JP2008003442A - 液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 マルチギャップ構造の半透過型の液晶表示装置において、同一基板上に、反射表示領域を形成する突起部と柱状スペーサの両方を形成しても、ギャップの均一性がよく、ギャップムラの少ない表示品位に優れた液晶表示装置を得る。
【解決手段】 同一基板上において、反射表示領域Ｒを構成する突起部３と、突起部３が形成されない透過表示領域Ｔに柱状スペーサ６を形成することで、突起部３の段差や膜厚ばらつきの影響をなくし、柱状スペーサ６の膜厚を均一にして、透過表示領域Ｔのギャップｄｔを均一にする。
【選択図】 図３

Description

本発明は、液晶表示装置に関するものである。例えば、半透過型の液晶表示装置に好適に利用できるものである。

液晶表示装置は、薄型、軽量、低消費電力であり、多くの機器の表示装置として使用されている。特に、携帯電話などの携帯情報機器は、強い外光の下でも、暗い屋内でも良好な表示が得られるように、外光による反射表示モードと、バックライトによる透過表示モードの両方が可能な半透過型の液晶表示装置が使用されている。
半透過型の液晶表示装置は、一対の基板間に液晶が挟持された液晶パネルと、バックライト等から構成される。表示部を構成するマトリクス状に配列された画素の表示領域は、反射電極が配置された反射表示領域と、透過電極が配置された透過表示領域から構成されている。
ここで、透過表示領域は光が液晶を１回だけ通過するのに対して、反射表示領域では光は液晶を往復するので、良好な光学特性を得るために、同じ光学的距離となるように、透過表示領域の液晶層の厚さ（以下、ギャップ）に対して、反射表示領域のギャップが約半分となるように、アレイ基板またはカラーフィルタ基板上に突起部を形成したマルチギャップ構造の半透過型の液晶表示装置が開発されている（例えば、特許文献１、２、３）。

特開特２００５−１０７４９４号公報（図１、図２、図８、図９） 特開特２００２−７２２２０号公報（図１、図３、図５、図７） 特開特２００２−２１４６２４号公報（図１、図６、図７）

従来の半透過型の液晶表示装置では、ギャップを保持する柱状スペーサは反射表示領域に形成されていた。反射表示領域の小さい方のギャップを構成するために、基板上に透明な感光性樹脂を用いて突起部を形成し、さらに、この突起部上に柱状スペーサを配置すると、透過表示領域のギャップのばらつきが大きくなってしまうという問題があった。これは、透過表示領域のギャップは突起部の膜厚と柱状スペーサの膜厚の和で決まるため、突起部の膜厚ばらつきと柱状スペーサの膜厚ばらつきの両方の影響を受けるためである。透過表示領域のギャップのばらつきは、透過表示モードの表示ムラとして視認されるが、液晶表示装置の表示品位は、透過表示モードが重視されるという問題があった。

また、同一基板において、突起部上に柱状スペーサを形成する場合、柱状スペーサを構成する樹脂膜の塗布にスピンコート等を用いると、突起部上の樹脂膜の膜厚は、この樹脂膜の粘性等の物性に依存するだけでなく、突起部の段差やその面積の影響を受けるので、突起部の形成されない平坦な基板より樹脂膜の膜厚がばらつきやすいという問題があった。この結果、反射表示領域の柱状スペーサの膜厚ばらつきが大きくなり、透過表示領域だけでなく反射表示領域にもギャップムラが生じるため、透過表示モードおよび反射表示モードの両方において、液晶表示装置の表示品位を著しく低下させていた。

一方、突起部と柱状スペーサを別々の基板に形成する場合、柱状スペーサの膜厚は突起部の影響を受けないが、２枚の基板を貼り合わせる際に、柱状スペーサと突起部の端部が近接していると、突起部と柱状スペーサの位置合わせ精度が問題になることがあった。

