JPS63241170A - 摩耗防止層の塗布方法及びこの方法にしたがって生産される生産物 - Google Patents
摩耗防止層の塗布方法及びこの方法にしたがって生産される生産物Info
- Publication number
- JPS63241170A JPS63241170A JP63042402A JP4240288A JPS63241170A JP S63241170 A JPS63241170 A JP S63241170A JP 63042402 A JP63042402 A JP 63042402A JP 4240288 A JP4240288 A JP 4240288A JP S63241170 A JPS63241170 A JP S63241170A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- diamond
- wear
- layers
- wear layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 20
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 title description 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 claims description 47
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 claims description 42
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 19
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 7
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 6
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 5
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 7
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 6
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 6
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 6
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- -1 cobal Chemical compound 0.000 description 3
- 229910021385 hard carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- QIJNJJZPYXGIQM-UHFFFAOYSA-N 1lambda4,2lambda4-dimolybdacyclopropa-1,2,3-triene Chemical compound [Mo]=C=[Mo] QIJNJJZPYXGIQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 2
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NFFIWVVINABMKP-UHFFFAOYSA-N methylidynetantalum Chemical compound [Ta]#C NFFIWVVINABMKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003468 tantalcarbide Inorganic materials 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910039444 MoC Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000012876 carrier material Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 238000010849 ion bombardment Methods 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002843 nonmetals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000002294 plasma sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N silicide(4-) Chemical compound [Si-4] FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/26—Deposition of carbon only
- C23C16/27—Diamond only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C16/0272—Deposition of sub-layers, e.g. to promote the adhesion of the main coating
- C23C16/029—Graded interfaces
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/26—Deposition of carbon only
- C23C16/27—Diamond only
- C23C16/278—Diamond only doping or introduction of a secondary phase in the diamond
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/30—Self-sustaining carbon mass or layer with impregnant or other layer
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
Ｉ刀り
本発明は硬質金属または硬質非金属から成る担持体にダ
イアモンドフィルム等の摩耗防止層を塗布する方法及び
この方法に従って生産される生産物（摩耗防止層）に関
するものである。
イアモンドフィルム等の摩耗防止層を塗布する方法及び
この方法に従って生産される生産物（摩耗防止層）に関
するものである。
史米且亙
硬質の金属または非金属から成るビットを切削工具に使
用することは知られている。特に硬質金属としては焼結
合金が使用され１例えば炭化タングステンやコバルトま
たは炭化チタンやコバル１−と共に炭化タングステンが
使用される。さらにこの種のビットは純粋な炭化チタン
または酸化アルミニウム及び窒化チタンまたは窒化珪素
から製造される。
用することは知られている。特に硬質金属としては焼結
合金が使用され１例えば炭化タングステンやコバルトま
たは炭化チタンやコバル１−と共に炭化タングステンが
使用される。さらにこの種のビットは純粋な炭化チタン
または酸化アルミニウム及び窒化チタンまたは窒化珪素
から製造される。
純粋な金属を間厘としない場合には金属のホウ化物、窒
化物または珪化物のような可能な限り高い弾性モジュー
ルを有している材料が使用される。
化物または珪化物のような可能な限り高い弾性モジュー
ルを有している材料が使用される。
さらにあまり硬質でない材料から成るビットに例えば窒
化チタン、窒化珪素、酸化アルミニウム、または上述の
材料から成る被膜を設けてビットの、耐摩耗性を増大さ
せ寿命を長くさせることが知られている。この種の被膜
は鋼、非鉄金属、及び他の材料を切断するために使用さ
れる硬質金属から成る担持体に塗布される。
化チタン、窒化珪素、酸化アルミニウム、または上述の
