JP3976688B2 - 液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents
液晶表示装置及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP3976688B2 JP3976688B2 JP2003028850A JP2003028850A JP3976688B2 JP 3976688 B2 JP3976688 B2 JP 3976688B2 JP 2003028850 A JP2003028850 A JP 2003028850A JP 2003028850 A JP2003028850 A JP 2003028850A JP 3976688 B2 JP3976688 B2 JP 3976688B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alignment film
- alignment
- pixel region
- liquid crystal
- display device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
- G02F1/13378—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation
- G02F1/133784—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation by rubbing
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A47—FURNITURE; DOMESTIC ARTICLES OR APPLIANCES; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
- A47L—DOMESTIC WASHING OR CLEANING; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
- A47L9/00—Details or accessories of suction cleaners, e.g. mechanical means for controlling the suction or for effecting pulsating action; Storing devices specially adapted to suction cleaners or parts thereof; Carrying-vehicles specially adapted for suction cleaners
- A47L9/02—Nozzles
- A47L9/06—Nozzles with fixed, e.g. adjustably fixed brushes or the like
- A47L9/0693—Specially shaped nozzles, e.g. for cleaning radiators, tubes, fans or the like; Dusters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1316—Methods for cleaning the liquid crystal cells, or components thereof, during manufacture: Materials therefor
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133388—Constructional arrangements; Manufacturing methods with constructional differences between the display region and the peripheral region
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、ラビング法による配向処理が施されるに適した構造を有する液晶表示装置及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
周知のように、液晶表示装置は、少なくとも一方が透明基板となる一対の基板間に液晶が充填されて構成され、この液晶に電圧を印加することで電気的な作用が働くことより、その配列状態を変化させるとともに、この変化を偏光板で顕在化させることによって所望の画像を可視表示する装置である。
【0003】
そして、この液晶を特定方向へ配向させる手段として、従来より配向膜が用いられている。この配向膜は、一般にラビング法と称されるレーヨン等のラビング布でこする方法によって、その表面に物理的なストライプ状の細かい溝が形成され配向処理したものであり、同配向膜に接する液晶は、この溝の方向(配向方向)に配列されるようになる。このため、このように配列された液晶に外部から電圧を印加するとともに、この印加する電圧を調整することで、その配列を変化させることができ、ひいては、液晶基板の表面に設けられた偏光板を透過する光の透過光量を変化させることができるようになる。
【0004】
ところで、上述のようにラビング法によって配向膜を配向処理する場合には、ラビング布と配向膜とが接触するため、次のような事態を招くおそれがある。すなわち、配向膜をラビング布でこする際にその表面に異物が付着したり、また、この異物が付着した状態でラビングが行われたりすることにより配向膜表面に傷(ラビングすじ)をつけてしまうという事態である。このように、配向膜表面に異物の付着した部分や、傷がついた部分などがあると、液晶分子の配向が乱され、ひいては輝点や輝度むらなどの表示品位の低下を招くこととなる。
【0005】
このような事態を避けるため、通常、ラビング布を十分にクリーニングしてから配向処理を行うようにしているが、たとえラビング布から異物を完全に除去できたとしても、次に述べる問題は避けられないものとなっている。すなわち、ラビング布が配向膜をラビング処理する前に、基板上の配向膜が形成されない非表示領域(非画素領域)に存在する異物を拾ったり、また直前に配向処理した基板からの異物を拾ったりするという問題である。特に、基板の端部は、基板に形成されている多層膜がエッチング残りとして汚染された状態になり易く、また、同部分に形成されている膜が剥がれ易いため、この部分からラビング布が異物を拾ってしまうという懸念は避け難い問題があった。よって、これらを改善すべく配向膜の形成されていない領域(配向膜非形成領域)に線状の凹溝などの異物除去部が設けられている液晶表示装置が提案されている。
【0006】
