JPWO2020187744A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2020187744A5 JPWO2020187744A5 JP2021555506A JP2021555506A JPWO2020187744A5 JP WO2020187744 A5 JPWO2020187744 A5 JP WO2020187744A5 JP 2021555506 A JP2021555506 A JP 2021555506A JP 2021555506 A JP2021555506 A JP 2021555506A JP WO2020187744 A5 JPWO2020187744 A5 JP WO2020187744A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- depositing
- substrate
- coating
- material via
- thickness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 30
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 20
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 8
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims 7
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims 5
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 claims 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims 1
Claims (13)
- 基材上にコーティングを析出させる方法であって、ＣＶＡプロセスを介して第１の材料を、そしてスパッタリングプロセスを介して第２の材料を同時に析出させる工程を含み、該第１の材料がｔａ－Ｃを含むという点で特徴付けられる、方法。
- 第１の材料および第２の材料を含むコーティングを基材上に析出させる、請求項１に記載の方法であって、該方法が、
ｉ）ＣＶＡプロセスを介して該第１の材料を析出させて下層を形成する工程、
ｉｉ）該ＣＶＡプロセスを介して該第１の材料を、そしてスパッタリングプロセスを介して該第２の材料を同時に析出させて、移行層を形成する工程、および
ｉｉｉ）該スパッタリングプロセスを介して該第２の材料を析出させて上層を形成する工程、
を含む、方法。 - 第１の材料および第２の材料を含むコーティングを基材上に析出させる、請求項１に記載の方法であって、該方法が、
ｉ）スパッタリングプロセスを介して第２の材料を析出させて下層を形成する工程、
ｉｉ）該ＣＶＡプロセスを介して該第１の材料を、そしてスパッタリングプロセスを介して該第２の材料を同時に析出させて、移行層を形成する工程、および
ｉｉｉ）ＣＶＡプロセスを介して該第１の材料を析出させて上層を形成する工程、
を含む、方法。 - 前記ＣＶＡプロセスがＦＣＶＡである、請求項１から３のいずれかに記載の方法。
- 前記第１の材料がｔａ－Ｃでからなる、請求項１から４のいずれかに記載の方法。
- 前記第２の材料が、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｓｉ、Ｚｒ、Ｃ、Ｗ、ならびにこれらの合金および化合物から選択される、請求項１から５のいずれかに記載の方法。
- 前記第１および第２の材料と共にコーティングする前に前記基材上にシード層を析出させる工程をさらに含み、そして必要に応じて該シード層が０．１μｍから０．５μｍの厚みを有する、請求項１から６のいずれかに記載の方法。
- 前記基材が金属基材である、請求項１から７のいずれかに記載の方法。
- 前記基材が鋼基材である、請求項８に記載の方法。
- 前記第１の層が０．２μｍ～１．５μｍの厚みを有し、および／または前記第２の層が０．１μｍ～０．３μｍの厚みを有する、請求項２またはそれに従属する請求項のいずれかに記載の方法。
- 前記コーティングが０．５μｍ～５μｍの厚みを有する、請求項１から１０のいずれかに記載の方法。
- 前記コーティングが１．０μｍ～３．０μｍの厚みを有する、請求項１１に記載の方法。
- 前記コーティングが０．５Ｐａまたはそれ以下の圧力にてチャンバー内で行われる、請求項１から１２のいずれかに記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP19163306.4 | 2019-03-15 | ||
| EP19163306 | 2019-03-15 | ||
| PCT/EP2020/056864 WO2020187744A1 (en) | 2019-03-15 | 2020-03-13 | Improved coating processes |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2022525212A JP2022525212A (ja) | 2022-05-11 |
| JPWO2020187744A5 true JPWO2020187744A5 (ja) | 2022-10-13 |
| JP7382124B2 JP7382124B2 (ja) | 2023-11-16 |
Family
ID=65818247
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2021555506A Active JP7382124B2 (ja) | 2019-03-15 | 2020-03-13 | 改良されたコーティングプロセス |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20220162739A1 (ja) |
| EP (1) | EP3938556A1 (ja) |