本発明は上記の課題を解決するためになされたものであり、同一基板上に、突起部および柱状スペーサの両方を形成する場合において、柱状スペーサの膜厚ばらつきを抑制し、ギャップムラが少ない表示品位に優れたマルチギャップ構造の半透過型の液晶表示装置を得ることを目的とする。

本発明の液晶表示装置は、第１の基板と第２の基板とによって挟持される液晶層と、液晶層を保持する柱状スペーサと、表示部を構成するマトリクス状に配列された複数の画素と、画素は第１の表示領域と第２の表示領域とを備え、第１の表示領域は、第２の表示領域よりも液晶層の厚さが小さく、第１の基板には、第１の表示領域に突起部が形成され、突起部が形成されない第２の表示領域に、柱状スペーサが形成されていることを特徴とする。

本発明によれば、柱状スペーサの膜厚ばらつきが低減し、ギャップムラが少ない表示品位に優れた液晶表示装置を得ることができる。

実施の形態１．
図１は、本発明の実施の形態１における液晶表示装置の概略を示す平面図である。図２は、実施の形態１における液晶表示装置の画素を示す平面図であり、図３は、図２の画素のII−II切断面における断面図である。なお、以下の図において、同一符号は、同一または相当部分を示す。

図１において、液晶パネル５０は、液晶層５を挟持する第１の基板であるカラーフィルタ基板１と、第２の基板であるアレイ基板１０からなる。表示部３０はマトリクス状に配列された複数の画素４０から構成される。表示部３０の外周には、表示部周辺遮光膜７０が形成され、この表示部周辺遮光膜７０領域に液晶層５を封じるシール材が形成されたシール部３５が設けられている。
ここでは図示していないが、液晶パネル５０の表面および裏面には、位相差板付きの偏光板が貼付され、アレイ基板１０の背面にはバックライトが配置される。この基本構成は、従来の液晶表示装置と同等である。

次に、本発明の主要部の詳細を、図２および図３により説明する。液晶表示装置の表示部３０を構成するマトリクス状に配列された複数の画素４０は、赤、緑、青の３色があり、３画素４０Ｒ、４０Ｇ、４０Ｂがカラー表示を構成するための基本画素単位になっている。各画素４０Ｒ、４０Ｇ、４０Ｂは、ギャップの異なる表示領域を有し、第１の表示領域である反射表示の反射表示領域Ｒと、第２の表示領域である透過表示の透過表示領域Ｔとからなる。ここでは、各画素４０Ｒ、４０Ｇ、４０Ｂは、縦１５０μｍ×横５０μｍのサイズとして、図２に示すように、上側が透過表示領域Ｔ、下側が反射表示領域Ｒに上下に分かれた構成としたが、左右に分けても構わない。この透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒの面積比率は目的に応じて設計可能である。
また、ここでは、１つの画素４０を透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒに分けたが、透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒが異なる画素としてもよい。

各画素４０Ｒ、４０Ｇ、４０Ｂの外周部には、パターン間の光漏れや液晶配向不良領域を遮光するために、金属膜または黒色樹脂からなる遮光膜７Ｒ、７Ｇ、７Ｂが形成されている。ここでは、膜厚が約０．１５μｍと薄い酸化クロムからなる遮光膜７Ｒ、７Ｇ、７Ｂとした。

なお、ここで言う透過表示領域Ｔまたは反射表示領域Ｒとは、各表示モードに寄与する開口部だけでなく、その開口部周辺に配置された遮光膜７Ｒ、７Ｇ、７Ｂの部分も含めた領域を示すものとする。