材料から成る被膜を設けてビットの、耐摩耗性を増大さ
せ寿命を長くさせることが知られている。この種の被膜
は鋼、非鉄金属、及び他の材料を切断するために使用さ
れる硬質金属から成る担持体に塗布される。
このような摩耗防止層の塗布は、公知の化学的蒸気析出
方法または化学的プラズマ析出方法に従って、或いは反
応性プラズマスパッター法により行われる。
方法または化学的プラズマ析出方法に従って、或いは反
応性プラズマスパッター法により行われる。
化学的蒸気析出方法（専門分野ではＣＶＤ方法Ｃｈｅｍ
ｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎと呼ばれ
る）では。
ｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎと呼ばれ
る）では。
ガス状成分を化学的に反応させることによって薄く層が
形成される。この方法は、例えば半導体技術の分野で薄
い珪素層を形成するために適用され。
形成される。この方法は、例えば半導体技術の分野で薄
い珪素層を形成するために適用され。
或いは極めて硬く非等方性の高い熱伝導性を備えたピロ
炭素を析出させるために適用される。最近の刊行物によ
れば、ダイアモンドのように硬い炭素を析出させるため
にメタンガスを使用することも可能で、この場合負圧で
摂氏１０００度以上のオーダーの温度で処理される。
炭素を析出させるために適用される。最近の刊行物によ
れば、ダイアモンドのように硬い炭素を析出させるため
にメタンガスを使用することも可能で、この場合負圧で
摂氏１０００度以上のオーダーの温度で処理される。
これに対してプラズマ・ＣＶＤ方法では、高周波または
グロー放電のような電気的な放電によってガス相を低圧
で加熱する。ガス粒子はイオンに応じて荷電しており、
従ってエネルギーが非常に大きい。よってダイアモンド
のような準安定な結合を得ることができる。
グロー放電のような電気的な放電によってガス相を低圧
で加熱する。ガス粒子はイオンに応じて荷電しており、
従ってエネルギーが非常に大きい。よってダイアモンド
のような準安定な結合を得ることができる。
第３の方法としての反応性スパッタ一方法は、カソード
スパッタリング方法である。この方法では、固形のカソ
ードをイオン照射によって切除して数センチメートル離
れた基体上に沈殿させる。
スパッタリング方法である。この方法では、固形のカソ
ードをイオン照射によって切除して数センチメートル離
れた基体上に沈殿させる。
この場合ガス相、即ちプラズマへ至る経路内へ窒素また
は酸素のような反応性ガスを供給する。
は酸素のような反応性ガスを供給する。
しかしながら上記のような最近の技術を実際に適用する
と１例えばダイアモンドから成る摩耗防止層を具備して
いる切削工具の刃先を効率的に利用する場合に問題が生
じる。
と１例えばダイアモンドから成る摩耗防止層を具備して
いる切削工具の刃先を効率的に利用する場合に問題が生
じる。
これは、ダイアモンドと金属の熱膨張係数が異なること
にも起因しているが、さらにダイアモンドがほぼ１０．
５Ｘ１０１１Ｎ／ｍ２の非常に高い弾性モジュールを有
し、一方硬質金属はほぼ４または５ Ｘ １． Ｏ”−
”Ｎ／ ｍ’の弾性モジュールしか有していないことに
も起因している。このように弾性モジュールが著しく異
なっているために、例えば金属または非鉄金属を加工す
る場合のように機械的な負荷を与えたときに生じる力に
よって、非常に小さな弾性モジュールを有している担持
体上のダイアモンドフィルムが事前に破壊されたり。
にも起因しているが、さらにダイアモンドがほぼ１０．
５Ｘ１０１１Ｎ／ｍ２の非常に高い弾性モジュールを有
し、一方硬質金属はほぼ４または５ Ｘ １． Ｏ”−
”Ｎ／ ｍ’の弾性モジュールしか有していないことに
も起因している。このように弾性モジュールが著しく異
なっているために、例えば金属または非鉄金属を加工す
る場合のように機械的な負荷を与えたときに生じる力に
よって、非常に小さな弾性モジュールを有している担持
体上のダイアモンドフィルムが事前に破壊されたり。
裂けたりする。従って公知の方法に従って担持体に塗布
されたダイアモンドから成る摩耗防止層をフライス、鋸
等の切削工具に使用するには問題がある６ １血 本発明の目的は、ダイアモンドフィルムを備えた摩耗防
止層を担持体に塗布する方法において、弾性モジュール
の違いを考慮してこの違いがダイアモンドフィルムの負
荷に不都合に作用しないようにし、その結果従来可能で
あったよりも強い負荷をダイアモンドフィルムに与える
ことができるような方法及び摩耗防止層を提供すること
である。
されたダイアモンドから成る摩耗防止層をフライス、鋸
等の切削工具に使用するには問題がある６ １血 本発明の目的は、ダイアモンドフィルムを備えた摩耗防
止層を担持体に塗布する方法において、弾性モジュール
の違いを考慮してこの違いがダイアモンドフィルムの負
荷に不都合に作用しないようにし、その結果従来可能で
あったよりも強い負荷をダイアモンドフィルムに与える
ことができるような方法及び摩耗防止層を提供すること
である。
盗玖及Ｖ免米
本発明は、上記目的を達成するため、方法に才？いては
、担持体に化学的な蒸気析出またはプラズマ析出によっ
て次のような層を塗布すること、即ち上にある層はどダ
イアモンド成分が高く且つ弾性モジュールが高く、外側
の層がダイアモンドから成っているような層を塗布する
ことを特徴とし。
、担持体に化学的な蒸気析出またはプラズマ析出によっ
て次のような層を塗布すること、即ち上にある層はどダ
イアモンド成分が高く且つ弾性モジュールが高く、外側
の層がダイアモンドから成っているような層を塗布する
ことを特徴とし。
摩耗防止層においては、化学的な蒸気析出またはプラズ
マ析出によって塗布される複数個の層から成り、これら
の層は、下側から外側へダイアモンド成分と弾性モジュ
ールがより高くなっており、最も外側の層がダイアモン
ドから成る層であることを特徴とするものである。
マ析出によって塗布される複数個の層から成り、これら
の層は、下側から外側へダイアモンド成分と弾性モジュ
ールがより高くなっており、最も外側の層がダイアモン
ドから成る層であることを特徴とするものである。
本発明によれば、外側にあるダイアモンドフィルムの弾
性モジュールと担持体の材料の弾性モジュールの差が小
さくなり、その結果ダイアモンドフィルムが破壊される
危険がなくなる。
性モジュールと担持体の材料の弾性モジュールの差が小
さくなり、その結果ダイアモンドフィルムが破壊される
危険がなくなる。
担持体から外側のダイアモンドフィルムまでのｍｌにＭ
層的に中ｔｉｌ１層を１没け、これらの中間層の弾性モ
ジュールの大きさがしだいに大きくなり、この大きさが
ダイアモンドの弾性モジュールに可能な限り近くなるよ
うに摩耗防止層を構成するため。
層的に中ｔｉｌ１層を１没け、これらの中間層の弾性モ
ジュールの大きさがしだいに大きくなり、この大きさが
ダイアモンドの弾性モジュールに可能な限り近くなるよ
うに摩耗防止層を構成するため。
個々の層のダイアモンド成分を連続的に増大していき、
その結果例えば担持体上にある一番下の層が例えば１０
重駄％のダイアモンドを含有し、その上にある層が２０
重量％のダイアモンドを含有し、第５番目の層が５０重
量％のダイアモンドを含有するというふうに構成するの
が合目的である。
その結果例えば担持体上にある一番下の層が例えば１０
重駄％のダイアモンドを含有し、その上にある層が２０
重量％のダイアモンドを含有し、第５番目の層が５０重
量％のダイアモンドを含有するというふうに構成するの
が合目的である。
結合材としては例えばニッケルまたはコバルトを使用す
ることができるが、グラファイトをも使用でき、より厳
密には、ダイアモンドの重量％が減少するに従って使用
量を増大させ、即ち最下層には９０重量％の結合材を、
第５番目の層には５０重量％の結合材を使用することが
できる。この処置は１層を形成する場合にダイアモンド
と一緒に結合材も沈殿することを前提としているが、現
時点ではまだ技術的に問題がある。
ることができるが、グラファイトをも使用でき、より厳
密には、ダイアモンドの重量％が減少するに従って使用
量を増大させ、即ち最下層には９０重量％の結合材を、
