JPWO2017068942A1 - 透明導電膜、透明導電膜の製造方法およびタッチセンサ - Google Patents

Abstract

導電パターン部が形成された支持体を重ね合わせても導電パターン部が損傷を受けることを防止することができる透明導電膜を提供する。複数の導電パターン部２は、支持体１を挟んで支持体１の表面１Ａと裏面１Ｂの互いに重なる位置に配置され、支持体１の幅方向ＤＷにおいて、導電パターン部２とは異なる位置で支持体１の搬送方向に沿って犠牲パターン部３が形成され、犠牲パターン部３は、支持体１の表面１Ａ上に形成された導電パターン部２の厚さと支持体１の裏面１Ｂ上に形成された導電パターン部２の厚さの和よりも大きな厚さを有している。

Description

この発明は、透明導電膜に係り、特に、金属細線からなる電極を含む導電パターン部が支持体の面上に形成された透明導電膜に関する。
また、この発明は、透明導電膜の製造方法および透明導電膜を用いたタッチセンサにも関している。

携帯情報機器を始めとした各種の電子機器において、液晶表示装置等の表示装置と組み合わせて用いられ、画面に接触または近接することにより電子機器への入力操作を行うタッチセンサの普及が進んでいる。
例えば、特許文献１には、透明フィルムからなる支持体の表面と裏面にストライプ状の金属配線が互いに直交するように形成された透明導電膜を用いる静電容量型のタッチセンサが開示されている。このような透明導電膜は、生産性を向上するために、ロール形態で製造することが好ましく、特許文献１にも、ロールトゥロール方式による製造方法が記載されている。

すなわち、送り出しロールから送り出された長尺の支持体を搬送しながら、支持体の表面および裏面にそれぞれ金属配線を形成した後、支持体が巻き取りロールに巻き取られる。このとき、図１５に示されるように、搬送方向ＤＴに搬送される支持体４１の両面上にそれぞれ金属配線からなる複数の導電パターン部４２が形成され、複数の導電パターン部４２が互いに離れるように支持体４１を切断することによって、複数の透明導電膜が製造される。

特開２０１４−１０６１４号公報

しかしながら、両面上にそれぞれ導電パターン部４２が形成された支持体４１をロール状に巻き取ると、図１６に示されるように、上下に重なる導電パターン部４２が互いに接触することとなる。なお、図１６は、搬送方向ＤＴに直交する支持体４１の幅方向ＤＷに沿った断面を示している。
また、支持体４１の両面上に形成された導電パターン部４２は、ロールトゥロール方式により支持体４１を搬送する際に搬送ローラの表面との接触が避けられない。

このように、それぞれの導電パターン部４２は他の導電パターン部４２および搬送ローラ等と接触するため、支持体４１の巻きズレ、スリップ等に起因して、導電パターン部４２の表面に擦れが生じることがある。導電パターン部４２の表面が擦れると、導電パターン部４２の表面が傷ついたり、変形する等の損傷を受け、その結果、透明導電膜をタッチセンサとしてモジュールに組み込んだときに、局所的にギラついて見える視認性故障を起こすおそれがあった。このような視認性故障は透明導電膜の得率を落とす原因となるため、解決策が望まれていた。
また、視認性故障の問題は、ロールトゥロール方式に限られるものではなく。例えばシート状の複数の支持体にそれぞれ導電パターン部を形成する場合であっても、両面上にそれぞれ導電パターン部が形成された支持体を重ね合わせて載置したときに、上下に重なる導電パターン部が互いに接触して視認性故障を起こすおそれがある。

この発明は、このような従来の問題点を解消するためになされたもので、導電パターン部が形成された支持体を重ね合わせても導電パターン部が損傷を受けることを防止することができる透明導電膜を提供することを目的とする。
また、この発明は、このような透明導電膜の製造方法および透明導電膜を用いたタッチセンサを提供することも目的としている。

この発明に係る透明導電膜は、透明な支持体と、支持体の一方の面上または両面上に形成され且つ金属細線からなる電極を含む導電パターン部と、導電パターン部が形成される位置の支持体の両面の領域以外の領域で且つ支持体の一方の面上または両面上に形成される犠牲パターン部とを備え、支持体の両面上における犠牲パターン部の厚さの和が、支持体の両面上における導電パターン部の厚さの和よりも大きいものである。
ここで、「支持体の両面上における犠牲パターン部の厚さの和」とは、支持体の一方の面上のみに犠牲パターン部が形成される場合に、他方の面上における犠牲パターン部の厚さが０であるとみなして、一方の面上に形成されている犠牲パターン部の厚さを意味するものとする。同様に、「支持体の両面上における導電パターン部の厚さの和」とは、支持体の一方の面上のみに導電パターン部が形成される場合に、他方の面上における導電パターン部の厚さが０であるとみなして、一方の面上に形成されている導電パターン部の厚さを意味するものとする。

導電パターン部は、支持体の一方の面上に形成され、犠牲パターン部は、導電パターン部が形成される支持体の面と同じ面上または導電パターン部が形成される支持体の面とは反対側の面上または支持体の両面上に形成されるように構成することができる。
あるいは、導電パターン部は、支持体の両面上に形成され、犠牲パターン部は、支持体の両面のうちいずれか一方の面上または支持体の両面上に形成されるように構成してもよい。

支持体は、長尺なフィルム形状を有し且つロール搬送され、複数の導電パターン部が、支持体の搬送方向に沿い、かつ支持体の搬送方向に対して直交する支持体の幅方向の予め設定された位置に配列され、犠牲パターン部は、支持体の搬送方向に沿い、かつ支持体の幅方向において複数の導電パターン部とは異なる位置の支持体の両面のうちいずれか一方の面上または支持体の両面上に形成されることができる。
また、支持体は、長尺なフィルム形状を有し且つロール搬送され、複数の導電パターン部が、支持体の搬送方向に沿い、かつ支持体の搬送方向に対して直交する支持体の幅方向の予め設定された位置に配列され、犠牲パターン部は、支持体の搬送方向に沿い、かつ支持体の幅方向において複数の導電パターン部と同じ位置の支持体の両面のうちいずれか一方の面上に形成されることもできる。

支持体の幅方向において複数の導電パターン部の両側にそれぞれ犠牲パターン部が形成されていることが好ましい。
支持体の搬送方向に沿って配列された複数の導電パターン部に対応して複数の犠牲パターン部が支持体の搬送方向に配列形成されていてもよく、あるいは、支持体の搬送方向に沿って配列された複数の導電パターン部にわたって連続する犠牲パターン部が支持体の搬送方向に形成されていてもよい。

支持体の両面上で且つ支持体の幅方向における互いに同一の位置にそれぞれ犠牲パターン部が形成され、支持体の両面上に形成された犠牲パターン部の少なくとも一方は、支持体とは反対方向を向いた凹凸面を有することが好ましい。支持体の両面上に形成された犠牲パターン部は、それぞれ、支持体とは反対方向を向いた凹凸面を有していてもよい。
好ましくは、支持体の両面上における犠牲パターン部の厚さの和は、支持体の両面上における導電パターン部の厚さの和よりも０．１μｍ以上大きい。
犠牲パターン部は、少なくとも１つの導電パターン部と電気的に接続されていてもよい。
導電パターン部および犠牲パターン部は、金、銀、銅、ニッケル、パラジウム、白金、鉛、錫、クロムのうち、少なくとも１種の金属を含む同一の導電性材料から構成されることが好ましい。

この発明に係る透明導電膜の製造方法は、透明な支持体の一方の面上または両面上に金属細線からなる導電部を含む導電パターン部を形成する第１工程と、導電パターン部が形成される位置の支持体の両面の領域以外の領域で且つ支持体の一方の面上または両面上に犠牲パターン部を形成する第２工程とを備え、支持体の両面上における犠牲パターン部の厚さの和を、支持体の両面上における導電パターン部の厚さの和よりも大きくする方法である。

支持体は、長尺なフィルム形状を有し、支持体をロール搬送しつつ導電パターン部および犠牲パターン部をそれぞれ支持体の一方の面上または両面上に形成することが好ましい。
第１工程および第２工程を同時に実行することもできる。
第１工程および第２工程は、支持体の一方の面上または両面上に銀塩乳剤層を形成する第３工程と、銀塩乳剤層を露光および現像して金属銀からなる導電パターン部および犠牲パターン部を形成する第４工程とを含んでいてもよい。
第４工程において、犠牲パターン部に対する露光量を導電パターン部に対する露光量よりも大きくすることにより、支持体の両面上における犠牲パターン部の合計厚さを、支持体の両面上における導電パターン部の厚さの和よりも大きくすることができる。