カラーフィルタ基板１は、画素４０Ｒ、４０Ｇ、４０Ｂに対応して、赤、緑、青の３色からなる着色層２Ｒ、２Ｇ、２Ｂが形成される。また、カラー表示の３色はこれに限らず、イエロー、マゼンタ、シアンの３色構成でもよく、また４色以上の着色層２の構成としてもよい。
また、着色層２Ｒ、２Ｇ、２Ｂは、マトリクス状に配列された画素４０において、上下に隣接する同色の画素４０Ｒ、４０Ｇ、４０Ｂにわたって連続したストライプ構成とした。
着色層２Ｒ、２Ｇ、２Ｂの膜厚は、一般に０．５〜３．５μｍ程度に設定される。ここでは、着色層２Ｒ、２Ｇ、２Ｂが同一膜厚で、透過表示領域Ｔと反射表示領域Ｒにおいても同一膜厚の約１．２μｍとした。

この着色層２Ｒ、２Ｇ、２Ｂ上に、透過表示領域Ｔのギャップｄｔよりも小さい反射表示領域Ｒのギャップｄｒを構成する突起部３が形成されている。突起部３は、アクリル系の透明な感光性樹脂からなり、スピンコート等により所望の膜厚に塗布し、マスクパターンで露光、現像する。ここでは、突起部３は各画素４０Ｒ、４０Ｇ、４０Ｂ毎に島状の孤立パターンとして形成した。これは、特に必要のない突起部３の画素面積に占める割合を小さくして、突起部３が柱状スペーサ６の形成に与える影響を小さくするためであるが、後で詳述する。

突起部３は、透過表示領域Ｔのギャップｄｔに対して、反射表示領域Ｒのギャップｄｒが約１／２ｄｔとなるような膜厚で形成した。これにより、透過表示領域Ｔでは光が液晶層５を１回だけ通過するが、反射表示領域Ｒでは光は液晶層５を往復するので、光学的距離はほぼ同じとなる。ここでは、透過表示領域Ｔのギャップｄｔが３．８μｍ、反射表示領域Ｒのギャップｄｒを２．０μｍ、突起部３の膜厚は１．８μｍとした。突起部３は、カラーフィルタ基板１に形成する場合は、突起部３内を光が往復するために透明であることが必要である。

着色層２Ｒ、２Ｇ、２Ｂおよび突起部３の上の全面に、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）からなる対向電極４が形成されている。ただし、例えば、ＩＰＳモード（In Plane Switching Mode）のように、基板と水平な方向の電界によって液晶層５を動かして表示を行うモードの場合には、カラーフィルタ基板１上に対向電極４は不要である。

次に、柱状スペーサ６は、左右に隣接する画素４０Ｂ、４０Ｒとの境界部で、突起部３が形成されていない透過表示領域Ｔにおいて、遮光膜７Ｒの領域にアクリル系の感光性樹脂を用いて形成されている。柱状スペーサ６は、アクリル、ポリイミドなどの非感光性樹脂、ＳｉＯ２等の無機材で形成してもよいが、感光性がある方が製造工程の削減で望ましい。また、柱状スペーサ６は、上下に隣接する画素４０Ｒの突起部３の端部間のほぼ中央に配置されている。これは、突起部３の段差の影響を一番小さくするためであるが、後で詳述する。

柱状スペーサ６の断面形状は、カラーフィルタ基板１側の底面より上面が少し細い径となっている。また、平面形状は、ここでは円形としているが、楕円形、四角形、多角形等の任意の形状がマスクパターンで設計可能である。また、配置位置、サイズ、数も同様にマスクパターンで任意に設計可能である。

柱状スペーサ６が、透明樹脂の場合は、柱状スペーサ６内を光が透過するので、光抜けが問題になる場合は、柱状スペーサ６の位置にも遮光膜７を配置する。また、柱状スペーサ６が、黒色樹脂の場合は、常に遮光されるので遮光膜７はなくてもよい。
ただし、柱状スペーサ６の周辺は、この突起物の影響で、配向膜の膜厚が厚くなり、ラビングブラシの当たりが不十分で、ラビング処理が正常に行われにくい。このため、柱状スペーサ６の周辺に液晶配向不良が発生しやすいので、遮光膜７を配置することが望ましい。

