KR100774629B1

KR100774629B1 - 순수한 2,3-디하이드로벤조퓨란의 연속제조방법

Info

Publication number: KR100774629B1
Application number: KR1020020032639A
Authority: KR
Inventors: 곽병성; 고기호
Original assignee: 에스케이 주식회사
Priority date: 2002-06-11
Filing date: 2002-06-11
Publication date: 2007-11-08
Also published as: KR20030095115A

Abstract

본 발명은 순수한 2,3-디하이드로벤조퓨란(2,3-dihydrobenzo furan)의 연속제조방법에 관한 것으로, 좀 더 상세하게는 귀금속을 무기산화물 담체에 담지시킨 불균일 촉매계 및 용매의 존재하에서 2,3-벤조퓨란을 반응온도 30∼200℃, 반응압력 1∼200bar, 및 시간당 중량공간속도(WHSV) 0.1∼10h^-1인 반응조건하에서 고정층 반응기에 연속적으로 통과시켜 선택적으로 수소화하여 순수한 2,3-디하이드로벤조퓨란을 고수율로 연속제조하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 종래의 회분식 제조방법에 비해서 비교적 간단한 연속제조공정을 통해서 의약품 중간체로서 사용가능한 2,3-디하이드로벤조퓨란을 고순도 및 고수율로 얻을 수 있으며, 유해물질을 사용하지 않아 친환경적이고, 시간당 생산효율이 증가되어 경제적이기 때문에 공업적으로 대량생산이 용이한 순수한 2,3-디하이드로벤조퓨란의 연속제조방법을 제공할 수 있다.

2,3-디하이드로벤조퓨란, 2,3-벤조퓨란, 의약품 중간체, 수소화, 불균일촉매, 고정층 연속 반응기

Description

순수한 2,3-디하이드로벤조퓨란의 연속제조방법{A continuous process for the production of pure 2,3-dihydrobenzofuran}

본 발명은 순수한 2,3-디하이드로벤조퓨란의 연속제조방법에 관한 것으로, 좀더 상세하게는 불균일 촉매계의 존재하에서 2,3-벤조퓨란을 연속공정으로 수소화하여 순수한 2,3-디하이드로벤조퓨란을 고수율로 제조하는 방법에 관한 것이다.

순수한 2,3-디하이드로벤조퓨란의 유도체는 우울증 또는 고혈압 치료제의 원료 의약품 및 농업용, 화학약품 등의 중간체 물질로서 광범위하게 사용되고 있으며, 2,3-디하이드로벤조퓨란을 이용하여 제조 가능한 치환체로는 2-메틸-2,3-디하이드로벤조퓨란, 4-비닐-2,3-디하이드로벤조퓨란, 4-클로로-2,3-디하이드로벤조퓨란, 아미노메틸-2,3-디하이드로벤조퓨란, 4-메틸벤질아미노-2,3-디하이드로벤조퓨란 등 여러 가지가 있다. 상기 유도체의 핵심 중간체인 2,3-디하이드로벤조퓨란을 제조하는 종래기술은 여러 특허 및 문헌에 보고되어 있다.

예를 들어, 2-하이드록시페닐에탄올의 탈수반응으로부터의 제조방법(Acta chem., Scand. Ser B, 1980, B34(1), 73)이 소개되어 있지만, 상기 방법은 회분식 제조공정으로 각종 유해한 부생성물을 산출하여 유해공정이면서, 제조수율이 35% 수준으로 낮기 때문에 상업적으로 제조 가능한 공정이라고 할 수 없다. 또한, 2-아미노페닐에탄올의 탈수소화반응으로부터 2,3-디하이드로인돌 화합물을 제조한 후, 2,3-디하이드로벤조퓨란으로 제조하는 방법에서도 제조 수율이 70% 수준으로 낮고, 유해한 부산물이 다량 생성되는 단점이 있다.

