JPWO2017069252A1 - 光配向膜用組成物、光配向膜、光学積層体および画像表示装置 - Google Patents

Abstract

本発明は、配向性に優れた光配向膜を作製することができる光配向膜用組成物、ならびに、それを用いて作製した光配向膜、光学積層体および画像表示装置を提供する。本発明の光配向膜用組成物は、シンナメート基を含む構成単位ａ１を有する重合体Ａと、シンナメート基を有し、重合体Ａよりも分子量が小さい低分子化合物Ｂと、を含有する。

Description

本発明は、光配向膜用組成物、光配向膜、光学積層体および画像表示装置に関する。

光学補償シートや位相差フィルムなどの光学フィルムは、画像着色解消や視野角拡大のために、様々な画像表示装置で用いられている。
光学フィルムとしては延伸複屈折フィルムが使用されていたが、近年、延伸複屈折フィルムに代えて、液晶性化合物からなる光学異方性層を使用することが提案されている。

このような光学異方性層は、液晶性化合物を配向させるために、光学異方性層を形成する支持体上に配向膜を設けることが知られており、また、この配向膜として、ラビング処理に代えて光配向処理を施した光配向膜が知られている。

例えば、特許文献１には、「（Ａ）成分である光二量化部位および熱架橋部位を有するアクリル共重合体と（Ｂ）成分である架橋剤とを含有する、光配向性を有する熱硬化膜形成組成物。」が記載されており（［請求項１］）、また、（Ａ）成分の光二量化部位がシンナモイル基である態様が記載されている（［請求項３］）。

特許第５４５９５２０号公報

本発明者らは、特許文献１等に記載された従来の光配向膜用組成物について検討したところ、光配向膜用組成物を形成する支持体（例えば、ポリマーフィルム、偏光子など）の材料に起因する光配向処理の条件によっては、形成される光配向膜の配向性が不十分となる問題があることを明らかとした。

そこで、本発明は、配向性に優れた光配向膜を作製することができる光配向膜用組成物、ならびに、それを用いて作製した光配向膜、光学積層体および画像表示装置を提供することを課題とする。

本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、シンナメート基を含む構成単位を有する重合体と、シンナメート基を有する低分子化合物とを含有する組成物を用いることにより、形成される光配向膜の配向性が良好となることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。

［１］ シンナメート基を含む構成単位ａ１を有する重合体Ａと、
シンナメート基を有し、重合体Ａよりも分子量が小さい低分子化合物Ｂと、を含有する、光配向膜用組成物。
［２］ 低分子化合物Ｂの分子量が、２００〜５００である、［１］に記載の光配向膜用組成物。
［３］ 低分子化合物Ｂの含有量が、重合体Ａの構成単位ａ１の質量に対して１０〜５００質量％である、［１］または［２］に記載の光配向膜用組成物。
［４］ 低分子化合物Ｂが、下記式（Ｂ１）で表される化合物である、［１］〜［３］のいずれかに記載の光配向膜用組成物。

ここで、式（Ｂ１）中、ａは０〜５の整数を表し、Ｒ¹は、水素原子または１価の有機基を表し、Ｒ²は、１価の有機基を表す。ａが２以上の場合、複数のＲ¹は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
［５］ 重合体Ａが、更に、架橋性基を含む構成単位ａ２を有する、［１］〜［４］のいずれかに記載の光配向膜用組成物。
［６］ 更に、架橋性基を有する架橋剤Ｃを含有する、［１］〜［５］のいずれかに記載の光配向膜用組成物。

［７］ ［１］〜［６］のいずれかに記載の光配向膜用組成物を用いて作製し、
光配向膜用組成物に含まれる重合体Ａおよび低分子化合物Ｂのシンナメート基が二量化したシクロブタン環、および、シンナメート基が異性化した構造からなる群から選択される少なくとも１種を有する、光配向膜。
［８］ ［７］に記載の光配向膜と、光配向膜上に設けられ、液晶性化合物を含有する光学異方性層とを有する、光学積層体。
［９］ 支持体と、光配向膜と、光学異方性層とをこの順に有する、［８］に記載の光学積層体。
［１０］ 支持体のガラス転移温度が、１００℃以下である、［９］に記載の光学積層体。
［１１］ 支持体が、偏光子である、［９］または［１０］に記載の光学積層体。
［１２］ 支持体と光配向膜の間に、更に樹脂層を有し、
樹脂層が下記式（Ｘ）で表される部分構造を有する化合物を含有する、［９］に記載の光学積層体。

［１３］ 樹脂層と光配向膜の間に、上記光学異方性層とは異なる他の光学異方性層を有する、［１２］に記載の光学積層体。
［１４］ 他の光学異方性層が液晶性化合物を含有する、［１３］に記載の光学積層体。
［１５］ ［９］および［１２］〜［１４］のいずれかに記載の光学積層体を偏光子に積層し、その後、光学積層体中の支持体を剥離することで作製される、光学異方性層と偏光子とが積層された光学積層体。
［１６］ ［８］〜［１５］のいずれかに記載の光学積層体を有する、画像表示装置。
［１７］ 偏光子と、接着剤層または粘着剤層と、光学異方性層と、光配向膜と、接着剤層または粘着剤層と、表示素子とをこの順に有し、光配向膜と表示素子との間に支持体を有していない、［１６］に記載の画像表示装置。

本発明によれば、配向性に優れた光配向膜を作製することができる光配向膜用組成物、ならびに、それを用いて作製した光配向膜、光学積層体および画像表示装置を提供することができる。

図１Ａは、本発明の光学積層体の一例を示す模式的な断面図である。 図１Ｂは、本発明の光学積層体の一例を示す模式的な断面図である。 図１Ｃは、本発明の光学積層体の一例を示す模式的な断面図である。 図１Ｄは、本発明の光学積層体の一例を示す模式的な断面図である。 図１Ｅは、本発明の光学積層体の一例を示す模式的な断面図である。 図１Ｆは、本発明の光学積層体の一例を示す模式的な断面図である。 図１Ｇは、本発明の光学積層体の一例を示す模式的な断面図である。

以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本願明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。

［光配向膜用組成物］
本発明の光配向膜用組成物は、シンナメート基を含む構成単位ａ１を有する重合体Ａと、シンナメート基を有し、重合体Ａよりも分子量が小さい低分子化合物Ｂと、を含有する、光配向膜用の組成物である。
ここで、本願明細書において、シンナメート基とは、桂皮酸またはその誘導体を基本骨格として含有する桂皮酸構造を有する基であって、下記式（Ｉ）または下記式（ＩＩ）で表される基をいう。

（式中、ａは０〜５の整数を表し、Ｒ¹は水素原子または１価の有機基を表し、Ｒ²は１価の有機基を表す。ａが２以上の場合、複数のＲ¹はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。＊は結合手であることを示す。）

本発明の光配向膜用組成物は、上述した通り、重合体Ａおよび低分子化合物Ｂをいずれも含有するため、作製される光配向膜の配向性が良好となる。
これは、詳細には明らかではないが、本発明者らは以下のように推測している。
まず、本発明者らは、光配向膜用組成物を形成する支持体の材料によって光配向処理の温度条件を緩和させた場合等においては、低分子化合物Ｂを含有しない組成物を用いた場合は、配向が十分に進行しないことを突き止めた。
そのため、本発明においては、低分子化合物Ｂを配合することにより、低分子化合物Ｂの配向が補助または起点となって重合体Ａのシンナメート基の配向性を向上することができたと考えられる。

以下に、本発明の光配向膜用組成物が含有する重合体Ａおよび低分子化合物Ｂならびに任意成分について詳述する。

〔重合体Ａ〕
本発明の光配向膜用組成物が含有する重合体Ａは、シンナメート基を含む構成単位ａ１を有する重合体であれば特に限定されず、従来公知の重合体を用いることができる。
重合体Ａの好ましい分子量範囲は、重量平均分子量で１０００〜５０００００であるのが好ましく、２０００〜３０００００であるのがより好ましく、３０００〜２０００００であるのが更に好ましい。
ここで、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）測定によるポリスチレン（ＰＳ）換算値として定義され、本発明におけるＧＰＣによる測定は、ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ（東ソー（株）製）を用い、カラムとしてＴＳＫｇｅｌ Ｓｕｐｅｒ ＨＺＭ−Ｈ、ＨＺ４０００、ＨＺ２０００を用いて測定することができる。

＜シンナメート基を含む構成単位ａ１＞
上記重合体Ａが有するシンナメート基を含む構成単位ａ１としては、下記式（Ａ１）〜（Ａ４）で表される繰り返し単位が挙げられる。

ここで、式（Ａ１）および式（Ａ３）中、Ｒ³は水素原子またはメチル基を表し、式（Ａ２）および式（Ａ４）中、Ｒ⁴は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
式（Ａ１）および式（Ａ２）中、Ｌ¹は単結合または２価の連結基を表し、ａは０〜５の整数を表し、Ｒ¹は水素原子または１価の有機基を表す。
式（Ａ３）および式（Ａ４）中、Ｌ²は２価の連結基を表し、Ｒ²は１価の有機基を表す。
また、Ｒ⁴の炭素数１〜６のアルキル基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基等が挙げられ、中でも、メチル基、エチル基であるのが好ましい。
また、Ｌ¹としては、具体的には、例えば、−ＣＯ−Ｏ−Ｐｈ−、−ＣＯ−Ｏ−Ｐｈ−Ｐｈ−、−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ₂）_n−、−（ＣＨ₂）_n−Ｃｙ−等が挙げられる。ここで、Ｐｈは置換基を有していてもよい２価のベンゼン環（例えば、フェニレン基など）を表し、Ｃｙは置換基を有していてもよい２価のシクロヘキサン環（例えば、シクロヘキサン−１，４−ジイル基など）を表し、ｎは１〜４の整数を表す。
また、Ｌ²としては、具体的には、例えば、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−（ＣＨ₂）_m−Ｏ−等が挙げられる。ここで、ｍは１〜６の整数を表す。
また、Ｒ¹の１価の有機基としては、例えば、炭素数１〜２０の鎖状または環状のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基等が挙げられる。
また、Ｒ²の１価の有機基としては、例えば、炭素数１〜２０の鎖状または環状のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基等が挙げられる。
また、ａは１であるのが好ましく、Ｒ¹がパラ位に有しているのが好ましい。
また、上述したＰｈ、Ｃｙおよびアリール基が有していてもよい置換基としては、例えば、アルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミノ基等が挙げられる。

上記式（Ａ１）で表される構成単位としては、具体的には、例えば、以下の構成単位が挙げられる。

一方、上記式（Ａ２）で表される構成単位としては、具体的には、例えば、以下の構成単位が挙げられる。

上記式（Ａ１）および（Ａ２）で表される構成単位の他の例としては、特開２０１５−０２６０５０号公報の［００１６］段落に記載された以下のシンナメート基を有する構成単位が挙げられる。なお、下記構造中、＊は、重合体の主鎖構造との結合位置を示す。

上記式（Ａ３）および（Ａ４）で表される構成単位の例としては、特開２０１５−０２６０５０号公報の［００１６］段落に記載された以下のシンナメート基を有する構成単位が挙げられる。なお、下記構造中、＊は、重合体の主鎖構造との結合位置を示す。