ここでは、図２に示すように、柱状スペーサ６を、左右に隣接する画素４０Ｂ、４０Ｒとの境界部の遮光膜７Ｒの領域に配置したので、開口率を下げることなく、光抜けや液晶配向不良を隠すことができ、表示品位へ影響を抑制できる。

また、柱状スペーサ６は、赤の画素４０Ｒだけに３画素毎に配置したが、任意の数の画素毎でかまわない。例えば、柱状スペーサ６は、横６画素×縦２画素の１２画素毎に、１つの赤の画素４０Ｒだけに配置してもよい。

ここで、柱状スペーサ６を、赤の画素４０Ｒに配置した理由は、カラーフィルタ基板１に着色層２を形成する工程で、赤の着色層２Ｒが最初に形成されるので、カラーフィルタ基板１に段差が少なく、赤の着色層２Ｒの膜厚の均一性が、この後に形成される緑や青の着色層２Ｇ、２Ｂよりもよいためである。したがって、柱状スペーサ６は、カラーフィルタ基板１に最初に形成する色の着色層２の上に形成することが望ましい。

また、柱状スペーサ６は、着色層２の形成順序によらず、青の画素４０Ｂに配置してもよい。これは人の眼の特性として青の視感度が低いので、遮光されない液晶配向不良があっても目立たないためである。

次に、アレイ基板１０上には、画素電極となる透過表示領域Ｔに形成されたＩＴＯ等の透明導電膜からなる透過電極１１と、反射表示領域Ｒに形成されたアルミニウム、銀、白金等の高反射率の金属膜からなる反射電極１２が形成される。

一般に、反射表示の白を表示するためには散乱性が必要であり、カラーフィルタ基板１に接着する位相差板付きの偏光板または接着材に散乱層を設ける。または、反射電極１２の表面を凹凸にすることが行われる。または、着色層２Ｒ、２Ｇ、２Ｂまたは突起部３を構成する透明樹脂に微粒子を混ぜて散乱性を持たせてもよい。

なお、図示していないが、透過電極１１および反射電極１２は、各画素４０に設けられたスイッチ素子であるＴＦＴ（Thin Film Transistor）に接続される。また、駆動電圧を保持する保持容量部も形成されている。
また、カラーフィルタ基板１およびアレイ基板１０の最上層には液晶配向を行うためのポリイミド等からなる配向膜が形成され、液晶配向させる方向にラビング処理がなされている。

次に、柱状スペーサ６を、突起部６が形成されていない透過表示領域Ｔに形成する効果について説明する。図４は、説明を簡単にするために、突起部３だけが形成された基板２０に、柱状スペーサ６を形成するための樹脂膜６０をスピンコートで塗布した断面図を示す。突起部３上に柱状スペーサ６１を形成すると、既に述べたように、透過表示領域Ｔのギャップｄｔは、突起部３の膜厚と柱状スペーサ６１の膜厚の和で決まるため、突起部３の膜厚ばらつきと柱状スペーサ６１の膜厚ばらつき両方の影響を受ける。

これに対して、突起部３の形成されない領域に、柱状スペーサ６を形成すれば、透過表示領域Ｔのギャップｄｔは、柱状スペーサ６となる樹脂膜６０の膜厚だけで決まる。したがって、突起部３の膜厚ばらつきは関係なくなるので、ギャップｄｔのばらつきを低減できる。

ただし、図４からわかるように、突起部３の端部近傍では、樹脂膜６０の膜厚は、突起部３の段差の影響を受けるので変化が大きい。したがって、突起部３が形成されていない領域で、突起部３の端部から離れた平坦な領域に、柱状スペーサ６を形成した方が、樹脂膜６０の膜厚は均一になる。例えば、柱状スペーサ６を形成する位置は、柱状スペーサ６の端部と突起部３の端部との間隔Ｓとすると、突起部３の段差の影響が少なくなるように、突起部３の膜厚の少なくとも２倍以上の間隔Ｓとすることが望ましい。突起部３の膜厚は、一般に１．５〜３．０μｍであるので、間隔Ｓは１０μｍ以上とするとよい。