한편, 에니소알데하이드토실하이드라진 나트륨염에 의한 제조방법(일본 특개평 제2-45481호, 및 Bull. Chem. Soc. Jpn, 1977, 50(11))이 개시되어 있다. 상기 방법에 따르면, 파라 또는 올소-에니소알데하이드토실하이드라진 나트륨염을 500℃의 고온에서 회분식 공정을 통해서 2,3-디하이드로벤조퓨란을 얻을 수 있지만, 제조 수율이 7∼30% 수준으로 매우 낮은 단점이 있다. 또한, 메틸기가 치환된 2-메틸-2,3-디하이드로벤조퓨란의 제조시 69% 수준의 수율을 얻을 수 있지만, 본 발명과 비교하기는 부적절하고 다량의 폐기물이 발생되며, 환경적으로 유해하고 공업적으로 적용하기 쉽지 않은 단점이 있다.

또한, 2-클로로페닐에탄올의 구리금속계 촉매를 이용한 고리화반응으로부터의 제조 방법(Tetrahedron Lett., 41(21), 4011∼4014, (2000))이 개시되어 있다. 상기 방법에 따르면, 구리금속계 촉매를 이용하여 고리화반응으로부터 2,3-디하이드로벤조퓨란을 제조하는데, 피리디린 및 톨루엔 용매의 존재하에서 5몰%의 염화구리를 사용하여 반응시킬 경우 전환율 99%, 선택도 89.5%로 얻을 수 있지만, 유해물질인 구리계 화합물 및 소디움하이드라이드를 사용해야 하는 회분식 공정으로서 다량의 폐기물이 발생되어 친환경적이지 않은 단점이 있다.

한편, 페놀과 알킬치환기를 갖는 고급 알데하이드의 산촉매(p-PTSA)반응으로 부터 제조하는 방법(일본 특개평 제3-190868호)이 소개되어 있다. 상기 방법에 따르면, 파라톨루엔슬폰산(p-PTSA), 염화알미늄, 염화아연, 염화제2은 등의 산촉매를 이용하여 페놀에 알킬기가 치환된 알데하이드를 반응시킨 후, 클라이센(Claisen) 전위반응이 일어나고, 이어서 고리화반응을 통하여 2,3-디하이드로벤조퓨란 또는 메틸기가 치환된 2,3-디하이드로벤조퓨란을 제조할 수 있지만, 반응선택도가 낮고 유해한 산을 과량 사용하여 환경적으로 유해하고 치환기의 종류에 따라 제조 수율의 차이가 많은 단점이 있다.

전술한 바와 같이, 기존의 제조 공정들은 대부분 유해한 반응시약을 사용하며 부반응물이 생성될 가능성이 높은 회분식 공정을 채택함으로써 생산성이 떨어지고, 폐기물이 다량 발생하거나 또는 공정이 복잡하여 전체 수율이 낮기 때문에 대량생산이 불가능하여 공업적으로 적용하기에는 한계가 있다.

이에 본 발명에서는 전술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위하여 상업적으로 제조가 용이하고 생산효율을 증가시킬 수 있는 고순도의 2,3-디하이드로벤조퓨란을 고수율로 제조하는 방법에 대하여 다양한 연구를 거듭한 결과, 무기산화물 담체에 귀금속이 담지된 불균일 촉매계 및 용매의 존재하에서, 2,3-벤조퓨란을 고정층 연속 반응기로 수소화하여 고순도, 고수율의 2,3-디하이드로벤조퓨란을 얻을 수 있음을 발견하였으며, 본 발명은 이에 기초하여 완성되었다.