| JP (1) | JP7382124B2 (ja) |
| CN (1) | CN111690898B (ja) |
| SG (1) | SG11202109137XA (ja) |
| WO (1) | WO2020187744A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114483362B (zh) | 2020-11-13 | 2024-05-28 | 纳峰真空镀膜（上海）有限公司 | 活塞环及制造方法 |
| WO2022253859A1 (en) * | 2021-06-04 | 2022-12-08 | Nanofilm Technologies International Limited | Anti-static coating |
| WO2024094872A1 (en) | 2022-11-03 | 2024-05-10 | Nanofilm Technologies International Limited | Coated solar cell |
| WO2024094870A1 (en) | 2022-11-03 | 2024-05-10 | Nanofilm Technologies International Limited | Sealed electrical devices |
| CN116695079B (zh) * | 2023-06-09 | 2024-04-02 | 深圳市博源碳晶科技有限公司 | 一种导热绝缘金刚石复合材料基板及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ES2022946T5 (es) * | 1987-08-26 | 1996-04-16 | Balzers Hochvakuum | Procedimiento para la aportacion de capas sobre sustratos. |
| WO1991000374A1 (de) * | 1989-06-27 | 1991-01-10 | Hauzer Holding Bv | Verfahren und vorrichtung zur beschichtung von substraten |
| US5358615A (en) * | 1993-10-04 | 1994-10-25 | Motorola, Inc. | Process for forming a sputter deposited metal film |
| DE4405477A1 (de) | 1994-02-21 | 1995-08-24 | Hauzer Holding | PVD-Verfahren zur Abscheidung von mehrkomponentigen Hartstoffschichten |
| CA2305938C (en) | 2000-04-10 | 2007-07-03 | Vladimir I. Gorokhovsky | Filtered cathodic arc deposition method and apparatus |
| AUPR353601A0 (en) | 2001-03-05 | 2001-03-29 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Deposition process |
| US6923891B2 (en) * | 2003-01-10 | 2005-08-02 | Nanofilm Technologies International Pte Ltd. | Copper interconnects |
| JP4939032B2 (ja) * | 2005-02-08 | 2012-05-23 | 株式会社神戸製鋼所 | 硬質皮膜、および硬質皮膜の製造方法 |
| CN100519828C (zh) * | 2005-04-27 | 2009-07-29 | 北京实力源科技开发有限责任公司 | 一种真空镀膜方法和设备 |
| JP4607687B2 (ja) * | 2005-07-04 | 2011-01-05 | 株式会社神戸製鋼所 | 非晶質炭素膜の成膜方法 |
| JP2007291429A (ja) | 2006-04-24 | 2007-11-08 | Nissan Motor Co Ltd | 硬質炭素被膜 |
| CN100506527C (zh) * | 2007-06-26 | 2009-07-01 | 广州有色金属研究院 | 金属碳化物/类金刚石(MeC/DLC)纳米多层膜材料及其制备方法 |
| JP2009283107A (ja) * | 2008-05-26 | 2009-12-03 | Fuji Electric Device Technology Co Ltd | テトラヘドラル・アモルファス・カーボン膜を主体とする保護膜および該保護膜を有する磁気記録媒体 |
| WO2009151402A1 (en) * | 2008-06-09 | 2009-12-17 | Nanofilm Technologies International Pte Ltd | A process for producing an image on a substrate |
| DE102010028558A1 (de) * | 2010-05-04 | 2011-11-10 | Walter Ag | PVD-Hybridverfahren zum Abscheiden von Mischkristallschichten |
| JP5226826B2 (ja) * | 2011-04-25 | 2013-07-03 | 株式会社神戸製鋼所 | ダイヤモンドライクカーボン硬質多層膜成形体の製造方法 |
| US10304665B2 (en) * | 2011-09-07 | 2019-05-28 | Nano-Product Engineering, LLC | Reactors for plasma-assisted processes and associated methods |
