KR100466913B1 - 필터표면을 세정하는 방법 및 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 흡입드라이어에서 필터매체의 필터표면 (2, 3) 을 세정하는 방법 및 장치에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 세정될 표면을 표시하기 위하여, 세정될 표면과 접촉상태로 세정될 표면에 대하여 폐쇄공간을 형성하는 시일링표면 (4) 이 설정되어 있고, 세정을 행하기 위하여 상기 폐쇄공간내로 세정액 (7) 이 유도된다.

Description

필터표면을 세정하는 방법 및 장치 {method and apparatus for cleaning a filter surface}
본 발명은 바람직하게는 연속작업으로 초음파에 의해서 흡입드라이어에서 필터매체의 필터표면을 세정하는 방법 및 장치에 관한 것이다.
핀랜드 특허 제 61,739 호에는 두루마리형상, 가루상, 고형 또는 다공성 물질을 건조하는 건조방법 및 장치가 개시되어 있고, 이 방법에서 건조될 물질은 미세한 다공성 액체포화 흡입표면 (fine porous liquid-saturated suction surface) 에 의해서 건조될 물질에 대하여 낮은 압력으로 유지된 액체와 유압접촉된다. 상기 방법에서 사용된 장치는 미세한 다공성 액체 흡입표면으로 이루어지며, 여기서 상기 세공의 반경은 대개 0.5 내지 2㎛ 범위내이다.
상기 미세한 다공성 액체 흡입표면은 흡입드라이어의 필터매체를 위한 필터표면을 형성하고 이 필터표면은 슬러리와 같은 건조될 물질과 접촉된다. 이 필터표면이, 예를 들면 평면형상이고 필터매체의 필터표면의 반대표면에서 낮은 압력이 발생되는 경우 흡입으로 인하여, 필터의 표면상에는 건조될 물질로부터 여과된 케이크가 형성되므로 이 케이크는 나중에 필터표면으로부터 긁어내야 된다. 그러나, 필터표면은 필터매체의 필터표면 구멍구조, 이에 따른 필터매체 자체의 구멍구조가 미세하게 분리된 건조될 물질로 서서히 채워지기 때문에 막히기 쉽다.
핀랜드 특허 제 76,705 호에서 기재된 바와 같이, 흡입드라이어에서 필터매체의 필터표면을 세정할 때 초음파를 사용하는 것은 종래의 기술에서 공지되어 있다. 상기 핀랜드 특허 제 76,705 호의 방법에서, 초음파의 사용은 초음파 추가세정중에 필터표면을 연결 세정액과 접촉시키는 것을 필수요건으로 한다. 이 경우에, 필터표면이 물로 둘러싸이는 경우 요구되는 초음파 파워가 매우 높지 않고 공동화에 의해서 발생되는 부식의 위험도 제거된다. 그러나, 필터매체를 둘러싸는 물질의 변화는 흡입드라이어에서 이용가능한 수용능력을 감소시키므로 흡입드라이어의 설치 및 운전비용을 증가시킨다.
핀랜드 특허 제 82,388 호에서는 흡입드라이어의 필터매체에 대한 세정방법이 공지되어 있고, 이 방법에서 초음파 오실레이터를 사용한 세정은 필터매체를 긁어낸 직후에 발생한다. 상기 핀랜드 특허 제 82,388 호의 방법에서 초음파 오실레이터는 연속작업으로 필터매체의 세정을 행하기 위하여, 액체표면아래에서 여과될 슬러리의 탱크내에 위치된다. 높은 고체함량의 주위 슬러리 (surrounding slurry) 를 사용하면, 요구되는 초음파 파워도 또한 높게 상승시킨다. 또한, 주위 슬러리는 집중 공동화로 인하여 초음파 오실레이터의 셸을 부식시킨다. 초음파 파워의 증가와 오실레이터 셸의 변화는 흡입드라이어의 운전비용을 증가시킨다.
본 발명의 목적은 종래의 기술에 있는 결점을 제거하고, 바람직하게는 연속작업으로 초음파에 의해서 흡입드라이어에서 필터매체의 필터표면을 세정하므로, 구조를 간단하게 하고 유지보수를 가능하게 하기 위하여 초음파를 이용하는 세정유니트가 슬러리표면위에 설치될 수 있는 개량된 장치를 실현하는데 있다.