＜架橋性基を含む構成単位ａ２＞
本発明においては、配向性がより向上する理由から、上記重合体Ａが、更に、架橋性基を含む構成単位ａ２を有しているのが好ましい。
上記架橋性基は、熱の作用により硬化反応を起こす熱架橋性基であるのが好ましい。
上記架橋性基を有する構成単位ａ２としては、例えば、エポキシ基、オキセタニル基、−ＮＨ−ＣＨ₂−Ｏ−Ｒ（Ｒは水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表す。）で表される基、エチレン性不飽和基、および、ブロックイソシアネート基よりなる群から選ばれた少なくとも１つを含む構成単位が挙げられる。
これらのうち、エポキシ基および／またはオキセタニル基を有する構成単位であることが好ましい。なお、３員環の環状エーテル基はエポキシ基とも呼ばれ、４員環の環状エーテル基はオキセタニル基とも呼ばれる。

エポキシ基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の具体例としては、例えば、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸−３，４−エポキシブチル、メタクリル酸−３，４−エポキシブチル、アクリル酸−３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、メタクリル酸−３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、α−エチルアクリル酸−３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、特許第４１６８４４３号公報の段落００３１〜００３５に記載の脂環式エポキシ骨格を含有する化合物などが挙げられ、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
オキセタニル基を有する構成単位を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の具体例としては、例えば、特開２００１−３３０９５３号公報の段落００１１〜００１６に記載のオキセタニル基を有する（メタ）アクリル酸エステルなどが挙げられ、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
上記エポキシ基および／またはオキセタニル基を有する構成単位ａ２−１を形成するために用いられるラジカル重合性単量体の具体例としては、メタクリル酸エステル構造を含有するモノマー、アクリル酸エステル構造を含有するモノマーであることが好ましい。

これらの中でも好ましいものは、メタクリル酸グリシジル、アクリル酸−３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、メタクリル酸−３，４−エポキシシクロヘキシルメチル、アクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチル、および、メタクリル酸（３−エチルオキセタン−３−イル）メチルである。これらの構成単位は、１種単独または２種類以上を組み合わせて使用することができる。

エポキシ基および／またはオキセタニル基を有する構成単位の好ましい具体例としては、下記の構成単位が例示できる。なお、Ｒ³およびＲ⁴は、それぞれ、上述した式（Ａ１）および式（Ａ１）中のＲ³およびＲ⁴と同義である。

上記架橋性基を有する構成単位ａ２の他の例としては、エチレン性不飽和基を有する構成単位が挙げられる。上記エチレン性不飽和基を有する構成単位としては、側鎖にエチレン性不飽和基を有する構成単位が好ましく、末端にエチレン性不飽和基を有し、炭素数３〜１６の側鎖を有する構成単位がより好ましい。
エチレン性不飽和基を有する構成単位については、特開２０１１−２１５５８０号公報の段落００７２〜００９０の記載、および、特開２００８−２５６９７４号公報の段落００１３〜００３１の記載を参酌でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。

＜他の構成単位＞
本発明においては、上記重合体Ａは、上述した構成単位ａ１および構成単位ａ２以外の他の構成単位を有していてもよい。共重合体に他の構成単位が含まれることにより、例えば溶媒溶解性、耐熱性、反応性等を高めることができる。
このような他の構成単位を形成するモノマーとしては、例えば、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、マレイミド化合物、アクリルアミド化合物、アクリロニトリル、マレイン酸無水物、スチレン化合物、ビニル化合物等が挙げられる。

＜含有量＞
本発明においては、上記重合体Ａの含有量は、後述する有機溶媒を含有する場合、溶媒１００質量部に対して０．１〜５０質量部であるのが好ましく、０．５〜１０質量部であるのがより好ましい。

〔低分子化合物Ｂ〕
本発明の光配向膜用組成物が含有する低分子化合物Ｂは、シンナメート基を有し、重合体Ａよりも分子量が小さい化合物である。
本発明の光配向膜用組成物は、上述した通り、低分子化合物Ｂを含有することにより、作製される光配向膜の配向性が良好となる。

本発明においては、配向性がより向上する理由から、上記低分子化合物Ｂの分子量が２００〜５００であるのが好ましく、２００〜４００であるのがより好ましい。

上記低分子化合物Ｂとしては、例えば、下記式（Ｂ１）で表される化合物が挙げられる。

ここで、式（Ｂ１）中、ａは０〜５の整数を表し、Ｒ¹は、水素原子または１価の有機基を表し、Ｒ²は、１価の有機基を表す。ａが２以上の場合、複数のＲ¹は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
また、Ｒ¹の１価の有機基としては、例えば、炭素数１〜２０の鎖状または環状のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基等が挙げられ、中でも、炭素数１〜２０のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜６のアルコキシ基がより好ましく、メトキシ基、エトキシ基が更に好ましい。
また、Ｒ²の１価の有機基としては、例えば、炭素数１〜２０の鎖状または環状のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基等が挙げられ、中でも、炭素数１〜２０の鎖状のアルキル基が好ましく、炭素数１〜１０の分岐鎖状のアルキル基がより好ましい。
また、ａは１であるのが好ましく、Ｒ¹がパラ位に有しているのが好ましい。
また、上述したアリール基が有していてもよい置換基としては、例えば、アルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミノ基等が挙げられる。

上記式（Ｂ１）で表される化合物としては、具体的には、例えば、オクチルシンナメート、エチル−４−イソプロピルシンナメート、エチル−２，４−ジイソプロピルシンナメート、メチル−２，４−ジイソプロピルシンナメート、プロピル−ｐ−メトキシシンナメート、イソプロピル−ｐ−メトキシシンナメート、イソアミル−ｐ−メトキシシンナメート、２−エチルヘキシル−ｐ−メトキシシンナメート、２−エトキシエチル−ｐ−メトキシシンナメート、２−ヘキシルデカニル−ｐ−メトキシシンナメート、シクロヘキシル−ｐ−メトキシシンナメート等が挙げられる。

＜含有量＞
本発明においては、作製される光配向膜の配向性がより良好となる理由から、上記低分子化合物Ｂの含有量は、重合体Ａの構成単位ａ１の質量に対して１０〜５００質量％であるのが好ましく、３０〜３００質量％であるのが好ましい。
また、上記低分子化合物Ｂの含有量は、後述する有機溶媒を含有する場合、溶媒１００質量部に対して０．０１〜５０質量部であるのが好ましく、０．１〜１０質量部であるのがより好ましい。

〔架橋剤Ｃ〕
本発明の光配向膜用組成物は、配向性がより向上する理由から、架橋性基を含む構成単位ａ２を有する重合体Ａとは別に、架橋性基を有する架橋剤Ｃを含有していることが好ましい。
上記架橋剤Ｃの分子量は、１０００以下であるのが好ましく、１００〜５００であるのがより好ましい。

上記架橋性基は、熱の作用により硬化反応を起こす熱架橋性基であるのが好ましい。
上記架橋剤Ｃとしては、例えば、分子内に２個以上のエポキシ基またはオキセタニル基を有する化合物、ブロックイソシアネート化合物（保護されたイソシアナト基を有する化合物）、アルコキシメチル基含有化合物等が挙げられる。
これらのうち、以下に具体例を示す、分子内に２個以上のエポキシ基またはオキセタニル基を有する化合物、ブロックイソシアネート化合物が好ましい。

＜分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物＞
分子内に２個以上のエポキシ基を有する化合物の具体例としては、脂肪族エポキシ化合物等を挙げることができる。
これらは市販品として入手できる。例えば、デナコールＥＸ−６１１、ＥＸ−６１２、ＥＸ−６１４、ＥＸ−６１４Ｂ、ＥＸ−６２２、ＥＸ−５１２、ＥＸ−５２１、ＥＸ−４１１、ＥＸ−４２１、ＥＸ−３１３、ＥＸ−３１４、ＥＸ−３２１、ＥＸ−２１１、ＥＸ−２１２、ＥＸ−８１０、ＥＸ−８１１、ＥＸ−８５０、ＥＸ−８５１、ＥＸ−８２１、ＥＸ−８３０、ＥＸ−８３２、ＥＸ−８４１、ＥＸ−９１１、ＥＸ−９４１、ＥＸ−９２０、ＥＸ−９３１、ＥＸ−２１２Ｌ、ＥＸ−２１４Ｌ、ＥＸ−２１６Ｌ、ＥＸ−３２１Ｌ、ＥＸ−８５０Ｌ、ＤＬＣ−２０１、ＤＬＣ−２０３、ＤＬＣ−２０４、ＤＬＣ−２０５、ＤＬＣ−２０６、ＤＬＣ−３０１、ＤＬＣ−４０２（以上ナガセケムテックス（株）製）、セロキサイド２０２１Ｐ、２０８１、３０００、ＥＨＰＥ３１５０、エポリードＧＴ４００、セルビナースＢ０１３４、Ｂ０１７７（（株）ダイセル製）、などが挙げられる。
これらは１種単独または２種類以上を組み合わせて使用することができる。

＜分子内に２個以上のオキセタニル基を有する化合物＞
分子内に２個以上のオキセタニル基を有する化合物の具体例としては、アロンオキセタンＯＸＴ−１２１、ＯＸＴ−２２１、ＯＸ−ＳＱ、ＰＮＯＸ（以上、東亜合成（株）製）を用いることができる。

＜ブロックイソシアネート化合物＞
ブロックイソシアネート化合物は、イソシアネート基が化学的に保護されたブロックイソシアネート基を有する化合物であれば特に制限はないが、硬化性の観点から、１分子中に２以上のブロックイソシアネート基を有する化合物であることが好ましい。
なお、本発明におけるブロックイソシアネート基とは、熱によりイソシアネート基を生成することが可能な基であり、例えば、ブロック剤とイソシアネート基とを反応させイソシアネート基を保護した基が好ましく例示できる。また、上記ブロックイソシアネート基は、９０℃〜２５０℃の熱によりイソシアネート基を生成することが可能な基であることが好ましい。
また、ブロックイソシアネート化合物としては、その骨格は特に限定されるものではなく、１分子中にイソシアネート基を２個有するものであればどのようなものでもよく、脂肪族、脂環族または芳香族のポリイソシアネートであってよいが、例えば２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート、１，３−トリメチレンジイソシアネート、１，４−テトラメチレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、１，９−ノナメチレンジイソシアネート、１，１０−デカメチレンジイソシアネート、１，４−シクロヘキサンジイソシアネート、２，２’−ジエチルエーテルジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート、ｏ−キシレンジイソシアネート、ｍ−キシレンジイソシアネート、ｐ−キシレンジイソシアネート、メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、シクロヘキサン−１，３−ジメチレンジイソシアネート、シクロヘキサン−１，４−ジメチレンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、３，３’−メチレンジトリレン−４，４’−ジイソシアネート、４，４’−ジフェニルエーテルジイソシアネート、テトラクロロフェニレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート、水素化１，３−キシリレンジイソシアネート、水素化１，４−キシリレンジイソシアネート等のイソシアネート化合物およびこれらの化合物から派生するプレポリマー型の骨格の化合物を好適に用いることができる。これらの中でも、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）やジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）が特に好ましい。