この発明に係るタッチセンサは、透明なビューエリアを有するタッチセンサであって、導電パターン部および犠牲パターン部が、金、銀、銅、ニッケル、パラジウム、白金、鉛、錫、クロムのうち、少なくとも１種の金属を含む同一の導電性材料から構成される上記の透明導電膜を備え、導電パターン部がビューエリア内に配置され且つ犠牲パターン部がビューエリア外に配置されるものである。
犠牲パターン部は、導電パターン部に電気的に接続された周辺配線を含むことができる。

この発明によれば、支持体の両面上における犠牲パターン部の厚さの和が、支持体の両面上における導電パターン部の厚さの和よりも大きいので、導電パターン部が形成された支持体を重ね合わせても導電パターン部が損傷を受けることを防止することが可能となる。

この発明の実施の形態１に係る透明導電膜の構成を示す斜視図である。 実施の形態１に係る透明導電膜を示す断面図である。 図２の部分拡大図である。 タッチセンサの構成を示す平面図である。 電極のメッシュパターンを示す平面図である。 実施の形態１に係る透明導電膜を重ね合わせた状態を示す断面図である。 実施の形態１に係る透明導電膜の製造方法を示す図である。 実施の形態１の透明導電膜を示す平面図である。 犠牲パターン部の形成可能な領域を示し、（Ａ）はタッチパネルを構成したときの支持体の表面側の平面図、（Ｂ）はタッチパネルを構成したときの支持体の裏面側の平面図である。 実施の形態２に係る透明導電膜を示す断面図である。 実施の形態２に係る透明導電膜を重ね合わせた状態を示す断面図である。 実施の形態３に係る透明導電膜を示す部分拡大断面図である。 実施の形態３に係る透明導電膜を重ね合わせた状態を示す部分拡大断面図である。 実施の形態４に係る透明導電膜を示す斜視図である。 従来の透明導電膜の構成を示す斜視図である。 従来の透明導電膜を重ね合わせた状態を示す断面図である。 透明導電膜の例を示す平面図である。

以下、この発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明する。
実施の形態１
図１に、この発明の実施の形態１に係る透明導電膜の構成を示す。この透明導電膜は、複数のタッチセンサを形成するためのもので、透明な支持体１と、支持体１の表面１Ａ上および裏面１Ｂ上にそれぞれ形成された導電性材料からなる複数の導電パターン部２と、支持体１の表面１Ａ上にのみ形成された犠牲パターン部３とを有している。なお、犠牲パターン部３が形成される支持体１の表面１Ａは、タッチセンサを形成したときに、視認側に配置されるものとする。

支持体１は、長尺なフィルム形状で且つ可撓性を有する絶縁性材料からなり、搬送方向ＤＴに沿ってロール搬送可能に構成されている。
複数の導電パターン部２は、支持体１の搬送方向ＤＴに直交する幅方向ＤＷにおいて、予め設定された２箇所の位置にそれぞれ列を形成しつつ搬送方向ＤＴに沿って配列されている。図２に示されるように、複数の導電パターン部２は、支持体１を挟んで支持体１の表面１Ａと裏面１Ｂの互いに重なる位置に配置されており、互いに重なる一対の導電パターン部２と、これら一対の導電パターン部２の間に位置する部分の支持体１により、１つのタッチセンサが形成されることとなる。

犠牲パターン部３は、支持体１の幅方向ＤＷにおいて、導電パターン部２とは異なる位置で支持体１の搬送方向ＤＴに沿って形成されている。具体的には、図２に示されるように、支持体１の表面１Ａ上において、２列に配列された導電パターン部２に対して支持体１の幅方向ＤＷの両側と、２列に配列された導電パターン部２の間の３箇所にそれぞれ犠牲パターン部３が形成されている。犠牲パターン部３の形成については上述に限定されず、支持体１の幅方向ＤＷの少なくとも両端において支持体１の搬送方向ＤＴに沿って形成されていれば良く、好ましくは導電パターン部２の間を含む３列以上に形成されている。
また、犠牲パターン部３は導電パターン部２の幅方向ＤＷの少なくとも両側において、支持体１の搬送方向ＤＴに形成されていても良い。また、導電パターン部２が２列以上に配列された場合には、少なくとも導電パターン部２の外側に犠牲パターン部３が形成されていれば良く、導電パターン部２の間には犠牲パターン部３が形成されていなくても良い。
それぞれの犠牲パターン部３は、導電パターン部２から支持体１の幅方向ＤＷに間隔を隔てて配置され、複数の導電パターン部２にわたるように、支持体１の搬送方向ＤＴに連続して形成されている。なお、犠牲パターン部３は、支持体１の幅方向ＤＷに対して少なくとも一部に犠牲パターン部３が存在していれば、犠牲パターン部３は支持体１の搬送方向ＤＴに沿って電気的に切断されていても良い。
なお、より好ましくは、図１７（Ａ）に示すように、犠牲パターン部３は少なくとも導電パターン部２が存在するいずれの幅方向ＤＷにおいても導電パターン部２の両側に形成されていることが好ましく、さらに好ましくは、図１７（Ｂ）に示すように、複数の導電パターン部２が連続的に形成されている範囲のいずれの幅方向ＤＷにおいても犠牲パターン部３が形成されていることが好ましい。さらには電気的に接続されていることが望ましい。

図３に示されるように、これらの犠牲パターン部３は、支持体１の表面１Ａ上に形成された導電パターン部２の厚さＴ２と支持体１の裏面１Ｂ上に形成された導電パターン部２の厚さＴ３の和（Ｔ２＋Ｔ３）よりも大きな厚さＴ１を有している。犠牲パターン部３の厚さＴ１は、導電パターン部２の厚さＴ２およびＴ３の和（Ｔ２＋Ｔ３）よりも０．１μｍ以上大きい値を有することが好ましい。

支持体１は、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル類、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン、エチレンビニルアセテート（ＥＶＡ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）等のポリオレフィン類、ビニル系樹脂、その他、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）から構成することができる。なお、支持体１は、光透過性、熱収縮性および加工性などの観点から、ポリエチレンテレフタレートから構成することが好ましい。

導電パターン部２は、タッチセンサを構成したときに、タッチセンサの透明なビューエリア内に配置されるもので、金属細線からなる電極を含んでいる。
ここで、１つのタッチセンサの一例を図４に示す、中央に透明なビューエリアＳ１が区画され、かつビューエリアＳ１の外側に周辺領域Ｓ２が区画されている。
支持体１の表面１Ａ上には、ビューエリアＳ１内に、それぞれ第１の方向Ｄ１に沿って延び且つ第１の方向Ｄ１に直交する第２の方向Ｄ２に並列配置された複数の第１電極１１が形成され、周辺領域Ｓ２に、複数の第１電極１１に接続された複数の第１周辺配線１２が互いに近接して配列されている。
同様に、支持体１の裏面１Ｂ上には、ビューエリアＳ１内に、それぞれ第２の方向Ｄ２に沿って延び且つ第１の方向Ｄ１に並列配置された複数の第２電極１３が形成され、周辺領域Ｓ２に、複数の第２電極１３に接続された複数の第２周辺配線１４が互いに近接して配列されている。

支持体１の表面１Ａ上の複数の第１電極１１および支持体１の裏面１Ｂ上の複数の第２電極１３により、タッチセンサの検出電極が構成されるが、図５に示されるように、第１電極１１は金属細線１１Ａからなるメッシュパターンにより形成され、第２電極１３も金属細線１３Ａからなるメッシュパターンにより形成されている。

導電パターン部２は、このようなタッチセンサのビューエリアＳ１内に配置される複数の第１電極１１および複数の第２電極１３から構成されている。
図４には示されていないが、犠牲パターン部３は、ビューエリアＳ１の外側領域に形成されている。犠牲パターン部３は、支持体１の表面１Ａ上において、第１周辺配線１２と干渉しない位置に配置されていてもよく、あるいは、第１周辺配線１２を含むように形成することもできる。すなわち、第１周辺配線１２の少なくとも一部が厚さＴ１を有する犠牲パターン部３を兼ねていてもよい。また、第１周辺配線１２のみで犠牲パターン部３を構成することもできる。

