KR101034580B1 - 탄소나노튜브의 연속적인 표면처리 방법 및 장치 - Google Patents
탄소나노튜브의 연속적인 표면처리 방법 및 장치 Download PDFInfo
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Abstract
Description
구분 | 산화제 | RAMAN(AD'/AG) | XPS(O1S, atom%) | XPS(N1s, atom%) |
실시예 1 | O2 | 0.229 | 5.72 | - |
실시예 2 | O2 | 0.235 | 6.17 | - |
실시예 3 | O2 | 0.212 | 5.32 | - |
실시예 4 | 공기 | 0.146 | 4.51 | - |
실시예 5 | 공기 | 0.194 | 4.74 | - |
실시예 6 | 오존 | 0.153 | 5.58 | - |
실시예 7 | 오존 | 0.214 | 4.82 | - |
실시예 8 | 과산화수소 | 0.175 | 4.72 | - |
실시예 9 | 과산화수소 | 0.171 | 5.52 | - |
실시예 10 | 질산 | 0.158 | 9.69 | 1.48 |
실시예 11 | 질산 | 0.235 | 8.89 | 2.19 |
실시예 12 | O2 | 0.230 | 5.73 | - |
실시예 13 | O2 | 0.237 | 6.16 | - |
실시예 14 | O2 암모니아 |
0.179 | 4.47 | 2.44 |
실시예 15 | O2 암모니아 |
0.201 | 3.49 | 2.00 |
실시예 16 | 니트로메탄 암모니아 |
0.252 | 12.73 | 0.34 |
실시예 17 | 니트로메탄암모니아 | 0.215 | 8.90 | 0.20 |
실시예 18 | O2 암모니아 |
0.180 | 4.42 | 2.49 |
Claims (26)
- 산화제가 포함된 탄소나노튜브 혼합액이 주입된 50 내지 400atm의 아임계수 또는 초임계수 조건의 표면처리반응조에 하나 이상의 관능기를 갖는 기능성화합물을 50 내지 400atm의 압력과 100 내지 600℃온도로 주입하여 표면처리 생성물이 얻어지는 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브의 연속적인 표면처리 방법.
- 제1항에 있어서,상기 아임계수 또는 초임계수 조건은 온도가 100 내지 600℃인 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브의 연속적인 표면처리 방법.
- 제1항에 있어서,상기 하나 이상의 관능기를 갖는 기능성화합물은 카르복실, 카르복실염, 아민, 아민염, 4차-아민, 인산기, 인산염, 황산기, 황산염, 알코올, 티올, 에스테르, 아미드, 에폭사이드, 알데하이드, 케톤 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 이상의 관능기를 지닌 기능성화합물인 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브의 연속적인 표면처리 방법.
- 제1항에 있어서,상기 기능성화합물은 상기 산화제 당량에 대하여 0.001 내지 10배의 양으로 주입되는 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브의 연속적인 표면처리 방법.
- 제1항에 있어서,상기 기능성화합물은 상기 표면처리반응조의 입구 지점을 기준으로 하여 출구 지점까지의 거리상 1/5 되는 지점과 출구 지점 사이에서 주입되는 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브의 연속적인 표면처리 방법.
- 제1항에 있어서,상기 산화제가 포함된 탄소나노튜브 혼합액은,탄소나노튜브 및 용매가 포함된 탄소나노튜브용액이 표면처리반응조 전단의 예열조에 주입되는 도중에 산화제가 주입되면서 상기 탄소나노튜브 용액과 접촉하여 이루어진 탄소나노튜브 혼합액으로 예열조로 주입되어 200 내지 370℃로 예열단계를 거친 것임을 특징으로 하는 탄소나노튜브의 연속적인 표면처리 방법.
- 제6항에 있어서,상기 탄소나노튜브는 단일벽(Single-walled), 이중벽(Double walled), 얇은 다중벽(Thin multi-walled), 다중벽(Multi-walled), 다발형(Roped) 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 탄소나노튜브의 연속적인 표면처리 방법.
- 제6항에 있어서,상기 탄소나노튜브용액에 포함된 용매는 물, (C1-C20)의 지방족 알코올, 이산화탄소 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 용매가 포함되는 탄소나노튜브의 연속적인 표면처리 방법.
- 제6항에 있어서,상기 탄소나노튜브가 상기 용매 100중량부를 기준으로 0.0001 내지 10중량부로 포함되는 탄소나노튜브의 연속적인 표면처리 방법.
- 제6항에 있어서,상기 탄소나노튜브용액은 화학식 1의 니트로화합물이 더 포함된 것임을 특징으로 하는 탄소나노튜브의 연속적인 표면처리 방법.[화학식 1]R-(NO2)상기 식에서 R은 C1-C7의 알킬기, 또는 C6-C20의 아릴기이다.
- 제10항에 있어서,상기 니트로 화합물은 상기 탄소나노튜브용액내 탄소나노튜브의 탄소당량에 대한 몰비로 0.0001 내지 1 몰비로 포함되는 탄소나노튜브의 연속적인 표면처리 방법.
- 제6항에 있어서,상기 산화제는 산소, 공기, 오존, 과산화수소수,질산, 니트로화합물과 질소 함유 유기화합물로부터 질산을 제조할 수 있는 질산형성 산화제 및 이들의 혼합물에서 선택되는 탄소나노튜브의 연속적인 표면처리 방법.
- 제6항에 있어서,상기 산화제는 상기 탄소나노튜브 혼합액 중의 탄소나노튜브의 탄소 당량에 비례하여 0.001당량 내지 10당량으로 포함되는 연속적인 탄소나노튜브의 표면처리 방법.
- 제1항에 있어서,상기 표면처리 생성물은 0 내지 100℃로 냉각 및 1 내지 10atm으로 해압하는 냉각·해압단계; 및상기 냉각· 해압된 생성물을 회수하는 생성물회수단계;를 포함하여 얻어진 것임을 특징으로 하는 탄소나노튜브의 연속적인 표면처리 방법.
- 제14항에 있어서,상기 냉각· 해압단계를 거친 후 여과단계를 더 포함하는 탄소나노튜브의 연 속적인 표면처리 방법.
- 제14항에 있어서,상기 생성물회수단계를 거친 후 분산단계를 더 포함하는 탄소나노튜브의 연속적인 표면처리 방법.
- 제16항에 있어서,상기 분산단계는 상기 생성물회수단계를 거친 생성물을 물, (C1-C20)의 알코올, 케톤, 아민, 알킬 할로겐, 에테르, 퓨란, 황 함유 용제 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 분산용매에 분산시키는 것을 특징으로 하는 탄소나노튜브의 연속적인 표면처리 방법.
- 제17항에 있어서,상기 생성물이 분산용매 100중량부를 기준으로 0.0001 내지 10중량부로 포함되는 탄소나노튜브의 연속적인 표면처리 방법.
- 제17항에 있어서,상기 분산은 초음파, 플루이다이저, 호모제나이저, 펄버라이저, 비드밀, 페인트 쉐이커로 이루어진 군에서 선택되는 탄소나노튜브의 연속적인 표면처리 방법.
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- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 제1항에 따른 연속적인 방법으로 표면처리된 탄소나노튜브.
- 제25항에 있어서,상기 표면처리된 탄소나노튜브는 표면처리 정도가 라만 분광기로 0.01≤AD'/AG≤0.50이고, XPS로 0.1≤O1s,atom%≤30 atom%, 0≤N1s,atom%≤30 atom%인 연속적으로 표면처리된 탄소나노튜브.
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