KR100705287B1 - 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법에 관한 것으로, 더욱 자세하게는 플라즈마 디스플레이 전면 패널의 유전체층을 개선한 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법에 관한 것이다.
이러한 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 글라스에 형성되고, 버스전극과 투명전극을 구비한 복수개의 스캔 전극 및 서스테인 전극; 및 상기 복수개의 스캔 전극과 서스테인 전극을 덮도록 차등적인 두께로 형성된 상부 유전체층;을 포함하고, 상기 상부 유전체 층은, 상기 스캔 전극의 투명전극 및 상기 서스테인 전극의 투명전극에 대응하는 위치의 제 1 두께는 상기 스캔 전극과 상기 서스테인 전극이 이격된 사이에 대응하는 위치의 제 2 두께 및 상기 스캔 전극의 버스전극 및 상기 서스테인 전극의 버스전극에 대응하는 위치의 제 3 두께보다 두꺼운 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법은 (a) 글라스에 복수개의 스캔 전극과 서스테인 전극을 형성하는 단계 (b) 상기 복수개의 스캔 전극과 서스테인 전극을 덮도록 제 1 상부유전체층을 형성하는 단계 및 (c) 제 1 상부유전체층 상부에 제 2 상부유전체층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
플라즈마 디스플레이 패널, 스캔 전극, 서스테인 전극, 차등 유전체층, 비방전영역

Description

플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법{The Plasma Display Panel and Method of Manufacturing thereof}
도 1은 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 구조를 개략적으로 나타낸 사시도.
도 2는 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 순차적으로 나타낸 순서도.
도 3은 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 하나의 일예로 전면 패널 제조 공정을 순차적으로 나타낸 공정도.
도 4는 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 하나의 일예로 차등적인 두께를 갖는 상부 유전체층을 설명하기 위한 도.
도 5는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 순차적으로 나타낸 순서도.
도 6a 및 도 6b는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널 제조 공정을 순차적으로 나타낸 공정도.
도 7은 도 6에 도시한 플라즈마 디스플레이 패널의 하나의 일예인 차등적인 유전체층을 설명하기 위한 도.
도 8은 본 발명에 따른 차등적인 두께를 갖는 플라즈마 디스플레이 패널의 방전효율을 보여주기 위한 도.
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법에 관한 것으로, 더욱 자세하게는 플라즈마 디스플레이 전면 패널의 유전체층을 개선한 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법에 관한 것이다.
일반적으로 플라즈마 디스플레이 패널은 전면기판과 후면기판 사이에 형성된 격벽이 하나의 단위 셀을 이루는 것으로, 각 셀 내에는 네온(Ne), 헬륨(He) 또는 네온 및 헬륨의 혼합기체(Ne+He)와 같은 주 방전 기체와 소량의 크세논을 함유하는 불활성 가스가 충진되어 있다. 고주파 전압에 의해 방전이 될 때, 불활성 가스는 진공자외선(Vacuum Ultraviolet rays)을 발생하고 격벽 사이에 형성된 형광체를 발광시켜 화상이 구현된다. 이와 같은 플라즈마 디스플레이 패널은 얇고 가벼운 구성이 가능하므로 차세대 표시장치로서 각광받고 있다.
도 1은 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 구조를 나타낸 사시도이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 플라즈마 디스플레이 패널은 화상이 디스플레이 되는 표시면인 전면 글라스(101)에 스캔 전극(102)과 서스테인 전극(103)이 쌍을 이뤄 형성된 복수의 유지전극쌍이 배열된 전면기판(100) 및 배면을 이루는 후면 글라스(111) 상에 전술한 복수의 유지전극쌍과 교차되도록 복수의 어드레스 전극(113)이 배열된 후면기판(110)이 일정거리를 사이에 두고 평행하게 결합된다.
전면기판(100)은 하나의 방전셀에서 상호 방전시키고 셀의 발광을 유지하기 위한 스캔 전극(102) 및 서스테인 전극(103), 즉 투명한 ITO 물질로 형성된 투명 전극(a)과 금속재질로 제작된 버스 전극(b)으로 구비된 스캔 전극(102) 및 서스테인 전극(103)이 쌍을 이뤄 포함된다. 스캔 전극(102) 및 서스테인 전극(103)은 방전 전류를 제한하며 전극 쌍 간을 절연시켜주는 하나 이상의 상부 유전체층(104)에 의해 덮혀지고, 상부 유전체층(104) 상면에는 방전 조건을 용이하게 하기 위하여 산화마그네슘(MgO)을 증착한 보호층(105)이 형성된다.