例えば、図5、図6に示すように、基板40の端部には、配向膜41の形成されていない領域(非表示領域=非画素領域)であって、少なくともラビング布11が接触し始める領域に、線状の凹溝42cとこれに隣接する凸状42dとからなる異物除去部42が設けられている。この異物除去部42は、基板40の両端に各1つずつ、同基板40の進行方向と直交する方向に線状に延びる凸形状部材42aを下地としてその上方に堆積形成されたシリコン酸化膜の絶縁膜42bによって形成されている。ここで、凸形状部材42aは、例えば基板40にブラックマトリクスが形成される際に、同時にスパッタ法により成膜、エッチングされたクロム膜からなる。また、絶縁膜42bは、スパッタ法にてシリコン酸化膜からなるものであり、駆動系や表示部に用いる絶縁膜が形成される際に、同時に形成されている。また、この異物除去部42は、その長さが、配向膜41の膜幅よりも長く形成されている。こうした態様にて異物除去部42が形成されているため、基板40の移動に際し、ラビング布11は、配向膜41と接触する前に、その進行方向前方に形成された異物除去部42と接触するようになる。このように異物除去部42と接触することで、同ラビング布11に付着している異物13が凹溝42cに拭い落とされて除去される。その後、この異物の除去されたラビング布11によって、配向膜41に配向処理が施される(例えば、特許文献1参照)。
【0007】
また、図7、8に示すように、液晶表示装置は配向面を有する駆動基板40と、同じく配向面を有する対向基板と、両配向面の間に保持された液晶層とを備えている。駆動基板40と対向基板はシール材45を介して互いに接合している。対向基板は配向面に沿って連続的に形成された対向電極を有する。駆動基板40は配向面に沿って形成された透明導電膜を有すると共に、表示領域(画素領域)とこれを囲む周辺領域(非画素領域)とに区画されている。表示領域には透明導電膜を分割的にパタニングした画素電極43とこれを駆動するスイッチング素子とが集成形成されている。周辺領域の少なくとも一部には表示領域から延設された透明導電膜をパタン化したダミー電極44が配向面に沿って形成され、この画素電極43及びダミー電極44をポリイミド等の配向膜41で薄く印刷方式により被覆し布材を巻き付けたローラ10でラビング処理して配向面41Bを形成する。布材を巻き付けたローラ10のラビング処理時布材から剥離したバフカス(繊維屑)は、最初に接触する周辺領域のダミー電極44の段差によって大部分が捕捉され、表示領域に進入した時点ではバフカスの発生量が少なくなっている。この為、画素電極43の段差に捕捉されるバフカスの量は顕著に減少し、画素間の短絡欠陥を防止できる(例えば、特許文献2参照)。
【0008】
【特許文献1】
特開2001−318380号公報(図1、図2)
【特許文献2】
特開平9−43629号公報(図1)
【0009】
【発明が解決しようとする課題】
このように、前述した前者の従来を示す液晶表示装置では、線状の凹溝42cとこれに隣接する凸状42dとからなる異物除去部42は、基板1の両端に各1つずつ、同基板40の進行方向と直交する方向に線状に延びるスパッタ法によりクロム膜を成膜しエッチングされた凸形状部材42aを下地として、その上方にスパッタ法にてシリコン酸化膜からなる絶縁膜42bによって堆積形成されるため、画素領域の配向膜の形成工程の他に、異物除去部の形成手順としては(a)凸形状部材の形成工程、(b)絶縁膜の形成工程、(c)レジストバターンの形成工程、(d)エッチングによる凹溝及び凸状の異物除去部の形成工程と順次行うので複数の工程を要し工数がかかる問題がある。また、線状の凹溝42cとこれに隣接する凸状42dとからなる異物除去部42により異物除去機能を高めることができるものの、画素領域の配向膜の膜厚(高さ)に対して、配向膜の形成されていない領域の凸状の異物除去部の膜厚(高さ)との関係が示唆されていないため、画素領域の配向膜の近い領域でラビング布を有するラビングローラで異物除去行為を行うと異物除去機能を高めるどころか、この異物が飛散してしまい画素領域の配向膜側にも付着してしまうという懸念は避け難い問題がある。
【0010】
また、前述した後者の従来を示す液晶表示装置では、駆動基板40には画素電極43及びダミー電極44を印刷方式により被覆するポリイミド等の配向膜41が形成されており、所定のラビング方向に沿ってラビングされて配向面を形成する。ローラ10のラビング処理時布材から剥離したバフカス(繊維屑)は、最初に接触する周辺領域のダミー電極44の段差によって捕捉されるが、ダミー電極44はラビング方向と直交する端部が生じる様に一定の分割ピッチで分割パターン化されているため、一定の分割ピッチのダミー電極の間は端部が生じないので段差によるバフカス(繊維屑)は捕捉されない。よって、表示領域の配向膜にこの異物であるバフカス(繊維屑)などの一部が付着してしまうという問題がある。
【0011】
本発明はこの実情に鑑みてなされたものであり、その目的は、ラビング法によって配向膜を配向処理することに関して、画素領域の配向膜表面の品位、ひいては表示品位を更に高く維持することのできる液晶表示装置及びその製造方法を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するために本願の液晶表示装置の発明は、TFT基板と対向基板との間に液晶が狭持され、前記液晶側の両者の基板上を覆うように配向膜が形成される液晶表示装置であって、前記両者の基板にはラビングによる配向処理が施された配向膜が設けられ、TFT基板または対向基板の少なくとも一方の画素領域の配向膜の少なくとも一辺の近傍の非画素領域には、前記画素領域の配向膜の高さより高い配向膜が配設されてなることをその要旨とする。
【0013】
また、前記課題を解決するために本願の液晶表示装置の製造方法の発明は、回転するラビングローラの周面に配設されたラビング用布に対して基板を相対的に移動させることで、前記基板に成膜されている配向膜の表面にラビング処理を施す液晶表示装置の製造方法において、前記基板の画素領域の配向膜の少なくとも一辺の近傍の非画素領域には、前記画素領域の配向膜の高さより高い配向膜を前記画素領域の配向膜と同時形成し、前記ラビング用布を前記配向膜に接触させ通過した後、前記画素領域の配向膜に対して配向処理を施すことをその要旨とする。
【0014】
【作用】
前記した手段によれば、TFT基板または対向基板の少なくとも一方の画素領域の配向膜の少なくとも一辺の近傍の非画素領域には、前記画素領域の配向膜の高さより高い配向膜が配設されているため、画素領域の配向膜を配向処理する以前に、ラビング用布が画素領域の配向膜の高さより高い配向膜を通過することで、ラビング用布に付着している異物をこの高い配向膜の段差にて拭い落とすことができことになる。したがって、異物の除去されたラビング用布を用いて画素領域の配向膜に配向処理を施すことができ、ひいては、画素領域の配向膜表面の品位を高く維持することができるようになる。且つ、この配向膜の段差にて拭い落とされた異物は、配向膜の凹部内に収容されることで画素領域の配向膜に飛び散ることもなく好適に抑制される。