ブロックイソシアネート化合物の母構造としては、ビウレット型、イソシアヌレート型、アダクト型、２官能プレポリマー型等を挙げることができる。
上記ブロックイソシアネート化合物のブロック構造を形成するブロック剤としては、オキシム化合物、ラクタム化合物、フェノール化合物、アルコール化合物、アミン化合物、活性メチレン化合物、ピラゾール化合物、メルカプタン化合物、イミダゾール系化合物、イミド系化合物等を挙げることができる。これらの中でも、オキシム化合物、ラクタム化合物、フェノール化合物、アルコール化合物、アミン化合物、活性メチレン化合物、ピラゾール化合物から選ばれるブロック剤が特に好ましい。

ブロックイソシアネート化合物は、市販品として入手可能であり、例えば、コロネートＡＰステーブルＭ、コロネート２５０３、２５１５、２５０７、２５１３、２５５５、ミリオネートＭＳ−５０（以上、日本ポリウレタン工業（株）製）、タケネートＢ−８３０、Ｂ−８１５Ｎ、Ｂ−８２０ＮＳＵ、Ｂ−８４２Ｎ、Ｂ−８４６Ｎ、Ｂ−８７０Ｎ、Ｂ−８７４Ｎ、Ｂ−８８２Ｎ（以上、三井化学（株）製）、デュラネート１７Ｂ−６０ＰＸ、１７Ｂ−６０Ｐ、ＴＰＡ−Ｂ８０Ｘ、ＴＰＡ−Ｂ８０Ｅ、ＭＦ−Ｂ６０Ｘ、ＭＦ−Ｂ６０Ｂ、ＭＦ−Ｋ６０Ｘ、ＭＦ−Ｋ６０Ｂ、Ｅ４０２−Ｂ８０Ｂ、ＳＢＮ−７０Ｄ、ＳＢＢ−７０Ｐ、Ｋ６０００（以上、旭化成ケミカルズ（株）製）、デスモジュールＢＬ１１００、ＢＬ１２６５ ＭＰＡ／Ｘ、ＢＬ３５７５／１、ＢＬ３２７２ＭＰＡ、ＢＬ３３７０ＭＰＡ、ＢＬ３４７５ＢＡ／ＳＮ、ＢＬ５３７５ＭＰＡ、ＶＰＬＳ２０７８／２、ＢＬ４２６５ＳＮ、ＰＬ３４０、ＰＬ３５０、スミジュールＢＬ３１７５（以上、住化バイエルウレタン（株）製）等を好ましく使用することができる。

＜含有量＞
本発明においては、上記架橋剤Ｃを含有する場合の含有量は、重合体Ａの構成単位ａ１の１００質量部に対して１〜１０００質量部であるのが好ましく、１０〜５００質量部であるのが好ましい。
また、上記架橋剤Ｃを含有する場合の含有量は、後述する有機溶媒を含有する場合、溶媒１００質量部に対して０．０５〜５０質量部であるのが好ましく、１〜１０質量部であるのがより好ましい。

〔有機溶媒〕
本発明の光配向膜用組成物は、光配向膜を作製する作業性等の観点から、有機溶媒を含有するのが好ましい。
有機溶媒としては、具体的には、例えば、ケトン類（例えば、アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノンなど）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフランなど）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサンなど）、脂環式炭化水素類（例えば、シクロヘキサンなど）、芳香族炭化水素類（例えば、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼンなど）、ハロゲン化炭素類（例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジクロロベンゼン、クロロトルエンなど）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、水、アルコール類（例えば、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノールなど）、セロソルブ類（例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブなど）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなど）等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。

〔その他の成分〕
本発明の重合性液晶組成物は、上記以外の他の成分を含有してもよく、例えば、架橋触媒、密着改良剤、レベリング剤、界面活性剤、可塑剤などが挙げられる。
なお、本願明細書において、架橋触媒とは架橋性基を有さず、上記架橋剤Ｃとは異なる化合物を意図する。
架橋触媒としては、例えば、上記架橋剤Ｃがエポキシ基、オキセタニル基、−ＮＨ−ＣＨ₂−Ｏ−Ｒ（Ｒは水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表す。）で表される基、および／または、ブロックイソシアネート基を有する場合に、架橋性基間の架橋反応に対する触媒作用を有する成分、および／または、架橋性基間の架橋反応を促進する機能を有する成分として、熱酸発生剤、光酸発生剤、金属キレート化合物、および、硬化促進剤等が挙げられる。
上記熱酸発生剤としては、熱により酸を放出する化合物であれば特に限定されず、例えば、有機ハロゲン化化合物、ジスルホン酸化合物、オキシムエステル化合物、スルホン酸エステル化合物、リン酸エステル化合物、ホスホン酸エステル化合物、スルホニウム、ヨードニウム、ジアゾニウム、ピリジニウム、ホスホニウム、および、アンモニウム等のオニウム塩化合物等の公知の熱酸発生剤が挙げられる。
上記光酸発生剤としては、波長３００ｎｍ以上、好ましくは波長３００〜４５０ｎｍの活性光線に感応し、酸を発生する化合物が好ましいが、その化学構造に限定されるものではない。また、波長３００ｎｍ以上の活性光線に直接感応しない光酸発生剤のうち、増感剤と併用することによって波長３００ｎｍ以上の活性光線に感応し、酸を発生する化合物を用いることもできる。上記光酸発生剤の例として、トリクロロメチル−ｓ−トリアジン類、スルホニウム塩およびヨードニウム塩（オニウム塩）、第四級アンモニウム塩類、ジアゾメタン化合物、イミドスルホネート化合物、及び、オキシムスルホネート化合物などを挙げることができる。これらのなかでも、絶縁性、および、感度の観点から、オキシムスルホネート化合物を用いることが好ましい。これら光酸発生剤は、１種単独又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。トリクロロメチル−ｓ−トリアジン類、ジアリールヨードニウム塩類、トリアリールスルホニウム塩類、第四級アンモニウム塩類、及び、ジアゾメタン誘導体の具体例としては、特開２０１１−２２１４９４号公報の段落［００８３］〜［００８８］に記載の化合物が例示できる。
上記金属キレート化合物としては、アルミニウム、チタニウム及びジルコニウムからなる群から選択される少なくとも１種の金属のアセチルアセトン錯体又はアセト酢酸錯体が好ましい。具体的には、アルミニウムのキレート化合物として、例えばジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、ジイソプロポキシアセチルアセトネートアルミニウム、イソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、イソプロポキシビス（アセチルアセトネート）アルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、トリス（アセチルアセトネート）アルミニウム、および、モノアセチルアセトネートビス（エチルアセトアセテート）アルミニウムなど；チタニウムのキレート化合物として、例えばジイソプロポキシビス（エチルアセトアセテート）チタニウム、および、ジイソプロポキシビス（アセチルアセトネート）チタニウムなど；ジルコニウムのキレート化合物として、例えばトリ−ｎ−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ｎ−ブトキシトリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（ｎ−プロピルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（アセチルアセトネート）ジルコニウム、および、テトラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウムなどを、それぞれ挙げることができる。金属キレート化合物としては、これらのうちから選択される１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
上記架橋触媒としては、フェノール基、シラノール基、チオール基、リン酸基、スルホン酸基、カルボキシル基、および、カルボン酸無水物基などを有する化合物を使用することができる。これらのうち、フェノール基、シラノール基またはカルボキシル基を有する化合物が好ましく、フェノール基又はシラノール基を有する化合物がより好ましい。
フェノール基またはシラノール基を有する化合物の具体例としては、フェノール基を有する架橋触媒として、例えばシアノフェノール、ニトロフェノール、メトキシフェノキシフェノール、チオフェノキシフェノール、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（ヒドロキシナフチル）スルホン、（３−ヒドロキシフェニル）（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、フェニル（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、（メトキシフェニル）（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、４−ベンジルフェノール、および、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンなどを；シラノール基を有する硬化促進剤として、例えばトリメチルシラノール、トリエチルシラノール、１，１，３，３−テトラフェニル−１，３−ジシロキサンジオール、１，４−ビス（ヒドロキシジメチルシリル）ベンゼン、トリフェニルシラノール、トリ（ｐ−トリル）シラノール、トリ（ｍ−トリフルオロメチルフェニル）シラノール、トリ（ｏ−トリフルオロメチルフェニル）シラノール、トリ（ｍ−フルオロフェニル）シラノール、トリ（ｏ−フルオロフェニル）シラノール、ジフェニルシランジオール、ジ（ｏ−トリル）シランジオールなどを、それぞれ挙げることができる。なお、硬化促進剤としては、これらのうちから選択される１種を単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。

［光配向膜］
本発明の光配向膜は、上述した本発明の光配向膜用組成物を用いて作製され、光配向膜用組成物に含まれる重合体Ａおよび低分子化合物Ｂのシンナメート基が二量化したシクロブタン環、および／または、上記シンナメート基が異性化した構造を有する光配向膜である。

光配向膜の膜厚としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１０〜１０００ｎｍが好ましく、１０〜７００ｎｍがより好ましい。

〔製造方法〕
本発明の光配向膜は、上述した本発明の光配向膜用組成物を用いる以外は従来公知の製造方法により製造することができ、例えば、上述した本発明の光配向膜用組成物を支持体表面に塗布する塗布工程と、光配向膜用組成物の塗膜に対し、偏光または塗膜表面に対して斜め方向から非偏光を照射する光照射工程とを有する製造方法により作製することができる。
なお、支持体については、後述する本発明の光学積層体において説明する。

＜塗布工程＞
塗布工程における塗布方法は特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、スピンコーティング、ダイコーティング、グラビアコーティング、フレキソ印刷、インクジェット印刷などが挙げられる。

＜光照射工程＞
光照射工程において、光配向膜用組成物の塗膜に対して照射する偏光は特に制限はなく、例えば、直線偏光、円偏光、楕円偏光などが挙げられ、中でも、直線偏光が好ましい。
また、非偏光を照射する「斜め方向」とは、塗膜表面の法線方向に対して極角θ（０＜θ＜９０°）傾けた方向である限り、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、θが２０〜８０°であることが好ましい。

偏光または非偏光における波長としては、光配向膜用組成物の塗膜に、液晶性分子に対する配向制御能を付与することができる限り、特に制限はないが、例えば、紫外線、近紫外線、可視光線などが挙げられる。中でも、２５０ｎｍ〜４５０ｎｍの近紫外線が特に好ましい。
また、偏光または非偏光を照射するための光源としては、例えば、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプなどが挙げられる。このような光源から得た紫外線や可視光線に対して、干渉フィルタや色フィルタなどを用いることで、照射する波長範囲を制限することができる。また、これらの光源からの光に対して、偏光フィルタや偏光プリズムを用いることで、直線偏光を得ることができる。