特に、図４に示すように、柱状スペーサ６の端部と隣接する突起部３の端部までの最小の間隔Ｓが最大になるように、柱状スペーサ６は、隣接する突起部３の端部との間のほぼ中央に配置することが最も望ましい。

また、柱状スペーサ６をスピンコート等を用いて形成する場合、突起部３の画素面積に占める割合は約３／４（約７５％）以下であることが好ましい。突起部３の画素面積に占める割合が約３／４を超えると、突起部３の形成されない領域においても、柱状スペーサ６の膜厚がばらつきやすくなるという問題がある。この理由は、突起部３の画素面積に占める割合が高いと、柱状スペーサ６を構成する樹脂膜６０をスピンコートする際に、突起部３の形成領域の面積の方が支配的になるので、スピンコートで形成される膜厚は、突起部３の形成領域の方が基板２０の平坦な基準面の状態になり、逆に突起部３の形成されない領域の方が基板２０に部分的に形成された溝部のような状態になるため、溝部の方が膜厚ばらつきが発生しやすいためと考えられる。したがって、反射電極１２の位置にない反射表示に寄与しない突起部３の領域は小さくして、突起部３が柱状スペーサ６の形成に与える影響を小さくすることが望ましい。

同様な理由で、突起部３の形成された反射表示領域Ｒに、柱状スペーサ６のサイズに近いコンタクトホール部（開口部）を形成して、同一基板上に、コンタクトホール部に柱状スペーサ６をスピンコート等を用いて形成する場合、コンタクトホール部は画素面積に占める割合が非常に小さいので、コンタクトホール部の樹脂膜６０の膜厚は、実質的にコンタクトホール部のない突起部３上に柱状スペーサ６１を形成した樹脂膜６０の膜厚と、突起部３の膜厚の和にほぼ等しくなる。また、柱状スペーサ６と突起部３の端部が近接しているので、突起部３の段差の影響も受けやすい。したがって、柱状スペーサ６の膜厚のばらつきは殆ど改善しない。

このように、反射表示領域Ｒに突起部３が部分的に形成されないコンタクトホール部を形成して、柱状スペーサ６を配置するよりも、突起部３の端部から充分に離れた位置に配置することができる広い面積を有する透過表示領域Ｔに柱状スペーサ６を形成する方が、膜厚のばらつきを小さくできる。

ここで、柱状スペーサ６の直径は、４μｍ以上であることが好ましい。柱状スペーサの直径が４μｍより小さい場合、カラーフィルタ基板１とアレイ基板１０をシール材で貼り合わせる際に、柱状スペーサ６が印加される荷重に耐えられずに塑性変形を起こして所定のパネルギャップが得られない場合があるためである。

また、柱状スペーサ６の直径は、３０μｍ以下であることが好ましい。カラーフィルタ基板１とアレイ基板１０をシール材で貼り合わせる際に位置合わせの微調整を行う際に、柱状スペーサ６の直径が３０μｍより大きい場合、この微調整の際に柱状スペーサ６と対向する基板との摩擦応力のために柱状スペーサ６が変形したり、外れたりする場合があるためである。もちろん、柱状スペーサ６の形成された領域は、表示に寄与しないため、大きくしないことが好ましい。

以上のように、本実施の形態では、柱状スペーサ６は突起部３が形成されない透過表示領域Ｔに形成されるので、透過表示領域Ｔのギャップｄｔは、突起部３の段差や膜厚ばらつきの影響を受けない。したがって、透過表示領域Ｔのギャップｄｔが均一にでき、ギャップムラが少ない表示品位に優れた液晶表示装置が得られる効果がある。