【0015】
また、基板の画素領域の配向膜の少なくとも一辺の近傍の非画素領域には、画素領域の配向膜の高さより高い配向膜を画素領域の配向膜と同時に形成し、ラビング用布を高い配向膜に接触させ通過した後、画素領域の配向膜に対して配向処理を施すため、高い配向膜を形成する製造工程を特別に増やすことなく、ラビング用布に付着している異物をこの配向膜で拭い落とし収容することができるので、製造作業が効率的で確実な配向処理作業ができて液晶表示装置としの輝点や輝度むらなどの表示品位を高く維持することができる。
【0016】
【発明の実施の形態】
以下、本発明による本発明の実施の形態例について図面を参照して説明する。図1は、本実施形態にかかる液晶表示装置の一実施形態についての基板構造並びに配向処理態様を示す模式的斜視図を示し、図2は、図1のX−X’線分に沿った第一の実施形態についての模式的断面図であり、図3は、図1のX−X’線分に沿った配向膜の変形例の実施形態についての模式的断面図である。また、図4は、フレキソ印刷での配向膜を形成する配向印刷装置の模式図を示す。
【0017】
この配向処理は、ラビングローラ10上に貼着されたラビング用布11が、同液晶表示装置の基板1上に形成されたA配向膜2の表面を擦ることによって行われる。具体的には図1に示されるように、固定された軸を回転中心としてラビングローラ10が回転される。更に、ラビングローラ10の下方には、基板1が搭載されたステージ12が、同図1に示す矢印方向に移動可能に設けられている。そして、このステージが同矢印で示す方向に向かって移動していく際、A配向膜2の表面がラビングローラ10に貼着されたラビング布11と接触するようになる。このとき、A配向膜2の表面が同ラビング布11によって擦られることで、A配向膜2の表面に物理的なストライプ状の細かい溝が形成される。
【0018】
ところで、上記態様にて配向処理を行う際、ステージ12に連動して基板1がラビングローラ10の鉛直下方に移動していくと、ラビング布11とA配向膜2とが接触する以前に、同ラビング布11は配向膜2の形成されていない基板1の非画素領域に接触するようになる。そしてこのとき、ラビング用布11が同領域上に存在する異物を拾ってしまう恐れがあることは前述した通りである。また、このようにラビング布用11に異物が付着した状態で、A配向膜2に配向処理が行われると、A配向膜2に異物が転写されたり、A配向膜2の表面に傷がつけられてしまったりする恐れがあることも前述した通りである。
【0019】
そこで、先ず本実施形態にかかる液晶表示装置の一実施形態においては、TFT基板と対向基板との間に液晶が狭持され、前記液晶側の両者の基板上を覆うように配向膜が形成される液晶表示装置であって、図1に示すように、基板1において、A配向膜2の形成されていない領域であって、少なくともラビング用布11が接触し始める領域、即ちTFT基板または対向基板の少なくとも一方の画素領域のA配向膜2の少なくとも一辺の近傍には、画素領域のA配向膜2の高さ(例えば、300Å〜1200Å)より高いB配向膜3(例えば、最大2000Å)が配設されている。そして本実施形態において、この高いB配向膜3は、基板1の両端に少なくとも1つ、同基板1の進行方向と直交する方向に形成されている。また、この高いB配向膜3は、その長さが、A配向膜2の膜幅よりも長く形成されている。尚、この画素領域のA配向膜2の高さより高いB配向膜3が同時に形成できる形成手順については後述に図4に基づいて説明する。
【0020】
こうした態様にて、図2に示すように画素領域のA配向膜2の高さより高いB配向膜3が形成されているため、基板1の移動に際し、ラビング用布11は、A配向膜2と接触する前に、その進行方向前方に形成された高いB配向膜3と接触するようになる。このようにB配向膜3と接触することで、ラビング用布11から異物13が除去される。その後、この異物13の除去されたラビング用布11によって、A配向膜2に配向処理が施される。また、A配向膜2へ配向処理を施した後、ラビング用布11が進行方向から見て後方に設けられたB配向膜3と再び接することで、この配向処理において新たに異物13を拾った場合であれ、同異物13が除去された状態で次の配向処理工程に備えることができる。
【0021】
ここで、このB配向膜3の異物除去機能について図2に基づいて説明する。図2は、基板1の移動に伴い、ラビングローラ10の鉛直下方にB配向膜3が配置されたときにおける、それらの図1に示されるX−X’線分に沿った模式的断面図である。同図2に示されるように、ラビングローラ10のラビング用布11に付着した異物13の除去の役割を担う高いB配向膜3は、基板1の進行方向と直交する方向に線状或いは点状に延びるように画素領域のA配向膜2と同一の素材の有機高分子系のポリイミドを用いてフレキソ印刷で同時に形成されたものである。
【0022】
このため、上記ラビング布11がこのB配向膜3にさしかかったときには、同ラビング用布11に付着している異物13が、画素領域のA配向膜2の高さより高いB配向膜3による段差によって拭い落とされて高いB配向膜3の凹部3aへと集められ収容されるようになる。図2ではB配向膜3を2つ配設したものであるが、少なくとも一つでもよいが非画素領域に応じて複数配設する方が異物を除去する確率が高くなり好ましい。また。異物13の除去の役割を担う点状の配向膜の場合は、ラビング用布11を有するラビングローラ10を基板面に対して傾斜して行うことが異物の除去効率の点で好ましい。
【0023】
更に、B配向膜4の変形例の実施形態について図3の模式的断面図に基づいて説明する。TFT基板と対向基板との間に液晶が狭持され、液晶側の両者の基板上を覆うように配向膜が形成される液晶表示装置であって、図3に示すように、基板1において、A配向膜2の形成されていない領域であって、少なくともラビング用布11が接触し始める領域、即ちTFT基板または対向基板の少なくとも一方の画素領域のA配向膜2の少なくとも一辺の近傍には、画素領域のA配向膜2の高さ(例えば、300Å〜1200Å)より高く(例えば、最大2000Å)、且つ高さの異なる複数のB配向膜4が配設されている。この高さの異なる複数のB配向膜4の構成以外は前述の一実施形態と同様である。
【0024】
また、図3に示すように、基板1において、A配向膜2の形成されていない領域であって、少なくともラビング用布11が接触し始める領域、即ちTFT基板または対向基板の少なくとも一方の画素領域のA配向膜2の少なくとも一辺の近傍には、高さの異なる複数の配向膜は、画素領域の配向膜に隣接するにしたがって低くなるように配設されている。この画素領域の配向膜に隣接するにしたがって低くなるB配向膜4の構成以外は前述の一実施形態と同様である。