導電パターン部２を構成する第１電極１１および第２電極１３は、例えば、金、銀、銅、ニッケル、パラジウム、白金、鉛、錫、クロムのうち、少なくとも１種の金属を含む材料から構成することができる。
第１電極１１の金属細線１１Ａおよび第２電極１３の金属細線１３Ａの厚みは、特に限定されないが、０．０１μｍ〜２００μｍが好ましく、３０μｍ以下であることがより好ましく、２０μｍ以下であることがさらに好ましく、０．０１〜９μｍであることが特に好ましく、０．０５〜５μｍであることが最も好ましい。上述の範囲であれば、低抵抗で且つ耐久性に優れた電極を比較的容易に形成することができる。

第１周辺配線１２および第２周辺配線１４も、第１電極１１および第２電極１３と同一の導電性材料から形成することが好ましい。
また、犠牲パターン部３を第１周辺配線１２と干渉しない位置に配置する場合も、犠牲パターン部３は、導電パターン部２を構成する第１電極１１および第２電極１３と同一の導電性材料、すなわち、金、銀、銅、ニッケル、パラジウム、白金、鉛、錫、クロムのうち、少なくとも１種の金属を含む材料から形成することが好ましい。

このような導電パターン部２および犠牲パターン部３が形成されている支持体１を、例えばロール形態とすることにより、図６に示されるように、支持体１が複数の層を形成して重なったときに、支持体１の表面１Ａ上に形成されている犠牲パターン部３が直上に位置する支持体１の裏面１Ｂに接触することによって、互いに重なる支持体１の間に犠牲パターン部３の厚さＴ１に相当する間隔が形成される。

上述したように、犠牲パターン部３の厚さＴ１は、支持体１の表面１Ａ上の導電パターン部２の厚さＴ２と支持体１の裏面１Ｂ上の導電パターン部２の厚さＴ３の和（Ｔ２＋Ｔ３）よりも大きな値を有しているので、互いに対向する下側の層の支持体１の表面１Ａ上に位置する導電パターン部２と上側の層の支持体１の裏面１Ｂ上に位置する導電パターン部２は、互いに接触することなく、隙間を介して対向する。
このため、互いに対向する導電パターン部２が擦れて、導電パターン部２の表面に傷がついたり、平滑化等の変形を引き起こすことが防止される。従って、透明導電膜をタッチセンサとしてモジュールに組み込んだときに、局所的にキラついて見える視認性故障の発生を回避することができる。

なお、支持体１は可撓性を有する絶縁性材料から形成されているため、支持体１をロール形態としたときに、支持体１が撓んで互いに対向する導電パターン部２が接触するおそれはあるが、下側の層の支持体１の表面１Ａと上側の層の支持体１の裏面１Ｂは犠牲パターン部３により支持されているので、互いに接触する導電パターン部２に大きな力が作用することはなく、表面が傷ついたり、変形する等の損傷を受けることはない。
また、支持体１をロール形態とせずに、両面上にそれぞれ導電パターン部２が形成されたシート状の支持体１を重ね合わせて載置した場合であっても、同様に、導電パターン部２の損傷が防止される。

次に、透明導電膜の製造方法について説明する。図７に示されるように、送り出しロール２１から送り出された長尺の支持体１が、搬送ローラ２２により搬送方向ＤＴにロール搬送されて、導電層形成部２３に到達し、導電層形成部２３にて支持体１の表面１Ａおよび裏面１Ｂ上にそれぞれ導電パターン部２が形成され、かつ支持体１の表面１Ａ上に犠牲パターン部３が形成される。
導電層形成部２３にて導電パターン部２および犠牲パターン部３が形成された支持体１は、さらに搬送ローラ２２を介して巻き取りロール２４に巻き取られる。

導電層形成部２３は、例えば、支持体１の表面１Ａおよび裏面１Ｂ上に銀塩乳剤層を形成し、この銀塩乳剤層を露光および現像して金属銀からなる導電パターン部２および犠牲パターン部３を形成することができる。
具体的には、導電層形成部２３は、支持体１の表面１Ａおよび裏面１Ｂ上に感光性ハロゲン化銀塩を含有する銀塩乳剤層を塗布し、導電パターン部２および犠牲パターン部３を形成するためのフォトマスクを介して、支持体１に塗布された銀塩乳剤層の露光を行う。

露光は、例えば、図８に示すように、支持体１の表面１Ａ上に２列に形成される導電パターン部２のうち、６つの導電パターン部２を含む領域を１ショットとして、支持体１の搬送方向ＤＴに順次繰り返し行われる。続いて、露光された銀塩乳剤層に現像処理を施すことにより、非露光部分の銀塩乳剤が除去され、かつ露光部分では金属銀からなる導電パターン部２が形成される。
犠牲パターン部３に対しても、同様にして、露光した後、露光された銀塩乳剤層に現像処理を施すことにより、非露光部分の銀塩乳剤が除去され、かつ露光部分では金属銀からなる犠牲パターン部３が形成される。このとき、犠牲パターン部３に対する露光量を導電パターン部２に対する露光量よりも大きくすることにより、犠牲パターン部３を、支持体１の両面における導電パターン部２の厚さの和（Ｔ２＋Ｔ３）よりも大きい値Ｔ１とすることができる。

なお、導電パターン部２の形成工程と犠牲パターン部３の形成工程を同時に実行することが可能である。
ここで、導電パターン部２および犠牲パターン部３は、例えば、特開２０１１−１２９５０１号公報、特開２０１３−１４９２３６号公報、特開２０１４−１１２５１２号公報等に開示されている方法を用いて形成することができる。

このようにして導電層形成部２３にて導電パターン部２および犠牲パターン部３が形成された支持体１は、搬送ローラ２２を介して巻き取りロール２４へと搬送され、巻き取りロール２４に巻き取られる。
このとき、支持体１の表面１Ａ上に厚さＴ１の犠牲パターン部３が形成されているので、支持体１の巻きズレ、スリップ等に起因して導電パターン部２の表面が傷ついたり、変形する等の損傷を受けることが防止される。

また、ロールトゥロール方式ではなく、シート状の支持体１の表面１Ａ上に導電パターン部２および犠牲パターン部３を形成し、かつ支持体１の裏面１Ｂ上に導電パターン部２を形成することにより、同様にして、枚葉で透明導電膜を製造することもでき、この場合も、支持体１の両面上に配置される導電パターン部２の損傷を防止することができる。

上記の実施の形態１では、犠牲パターン部３は、支持体１の幅方向ＤＷにおいて、導電パターン部２とは異なる位置の支持体１の表面１Ａ上に形成されたが、これに限るものではなく、犠牲パターン部３を、導電パターン部２が形成される位置の支持体１の両面の領域以外の領域に形成することができる。
図９（Ａ）に示されるように、支持体１の表面１Ａ上で且つ支持体１の幅方向ＤＷにおいて導電パターン部２とは異なる位置の領域を領域Ｒ１、支持体１の表面１Ａ上で且つ支持体１の幅方向ＤＷにおいて導電パターン部２と同じ位置の領域（導電パターン部２の形成領域を除く）を領域Ｒ２とし、図９（Ｂ）に示されるように、支持体１の裏面１Ｂ上で且つ支持体１の幅方向ＤＷにおいて導電パターン部２とは異なる位置の領域を領域Ｒ３、支持体１の裏面１Ｂ上で且つ支持体１の幅方向ＤＷにおいて導電パターン部２と同じ位置の領域（導電パターン部２の形成領域を除く）を領域Ｒ４とする。

上記の実施の形態１では、支持体１の表面１Ａの領域Ｒ１にのみ犠牲パターン部３が形成されていたが、犠牲パターン部３は、支持体１の表面１Ａの領域Ｒ２にのみ形成されていてもよく、あるいは、支持体１の表面１Ａの領域Ｒ１と領域Ｒ２の双方に形成されていてもよい。
また、支持体１の表面１Ａに限らず、犠牲パターン部３は、支持体１の裏面１Ｂの領域Ｒ３にのみ形成されていてもよく、あるいは、支持体１の裏面１Ｂの領域Ｒ４にのみ形成されていてもよく、さらに、支持体１の裏面１Ｂの領域Ｒ３と領域Ｒ４の双方に形成されていてもよい。