実施の形態２．
実施の形態１においては、突起部３が形成されていない着色層２上に柱状スペーサ６が形成される場合について示したが、図５に示すように、突起部３だけでなく着色層２も形成されていない領域に、柱状スペーサ６を形成しても構わない。ここでは、左右に隣接する画素４０Ｒ、４０Ｇの境界部で、遮光膜７Ｒ、７Ｇが形成された領域において、着色層２Ｒ、２Ｇが部分的に形成されていない。また、着色層２Ｒ、２Ｇ、２Ｂが形成されていない領域が上下にストライプ状に延びている。この着色層２Ｒ、２Ｇが形成されていない領域に、柱状スペーサ６が形成されている。また、柱状スペーサ６は、上下に隣接する画素４０Ｒ、４０Ｇの突起部３の端部間のほぼ中央に配置されている。

本実施の形態では、左右に隣接する画素４０Ｒ、４０Ｇの境界部に柱状スペーサ６を配置しているが、柱状スペーサ６は着色層２Ｒ、２Ｇ上には形成されていない。したがって、透過表示領域Ｔのギャップｄｔは、着色層２Ｒ、２Ｇの位置合わせ誤差によって、着色層２Ｒ、２Ｇが部分的に重なることによる膜厚ばらつきの影響を受けない効果がある。

実施の形態３．
実施の形態１および実施の形態２においては、カラーフィルタ基板１に形成した突起部３は、図２および図５に示すように、各画素４０で島状の孤立パターンとして形成したが、図６に示すように、複数の画素４０Ｒ、４０Ｇ、４０Ｂにわたって連続したストライプ状に形成しても構わない。ここでは、柱状スペーサ６は、左右に隣接する画素４０Ｒ、４０Ｇの境界部で、突起部３が形成されていない透過表示領域Ｔにおいて、遮光膜７Ｒ、７Ｇが形成された領域に形成されている。また、柱状スペーサ６は、上下に隣接する画素４０Ｒ、４０Ｇの突起部３の端部間のほぼ中央に配置されている。

本実施の形態では、柱状スペーサ６は突起部３が形成されない透過表示領域Ｔに形成されるので、透過表示領域Ｔのギャップｄｔは、突起部３の段差や膜厚ばらつきの影響を受けない。さらに、突起部３を島状の孤立パターンとして形成する場合に比較して、左右に隣接する画素４０の境界部にある突起部３の段差の数を少なくすることができるので、段差部で発生しやすい液晶配向不良の発生を抑制できる効果がある。

実施の形態４．
実施の形態１においては、突起部３および柱状スペーサ６は、図３のように第１の基板をカラーフィルタ基板１として形成したが、図７に示すように、突起部３および柱状スペーサ６は、第１の基板をアレイ基板１０として形成しても構わない。この実施の形態では、平面図は図２と同じである。反射電極１２は突起部３上に形成され、柱状スペーサ６は突起部３が形成されない透過表示領域Ｔに形成される。ここでは、左右に隣接する画素４０Ｂ、４０Ｒとの境界部の遮光膜７Ｒの領域に対向するアレイ基板１０上に形成されている。また、柱状スペーサ６は、上下に隣接する画素４０Ｒの突起部３の端部間のほぼ中央に配置されている。なお、ここでは突起部３を平坦にしているが、反射電極１２に散乱性を持たせるために、突起部３に凹凸を形成してもよい。

本実施の形態では、アレイ基板１０に突起部３を形成する場合においても、柱状スペーサ６を突起部３の形成されない透過表示領域Ｔに形成することで、実施の形態１と同様に、柱状スペーサ６の膜厚を均一にできる効果がある。そして、透過表示領域Ｔのギャップｄｔは、突起部３の段差や膜厚ばらつきの影響を受けないので、均一にできる効果がある。