偏光または非偏光の積算光量としては、光配向膜用組成物の塗膜に、液晶性分子に対する配向制御能を付与することができる限り、特に制限はなく、特に制限はないが、１〜３００ｍＪ／ｃｍ²が好ましく、５〜１００ｍＪ／ｃｍ²がより好ましい。
偏光または非偏光の照度としては、光配向膜用組成物の塗膜に、液晶性分子に対する配向制御能を付与することができる限り、特に制限はないが、０．１〜３００ｍＷ／ｃｍ²が好ましく、１〜１００ｍＷ／ｃｍ²がより好ましい。

［光学積層体］
本発明の光学積層体は、上述した本発明の光配向膜と、光配向膜上に設けられ、液晶性化合物を含有する光学異方性層とを有する、光学積層体である。
また、本発明の光学積層体は、更に支持体を有しているのが好ましく、具体的には、支持体と光配向膜と光学異方性層とをこの順に有しているのが好ましい。
また、本発明の光学積層体は、上述した順で支持体を有している場合、支持体と光配向膜との間に、樹脂層を有していることが好ましく、更に、樹脂層と光配向膜との間に、他の光学異方性層を有していることが好ましい。

図１Ａ〜図１Ｇは、それぞれ本発明の光学積層体の一例を示す模式的な断面図である。なお、図１Ａ〜図１Ｇは、いずれも模式図であり、各層の厚みの関係などは必ずしも実際のものとは一致しない。
図１Ａに示す光学積層体１０は、光配向膜１と、光学異方性層２とをこの順で有する。
図１Ｂに示す光学積層体２０は、支持体３と、光配向膜１と、光学異方性層２とをこの順で有する。
図１Ｃに示す光学積層体３０は、ポリマーフィルム３ｂおよび偏光子３ａと、光配向膜１と、光学異方性層２とをこの順で有する。
図１Ｄに示す光学積層体４０は、支持体３と、光配向膜１と、第１光学異方性層２ａおよび他の第２光学異方性層２ｂとをこの順で有する。
図１Ｅに示す光学積層体５０は、仮支持体３ｃと、樹脂層４と、光配向膜１と、光学異方性層２とをこの順で有する。
図１Ｆに示す光学積層体６０は、仮支持体３ｃと、樹脂層４と、他の光学異方性層６と、光配向膜１と、光学異方性層２とをこの順で有する。
図１Ｇに示す光学積層体７０は、樹脂層４と、他の光学異方性層６と、光配向膜１と、光学異方性層２と、接着剤層または粘着剤層５と、偏光子３ａおよびポリマーフィルム３ｂとをこの順で有する。

〔光学異方性層〕
本発明の光学積層体が有する光学異方性層は、液晶性化合物を含有する光学異方性層であれば特に限定されず、従来公知の光学異方性層を適宜採用して用いることができる。
このような光学異方性層は、重合性基を有する液晶性化合物を含有する組成物（以下、「光学異方性層形成用組成物」ともいう。）を硬化させて得られる層であるのが好ましく、単層構造であってもよく、例えば、図１Ｄに示すような複数層を積層した構造（積層体）であってもよい。
以下に、光学異方性層形成用組成物が含有している液晶性化合物および任意の添加剤について説明する。

＜液晶性化合物＞
光学異方性層形成用組成物が含有する液晶性化合物は、重合性基を有する液晶性化合物である。
一般的に、液晶性化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。更にそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。
本発明においては、いずれの液晶性化合物を用いることもできるが、棒状液晶性化合物またはディスコティック液晶性化合物を用いるのが好ましく、棒状液晶性化合物を用いるのがより好ましい。

本発明においては、上述の液晶性化合物の固定化のために、重合性基を有する液晶性化合物を用いるが、液晶性化合物が１分子中に重合性基を２以上有することが更に好ましい。なお、液晶性化合物が２種類以上の混合物の場合には、少なくとも１種類の液晶性化合物が１分子中に２以上の重合性基を有していることが好ましい。なお、液晶性化合物が重合によって固定された後においては、もはや液晶性を示す必要はない。

また、重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基が好ましい。より具体的には、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基などが好ましく挙げられ、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。なお、（メタ）アクリロイル基とは、メタアクリロイル基またはアクリロイル基を意味する表記である。

棒状液晶性化合物としては、例えば、特表平１１−５１３０１９号公報の請求項１や特開２００５−２８９９８０号公報の段落［００２６］〜［００９８］に記載のものを好ましく用いることができ、ディスコティック液晶性化合物としては、例えば、特開２００７−１０８７３２号公報の段落［００２０］〜［００６７］や特開２０１０−２４４０３８号公報の段落［００１３］〜［０１０８］に記載のものを好ましく用いることができるが、これらに限定されない。

＜添加剤＞
光学異方性層形成用組成物には、上述した液晶性化合物以外の成分が含まれていてもよい。
例えば、光学異方性層形成用組成物には、重合開始剤が含まれていてもよい。使用される重合開始剤は、重合反応の形式に応じて選択され、例えば、熱重合開始剤、光重合開始剤が挙げられる。例えば、光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物、アシロインエーテル、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物、多核キノン化合物、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせなどが挙げられる。
重合開始剤の使用量は、組成物の全固形分に対して、０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがより好ましい。

また、光学異方性層形成用組成物には、塗膜の均一性、膜の強度の点から、重合性モノマーが含まれていてもよい。
重合性モノマーとしては、ラジカル重合性またはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶性化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開２００２−２９６４２３号公報中の段落［００１８］〜［００２０］に記載のものが挙げられる。
重合性モノマーの含有量は、液晶性化合物の全質量に対して、１〜５０質量％であることが好ましく、２〜３０質量％であることがより好ましい。

また、光学異方性層形成用組成物には、塗膜の均一性、膜の強度の点から、界面活性剤が含まれていてもよい。
界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、特にフッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−３３０７２５号公報中の段落［００２８］〜［００５６］に記載の化合物、特願２００３−２９５２１２号明細書中の段落［００６９］〜［０１２６］に記載の化合物が挙げられる。

また、光学異方性層形成用組成物には有機溶媒が含まれていてもよい。有機溶媒としては、上述した本発明の光配向膜用組成物において説明したものと同様のものを挙げることができる。

また、光学異方性層形成用組成物には、偏光子界面側垂直配向剤、および、空気界面側垂直配向剤などの垂直配向促進剤、ならびに、偏光子界面側水平配向剤、および、空気界面側水平配向剤などの水平配向促進剤などの各種配向剤が含まれていてもよい。
更に、光学異方性層形成用組成物には、上記成分以外に、密着改良剤、可塑剤、ポリマーなどが含まれていてもよい。

このような成分を有する光学異方性層形成用組成物を用いた光学異方性層の形成方法は特に限定されず、例えば、上述した本発明の光配向膜上に、光学異方性層形成用組成物を塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜に対して硬化処理（紫外線の照射（光照射処理）または加熱処理）を施すことにより形成することができる。
光学異方性層形成用組成物の塗布は、公知の方法（例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。

本発明においては、上記光学異方性層の厚みについては特に限定されないが、０．１〜１０μｍであるのが好ましく、０．５〜５μｍであるのがより好ましい。

また、本発明においては、上記光学異方性層をポジティブＡプレートとして機能させる場合は、特にＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード液晶表示装置のように駆動液晶のプレ傾斜角が必要ない液晶表示装置における光学補償に有用となる理由から、棒状液晶性化合物をホモジニアス（水平）配向させた光学異方性層であるのが好ましい。
また、ＩＰＳモード液晶表示装置における光学補償がより向上する理由から、上記光学異方性層は、例えば、図１Ｄに示すような複数層を積層した構造のうち、棒状液晶性化合物をホモジニアス（水平）配向させた第１光学異方性層と、棒状液晶性化合物をホメオトロピック（垂直）配向させた第２光学異方性層とを有しているのが好ましい。

更に、本発明においては、上記光学異方性層の配向性がより向上する理由から、光学異方性層が、上述した光学異方性層形成用組成物をスメクチック相に配向した後に重合（配向を固定化）して得られる層であるのが好ましい。

本発明の光学積層体が有する光学異方性層は、優れた視野角特性を付与する観点から、下記式（ＩＩ）または（ＩＩＩ）を満たすのが好ましい。
０．７５＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．００ ・・・（ＩＩ）
０．７５＜Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）≦１．０２ ・・・（ＩＩＩ）
ここで、式（ＩＩ）中、Ｒｅ（４５０）は、光学異方性層の波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションを表し、Ｒｅ（５５０）は、光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションを表す。式（ＩＩＩ）中、Ｒｔｈ（４５０）は、光学異方性層の波長４５０ｎｍにおける厚み方向のレターデーションを表し、Ｒｔｈ（５５０）は、光学異方性層の波長５５０ｎｍにおける厚みレターデーションを表す。
また、面内レターデーションおよび厚み方向のレターデーションの値は、ＡｘｏＳｃａｎ ＯＰＭＦ−１（オプトサイエンス社製）を用い、測定波長の光を用いて測定した値をいう。

〔他の光学異方性層〕
本発明の光学積層体は、後述する樹脂層と、上述した光配向膜の間に、上述した光学異方性層とは異なる、他の光学異方性層を有することが好ましい。
他の光学異方性層としては特に制限されず、公知の光学異方性層を用いることができる。他の光学異方性層は、液晶性化合物を含有することが好ましく、光学異方性層形成用組成物を硬化させて得られる層であるのがより好ましい。
なお、上記液晶性化合物、及び、光学異方性層用組成物としては特に制限されないが、例えば、光学異方性層が含有する液晶性化合物、及び、光学異方性層形成用組成物として既に説明した態様が挙げられる。他の光学異方性層についても、優れた視野角特性を付与する観点から、上記式（ＩＩ）または（ＩＩＩ）を満たすのが好ましい。
また、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード液晶表示装置における光学補償がより向上する理由から、例えば、図１Ｆに示すような複数層を積層した構造のうち、棒状液晶性化合物をホモジニアス（水平）配向させた上記光学異方性層と、棒状液晶性化合物をホメオトロピック（垂直）配向させた上記他の光学異方性層とを有しているのが好ましい。

〔樹脂層〕
本発明の光学積層体に用いられる任意の樹脂層は、２種類以上の多官能モノマーを重合硬化させて得られる層であることが好ましい。
多官能モノマーに含まれる重合性基が（メタ）アクリロイル基であることがより好ましく、２種類以上の多官能モノマーのうち、少なくとも１種類は、下記式（Ｘ）で表される部分構造（以下、「トリシクロデカン骨格」ともいう。）を有するモノマーであることが好ましい。下記式（Ｘ）で表されるトリシクロデカン骨格を有するモノマーと多官能モノマーとを重合硬化させて得られる樹脂層を用いることで、樹脂層の膜強度を保持しつつ、後述する仮支持体との接着力を低減することができ、偏光子に光学異方性層を容易に転写させることができる。
以下、樹脂層の原料について詳述した後に樹脂層の製造手順などについて詳述する。

＜多官能モノマー＞
多官能モノマーは、光や熱を用いて重合可能な化合物であり、重合硬化して樹脂層を構成する成分となる。
多官能モノマーには、複数の重合性基が含まれる。重合性基の定義は、上述の通りであり、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
多官能モノマー中に含まれる重合性基の数は特に制限されず、複数（２以上）であればよく、樹脂層の膜強度がより優れる点で３〜３２が好ましく、３〜２０がより好ましい。