このようにしても、犠牲パターン部３が、支持体１の両面における導電パターン部２の厚さの和（Ｔ２＋Ｔ３）よりも大きい厚さＴ１を有していれば、長尺の支持体１をロール形態としたとき、あるいは、複数のシート状の支持体１を重ね合わせて載置したときに、互いに対向する導電パターン部２が、傷ついたり、変形する等の損傷を受けることを防止することができる。

実施の形態２
図１０に、実施の形態２に係る透明導電膜の構成を示す。この透明導電膜は、実施の形態１の透明導電膜において、支持体１の表面１Ａ上にのみ形成されていた犠牲パターン部３の代わりに、支持体１の表面１Ａおよび裏面１Ｂ上にそれぞれ犠牲パターン部３Ａおよび３Ｂを形成したものであり、支持体１および複数の導電パターン部２は、実施の形態１の透明導電膜と同一である。

支持体１の表面１Ａ上において、２列に配列された導電パターン部２に対して支持体１の幅方向ＤＷの両側と、２列に配列された導電パターン部２の間の３箇所にそれぞれ犠牲パターン部３Ａが形成され、かつ支持体１の裏面１Ｂ上において、２列に配列された導電パターン部２に対して支持体１の幅方向ＤＷの両側と、２列に配列された導電パターン部２の間の３箇所にそれぞれ犠牲パターン部３Ｂが形成されている。すなわち、図９（Ａ）に示した領域Ｒ１に犠牲パターン部３Ａが形成され、領域Ｒ３に犠牲パターン部３Ｂが形成されている。

そして、支持体１の両面上における犠牲パターン部３Ａおよび３Ｂの厚さの和が、支持体１の表面１Ａ上に形成された導電パターン部２の厚さＴ２と支持体１の裏面１Ｂ上に形成された導電パターン部２の厚さＴ３の和（Ｔ２＋Ｔ３）よりも大きな厚さＴ１を有するように構成されている。

このような犠牲パターン部３Ａおよび３Ｂを用いても、例えば支持体１をロール形態とすることにより、図１１に示されるように、支持体１が複数の層を形成して重なったときに、下側の層の支持体１の表面１Ａ上に形成されている犠牲パターン部３Ａが上側の層の支持体１の裏面１Ｂ上に形成されている犠牲パターン部３Ｂに接触することによって、互いに重なる支持体１の間に犠牲パターン部３Ａおよび３Ｂの厚さの和Ｔ１に相当する間隔が形成される。

このため、下側の層の支持体１の表面１Ａ上に位置する導電パターン部２と上側の層の支持体１の裏面１Ｂ上に位置する導電パターン部２は、互いに接触することなく、隙間を介して対向することとなり、これらの導電パターン部２が擦れて、導電パターン部２の表面に傷がついたり、平滑化等の変形を引き起こすことが防止される。従って、透明導電膜をタッチセンサとしてモジュールに組み込んだときに、局所的にキラついて見える視認性故障の発生を回避することができる。
また、犠牲パターン部３Ａおよび３Ｂを領域Ｒ１およびＲ３にそれぞれ形成するのに加えて、支持体１の幅方向ＤＷにおいて導電パターン部２と同じ位置の領域である領域Ｒ２およびＲ４のいずれか一方に、厚さＴ１の犠牲パターン部を形成してもよい。

なお、犠牲パターン部３Ａおよび３Ｂを図９（Ａ）に示した領域Ｒ１およびＲ３にそれぞれ形成する代わりに、支持体１の幅方向ＤＷにおいて導電パターン部２と同じ位置の領域である領域Ｒ２およびＲ４にそれぞれ犠牲パターン部３Ａおよび３Ｂを形成することもできる。このようにしても、支持体１の両面上に配置される導電パターン部２の損傷を防止することができる。
ただし、支持体１をロールトゥロール方式により製造する場合は、領域Ｒ２およびＲ４のみに犠牲パターン部３Ａおよび３Ｂを形成すると、ロール形態として支持体１が複数の層を形成して重なったときに、支持体１の表面１Ａ上に形成されている導電パターン部２の表面が支持体１の裏面１Ｂの領域Ｒ４に形成された犠牲パターン部３Ｂによって擦れると同時に、支持体１の裏面１Ｂ上に形成されている導電パターン部２の表面が支持体１の表面１Ａの領域Ｒ２に形成された犠牲パターン部３Ａによって擦れ、支持体１の表面１Ａ側および裏面１Ｂ側のどちらを視認側に配置してタッチセンサを構成しても、視認性故障を生じるおそれがある。このため、領域Ｒ２およびＲ４に加えて、領域Ｒ１およびＲ３の少なくとも一方に、合計厚さがＴ１となるような犠牲パターン部を形成することが望ましい。
なお、シート状の支持体１を用いて枚葉で透明導電膜を製造する場合には、複数の支持体１を重ねたときに、上側の層を形成する支持体１の導電パターン部２と下側の層を形成する支持体１の導電パターン部２とが互いに重なり合い、領域Ｒ２およびＲ４に形成された犠牲パターン部３Ａおよび３Ｂが導電パターン部２と重ならないので、領域Ｒ２およびＲ４のみに犠牲パターン部３Ａおよび３Ｂを形成することができる。

実施の形態３
実施の形態２に記載のように、支持体１の表面１Ａおよび裏面１Ｂ上にそれぞれ犠牲パターン部３Ａおよび３Ｂを形成する場合に、支持体１の幅方向ＤＷにおける互いに同一の位置に形成される犠牲パターン部３Ａおよび３Ｂの少なくとも一方に、支持体１とは反対方向を向いた凹凸面を形成することができる。
例えば、図１２に示されるように、支持体１の表面１Ａ上に配置される犠牲パターン部３Ａは、支持体１とは反対方向を向いた凹凸面３１を有している。このような凹凸面３１を有する犠牲パターン部３Ａおよび凹凸面を有しない犠牲パターン部３Ｂが形成された支持体１を、例えばロール形態とすることにより、図１３に示されるように、支持体１が複数の層を形成して重なったときに、下側の層の支持体１の表面１Ａ上に形成されている犠牲パターン部３Ａの凹凸面３１が上側の層の支持体１の裏面１Ｂ上に形成されている犠牲パターン部３Ｂに接触する。

これにより、支持体１の巻きズレ等に起因して、支持体１を幅方向ＤＷあるいは搬送方向ＤＴに移動させようとする力が作用した場合であっても、犠牲パターン部３Ａが凹凸面３１を有するために、対応する上側の層の犠牲パターン部３Ｂに対して相対移動しにくく、互いに対向する導電パターン部２が擦れて損傷を受けるおそれをさらに確実に防止することが可能となる。
凹凸面３１は、例えば、０．１μｍ程度の高さおよび１００μｍ〜１ｍｍ程度の周期を有する凹凸形状とすることができる。
なお、図１２に示したように、支持体１の幅方向ＤＷにおける互いに同一の位置に形成される犠牲パターン部３Ａおよび３Ｂのうち一方の犠牲パターン部３Ａに凹凸面３１を形成する際には、凹凸面３１の凸部における犠牲パターン部３Ａの厚さと他方の犠牲パターン部３Ｂの厚さの合計が、支持体１の表面１Ａ上および裏面１Ｂ上に形成される導電パターン部２の厚さの和よりも大きい値となるように設定されるものとする。
また、支持体１の表面１Ａおよび裏面１Ｂ上に形成された犠牲パターン部３Ａおよび３Ｂの双方に凹凸面３１を形成し、下側の層の支持体１の表面１Ａ上に形成されている犠牲パターン部３Ａの凹凸面３１と上側の層の支持体１の裏面１Ｂ上に形成されている犠牲パターン部３Ｂの凹凸面３１とが互いに接触するように構成してもよい。この場合には、支持体１の表面１Ａ側の凹凸面３１の凸部における犠牲パターン部３Ａの厚さと支持体１の裏面１Ｂ側の凹凸面３１の凸部における犠牲パターン部３Ｂの厚さの合計が、支持体１の表面１Ａ上および裏面１Ｂ上に形成される導電パターン部２の厚さの和よりも大きい値となるように設定されるものとする。

実施の形態４
上記の実施の形態１では、図１に示したように、犠牲パターン部３が、複数の導電パターン部２にわたるように、支持体１の搬送方向ＤＴに連続して形成されているが、これに限るものではなく、図１４に示されるように、支持体１の搬送方向ＤＴに沿って配列された複数の導電パターン部２にそれぞれ対応して複数の犠牲パターン部３を支持体１の搬送方向ＤＴに配列形成することもできる。
このようにしても、支持体１の両面上に配置される導電パターン部２の損傷を防止することができる。