본 발명에 따르면, 필터매체와 초음파 공급원사이에 있는 세정공간은 약간의 탄성물질로 제조된 시일링표면에 의해서 표시되고 이 세정공간은 세정작업동안 액체포화상태로 유지된다. 본 발명의 방법에 따른 세정을 행하기 위하여, 초음파 공급원과 약간의 탄성물질로 제조된 시일링표면은 적어도 세정사이클동안에는 세정될 필터표면과 접촉되어야 한다. 세정사이클동안, 세정공간내로 세정액이 공급되며, 이러한 세정액으로는 세정될 표면과 거기에 내포된 물질에 따라, 예를 들면 물, 산, 세정하는데 사용되는 액체, 세정효과를 증강시키는 보조제 또는 이들 액체의 조합물이 있다. 세정사이클이 종료된 후, 세정장치는 이동가능하므로, 세정사이클사이에, 세정장치가 세정될 필터표면으로부터 일정한 거리로 유지될 수 있다.
본 발명에 따른 장치는 초음파를 발생시키는 수단 및 세정될 표면과 초음파 공급원사이에 원하는 세정공간을 표시하는 수단으로 이루어진다. 초음파 공급원은 서로에 대하여 평행하거나 전달장치로부터의 초음파 복사가 초점에 모이도록 배열될 수 있는 하나 또는 여러개의 초음파 전달장치로 이루어진다. 단일 초음파 전달장치도 또한 초점에 모이도록 작동하게 만들어질 수 있다. 세정공간을 표시하기 위하여, 초음파 공급원주위에는, 예를 들면 약간의 탄성물질로 제조된 시일링표면이 배열되어 있고 이 시일링표면은 세정될 표면 주위와 접촉상태로 있을 수 있다. 시일링표면은 세정될 표면을 세정하기 위하여 원하는 영역을 표시하거나, 또는 세정될 전체 표면을 동시에 표시하도록 설계될 수 있다. 게다가,약간의 탄성물질로 제조된 시일링표면에 의해서 세정될 표면으로부터의 초음파 공급원의 거리는 원하는 길이가 되도록 조정될 수 있다. 본 발명에 따른 장치는 초음파 공급원을 구비하지 않고 사용될 수 있으며, 이런 경우에 전체 세정공간을 표시하는데 사용되는 부재는, 예를 들면 약간의 탄성물질로 제조될 수 있다.
세정사이클동안, 본 발명에 따른 세정공간은 보호표면으로 형성되며, 한쪽 벽은 초음파 공급원의 전방에 위치되고, 세정될 표면의 벽은 상기 벽에 대향으로 위치된다. 세정공간의 2개의 벽은 약간의 탄성물질로 제조된 시일링표면에 의해서 상호연결되고 초음파 공급원의 보호표면이나 상기 보호표면주위에 부착된다.
필터매체의 대향 측면들에 위치된 필터표면들로 형성된 필터표면을 세정하길 원하면, 본 발명에 따른 세정공간은 동시에 양쪽 표면에 대해서 생성되며, 이런 경우에 필터매체는 양쪽에서 세정될 것이다. 따라서, 세정될 표면은 변화될 수 있고 새로운 필터표면 또는 필터표면영역의 세정은 양쪽에서 동시에 시작될 수 있다.
본 발명에 따르면 초음파 공급원은 여과될 고체를 함유하는 슬러리가 충전된 공간으로부터 분리 설치되기 때문에, 초음파 공급원의 케이싱은 대체로 저렴한 물질로 제조될 수 있는데 이는 세정될 표면에 가장 근접하게 위치된 보호표면으로부터 떨어져 있는 초음파 공급원 케이싱의 벽들중의 나머지 벽이 단지 먼지 및 얼룩보호에 대해서 요구되는 품질수준만을 갖추면 되기 때문이다. 단순한 구조의 케이싱은 초음파 공급원의 유지 및 보수를 용이하게 한다.
본 발명에 따르면, 세정될 영역은 원하는 크기로 조정될 수 있다. 또한,효과적인 사용은 세정공간의 보유용량에 영향을 받는데 이는 세정액이 처음에는 재세정되고 뒤에 재순환되도록 하기 위하여 세정공간내로 직접 유도되고 나서 세정후 자체의 탱크로 유도되기 때문이다. 따라서, 필요한 세정액은 실질적으로 적게 요구된다. 이러한 것외에도, 세정은 온라인작동으로서 실시될 수 있다. 세정은 또한, 방해생성물없이 실행될 수 있는데 이는 세정이 흡입드라이어에서의 필터케이크의 형성, 물유출 및 필터표면으로부터의 상기 케이크의 제거에 대하여 완전히 별개로 행해지기 때문이다.