第５番目の層には５０重量％の結合材を使用することが
できる。この処置は１層を形成する場合にダイアモンド
と一緒に結合材も沈殿することを前提としているが、現
時点ではまだ技術的に問題がある。
従って本発明は、担持体上に層を連続的に蒸着させ、Ｊ
−にある層はど弾性モジュールが高い材料から成るよう
に構成することを提案するものである。一番厚い最後の
層としてダイアモンド層が塗布される。この場合一般に
ダイアモンド層とは、ダイアモンドのように硬い炭素か
ら成る層のことである。
−にある層はど弾性モジュールが高い材料から成るよう
に構成することを提案するものである。一番厚い最後の
層としてダイアモンド層が塗布される。この場合一般に
ダイアモンド層とは、ダイアモンドのように硬い炭素か
ら成る層のことである。
一番外側のダイアモンド層の下にある個々の層は、１乃
至２０μｍの厚さを有し、−右外側のダイアモンド層は
これよりもかなり厚く形成され。
至２０μｍの厚さを有し、−右外側のダイアモンド層は
これよりもかなり厚く形成され。
即ち例えば１０ないし５００μｍのオーダーの厚さであ
る。
る。
本発明による方法の特に有利な点は１例えば切削工具の
ビットの場合特定のサイズに限って適用されるものでは
ないので、広範囲にわたって適用することができること
である。即ち本発明による方法により、階層的に塗布さ
れる層或いは摩耗防止層全体を例えば小さな歯を備えた
異形断面のような複雑な形状のものに塗布させることが
できる。
ビットの場合特定のサイズに限って適用されるものでは
ないので、広範囲にわたって適用することができること
である。即ち本発明による方法により、階層的に塗布さ
れる層或いは摩耗防止層全体を例えば小さな歯を備えた
異形断面のような複雑な形状のものに塗布させることが
できる。
例えば歯付き成形工具とか、研磨ディスクをドレッシン
グするためのドレッシングロールに塗布させることかで
きる。さらに本発明による摩耗防止層を塗布することに
より、例えばカッターとか、或いはレンズのようにガラ
スから成る非金属性の物体の寿命を著しく向」二させる
ことができる。
グするためのドレッシングロールに塗布させることかで
きる。さらに本発明による摩耗防止層を塗布することに
より、例えばカッターとか、或いはレンズのようにガラ
スから成る非金属性の物体の寿命を著しく向」二させる
ことができる。
−リ１
次に１本発明の実施例を添付の図面を用いて説明する。
第１図に図示したフライスは複数個の歯２２を有してい
る。歯２２はそ、れぞれ１つのビット２０を担持してい
る６ビツト２０の刃先領域は摩耗防止層２１を具備して
いる。摩耗防止層２１は外側にダイアモンドフィルムを
担持している。
る。歯２２はそ、れぞれ１つのビット２０を担持してい
る６ビツト２０の刃先領域は摩耗防止層２１を具備して
いる。摩耗防止層２１は外側にダイアモンドフィルムを
担持している。
第２図に図示したように、ビット２０の外縁領域は異形
断面部を具備している。プラズマ析出により塗布される
摩耗防止層は異形断面部をも蔽う。
断面部を具備している。プラズマ析出により塗布される
摩耗防止層は異形断面部をも蔽う。
第３図に図示した摩耗防止層は１０個の層１乃至１０か
ら構成されている。１０個の層は、担持体２０のにに蒸
着により積層されている。これらの層１乃至１０の硬度
は異なっており、それぞ九上にある層が下にある）ｊり
よりも大きな弾性モジュールを有している。第３図の実
施例では、層１は１０重砥％のダイアモンドと９０重量
％のコバルトを含有し、一方層２は２０重量％のダイア
モンドと８０重量％の金属を含有している。このような
段階的な分布は他の層に関しても適用され、従って最も
外側にある層１０はダイアモンドのように硬い炭素だけ
から成っている。
ら構成されている。１０個の層は、担持体２０のにに蒸
着により積層されている。これらの層１乃至１０の硬度
は異なっており、それぞ九上にある層が下にある）ｊり
よりも大きな弾性モジュールを有している。第３図の実
施例では、層１は１０重砥％のダイアモンドと９０重量
％のコバルトを含有し、一方層２は２０重量％のダイア
モンドと８０重量％の金属を含有している。このような
段階的な分布は他の層に関しても適用され、従って最も
外側にある層１０はダイアモンドのように硬い炭素だけ
から成っている。
この実施例においてコバルトが結合材として設けられて
いると、１つの金属が蒸気相でダイアモンドと共に沈殿
するときに、金属のなかに侵入するダイアモンドが炭化
物を形成させることが考えられる。従って１つの層のな
かにダイアモンドと共に金属炭化物を使用するよりも、
ニッケル、コバルト等の炭化物を形成しない純粋な金属
を使用する方が適当である。
いると、１つの金属が蒸気相でダイアモンドと共に沈殿
するときに、金属のなかに侵入するダイアモンドが炭化
物を形成させることが考えられる。従って１つの層のな
かにダイアモンドと共に金属炭化物を使用するよりも、
ニッケル、コバルト等の炭化物を形成しない純粋な金属
を使用する方が適当である。
第４図に図示した実施例が第３図の実施例と異なるのは
、中間層がダイアモンドを含有していないことである。
、中間層がダイアモンドを含有していないことである。
第４図は第３図と同様実寸で図示したものではないが、
Ｉ １ｉｉＪ層１乃至５は数μｍの厚さにすぎず、一方
最後に蒸着されるダイアモンドＴ！１０はこれよりもか
なり大きな厚さであり。
Ｉ １ｉｉＪ層１乃至５は数μｍの厚さにすぎず、一方
最後に蒸着されるダイアモンドＴ！１０はこれよりもか
なり大きな厚さであり。
寿命の長い摩耗防止層が得られる。
第４図の実施例では、担持体２０は２．２×１ （）
１１ Ｎ ／ ｍ２の弾性モジュールをもつ鋼から成っ
ている。）８ｖ１は２．９Ｘ１０”Ｎ／ｍ２の弾性モジ
ュールをもつ炭化タンタル（ＴａＣ）から成っている。
１１ Ｎ ／ ｍ２の弾性モジュールをもつ鋼から成っ
ている。）８ｖ１は２．９Ｘ１０”Ｎ／ｍ２の弾性モジ
ュールをもつ炭化タンタル（ＴａＣ）から成っている。
層２はファクター４．７の炭化チタン（ＴｉＣ）から成
り１層３はファクター５．３の炭化モリブデン（Ｍｏ２
）から成り、層４はファクター６．５の炭化タングステ
ンから成り、層５はファクター７．２の炭化タングステ
ン、即ち弾性モジュールが７ 、２ Ｘ Ｉ Ｏ”Ｎ／
ｍ”の炭化タングステンから成っている。
り１層３はファクター５．３の炭化モリブデン（Ｍｏ２
）から成り、層４はファクター６．５の炭化タングステ
ンから成り、層５はファクター７．２の炭化タングステ
ン、即ち弾性モジュールが７ 、２ Ｘ Ｉ Ｏ”Ｎ／
ｍ”の炭化タングステンから成っている。
ダイアモンド層１０は、１０．５Ｘ１０”Ｎ／ｍ２の弾
性モジュールを有し、従ってダイアモンド層１０は、工
具に高い荷重がかかった場合にもダイアモンド層が不動
であるほどに弾性モジュールが高い層により、比較的軟
らかい鋼担持体上で担持される。
性モジュールを有し、従ってダイアモンド層１０は、工
具に高い荷重がかかった場合にもダイアモンド層が不動
であるほどに弾性モジュールが高い層により、比較的軟
らかい鋼担持体上で担持される。
次に、本発明の実施態様を列記しておく。
（１）外側にある層（１０）をその下にある層（１−９
）よりも厚く塗布することを特徴とする請求項１に記載
の方法。
）よりも厚く塗布することを特徴とする請求項１に記載
の方法。
（２）担持体（２０）に、第１の層（１）として、担持
体（２０）の弾性モジュールよりも高い材料を塗布する
ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
体（２０）の弾性モジュールよりも高い材料を塗布する
ことを特徴とする請求項１に記載の方法。
（３）外側にあるダイアモンドから成る層（１０）がそ
の下にある層（１−９）よりも厚く形成されていること
を特徴とする請求項４に記載の摩耗防止層。
の下にある層（１−９）よりも厚く形成されていること
を特徴とする請求項４に記載の摩耗防止層。
（４）外側にあるダイアモンドから成る層（１０）が５
乃至５００μｍの厚さを有し、その下にある層が２乃至
５０μｍの厚さを有していることを特徴とする請求項４
に記載の摩耗防止層。
乃至５００μｍの厚さを有し、その下にある層が２乃至
５０μｍの厚さを有していることを特徴とする請求項４