以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。

実施例１
図８に示されるように、厚さ４０μｍ、幅Ｗ＝５０ｃｍおよび長さ５０００ｍの支持体１の表面１Ａおよび裏面１Ｂにおいて、下記に示すパターン形成方法により、線幅３．０μｍ且つピッチ５００μｍの正方格子パターンが、幅Ａ＝１５ｃｍおよび長さＢ＝２０ｃｍの領域にそれぞれの正方格子の交点が支持体１を挟んで互いの正方形開口部の中心に重なる配置で形成された導電パターン部２を形成し、かつ支持体１の表面１Ａにおいて、導電パターン部２の形成領域から２０μｍの開口を設けて図９（Ａ）に示した領域Ｒ１に一様なベタパターンからなる犠牲パターン部３を形成することによって、ロール形態の透明導電膜を作製した。犠牲パターン部３は、支持体１の表面１Ａおよび裏面１Ｂに形成された導電パターン部２の厚さの和よりも大きい厚さを有している。また、支持体１とは反対方向を向いた犠牲パターン部３の面は平坦面である。

なお、導電パターン部２は、支持体１の幅方向ＤＷに２つ並べたものを１列として搬送方向ＤＴに３列並べた６つのピースを１ショットとし、搬送方向ＤＴにショットを繰り返して形成した。ここで、１ショット内において、幅方向ＤＷに並ぶ導電パターン部２間の間隔Ｇ１を５ｃｍとし、かつ搬送方向ＤＴに並ぶ導電パターン部２間の間隔Ｇ２を５ｃｍとした。また、ショット間における導電パターン部２間の間隔Ｇ３は１０ｃｍとした。このようにして、導電パターン部２を支持体１の全長にわたって形成した。

＜パターン形成方法＞
（ハロゲン化銀乳剤の調製）
３８℃、ｐＨ４．５に保たれた下記１液に、下記の２液および３液の各々９０％に相当する量を攪拌しながら同時に２０分間にわたって加え、０．１６μｍの核粒子を形成した。続いて下記の４液および５液を８分間にわたって加え、さらに、下記の２液および３液の残りの１０％の量を２分間にわたって加え、０．２１μｍまで成長させた。さらに、ヨウ化カリウム０．１５ｇを加え、５分間熟成し粒子形成を終了した。

１液：
水 ７５０ｍｌ
ゼラチン ９ｇ
塩化ナトリウム ３ｇ
１，３−ジメチルイミダゾリジン−２−チオン ２０ｍｇ
ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム １０ｍｇ
クエン酸 ０．７ｇ
２液：
水 ３００ｍｌ
硝酸銀 １５０ｇ
３液：
水 ３００ｍｌ
塩化ナトリウム ３８ｇ
臭化カリウム ３２ｇ
ヘキサクロロイリジウム（ＩＩＩ）酸カリウム
（０．００５％ＫＣｌ ２０％水溶液） ８ｍｌ
ヘキサクロロロジウム酸アンモニウム
（０．００１％ＮａＣｌ ２０％水溶液） １０ｍｌ
４液：
水 １００ｍｌ
硝酸銀 ５０ｇ
５液：
水 １００ｍｌ
塩化ナトリウム １３ｇ
臭化カリウム １１ｇ
黄血塩 ５ｍｇ

その後、常法に従い、フロキュレーション法によって水洗した。具体的には、温度を３５℃に下げ、硫酸を用いてハロゲン化銀が沈降するまでｐＨを下げた（ｐＨ３．６±０．２の範囲であった）。次に、上澄み液を約３リットル除去した（第一水洗）。さらに３リットルの蒸留水を加えてから、ハロゲン化銀が沈降するまで硫酸を加えた。再度、上澄み液を３リットル除去した（第二水洗）。第二水洗と同じ操作をさらに１回繰り返して（第三水洗）、水洗・脱塩工程を終了した。水洗・脱塩後の乳剤をｐＨ６．４、ｐＡｇ７．５に調整し、ゼラチン３．９ｇ、ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム１０ｍｇ、ベンゼンチオスルフィン酸ナトリウム３ｍｇ、チオ硫酸ナトリウム１５ｍｇと塩化金酸１０ｍｇを加え５５℃にて最適感度を得るように化学増感を施し、安定剤として１，３，３ａ，７−テトラアザインデン１００ｍｇ、防腐剤としてプロキセル（商品名、ＩＣＩ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）１００ｍｇを加えた。最終的に得られた乳剤は、沃化銀を０．０８モル％含み、塩臭化銀の比率を塩化銀７０モル％、臭化銀３０モル％とする、平均粒子径０．２２μｍ、変動係数９％のヨウ塩臭化銀立方体粒子乳剤であった。

（感光性層形成用組成物の調製）
上記乳剤に１，３，３ａ，７−テトラアザインデン１．２×１０-4モル／モルＡｇ、ハイドロキノン１．２×１０-2モル／モルＡｇ、クエン酸３．０×１０-4モル／モルＡｇ、２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−１，３，５−トリアジンナトリウム塩０．９０ｇ／モルＡｇ、微量の硬膜剤を添加し、クエン酸を用いて塗布液ｐＨを５．６に調整した。
上記塗布液に、含有するゼラチンに対して、（Ｐ−１）で表されるポリマーとジアルキルフェニルＰＥＯ硫酸エステルからなる分散剤を含有するポリマーラテックス（分散剤／ポリマーの質量比が２．０／１００＝０．０２）とをポリマー／ゼラチン（質量比）＝０．５／１になるように添加した。

さらに、架橋剤としてＥＰＯＸＹ ＲＥＳＩＮ ＤＹ ０２２（商品名：ナガセケムテックス社製）を添加した。なお、架橋剤の添加量は、後述する感光性層中における架橋剤の量が０．０９ｇ／ｍ^２となるように調整した。
以上のようにして感光性層形成用組成物を調製した。
なお、上記（Ｐ−１）で表されるポリマーは、特許第３３０５４５９号および特許第３７５４７４５号を参照して合成した。

（感光性層形成工程）
支持体１の両面に、上記ポリマーラテックスを塗布して、厚み０．０５μｍの下塗り層を設けた。
次に、下塗り層上に、上記ポリマーラテックスとゼラチン、および、光学濃度が約１．０で現像液のアルカリにより脱色する染料の混合物から成るアンチハレーション層を設けた。なお、ポリマーとゼラチンとの混合質量比（ポリマー／ゼラチン）は２／１であり、ポリマーの含有量は０．６５ｇ／ｍ^２であった。
上記アンチハレーション層の上に、上記感光性層形成用組成物を塗布し、さらに厚み０．１５μｍのゼラチン層を設け、両面に感光性層が形成された支持体を得た。両面に感光性層が形成された支持体をフィルムＡとする。形成された感光性層は、銀量６．２ｇ／ｍ^２、ゼラチン量１．０ｇ／ｍ^２であった。

（露光現像工程）
上記フィルムＡの両面に、上述の図８の導電パターン部２および犠牲パターン部３のフォトマスクと、上記フォトマスクの光源側で導電パターン部２上にのみ配置した減光フィルタを介して、高圧水銀ランプを光源とした平行光を用いて露光を行った。なお、減光フィルタは、導電パターン部２に照射される光量を犠牲パターン部３に照射される光量よりも減じることによって、犠牲パターン部３の厚さを、フィルムＡの両面に形成される導電パターン部２の厚さの和よりも大きい値とするためのものである。
露光後、下記の現像液により現像し、さらに定着液（商品名：ＣＮ１６Ｘ用Ｎ３Ｘ−Ｒ、富士フィルム社製）を用いて現像処理を行った。さらに、純水によりリンスし、乾燥することによって、両面にＡｇ細線からなる機能性パターンとＡｇ細線からなる厚み調整用パターンと、ゼラチン層とが形成された支持体を得た。ゼラチン層はＡｇ細線間に形成されていた。得られたフィルムをフィルムＢとする。