본 발명은 첨부도면을 참고로 하여 하기에서 보다 구체적으로 설명될 것이다.
도 1 은 필터표면의 세정사이클중의 본 발명의 바람직한 실시예를 개략적으로 도시하는 도면, 및
도 2 는 개략적인 단면으로 도시되어 흡입드라이어의 도 1 에 따른 실시예의 위치를 예시하는 도면.
도 1 에 따르면, 필터매체 (1) 의 대향측면 (A 및 B) 상에는 필터표면 (2, 3) 이 제공되어 있고, 상기 필터표면과 접촉상태로 세정공간을 표시하고 탄성물질로 제조된 시일링표면 (4) 이 있다. 시일링표면 (4) 은 초음파 공급원 (6) 주위에 부착된 시일링구성요소 (5) 에 속한다. 시일링구성요소 (5) 와 초음파 공급원 (6) 은 함께 세정에 사용되는 세정유니트 (7) 를 형성한다. 세정구성요소 (5) 에서, 그 대향측면에는 세정액을 공급하는 공급구 (8) 및 제거하는 배출구 (9) 가 제공되어 있다. 세정유니트 (7) 에는 세정위치와 정지위치사이에서 세정유니트 (7) 를 이동시키는 부재 (10) 가 설치되어 있다. 이동부재 (10) 에 의해서, 초음파 공급원 (6) 과 세정될 표면 (2 및 3) 사이의 거리는 조정가능하다.
도 2 에 있어서, 흡입드라이어 (11) 는 슬러리탱크 (12), 축선 (13) 을 중심으로 회전되고 필터매체 (15) 와 그 필터표면 (2) 이 부착된 디스크 (14) 및 필터표면 (2) 에 형성된 필터케이크를 제거하는 스트레이퍼 (16) 로 이루어진다. 세정유니트 (7) 및 그 안에 포함된 초음파 공급원 (6) 은 슬러리공간 (18) 으로부터 떨어져서 슬러리표면 (17) 위에 위치된다.

Claims (9)

  1. 흡입드라이어에서 필터매체의 필터표면 (2, 3) 을 세정하는 방법에 있어서, 여과될 고체를 함유하는 슬러리로 충전된 공간으로부터 분리된 세정될 상기 표면을 표시하기 위하여, 세정유니트 (7) 가 이동부재 (10) 에 의해서 이동되어 상기 표면과 상기 세정유니트 (7) 의 표면 (4) 간을 접촉시키고, 세정될 표면과 상기 세정유니트 (7) 사이에 폐쇄공간을 형성하며, 초음파 (6) 가 세정시 사용되고, 세정을 행하기 위하여 상기 폐쇄공간내로 세정액이 유도되는 것을 특징으로 하는 세정방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 초음파 광선은 세정될 표면에 집중되는 것을 특징으로 하는 세정방법.
  3. 세정될 표면을 표시하고 세정액을 유도하기 위하여 하나 이상의 초음파 공급원 (6) 이 구비된 세정유니트 (7) 가 여과된 고체를 함유하는 슬러리로 충전된 공간으로부터 분리된 폐쇄시스템을 형성하도록 세정될 표면 (2, 3) 상에 설치되는 것을 특징으로 하는 제 1 항의 방법을 실시하는 장치.
  4. 제 3 항에 있어서, 상기 세정유니트 (7) 는 적어도 세정될 표면과 접촉되는 부분이 탄성물질 (4) 로 제조되는 것을 특징으로 하는 장치.
  5. 제 3 항 또는 제 4 항에 있어서, 상기 초음파 공급원 (6) 은 상기 초음파 공급원 (6) 으로부터 방사된 광선이 세정될 표면 (2, 3) 에 집중될 수 있도록 설치되는 것을 특징으로 하는 장치.
  6. 제 3 항 또는 제 4 항에 있어서, 상기 초음파 공급원 (6) 과 세정될 표면 (2, 3) 간의 거리가 조정가능한 것을 특징으로 하는 장치.
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