JPWO2015129638A1 - ポリカーボネート樹脂及びポリカーボネート樹脂組成物 - Google Patents

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Abstract

原料の二価フェノールが、造粒後1時間以内、10〜50℃の周囲温度条件下においてイソプロペニルフェノール濃度が150質量ppm以下であるビスフェノールAであるポリカーボネート樹脂。

Description

本発明は、色相が良好なポリカーボネートに関する。より詳しくは、黄色味が少なく(低いYI値)、光透過性に優れるポリカーボネート樹脂に関する。
ポリカーボネート樹脂(以下、PC樹脂と略すことがある。)は、透明性、機械的特性、熱的安定性、電気的性質及び耐候性等に優れることから、その特性を活かして、導光板、レンズ、光ディスク等の光学成形品に使用されている。しかしながら、その光透過性は、ポリメチルメタクリレート(PMMA)等に比べ低く、若干の黄色味を帯びた色調となる。
特に、導光長が長くなる場合、材料が黄色味を帯びていると低波長側の光線が吸収される。そのため、光源に近い部分と遠い部分での色調に違いが見られる現象が発生し、色調が不均一化するという問題が発生する。かかる問題を解決するために、黄色味の少ないポリカーボネート材料が求められている。
導光板等に関しては、製品の薄肉化が進んでいる。そのため、流動性が高く、高温での射出成形において黄変が少ない成形材料についての要求が高まっている。
従来、高温で射出成形される薄肉製品の代表的な用途例として、デジタルバーサタイルディスク(DVD)があげられる。しかしながらこの用途においては、必要とされる光の透過長が厚み方向(約0.6mm)と短いため、導光部材と較べ、色調に関しての要求品質は高くない。
特許文献1には、ポリカーボネート樹脂中の特定の8種の不純物総量を750質量ppm以下とすることにより、光ディスク基板における白点や、エラーレートを低減する方法が開示されている。
特許文献2には、p−イソプロペニルフェノールの環状二量体が150質量ppm以下、トリスフェノールが150質量ppm以下である2,2−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(ビスフェノールA)を原料として製造されたポリカーボネート樹脂と、100〜500ppmの離型剤とを含む樹脂組成物であって、ペレット化された状態の粘度平均分子量が10,000〜17,000であり、水酸基末端が7モル%未満である事を特徴とする光学式ディスク基板用ポリカーボネート樹脂組成物が開示されている。上記ポリカーボネート樹脂組成物中の2−(2−ヒドロキシフェニル)−2−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(2,4−異性体)の量は1000ppm以下である。
特許文献3には、ビスフェノールA製造装置において得られたビスフェノールA/フェノールの組成物を造粒せず、高温下で不活性ガス(窒素ガス)を用いて溶融状態を保持し、続くPC製造装置に供給する工程を有する芳香族PCの製造方法を開示している。引用文献3には、ポリカーボネートの重合に供する溶融保持した2,2−(4−ヒドロキシフェニル)プロパン/フェノールの組成物中の4−イソプロペニルフェノール含有量が1000ppm以下である事が記載されている。
特許第4621312号公報 特開2001−344813号公報 特開2002−173530号公報
特許文献1〜3に示されるように、ポリカーボネート樹脂の製造方法の改良等を通して不純物の少ないポリカーボネート樹脂を得る各種の試みがなされてきた。しかしながら、これらの方法によっても導光部材に適用可能な低いレベルのYI値を達成する事が難しい。本発明は、このような問題を解決するためになされたものであり、色相が良好であり、導光部材として好適に用いることができるYI値を達成するポリカーボネート樹脂及びその組成物を提供することを目的とする。
イソプロペニルフェノールは2,4−異性体等と共に不純物として原料ビスフェノールA中に含まれる物質である。イソプロペニルフェノールは、ビスフェノールAの分解物として知られており、また反応性が高い物質として知られている。ビスフェノールAを空気中で放置すると、2つのイソプロペニルフェノールが結びついた環状二量体等や、ビスフェノールAと反応したトリスフェノールなど、他の不純物へと変化する事が知られている。本発明者らは、ポリカーボネート製造前の原料ビスフェノールAのイソプロペニルフェノール濃度自体は低くても、原料ビスフェノールA中の、イソプロペニルフェノールが変化した不純物が原因となり、ポリカーボネート樹脂の色相に影響を与える懸念があることを見出した。
そこで、イソプロペニルフェノール濃度が経時的に減衰する事実に着目し、造粒後1時間以内、10〜50℃の周囲温度条件下においてイソプロペニルフェノール(以下、IPPと略することがある)濃度が特定範囲以下であるビスフェノールAを原料として用いることにより、色相の良好なポリカーボネート樹脂を製造することができることを見出した。
すなわち本発明は以下を含むものである。
1.原料の二価フェノールが、造粒後1時間以内、10〜50℃の周囲温度条件下においてイソプロペニルフェノール濃度が150質量ppm以下であるビスフェノールAである、ポリカーボネート樹脂。
2.前記ポリカーボネート樹脂の粘度平均分子量が9000〜17500である、1に記載のポリカーボネート樹脂。
3.1または2に記載のポリカーボネート樹脂を60質量%以上含有する(A)ポリカーボネート樹脂100質量部に対して、(B)リン系酸化防止剤を100〜1500質量ppm配合してなる、ポリカーボネート樹脂組成物。
4.前記(B)リン系酸化防止剤が、ペンタエリスリトール構造を有する、3に記載のポリカーボネート樹脂組成物。
