KR100923516B1 - 이온빔 조사 방법 및 이온빔 조사 장치 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (10)
- 서로 직교하는 2 방향을 X 방향 및 Y 방향으로 할 때에, 면 내에 X 방향으로 연장되어 있는 행 형성 분할대 및 Y 방향으로 연장되어 있는 열 형성 분할대를 사이에 두고 m행 n열(m은 3 이상, n은 2 이상인 정수)의 매트릭스 형상으로 배열된 복수의 셀이 형성되어 있는 기판에, X 방향의 치수보다 Y 방향의 치수가 큰 이온빔을 조사하는 이온빔 조사 방법으로서,Y 방향의 영단부가 p행(p는 1≤p≤(m-2)인 정수)의 상기 셀을 사이에 두는 2개의 행 형성 분할대에 각각 위치하는 빔 폭의 이온빔을 이용하고,상기 기판을 X 방향으로 이동시키면서 상기 기판에 상기 이온빔을 조사하여, 상기 기판상에 빔 조사 영역을 형성하는 빔 조사 공정을 복수 회 실시하고,상기 빔 조사 공정의 사이의 시간으로서 상기 이온빔이 상기 기판에 닿지 않는 동안에, 상기 기판의 위치를 바꿔, 상기 이온빔을 조사하는 상기 셀의 행을 변경하는 기판 위치 변경 공정을 실시하며,복수의 상기 빔 조사 영역을 연결하여, 모든 상기 셀에 상기 이온빔을 조사하는 방법이며,상기 복수의 빔 조사 영역을 연결하는 연결부를 상기 행 형성 분할대에 위치시키고,상기 이온빔의 Y 방향의 양단부를, 마스크에서 X 방향으로 평행하게 정형(整形)하는 것을 특징으로 하는 이온빔 조사 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 기판 위치 변경 공정에서, 상기 기판을 Y 방향으로 이동시켜, 상기 연결부가 상기 행 형성 분할대에 위치하도록 상기 기판의 위치를 바꾸는 것인 이온빔 조사 방법.
- 서로 직교하는 2 방향을 X 방향 및 Y 방향으로 할 때에, 면 내에 X 방향으로 연장되어 있는 행 형성 분할대 및 Y 방향으로 연장되어 있는 열 형성 분할대를 사이에 두고 m행 n열(m, n은 모두 2 이상인 정수)의 매트릭스 형상으로 배열된 복수의 셀이 형성되어 있는 기판에, X 방향의 치수보다 Y 방향의 치수가 큰 이온빔을 조사하는 이온빔 조사 방법으로서,Y 방향의 빔 폭이 상기 m행의 반수(半數) 이상의 행의 상기 셀을 포함하는 치수의 이온빔을 이용하고,상기 기판을 X 방향으로 이동시키면서 상기 기판에 상기 이온빔을 조사하여, 상기 기판상에 빔 조사 영역을 형성하는 빔 조사 공정을 2회 실시하고,상기 빔 조사 공정의 사이의 시간으로서 상기 이온빔이 상기 기판에 닿지 않는 동안에, 상기 기판의 위치를 바꿔, 상기 이온빔을 조사하는 상기 셀의 행을 변경하는 기판 위치 변경 공정을 실시하며,2개의 상기 빔 조사 영역을 연결하여, 모든 상기 셀에 상기 이온빔을 조사하는 방법이며,상기 2개의 빔 조사 영역을 연결하는 연결부를 상기 행 형성 분할대에 위치 시키고,상기 이온빔의 Y 방향의 2개의 단부 중 적어도 상기 연결부측에 위치하는 단부를, 마스크에서 X 방향으로 평행하게 정형하는 것을 특징으로 하는 이온빔 조사 방법.
- 제3항에 있어서, 상기 기판 위치 변경 공정에서, 상기 기판을 그 면 내에서 180˚ 회전시키는 것과 상기 기판을 Y 방향으로 이동시키는 것을 행하여, 상기 연결부가 상기 행 형성 분할대에 위치하도록 상기 기판의 위치를 바꾸는 것인 이온빔 조사 방법.