多官能モノマーの具体例としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、１，４−ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）シアヌレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンもしくはグリセリン等の多官能アルコールにエチレンオキシドやプロピレンオキシドを付加反応させた後で（メタ）アクリレート化したもの等の多官能（メタ）アクリレートを挙げることができる。
これらの多官能モノマーは、１種のみを用いてもよいし、２種類以上を合わせて使用してもよい。
なお、（メタ）アクリレートとは、アクリレートまたはメタアクリレートを意味する表記である。

樹脂層を形成するための組成物（以下、「樹脂層形成用組成物」ともいう。）には、多官能モノマーの他に、塗膜の均一性、膜の強度の点から、界面活性剤が含まれていてもよい。界面活性剤としては、上述した光学異方性層形成用組成物において説明したものと同様のものを挙げることができる。

また、樹脂層形成用組成物には有機溶媒が含まれていてもよい。有機溶媒としては、上述した本発明の光配向膜用組成物において説明したものと同様のものを挙げることができる。
更に、樹脂層形成用組成物には、上記成分以外に、密着改良剤、可塑剤、ポリマーなどが含まれていてもよい。

樹脂層の形成方法は特に限定されず、例えば、樹脂層形成用組成物を塗布して塗膜を形成し、得られた塗膜に対して硬化処理（紫外線の照射（光照射処理）または加熱処理）を施すことにより形成することができる。樹脂層形成用組成物の塗布は、上述した本発明に用いられる光学異方性層形成用組成物において説明したものと同様のものを挙げることができる。

本発明においては、上記樹脂層の厚みについては特に限定されないが、０．５〜５μｍであるのが好ましく、０．５〜２μｍであるのがより好ましい。

〔支持体〕
本発明の光学積層体は、上述したように、光学異方性層を形成するための基材として支持体を有していてもよい。
このような支持体としては、例えば、偏光子、ポリマーフィルム等が挙げられ、これらが組み合わされたもの、例えば、偏光子とポリマーフィルムとの積層体、ポリマーフィルムと偏光子とポリマーフィルムとの積層体などであってもよい。
また、支持体は、光学異方性層を形成した後に、剥離可能な仮支持体（以下、単に「仮支持体」とのみ表記する場合もある。）であってもよい。具体的には、仮支持体として機能するポリマーフィルムを光学積層体から剥離して、光学異方性層を提供できるものであってもよい。例えば、光学異方性層と仮支持体を含む光学積層体を用意し、光学積層体の光学異方性層側を、偏光子を含む支持体に粘着剤または接着剤で貼り合わせた後、前記光学異方性層に含まれる仮支持体を剥離することで、偏光子を含む支持体と光学異方性層との積層体を提供できるものであってもよい。

＜偏光子＞
本発明においては、本発明の光学積層体を画像表示装置に用いる場合は、支持体として少なくとも偏光子を用いるのが好ましい。
偏光子は、光を特定の直線偏光に変換する機能を有する部材であれば特に限定されず、従来公知の吸収型偏光子および反射型偏光子を利用することができる。
吸収型偏光子としては、ヨウ素系偏光子、二色性染料を利用した染料系偏光子、およびポリエン系偏光子などが用いられる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子には、塗布型偏光子と延伸型偏光子があり、いずれも適用できるが、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸して作製される偏光子が好ましい。
また、基材上にポリビニルアルコール層を形成した積層フィルムの状態で延伸および染色を施すことで偏光子を得る方法として、特許第５０４８１２０号公報、特許第５１４３９１８号公報、特許第５０４８１２０号公報、特許第４６９１２０５号公報、特許第４７５１４８１号公報、特許第４７５１４８６号公報を挙げることができ、これらの偏光子に関する公知の技術も好ましく利用することができる。
反射型偏光子としては、複屈折の異なる薄膜を積層した偏光子、ワイヤーグリッド型偏光子、選択反射域を有するコレステリック液晶と１／４波長板とを組み合わせた偏光子などが用いられる。
なかでも、取り扱い性の点から、ポリビニルアルコール系樹脂（−ＣＨ_２−ＣＨＯＨ−を繰り返し単位として含むポリマーを意図する。特に、ポリビニルアルコールおよびエチレン−ビニルアルコール共重合体からなる群から選択される少なくとも１つが好ましい）を含む偏光子であることが好ましい。

本発明の光学積層体が剥離可能な支持体を含む態様において、偏光板は、例えば、以下のように製造することができる。
上述の光学積層体中から支持体を剥離し、光学異方性層を含む層を、偏光子を含む支持体に積層する。または、上述の光学積層体を、偏光子を含む支持体に積層し、その後、光学積層体中に含まれる剥離可能な支持体を剥離する。積層の際は両層を接着剤等により接着してもよい。接着剤としては特に限定はないが、特開２００４−２４５９２５号公報に示されるような、分子内に芳香環を含まないエポキシ化合物の硬化性接着剤、特開２００８−１７４６６７号公報記載の３６０〜４５０ｎｍの波長におけるモル吸光係数が４００以上である光重合開始剤と紫外線硬化性化合物とを必須成分とする活性エネルギー線硬化型接着剤、特開２００８−１７４６６７号公報記載の（メタ）アクリル系化合物の合計量１００質量部中に（ａ）分子中に（メタ）アクリロイル基を２以上有する（メタ）アクリル系化合物と、（ｂ）分子中に水酸基を有し、重合性二重結合をただ１個有する（メタ）アクリル系化合物と、（ｃ）フェノールエチレンオキサイド変性アクリレートまたはノニルフェノールエチレンオキサイド変性アクリレートとを含有する活性エネルギー線硬化型接着剤などがあげられる。

偏光子の厚みは特に限定されないが、１〜６０μｍであるのが好ましく、１〜３０μｍであるのがより好ましく、２〜２０μｍであるのが更に好ましい。

＜ポリマーフィルム＞
ポリマーフィルムは、特に限定されず、通常用いるポリマーフィルム（例えば、偏光子保護フィルムなど）を用いることができる。
ポリマーフィルムを構成するポリマーとしては、具体的には、例えば、セルロース系ポリマー；ポリメチルメタクリレート、ラクトン環含有重合体等のアクリル酸エステル重合体を有するアクリル系ポリマー；熱可塑性ノルボルネン系ポリマー；ポリカーボネート系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー；ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン系ポリマー；、塩化ビニル系ポリマー；ナイロン、芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー；イミド系ポリマー；スルホン系ポリマー；ポリエーテルスルホン系ポリマー；ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー；ポリフェニレンスルフィド系ポリマー；塩化ビニリデン系ポリマー；ビニルアルコール系ポリマー；ビニルブチラール系ポリマー；アリレート系ポリマー；ポリオキシメチレン系ポリマー；エポキシ系ポリマー；またはこれらのポリマーを混合したポリマーが挙げられる。

これらのうち、トリアセチルセルロースに代表される、セルロース系ポリマー（以下、「セルロースアシレート」ともいう。）を好ましく用いることができる。
また、加工性および光学性能の観点から、アクリル系ポリマーを用いるのも好ましい。
アクリル系ポリマーとしては、ポリメチルメタクリレートや、特開２００９−９８６０５号公報の段落［００１７］〜［０１０７］に記載されるラクトン環含有重合体等が挙げられる。

偏光子保護フィルム等に用いるポリマーフィルムの厚さは特に限定されないが、光学積層体の厚みを薄くできる等の理由から４０μｍ以下が好ましい。下限は特に限定されないが通常５μｍ以上である。

光学積層体から剥離しない支持体としてポリマーフィルムを用いる態様では、本発明の光配向膜用組成物を用いる優位性が高くなる理由から、支持体のガラス転移温度が１００℃以下であるのが好ましい。
ここで、本願明細書においては、示差走査熱量測定装置（Ｘ−ＤＳＣ７０００（アイティー計測制御（株）製））にて、支持体のサンプル２０ｍｇを測定パンに入れ、これを窒素寄留中で速度１０℃／分で３０℃から１２０℃まで昇温して１５分間保持した後、３０℃まで−２０℃／分で冷却した。この後、再度３０℃から２５０℃まで昇温して、ベースラインが低温側から変化し始める温度をガラス転移温度Ｔｇとする。

また、本発明においては、上記支持体の厚みについては特に限定されないが、１〜１００μｍであるのが好ましく、５〜５０μｍであるのがより好ましく、５〜２０μｍであるのが更に好ましい。なお、上記支持体の厚みとは、偏光子およびポリマーフィルムをいずれも有している場合は、これらの厚みの合計の厚みをいう。

光学積層体から剥離可能な支持体としてポリマーフィルムを用いる態様では、セルロース系ポリマーまたはポリエステル系ポリマーを好ましく用いることができる。ポリマーフィルムの厚さは特に限定されないが、製造時のハンドリング等の理由から５μｍ〜１００μｍが好ましく、２０μｍ〜９０μｍがより好ましい。

［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、本発明の光学積層体を有する、画像表示装置である。
本発明の画像表示装置に用いられる表示素子は特に限定されず、例えば、液晶セル、有機エレクトロルミネッセンス（以下、「ＥＬ」と略す。）表示パネル、プラズマディスプレイパネル等が挙げられる。
これらのうち、液晶セル、有機ＥＬ表示パネルであるのが好ましく、液晶セルであるのがより好ましい。すなわち、本発明の画像表示装置としては、表示素子として液晶セルを用いた液晶表示装置、表示素子として有機ＥＬ表示パネルを用いた有機ＥＬ表示装置であるのが好ましく、液晶表示装置であるのがより好ましい。

〔液晶表示装置〕
本発明の画像表示装置の一例である液晶表示装置は、上述した本発明の光学積層体と、液晶セルとを有する液晶表示装置である。
なお、本発明においては、液晶セルの両側に設けられる偏光板のうち、フロント側の偏光板として本発明の光学積層体を用いるのが好ましい。
以下に、液晶表示装置を構成する液晶セルについて詳述する。

＜液晶セル＞
液晶表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡ（Ｖｉｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ Ｂｅｎｄ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、またはＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）であることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子（棒状液晶性化合物）が実質的に水平配向し、更に６０〜１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉ−ｄｏｍａｉｎ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード（Ａｘｉａｌｌｙ ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ ａｌｉｇｎｅｄ ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ））の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬ（Ｓｕｐｅｒ Ｒａｎｇｅｄ Ｖｉｅｗｉｎｇ ｂｙ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モードの液晶セル（ＬＣＤ（ｌｉｑｕｉｄ ｃｒｙｓｔａｌ ｄｉｓｐｌａｙ）インターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、光配向型（Ｏｐｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、およびＰＳＡ（Ｐｏｌｙｍｅｒ−Ｓｕｓｔａｉｎｅｄ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６−２１５３２６号公報、および特表２００８−５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶性分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶性分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加時で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０−５４９８２号公報、特開平１１−２０２３２３号公報、特開平９−２９２５２２号公報、特開平１１−１３３４０８号公報、特開平１１−３０５２１７号公報、特開平１０−３０７２９１号公報などに開示されている。