【0025】
また、図3に示すように、基板1において、A配向膜2の形成されていない領域であって、少なくともラビング用布11が接触し始める領域、即ちTFT基板または対向基板の少なくとも一方の画素領域のA配向膜2の少なくとも一辺の近傍には、画素領域のA配向膜2の高さより高く、且つ高さの異なる複数のB配向膜4は、ラビングローラ10のラビング用布11に接触開始箇所または接触終了箇所の配向膜の高さを画素領域のA配向膜2より高くし、画素領域のA配向膜2に近い箇所のB配向膜4の高さを画素領域のA配向膜2と同じ高さに配設されている。この画素領域の配向膜に近い箇所の配向膜の高さを画素領域の配向膜と同じ高さのB配向膜4の構成以外は前述の一実施形態と同様である
前述したように高さの異なる複数の配向膜は、画素領域の配向膜に隣接するにしたがって低く、或いは画素領域の配向膜と同じ高さになるように配設する理由は、画素領域の近くまで高い段差のB配向膜3、4を配設するとラビング用布11が暴れるため、画素領域の配向膜までに異物が飛散してしまうのを抑制するので好ましい。
【0026】
また、B配向膜3、4は、同一の素材の有機高分子系のポリイミドを用いてフレキソ印刷で同時に形成されたものである。
【0027】
また、B配向膜3、4は、画素領域のA配向膜2の少なくとも一辺に沿って図1に示すように直線、曲線を含む線状或いは点状(図示省略)に設けられ、その長さは、A配向膜2の膜幅よりも長く形成されている。
【0028】
次に、この画素領域のA配向膜2と、ラビング用布11に付着した異物13の除去の役割を担うB配向膜3、4の形成手順について、フレキソ印刷法で配向膜を形成する配向印刷装置の模式図4を用いて説明する。
【0029】
図4に示すように、転写ローラ31上にフレキソ版(配向版)と呼ばれゴム製などのフレキソ印刷版32を装着し、転写ローラ31が印刷ステージ33に載置されたガラス基板等の基板1上を転がることによって、フレキソ印刷版32に付着し、配向材(例えば、ポリイミド材)を基板1上に転写してA配向膜2及びB配向膜3、4を同時に印刷するものである。フレキソ印刷版32への配向材の供給は、ディスペンサー34より適量の配向材を滴下され、ここで一旦ドクターロール35に付着される。ドクターロール35の外周面に付着した配向材は、さらにアニロックスロール36に移り、これからさらにフレキソ印刷版32に転写される。
【0030】
アニックスロール36には、例えば、図示しないが格子形状で溝数が400線/インチ、溝の深さ10〜20μm程度の四角錐の溝があり、その溝に一時的に配向材が滞留した状態となっている。このアニロックスロール36とフレキソ印刷版32が接触するとことにより、アニロックスロール36の溝に滞留されていて配向材がフレキソ印刷版32に転写される。このフレキソ印刷版32の表面には微少な突起(図示省略)が形成してあり、この配向材は、転写ローラ31が基板1上にフレキソ印刷版32を押し付けた状態で転がると、押圧された突起は、それぞれ弾性変形して、谷部に滞留していた配向材を押し出して、突起の先端部から基板1上に配向膜としてのパターンを形成する。この配向膜のパターンの形状は、フレキソ印刷版32の印刷パターンに対応する部分が転写して形成される。従って、フレキソ印刷版32の印刷パターンは、画素領域のA配向膜2とラビング用布11に付着した異物13の除去の役割を担うB配向膜3、4とが同時に形成できるように予め設定しておく。この画素領域のA配向膜2の高さより配向処理高いB配向膜3、4を同時に形成するには、特にアニロックスロール36の溝数や深度とフレキソ印刷版32の微少な突起、即ち網点(密度や深度)とを適宜変えて設定しておくことにより、異なる印刷パターン及び高さ(膜厚)の配向膜を同時に印刷形成することが可能となる。
【0031】
図2及び図3を参照して、本実施形態にかかる液晶表示装置の製造方法について説明する。前述したようにフレキソ印刷法を用いて画素領域のA配向膜2の少なくとも一辺の近傍に、画素領域のA配向膜2の高さより高いB配向膜3を画素領域のA配向膜2と同時形成した基板1をステージ12に載置する。そして、図1に示すように回転するラビングローラ10の周面に配設されたラビング用布11に対して基板1を相対的に移動させ、図2に示すように、先ずラビングローラ10のラビング用布11をB配向膜3に接触通過させてラビング用布11に付着した異物13を除去した後、画素領域のA配向膜2に対して配向処理を施す。更にラビング用布11が進行方向から見て後方に設けられたB配向膜3と再び接触通過させ、配向処理中に付着した新たな異物13を除去させて次の配向処理工程に備えて終了する。
【0032】
また、前述したようにフレキソ印刷法を用いて画素領域のA配向膜2の少なくとも一辺の近傍に、画素領域のA配向膜2の高さより高く、且つ高さの異なる複数のB配向膜4を画素領域のA配向膜2と同時形成した基板1をステージ12に載置する。そして、図1に示すように回転するラビングローラ10の周面に配設されたラビング用布11に対して基板1を相対的に移動させ、図3に示すように、先ずラビングローラ10のラビング用布11をB配向膜4に順次接触し通過させてラビング用布11に付着した異物13を除去した後、画素領域のA配向膜2に対して配向処理を施す。更にラビング用布11が進行方向から見て後方に設けられたB配向膜4と再び接触通過させ、配向処理中に付着した新たな異物13を除去させて次の配向処理工程に備えて終了する。
【0033】
また、前述したようにフレキソ印刷法を用いて画素領域のA配向膜2の少なくとも一辺の近傍に、高さの異なる複数のB配向膜4は、画素領域のA配向膜2に隣接するにしたがって低くなるように画素領域のA配向膜2と同時形成した基板1をステージ12に載置する。そして、図1に示すように回転するラビングローラ10の周面に配設されたラビング用布11に対して基板1を相対的に移動させ、図3に示すように、先ずラビングローラ10のラビング用布11をB配向膜4に順次接触し通過させてラビング用布11に付着した異物13を除去した後、画素領域のA配向膜2に対して配向処理を施す。更にラビング用布11が進行方向から見て後方に設けられたB配向膜4と再び接触通過させ、配向処理中に付着した新たな異物13を除去させて次の配向処理工程に備えて終了する。
【0034】
また、前述したようにフレキソ印刷法を用いて画素領域のA配向膜2の少なくとも一辺の近傍に、画素領域のA配向膜2の高さより高く、且つ高さの異なる複数のB配向膜4が、ラビングローラの接触開始箇所または接触終了箇所のB配向膜4の高さを画素領域のA配向膜2より高くし、画素領域のA配向膜2に近い箇所のB配向膜4の高さを画素領域のA配向膜2と同じ高さに同時形成した基板1をステージ12に載置する。そして、図1に示すように回転するラビングローラ10の周面に配設されたラビング用布11に対して基板1を相対的に移動させ、図3に示すように、先ずラビングローラ10のラビング用布11をB配向膜4に順次接触し通過させてラビング用布11に付着した異物13を除去した後、画素領域のA配向膜2に対して配向処理を施す。更にラビング用布11が進行方向から見て後方に設けられたB配向膜4と再び接触通過させ、配向処理中に付着した新たな異物13を除去させて次の配向処理工程に備えて終了する。