- 제3항에 있어서, 상기 이온빔의 Y 방향의 양단부를, 마스크에서 X 방향으로 평행하게 정형하고,상기 기판 위치 변경 공정에서, 상기 기판을 Y 방향으로 이동시켜, 상기 연결부가 상기 행 형성 분할대에 위치하도록 상기 기판의 위치를 바꾸는 것인 이온빔 조사 방법.
- 서로 직교하는 2 방향을 X 방향 및 Y 방향으로 할 때에, 면 내에 X 방향으로 연장되어 있는 행 형성 분할대 및 Y 방향으로 연장되어 있는 열 형성 분할대를 사이에 두고 m행 n열(m, n은 모두 2 이상인 정수)의 매트릭스 형상으로 배열된 복수의 셀이 형성되어 있는 기판으로서 그 Y 방향의 중앙부에 상기 행 형성 분할대 중 어느 하나를 갖는 기판에, X 방향의 치수보다 Y 방향의 치수가 큰 이온빔을 조사하는 이온빔 조사 방법으로서,Y 방향의 빔 폭이 상기 m행의 반수 이상의 행의 상기 셀을 포함하는 치수의 이온빔을 이용하고,상기 기판을 X 방향으로 이동시키면서 상기 기판에 상기 이온빔을 조사하여, 상기 기판상에 빔 조사 영역을 형성하는 빔 조사 공정을 2회 실시하고,상기 빔 조사 공정의 사이의 시간으로서 상기 이온빔이 상기 기판에 닿지 않는 동안에, 상기 기판을 그 중심부를 중심으로 하여 기판면 내에서 180˚ 회전시켜, 상기 이온빔을 조사하는 상기 셀의 행을 변경하는 기판 회전 공정을 실시하며,2개의 상기 빔 조사 영역을 연결하여, 모든 상기 셀에 상기 이온빔을 조사하는 방법이며,상기 2개의 빔 조사 영역을 연결하는 연결부를 상기 기판 중앙부의 행 형성 분할대에 위치시키며,상기 이온빔의 Y 방향의 2개의 단부 중 적어도 상기 연결부측에 위치하는 단부를, 마스크에서 X 방향으로 평행하게 정형하는 것을 특징으로 하는 이온빔 조사 방법.
- 서로 직교하는 2 방향을 X 방향 및 Y 방향으로 할 때에, 면 내에 X 방향으로 연장되어 있는 행 형성 분할대 및 Y 방향으로 연장되어 있는 열 형성 분할대를 사이에 두고 m행 n열(m은 3 이상, n은 2 이상인 정수)의 매트릭스 형상으로 배열된 복수의 셀이 형성되어 있는 기판에, X 방향의 치수보다 Y 방향의 치수가 큰 이온빔을 조사하는 이온빔 조사 장치로서,Y 방향의 빔 폭이 q행(q는 1≤q≤m인 정수)의 상기 셀을 포함하는 치수의 이온빔을 발생시키는 이온빔 발생 장치와,상기 이온빔 발생 장치로부터의 이온빔을 그 Y 방향의 양단부가 X 방향으로 실질적으로 평행하게 되도록 정형하고, 상기 이온빔의 Y 방향의 영단부가 p행(p는 1≤p≤q 그리고, p≤(m-2)인 정수)의 상기 셀을 사이에 두는 2개의 행 형성 분할대에 각각 위치하는 빔 폭으로 정형하여 통과시키는 마스크와,상기 기판을 X 방향 및 Y 방향으로 이동시키는 기능을 갖는 기판 구동 장치와,상기 기판의 Y 방향의 위치를 나타내는 정보, 상기 기판상의 상기 행 형성 분할대의 Y 방향의 위치를 나타내는 정보 및 상기 마스크를 통과한 이온빔의 Y 방향 양단부의 위치를 나타내는 정보가 주어져 이들의 정보를 이용하여 상기 기판 구동 장치를 제어하며, 상기 기판을 X 방향으로 이동시키면서 상기 기판에 상기 마스크를 통과한 이온빔을 조사하여 상기 기판상에 빔 조사 영역을 형성하는 빔 조사 공정을 복수 회 실시하고, 상기 빔 조사 공정의 사이의 시간으로서 상기 이온빔이 상기 기판에 닿지 않는 동안에, 상기 기판을 Y 방향으로 이동시켜 상기 이온빔을 조사하는 상기 셀의 행을 변경하는 기판 위치 변경 공정을 실시하며, 복수의 상기 빔 조사 영역을 연결하여, 모든 상기 셀에 상기 이온빔을 조사하는 제어를 행하는 기능과, 상기 복수의 빔 조사 영역을 연결하는 연결부를 상기 행 형성 분할대에 위 치시키는 제어를 행하는 기능을 갖고 있는 제어 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 이온빔 조사 장치.