以下に実施例に基づいて本発明を更に詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。

〔重合体Ａ１〕
冷却管および撹拌機を備えたフラスコに、重合開始剤として２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）１質量部と、および、溶媒としてジエチレングリコールメチルエチルエーテル１８０質量部とを仕込んだ。ここに、３，４−エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート１００質量部を加え、フラスコ内を窒素置換した後、緩やかに攪拌をした。溶液温度を８０℃に上昇させ、この温度を５時間維持することにより、エポキシ基を有するポリメタクリレートを約３５質量％含有する重合体溶液を得た。得られたエポキシ含有ポリメタクリレートの重量平均分子量Ｍｗは２５，０００であった。
次いで、別の反応容器中に、上記で得たエポキシ含有ポリメタクリレートを含む溶液２８６質量部（ポリメタクリレートに換算して１００質量部）、特開２０１５−２６０５０号公報の合成例１の方法で得られた桂皮酸誘導体１２０質量部、触媒としてテトラブチルアンモニウムブロミド２０質量部、および、希釈溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５０質量部を仕込み、窒素雰囲気下、９０℃において１２時間、撹拌下に反応を行った。反応終了後、反応混合物にプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１００質量部を加えて希釈し、これを３回水洗した。水洗後の有機相を大過剰のメタノール中に投入して重合体を沈殿させ、回収した沈殿物を４０℃において１２時間真空乾燥することにより、光配向性基を有する下記重合体Ａ１を得た。

〔重合体Ａ２〕
撹拌機、温度計、滴下漏斗および還流冷却管を備えた反応容器に、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン１００．０質量部、メチルイソブチルケトン５００質量部、および、トリエチルアミン１０．０質量部を仕込み、室温で混合した。次いで、脱イオン水１００質量部を滴下漏斗より３０分かけて滴下した後、還流下で混合しつつ、８０℃で６時間反応させた。反応終了後、有機相を取り出し、０．２質量％硝酸アンモニウム水溶液により洗浄後の水が中性になるまで洗浄した後、減圧下で溶媒および水を留去することにより、エポキシ含有ポリオルガノシロキサンを粘調な透明液体として得た。
このエポキシ含有ポリオルガノシロキサンについて、¹Ｈ−ＮＭＲ（ｎｕｃｌｅａｒ ｍａｇｎｅｔｉｃ ｒｅｓｏｎａｎｃｅ）分析を行ったところ、化学シフト（δ）＝３．２ｐｐｍ付近にオキシラニル基に基づくピークが理論強度どおりに得られ、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことが確認された。このエポキシ含有ポリオルガノシロキサンの重量平均分子量Ｍｗは２，２００、エポキシ当量は１８６ｇ／モルであった。
次に、１００ｍＬの三口フラスコに、上記で得たエポキシ含有ポリオルガノシロキサン１０．１質量部、アクリル基含有カルボン酸（東亜合成株式会社、商品名「アロニックスＭ−５３００」、アクリル酸ω−カルボキシポリカプロラクトン（重合度ｎ≒２））０．５質量部、酢酸ブチル２０質量部、特開２０１５−２６０５０号公報の合成例１の方法で得られた桂皮酸誘導体１．５質量部、および、テトラブチルアンモニウムブロミド０．３質量部を仕込み、９０℃で１２時間撹拌した。反応終了後、反応溶液と等量（質量）の酢酸ブチルで希釈し、３回水洗した。この溶液を濃縮し、酢酸ブチルで希釈する操作を２回繰り返し、最終的に、光配向性基を有するポリオルガノシロキサン（下記重合体Ａ２）を含む溶液を得た。この重合体Ａ２の重量平均分子量Ｍｗは９，０００であった。また、¹Ｈ−ＮＭＲ分析の結果、重合体Ａ２中のシンナメート基を有する成分は２３．７質量％であった。

〔重合体Ａ３〕
重合体Ａ２の作製において、アクリル基含有カルボン酸と桂皮酸誘導体の添加量を変更した以外は重合体Ａ２と同様の方法で重合体Ａ３を得た。この重合体Ａ３の重量平均分子量Ｍｗは１０，０００であった。また、¹Ｈ−ＮＭＲ分析の結果、重合体Ａ３中のシンナメート基を有する成分は４７．９質量％であった。

〔重合体Ａ４〕
冷却管と撹拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）７質量部と、α−メチルスチレンダイマー３質量部と、および、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル２２０質量部とを仕込んだ。引き続きメタクリル酸エポキシシクロヘキシルメチル(ダイセル株式会社、商品名「サイクロマーＭ１００」)１００質量部を仕込み窒素置換した後ゆるやかに加熱攪拌し、溶液を７０℃に上昇させ、この温度を５時間保持し重合体を含む重合体溶液を得た。得られた重合体溶液をヘキサン中に滴下し再沈殿し、ろ過により回収した後乾燥することで、白色粉末のエポキシ含有ポリメタクリレートの白色粉末を得た。得られたエポキシ含有ポリメタクリレートのＭｗは１１，０００であった。
続いて、１００ｍＬの三口フラスコに、上記で得たエポキシ含有ポリメタクリレート５．１質量部、アクリル基含有カルボン酸（東亜合成株式会社、商品名「アロニックスＭ−５３００」、アクリル酸ω−カルボキシポリカプロラクトン（重合度ｎ≒２））８．４質量部、メチルイソブチルケトン３２質量部、および、テトラブチルアンモニウムブロミド０．３質量部を仕込み、９０℃で１２時間撹拌した。反応終了後、メタノールで再沈殿を行い、沈殿物を酢酸エチルに溶解して溶液を得、３回水洗した。この溶液を濃縮し、酢酸エチルで希釈する操作を２回繰り返し、最終的に、側鎖にアクリレート基とエポキシ基を有するポリメタクリレート共重合体の白色粉末を得た。このポリメタクリレート共重合体の重量平均分子量Ｍｗは８，０００であった。

〔重合体Ａ５〕
重合体Ａ３を５質量部、重合体Ａ４を５質量部混合することで、重合体Ａ５を得た。

〔低分子化合物Ｂ１〕
メトキシ桂皮酸（３．５６ｇ、２０ｍｍｏｌ）、２−ヘキシル−１−デカノール（４．８ｇ、２０ｍｍｏｌ）、ジメチルアミノピリジン（０．２ｇ、２ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（以下、「ＴＨＦ」と略す）３０ｍｌに溶解させ、０℃で撹拌した。
上記ＴＨＦ溶液に対して、ジシクロヘキシルカルボジイミド（４．１２６ｇ、２０ｍｍｏｌ）を添加し、室温で６時間撹拌した。
次いで、ＴＨＦを留去した後、酢酸エチルを１５０ｍｌ加え、析出固体をフィルタろ過で除去した。酢酸エチル３０ｍｌで洗浄した後、ろ液に含まれる酢酸エチルを留去し、粗体８ｇを得た。粗体をシリカゲルカラム（ヘキサン／酢酸エチル＝３／１）にて単離精製し、下記式で表される低分子化合物Ｂ１を得た。

〔低分子化合物Ｂ２〕
下記式で表される低分子化合物Ｂ２（ノムコートＴＡＢ，日清オイリオ社製）を用いた。

〔架橋剤Ｃ１〕
下記式で表される架橋剤Ｃ１（デナコールＥＸ４１１，ナガセケムテックス社製）を用いた。

〔化合物Ｄ１〕
下記式で表される化合物Ｄ１（アルミキレートＡ（Ｗ），川研ファインケミカル社製）を用いた。

〔化合物Ｄ２〕
下記式で表される化合物Ｄ２（トリフェニルシラノール，東洋サイエンス社製）を用いた。

〔化合物Ｄ３〕
下記式で表される化合物Ｄ３（ＴＡ−６０Ｂ，サンアプロ社製）を用いた。

〔化合物Ｅ１〕
１００ｍＬのオートクレーブに、ノムコートＴＡＢ（日清オイリオ社製）１０質量部、酢酸ブチル２０質量部、パラジウム活性炭５質量部を仕込み、水素置換した後、わずかに加圧して、室温で６時間撹拌した。反応終了後、反応溶液をセライトろ過し、ろ液を３回水洗した。この溶液を濃縮し、クロマトグラフィー精製（シリカゲル、酢酸エチル/ヘキサン混合溶離液）を２回繰り返し、最終的に、下記式Ｅ１で表される光配向性基を有さないｐ−メトキシフェニルプロピオン酸２−エチルヘキシル（以下、「化合物Ｅ１」という。）を得た。

［実施例１〜９および比較例１〜２］
〔光配向膜用組成物の調製〕
酢酸ブチルに対して、下記表１に示す重合体Ａ、低分子化合物Ｂなどを下記表１に示す質量部で添加し、光配向膜用組成物を調製した。

〔光学異方性層形成用組成物の調製〕
下記組成（液晶１〜４）の光学異方性層用塗布液を調製した。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層用塗布液（液晶１）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記液晶性化合物Ｌ−１ ８０．００質量部
・下記液晶性化合物Ｌ−２ ２０．００質量部
・重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４、ＢＡＳＦ社製）
３．００質量部
・重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ−０１、ＢＡＳＦ社製）
３．００質量部
・レベリング剤（下記化合物Ｇ−１） ０．２０質量部
・メチルエチルケトン ４２４．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

なお、上記化合物Ｇ−１の構造中の数値は、質量％を表したものである。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層用塗布液（液晶２）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・下記液晶性化合物Ｌ−３ ４３．７５質量部
・下記液晶性化合物Ｌ−４ ４３．７５質量部
・下記重合性化合物Ａ−１ １２．５０質量部
・下記重合開始剤Ｓ−１（オキシム型） ３．００質量部
・レベリング剤（上記化合物Ｇ−１） ０．２０質量部
・ハイソルブＭＴＥＭ（東邦化学工業社製） ２．００質量部
・ＮＫエステルＡ−２００（新中村化学工業社製） １．００質量部
・メチルエチルケトン ４２４．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
なお、下記液晶性化合物Ｌ−３およびＬ−４のアクリロイルオキシ基に隣接する基は、プロピレン基（メチル基がエチレン基に置換した基）を表し、下記液晶性化合物Ｌ−３およびＬ−４は、メチル基の位置が異なる位置異性体の混合物を表す。

―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層用塗布液（液晶３）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記液晶性化合物Ｌ−３ ４２．００質量部
・上記液晶性化合物Ｌ−４ ４２．００質量部
・上記重合性化合物Ａ−１ １６．００質量部
・上記重合開始剤Ｓ−１（オキシム型） ０．５０質量部
・レベリング剤（上記化合物Ｇ−１） ０．２０質量部
・ハイソルブＭＴＥＭ（東邦化学工業社製） ２．００質量部
・ＮＫエステルＡ−２００（新中村化学工業社製） １．００質量部
・メチルエチルケトン ４２４．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

―――――――――――――――――――――――――――――――――
光学異方性層用塗布液（液晶４）
―――――――――――――――――――――――――――――――――
・上記液晶性化合物Ｌ−３ ３６．１０質量部
・上記液晶性化合物Ｌ−４ １８．９０質量部
・下記液晶性化合物Ｒ−１ ４５．００質量部
・下記重合性化合物Ａ−２ ０．５０質量部
・上記重合開始剤Ｓ−１（オキシム型） １．５０質量部
・レベリング剤（下記化合物Ｇ−２） ０．０３質量部
・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） １２．００質量部
・メチルエチルケトン ４２４．８質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――