【0035】
尚、異物を収容したB配向膜3、4は、配向処理終了の後に基板1の画素領域と非画素領域との間で基板1より切断等で切り離して廃棄し液晶表示パネルの狭縁化に対応させる。
【0036】
【発明の効果】
以上説明した本実施形態によれば、以下の効果が得られるようになる。
(1)基板の少なくとも一方の画素領域の配向膜の少なくとも一辺の近傍には、画素領域の配向膜の高さより高い配向膜が配設、また高さの異なる複数の配向膜が配設されているため、画素領域の配向膜を配向処理する以前に、ラビング用布が画素領域の配向膜の高さより高い配向膜を通過することで、ラビング用布に付着している異物をこの高い配向膜の段差にて拭い落とすことができことになる。したがって、異物の除去されたラビング用布を用いて画素領域の配向膜に配向処理を施すことができ、ひいては、画素領域の配向膜表面の品位を高く維持することができるようになる。特に、この配向膜の段差にて拭い落とされた異物は、配向膜の凹部内に好適に収容され画素領域の配向膜に飛び散ることもなく好適に配向処理できる。
(2)基板の少なくとも一方の画素領域の配向膜の少なくとも一辺の近傍には、画素領域の配向膜の高さより高い配向膜、或いは高さの異なる複数の配向膜を画素領域の配向膜と同一素材の有機高分子系のポリイミドを用いて同時にフレキソ印刷で形成し、ラビング用布を高い配向膜に接触させ通過した後、画素領域の配向膜に対して配向処理を施すため、高い配向膜を形成する製造工程を特別に増やすことなく、ラビング用布に付着している異物をこの配向膜で拭い落とし収容することができるので、製造作業が効率的で確実な配向処理作業ができて液晶表示装置としての輝点や輝度むらなどの表示品位を高く維持することができる。
(3)高さの異なる複数の配向膜は、画素領域の配向膜に隣接するにしたがって低く、或いは画素領域の配向膜と同じ高さになるように配設するため、この配向膜によってラビング用布11が暴れるのを抑制して画素領域の配向膜までに異物が飛散してしまうのを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施形態にかかる液晶表示装置の一実施形態についての基板構造並びに配向処理態様を示す模式的斜視図。
【図2】図1のX−X’線分に沿った第一の実施形態についての模式的断面図。
【図3】図1のX−X’線分に沿った配向膜の変形例の実施形態についての模式的断面図。
【図4】フレキソ印刷での配向膜を形成する配向印刷装置の模式図。
【図5】従来の基板構造並びに配向処理態様を示す模式的斜視図。
【図6】図5のA−A’線分に沿った断面図。
【図7】従来の液晶表示装置の平面図。
【図8】従来の液晶表示装置の断面図。
【符号の説明】
1…基板、2…配向膜A(画素領域)、3…配向膜B(非画素領域)、3a…凹部、4…配向膜B(非画素領域)、4a…凹部、10…ラビングローラ、11…ラビング用布、12…ステージ、13…異物、31…転写ローラ、32…フレキソ印刷版、33…印刷ステージ、34…ディスペンサ、35…ドクターロール、36…アニロックスロール。
Claims (14)
- TFT基板と対向基板との間に液晶が狭持され、前記液晶側の両者の基板上を覆うように配向膜が形成される液晶表示装置であって、
前記両者の基板にはラビングによる配向処理が施された配向膜が設けられ、TFT基板または対向基板の少なくとも一方の画素領域の配向膜の少なくとも一辺の近傍の非画素領域には、前記画素領域の配向膜の高さより高い配向膜が配設されていることを特徴とする液晶表示装置。 - TFT基板と対向基板との間に液晶が狭持され、前記液晶側の両者の基板上を覆うように配向膜が形成される液晶表示装置であって、
前記両者の基板にはラビングによる配向処理が施された配向膜が設けられ、TFT基板または対向基板の少なくとも一方の画素領域の配向膜の少なくとも一辺の近傍の非画素領域には、前記画素領域の配向膜の高さより高く、且つ高さの異なる複数の配向膜が配設されていることを特徴とする液晶表示装置。 - 前記高さの異なる複数の配向膜は、画素領域の配向膜に隣接するにしたがって低くなるように配設されていることを特徴とする請求項2記載の液晶表示装置。
- TFT基板と対向基板との間に液晶が狭持され、前記液晶側の両者の基板上を覆うように配向膜が形成される液晶表示装置であって、
前記両者の基板にはラビングによる配向処理が施された配向膜が設けられ、TFT基板または対向基板の少なくとも一方の画素領域の配向膜の少なくとも一辺の近傍の非画素領域には、前記画素領域の配向膜の高さより高く、且つ高さの異なる複数の配向膜は、ラビングローラの接触開始箇所または接触終了箇所の配向膜の高さを前記画素領域の配向膜より高くし、前記画素領域の配向膜に近い箇所の配向膜の高さを画素領域の配向膜と同じ高さに配設すること特徴とする液晶表示装置。 - 前記配向膜は、前記画素領域の配向膜と同一の素材で構成されてなることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項記載の液晶表示装置。
- 前記配向膜は、前記画素領域の配向膜と同一の素材の有機高分子系のポリイミドで設けてなることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項記載の液晶表示装置。
- 前記配向膜は、前記画素領域の配向膜の少なくとも一辺に沿って線状或いは点状に設けてなることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項記載の液晶表示装置。
- 前記画素領域の配向膜と前記配向膜は、フレキソ印刷で同時に設けてなることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項記載の液晶表示装置。
- 回転するラビングローラの周面に配設されたラビング用布に対して基板を相対的に移動させることで、前記基板に成膜されている配向膜の表面に配向処理を施す液晶表示装置の製造方法において、
前記基板の画素領域の配向膜の少なくとも一辺の近傍の非画素領域には、前記画素領域の配向膜の高さより高い配向膜を前記画素領域の配向膜と同時形成し、前記ラビング用布を前記配向膜に接触させ通過した後、前記画素領域の配向膜に対して配向処理を施すことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 回転するラビングローラの周面に配設されたラビング用布に対して基板を相対的に移動させることで、前記基板に成膜されている配向膜の表面に配向処理を施す液晶表示装置の製造方法において、