（現像液の組成）
現像液１リットル（Ｌ）中に、以下の化合物が含まれる。
ハイドロキノン ０．０３７ｍｏｌ／Ｌ
Ｎ−メチルアミノフェノール ０．０１６ｍｏｌ／Ｌ
メタホウ酸ナトリウム ０．１４０ｍｏｌ／Ｌ
水酸化ナトリウム ０．３６０ｍｏｌ／Ｌ
臭化ナトリウム ０．０３１ｍｏｌ／Ｌ
メタ重亜硫酸カリウム ０．１８７ｍｏｌ／Ｌ

（ゼラチン分解処理）
フィルムＢに対して、タンパク質分解酵素（ナガセケムテックス社製ビオプラーゼＡＬ−１５ＦＧ）の水溶液（タンパク質分解酵素の濃度：０．５質量％、液温：４０℃）への浸漬を１２０秒間行った。フィルムＢを水溶液から取り出し、温水（液温：５０℃）に１２０秒間浸漬し、洗浄した。ゼラチン分解処理後のフィルムをフィルムＣとする。

（低抵抗化処理）
上記フィルムＣに対して、金属製ローラからなるカレンダ装置を用いて、３０ｋＮの圧力でカレンダ処理を行った。このとき、線粗さＲａ＝０．２μｍ、Ｓｍ＝１．９μｍ（株式会社キーエンス製形状解析レーザ顕微鏡ＶＫ−Ｘ１１０にて測定（ＪＩＳ−Ｂ−０６０１−１９９４））の粗面形状を有するＰＥＴフィルム２枚を、これらの粗面が上記フィルムＣの表面および裏面と向き合うように共に搬送して、上記フィルムＣの表面および裏面に粗面形状を転写形成した。
上記カレンダ処理後、温度１５０℃の過熱蒸気槽を１２０秒間かけて通過させて、加熱処理を行った。加熱処理後のフィルムをフィルムＤとする。このフィルムＤが透明導電膜である。
フィルムＤの導電パターン部２および犠牲パターン部３の銀部の平均厚さを株式会社キーエンス製形状解析レーザ顕微鏡ＶＫ−Ｘ１１０にて測定した。結果を表１に示す。

実施例２
支持体１の表面１Ａ上にのみ導電パターン部２を形成し、領域Ｒ１に形成される犠牲パターン部３の厚さが、支持体１の表面１Ａ上に形成される導電パターン部２の厚さより大きい値となるように、露光時に用いる減光フィルタの種類および露光量とフォトマスクを調整した以外は、実施例１と同様の手順に従ってロール形態の透明導電膜を作製した。

実施例３
支持体１の表面１Ａ上の領域Ｒ１および裏面１Ｂ上の領域Ｒ３に犠牲パターン部３を形成し、これらの領域Ｒ１およびＲ３に形成される犠牲パターン部３の厚さが、それぞれ、支持体１の表面１Ａ上および裏面１Ｂ上に形成される導電パターン部２の厚さよりも大きい値となるように、露光時に用いる減光フィルタの種類および露光量とフォトマスクを調整した以外は、実施例１と同様の手順に従ってロール形態の透明導電膜を作製した。

実施例４
支持体１の表面１Ａ上の領域Ｒ１およびＲ２に犠牲パターン部３を形成し、これらの領域Ｒ１およびＲ２に形成される犠牲パターン部３の厚さが、それぞれ、支持体１の表面１Ａ上および裏面１Ｂ上に形成される導電パターン部２の厚さの和よりも大きい値となるように、露光時に用いる減光フィルタの種類および露光量とフォトマスクを調整した以外は、実施例１と同様の手順に従ってロール形態の透明導電膜を作製した。

実施例５
支持体１の表面１Ａ上の領域Ｒ２のみに犠牲パターン部３を形成し、犠牲パターン部３の厚さが、支持体１の表面１Ａ上および裏面１Ｂ上に形成される導電パターン部２の厚さの和よりも大きい値となるように、露光時に用いる減光フィルタの種類および露光量とフォトマスクを調整した以外は、実施例１と同様の手順に従ってロール形態の透明導電膜を作製した。

実施例６
支持体１の裏面１Ｂ上の領域Ｒ３のみに犠牲パターン部３を形成し、犠牲パターン部３の厚さが、支持体１の表面１Ａ上および裏面１Ｂ上に形成される導電パターン部２の厚さの和よりも大きい値となるように、露光時に用いる減光フィルタの種類および露光量とフォトマスクを調整した以外は、実施例１と同様の手順に従ってロール形態の透明導電膜を作製した。

実施例７
支持体１の裏面１Ｂ上の領域Ｒ４のみに犠牲パターン部３を形成し、犠牲パターン部３の厚さが、支持体１の表面１Ａ上および裏面１Ｂ上に形成される導電パターン部２の厚さの和よりも大きい値となるように、露光時に用いる減光フィルタの種類および露光量とフォトマスクを調整した以外は、実施例１と同様の手順に従ってロール形態の透明導電膜を作製した。

実施例８
支持体１の表面１Ａ上の領域Ｒ１および裏面１Ｂ上の領域Ｒ３に形成される犠牲パターン部３に加えて、支持体１の表面１Ａ上の領域Ｒ２に、支持体１の表面１Ａ上および裏面１Ｂ上に形成される導電パターン部２の厚さの和よりも大きい厚さの犠牲パターン部３が形成されるように、露光時に用いる減光フィルタの種類および露光量とフォトマスクを調整した以外は、実施例３と同様の手順に従ってロール形態の透明導電膜を作製した。なお、領域Ｒ２に形成した犠牲パターン部３の厚さは、領域Ｒ１およびＲ３に形成される犠牲パターン部３の合計厚さより小さい値に設定されている。

実施例９
支持体１の表面１Ａ上の領域Ｒ１および裏面１Ｂ上の領域Ｒ３に形成される犠牲パターン部３に支持体１とは反対方向を向いた凹凸面３１を形成する他は、実施例８と同様にしてロール形態の透明導電膜を作製した。凹凸面３１は、支持体１の搬送方向ＤＴに平行且つ１ｍｍ周期で交互に露光量を調整することによって形成した。なお、粗面形状転写するカレンダ処理により、平均段差の違いを残しても、凹凸面３１を形成することができる。

実施例１０
支持体１の表面１Ａ上および裏面１Ｂ上にそれぞれ導電パターン部２を形成し、かつ支持体１の表面１Ａ上の領域Ｒ１のみに犠牲パターン部３を形成し、犠牲パターン部３の厚さが、支持体１の表面１Ａ上および裏面１Ｂ上に形成される導電パターン部２の厚さの和よりも大きい値となるように、露光時に用いる減光フィルタの種類および露光量とフォトマスクを調整した以外は、実施例１と同様の手順に従ってシート形態の透明導電膜を作製した。

実施例１１
支持体１の表面１Ａ上および裏面１Ｂ上にそれぞれ導電パターン部２を形成し、かつ支持体１の表面１Ａ上の領域Ｒ２および裏面１Ｂ上の領域Ｒ４に犠牲パターン部３を形成し、これらの領域Ｒ２およびＲ４に形成される犠牲パターン部３の厚さが、それぞれ、支持体１の表面１Ａ上および裏面１Ｂ上に形成される導電パターン部２の厚さよりも大きい値となるように、露光時に用いる減光フィルタの種類および露光量とフォトマスクを調整した以外は、実施例１と同様の手順に従ってシート形態の透明導電膜を作製した。
なお、実施例１０および１１では、実施例１における１ショットを１単位とするシートサンプルを５０００枚水平面に積み上げて作成した。

比較例１
支持体１の表面１Ａ上にのみ導電パターン部２を形成し、いずれの領域にも犠牲パターン部３は形成されないように、露光時に用いる減光フィルタの種類および露光量とフォトマスクを調整した以外は、実施例１と同様の手順に従ってロール形態の透明導電膜を作製した。

比較例２
領域Ｒ１に形成される犠牲パターン部３の厚さが、支持体１の表面１Ａ上および裏面１Ｂ上に形成される導電パターン部２の厚さの和に等しい値となるように、露光時に用いる減光フィルタの種類および露光量とフォトマスクを調整した以外は、実施例１と同様の手順に従ってロール形態の透明導電膜を作製した。

比較例３
支持体１の表面１Ａ上の領域Ｒ１および裏面１Ｂ上の領域Ｒ３に犠牲パターン部３を形成し、領域Ｒ１に形成される犠牲パターン部３の厚さが支持体１の表面１Ａ上に形成される導電パターン部２の厚さより大きいものの、領域Ｒ１およびＲ３に形成される犠牲パターン部３の合計厚さが、支持体１の表面１Ａ上および裏面１Ｂ上に形成される導電パターン部２の厚さの和よりも小さい値となるように、露光時に用いる減光フィルタの種類および露光量とフォトマスクを調整した以外は、実施例１と同様の手順に従ってロール形態の透明導電膜を作製した。

