装置用透镜和摄像装置 |
| JP6034785B2 (ja) | 2011-07-28 | 2016-11-30 | 旭硝子株式会社 | 光学部材 |
| JP6183048B2 (ja) | 2012-08-27 | 2017-08-23 | 旭硝子株式会社 | 光学フィルタおよび固体撮像装置 |
-
2012
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-
2013
- 2013-12-06 US US14/099,328 patent/US9268072B2/en active Active
-
2016
- 2016-01-11 US US14/992,585 patent/US9753196B2/en active Active
- 2016-10-24 JP JP2016207905A patent/JP6332403B2/ja active Active
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20020017636A1 (en) | 2000-07-06 | 2002-02-14 | Toru Harada | Optical filter comprising transparent support and filter layer having three absorption maximums |
| JP2011508258A (ja) | 2007-12-24 | 2011-03-10 | チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド | 近赤外線透過率制御用光学フィルムおよびこれを用いたディスプレイフィルタ |
| JP2011007894A (ja) | 2009-06-24 | 2011-01-13 | Bridgestone Corp | 光学フィルタ、及びこれを用いたディスプレイ用光学フィルタ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
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