前記基板の画素領域の配向膜の少なくとも一辺の近傍の非画素領域には、前記画素領域の配向膜の高さより高く、且つ高さの異なる複数の配向膜を前記画素領域の配向膜と同時形成し、前記ラビング用布を前記配向膜に接触させ通過した後、前記画素領域の配向膜に対して処配向理を施すことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 前記高さの異なる複数の配向膜は、前記画素領域の配向膜に隣接するにしたがって低くなるように前記画素領域の配向膜と同時形成し、前記ラビング用布を前記配向膜に接触させ通過した後、前記画素領域の配向膜に対して配向処理を施すことを特徴とする請求項10記載の液晶表示装置の製造方法。
- 回転するラビングローラの周面に配設されたラビング用布に対して基板を相対的に移動させることで、前記基板に成膜されている配向膜の表面に配向処理を施す液晶表示装置の製造方法において、
フレキソ印刷法を用いて前記基板の画素領域の配向膜の少なくとも一辺の近傍の非画素領域には、前記画素領域の配向膜の高さより高く、且つ高さの異なる複数の配向膜が、ラビングローラの接触開始箇所または接触終了箇所の配向膜の高さを前記画素領域の配向膜より高くし、前記画素領域の配向膜に近い箇所の配向膜の高さを画素領域の配向膜と同じ高さに同時形成し、前記ラビング用布を配向膜に接触させ通過した後、前記画素領域の配向膜に対して配向処理を施すことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 前記配向膜は、前記画素領域の配向膜と同一の素材の有機高分子系のポリイミドを用いてフレキソ印刷で同時形成し、前記ラビング用布を前記配向膜に接触させ通過した後、前記画素領域の配向膜を処配向理することを特徴とする請求項9乃至請求項12のいずれか1項記載の液晶表示装置の製造方法。
- 前記配向膜を、前記画領域の配向膜の配向処理後の領域にも画素領域の配向膜と同時形成し、前記画素領域の配向膜に対して配向処理を施した後、前記配向膜にも接触させ通過して配向処理を終了することを特徴とする請求項9乃至請求項12のいずれか1項記載の液晶表示装置の製造方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003028850A JP3976688B2 (ja) | 2003-02-05 | 2003-02-05 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
TW093102339A TWI318713B (en) | 2003-02-05 | 2004-02-02 | Lcd device and method for manufacturing the same |
US10/770,017 US6985199B2 (en) | 2003-02-05 | 2004-02-03 | LCD device and method for manufacturing the same |
KR1020040007307A KR100660360B1 (ko) | 2003-02-05 | 2004-02-04 | Lcd 장치 및 그 제조 방법 |
CNB2004100053185A CN100383641C (zh) | 2003-02-05 | 2004-02-05 | 液晶显示装置及其制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003028850A JP3976688B2 (ja) | 2003-02-05 | 2003-02-05 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004240142A JP2004240142A (ja) | 2004-08-26 |
JP3976688B2 true JP3976688B2 (ja) | 2007-09-19 |
Family
ID=32820827
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003028850A Expired - Fee Related JP3976688B2 (ja) | 2003-02-05 | 2003-02-05 | 液晶表示装置及びその製造方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6985199B2 (ja) |
JP (1) | JP3976688B2 (ja) |
KR (1) | KR100660360B1 (ja) |
CN (1) | CN100383641C (ja) |
TW (1) | TWI318713B (ja) |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4767554B2 (ja) * | 2004-07-13 | 2011-09-07 | セイコーインスツル株式会社 | 表示装置 |
TWI264603B (en) * | 2004-07-19 | 2006-10-21 | Chunghwa Picture Tubes Ltd | Substrate structure for forming alignment film thereon by ink-jet printing and liquid crystal panel formed by using the same |
FR2874447B1 (fr) * | 2004-08-17 | 2007-01-12 | Nemoptic Sa | Dispositif afficheur a cristal liquide comprenant des moyens perfectionnes de commutation a la peripherie de l'afficheur |
JP4333574B2 (ja) | 2004-12-17 | 2009-09-16 | 三菱電機株式会社 | 液晶表示装置ならびにその製造方法 |
KR20070044924A (ko) * | 2005-10-26 | 2007-05-02 | 삼성전자주식회사 | 액정 표시 장치의 배향막과 배향막 인쇄 마스크 및 배향막형성 방법 |
TWI350400B (en) * | 2006-11-27 | 2011-10-11 | Chimei Innolux Corp | Substrate used in liquid crystal panel, liquid crystal panel and liquid crystal display device |
JP4996273B2 (ja) * | 2007-01-31 | 2012-08-08 | 富士フイルム株式会社 | ラビング方法及び装置、それを用いた光学フィルムの製造方法及び装置 |