5.前記(B)リン系酸化防止剤が、ビス(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト及び/又はビス(2,4−ジクミルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイトである、3または4に記載のポリカーボネート樹脂組成物。
6.前記(A)ポリカーボネート樹脂100質量部に対して、(C)官能基を有するポリオルガノシロキサンを200〜1500質量ppm配合してなる、3〜5のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂組成物。
7.前記官能基が、アルコキシ基、アリールオキシ基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、シラノール基、アミノ基、メルカプト基、エポキシ基及びビニル基の群から選ばれる少なくとも1種である、6に記載のポリカーボネート樹脂組成物。
8.前記(C)ポリオルガノシロキサンの屈折率と前記(A)ポリカーボネート樹脂との屈折率との差が0.13以下である、6または7に記載のポリカーボネート樹脂組成物。
9.3〜8のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂組成物を成形してなる成形体。
10.成形体が導光板である、9に記載の成形体。
11.造粒後1時間以内、10〜50℃の周囲温度条件下においてイソプロペニルフェノール濃度が150質量ppm以下であるビスフェノールA。
12.原料の二価フェノールとして、造粒後1時間以内、10〜50℃の周囲温度条件下においてイソプロペニルフェノール濃度が150質量ppm以下であるビスフェノールAを用いることを特徴とするポリカーボネート樹脂の製造方法。
本発明によれば、色相が良好な(低いYI値)成形体を得ることができるポリカーボネート樹脂組成物が提供される。
<ポリカーボネート樹脂>
本発明は、原料の二価フェノールが、造粒後1時間以内、10〜50℃の周囲温度条件下においてイソプロペニルフェノール濃度が150質量ppm以下であるビスフェノールAであるポリカーボネート樹脂に関する。
イソプロペニルフェノール濃度は、例えば高速液体クロマトグラフィー(以下、HPLCと略すことがある)によって測定することができる。上記イソプロペニルフェノール濃度が150質量ppmを超えると、これを原料とするポリカーボネート樹脂(A)の色相が悪化する。上記イソプロペニルフェノール濃度は好ましくは100質量ppm以下であり、より好ましくは50質量ppm以下である。ここで「造粒後」とは、溶融状態のビスフェノールAが冷却用ガス等の冷却手段と接した時点を指すものとする。
本発明においては、ビスフェノールAのイソプロペニルフェノール濃度は、造粒後1時間以内、10〜50℃、より好ましくは15〜40℃、より好ましくは20〜30℃の周囲温度条件下におけるビスフェノールAについて測定したものである。イソプロペニルフェノール濃度は時間と温度によって減衰するため、イソプロペニルフェノール濃度を測定するための時間と温度は特定の範囲に設定する必要がある。より具体的には、本発明においてイソプロペニルフェノール濃度は、造粒後1時間、30℃の周囲温度におけるビスフェノールAについて測定したものである。
以下、本発明のポリカーボネート樹脂の原料として用いられるビスフェノールAの製造方法の一例を挙げるが、この方法に限定されるものではない。
ビスフェノールAは、例えば、(1)過剰量のフェノールとアセトンとを酸性触媒の存在下、縮合反応させる縮合反応工程、(2)工程(1)で得られた反応混合物を濃縮する濃縮工程、(3)工程(2)で得られた濃縮された反応混合物を冷却することにより、ビスフェノールAとフェノールとの付加物を晶析させ、該付加物と母液に分離する晶析・固液分離工程、(4)工程(3)で得られたビスフェノールAとフェノールとの付加物からフェノールを除去し、ビスフェノールA溶融液とするアダクト分解工程、及び(5)工程(4)で得られるビスフェノールA溶融液を造粒し、造粒物を得る造粒工程等を有する製造方法により得ることができる。
イソプロペニルフェノール濃度の制御方法としては、ビスフェノールAの製造工程において、イソプロペニルフェノールの濃度に応じて、遊離酸除去工程を任意の場所に新たに設けてビスフェノールAとフェノールとの付加物結晶(以下、アダクト結晶と呼ぶことがある)中の遊離酸濃度を低下させることや、上記(3)晶析・固液分離工程における洗浄液量を変化させることによりビスフェノールAとフェノールとのアダクト結晶に付着した遊離酸を除去することなどを挙げることができる。アダクト結晶に含まれる及び/又は付着する遊離酸の濃度を十分に低下させることにより、このアダクト結晶を分解して得られるビスフェノールAのイソプロペニルフェノール濃度を150質量ppm以下に制御することができる。また、上記方法によって、イソプロペニルフェノール濃度を制御すると共に、ビスフェノールAの2,4−異性体等他の不純物量も低減することができる。
イソプロペニルフェノール濃度が上昇した場合には、製造プロセス条件をイソプロペニルフェノール濃度が減少するように変更する(遊離酸除去工程を設ける及び/または晶析・固液分離工程における洗浄液量を増やす等)ことによりビスフェノールAの品質を良好に保つことができる。また、イソプロペニルフェノール濃度が減少した場合には、不要な製造プロセス等を停止することができる。
イソプロペニルフェノールは下記の一般式(1)で示される。
本発明のポリカーボネート樹脂は、粘度平均分子量が9000〜17500であること好ましく、11000〜15500であることがより好ましい。ポリカーボネート樹脂の粘度平均分子量が上記範囲にあると、成形品のサイズに適した成形温度を設定できるため黄色味を帯びず、さらに、強度を保持した成形体を得ることができるため好ましい。