液晶性化合物Ｒ-１は、下記液晶性化合物（ＲＡ）（ＲＢ）（ＲＣ）の８３：１５：２（質量比）の混合物である。

なお、上記化合物Ｇ−２の構造中の数値は、質量％を表したものである。

〔偏光子１の作製〕
特開２００１−１４１９２６号公報の実施例１に従い、延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させることにより、膜厚８μｍの偏光子１を作製した。

〔光学積層体の作製〕
作製した偏光子１の片側の面に、先に調製した各光配向膜用組成物をスピンコート法によって塗布した。
塗布後、８０℃のホットプレート上で５分間乾燥して溶媒を除去し、厚さ０．２μｍの光異性化組成物層を形成した。
得られた光異性化組成物層を偏光紫外線照射（２０ｍＪ／ｃｍ²、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向膜を形成した。
次いで、光配向膜上に、先に調製した液晶１または２（光学異方性層形成用組成物）をスピンコート法によって塗布し、組成物層を形成した。
形成した組成物層をホットプレート上でいったん９０℃まで加熱した後、６０℃に冷却させて配向を安定化させた。このとき、液晶２を用いた場合にはスメクチックＡ相で配向が安定した。
その後、６０℃に保ち、窒素雰囲気下（酸素濃度１００ｐｐｍ）で紫外線照射（５００ｍＪ／ｃｍ²、超高圧水銀ランプ使用）によって配向を固定化し、厚さ２．０μｍの光学異方性層Ａ１を形成し、光学積層体を作製した。

［実施例１０］
〔セルロース支持体１の作製〕
＜コア層セルロースアシレートドープの作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――
コア層セルロースアシレートドープ
―――――――――――――――――――――――――――――――――
アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート １００質量部
ポリエステルＡ １２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ４３０質量部
メタノール（第２溶媒） ６４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
なお、ポリエステルＡは、特開２０１５−２２７９５６号公報の［表１］に記載のポリエステルＡを使用した。

＜外層セルロースアシレートドープの作製＞
上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアシレートドープとして用いるセルロースアセテート溶液を調製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液
――――――――――――――――――――――――――――――――
平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製） ２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ７６質量部
メタノール（第２溶媒） １１質量部
コア層セルロースアシレートドープ １質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――

上記コア層セルロースアシレートドープと上記外層セルロースアシレートドープとを、平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、上記コア層セルロースアシレートドープとその両側に設けた外層セルロースアシレートドープとを、バンド流延機を用いて３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した。
次いで、溶媒含有率が約２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に延伸倍率１．１倍で延伸しつつ乾燥した。
その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、更に乾燥し、厚み２０μｍのセルロース支持体１を作製した。作製したセルロース支持体１におけるコア層の厚みは１５μｍであり、コア層の両側に配置された外層の厚みはそれぞれ２．５μｍであった。

〔光学積層体の作製〕
＜光学異方性層の形成＞
作製したセルロース支持体１の片側の面に、先に調製した光配向膜用組成物をスピンコート法によって塗布した。
塗布後、８０℃のホットプレート上で５分間乾燥して溶媒を除去し、厚さ０．５μｍの光異性化組成物層を形成した。
得られた光異性化組成物層を偏光紫外線照射（２０ｍＪ／ｃｍ²、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向膜を形成した。
次いで、光配向膜上に、先に調製した液晶２（光学異方性層形成用組成物）をスピンコート法によって塗布し、組成物層を形成した。
形成した組成物層をホットプレート上でいったん９０℃まで加熱した後、６０℃に冷却させて配向を安定化させた。このとき、スメクチックＡ相で配向が安定した。
その後、６０℃に保ち、窒素雰囲気下（酸素濃度１００ｐｐｍ）で紫外線照射（５００ｍＪ／ｃｍ²、超高圧水銀ランプ使用）によって配向を固定化し、厚さ２．０μｍの光学異方性層Ａ１０を形成した。

＜フィルムの鹸化＞
上記で作製した光学異方性層付きセルロース支持体１を３７℃に調温した４．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液（けん化液）に１分間浸漬した後、フィルムを水洗し、その後、０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸水溶液に３０秒浸漬した後、更に水洗浴を通した。そして、エアナイフによる水切りを３回繰り返し、水を落とした後に７０℃の乾燥ゾーンに１５秒間滞留させて乾燥し、鹸化処理したフィルムを作製した。

＜貼り合わせ＞
上記で作製した偏光子１と、上記鹸化処理したフィルムのセルロース支持体１側の表面とを、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１１７Ｈ、（株）クラレ製）３％水溶液を接着剤として用い、偏光軸とフィルムの長手方向とが直交するようにロールツーロールで貼り合わせて、光学積層体を作製した。

［実施例１１］
〔セルロース支持体２の作製〕
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、３０℃に加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液（内層用ドープＡおよび外層用ドープＢ）を調製した。

──────────────────────────────────
セルロースアシレート溶液組成（質量部） 内層 外層
──────────────────────────────────
酢化度６０．９％のセルロースアセテート １００ １００
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８ ７．８
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９ ３．９
メチレンクロライド（第１溶媒） ２９３ ３１４
メタノール（第２溶媒） ７１ ７６
１−ブタノール（第３溶媒） １．５ １．６
シリカ微粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）
０ ０．８
下記添加剤（Ｊ−１） １．７ ０
──────────────────────────────────

得られた内層用ドープＡおよび外層用ドープＢを、三層共流延ダイを用いて、０℃に冷却したドラム上に流延した。残留溶媒量が７０質量％のフィルムをドラムから剥ぎ取り、両端をピンテンターにて固定して搬送方向のドロー比を１１０％として搬送しながら８０℃で乾燥させ、残留溶媒量が１０％となったところで、１１０℃で乾燥させた。その後、１４０℃の温度で３０分乾燥し、残留溶媒が０．３質量％のセルロースアシレートフィルム（厚み８０μｍ（外層：３μｍ、内層：７４μｍ、外層：３μｍ））を製造した。作製したセルロースアシレートフィルムのＲｅ（５５０）は５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は９０ｎｍであった。

〔光学積層体の作製〕
＜樹脂層形成用組成物の調製＞
下記組成（樹脂層１）の樹脂層用塗布液を調製した。

――――――――――――――――――――――――――――――――――
樹脂層用塗布液（樹脂層１）
――――――――――――――――――――――――――――――――――
・トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート
（新中村化学工業（株）製、商品名「ＤＣＰ」、下記Ｈ−１）
７５．００質量部
・下記ペンタエリスリトールテトラアクリレート
（新中村化学工業（株）製、商品名「Ａ−ＴＭＭＴ」、下記Ｈ−２）
２５．００質量部
・上記重合開始剤Ｓ−１（オキシム型） １．５０質量部
・レベリング剤（下記化合物Ｇ−２） ０．１０質量部
・変性エタノール
（和光純薬（株）製、商品名「８６％エタノール−ＩＰ」）
４２４．８質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――

＜光学異方性層の形成＞
作製したセルロース支持体２の片側の面に、先に調製した樹脂層形成用組成物をダイコーターを用いて塗布した。１００℃で６０秒間乾燥した後、窒素雰囲気下（酸素濃度１００ｐｐｍ）で超高圧水銀ランプを用いて、照射量６０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ１．０μｍの樹脂層を形成した。
次いで、上記作製した樹脂層上に、先に調製した光配向膜用組成物をバーコーター法によって塗布し、１２５℃で５分間乾燥して溶媒を除去し、厚さ０．２μｍの光異性化組成物層を形成した。
得られた光異性化組成物層を偏光紫外線照射（２０ｍＪ／ｃｍ²、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向膜を形成した。
次いで、光配向膜上に、先に調製した液晶３（光学異方性層形成用組成物）をバーコーター法によって塗布し、組成物層を形成した。形成した組成物層をいったん１０５℃まで加熱した後、６０℃まで徐冷して配向を安定化させた。このとき、スメクチックＡ相で配向が安定した。
その後、６０℃に保ち、窒素雰囲気下（酸素濃度１００ｐｐｍ）で紫外線照射（５００ｍＪ／ｃｍ²、超高圧水銀ランプ使用）によって配向を固定化し、厚さ２．０μｍの光学異方性層Ａ１１を形成した。

＜転写＞
上記で作製した偏光子１と、上記作製したセルロース支持体２上に形成した光学異方性層Ａ１１とを、粘着剤ＳＫ−２０５７(綜研化学（株）製)を用いて貼り合わせた。次いで、セルロース支持体２を剥離することで、偏光子１と光学異方性層Ａ１１を含む光学積層体を作製した。

［実施例１２］
実施例１１と同様の方法で、セルロース支持体２上に剥離層、光配向膜、光学異方性層Ａ１２とをこの順に有する光学積層体を作製した。
実施例１１において、粘着剤の代わりに、アクリル系接着剤を用いて、偏光子と光学異方性層Ａ１２とを貼り合わせた以外は、実施例１１と同様の方法で、偏光子１と光学異方性層Ａ１２を含む光学積層体を作製した。

＜吸収比＞
トリアセチルセルロースフィルム上に、光学積層体と同様の方法で光配向膜を形成した。
次いで、光配向膜上に、光学異方性層形成用組成物の塗布を模擬してメチルエチルケトンをスピンコート法によって塗布し、乾燥させ、積層体サンプルを作製した。
グラントムソン偏光子を備えた紫外可視近赤外分光光度計（日本分光社製Ｖ−７２００）を用いて、直線偏光の測定光を入射させ、作製した積層体サンプルの波長２９０ｎｍにおける吸光度を測定した。測定した値からトリアセチルセルロースフィルムの吸光度を差し引いて、光配向膜単独の吸光度を求めた。
光配向膜作製時に照射した偏光紫外線の偏光方向と平行方向の吸光度をＡｐ、直交方向の吸光度をＡｃとして、吸収比（Ａｃ／Ａｐ）を求めた。結果を下記表１に示す。なお、吸収比が高いほど配向度が高いことを示す。

＜配向性＞
作製した光学積層体について、偏光顕微鏡を用いて消光位から２度ずらした状態で観察した。その結果、以下の基準で評価した。結果を下記表１に示す。
ＡＡＡ：液晶ダイレクタがキメ細かく整って配向し、表示性能が非常に優れる
ＡＡ：液晶ダイレクタが均一に整って配向し、表示性能が優れる
Ａ：液晶ダイレクタの乱れがなく、面状が安定している
Ｂ：液晶ダイレクタの乱れがごくわずかであり、面状が安定している
Ｃ：液晶ダイレクタの乱れが部分的であり、面状が安定している
Ｄ：液晶ダイレクタが大幅に乱れて面状が安定せず、表示性能が非常に劣る
なお、本願明細書において、安定した面状とは、クロスニコル配置した2枚の偏光板の間に光学積層体を設置して観察した際にムラや配向不良等の欠陥がない状態を意図する。
また、本願明細書において、液晶ダイレクタとは液晶性分子の長軸が配向している方向（配向主軸）のベクトルを意図する。