후면기판(110)은 복수개의 방전 공간 즉, 방전셀을 형성시키기 위한 스트라이프 타입(또는 웰 타입)의 격벽(112)이 평행을 유지하여 배열된다. 또한, 어드레스 방전을 수행하여 진공자외선을 발생시키는 다수의 어드레스 전극(113)이 격벽(112)에 대해 평행하게 배치된다. 후면기판(110)의 상측면에는 어드레스 방전시 화상표시를 위한 가시광선을 방출하는 R, G, B 형광체(114)가 도포된다. 어드레스 전극(113)과 형광체(114) 사이에는 어드레스 전극(113)을 보호하기 위한 하부 유전체층(115)이 형성된다.
이와같이, 전면 패널 제조 과정과 후면 패널 제조 과정을 거친후, 전술한 전면 패널과 후면 패널을 합착시키기 위한 실링공정을 통하여 플라즈마 디스플레이 패널의 제품이 완성된다. 여기서, 전면 패널과 후면 패널이 제조되는 과정을 더욱 자세하게 살펴보면 다음 도 2와 같다.
도 2는 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 순차적으로 나타낸 순서도이다.
도 2에 도시된 바와 같이, 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법은 도 2의 좌측에 나열된 전면 패널 제조 과정과, 우측에 나열된 후면 패널 제조 과정 및 하측에 나열된 실링 과정등을 포함한 조립 과정을 포함한다.
먼저, 도 2의 좌측에 나열된 전면 패널 제조 과정을 설명하면 다음과 같다.
전면 패널은 먼저, 전면 글라스를 준비한 후(100), 전면 글라스 상부에 복수의 유지전극쌍이 형성된다(110). 이 후, 유지전극쌍 상부에 상부 유전체층이 형성되고(120), 상부 유전체층에 유지전극쌍을 보호하기 위한 MgO 물질로 이루어진 보호막이 형성된다(130).
한편, 후면 패널은 도 2의 우측에 나열된 후면 패널 제조 과정을 살펴보면 다음과 같다.
후면 패널은 전면 패널과 마찬가지로 후면 글라스를 준비하고(200), 전면 패널에 형성된 유지전극쌍과 교차하여 대향되도록 복수의 어드레스전극이 후면 글라스에 형성된다(210). 이 후, 어드레스 전극을 덮도록 하부 유전체층이 형성되고(220), 하부 유전체층 상측면에 격벽이 형성되며(230), 격벽간의 방전공간에 형광층이 형성된다(240).
이와같이 제조된 전면 패널과 후면 패널은 서로 합착되어(300) 플라즈마 디스플레이 패널(400)을 형성한다.
여기서, 전술한 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법에 있어서, 전면 패널의 제조공정을 더욱 자세하게 살펴보면 다음 도 3과 같다.
도 3은 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널 제조공정을 순차적으 로 나타낸 공정도이다.
도 3에 도시된 바와 같이, (a) 단계에서는 전면 글라스(300) 상부에 산화인듐과 산화주석으로 이루어진 ITO(Indium Tin Oxide) 물질의 투명전극(301)을 형성한다.
이러한 투명전극(301)의 형성 방법의 일례를 살펴보면, ITO 물질로 형성된 투명 전극막 상부에 드라이 필름 포토 레지스트(Dry Film Photo Resist: 이하 'DFR'이라 함.)를 라미네이팅하여 소정의 패턴이 형성된 포토 마스크(Photo Mask)의 패턴으로 노광한 후, 현상 및 에칭 공정을 거쳐 스캔용 투명전극(301a)과 서스테인용 투명전극(301b)을 형성한다.
이 후, (b) 단계에서, 스캔용 투명전극(301a)과 서스테인용 투명전극(301b)이 형성된 전면 글라스(300) 상부에 블랙층(302)을 형성하기 위한 블랙 페이스트를 인쇄한 후 약 120℃정도로 건조하고, (c) 단계에서, 건조된 블랙 페이스트 상부에 소정의 패턴이 형성된 포토 마스크(305)를 올려놓고 자외선을 조사하여 건조한다. 이러한 공정을 노광공정(Photolithography)이라 한다.
노광공정을 거친 블랙층(302) 상부에 (d) 단계에서, 버스전극(303a, 303b)을 형성하기 위해 은(Ag) 페이스트를 도포하여 인쇄한 후 건조한다.