- 서로 직교하는 2 방향을 X 방향 및 Y 방향으로 할 때에, 면 내에 X 방향으로 연장되어 있는 행 형성 분할대 및 Y 방향으로 연장되어 있는 열 형성 분할대를 사이에 두고 m행 n열(m, n은 모두 2 이상인 정수)의 매트릭스 형상으로 배열된 복수의 셀이 형성되어 있는 기판에, X 방향의 치수보다 Y 방향의 치수가 큰 이온빔을 조사하는 이온빔 조사 장치로서,Y 방향의 빔 폭이 상기 m행의 반수 이상의 행의 상기 셀을 포함하는 치수의 이온빔을 발생시키는 이온빔 발생 장치와,상기 이온빔 발생 장치부터의 이온빔을 그 Y 방향의 2개의 단부 중 적어도 후술하는 연결부측의 단부가 X 방향으로 평행하게 되도록 정형하고, 상기 이온빔의 Y 방향의 빔 폭을 상기 m행의 반수 이상의 행의 상기 셀을 포함하는 빔 폭으로 유지하여 통과시키는 마스크와,상기 기판을 X 방향 및 Y 방향으로 이동시키는 기능 및 기판면 내에서 회전시키는 기능을 갖는 기판 구동 장치와,상기 기판의 Y 방향의 위치를 나타내는 정보, 상기 기판상의 상기 행 형성 분할대에의 Y 방향의 위치를 나타내는 정보 및 상기 마스크를 통과한 이온빔의 후술하는 연결부측의 단부의 위치를 나타내는 정보가 주어져 이들의 정보를 이용하여 상기 기판 구동 장치를 제어하고, 상기 기판을 X 방향으로 이동시키면서 상기 기판 에 상기 마스크를 통과한 이온빔을 조사하여 상기 기판상에 빔 조사 영역을 형성하는 빔 조사 공정을 2회 실시하며, 상기 빔 조사 공정의 사이의 시간으로서 상기 이온빔이 상기 기판에 닿지 않는 동안에, 상기 기판을 180˚ 회전시키고 Y 방향으로 이동시켜 상기 이온빔을 조사하는 상기 셀의 행을 변경하는 기판 위치 변경 공정을 실시하고, 2개의 상기 빔 조사 영역을 연결하여, 모든 상기 셀에 상기 이온빔을 조사하는 제어를 행하는 기능과, 상기 2개의 빔 조사 영역을 연결하는 연결부를 상기 행 형성 분할대에 위치시키는 제어를 행하는 기능을 갖고 있는 제어 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 이온빔 조사 장치.