に記載の摩耗防止層。
（５）結合材として金属のホウ化物、窒化物、珪化物ま
たは炭化物が設けられていることを特徴とする請求項４
に記載の摩耗防止層。
たは炭化物が設けられていることを特徴とする請求項４
に記載の摩耗防止層。
（６）ダイアモンドを含有する層に設けられる結合材が
ニッケルまたはコバルト等の純金属であることを特徴と
する請求項４に記載の摩耗防止層。
ニッケルまたはコバルト等の純金属であることを特徴と
する請求項４に記載の摩耗防止層。
（７）各層（１−１０）が異なる結合材を有しているこ
とを特徴とする請求項４に記載の摩耗防止層。
とを特徴とする請求項４に記載の摩耗防止層。
（８）摩耗防止層の担持体（２０）が、フライスまたは
鋸のような切削工具（２２）のビットとして形成されて
いることを特徴とする請求項４に記載の摩耗防止層。
鋸のような切削工具（２２）のビットとして形成されて
いることを特徴とする請求項４に記載の摩耗防止層。
（９）Ｊ５！耗防止層の担持体（２０）がドレッシング
ロールであることを特徴とする請求項４に記載の摩耗防
止層。
ロールであることを特徴とする請求項４に記載の摩耗防
止層。
（１０）摩耗防止層の担持体（２０）がカッターとして
形成されていることを特徴とする請求項４に記載の摩耗
防止層。
形成されていることを特徴とする請求項４に記載の摩耗
防止層。
第１図はフライスの側面図、第２図はフライスのビット
の平面図、第３図は本発明による摩耗防止層の横断面図
、第４図は本発明による摩耗防止層の他の実施例を示す
図である。 １０・・・・・ダイアモンド層 ２０・・・・・担持体 ２】・・・・・摩耗防止層
の平面図、第３図は本発明による摩耗防止層の横断面図
、第４図は本発明による摩耗防止層の他の実施例を示す
図である。 １０・・・・・ダイアモンド層 ２０・・・・・担持体 ２】・・・・・摩耗防止層
Claims (2)
- （１）硬質金属または硬質非金属から成る担持体にダイ
アモンドフィルム等の摩耗防止層を塗布する方法におい
て、担持体（２０）に化学的な蒸気析出またはプラズマ
析出によって次のような層（１−１０）を塗布すること
、即ち上にある層ほどダイアモンド成分が高く且つ弾性
モジュールが高く、外側の層（１０）がダイアモンドか
ら成っているような層（１−１０）を塗布することを特
徴とする方法。 - （２）金属製または非金属製担持体のための摩耗防止層
において、化学的な蒸気析出またはプラズマ析出によっ
て塗布される複数個の層（１−１０）から成り、これら
の層（１−１０）は、下側から外側へダイアモンド成分
と弾性モジュールがより高くなっており、最も外側の層
（１０）がダイアモンドから成る層であることを特徴と
する摩耗防止層。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19873706340 DE3706340A1 (de) | 1987-02-27 | 1987-02-27 | Verfahren zum auftragen einer verschleissschutzschicht und danach hergestelltes erzeugnis |
| DE3706340.5 | 1987-02-27 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63241170A true JPS63241170A (ja) | 1988-10-06 |
Family
ID=6321903
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63042402A Pending JPS63241170A (ja) | 1987-02-27 | 1988-02-26 | 摩耗防止層の塗布方法及びこの方法にしたがって生産される生産物 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4842937A (ja) |
| EP (1) | EP0279898B1 (ja) |
| JP (1) | JPS63241170A (ja) |
| DE (2) | DE3706340A1 (ja) |
| ES (1) | ES2023860B3 (ja) |
Families Citing this family (80)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5225275A (en) * | 1986-07-11 | 1993-07-06 | Kyocera Corporation | Method of producing diamond films |
| JPS63239103A (ja) * | 1987-03-27 | 1988-10-05 | Ulvac Corp | 立方晶窒化硼素被覆体およびその製造法 |
| US4984940A (en) * | 1989-03-17 | 1991-01-15 | Kennametal Inc. | Multilayer coated cemented carbide cutting insert |
| US5206083A (en) * | 1989-09-18 | 1993-04-27 | Cornell Research Foundation, Inc. | Diamond and diamond-like films and coatings prepared by deposition on substrate that contain a dispersion of diamond particles |
| EP0449571B1 (en) * | 1990-03-30 | 1995-08-30 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Polycrystalline diamond tool and method for producing the polycrystalline diamond tool |
| US5075094A (en) * | 1990-04-30 | 1991-12-24 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Method of growing diamond film on substrates |
| US5022801A (en) * | 1990-07-18 | 1991-06-11 | The General Electric Company | CVD diamond coated twist drills |
| US5126207A (en) * | 1990-07-20 | 1992-06-30 | Norton Company | Diamond having multiple coatings and methods for their manufacture |
| DE69029729T2 (de) * | 1990-08-03 | 1997-05-07 | Fujitsu Ltd | Verfahren zur Abscheidung aus der Gasphase eines Diamantfilmes |
| CA2044543C (en) * | 1990-08-10 | 1999-12-14 | Louis Kimball Bigelow | Multi-layer superhard film structure |
| JP2938552B2 (ja) * | 1990-10-17 | 1999-08-23 | 富士通株式会社 | コーティング膜の製造方法およびコーティング膜の製造装置 |
| DE69117140T2 (de) * | 1990-11-22 | 1996-07-04 | Sumitomo Electric Industries | Polykristallines Dimantwerkzeug und Verfahren für seine Herstellung |