이 후, (e) 단계에서, 소정의 패턴이 형성된 포토 마스크(306)를 도포된 은(Ag) 페이스트 상부에 올려놓고 노광한다. 노광공정을 거친 이 후, (f) 단계에서, 경화되지 않은 부분을 현상한 후 약 550℃ 이상의 소성로(미도시)에서 약 3시간여 동안 소성함으로써 스캔용 버스전극(303a)과 서스테인용 버스전극(303b)이 형성된 다.
이 후, (g) 단계에서 스캔 전극(301a, 303a) 및 서스테인 전극(301b, 303b)이 형성된 전면 글라스(300) 상부에 상부 유전체층(307)을 형성한다. 이때, 전술한 상부 유전체층(307)은 차등 유전체층으로써, 스캔용 투명전극(301a) 및 서스테인용 투명전극(301b)간의 방전갭 부분에 유전체층(307)을 차등적으로 형성한다.
이러한 차등적인 두께를 갖는 상부 유전체층(307)의 형성 방법의 일례를 살펴보면, 유전체 유리 페이스트를 도포하여 건조한 후, 약 500℃ ~ 600℃의 온도로 소성을 행하여 상부 유전체층을 형성한다.
마지막으로, (h) 단계에서, 상부 유전체층(307)의 표면상에 CVD법, 이온도금법이나 진공증착법 등을 이용하여 산화마그네슘(MgO)으로 이루어지는 보호막(308)이 형성되어 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널이 완성된다.
여기서, 전술한 플라즈마 디스플레이 전면 패널의 하나의 일예인 차등적인 유전체층을 더욱 자세하게 살펴보면 다음 도 4와 같다.
도 4는 종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 하나의 일예로 차등적인 두께를 갖는 상부 유전체층을 설명하기 위한 도이다. 도 4에 도시된 바와 같이, 종래의 플라즈마 디스플레이 전면 패널은 전면 글라스(400) 상부에 스캔 전극(401) 및 서스테인 전극(403)이 형성되고, 전술한 스캔 전극(401) 및 서스테인 전극(403)간의 방전전류를 제한하며, 전극 쌍 간을 절연시키기 위하여 상부 유전체층(407)이 형성된다. 또한, 전술한 상부 유전체층(407) 상면에는 방전 조건을 용이하게 하기 위하여 산화마그네슘(MgO)을 증착한 보호층(408)이 형성된다.
이때, 전술한 상부 유전체층(407)은 그 두께가 차등적으로 이루어지고, 그 형상은 방전셀내의 중심부에서 소정의 깊이로 함몰된 함몰부를 포함하는 구조를 갖는다. 이러한 유전체층을 차등 유전체층(407)이라 한다. 차등 유전체층(407)은 플라즈마 디스플레이 패널 구동시 발생하는 전기장의 세기를 크게하여 벽전하의 양을 더욱 많이 쌓을 수가 있으므로, 플라즈마 면방전시 방전개시전압을 낮출 수가 있어 방전효율을 향상시킬 수가 있게 된다.
그러나, 전술한 차등 유전체층을 적용한 플라즈마 디스플레이 패널은 구동시 발생하는 방전갭 부분의 방전 패스(path)의 길이 제한으로 인하여 전기장의 세기를 크게 하는데 한계가 따르게 된다.
전술한 문제점을 해결하기 위하여 본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널중 전면 패널의 유전체층의 구조를 개선하여 방전개시전압을 낮춰 방전효율을 향상시킬 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상술한 기술적 과제를 해결하기 위한 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널은 글라스에 형성되고, 버스전극과 투명전극을 구비한 복수개의 스캔 전극과 서스테인 전극; 및 상기 복수개의 스캔 전극과 서스테인 전극을 덮도록 차등적인 두께로 형성된 상부 유전체 층을 포함하고, 상기 상부 유전체 층은, 상기 스캔 전극의 투명전극 및 상기 서스테인 전극의 투명전극에 대응하는 위치의 제 1 두께는 상기 스캔 전극과 상기 서스테인 전극이 이격된 사이에 대응하는 위치의 제 2 두께 및 상기 스캔 전극의 버스전극 및 상기 서스테인 전극의 버스전극에 대응하는 위치의 제 3 두께보다 두꺼운 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 상부 유전체 층의 상기 제 3 두께는 상기 제 2 두께보다 두꺼운 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 상부 유전체 층의 상기 제 1 두께는 28㎛ 이상 32㎛ 이하인 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 상부 유전체 층의 상기 제 3 두께는 22㎛ 이상 24㎛ 이하인 것을 특징으로 한다.