表１に示す結果から、重合体Ａのみを配合し、低分子化合物Ｂを配合せずに調製した場合は、配向性が劣ることが分かった（比較例１および２）。
これに対し、重合体Ａおよび低分子化合物Ｂをいずれも配合して調製した場合は、配向性が良好となることが分かった（実施例１〜１２）。
特に、実施例１〜４の対比から、低分子化合物Ｂの含有量は、重合体Ａの構成単位ａ１の質量に対して３０〜３００質量％であると、配向性がより良好となることが分かった。
また、実施例７および８の対比から、光学異方性層がスメクチック性を示す液晶性化合物で形成されている場合は、配向性が更に良好となることが分かった。
また、実施例９と実施例１０との対比から、光配向膜の光学異方性層側と反対側の表面が、偏光子と隣接する場合であってもポリマーフィルムと隣接する場合であっても、いずれも良好な配向性を実現できることが分かった。
更に、実施例９〜１２の対比から、光学異方性層の表面が粘着剤または接着剤を介して偏光子と隣接する場合であっても、良好な配向性を実現できることが分かった。

実施例９および１０の光学積層体の光学異方性層Ａ９およびＡ１０は面内に配向しており、Ｒｅ（５５０）＝１４５ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．８６の光学性能を有することを確認した。また、偏光子１の吸収軸は、光学異方性層Ａ９およびＡ１０の面内遅相軸と直交していた。

［実施例１３］
〔光学積層体の作製〕
＜光学異方性層Ｂ１３の形成＞
上記で作製した実施例９の光学積層体の光学異方性層Ａ９上に、先に調製した液晶４（光学異方性層形成用組成物）をバーコーター法によって塗布し、組成物層を形成した。形成した組成物層を７０℃で５０秒加熱した。このとき、液晶性分子が膜面に対して垂直に配向していた。
その後、６０℃で窒素雰囲気下（酸素濃度１００ｐｐｍ）で紫外線照射（５００ｍＪ／ｃｍ²、超高圧水銀ランプ使用）によって配向を固定化し、厚さ１．３μｍの光学異方性層Ｂ１３を形成した。

上記で作製した光学異方性層Ｂ１３は膜面に対して垂直に配向しており、Ｒｔｈ（５５０）＝−１０３ｎｍ、Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）＝０．９５の光学性能を有することを確認した。

［実施例１４］
〔光学積層体の作製〕
＜光学異方性層Ｂ１４の形成＞
実施例１３において、実施例９の光学積層体の代わりに、実施例１０の光学積層体を使用した以外は、実施例１３と同様の方法で、光学異方性層Ａ１０上に光学異方性層Ｂ１４を形成した。

上記で作製した光学異方性層Ｂ１４は膜面に対して垂直に配向しており、Ｒｔｈ（５５０）＝−１０３ｎｍ、Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）＝０．９５の光学性能を有することを確認した。

［実施例１５］
〔光学積層体の作製〕
＜光学異方性層Ｂ１５の形成＞
作製したセルロース支持体２の片側の面に、先に調製した樹脂層形成用組成物をダイコーターを用いて塗布した。１００℃で６０秒乾燥した後、窒素雰囲気下（酸素濃度１００ｐｐｍ）で超高圧水銀ランプを用いて、照射量６０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ１．０μｍの樹脂層を形成した。
次いで、上記作製した樹脂層上に、先に調製した液晶４（光学異方性層形成用組成物）をバーコーター法によって塗布し、組成物層を形成した。形成した組成物層を７０℃で５０秒加熱した。このとき、液晶性分子が膜面に対して垂直に配向していた。
その後、６０℃で酸素濃度３％の雰囲気下にて、紫外線照射（２００ｍＪ／ｃｍ²、超高圧水銀ランプ使用）によって配向を固定化し、厚さ１．３μｍの光学異方性層Ｂ１５を形成した。

上記で作製した光学異方性層Ｂ１５は膜面に対して垂直に配向しており、Ｒｔｈ（５５０）＝−１０３ｎｍ、Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）＝０．９５の光学性能を有することを確認した。

＜光学異方性層Ａ１５の形成＞
次いで、光学異方性層Ｂ１５上に、先に調製した光配向膜用組成物をバーコーター法によって塗布し、１２５℃で５分間乾燥して溶媒を除去し、厚さ０．２μｍの光異性化組成物層を形成した。
得られた光異性化組成物層を偏光紫外線照射（２０ｍＪ／ｃｍ²、超高圧水銀ランプ使用）することで、光配向膜を形成した。
次いで、光配向膜上に、先に調製した液晶３（光学異方性層形成用組成物）をバーコーター法によって塗布し、組成物層を形成した。形成した組成物層をいったん１０５℃まで加熱した後、６０℃まで徐冷して配向を安定化させた。このとき、スメクチックＡ相で配向が安定した。
その後、６０℃に保ち、窒素雰囲気下（酸素濃度１００ｐｐｍ）で紫外線照射（５００ｍＪ／ｃｍ²、超高圧水銀ランプ使用）によって配向を固定化し、厚さ２．０μｍの光学異方性層Ａ１５を形成した。

光学異方性層Ａ１５は面内に配向しており、Ｒｅ（５５０）＝１４５ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．８６の光学性能を有することを確認した。

＜転写＞
上記で作製した偏光子１と、上記作製したセルロース支持体２上に形成した光学異方性層Ａ１５とを、粘着剤ＳＫ−２０５７(綜研化学（株）製)を用いて貼り合わせた。このとき、偏光子１の吸収軸が、光学異方性層Ａ１５の面内遅相軸と直交するように貼り合わせた。
次いで、セルロース支持体２を剥離することで、偏光子１と光学異方性層Ａ１５および光学異方性層Ｂ１５を含む光学積層体を作製した。

［実施例１６］
〔光学積層体の作製〕
＜光学異方性層Ａ１６およびＢ１６の形成＞
実施例１５と同様の方法で、セルロース支持体２上に剥離層、光学異方性層Ｂ１６、光配向膜、光学異方性層Ａ１６とをこの順に有する光学積層体を作製した。

上記で作製した光学異方性層Ｂ１６は膜面に対して垂直に配向しており、Ｒｔｈ（５５０）＝−１０３ｎｍ、Ｒｔｈ（４５０）／Ｒｔｈ（５５０）＝０．９５の光学性能を有することを確認した。また、光学異方性層Ａ１６は面内に配向しており、Ｒｅ（５５０）＝１４５ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．８６の光学性能を有することを確認した。

＜転写＞
実施例１５において、粘着剤の代わりに、アクリル系接着剤を用いて、偏光子と光学異方性層Ａ１６とを貼り合わせた以外は、実施例１５と同様の方法で、偏光子１と光学異方性層Ａ１６および光学異方性層Ｂ１６を含む光学積層体を作製した。

〔液晶表示装置への実装および表示性能の評価〕
＜液晶表示装置への実装＞
ＩＰＳモードの液晶表示装置であるｉＰａｄ（登録商標）（ＡＰＰＬＥ社製）を分解し、液晶セルからフロント偏光板を剥離した。次いで、上記作製した実施例１３〜１６の光学積層体を準備し、粘着剤ＳＫ−２０５７(綜研化学（株）製)を用いて、液晶セルのフロント側に貼合し、液晶表示装置を作製した。このとき、実施例１３〜１６の光学積層体の偏光子の吸収軸がリア偏光板の吸収軸と直交し、かつ、偏光子よりも光学異方性層が液晶セル側に配置されるように実装した。

＜液晶表示装置の評価＞
実施例１３〜１６の光学積層体を実装した液晶表示装置は、正面ＣＲが製品同等に高く、視野角ＣＲは製品よりも高いことを確認した。更に、黒表示時の斜めから視認した際の色変化が小さく、液晶表示装置として優れた特性を有していた。

１ 光配向膜
２ 光学異方性層
２ａ 第１の光学異方性層
２ｂ 第２の光学異方性層
３ 支持体
３ａ 偏光子
３ｂ ポリマーフィルム
３ｃ 仮支持体
４ 樹脂層
５ 接着剤層または粘着剤層
６ 他の光学異方性層
１０，２０，３０，４０，５０，６０，７０ 光学積層体

Claims (17)

1. シンナメート基を含む構成単位ａ１を有する重合体Ａと、
   シンナメート基を有し、前記重合体Ａよりも分子量が小さい低分子化合物Ｂと、を含有する、光配向膜用組成物。
2. 前記低分子化合物Ｂの分子量が、２００〜５００である、請求項１に記載の光配向膜用組成物。
3. 前記低分子化合物Ｂの含有量が、前記重合体Ａの前記構成単位ａ１の質量に対して１０〜５００質量％である、請求項１または２に記載の光配向膜用組成物。
4. 前記低分子化合物Ｂが、下記式（Ｂ１）で表される化合物である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光配向膜用組成物。
   ここで、前記式（Ｂ１）中、ａは０〜５の整数を表し、Ｒ¹は、水素原子または１価の有機基を表し、Ｒ²は、１価の有機基を表す。ａが２以上の場合、複数のＲ¹は、それぞれ同一であっても異なっていてもよい。
5. 前記重合体Ａが、更に、架橋性基を含む構成単位ａ２を有する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光配向膜用組成物。
6. 更に、架橋性基を有する架橋剤Ｃを含有する、請求項１〜５のいずれか１項に記載の光配向膜用組成物。
7. 請求項１〜６のいずれか１項に記載の光配向膜用組成物を用いて作製し、
   前記光配向膜用組成物に含まれる重合体Ａおよび低分子化合物Ｂのシンナメート基が二量化したシクロブタン環、および、前記シンナメート基が異性化した構造からなる群から選択される少なくとも１種を有する、光配向膜。
8. 請求項７に記載の光配向膜と、前記光配向膜上に設けられ、液晶性化合物を含有する光学異方性層とを有する、光学積層体。
9. 支持体と、前記光配向膜と、前記光学異方性層とをこの順に有する、請求項８に記載の光学積層体。
10. 前記支持体のガラス転移温度が、１００℃以下である、請求項９に記載の光学積層体。
11. 前記支持体が、偏光子である、請求項９または１０に記載の光学積層体。
12. 前記支持体と前記光配向膜の間に、更に樹脂層を有し、
    前記樹脂層が下記式（Ｘ）で表される部分構造を有する化合物を含有する、請求項９に記載の光学積層体。
    
13. 前記樹脂層と前記光配向膜の間に、前記光学異方性層とは異なる他の光学異方性層を有する、請求項１２に記載の光学積層体。
14. 前記他の光学異方性層が液晶性化合物を含有する、請求項１３に記載の光学積層体。
15. 請求項９および請求項１２〜１４のいずれか１項に記載の光学積層体を偏光子に積層し、その後、前記光学積層体中の支持体を剥離することで作製される、前記光学異方性層と前記偏光子とが積層された光学積層体。
16. 請求項８〜１５のいずれか１項に記載の光学積層体を有する、画像表示装置。
17. 偏光子と、接着剤層または粘着剤層と、光学異方性層と、光配向膜と、接着剤層または粘着剤層と、表示素子とをこの順に有し、前記光配向膜と前記表示素子との間に支持体を有していない、請求項１６に記載の画像表示装置。