US8045106B2 (en) * | 2007-08-30 | 2011-10-25 | Seiko Epson Corporation | Substrate for liquid crystal device, electro-optic apparatus and electronic equipment |
JP5320842B2 (ja) * | 2007-08-30 | 2013-10-23 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶装置用基板及びその製造方法、電気光学装置並びに電子機器 |
CN101726882B (zh) * | 2008-10-24 | 2011-12-07 | 比亚迪股份有限公司 | 一种改善液晶显示器电压的方法 |
KR101434010B1 (ko) * | 2008-10-27 | 2014-08-25 | 제이에스알 가부시끼가이샤 | 감광성 절연 수지 조성물 및 그의 경화물 |
KR101300034B1 (ko) | 2010-10-18 | 2013-08-29 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치용 기판 및 이를 이용한 액정표시장치 |
CN102645788B (zh) * | 2011-06-08 | 2014-11-12 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种阵列基板 |
CN102645792B (zh) * | 2012-04-25 | 2014-10-22 | 青岛海信电器股份有限公司 | 液晶盒加工用摩擦机、液晶盒及其加工方法、液晶显示装置 |
KR102006775B1 (ko) * | 2012-08-30 | 2019-08-02 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정패널 및 이를 이용한 액정표시장치 |
CN103869546A (zh) * | 2014-03-06 | 2014-06-18 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种基板 |
CN104020611B (zh) * | 2014-06-16 | 2017-01-04 | 上海中航光电子有限公司 | 一种显示母板及显示面板 |
CN104280958B (zh) | 2014-09-26 | 2017-03-08 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种阵列基板及其制作方法、显示装置 |
CN104849899A (zh) * | 2015-06-03 | 2015-08-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种母板、对盒后的母板、液晶显示面板及显示装置 |
JP6702998B2 (ja) * | 2015-10-21 | 2020-06-03 | 富士フイルム株式会社 | 透明導電膜、透明導電膜の製造方法およびタッチセンサ |
KR102423443B1 (ko) * | 2016-01-15 | 2022-07-21 | 삼성디스플레이 주식회사 | 액정표시장치 및 액정표시장치의 제조 방법 |
CN106547143B (zh) * | 2017-01-24 | 2019-10-15 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示基板的制作方法、显示基板及显示装置 |
CN107797340A (zh) * | 2017-11-23 | 2018-03-13 | 信利(惠州)智能显示有限公司 | 一种摩擦配向掩膜板及摩擦配向方法 |
CN109799651A (zh) * | 2019-03-14 | 2019-05-24 | 信利半导体有限公司 | 一种显示基板的摩擦配向方法及摩擦配向装置 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3074111B2 (ja) * | 1994-05-27 | 2000-08-07 | シャープ株式会社 | 液晶パネル及びその製造方法 |
JPH0943629A (ja) | 1995-07-31 | 1997-02-14 | Sony Corp | 液晶表示装置 |
TWI229221B (en) * | 1996-05-22 | 2005-03-11 | Seiko Epson Corp | Liquid crystal display panel and method of manufacturing the same |
JPH10333150A (ja) * | 1997-05-28 | 1998-12-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示装置とその製造方法 |
KR100257480B1 (ko) * | 1997-12-08 | 2000-06-01 | 김영환 | 액정 표시 소자 |
JPH11337967A (ja) * | 1998-05-28 | 1999-12-10 | Casio Comput Co Ltd | 液晶表示装置 |
JP2000267105A (ja) * | 1999-03-19 | 2000-09-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶表示パネルの製造方法 |
JP2001318380A (ja) | 2000-05-12 | 2001-11-16 | Sanyo Electric Co Ltd | 液晶表示装置 |
-
2003
- 2003-02-05 JP JP2003028850A patent/JP3976688B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-02-02 TW TW093102339A patent/TWI318713B/zh not_active IP Right Cessation
- 2004-02-03 US US10/770,017 patent/US6985199B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2004-02-04 KR KR1020040007307A patent/KR100660360B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2004-02-05 CN CNB2004100053185A patent/CN100383641C/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100660360B1 (ko) | 2006-12-21 |