또한, 복수개의 스캔 전극과 서스테인 전극간의 거리가 180㎛ 이상 240㎛ 이하일 경우에 방전효율이 0.97㏐/W 이상 1.48㏐/W 이하인 것을 특징으로 한다.
또한, (a) 글라스에 복수개의 스캔 전극과 서스테인 전극을 형성하는 단계(b) 복수개의 스캔 전극과 서스테인 전극을 덮도록 제 1 상부유전체층을 형성하는 단계 (c) 제 1 상부유전체층 상부에 제 2 상부유전체층을 형성하는 단계 및 (d) 제 2 상부유전체층 상부에 제 3 상부유전체층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.
이하에서는 첨부된 도면을 참고로 하여 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세히 설명하기로 한다.
도 5는 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 순차적으로 나타낸 순서도이다. 먼저, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법은 도 2에 도시한 것과 마찬가지로 순차적인 과정을 통하여 형성된다. 이러한, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법을 더욱 자세하게 살펴보면 다음 도 5와 같다.
도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법은 도 5의 좌측에 나열된 전면 패널 제조 과정과, 우측에 나열된 후면 패널 제조 과정 및 하측에 나열된 실링 과정등을 포함한 조립 과정을 포함한다.
먼저, 도 5의 좌측에 나열된 전면 패널 제조 과정을 설명하면 다음과 같다.
전면 패널은 먼저, 전면 글라스를 준비한 후(100), 전면 글라스 상부에 복수의 유지전극쌍이 형성된다(110). 이 후, 유지전극쌍 상부에 상부 유전체층이 형성되고(120), 상부 유전체층에 유지전극쌍을 보호하기 위한 MgO 물질로 이루어진 보호막이 형성된다(130).
한편, 후면 패널은 도 2의 우측에 나열된 후면 패널 제조 과정을 살펴보면 다음과 같다.
후면 패널은 전면 패널과 마찬가지로 후면 글라스를 준비하고(200), 전면 패널에 형성된 유지전극쌍과 교차하여 대향되도록 복수의 어드레스전극이 후면 글라스에 형성된다(210). 이 후, 어드레스 전극을 덮도록 하부 유전체층이 형성되고(220), 하부 유전체층 상측면에 격벽이 형성되며(230), 격벽간의 방전공간에 형광층이 형성된다(240).
이와같이 제조된 전면 패널과 후면 패널은 서로 합착되어(300) 플라즈마 디스플레이 패널(400)을 형성한다.
여기서, 전술한 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법에 있어서, 전면 패널의 제조공정을 더욱 자세하게 살펴보면 다음 도 6과 같다.
도 6은 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널 제조 공정을 순차적으로 나타낸 공정도이다. 먼저, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 전면 패널의 상부 유전체층은 투명전극의 유효 일측면에 대응되게 형성된 부분의 제 1 두께는 소정의 두께로 두껍게 형성되고 비방전영역 방향으로 갈수록 즉, 스캔 전극의 버스전극 및 상기 서스테인 전극의 버스전극에 대응하는 위치의 제 3 두께가 더 얇도록 차이를 두어 형성된다. 이러한, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 전면 패널의 차등적인 높이 편차를 갖는 상부 유전체층을 살펴보면 다음 도 6과 같다.
도 6에 도시된 바와 같이, (a) 단계에서는 전면 글라스(600) 상부에 산화인듐과 산화주석으로 이루어진 ITO(Indium Tin Oxide) 물질의 투명전극(601)을 형성한다.
이러한 투명전극(601)의 형성 방법의 일례를 살펴보면, ITO 물질로 형성된 투명 전극막 상부에 드라이 필름 포토 레지스트(Dry Film Photo Resist: 이하 'DFR'이라 함.)를 라미네이팅하여 소정의 패턴이 형성된 포토 마스크(Photo Mask)의 패턴으로 노광한 후, 현상 및 에칭 공정을 거쳐 스캔용 투명전극(601a)과 서스테인용 투명전극(601b)을 형성한다.
이 후, (b) 단계에서, 스캔용 투명전극(601a)과 서스테인용 투명전극(601b)이 형성된 전면 글라스(600) 상부에 블랙층(602)을 형성하기 위한 블랙 페이스트를 인쇄한 후 약 120℃정도로 건조하고, (c) 단계에서, 건조된 블랙 페이스트 상부에 소정의 패턴이 형성된 포토 마스크(605)를 올려놓고 자외선을 조사하여 건조한다. 이러한 공정을 노광공정(Photolithography)이라 한다.