なお、粘度平均分子量は、ウベローデ型粘度計を用いて、20℃における塩化メチレン溶液の粘度を測定し、これより極限粘度[η]を求め、[η]=1.23×10−5Mv0.83の式により算出した値である。
本発明のポリカーボネート樹脂は、塩化メチレンが200質量ppm以下であることが好ましく、より好ましくは50質量ppm以下、さらに好ましくは20質量ppm以下である。ポリカーボネート樹脂を界面縮合反応法で製造する場合に、有機溶媒として低沸点の塩化メチレンが用いられる。しかしながら、後処理においてこの塩化メチレンを充分に除去しないと、不純物としてポリカーボネート樹脂中に残ることにより樹脂の黄変が進むことが知られている。また、塩化物による金型の腐食が起こりやすく、それによって金型表面が荒れるため連続使用した場合、導光性を低下させるおそれがある。
本発明のポリカーボネート樹脂は、造粒後1時間以内、10〜50℃の周囲温度条件下においてイソプロペニルフェノール濃度が150質量ppm以下であるビスフェノールAと、カーボネート前駆体との反応により製造することができる。上記反応は特に制限されるものではなく、公知の方法を採用できるが、アルカリ性化合物水溶液及び非水溶性有機溶媒の存在下、界面重合法によって実施することが好ましい。必要に応じて、重合触媒の存在下に反応させることもできる。
アルカリ性化合物としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物;水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属水酸化物などが挙げられる。これらの中でも、アルカリ金属水酸化物が好ましく、水酸化ナトリウムがより好ましい。なお、二価フェノール系化合物は、該アルカリ性化合物水溶液と混合して用いることが好ましい。
非水溶性有機溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロベンゼン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素が好ましく、塩化メチレンがより好ましい。
重合触媒としては、第三級アミンや第四級アンモニウム塩が挙げられる。第三級アミンとしては、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン等が挙げられる。第四級アンモニウム塩としては、例えばトリメチルベンジルアンモニウムクロライド、トリエチルアンモニウムクロライド等が挙げられる。重合触媒としては、第三級アミンが好ましく、トリエチルアミンがより好ましい。
また、必要に応じて分子量調節剤を添加してもよい。分子量調節剤としては、1価フェノールであれば特に制限は無く、例えば、フェノール、o−n−ブチルフェノール、m−n−ブチルフェノール、p−n−ブチルフェノール、o−イソブチルフェノール、m−イソブチルフェノール、p−イソブチルフェノール、o−t−ブチルフェノール、m−t−ブチルフェノール、p−t−ブチルフェノール、o−n−ペンチルフェノール、m−n−ペンチルフェノール、p−n−ペンチルフェノール、o−n−ヘキシルフェノール、m−n−ヘキシルフェノール、p−n−ヘキシルフェノール、p−t−オクチルフェノール、o−シクロヘキシルフェノール、m−シクロヘキシルフェノール、p−シクロヘキシルフェノール、o−フェニルフェノール、m−フェニルフェノール、p−フェニルフェノール、o−n−ノニルフェノール、m−n−ノニルフェノール、p−n−ノニルフェノール、o−クミルフェノール、m−クミルフェノール、p−クミルフェノール、o−ナフチルフェノール、m−ナフチルフェノール、p−ナフチルフェノール、2,5−ジ−t−ブチルフェノール、2,4−ジ−t−ブチルフェノール、3,5−ジ−t−ブチルフェノール、2,5−ジクミルフェノール、3,5−ジクミルフェノール、p−クレゾール、平均炭素数12〜35の直鎖状又は分岐状のアルキル基をオルト位、メタ位又はパラ位に有するモノアルキルフェノール、3−ペンタデシルフェノール、9−(4−ヒドロキシフェニル)−9−(4−メトキシフェニル)フルオレン、9−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)−9−(4−メトキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、4−(1−アダマンチル)フェノールなどが挙げられる。これらの中でも、p−t−ブチルフェノール、p−クミルフェノール、p−フェニルフェノールが好ましく、p−t−ブチルフェノールがより好ましい。
触媒としては、相間移動触媒、例えば、三級アミン又はその塩、四級アンモニウム塩、四級ホスホニウム塩等を好ましく用いることができる。三級アミンとしては、例えば、トリエチルアミン、トリブチルアミン、N,N−ジメチルシクロヘキシルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン等が挙げられる。また、三級アミン塩としては、例えば、これらの三級アミンの塩酸塩、臭素酸塩等が挙げられる。四級アンモニウム塩としては、例えば、トリメチルベンジルアンモニウムクロリド、トリエチルベンジルアンモニウムクロリド、トリブチルベンジルアンモニウムクロリド、トリオクチルメチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムブロミド等が、四級ホスホニウム塩としては、例えば、テトラブチルホスホニウムクロリド、テトラブチルホスホニウムブロミド等が挙げられる。これらの触媒は、それぞれ単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。上記触媒の中では、三級アミンが好ましく、特にトリエチルアミンが好適である。