따라서, 본 발명의 목적은 귀금속이 담지된 불균일 촉매계 및 용매계의 존재하에서 고정층 반응기를 채택한 연속공정을 사용함으로써, 기존의 제조 방법에 비 하여 생산성이 높고 친환경적이며, 훨씬 간단한 공정을 통해서 2,3-벤조퓨란으로부터 순수한 2,3-디하이드로벤조퓨란을 연속제조하는 방법을 제공하는데 있다.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 순수한 2,3-디하이드로벤조퓨란의 연속제조방법은 귀금속을 무기산화물 담체에 담지시킨 촉매계 및 용매의 존재하에서 하기 화학식 2로 표시되는 2,3-벤조퓨란을 반응온도 30∼200℃, 반응압력 1∼200bar, 및 시간당 중량공간속도(WHSV) 0.1∼10h^-1인 반응조건하에서 고정층 반응기에 연속적으로 통과시켜 선택적으로 수소화하여 하기 화학식 1로 표시되는 2,3-디하이드로벤조퓨란을 얻는다:

이하 본 발명을 좀 더 구체적으로 설명하면 다음과 같다.

전술한 바와 같이, 본 발명에서는 귀금속 또는 귀금속 전구체를 무기산화물 담체에 담지시킨 불균일 촉매계의 존재하에서 2,3-벤조퓨란을 선택적으로 수소화하여 2,3-디하이드로벤조퓨란을 고수율 및 고순도로 제조할 수 있다.

일반적으로, 2,3-벤조퓨란의 선택적인 수소화를 통한 2,3-디하이드로벤조퓨란의 제조시, 반응조건 및 촉매계의 종류에 따라 하기 화학식 3a∼3d로 표시되는 부생성물이 다량 생성될 수 있지만, 본 발명자들은 최적의 반응조건과 촉매계를 선정하여 하기 반응식 1에서와 같은 반응이 주로 일어날 수 있도록 선택도 향상 연구를 하였다.

따라서, 본 발명에 따른 순수한 2,3-디하이드로벤조퓨란의 연속제조방법은 귀금속을 무기산화물 담체에 담지시킨 촉매계 및 용매의 존재하에서 하기 화학식 2로 표시되는 2,3-벤조퓨란을 반응온도 30∼200℃, 반응압력 1∼200bar, 및 시간당 중량공간속도(WHSV) 0.1∼10h^-1인 반응조건하에서 고정층 반응기에 연속적으로 통과시켜 선택적으로 수소화하여 하기 화학식 1로 표시되는 2,3-디하이드로벤조퓨란을 얻는다.

화학식 1

화학식 2

상기 수소화반응에 사용되는 촉매는 귀금속 또는 귀금속 전구체를 담체에 담지시켜 사용하며, 상기 귀금속으로는 팔라듐(Pd), 루테늄(Ru), 로듐(Rh), 니켈(Ni), 백금(Pt), 이리듐(Ir), 및 오스뮴(Os) 중 하나, 또는 이러한 금속들을 혼합하여 사용할 수 있으며, 바람직하게는 팔라듐이 가장 적절하다. 한편, 팔라듐 촉매를 제조하는 경우 전구체는 염화물, 질화물, 및 아세틸 아세토네이트 등을 사용할 수 있다.

또한, 본 발명에 사용되는 담체로는 알루미나(Alumina), 실리카(Silica), 실리카-알루미나(Silica-alumina), 지르코니아(Zirconia), 티타니아(Titania), 지올라이트(Zeolite), 또는 분자체(Molecular Sieve)와 같은 무기 산화물이 사용될 수 있으며, 이 중에서도 알루미나(Alumina)가 가장 바람직하다. 한편, 본 발명의 담체로 사용되는 알루미나는 질소 흡착으로 BET 방법에 의해 측정한 표면적이 100㎡/g 이상인 것, 바람직하게는 200∼600㎡/g인 것을 사용하여 제조하는 것이 좋다.

한편, 상기 담체 입자의 형태는 원(circular)형, 실린더(cylindrical)형, 과립(granular)형, 또는 어떠한 형태의 것을 사용하여도 무방하나, 적당한 기계적 성질을 갖기 위해서는 원형 또는 실린더형으로 성형된 것이 좋다.