| US9793098B2 (en) | 2012-09-14 | 2017-10-17 | Vapor Technologies, Inc. | Low pressure arc plasma immersion coating vapor deposition and ion treatment |
| BR102014007893B1 (pt) | 2014-04-02 | 2022-03-22 | Mahle International Gmbh | Elemento deslizante, motor de combustão interna e processo de obtenção de elemento deslizante |
| CN106282935A (zh) * | 2015-05-15 | 2017-01-04 | 新科实业有限公司 | 具有类金刚石涂层的材料及其制备方法 |
| CN107022740A (zh) * | 2016-01-29 | 2017-08-08 | 广东耐信镀膜科技有限公司 | 一种超硬多层复合类金刚石涂层及其制备方法 |
| CN207313693U (zh) * | 2017-04-28 | 2018-05-04 | 星弧涂层新材料科技（苏州）股份有限公司 | 基于类金刚石薄膜的复合厚膜 |
| CN107022761B (zh) * | 2017-04-28 | 2023-11-03 | 星弧涂层新材料科技（苏州）股份有限公司 | 基于类金刚石薄膜的复合厚膜及其镀膜方法 |
| CN107779839B (zh) * | 2017-11-15 | 2019-07-23 | 温州职业技术学院 | 基于阳极技术的dlc镀膜方法 |
| CN108823544A (zh) | 2018-09-12 | 2018-11-16 | 杨杰平 | 基于氮化钛复合膜及其制备方法 |
| CN109136872A (zh) * | 2018-10-11 | 2019-01-04 | 华杰新材料科技（苏州）有限公司 | 一种不锈钢基材表面CrN涂层制备方法 |
| CN109371360A (zh) * | 2018-12-13 | 2019-02-22 | 纳峰真空镀膜（上海）有限公司 | 一种应用于低温材料上的耐磨类金刚石涂层的制备方法 |
-
2020
- 2020-03-13 US US17/437,648 patent/US20220162739A1/en active Pending
- 2020-03-13 EP EP20714895.8A patent/EP3938556A1/en active Pending
- 2020-03-13 SG SG11202109137XA patent/SG11202109137XA/en unknown
- 2020-03-13 WO PCT/EP2020/056864 patent/WO2020187744A1/en active Application Filing
- 2020-03-13 JP JP2021555506A patent/JP7382124B2/ja active Active
- 2020-03-15 CN CN202010178790.8A patent/CN111690898B/zh active Active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2008522026A5 (ja) | ||
| JP7382124B2 (ja) | 改良されたコーティングプロセス | |
| US20120251838A1 (en) | Coated article and method for manufacturing same | |
| JP2013529249A5 (ja) | ||
| JP2009154287A5 (ja) | ||
| JP2005281865A5 (ja) | ||
| TWI547366B (zh) | 具有硬質膜層的不銹鋼製品及其製備方法 | |
| JPH0588310B2 (ja) | ||
| CN108456843A (zh) | 一种高性能TiAlSiN纳米复合涂层及其制备方法和应用 | |
| JP2003171758A (ja) | ダイヤモンドライクカーボン硬質多層膜成形体およびその製造方法 | |
| JP2018517059A5 (ja) | ||
| JPWO2020187744A5 (ja) | ||
| JP2022088457A5 (ja) | ||
| US8834995B2 (en) | Coating, article coated with coating, and method for manufacturing article | |
| CN106756833A (zh) | 一种高硬度TiCrN/TiSiN纳米多层结构涂层及其制备方法 | |
| CN112458417A (zh) | 一种多元层状加硬涂层生长工艺 | |
| WO2021222207A3 (en) | Plated metallic substrates and methods of manufacture thereof | |
| US8541100B2 (en) | Coating, article coated with coating, and method for manufacturing article | |
| JPH02138458A (ja) | 複合硬質材料及びその製造方法 | |
| JP2000234185A (ja) | 耐食性に優れた硬質被膜及びその製造方法 | |
| TWI399447B (zh) | 鉻合金靶材及具有硬質薄膜之金屬材料 | |
| JP4718382B2 (ja) | 硬質皮膜 | |
| WO2021144142A8 (en) | High cohesive strength hard coatings containing soft metal | |
| JPS6389654A (ja) | 金色を呈する物品 | |
| TW201209190A (en) | Coated article and method for making the same |