<ポリカーボネート樹脂組成物>
[(A)ポリカーボネート樹脂]
本発明の他の側面において、本発明のポリカーボネート樹脂を含む(A)ポリカーボネート樹脂に、後述する(B)リン系酸化剤を配合してなるポリカーボネート樹脂組成物を提供する。
本発明のポリカーボネート樹脂組成物には、(A)ポリカーボネート樹脂として、上記した本発明のポリカーボネート樹脂以外のポリカーボネート樹脂も、色相や透明性、機械特性等に影響を与えない範囲であれば含んでいてもよい。その場合、(A)ポリカーボネート樹脂における本発明のポリカーボネート樹脂の割合は、60質量%以上が好ましく、より好ましくは80質量%以上であり、さらに好ましくは100質量%である。ポリカーボネート樹脂を2種類以上混合して使用する場合には、ポリカーボネート樹脂全体として粘度平均分子量を上述した範囲に調整して使用することが望ましい。
[(B)リン系酸化防止剤]
本発明のポリカーボネート樹脂組成物は、ポリカーボネート樹脂100質量部に対して(B)リン系酸化防止剤を100〜1500質量ppm、好ましくは300〜1200質量ppm配合してなる。酸化防止剤の量が100質量ppm未満では酸化防止剤としての効果が足りず、YI値の上昇を抑える事が出来ない。一方、1500質量ppmを超えると、酸化防止剤の分解により発生する酸が原因となりポリカーボネート樹脂の分解が進む事がある。
リン系酸化防止剤としては、亜リン酸、亜ホスホン酸、ホスホン酸及びこれらのエステル並びに第3級ホスフィンなどを用いることができる。中でも、以下の一般式(2)で表されるペンタエリスリトール構造を有する亜リン酸エステルが好ましい。
一般式(2)中、R及びRは、それぞれ水素、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を示す。なお、シクロアルキル基及びアリール基は、アルキル基で置換されていてもよい。
及びRがアリール基である場合、R及びRは下記一般式(a)、(b)または(c)で表されるアリール基が好ましい。

[式(a)中、Rは炭素数1〜10のアルキル基を表す。]

[式(b)中、Rは炭素数1〜10のアルキル基を表す。]
具体的には、下記式(3)のビス(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、(4)のビス(2,4−ジクミルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイトの他、(5)〜(8)の化合物を例示することができる。
本発明においては、上記した式(3)のビス(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト[例えば、アデカスタブPEP−36:ADEKA(株)製]、及び/又は(4)のビス(2,4−ジクミルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト[例えば、Doverphos S-9228PC:Dover Chemical Corporation製]が好適である。
[(C)官能基を有するポリオルガノシロキサン]
また、本発明のポリカーボネート樹脂組成物には、(A)ポリカーボネート樹脂100質量部に対し、(C)官能基を有するポリオルガノシロキサンを好ましくは200〜1500質量ppm、より好ましくは300〜1200質量ppm配合することができる。(C)官能基を有するポリオルガノシロキサンを200〜1500質量ppmの範囲で配合すれば、他の成分と共に、離型性を向上させることができる。さらに300℃を大きく超えるような高温成形条件下、特に連続成形条件下であっても、シルバーの発生や、金型付着物を大幅に低減することができる。
上記官能基を有するポリオルガノシロキサンは、官能基として、アルコキシ基、アリールオキシ基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、シラノール基、アミノ基、メルカプト基、エポキシ基及びビニル基の群から選択される少なくとも1種の官能基を有することが好ましい。
上記官能基を有するポリオルガノシロキサンの粘度は、滑性効果の観点から、25℃において、好ましくは10mm/秒以上であり、ポリカーボネート樹脂への分散性の観点から、より好ましくは200mm/秒以下である。上記観点から、上記官能基を有するポリオルガノシロキサンの粘度範囲は、さらに好ましくは20〜150mm/秒、特に好ましくは40〜120mm/秒である。
上記官能基を有するポリオルガノシロキサンの屈折率は、ポリカーボネート樹脂組成物の透明性を低下させないために、ポリカーボネート樹脂との屈折率の差をできるだけ小さくすること、例えば0.13以下にすることが好ましい。ポリカーボネート樹脂の屈折率は約1.58であることから、上記官能基を有するポリオルガノシロキサンの屈折率は、好ましくは1.45以上、より好ましくは1.50以上、更に好ましくは1.52以上である。
本発明のポリカーボネート樹脂組成物においては、必要に応じて(D)アクリル系樹脂を添加することができる。アクリル系樹脂とはアクリル酸、アクリル酸エステル、アクリロニトリルおよびその誘導体のモノマー単位の中から選ばれる少なくとも1種を繰り返し単位とするポリマーをいい、単独重合体又はスチレン、ブタジエン等との共重合体をいう。具体的にはポリアクリル酸、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)、ポリアクリロニトリル、アクリル酸エチル−アクリル酸−2−クロロエチル共重合体、アクリル酸−n−ブチル−アクリロニトリル共重合体、アクリルニトリル−スチレン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体等である。これらの中でも、特に、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)を好適に用いることができる。