이때, 상기 귀금속의 함량은 촉매계 전체에 대하여 0.1∼15중량%로 유지하는 것이 좋으며, 더욱 바람직하기로는 0.5∼10중량%가 좋고, 만약 상기 귀금속의 함량이 0.1중량% 미만이면 수소화반응 활성 및 선택도가 감소하며, 15중량%를 초과하면 귀금속의 높은 가격으로 인해 공정의 경제성이 낮아지는 단점이 있다.

한편, 상기 귀금속을 담체에 담지시키는 방법으로는 초기습식함침법(Incipient wetness impregnation), 과량수함침법(Excess water impregnation), 스프레이법 또는 물리적인 혼합 등의 방법을 모두 사용할 수 있다.

그 다음, 상기 귀금속의 담지가 완료된 촉매는 공기 분위기 또는 불활성 기체 분위기에서 2시간 이상 소성하여야 하는데, 이때 온도는 300∼700℃로 유지하여야 하며, 더욱 바람직하기로는 300∼600℃가 좋고, 만약 상기 소성 온도가 300℃ 미만이면 소성이 불완전하여 귀금속 담지시 사용한 금속의 전구체 분해가 미흡하게 되며, 700℃를 초과하면 금속의 분산도가 낮아져 촉매가 적절한 성능을 발휘할 수 없게 된다.

그 다음, 소성이 완료된 촉매를 고정층 반응기에 충전한 후에는 반응물을 투입하기 전에 수소로 촉매를 환원하는 과정을 거쳐야 하며, 이때 환원 조건은 담지된 금속의 종류에 따라 50∼500℃에서 적어도 2시간 이상 유지하여야 한다.

한편, 상기 화학식 2로 표시되는 2,3-벤조퓨란을 수소화를 통해서 상기 화학식 1로 표시되는 순수한 2,3-디하이드로벤조퓨란을 제조하는 반응은 수소 분압 1∼200bar, 반응온도 30∼200℃, 시간당 중량공간속도(WHSV) 0.1∼10h^-1의 조건에서 수행되며, 바람직하기로는 각각 1∼100bar, 30∼150℃, WHSV 0.2∼10h^-1의 조건에서 수행하는 것이 좋으며, 더욱 바람직하기로는 각각 1∼50bar, 30∼130℃, WHSV 0.2∼6h^-1의 조건에서 수행하는 것이 좋다. 이때, 상기 반응조건이 상기와 같은 범위를 벗어날 경우에는 2,3-디하이드로벤조퓨란 생성물의 수율이 낮아지거나 또는 촉매의 비활성화 속도가 증가되어 본 발명에서 제시하는 연속제조공정의 장점이 사라지게 된다.

또한, 상기 2,3-벤조퓨란를 수소화를 통해서 2,3-디하이드로벤조퓨란으로 완 전히 전환시키기 위해서는 상기 2,3-벤조퓨란에 대한 수소의 몰비가 1.0 이상이면 되고, 그 이상의 수치에 대해서는 제한이 없지만, 공정의 경제성을 감안하여 2,3-벤조퓨란 대비 수소의 몰비는 2.0∼10 사이로 유지하는 것이 좋다. 이때, 상기 수소의 몰비가 1.0 미만이면 반응성이 저하되어 수율이 감소되고, 10.0을 초과하면 수소의 과량 사용에 의한 선택도 저하 및 경제성이 저하된다. 한편, 상기 반응에 사용되지 않고 반응기를 통과한 수소는 재압축되어 반응기로 순환된다. 또한, 반응 조건에 따라 반응생성물을 바로 원하는 제품으로 분리하거나, 또는 이를 재순환시켜 미전환된 반응물의 전환율을 높인 후 분리할 수 있다.