実施の形態５．
実施の形態１においては、突起部３は島状の孤立パターンであったが、図８に示すように、逆に、突起部３は画素４０全体にわたって連続して形成して、突起部３が形成されない領域が、各画素４０に島状の孤立パターンとなっている構成としてもよい。この実施の形態では、透過表示領域Ｔは、反射表示領域Ｒに囲まれた形状をしている。また、突起部３と柱状スペーサ６は、ここではアレイ基板１０に形成したが、カラーフィルタ基板１に形成してもよい。

柱状スペーサ６は、画素４０Ｂの突起部３に囲まれた透過表示領域Ｔのほぼ中央の透過電極１１上に形成されている。また、柱状スペーサ６の位置には、開口率を重視して遮光膜７Ｂは配置していない。これは、既に述べたように、人の眼の特性として青の視感度が低いので、多少の液晶配向不良であれば目立たないからである。もちろん、コントラストを高めるために、遮光膜７Ｂを配置してもよい。

本実施の形態では、柱状スペーサ６を突起部３の形成されない透過表示領域Ｔのほぼ中央に形成することで、実施の形態１と同様に、柱状スペーサ６の膜厚を均一にできる効果がある。そして、透過表示領域Ｔのギャップｄｔは、突起部３の段差や膜厚ばらつきの影響を受けないので、均一にできる効果がある。

本発明の実施の形態１における液晶表示装置の概略を示す平面図である。 本発明の実施の形態１における液晶表示装置の画素を示す平面図である。 本発明の実施の形態１における液晶表示装置の画素の断面図である。 柱状スペーサを形成するための樹脂膜を塗布した断面図である。 本発明の実施の形態２における液晶表示装置の画素を示す平面図である。 本発明の実施の形態３における液晶表示装置の画素を示す平面図である。 本発明の実施の形態４における液晶表示装置の画素を示す断面図である。 本発明の実施の形態５における液晶表示装置の画素を示す平面図である。

符号の説明

１ カラーフィルタ基板
２、２Ｒ、２Ｇ、２Ｂ 着色層
３ 突起部
４ 対向電極
５ 液晶層
６ 柱状スペーサ
７、７Ｒ、７Ｇ、７Ｇ 遮光膜
１０ アレイ基板
１１ 透過電極
１２ 反射電極
２０ 基板
３０ 表示部
３５ シール部
４０、４０Ｒ、４０Ｇ、４０Ｂ 画素
５０ 液晶パネル
Ｒ 反射表示領域
Ｔ 透過表示領域
Ｓ スペーサ端部と突起部端部の間隔
ｄｔ 透過表示領域のギャップ
ｄｒ 反射表示領域のギャップ

Claims (8)

1. 第１の基板と第２の基板とによって挟持される液晶層と、
   前記液晶層を保持する柱状スペーサと、
   表示部を構成するマトリクス状に配列された複数の画素と、
   前記画素は第１の表示領域と第２の表示領域とを備え、
   前記第１の表示領域は、前記第２の表示領域よりも前記液晶層の厚さが小さく、
   前記第１の基板には、前記第１の表示領域に突起部が形成され、
   前記突起部が形成されない前記第２の表示領域に、前記柱状スペーサが形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
2. 柱状スペーサが形成される位置に、遮光膜が配置されていることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
3. 柱状スペーサが形成される位置に、着色層が配置されていないことを特徴とする請求項１または請求項２記載の液晶表示装置。
4. 突起部が、各画素で島状の孤立パターンで形成されていることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一つに記載の液晶表示装置。
5. 突起部が、複数の画素にわたって連続したストライプ状に形成されていることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一つに記載の液晶表示装置。
6. 突起部の画素面積に占める割合が、７５％以下であることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一つに記載の液晶表示装置。
7. 柱状スペーサの端部と突起部の端部の間隔が、前記突起部の膜厚の２倍以上であることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか一つに記載の液晶表示装置。
8. 柱状スペーサは、隣接する突起部の端部間のほぼ中央に形成されていることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか一つに記載の液晶表示装置。
   
   

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