노광공정을 거친 블랙층(602) 상부에 (d) 단계에서, 버스전극(603a, 603b)을 형성하기 위해 은(Ag) 페이스트를 도포하여 인쇄한 후 건조한다.
이 후, (e) 단계에서, 소정의 패턴이 형성된 포토 마스크(606)를 도포된 은(Ag) 페이스트 상부에 올려놓고 노광한다. 노광공정을 거친 이 후, (f) 단계에서, 경화되지 않은 부분을 현상한 후 약 550℃ 이상의 소성로(미도시)에서 약 3시간여 동안 소성함으로써 스캔용 버스전극(603a)과 서스테인용 버스전극(603b)이 형성된다.
이 후, (g) 단계에서 스캔 전극(601a, 603a) 및 서스테인 전극(601b, 603b)이 형성된 전면 글라스(600) 상부에 제 1 상부유전체층(607a)을 형성한다. 이 후, (h) 단계에서 전술한 제 1 상부유전체층(607a) 상부에 소정의 패턴으로 제 2 상부유전체층(607b)을 형성한다. 이때, 전술한 제 2 상부유전체층(607b)은 차등 유전체층을 형성하게 되는데, 스캔 전극용 투명전극(601a) 및 서스테인 전극용 투명전극(601b)의 끝단간 즉, 스캔 전극의 투명전극(601a) 및 서스테인 전극의 투명전극(601b)이 이격된 사이에 대응하는 위치에는 형성되지 않도록 높이편차를 두어 형성된다.
이 후, (i) 단계에서 전술한 제 2 상부유전체층(607b) 상부에 소정의 패턴으로 제 3 상부유전체층(607c)을 형성한다. 이때, 전술한 제 3 상부유전체층(607c)은 복수개의 스캔 전극용 투명전극(601a) 및 서스테인 전극용 투명전극(601b)의 유효일측면과 대응되는 지점에만 형성된다.
이러한 차등적인 두께를 갖는 상부 유전체층(607a, 607b, 607c)의 형성 방법의 일례를 살펴보면, 유전체 유리 페이스트를 도포하여 건조한 후, 약 500℃ ~ 600℃의 온도로 소성을 행하여 상부 유전체층을 형성한다.
마지막으로, (j) 단계에서, 제 3 상부유전체층(607c)의 표면상에 CVD법, 이 온도금법이나 진공증착법 등을 이용하여 산화마그네슘(MgO)으로 이루어지는 보호막(608)이 형성되어 플라즈마 디스플레이 패널의 전면 패널이 완성된다.
여기서, 전술한 플라즈마 디스플레이 전면 패널의 하나의 일예인 차등적인 유전체층을 더욱 자세하게 살펴보면 다음 도 7과 같다.
도 7은 도 6에 도시한 플라즈마 디스플레이 패널의 하나의 일예인 차등적인 유전체층을 설명하기 위한 도이다. 먼저, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 도 4에 도시한 것과 마찬가지로 형성된다. 다만, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 상부 유전체층은 투명전극의 유효 일측면과 대응되는 지점에 대응하는 제 1 두께가 소정의 두께로 두껍게 형성되고 비방전영역 방향으로 갈수록 즉, 스캔 전극의 버스전극 및 상기 서스테인 전극의 버스전극에 대응하는 위치의 제 3 두께가 더 얇도록 차이를 두어 형성된다. 이러한, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 차등적인 두께를 지니는 유전체층을 더욱 자세하게 살펴보면 다음 도 7과 같다.
도 7에 도시된 바와 같이, 먼저 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 전면 패널은 전면 글라스(700) 상부에 스캔 전극(701) 및 서스테인 전극(703)이 형성되고, 전술한 스캔 전극(701) 및 서스테인 전극(703)간의 방전전류를 제한하며, 전극 쌍 간을 절연시키기 위하여 차등적인 두께를 지니는 상부 유전체층(707)이 형성된다. 또한, 전술한 상부 유전체층(707) 상면에는 방전 조건을 용이하게 하기 위하여 산화마그네슘(MgO)을 증착한 보호층(708)이 형성된다.