한편, 상기 수소화반응의 수행시 특정한 용매를 사용하여야 하는데, 상기 용매는 2,3-벤조퓨란를 반응기로 원활하게 공급할 수 있도록 잘 녹일 수 있어야 하고, 상기 수소화 공정에서 발생하는 반응열을 쉽게 제거하는 역할도 하면서, 반응물인 2,3-벤조퓨란 및 수소와 반응하지 않아야 한다. 따라서, 본 발명에서는 이러한 수소화에 적절한 용매로서 물, 메틸알코올(methyl alcohol), 에틸알코올(ethyl alcohol), n-프로필알코올(n-propyl alcohol), 이소프로필알코올(i-propyl alcohol), 디옥산(dioxane), 감마부티로락톤(γ-butyrolactone), 테트라하이드로퓨란(tetrahydrofuran) 등을 사용할 수 있다. 이때, 상기 용매의 사용시 용액중의 2,3-벤조퓨란의 농도는 제한이 없으나 1∼50중량%가 좋다.

또한, 본 발명에서는 고정층 반응기를 이용한 연속공정을 이용함으로써 종래의 방법에 비해 수율이 높고 촉매의 재생이 가능하여 경제적이며, 촉매를 필터로 제거해야 하는 어려움이 없어 반응후의 회수공정을 단순화할 수 있다. 상기 고정 층 반응계에 있어서, 반응기의 형태나 또는 반응물의 투입 및 흐름 방향에 제한은 없으나, 반응물간의 접촉이 원활하게 일어나게 하기 위하여 반응물인 탄화수소와 수소가 함께 반응기의 상부에서 하부로 흐르며 반응물을 반응기 전체에 골고루 분산시킬 수 있는 설비를 갖춘 트리클-베드(Trickle-bed) 형태의 반응기를 사용하는 것이 가장 좋다.

한편, 상기 반응기로부터 유출되는 반응생성물은 용매를 회수하는 장치로 보내지며, 여기서 적어도 일부의 용매가 나머지 반응생성물과 분리된다. 이러한 회수 장치는 증류탑 또는 플래시 증류기(Flash vaporizer)등 어떠한 형태의 장치를 사용하여도 무방하다. 이러한 용매 회수장치의 하단부에서 유출되는 생성물, 또는 농축물은 진공증류 장치로 이송된다. 이로부터 얻은 2,3-디하이드로벤조퓨란은 증류와 같은 통상적인 정제 공정에 의해 높은 수율 및 고순도로 제조될 수 있다.

전술한 바와 같이, 본 발명에 따른 2,3-디하이드로벤조퓨란의 연속제조방법은 종래의 제조방법과는 달리 선택도가 높은 경제적인 공정을 통해서 2,3-벤조퓨란을 귀금속이 담체에 담지된 촉매가 충진된 고정층 반응기에 연속으로 통과시키면서 수소화시킴으로써, 종래의 방법인 회분식 제조방법에 비해 수율이 높아 생산성이 월등히 높고 유해한 반응물을 사용하지 않아 친환경적이며, 촉매의 재생과 연속사용이 가능하여 경제적이고, 촉매를 필터로 제거하는 등의 복잡한 후처리 공정을 사용하지 않아서 단순한 제조공정을 적용하여 고수율, 고순도의 2,3-디하이드로벤조퓨란을 제공할 수 있다.

이하, 하기 실시예를 통하여 본 발명을 좀 더 구체적으로 설명하지만, 이에 본 발명의 범주가 한정되는 것은 아니다.

실시예 1

[팔라듐 촉매의 제조]

500cc 용량의 플라스크에 2차 증류수를 넣은 후, 여기에 18g의 염화팔라듐 (PdCl₃)을 투입하여 염화팔라듐 수용액을 제조하였다. 그 다음, 회전 속도를 조절할 수 있는 모터에 장착된 금속 담지용 용기에 구형의 알루미나 100g(1/8 in)을 넣은 후 용기를 회전시키면서, 상기 팔라듐 용액을 알루미나에 골고루 분산시켰다. 팔라듐 용액 투입이 완료된 후에도 약 60분 동안 모터를 같은 속도에서 더 회전시킨 후 팔라듐이 지지된 촉매를 머플로(muffle furnace)에 옮겨 공기분위기에서 500℃로 3시간 동안 소성하였다. 소성 후 촉매내의 팔라듐의 함량을 X-선 형광분석법으로 측정한 결과 5.0중량%였다.