- 서로 직교하는 2 방향을 X 방향 및 Y 방향으로 할 때에, 면 내에 X 방향으로 연장되어 있는 행 형성 분할대에 및 Y 방향으로 연장되어 있는 열 형성 분할대를 사이에 두고 m행 n열(m, n은 모두 2 이상인 정수)의 매트릭스 형상으로 배열된 복수의 셀이 형성되어 있는 기판에, X 방향의 치수보다 Y 방향의 치수가 큰 이온빔을 조사하는 이온빔 조사 장치로서,Y 방향의 빔 폭이 상기 m행의 반수 이상의 행의 상기 셀을 포함하는 치수의 이온빔을 발생시키는 이온빔 발생 장치와,상기 이온빔 발생 장치부터의 이온빔을 그 Y 방향의 양단부가 X 방향으로 실질적으로 평행하게 되도록 정형하고, 상기 이온빔의 Y 방향의 빔 폭을 상기 m행의 반수 이상의 행의 상기 셀을 포함하는 빔 폭으로 유지하여 통과시키는 마스크와,상기 기판을 X 방향 및 Y 방향으로 이동시키는 기능을 갖는 기판 구동 장치 와,상기 기판의 Y 방향의 위치를 나타내는 정보, 상기 기판상의 상기 행 형성 분할대의 Y 방향의 위치를 나타내는 정보 및 상기 마스크를 통과한 이온빔의 후술하는 연결부측의 단부의 위치를 나타내는 정보가 주어져 이들의 정보를 이용하여 상기 기판 구동 장치를 제어하고, 상기 기판을 X 방향으로 이동시키면서 상기 기판에 상기 마스크를 통과한 이온빔을 조사하여 상기 기판상에 빔 조사 영역을 형성하는 빔 조사 공정을 2회 실시하며, 상기 빔 조사 공정의 사이의 시간으로서 상기 이온빔이 상기 기판에 닿지 않는 동안에, 상기 기판을 Y 방향으로 이동시켜 상기 이온빔을 조사하는 상기 셀의 행을 변경하는 기판 위치 변경 공정을 실시하여 2개의 상기 빔 조사 영역을 연결하고, 모든 상기 셀에 상기 이온빔을 조사하는 제어를 행하는 기능과, 상기 2개의 빔 조사 영역을 연결하는 연결부를 상기 행 형성 분할대에 위치시키는 제어를 행하는 기능을 갖고 있는 제어 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 이온빔 조사 장치.
- 서로 직교하는 2 방향을 X 방향 및 Y 방향으로 할 때에, 면 내에 X 방향으로 연장되어 있는 행 형성 분할대 및 Y 방향으로 연장되어 있는 열 형성 분할대를 사이에 두고 m행 n열(m, n은 모두 2 이상인 정수)의 매트릭스 형상으로 배열된 복수의 셀이 형성되어 있는 기판으로서 그 Y 방향의 중앙부에 상기 행 형성 분할대 중 어느 하나를 갖는 기판에, X 방향의 치수보다 Y 방향의 치수가 큰 이온빔을 조사하는 이온빔 조사 장치로서,Y 방향의 빔 폭이 상기 m행의 반수 이상의 행의 상기 셀을 포함하는 치수의 이온빔을 발생시키는 이온빔 발생 장치와,상기 이온빔 발생 장치로부터의 이온빔을 그 Y 방향의 2개의 단부 중 적어도 후술하는 연결부측의 단부가 X 방향으로 평행하게 되도록 정형하고, 상기 연결부측의 단부를 상기 기판 중앙부의 행 형성 분할대에 위치시키며, 상기 이온빔의 Y 방향의 빔 폭을 상기 m행의 반수 이상의 행의 상기 셀을 포함하는 빔 폭으로 유지하여 통과시키는 마스크와,상기 기판을 X 방향으로 이동시키는 기능 및 상기 기판을 그 중심부를 중심으로 하여 기판면 내에서 회전시키는 기능을 갖는 기판 구동 장치와,상기 기판 구동 장치를 제어하고, 상기 기판을 X 방향으로 이동시키면서 상기 기판에 상기 마스크를 통과한 이온빔을 조사하여 상기 기판상에 빔 조사 영역을 형성하는 빔 조사 공정을 2회 실시하며, 상기 빔 조사 공정의 사이의 시간으로서 상기 이온빔이 상기 기판에 닿지 않는 동안에, 상기 기판을 그 중심부를 중심으로 하여 180˚ 회전시켜 상기 이온빔을 조사하는 상기 셀의 행을 변경하는 기판 회전 공정을 실시하고, 2개의 상기 빔 조사 영역을 연결하여, 모든 상기 셀에 상기 이온빔을 조사하는 제어를 행하는 기능과, 상기 2개의 빔 조사 영역을 연결하는 연결부를 상기 기판 중앙부의 행 형성 분할대에 위치시키는 제어를 행하는 기능을 갖고 있는 제어 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 이온빔 조사 장치.
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