이때, 전술한 차등적인 두께로 형성된 상부 유전체층(707a, 707b, 707c)은 투명전극(701a, 703a)에 대응하는 위치의 제 1 두께는 스캔 전극(701a)과 상기 서스테인 전극(703a)이 이격된 사이에 대응하는 위치의 제 2 두께보다 더 두껍도록 형성되고, 스캔 전극의 버스전극(701b) 및 서스테인 전극의 버스전극(703b)에 대응하는 위치의 제 3 두께보다 두껍게 형성되어 방전 개시 전압을 낮추면서도 방전 패스를 길게 가져가 방전 효율을 향상시킬 수 있다. 또한, 상부 유전체 층(707a, 707b, 707c)의 스캔 전극의 버스전극(701b) 및 상기 서스테인 전극의 버스전극(703b)에 대응하는 위치의 제 3 두께는 스캔 전극과 상기 서스테인 전극이 이격된 사이에 대응하는 위치의 제 2 두께보다 두껍게 형성되어 방전의 정확도를 향상시킬 수 있다.
여기서, 전술한 투명전극(701a, 703a)의 일측면에 대응하게 형성된 상부 유전체층(707b, 707c)의 제 1 두께는 28㎛ 이상 32㎛ 이하로 형성되고, 스캔 전극의 버스전극 및 서스테인 전극의 버스전극에 대응하는 위치에 형성된 상부 유전체층(707)의 제 3 두께는 22㎛ 이상 24㎛ 이하로 형성되는 것이 바람직하다. 이것은 플라즈마 디스플레이 패널의 구동시 고전압에 의한 유전체층의 절연파괴를 방지하면서 방전갭 부분의 방전 패스(path)의 길이가 도 4에 도시한 방전 패스(path)의 길이보다 길게 형성시킬 수 있으므로 전기장의 세기를 크게하여 벽전하의 양을 더욱 많이 쌓을 수가 있게 된다.
또한, 도 8에 도시된 바와 같이, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체층 구조는 복수개의 스캔 전극과 서스테인 전극간의 거리가 180㎛ 이상 240㎛ 이하일 경우에 방전효율이 0.97㏐/W 이상 1.48㏐/W 이하로 나타나는 반면에, 도 4에 도시한 플라즈마 디스플레이 패널의 유전체층 구조는 170㎛ 이상 230㎛ 이하일 경우에 방전효율이 0.88㏐/W 이상 1.36㏐/W 이하로 나타나게 된다.
따라서, 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 플라즈마 면방전시 방전개시 전압을 낮춰 방전효율을 향상시킬 수가 있게 된다.
본 발명이 속하는 기술분야의 당업자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이 며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 하고, 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.
상술한 바와 같이, 본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널중 전면 패널의 유전체층의 구조를 개선하여 방전개시전압을 낮춰 방전효율을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

Claims (6)

  1. 글라스에 형성되고, 버스전극과 투명전극을 구비한 복수개의 스캔 전극과 서스테인 전극; 및
    상기 복수개의 스캔 전극과 서스테인 전극을 덮도록 차등적인 두께로 형성된 상부 유전체 층을 포함하고,
    상기 상부 유전체 층은, 상기 스캔 전극의 투명전극 및 상기 서스테인 전극의 투명전극에 대응하는 위치의 제 1 두께는 상기 스캔 전극과 상기 서스테인 전극이 이격된 사이에 대응하는 위치의 제 2 두께 및 상기 스캔 전극의 버스전극 및 상기 서스테인 전극의 버스전극에 대응하는 위치의 제 3 두께보다 두꺼운 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 상부 유전체 층의 상기 제 1 두께는 28㎛ 이상 32㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 상부 유전체 층의 상기 제 3 두께는 22㎛ 이상 24㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 복수개의 스캔 전극과 서스테인 전극간의 거리가 180㎛ 이상 240㎛ 이하일 경우에 방전효율이 0.97㏐/W 이상 1.48㏐/W 이하인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  5. 제 1항의 플라즈마 디스플레이 패널을 제조하는 방법에 있어서,
    (a) 글라스에 복수개의 스캔 전극과 서스테인 전극을 형성하는 단계;
    (b) 상기 복수개의 스캔 전극과 서스테인 전극을 덮도록 제 1 상부유전체층을 형성하는 단계;
    (c) 상기 제 1 상부유전체층 상부에 제 2 상부유전체층을 형성하는 단계 및
    (d) 상기 제 2 상부유전체층 상부에 제 3 상부유전체층을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 상부 유전체 층의 상기 제 3 두께는 상기 제 2 두께보다 두꺼운 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
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