JP6215061B2 - 電子ビーム露光装置 - Google Patents
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Description
図2は、第1実施形態に係る電子ビーム露光装置のブロック図である。
図8は、第2実施形態に係る電子ビーム露光装置20のブロック図である。なお、本実施形態の電子ビーム露光装置20において、図2の電子ビーム露光装置10と同一の構成には、同じ符号を付してその詳細な説明は省略する。
図9は、本実施形態に係る電子ビーム露光装置30のブロック図である。なお、電子ビーム露光装置30において、図2〜図8で説明した電子ビーム露光装置10、20と同一の構成については同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。
図10は、本実施形態に係る電子ビーム露光装置40のブロック図である。なお、電子ビーム露光装置40において、図2〜図9を参照して説明した電子ビーム露光装置10、20、30と同一の構成には、同一の符号を説明してその詳細な説明は省略する。
図14は、本変形例に係るビーム成形アパーチャプレート23の部分拡大図である。
図15は、本実施形態に係る電子ビーム露光装置50のブロック図である。なお、電子ビーム露光装置50において、図2〜図14に示す電子ビーム露光装置10、20、30、40と同一の構成については同一符号を付してその詳細な説明は省略する。
図16は、第6実施形態に係る電子ビーム露光装置60を示すブロック図である。なお、本実施形態において、図2〜図15に示す電子ビーム露光装置10、20、30,40、50と同一の構成については、同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。
Claims (13)
- 荷電粒子ビームを放出する荷電粒子源と、
複数の開口が所定方向に並んだ開口列を複数列備え、前記荷電粒子ビームを複数本の荷電粒子ビームに成形するビーム成形アパーチャプレートと、
前記開口に対応する部分に設けられた開口部及びブランキング電極を備え、前記荷電粒子ビームを個別に偏向させるブランカープレートと、
前記ブランカープレートにより偏向された荷電粒子ビームを阻止し、前記ブランカープレートにより偏向されない荷電粒子ビームを通過させる最終アパーチャと、
前記ビーム成形アパーチャプレートで成形された複数本の荷電粒子ビームを縮小して結像させる荷電粒子光学系と、
一定のピッチで複数本のラインパターンが形成された半導体基板を保持するとともに、前記半導体基板を移動させるステージ装置と、
前記荷電粒子源と前記ビーム成形アパーチャとの間に、前記荷電粒子源から放出された荷電粒子ビームを前記複数の開口が並んだ方向に細長い断面形状に変形する非対称照明光学系と、
前記非対称照明光学系と、前記ビーム成形アパーチャプレートとの間に配置され、前記ビーム成形アパーチャプレートへの前記荷電粒子ビームの照射位置を変化させる選択偏向器と、
前記ステージ装置の移動に応じて前記複数本の荷電粒子ビームをON又はOFFさせることで、前記半導体基板の上に所定のパターンの露光を行う制御装置と、
を備えることを特徴とする荷電粒子ビーム露光装置。 - 前記非対称照明光学系は、静電四重極電極を含むことを特徴とする請求項1に記載の荷電粒子ビーム露光装置。
- 前記ステージ装置をビーム成形アパーチャプレートの開口の列と直交する方向に移動させつつ、前記ステージ装置の移動に応じて前記複数本の荷電粒子ビームをON又はOFFさせることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の荷電粒子ビーム露光装置。
- 前記ビーム成形アパーチャプレートの開口は、前記半導体基板上のラインパターンのピッチと前記荷電粒子光学系の縮小倍率との積に等しいピッチで配置されることを特徴とする請求項1乃至請求項3の何れか1項に記載の荷電粒子ビーム露光装置。
- 前記ビーム成形アパーチャプレートの前記開口の列は、それぞれ同一形状の開口が同一ピッチで配置されていることを特徴とする請求項1に記載の荷電粒子ビーム露光装置。
- 前記ブランカープレートには、同一形状の開口及びブランキング電極が同一ピッチで複数列配置されており、前記列と直交する方向のブランキング電極同士が並列に接続されていることを特徴とする請求項5に記載の荷電粒子ビーム露光装置。
- 前記ビーム成形アパーチャプレートの前記開口の列は、列ごとにそれぞれ異なる形状の開口が異なるピッチで配置されていることを特徴とする請求項1に記載の荷電粒子ビーム露光装置。
- 前記ビーム成形アパーチャプレートと前記非対称照明光学系との間に、前記ビーム成形アパーチャプレートに到達する荷電粒子を制限する1次ビーム成形板を備えることを特徴とする請求項1に記載の荷電粒子ビーム露光装置。
- 前記1次ビーム成形板と前記ビーム成形アパーチャプレートとの間に前記選択偏向器が配置されていることを特徴とする請求項8に記載の荷電粒子ビーム露光装置。
- 前記ブランカープレートのブランキング電極は、前記荷電粒子ビームの出射側に設けられていることを特徴とする請求項1に記載の荷電粒子ビーム露光装置。
- 前記ステージ装置の変位を検出する位置検出器と、前記位置検出器の検出結果に基づいて前記複数の荷電粒子ビームの照射位置を微調整するステージフィードバック偏向器を備えることを特徴とする請求項1に記載の荷電粒子ビーム露光装置。
- 一定のピッチで複数本のラインパターンが形成された半導体基板を保持するとともに、前記半導体基板を移動させるステージ装置と、
前記ステージ装置の上方に配置され、各々が複数本の荷電粒子ビームを発生させる複数のコラムセルと、
前記ステージ装置を一定方向に往復移動させつつ、前記ステージ装置の移動に同期させて前記複数本の荷電粒子ビームをON又はOFFさせることで、前記半導体基板の上に所定のパターンを描画させる制御装置と、を備え、
前記コラムセルは、荷電粒子ビームを放出する荷電粒子源と、複数の開口を備え、前記荷電粒子ビームを複数本の荷電粒子ビームに成形するビーム成形アパーチャプレートと、前記開口に対応する部分に設けられた開口部及びブランキング電極を備え、前記荷電粒子ビームを個別に偏向させるブランカープレートと、前記ブランカープレートにより偏向された荷電粒子ビームを阻止し、前記ブランカープレートにより偏向されない荷電粒子ビームを通過させる最終アパーチャと、前記ビーム成形アパーチャプレートで成形された複数本の荷電粒子ビームを縮小して結像させる荷電粒子光学系と、一定のピッチで複数本のラインパターンが形成された半導体基板を保持するとともに、前記半導体基板を移動させるステージ装置と、前記荷電粒子源と前記ビーム成形アパーチャとの間に、前記荷電粒子源から放出された荷電粒子ビームを所定方向に細長い断面形状に変形する非対称照明光学系と、前記非対称照明光学系と、前記ビーム成形アパーチャプレートとの間に配置され、前記ビーム成形アパーチャプレートへの前記荷電粒子ビームの照射位置を変化させる選択偏向器と、を有するとともに前記ビーム成形アパーチャプレートの開口は、前記ステージ装置の往復移動方向と直交する方向に複数の開口が並んだ開口列が複数列配置され、前記非対称照明光学系は前記荷電粒子ビームを前記複数の開口が並んだ方向に細長い断面形状に変形することを特徴とする荷電粒子ビーム露光装置。 - 前記コラムセルにおいて、前記荷電粒子源と前記ビーム成形アパーチャとの間に、前記荷電粒子源から放出された荷電粒子ビームを前記開口の方向に細長い断面形状に変形する非対称照明光学系を有することを特徴とする請求項12に記載の荷電粒子ビーム露光装置。
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