실시예 2

[루테늄 촉매의 제조]

500cc 용량의 플라스크에 2차 증류수를 넣은 후, 여기에 18g의 염화루테늄 (RuCl₃)을 투입하여 염화루테늄 수용액을 제조하였다. 그 다음, 회전 속도를 조절할 수 있는 모터에 장착된 금속 담지용 용기에 구형의 알루미나 100g(1/8 in)을 넣은 후 용기를 회전시키면서, 상기 루테늄 용액을 알루미나에 골고루 분산시켰다. 루테늄 용액 투입이 완료된 후에도 약 60분 동안 모터를 같은 속도에서 더 회전시킨 후 루테늄이 지지된 촉매를 머플로(muffle furnace)에 옮겨 공기분위기에서 500 ℃로 3시간 동안 소성하였다. 소성 후 촉매 내 루테늄의 함량을 X-선 형광분석법으로 측정한 결과 5.0중량%였다.

실시예 3∼9

[2,3-디하이드로벤조퓨란의 연속제조 반응]

실시예 1 의 방법으로 제조된 촉매 10g을 316 스테인레스 재질의 연속고압반응 반응기에 충진하였다. 그리고, 반응기내의 촉매를 수소 분위기에서 분당 2℃의 승온속도로 300℃까지 상승시킨 후, 6시간 동안 환원과정을 실시한 다음 반응기를 냉각하고 내부를 질소로 불어내었다. 그 다음, 상기 반응기 내부의 온도를 상온에서 반응온도까지 분당 1℃의 승온속도로 올리면서 100sccm의 수소를 흘려주었다. 그 다음, 수소의 주입량을 반응에 필요한 것보다 2배로 증가시키고, 2,3-벤조퓨란을 유기 용매에 녹여 2,3-벤조퓨란이 1∼10중량%가 되도록 제조한 반응물을 반응기로 주입한 후, 온도 30∼100℃, 수소 압력 30bar, 시간당 공간속도(WHSV) 1.0 h^-1의 조건하에서 수소화하였다. 그 다음, 반응물의 분리 정제는 증류방법을 사용하여 제조수율 92중량%, 제품순도 99.6%로 얻었다. 이로부터 얻은 반응생성물의 분석은 생성물을 채취하여 가스 크로마토그라프(30m×0.25mm×0.25m HP-5 컬럼)의 FID(flame ionization detector)로 분석하여 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.

실시예	반응온도(℃)	반응압력(bar)	전환율(%)	선택도(%)¹⁾	수율(%)
3	75	30	99	98	97
4	100	30	100	80	79.2
5	60	30	72	85	61.2

¹⁾ 2,3-디하이드로벤조퓨란의 선택도

실시예 6∼8

2,3-벤조퓨란의 수소화반응시 출발물질의 안정성을 확보하면서 반응 선택도를 증가시키기 위해서 하기 표 2에 나타낸 용매를 각각 사용하여 반응온도 75℃, 수소압력 30bar, WHSV 1.0h^-1의 조건하에서 수행한 것을 제외하고는 상기 실시예 2에 예시된 방법과 동일하게 실시하였으며, 이때 사용한 용매계 변화에 따른 결과를 하기 표 2에 나타내었다.

실시예¹⁾	용매	전환율(%)	선택도(%)²⁾
6	메탄올	100	98
7	에탄올	100	93.8
8	H₂O	97	91.2

¹⁾ 촉매: 실시예 1

²⁾ 2,3-디하이드로벤조퓨란의 선택도

실시예 9∼12

2,3-벤조퓨란의 수소화반응시 제조수율을 향상시키면서 고순도의 2,3-디하이드로벤조퓨란을 제조하기 위하여 하기 표 3에 나타낸 불균일 촉매를 각각 사용하여 반응온도 30℃, 수소압력 30bar, WHSV 1.0h^-1의 조건하에서 수행한 것을 제외하고는 상기 실시예 2에 예시된 방법과 동일하게 실시하였으며, 이때 사용한 촉매계 및 반응조건 변화에 따른 결과를 하기 표 3에 나타내었다.