上記ポリメタクリル酸メチル(PMMA)は公知のものでよく、通常、過酸化物、アゾ系の重合開始剤の存在下、メタクリル酸メチルモノマ−を塊状重合してつくられる。その分子量は、1000〜20万程度であることが、(A)ポリカーボネート樹脂への相溶性の観点から好ましい。
アクリル系熱可塑性樹脂の配合量は、前記(A)ポリカーボネート樹脂100質量部に対し、アクリル系熱可塑性樹脂を通常0.001〜1質量部、好ましくは0.005〜0.5質量部、より好ましくは0.01〜0.1質量部である。アクリル系熱可塑性樹脂が0.001質量部以上であると、導光性が良好なポリカーボネート系樹脂組成物が得られる。また、1質量部以内では、アクリル系樹脂成分の相分離がなく、白濁することがないので、導光性が良好なポリカーボネート系樹脂組成物を得ることができる。
[添加剤]
本発明のポリカーボネート樹脂組成物は、その物性を損なわない限りにおいてその混合時、成形時に他の樹脂、添加剤、例えば、酸化抑制剤、耐候剤、滑剤、離型剤、可塑剤、流動性改良剤、帯電抑制剤等を添加することができる。
[ポリカーボネート樹脂組成物の製造方法]
本発明のポリカーボネート樹脂組成物の製造方法としては、従来から公知の方法で各成分を溶融混練する方法が挙げられる。
例えば、各成分をターンブルミキサーやヘンシェルミキサー、リボンブレンダー、スーパーミキサーで代表される高速ミキサーで分散混合した後、押出機、バンバリーミキサー、ロール等で溶融混練する方法が適宜選択される。
本発明のポリカーボネート樹脂組成物は、薄肉成形品を製造するための300℃を超える高温成形にも好適に用いることができる。
本発明のポリカーボネート樹脂組成物を用いた成形方法には特に制限はなく、射出成形、射出圧縮成形、押出し成形、中空成形体等の成形法を適用することができる。
本発明のポリカーボネート樹脂組成物成形してなる成形品は、低いYI値を有し、色相に優れる。そのため、必要とされる光の透過長が薄肉である厚み方向ではなく、面状成形体の長手方向であるような、導光長が長い導光板等の導光部材にも好適に用いることができる。本発明のポリカーボネート樹脂組成物を成形してなる成形体は、好ましくは導光部材であり、より好ましくは導光板である。
以下、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例により何ら限定されるものではない。なお、本実施例において用いた各成分及び物性値等の測定方法(算出方法)は、下記のとおりである。
[(B)リン系酸化防止剤]
(B−1):アデカスタブPEP36[ADEKA(株)製のビス(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト]
(B−2):Doverphos S-9228PC[Dover Chemical Corporation製のビス(2,4−ジクミルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト]
[(C)官能基を有するポリオルガノシロキサン]
KR−511[信越化学工業(株)製,メトキシ基を有するオルガノポリシロキサン]屈折率:1.52, 粘度:25℃,85.8mm/秒
[(D)アクリル系熱可塑性樹脂]
ダイヤナールBR−83[三菱レイヨン(株)製,ポリメタクリル酸メチル(PMMA)
(1)YI値の測定
成形体YIの評価
分光光度計「U−4100」(日立ハイテクノロジーズ(株)製)を用い、C光源、2度視野の条件でYI値を測定した。ポリカーボネート樹脂組成物を成形して得られる成形体のYI値については、装置に付属のソフトウェア(「UVSolutions プログラムNo.1344311−16」)の厚み補正機能を使用し、60mm厚のYI値に補正した。
なお、ポリカーボネート樹脂組成物を成形して得られる成形体のYI値の合格基準は、280℃で成形した成形体について60mm厚に補正した後で18.0以下、360℃で成形した成形体については60mm厚に補正した後で19.0とした。
(2)粘度平均分子量の測定方法
ウベローデ型粘度管にて、20℃における塩化メチレン溶液の極限粘度〔η〕を測定し、次の関係式(Schnellの式)より計算した。
〔η〕=1.23×10−5×Mv0.83
実施例1
造粒後得られたビスフェノールAを室温条件下(30℃)にて保管し、造粒後1時間経過したビスフェノールAについて、高速液体クロマトグラフィーにて分析を行った。本発明では、ビスフェノールA溶融液が造粒ノズルから流出した時点を造粒後0時間とする。分析には、高速液体クロマトグラフ(Waters社製、型式:2695、カラム:ジーエルサイエンス(株)製,Inertsil(商標登録)ODS-3V)を用いた。移動相として25質量%アセトニトリル水溶液に45分保持した後に、3.5質量%/分のグラジエントで分析した。100質量%アセトニトリルに到達後5分間保持した。サンプルの注入量は5.0μL、カラム温度は40℃、流量は1.0mL/分で、分析波長は277nmとした。
HPLC測定の結果、造粒後1時間のIPP濃度が27質量ppmのビスフェノールAを原料の二価フェノールとして以下の製造例に従って、ポリカーボネート樹脂を製造した。
製造例:ビスフェノールAポリカーボネート樹脂の製造
(1)ポリカーボネートオリゴマー合成工程