比較例４
支持体１の表面１Ａ上の領域Ｒ１および裏面１Ｂ上の領域Ｒ３に犠牲パターン部３を形成し、これらの領域Ｒ１およびＲ３に形成される犠牲パターン部３の厚さが、それぞれ、支持体１の表面１Ａ上および裏面１Ｂ上に形成される導電パターン部２の厚さと同じ値となるように、露光時に用いる減光フィルタの種類および露光量とフォトマスクを調整した以外は、実施例１と同様の手順に従ってロール形態の透明導電膜を作製した。

比較例５
支持体１の表面１Ａ上の領域Ｒ２および裏面１Ｂ上の領域Ｒ４に犠牲パターン部３を形成し、これらの領域Ｒ１およびＲ３に形成される犠牲パターン部３の厚さが、それぞれ、支持体１の表面１Ａ上および裏面１Ｂ上に形成される導電パターン部２の厚さよりも大きい値となるように、露光時に用いる減光フィルタの種類および露光量とフォトマスクを調整した以外は、実施例１と同様の手順に従ってロール形態の透明導電膜を作製した。

比較例６
支持体１の表面１Ａ上および裏面１Ｂ上にそれぞれ導電パターン部２を形成し、かついずれの領域にも犠牲パターン部３は形成されないように、露光時に用いる減光フィルタの種類および露光量とフォトマスクを調整した以外は、実施例１と同様の手順に従ってシート形態の透明導電膜を作製した。
なお、比較例６では、実施例１における１ショットを１単位とするシートサンプルを５０００枚水平面に積み上げて作成した。

上記の実施例１〜１１および比較例１〜６により作製された透明導電膜に対して、支持体１の表面１Ａ側に配置される導電パターン部２および支持体１の裏面１Ｂ側に配置される導電パターン部２の局所ギラツキを評価したところ、以下の表１に記載されるような結果が得られた。

局所ギラツキの評価方法は、以下の通りである。
まず、支持体１の表面１Ａ側からの局所ギラツキ観察用として、作製した透明導電膜のロール内側１０ショット目から３０ショット目の間に位置し且つ両面上に導電パターン部２が形成された支持体１を任意に３０枚切り出し、支持体１の表面１Ａ側に透明光学粘着フィルム（３Ｍ社製、８１４６−２）の一方の面を貼り合わせ、さらに、貼り合わせた透明光学粘着フィルムの他方の面上に白板ガラスを貼り合わせ、次に、支持体１の裏面１Ｂ側にもう１枚の透明光学粘着フィルム（３Ｍ社製、８１４６−２）を貼り合わせ、さらに、貼り合わせた透明光学粘着フィルムの他方の面上に厚さ１００μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルムを貼り合わせることにより、金属細線からなるメッシュパターン状の電極を含む導電パターン部２が白板ガラスおよびＰＥＴフィルムで挟まれた評価サンプルＳＡ１を３０枚作製した。

また、支持体１の裏面１Ｂ側からの局所ギラツキ観察用として、作製した透明導電膜のロール内側１０ショット目から３０ショット目の間に位置し且つ両面上に導電パターン部２が形成された支持体１を任意に３０枚切り出し、支持体１の裏面１Ｂ側に透明光学粘着フィルム（３Ｍ社製、８１４６−２）の一方の面を貼り合わせ、さらに、貼り合わせた透明光学粘着フィルムの他方の面上に白板ガラスを貼り合わせ、次に、支持体１の表面１Ａ側に透明光学粘着フィルム（３Ｍ社製、８１４６−２）の一方の面を貼り合わせて、さらに、貼り合わせた透明光学粘着フィルムの他方の面上にさらに厚さ１００μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルムを貼り合わせることにより、金属細線からなるメッシュパターン状の電極を含む導電パターン部２が白板ガラスおよびＰＥＴフィルムで挟まれた評価サンプルＳＡ２を３０枚作製した。

なお、実施例１０，１１および比較例６におけるシート形態の透明導電膜は、透明導電膜のロール内側１０ショット目から３０ショット目の間に位置し且つ両面上に導電パターン部２が形成された支持体１の代わりに、シート積層物の下側１０枚目から３０枚目の間に位置し且つ両面上に導電パターン部２が形成された支持体１を用いる他は、上述した方法と同様にして、評価サンプルＳＡ１およびＳＡ２の作製を行った。

支持体１の表面１Ａ側からの局所ギラツキは、作製した３０枚の評価サンプルＳＡ１を、ガラス面から太陽光下で観察し、下記の観点で評価した。また、支持体１の裏面１Ｂ側からの局所ギラツキは、作製した３０枚の評価サンプルＳＡ２を、ガラス面から太陽光下で観察し、同様に下記の観点で評価した。

評価結果Ａは、３０枚中２８枚以上の評価サンプルにおいて、局所的に光反射の強い領域は存在せず、面内均一な視認性を有するため、好適に用いることができることを示している。
評価結果Ｂは、３０枚中３枚以上の評価サンプルに、局所的に光反射の強い領域が存在するものの、光反射の強い領域が５ｍｍ角の狭い範囲内、または、局所的な光反射増加部が室内灯下では視認できない程度の小さな増加であり、実用上、問題を生じないことを示している。
評価結果Ｃは、３０枚中３枚以上１５枚以下の評価サンプルに、局所的に光反射の強い領域が存在し、光反射の強い領域が５ｍｍ角よりも広い範囲内、または、室内灯下でも視認できる大きな増加であり、実用上、問題を生じることを示している。
評価結果Ｄは、３０枚中１６枚以上の評価サンプルに、局所的に光反射の強い領域が存在し、光反射の強い領域が５ｍｍ角よりも広い範囲内、または、室内灯下でも視認できる大きな増加であり、実用上、大きな問題を生じることを示している。

犠牲パターン部３の合計厚さが導電パターン部２の厚さの和より大きな値を有している実施例１〜１１では、支持体１の表面１Ａ側および裏面１Ｂ側の少なくともいずれかで、局所ギラツキの評価結果がＡまたはＢとなり、タッチセンサを構成したときに好適に使用し得ることが確認された。
特に、実施例１、３、６および８−１１では、支持体１の表面１Ａ側および裏面１Ｂ側のいずれにおいても、局所ギラツキの評価結果がＡまたはＢとなり、支持体１の表面１Ａ側および裏面１Ｂ側のどちらを視認側に配置しても、好適な視認性を有するタッチセンサを構成することができる。
なお、実施例８では、領域Ｒ２に形成された犠牲パターン部３の厚さが、支持体１の表面１Ａ上および裏面１Ｂ上で且つ幅方向ＤＷにおいて互いに同じ位置にある領域Ｒ１およびＲ３に形成される犠牲パターン部３の合計厚さより小さい値に設定されているが、このような場合には、領域Ｒ１およびＲ３に形成される犠牲パターン部３の合計厚さのみを考慮し、これら領域Ｒ１およびＲ３に形成される犠牲パターン部３の合計厚さが導電パターン部２の厚さの和より大きな値を有していればよい。
また、実施例９では、支持体１の表面１Ａおよび裏面１Ｂ上に形成された犠牲パターン部３Ａおよび３Ｂの双方が凹凸面３１を有しているが、表１には、犠牲パターン部の厚さとして、凹凸面３１の凸部における犠牲パターン部の厚さと凹部における犠牲パターン部の厚さが併せて記載されている。この実施例９の場合、凹凸面３１の凸部における犠牲パターン部の合計厚さのみを考慮し、この合計厚さが導電パターン部２の厚さの和より大きな値を有していればよい。

また、実施例２、４および５では、支持体１の表面１Ａ側において、局所ギラツキの評価結果がＡまたはＢとなり、支持体１の表面１Ａ側を視認側に配置することによって、好適な視認性を有するタッチセンサを構成することができる。
さらに、実施例７では、支持体１の裏面１Ｂ側において、局所ギラツキの評価結果がＢとなり、支持体１の裏面１Ｂ側を視認側に配置することによって、好適な視認性を有するタッチセンサを構成することができる。