실시예	촉매	전환율(%)	선택도(%)¹⁾
9	Pd/Al₂O₃	100	98.0
10	Pd/C	98	89.8
11	Ru/Al₂O₃	100	75.2
12	Rany Ni	97	67.4

¹⁾ 2,3-디하이드로벤조퓨란의 선택도

상기 표 1∼3에 나타낸 바와 같이, 본 발명에 따른 2,3-디하이드로벤조퓨란의 연속제조방법을 이용하여 고수율 및 고순도의 2,3-디하이드로벤조퓨란을 얻을 수 있었다.

전술한 바와 같이, 본 발명에 따르면 귀금속을 무기산화물 담체에 담지시킨 촉매계의 존재하에서 2,3-벤조퓨란을 수소화시킴으로써, 종래의 방법에 비해 고순도, 고수율로 2,3-디하이드로벤조퓨란을 얻을 수 있으며, 비교적 간단하고 친환경적인 공정인 공정을 통해서 생산성을 향상시킬 수 있어 경제적이기 때문에 공업적으로 대량생산이 가능하여 산업적인 부가가치가 매우 유용한 순수한 2,3-디하이드로벤조퓨란의 연속제조방법을 제공할 수 있다.

Claims

(i) 팔라듐(Pd), 루테늄(Ru), 로듐(Rh), 니켈(Ni), 백금(Pt), 이리듐(Ir), 오스뮴(Os) 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 귀금속을 알루미나(Alumina), 실리카(Silica), 실리카-알루미나(Silica-alumina), 지르코니아(Zirconia), 티타니아(Titania), 지올라이트(Zeolite) 및 분자체(Molecular Sieve) 중 선택되는 하나의 무기산화물 담체에 담지시킨 촉매계, 및 (ii) 물, 메틸알코올(methyl alcohol), 에틸알코올(ethyl alcohol), n-프로필알코올(n-propyl alcohol), 이소프로필알코올(i-propyl alcohol), 디옥산(dioxane), 감마부티로락톤(γ-butyrolactone), 테트라하이드로퓨란(tetrahydrofuran) 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 용매의 존재하에서, 하기 화학식 2로 표시되는 2,3-벤조퓨란을 반응온도 30∼200℃, 반응압력 1∼200bar, 및 시간당 중량공간속도(WHSV) 0.1∼10h^-1인 반응조건하에서 고정층 반응기에 연속적으로 통과시켜 선택적으로 수소화하여 하기 화학식 1로 표시되는 2,3-디하이드로벤조퓨란을 얻는 것을 특징으로 하는 순수한 2,3-디하이드로벤조퓨란의 연속제조방법:

화학식 1

화학식 2
제1항에 있어서, 상기 2,3-벤조퓨란 대비 반응시 투입된 수소의 몰비는 1∼10인 것을 특징으로 하는 순수한 2,3-디하이드로벤조퓨란의 연속제조방법.
삭제
제1항에 있어서, 상기 귀금속은 팔라듐이고, 상기 팔라듐의 함량은 상기 촉매계에 대하여 0.1∼15중량%인 것을 특징으로 하는 순수한 2,3-디하이드로벤조퓨란의 연속제조방법.
삭제
삭제
제1항에 있어서, 상기 용매내의 상기 2,3-벤조퓨란의 함량은 1∼50중량%인 것을 특징으로 하는 순수한 2,3-디하이드로벤조퓨란의 연속제조방법.
제1항에 있어서, 상기 고정층 반응기의 반응온도는 30℃∼150℃이고, 반응압력은 1∼100bar이며, WHSV는 0.2∼10h^-1인 것을 특징으로 하는 순수한 2,3-디하이드로벤조퓨란의 연속제조방법.