| US5236740A (en) * | 1991-04-26 | 1993-08-17 | National Center For Manufacturing Sciences | Methods for coating adherent diamond films on cemented tungsten carbide substrates |
| US5352493A (en) * | 1991-05-03 | 1994-10-04 | Veniamin Dorfman | Method for forming diamond-like nanocomposite or doped-diamond-like nanocomposite films |
| US5728465A (en) * | 1991-05-03 | 1998-03-17 | Advanced Refractory Technologies, Inc. | Diamond-like nanocomposite corrosion resistant coatings |
| US5718976A (en) * | 1991-05-03 | 1998-02-17 | Advanced Refractory Technologies, Inc. | Erosion resistant diamond-like nanocomposite coatings for optical components |
| US5786068A (en) * | 1991-05-03 | 1998-07-28 | Advanced Refractory Technologies, Inc. | Electrically tunable coatings |
| US6183843B1 (en) * | 1991-12-06 | 2001-02-06 | Raytheon Company | Method for producing low reflectance diamond and products therefor |
| CA2082711A1 (en) * | 1991-12-13 | 1993-06-14 | Philip G. Kosky | Cvd diamond growth on hydride-forming metal substrates |
| ATE137276T1 (de) * | 1992-01-02 | 1996-05-15 | Gen Electric | Methode zur herstellung von vorgespannten diamantbeschichteten filmen |
| DE4200147A1 (de) * | 1992-01-07 | 1993-07-08 | Jagenberg Ag | Obermesser fuer ein kreismesserpaar zum laengsschneiden von materialbahnen, insbesondere papier- oder kartonbahnen |
| US5370299A (en) * | 1992-04-23 | 1994-12-06 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Bonding tool having diamond head and method of manufacturing the same |
| EP0577066B1 (en) * | 1992-06-30 | 2002-09-04 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Cutting tool employing vapor-deposited polycrystalline diamond for cutting edge and method of manufacturing the same |
| US5249554A (en) * | 1993-01-08 | 1993-10-05 | Ford Motor Company | Powertrain component with adherent film having a graded composition |
| US5635254A (en) * | 1993-01-12 | 1997-06-03 | Martin Marietta Energy Systems, Inc. | Plasma spraying method for forming diamond and diamond-like coatings |
| DE4421144C2 (de) * | 1993-07-21 | 2003-02-13 | Unaxis Balzers Ag | Beschichtetes Werkzeug mit erhöhter Standzeit |
| DE4339326A1 (de) * | 1993-11-19 | 1995-05-24 | Winter Cvd Technik Gmbh | Abrichtrolle für Schleifscheiben |
| DE4402287A1 (de) * | 1994-01-27 | 1995-08-03 | Winter Cvd Technik Gmbh | Zahnradförmige Diamantabrichtrolle |
| US5725573A (en) * | 1994-03-29 | 1998-03-10 | Southwest Research Institute | Medical implants made of metal alloys bearing cohesive diamond like carbon coatings |
| US5605714A (en) * | 1994-03-29 | 1997-02-25 | Southwest Research Institute | Treatments to reduce thrombogeneticity in heart valves made from titanium and its alloys |
| US5731045A (en) * | 1996-01-26 | 1998-03-24 | Southwest Research Institute | Application of diamond-like carbon coatings to cobalt-cemented tungsten carbide components |
| US5593719A (en) * | 1994-03-29 | 1997-01-14 | Southwest Research Institute | Treatments to reduce frictional wear between components made of ultra-high molecular weight polyethylene and metal alloys |
| US5453303A (en) * | 1994-07-22 | 1995-09-26 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Low substrate temperature deposition of diamond coatings derived from glassy carbon |
| US5551959A (en) * | 1994-08-24 | 1996-09-03 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasive article having a diamond-like coating layer and method for making same |
| US6063149A (en) * | 1995-02-24 | 2000-05-16 | Zimmer; Jerry W. | Graded grain size diamond layer |
| DE19513102C2 (de) * | 1995-04-07 | 1998-02-05 | Fraunhofer Ges Forschung | Diamant-Compositschichtsystem, Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung |
| US5688557A (en) * | 1995-06-07 | 1997-11-18 | Lemelson; Jerome H. | Method of depositing synthetic diamond coatings with intermediates bonding layers |
| US5795648A (en) * | 1995-10-03 | 1998-08-18 | Advanced Refractory Technologies, Inc. | Method for preserving precision edges using diamond-like nanocomposite film coatings |
| US6468642B1 (en) | 1995-10-03 | 2002-10-22 | N.V. Bekaert S.A. | Fluorine-doped diamond-like coatings |
| US5638251A (en) * | 1995-10-03 | 1997-06-10 | Advanced Refractory Technologies, Inc. | Capacitive thin films using diamond-like nanocomposite materials |
| DE19538046C2 (de) * | 1995-10-13 | 1997-12-11 | Forschungszentrum Juelich Gmbh | Schichtsystem |
| US5780119A (en) * | 1996-03-20 | 1998-07-14 | Southwest Research Institute | Treatments to reduce friction and wear on metal alloy components |
| US6048586A (en) * | 1996-06-05 | 2000-04-11 | Caterpillar Inc. | Process for applying a functional gradient material coating to a component for improved performance |
| JPH1082390A (ja) | 1996-07-18 | 1998-03-31 | Sanyo Electric Co Ltd | 摺動部材、圧縮機及び回転圧縮機 |
| EP0828015A3 (en) * | 1996-09-06 | 1998-07-15 | SANYO ELECTRIC Co., Ltd. | Hard carbon film-coated substrate and method for fabricating the same |
| EP0850731B1 (de) * | 1996-11-07 | 2003-02-05 | Koenig & Bauer Aktiengesellschaft | Falzapparat mit einem Schneidmesser für eine Rollenrotationsdruckmaschine |
| EP0960219B1 (de) * | 1996-12-24 | 2002-06-19 | Widia GmbH | Verbundkörper, bestehend aus einem hartmetall-, cermet- oder keramiksubstratkörper und verfahren zu seiner herstellung |
| US6080445A (en) * | 1997-02-20 | 2000-06-27 | Citizen Watch Co., Ltd. | Method of forming films over insulating material |
| DE19713359B4 (de) * | 1997-03-29 | 2005-12-08 | Saurer Gmbh & Co. Kg | Spinnrotor für eine Offenend-Spinnmaschine und Verfahren zu seiner Beschichtung |
| US6013980A (en) | 1997-05-09 | 2000-01-11 | Advanced Refractory Technologies, Inc. | Electrically tunable low secondary electron emission diamond-like coatings and process for depositing coatings |
| NL1007046C2 (nl) * | 1997-09-16 | 1999-03-17 | Skf Ind Trading & Dev | Bekleed wentellager. |
| JP2000246512A (ja) * | 1998-12-28 | 2000-09-12 | Ngk Spark Plug Co Ltd | ダイヤモンド類被覆切削工具 |
| DE19914585C1 (de) * | 1999-03-31 | 2000-09-14 | Cemecon Ceramic Metal Coatings | Diamantbeschichtetes Werkzeug und Verfahren zu seiner Herstellung |
| JP4560964B2 (ja) * | 2000-02-25 | 2010-10-13 | 住友電気工業株式会社 | 非晶質炭素被覆部材 |
| DE10018143C5 (de) * | 2000-04-12 | 2012-09-06 | Oerlikon Trading Ag, Trübbach | DLC-Schichtsystem sowie Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines derartigen Schichtsystems |
| EP1154035B1 (en) * | 2000-05-09 | 2006-01-04 | Kabushiki Kaisha Riken | Amorphous carbon film containing oxide |
| DE10028792A1 (de) * | 2000-06-15 | 2001-12-20 | Leica Microsystems | Messer |
| DE10056242A1 (de) | 2000-11-14 | 2002-05-23 | Alstom Switzerland Ltd | Kondensationswärmeübertrager |
| JP2004529270A (ja) | 2001-05-16 | 2004-09-24 | ヴィディア ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 複合材料及びその製造方法 |
| US6962751B2 (en) * | 2001-06-13 | 2005-11-08 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Amorphous carbon coated tools and method of producing the same |
| US6881475B2 (en) * | 2001-06-13 | 2005-04-19 | Sumitomo Electric Industries, Ltd | Amorphous carbon coated tool and fabrication method thereof |
| JP4300762B2 (ja) * | 2002-07-10 | 2009-07-22 | 日新電機株式会社 | 炭素膜被覆物品及びその製造方法 |
| US7866342B2 (en) | 2002-12-18 | 2011-01-11 | Vapor Technologies, Inc. | Valve component for faucet |
| US7866343B2 (en) | 2002-12-18 | 2011-01-11 | Masco Corporation Of Indiana | Faucet |
| US8555921B2 (en) | 2002-12-18 | 2013-10-15 | Vapor Technologies Inc. | Faucet component with coating |
| US8220489B2 (en) | 2002-12-18 | 2012-07-17 | Vapor Technologies Inc. | Faucet with wear-resistant valve component |
| US20050271808A1 (en) * | 2004-03-25 | 2005-12-08 | Nomadics, Inc. | Process and apparatus for layer by layer assembly of reinforced composite materials |
| CN100584996C (zh) * | 2004-06-10 | 2010-01-27 | 国立大学法人电气通信大学 | 金刚石薄膜的涂膜法及包覆金刚石的硬质合金部件 |
| DE102004052866A1 (de) * | 2004-11-02 | 2006-05-11 | Hnp Mikrosysteme Gmbh | Diamantbeschichtung von Verdrängerkomponenten, wie Zahnkomponenten, für eine chemische Beständigkeit und tribologischen Verschleißschutz in einer Verdrängereinheit |
| US7373997B2 (en) * | 2005-02-18 | 2008-05-20 | Smith International, Inc. | Layered hardfacing, durable hardfacing for drill bits |
| US20070026205A1 (en) | 2005-08-01 | 2007-02-01 | Vapor Technologies Inc. | Article having patterned decorative coating |
| ATE452218T1 (de) * | 2005-09-10 | 2010-01-15 | Schaeffler Kg | VERSCHLEIßFESTE BESCHICHTUNG UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG DERSELBEN |
| TWI363742B (en) * | 2005-10-28 | 2012-05-11 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | Diamond-like carbon film |
| JP4735309B2 (ja) * | 2006-02-10 | 2011-07-27 | トヨタ自動車株式会社 | 耐キャビテーションエロージョン用部材及びその製造方法 |
| IL174841A0 (en) * | 2006-04-06 | 2007-07-04 | Rafael Advanced Defense Sys | Method for producing polymeric surfaces with low friction |
| EP2362000B1 (en) * | 2008-10-29 | 2017-11-22 | NTN Corporation | Hard multilayer film formed body and method for manufacturing same |
| JP5222764B2 (ja) * | 2009-03-24 | 2013-06-26 | 株式会社神戸製鋼所 | 積層皮膜および積層皮膜被覆部材 |
| US9139908B2 (en) * | 2013-12-12 | 2015-09-22 | The Boeing Company | Gradient thin films |
| US11103944B2 (en) * | 2019-08-12 | 2021-08-31 | Deere & Company | Self-sharpening cutting tooth for a felling apparatus |
| CN113621965A (zh) * | 2021-08-11 | 2021-11-09 | 无锡锐威精密刀具有限公司 | 一种合金刀具表面金刚石梯度膜及其制备方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6173882A (ja) * | 1984-09-17 | 1986-04-16 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 超硬質層被覆材料 |
| JPS61106494A (ja) * | 1984-10-29 | 1986-05-24 | Kyocera Corp | ダイヤモンド被膜部材及びその製法 |
Family Cites Families (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH596928A5 (en) * | 1974-09-05 | 1978-03-31 | Lumalampan Ab | Sawing wire for very fine cutting |
| IE46644B1 (en) * | 1977-02-18 | 1983-08-10 | Gen Electric | Temperature resistant abrasive compact and method for making same |
| DD138678A1 (de) * | 1978-08-23 | 1979-11-14 | Christian Weissmantel | Verfahren zur herstellung von kohlenstoffschichten mit diamantaehnlichen eigenschaften |
| DE3047888A1 (de) * | 1980-12-19 | 1982-07-15 | Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg | "schneidwerkzeug, verfahren zu seiner herstellung und seine verwendung" |
| FR2514743B1 (fr) * | 1981-10-21 | 1986-05-09 | Rca Corp | Pellicule amorphe a base de carbone, du type diamant, et son procede de fabrication |
| CA1216158A (en) * | 1981-11-09 | 1987-01-06 | Akio Hara | Composite compact component and a process for the production of the same |
| US4434188A (en) * | 1981-12-17 | 1984-02-28 | National Institute For Researches In Inorganic Materials | Method for synthesizing diamond |
| DD210081A1 (de) * | 1982-09-17 | 1984-05-30 | Adw Ddr | Verfahren zur herstellung von harten und verschleissfesten oberflaechenschichten |
| US4486286A (en) * | 1982-09-28 | 1984-12-04 | Nerken Research Corp. | Method of depositing a carbon film on a substrate and products obtained thereby |
| DE3411695A1 (de) * | 1984-03-29 | 1985-10-03 | Belorusskij politechničeskij institut, Minsk | Verbund-schneidplaettchen zur bearbeitung von hochfesten erzeugnissen und verfahren zu deren herstellung |
| US4698256A (en) * | 1984-04-02 | 1987-10-06 | American Cyanamid Company | Articles coated with adherent diamondlike carbon films |
| DE3421739C2 (de) * | 1984-06-12 | 1987-01-02 | Battelle-Institut E.V., 6000 Frankfurt | Verfahren zur Herstellung von diamantartigen Kohlenstoffschichten |
| SE453474B (sv) * | 1984-06-27 | 1988-02-08 | Santrade Ltd | Kompoundkropp belagd med skikt av polykristallin diamant |
| US4605343A (en) * | 1984-09-20 | 1986-08-12 | General Electric Company | Sintered polycrystalline diamond compact construction with integral heat sink |
| US4678722A (en) * | 1984-11-13 | 1987-07-07 | Uri Cohen | Record member with metallic antifriction overcoat |
| US4764434A (en) * | 1987-06-26 | 1988-08-16 | Sandvik Aktiebolag | Diamond tools for rock drilling and machining |
-
1987
- 1987-02-27 DE DE19873706340 patent/DE3706340A1/de not_active Withdrawn
- 1987-08-29 ES ES87112638T patent/ES2023860B3/es not_active Expired - Lifetime
- 1987-08-29 EP EP87112638A patent/EP0279898B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-08-29 DE DE8787112638T patent/DE3772194D1/de not_active Expired - Lifetime
-
1988
- 1988-02-26 JP JP63042402A patent/JPS63241170A/ja active Pending
- 1988-02-26 US US07/160,597 patent/US4842937A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6173882A (ja) * | 1984-09-17 | 1986-04-16 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 超硬質層被覆材料 |
| JPS61106494A (ja) * | 1984-10-29 | 1986-05-24 | Kyocera Corp | ダイヤモンド被膜部材及びその製法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4842937A (en) | 1989-06-27 |
| EP0279898B1 (de) | 1991-08-14 |
| ES2023860B3 (es) | 1992-02-16 |
| DE3772194D1 (de) | 1991-09-19 |
| DE3706340A1 (de) | 1988-09-08 |
| EP0279898A1 (de) | 1988-08-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS63241170A (ja) | 摩耗防止層の塗布方法及びこの方法にしたがって生産される生産物 | |
| US6344149B1 (en) | Polycrystalline diamond member and method of making the same | |
| US6054185A (en) | Substrate with superhard coating containing boron and nitrogen and method of making the same | |
| Endler et al. | Preparation and wear behaviour of woodworking tools coated with superhard layers | |
| Inspektor et al. | Superhard coatings for metal cutting applications | |
| EP3040143B1 (en) | Coated tool | |
| CN111482622B (zh) | 一种涂层切削刀具及其制备方法 | |
| JP5918457B1 (ja) | 被覆工具 | |
| US6267867B1 (en) | Composite article with adherent CVD diamond coating and method of making | |
| US10744568B2 (en) | Coated tool | |
| EP0627498B1 (en) | Ceramic-based substrate, and methods for producing same | |
| US5607264A (en) | Tool with diamond cutting edge having vapor deposited metal oxide layer and a method of making and using such tool | |
| EP1165860A1 (en) | Diamond-coated tool and process for producing thereof | |
| JP2000514720A (ja) | 材料切削加工するための工具 | |
| JPWO2017057456A1 (ja) | 被覆工具 | |
| JPH06183890A (ja) | 人工ダイヤモンド被覆材 | |
| JPS6267174A (ja) | 硬質炭素膜被覆超硬合金の製造法 | |
| CZ20013086A3 (cs) | Řezný nástroj z tvrdokovu opatřený vrstvou z diamantu a způsob jeho výroby | |
| JPH08104597A (ja) | ダイヤモンド複合膜およびダイヤモンド複合膜付部材 | |
| Bauer et al. | A comparative machining study of diamond-coated tools made by plasma torch, microwave, and hot filament techniques | |
| JP5898394B1 (ja) | 被覆工具 | |
| JP3235206B2 (ja) | ダイヤモンド切削工具およびその製造方法 | |
| JPH0623601A (ja) | ダイヤモンド被覆超硬合金工具 | |
| JPH0623431B2 (ja) | 硬質被膜被覆切削工具部材 | |
| JPS6234704A (ja) | ダイヤモンド被覆切削工具 |