一方、犠牲パターン部３を有しない比較例１および６、犠牲パターン部３の合計厚さが導電パターン部２の厚さの和以下の値である比較例２〜４は、支持体１の表面１Ａ側および裏面１Ｂ側のいずれにおいても、局所ギラツキの評価結果がＣまたはＤとなり、支持体１の表面１Ａ側および裏面１Ｂ側のどちらを視認側に配置しても、タッチセンサを構成したときに、実用上、問題を生じることが確認された。

また、犠牲パターン部３の合計厚さが、支持体１の表面１Ａ上および裏面１Ｂ上に形成される導電パターン部２の厚さの和よりも大きい値を有しながらも、犠牲パターン部３が領域Ｒ２およびＲ４の両面上に形成されている比較例５は、支持体１の表面１Ａ側および裏面１Ｂ側のいずれにおいても、局所ギラツキの評価結果がＤとなり、支持体１の表面１Ａ側および裏面１Ｂ側のどちらを視認側に配置しても、タッチセンサを構成したときに、実用上、問題を生じることが確認された。
これは、犠牲パターン部３が領域Ｒ２およびＲ４の双方に形成され、領域Ｒ１およびＲ３に犠牲パターン部３が形成されていないことから、ロール形態として支持体１が複数の層を形成して重なったときに、支持体１の表面１Ａ上に形成されている導電パターン部２の表面および支持体１の裏面１Ｂ上に形成されている導電パターン部２の表面がいずれも擦れて視認性故障を生じたものと考えられる。

１，４１ 支持体、１Ａ 支持体の表面、１Ｂ 支持体の裏面、２，４２ 導電パターン部、３，３Ａ，３Ｂ 犠牲パターン部、１１ 第１電極、１１Ａ 第１金属細線、１２ 第１周辺配線、１３ 第２電極、１３Ａ 第２金属細線、１４ 第２周辺配線、２１ 送り出しロール、２２ 搬送ローラ、２３ 導電層形成部、２４ 巻き取りロール、３１ 凹凸面、ＤＴ 搬送方向、ＤＷ 幅方向、Ｔ１ 犠牲パターン部の厚さ、Ｔ２，Ｔ３ 導電パターン部の厚さ、Ｓ１ ビューエリア、Ｓ２ 周辺領域、Ｄ１ 第１の方向、Ｄ２ 第２の方向、Ａ 幅、Ｂ 長さ、Ｇ１〜Ｇ３ 間隔、Ｒ１〜Ｒ４ 領域。

Claims (20)

1. 透明な支持体と、
   前記支持体の一方の面上または両面上に形成され且つ金属細線からなる電極を含む導電パターン部と、
   前記導電パターン部が形成される位置の前記支持体の両面の領域以外の領域で且つ前記支持体の一方の面上または両面上に形成される犠牲パターン部と
   を備え、
   前記支持体の前記両面上における前記犠牲パターン部の厚さの和が、前記支持体の前記両面上における前記導電パターン部の厚さの和よりも大きい透明導電膜。
2. 前記導電パターン部は、前記支持体の一方の面上に形成され、
   前記犠牲パターン部は、前記導電パターン部が形成される前記支持体の面と同じ面上または前記導電パターン部が形成される前記支持体の面とは反対側の面上または前記支持体の両面上に形成される請求項１に記載の透明導電膜。
3. 前記導電パターン部は、前記支持体の両面上に形成され、
   前記犠牲パターン部は、前記支持体の両面のうちいずれか一方の面上または前記支持体の両面上に形成される請求項１に記載の透明導電膜。
4. 前記支持体は、長尺なフィルム形状を有し且つロール搬送され、
   複数の前記導電パターン部が、前記支持体の搬送方向に沿い、かつ前記支持体の搬送方向に対して直交する前記支持体の幅方向の予め設定された位置に配列され、
   前記犠牲パターン部は、前記支持体の搬送方向に沿い、かつ、前記支持体の幅方向において複数の前記導電パターン部とは異なる位置の前記支持体の両面のうちいずれか一方の面上または前記支持体の両面上に形成される請求項１〜３のいずれか一項に記載の透明導電膜。
5. 前記支持体は、長尺なフィルム形状を有し且つロール搬送され、
   複数の前記導電パターン部が、前記支持体の搬送方向に沿い、かつ前記支持体の搬送方向に対して直交する前記支持体の幅方向の予め設定された位置に配列され、
   前記犠牲パターン部は、前記支持体の搬送方向に沿い、かつ前記支持体の幅方向において複数の前記導電パターン部と同じ位置の前記支持体の両面のうちいずれか一方の面上に形成される請求項１〜３のいずれか一項に記載の透明導電膜。
6. 前記支持体の幅方向において複数の前記導電パターン部の両側にそれぞれ前記犠牲パターン部が形成されている請求項４または５に記載の透明導電膜。
7. 前記支持体の搬送方向に沿って配列された複数の前記導電パターン部に対応して複数の前記犠牲パターン部が前記支持体の搬送方向に配列形成されている請求項４〜６のいずれか一項に記載の透明導電膜。
8. 前記支持体の搬送方向に沿って配列された複数の前記導電パターン部にわたって連続する前記犠牲パターン部が前記支持体の搬送方向に形成されている請求項４〜６のいずれか一項に記載の透明導電膜。
9. 前記支持体の前記両面上で且つ前記支持体の幅方向における互いに同一の位置にそれぞれ前記犠牲パターン部が形成され、
   前記支持体の前記両面上に形成された前記犠牲パターン部の少なくとも一方は、前記支持体とは反対方向を向いた凹凸面を有する請求項４〜８のいずれか一項に記載の透明導電膜。
10. 前記支持体の前記両面上に形成された前記犠牲パターン部は、それぞれ、前記支持体とは反対方向を向いた凹凸面を有する請求項９に記載の透明導電膜。
11. 前記支持体の前記両面上における前記犠牲パターン部の厚さの和は、前記支持体の前記両面上における前記導電パターン部の厚さの和よりも０．１μｍ以上大きい請求項１〜１０のいずれか一項に記載の透明導電膜。
12. 前記犠牲パターン部は、少なくとも１つの前記導電パターン部と電気的に接続される請求項１〜１１のいずれか一項に記載の透明導電膜。
13. 前記導電パターン部および前記犠牲パターン部は、金、銀、銅、ニッケル、パラジウム、白金、鉛、錫、クロムのうち、少なくとも１種の金属を含む同一の導電性材料から構成される請求項１〜１２のいずれか一項に記載の透明導電膜。
14. 透明な支持体の一方の面上または両面上に金属細線からなる導電部を含む導電パターン部を形成する第１工程と、
    前記導電パターン部が形成される位置の前記支持体の両面の領域以外の領域で且つ前記支持体の一方の面上または両面上に犠牲パターン部を形成する第２工程と
    を備え、前記支持体の前記両面上における前記犠牲パターン部の厚さの和を、前記支持体の前記両面上における前記導電パターン部の厚さの和よりも大きくする透明導電膜の製造方法。
15. 前記支持体は、長尺なフィルム形状を有し、
    前記支持体をロール搬送しつつ前記導電パターン部および前記犠牲パターン部をそれぞれ前記支持体の一方の面上または両面上に形成する請求項１４に記載の透明導電膜の製造方法。
16. 前記第１工程および前記第２工程を同時に実行する請求項１４または１５に記載の透明導電膜の製造方法。
17. 前記第１工程および前記第２工程は、
    前記支持体の一方の面上または両面上に銀塩乳剤層を形成する第３工程と、
    前記銀塩乳剤層を露光および現像して金属銀からなる前記導電パターン部および前記犠牲パターン部を形成する第４工程と
    を含む請求項１６に記載の透明導電膜の製造方法。
18. 前記第４工程において、前記犠牲パターン部に対する露光量を前記導電パターン部に対する露光量よりも大きくすることにより、前記支持体の前記両面上における前記犠牲パターン部の合計厚さを、前記支持体の前記両面上における前記導電パターン部の厚さの和よりも大きくする請求項１７に記載の透明導電膜の製造方法。
19. 透明なビューエリアを有するタッチセンサであって、
    請求項１３に記載の透明導電膜を備え、
    前記導電パターン部が前記ビューエリア内に配置され且つ前記犠牲パターン部が前記ビューエリア外に配置されるタッチセンサ。
20. 前記犠牲パターン部は、前記導電パターン部に電気的に接続された周辺配線を含む請求項１９に記載のタッチセンサ。