5.6質量%水酸化ナトリウム水溶液に、後に溶解するビスフェノールA(以下、BPAと略記することがある)に対して2000質量ppmの亜二チオン酸ナトリウムを加え、これにBPA濃度が13.5質量%になるように本実施例で得られたBPAを溶解し、BPAの水酸化ナトリウム水溶液を調製した。このBPAの水酸化ナトリウム水溶液40L/時、塩化メチレン15L/時およびホスゲン4.0kg/時を、内径6mm、管長30mの管型反応器に連続的に通した。管型反応器はジャケット部分を有しており、ジャケットに冷却水を通して反応液の温度を40℃以下に保った。
管型反応器を出た反応液は後退翼を備えた内容積40Lのバッフル付き槽型反応器へ連続的に導入し、これに更にBPAの水酸化ナトリウム水溶液2.8L/時、25質量%水酸化ナトリウム水溶液0.07L/時、水17L/時および1質量%トリエチルアミン水溶液を0.64L/時を添加して反応を行った。
槽型反応器から溢れる反応液を連続的に抜出し、静置することで水相を分離除去し、塩化メチレン相を採取した。得られたポリカーボネートオリゴマーは濃度325g/L、クロロホーメート基濃度は0.77mol/Lであった。
(2)ポリカーボネートの重合工程
邪魔板、パドル型攪拌翼及び冷却用ジャケットを備えた50L槽型反応器の冷却溶媒の温度が20℃以下になった後、オリゴマー溶液15L、塩化メチレン8.9L、p−tert−ブチルフェノール192g、トリエチルアミン0.7mL、及びBPAの水酸化ナトリウム水溶液(NaOH647gと後に溶解するBPAに対して2000質量ppmの亜二チオン酸ナトリウムを水9.5Lに溶解した水溶液にBPA1185gを溶解させたもの)を添加し、30分間重合反応を実施した。その後0.8mLのトリエチルアミンを加えさらに30分撹拌した。
希釈のため塩化メチレン15Lを加えた後、ポリカーボネート樹脂を含む有機相と過剰のBPA及びNaOHを含む水相とに分離し、有機相を単離した。得られたポリカーボネート樹脂の塩化メチレン溶液を、その溶液に対し順次15容量%の0.03mol/LのNaOH水溶液および0.2mol/L塩酸で洗浄し、次いで洗浄後の水相中の電気伝導度が0.05μS/m以下になるまで純水で洗浄を繰り返した。洗浄により得られたポリカーボネート樹脂のジクロロメタン溶液を濃縮・粉砕し、得られたフレークを減圧下、100℃で乾燥し、(A)ポリカーボネート樹脂フレークを得た。粘度平均分子量は15,300であった。ポリカーボネート樹脂の屈折率は1.58であった。
<評価>
[ポリカーボネート樹脂組成物の調製/得られる成形体のYI値]
得られた(A)ポリカーボネート樹脂フレーク100質量部に対し、(B−1)リン系酸化防止剤500質量ppmをドライブレンドした後、単軸押出機を用いシリンダー温度260℃で溶融混練を行い、得られたストランドを水槽に通し冷却した後ペレット化した。この樹脂ペレットを110℃で5時間乾燥した後、射出成形機「東芝 EC40N」(東芝機械(株)製、型締め力40トン)を用いて、360℃のシリンダー温度設定で、金型温度80℃、サイクル時間25秒にて25mm×35mm×3.0mm厚の平板状成形体を作製しYI値を測定した。結果を表1に示す。
実施例2
造粒後1時間のIPP濃度が31質量ppmのビスフェノールAを用いたこと以外は、実施例1と同様に製造例1に従ってポリカーボネート樹脂フレークを製造した後、平均粘度分子量を測定した。ポリカーボネート樹脂の屈折率は1.58であった。また、実施例1と同様にポリカーボネート樹脂組成物を調製した後に平板状成形体を作製し、YI値を測定した。結果を表1に示す。
実施例3
造粒後1時間のIPP濃度が43質量ppmのビスフェノールAを用いたこと以外は、実施例1と同様に製造例1に従ってポリカーボネート樹脂フレークを製造した後、平均粘度分子量を測定した。ポリカーボネート樹脂の屈折率は1.58であった。また、(A)及び(B−1)成分と共に、(A)ポリカーボネート樹脂フレーク100質量部に対して(C)官能基を有するポリオルガノシロキサンを500質量ppmドライブレンドしたこと以外は、実施例1と同様にポリカーボネート樹脂組成物を調製した。シリンダー温度設定を280℃に代えた以外は実施例1と同様に平板状成形体を作製し、YI値を測定した。結果を表2に示す。
実施例4
造粒後1時間のIPP濃度が29質量ppmのビスフェノールAを用いたこと以外は、実施例1と同様に製造例1に従ってポリカーボネート樹脂フレークを製造した後、平均粘度分子量を測定した。ポリカーボネート樹脂の屈折率は1.58であった。また、酸化防止剤として(B−2)リン系酸化防止剤を用い、(A)及び(B−2)成分と共に、(A)ポリカーボネート樹脂フレーク100質量部に対して(C)官能基を有するポリオルガノシロキサンを500質量ppmドライブレンドしたこと以外は、実施例1と同様にポリカーボネート樹脂組成物を調製した。280℃または360℃のシリンダー温度設定で、実施例1と同様に平板状成形体を作製しYI値を測定した。結果を表1及び2に示す。
実施例5
造粒後1時間のIPP濃度が29質量ppmのビスフェノールAを用いたこと以外は、実施例1と同様に製造例1に従ってポリカーボネート樹脂フレークを製造した後、平均粘度分子量を測定した。ポリカーボネート樹脂の屈折率は1.58であった。また、酸化防止剤として(B−2)リン系酸化防止剤を用いたこと、(A)及び(B−2)成分と共に、(A)ポリカーボネート樹脂フレーク100質量部に対して(C)官能基を有するポリオルガノシロキサンを500質量ppm及び(D)アクリル系ニトリル樹脂200質量ppmをドライブレンドしたこと以外は、実施例1と同様にポリカーボネート樹脂組成物を調製した。280℃または360℃のシリンダー温度設定で、実施例1と同様に平板状成形体を作製しYI値を測定した。結果を表1及び2に示す。
実施例6
造粒後1時間のIPP濃度が120質量ppmのビスフェノールAを用いたこと以外は、実施例1と同様に製造例1に従ってポリカーボネート樹脂フレークを製造した後、平均粘度分子量を測定した。ポリカーボネート樹脂の屈折率は1.58であった。また、(A)及び(B−1)成分と共に、(A)ポリカーボネート樹脂フレーク100質量部に対して(C)官能基を有するポリオルガノシロキサンを500質量ppmドライブレンドしたこと以外は、実施例1と同様にポリカーボネート樹脂組成物を調製した。シリンダー温度設定を280℃に代えた以外は実施例1と同様に平板状成形体を作製し、YI値を測定した。結果を表2に示す。
比較例1
造粒後1時間のIPP濃度が245質量ppmのビスフェノールAを用いたこと以外は、実施例1と同様に製造例1に従ってポリカーボネート樹脂フレークを製造した後、平均粘度分子量を測定した。ポリカーボネート樹脂の屈折率は1.58であった。また、実施例1と同様にポリカーボネート樹脂組成物を調製した。280℃または360℃のシリンダー温度設定で、実施例1と同様に平板状成形体を作製しYI値を測定した。結果を表1及び2に示す。

表1の実施例1〜2,4〜5から、原料の二価フェノールが造粒後1時間以内、30℃にて保管した後のビスフェノールAのイソプロペニルフェノール濃度が150質量ppm以下である本発明のポリカーボネート樹脂組成物は、360℃での高温成形においても、60mm厚に補正した後のYI値は19.0以下であり、色相に優れることがわかる。表2の実施例3〜6から、本発明のポリカーボネート樹脂組成物を280℃にて成形した場合でも、60mm厚に補正した後のYI値が18.0以下であり、色相に優れることがわかる。これに対し、造粒後1時間以内、30℃にて保管した後のイソプロペニルフェノール濃度が150質量ppmを超えるビスフェノールAを原料の二価フェノールとして用いた比較例1では、360℃成形、280℃成形の双方において合格基準を満たさない。
本発明によれば、色相が良好(低いYI値)な成形体を得ることができるポリカーボネート樹脂組成物が提供される。上記ポリカーボネート樹脂組成物は導光部材として好適に用いることができる。

Claims (12)

  1. 原料の二価フェノールが、造粒後1時間以内、10〜50℃の周囲温度条件下においてイソプロペニルフェノール濃度が150質量ppm以下であるビスフェノールAである、ポリカーボネート樹脂。
  2. 前記ポリカーボネート樹脂の粘度平均分子量が9000〜17500である、請求項1に記載のポリカーボネート樹脂。
  3. 請求項1または2に記載のポリカーボネート樹脂を60質量%以上含有する(A)ポリカーボネート樹脂100質量部に対して、(B)リン系酸化防止剤を100〜1500質量ppm配合してなる、ポリカーボネート樹脂組成物。
  4. 前記(B)リン系酸化防止剤が、ペンタエリスリトール構造を有する、請求項3に記載のポリカーボネート樹脂組成物。
  5. 前記(B)リン系酸化防止剤が、ビス(2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト及び/又はビス(2,4−ジクミルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイトである、請求項3または4に記載のポリカーボネート樹脂組成物。
  6. 前記(A)ポリカーボネート樹脂100質量部に対して、(C)官能基を有するポリオルガノシロキサンを200〜1500質量ppm配合してなる、請求項3〜5のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂組成物。
  7. 前記官能基が、アルコキシ基、アリールオキシ基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、シラノール基、アミノ基、メルカプト基、エポキシ基及びビニル基の群から選ばれる少なくとも1種である、請求項6に記載のポリカーボネート樹脂組成物。
  8. 前記(C)ポリオルガノシロキサンの屈折率と前記(A)ポリカーボネート樹脂との屈折率との差が0.13以下である、請求項6または7に記載のポリカーボネート樹脂組成物。
  9. 請求項3〜8のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂組成物を成形してなる成形体。
  10. 成形体が導光板である、請求項9に記載の成形体。
  11. 造粒後1時間以内、10〜50℃の周囲温度条件下においてイソプロペニルフェノール濃度が150質量ppm以下であるビスフェノールA。
  12. 原料の二価フェノールとして、造粒後1時間以内、10〜50℃の周囲温度条件下においてイソプロペニルフェノール濃度が150質量ppm以下であるビスフェノールAを用いる、ポリカーボネート樹脂の製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000191767A (ja) * 1998-12-24 2000-07-11 Teijin Chem Ltd 光学用ポリカーボネート樹脂成形材料および該材料よりなる光ディスク基板
JP2001344813A (ja) * 2000-05-29 2001-12-14 Idemitsu Petrochem Co Ltd 光学式ディスク基板用ポリカーボネート樹脂及び光学式ディスク基板
JP2002173530A (ja) * 2000-09-26 2002-06-21 Mitsubishi Chemicals Corp 芳香族ポリカーボネートの製造方法
JP2002534402A (ja) * 1999-01-07 2002-10-15 バイエル アクチェンゲゼルシャフト ビスフェノールaプリルの製造方法及び製造装置、並びにそれに従って製造されるビスフェノールaプリル
JP2005075736A (ja) * 2003-08-28 2005-03-24 Mitsubishi Chemicals Corp 芳香族ジヒドロキシ化合物の製造方法及びポリカーボネートの製造方法
JP2006335850A (ja) * 2005-06-01 2006-12-14 Mitsubishi Chemicals Corp 芳香族ポリカーボネートの製造方法
JP2010275484A (ja) * 2009-05-29 2010-12-09 Idemitsu Kosan Co Ltd ポリカーボネート樹脂組成物、および前記樹脂組成物からなる成形品
JP2011174031A (ja) * 2010-02-01 2011-09-08 Idemitsu Kosan Co Ltd ポリカーボネート樹脂組成物
JP2013227510A (ja) * 2012-03-30 2013-11-07 Mitsubishi Chemicals Corp 芳香族ポリカーボネートの製造方法及び製造設備

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1080914A (zh) * 1993-02-17 1994-01-19 中国石油化工总公司 一种2,2-二(4-羟基苯基)丙烷的制造方法
CN1063423C (zh) * 1993-02-17 2001-03-21 中国石化总公司 生产高纯和超高纯双酚-a的新方法
WO1995006651A1 (en) * 1993-08-30 1995-03-09 Dover Chemical Corporation Hydrolytically stable pentaerythritol diphosphites
DE4413396A1 (de) * 1994-04-18 1995-10-19 Bayer Ag Verfahren zur Herstellung von ultrareinem Bisphenol-A und dessen Verwendung
US6655501B2 (en) * 2001-06-29 2003-12-02 Inventio Ag Method for selection of the most favorable elevator of an elevator installation comprising at least two elevator groups
JP5230056B2 (ja) * 2004-04-14 2013-07-10 出光興産株式会社 光拡散性樹脂組成物
DE102004025368A1 (de) * 2004-05-19 2005-12-08 Basf Ag Verfahren zur Herstellung von strukturierten Oberflächen
EP2256146A1 (de) * 2009-05-30 2010-12-01 Bayer MaterialScience AG Polycarbonate mit extrem hoher Reinheit und guter Eigenfarbe und thermischer Beständigkeit sowie eine Vorrichtung und ein Verfahren zu ihrer Herstellung
US8234810B2 (en) * 2010-08-08 2012-08-07 Lee Tactical Solutions, L.L.C. Apparatus and method for loading bullets into a bullet carrier of a magazine
JP5879124B2 (ja) * 2011-12-28 2016-03-08 出光興産株式会社 ポリカーボネート樹脂組成物ペレットの製造方法

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000191767A (ja) * 1998-12-24 2000-07-11 Teijin Chem Ltd 光学用ポリカーボネート樹脂成形材料および該材料よりなる光ディスク基板
JP2002534402A (ja) * 1999-01-07 2002-10-15 バイエル アクチェンゲゼルシャフト ビスフェノールaプリルの製造方法及び製造装置、並びにそれに従って製造されるビスフェノールaプリル
JP2001344813A (ja) * 2000-05-29 2001-12-14 Idemitsu Petrochem Co Ltd 光学式ディスク基板用ポリカーボネート樹脂及び光学式ディスク基板
JP2002173530A (ja) * 2000-09-26 2002-06-21 Mitsubishi Chemicals Corp 芳香族ポリカーボネートの製造方法
JP2005075736A (ja) * 2003-08-28 2005-03-24 Mitsubishi Chemicals Corp 芳香族ジヒドロキシ化合物の製造方法及びポリカーボネートの製造方法
JP2006335850A (ja) * 2005-06-01 2006-12-14 Mitsubishi Chemicals Corp 芳香族ポリカーボネートの製造方法
JP2010275484A (ja) * 2009-05-29 2010-12-09 Idemitsu Kosan Co Ltd ポリカーボネート樹脂組成物、および前記樹脂組成物からなる成形品
JP2011174031A (ja) * 2010-02-01 2011-09-08 Idemitsu Kosan Co Ltd ポリカーボネート樹脂組成物
JP2013227510A (ja) * 2012-03-30 2013-11-07 Mitsubishi Chemicals Corp 芳香族ポリカーボネートの製造方法及び製造設備

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