TWI318713B (en) | 2009-12-21 |
JP2004240142A (ja) | 2004-08-26 |
CN1519628A (zh) | 2004-08-11 |
KR20040071079A (ko) | 2004-08-11 |
TW200415419A (en) | 2004-08-16 |
US20040156003A1 (en) | 2004-08-12 |
US6985199B2 (en) | 2006-01-10 |
CN100383641C (zh) | 2008-04-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3976688B2 (ja) | 液晶表示装置及びその製造方法 | |
JP4084290B2 (ja) | 液晶表示素子の製造方法 | |
US7806986B2 (en) | Substrate cleaning apparatus and substrate cleaning method using the same | |
CN1693955A (zh) | 使用印刷法形成图案的方法 | |
US20060045972A1 (en) | Apparatus and method for coating photoresist | |
JP3999986B2 (ja) | 洗浄装置および洗浄方法ならびに液晶表示装置の製法 | |
JP2011073264A (ja) | 反転オフセット印刷用除去版及びその製造方法、並びに印刷物の製造方法 | |
JP2001318380A (ja) | 液晶表示装置 | |
JP5067862B2 (ja) | 液晶表示装置およびその製造方法 | |
US20050028691A1 (en) | Cliche unit, printing apparatus, and printing method using the same | |
JP2933790B2 (ja) | 液晶表示素子の製造方法 | |
JP2001249342A (ja) | スペーサービーズの位置ぎめ方法と液晶表示装置 | |
JP4500734B2 (ja) | 基板の再生方法 | |
JP2008064996A (ja) | 印刷装置及びその印刷装置を用いたカラーフィルタ製造方法とこの製造方法によって製造されたカラーフィルタ | |
KR101149410B1 (ko) | 액정 표시 패널 리페어 장치 및 방법 | |
KR101002003B1 (ko) | 노즐 세정장치 및 방법 | |
JPH1051082A (ja) | 配線基板、その製造方法及び該配線基板を備えた液晶素子及びその製造方法 | |
KR101970553B1 (ko) | 경량 박형의 액정표시장치 제조방법 | |
JP4098102B2 (ja) | 表示装置の製造方法 | |
KR100923679B1 (ko) | 인쇄방식을 통한 액정표시소자의 패턴형성방법 | |
JP2008039977A (ja) | パターン修正方法およびパターン修正装置 | |
JP3551643B2 (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
KR100987674B1 (ko) | 노즐 세정장치 및 방법 | |
KR100853776B1 (ko) | 액정표시장치 및 그 제조 방법 | |
JPH04333824A (ja) | 液晶表示パネルの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050117 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20050311 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070124 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20070124 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070213 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070416 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20070419 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070529 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070619 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100629 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100629 Year of fee payment: 3 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100629 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100629 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110629 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110629 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110629 Year of fee payment: 4 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120629 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120629 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120629 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120629 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130629 Year of fee payment: 6 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |