JP2009251082A - 電鋳金型およびホログラムの製造方法 - Google Patents
電鋳金型およびホログラムの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009251082A JP2009251082A JP2008095839A JP2008095839A JP2009251082A JP 2009251082 A JP2009251082 A JP 2009251082A JP 2008095839 A JP2008095839 A JP 2008095839A JP 2008095839 A JP2008095839 A JP 2008095839A JP 2009251082 A JP2009251082 A JP 2009251082A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plate
- hologram
- mold
- seed layer
- manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Holo Graphy (AREA)
Abstract
【解決手段】パターンが形成された原版上に内部応力σが−3.0N/m2<σ<3.0N/m2となる成膜条件でシード層を形成する工程と,該シード層を電極として電鋳を行う工程と,を有する金型製造方法とする。また,マスター版を複版によりマザー版を複版し,さらにマスター版からマザー版を複版し,該マザー版からスタンパーを複版し,該スタンパーによりホログラムパターンをエンボス形成するホログラムの製造方法において,前記原版がレリーフホログラム原版であって,上記金型の製造方法を用いてマスター版を製造することを特徴とするホログラム製造方法とする。
【選択図】図1
Description
レリーフホログラム原版7上にスパッタリングでシード層を形成する場合,スパッタリングターゲットとして銀を用い,レリーフホログラム原版7をベルジャー内にセットし,予め脱気し1×10−3Pa以下として,Arガスを導入してベルジャー内圧力を1.0Pa,成膜速度を0.5nm/秒,膜厚が約70nmとなるようにして形成した。同じ条件で一定の大きさにカットされたPETフィルムに銀膜を着けてもカールのほとんどない物が得られた。さらに,後述するニュートンリング法により同じ成膜条件で作製した膜の応力σを10サンプル測定し,いずれも−3.0N/m2<σ<3.0N/m2となっていることを確認した。
具にセットし,上記のスルファミン酸ニッケル電鋳浴に入れて,約300μmになるよう
に電鋳を行った。
レリーフホログラム原版7上にスパッタリングでシード層を形成する場合,スパッタリングターゲットとしてクロムを用い,原版7をベルジャー内にセットし,予め脱気し1×10−3Pa以下にし,Arガスを導入してベルジャー内圧力を0.3Pa,成膜速度を0.35nm/秒,膜厚が約25nmとなるようにして形成した。同じ成膜条件で作製した膜の応力σを10サンプル測定し,いずれも−3.0N/m2<σ<3.0N/m2となっていることを確認した。
その後,スパッタリング装置からレリーフホログラム原版7を取り出し専用の電鋳治具にセットし,上記のスルファミン酸ニッケル電鋳浴に入れて,約300μmになるように電鋳を行った。
レリーフホログラム原版7上にスパッタリングでシード層を形成する場合,スパッタリングターゲットとして銅を用い,レリーフホログラム原版7をベルジャー内にセットし,予め脱気し1×10−3Pa以下にし,Arガスを導入してベルジャー内圧力を0.3Pa,成膜速度を0.35nm/秒,膜厚が約55nmとなるようにして形成した。同じ成膜条件で作製した膜の応力σを10サンプル測定し,いずれも−3.0N/m2<σ<3.0N/m2となっていることを確認した。
レリーフホログラム原版7上に無電解ニッケルめっきでシード層を形成する場合,レリーフホログラム原版7上にパラジウムの核を形成させた後,還元剤を亜燐酸ナトリウムとする無電解ニッケル浴中で成膜速度を0.3〜0.4nm/秒,望ましくは0.35nm/秒にして,膜厚が約25nmになるようにして形成した。同じ成膜条件で作製した膜の応力σを10サンプル測定し,いずれも−3.0N/m2<σ<3.0N/m2となっていることを確認した。
スタンパー6を用いて作製した多面付け樹脂原版25上にスパッタリングでシード層を形成する場合,スパッタリングターゲットとしてクロムを用い,多面付け樹脂原版25をベルジャー内にセットし,予め脱気し1×10−3Paにし,Arガスを導入してベルジャー内圧力を0.3Pa,成膜速度を0.35nm/秒,膜厚が約25nmなるようにして形成した。同じ成膜条件で作製した膜の応力σを10サンプル測定し,いずれも−3.0N/m2<σ<3.0N/m2となっていることを確認した。
薄い円板形の石英基板(直径30mm,板厚0.1mm)上にスパッタ膜を成膜し,波長632.8nmの光を半透明鏡に当て,反射光を半透明鏡の後ろにあるカメラで測定し,ゆがみの変形量から以下の式を用いて応力を測定した。
σ=Eb2/6(1―ν)rd
ここで,E:基板のヤング率(Pa),b:基板の厚み(m),ν:基板のポアソン比,d:薄膜の厚み(m),r:極率半径(基板の反り)(m)である。測定には,既存の薄膜応力測定装置を用いた。
Claims (6)
- パターンが形成された原版上に内部応力σが−3.0N/m2<σ<3.0N/m2となる成膜条件でシード層を形成する工程と,該シード層を電極として電鋳を行う工程と,を有する金型製造方法。
- 前記シード層を形成する工程は,スパッタリング,蒸着,または湿式めっきによる成膜であることを特徴とする請求項1に記載の金型製造方法。
- シード層は,銀,金,クロム,ニッケル,鉄,白金のいずれかからなることを特徴とする請求項1又は2記載の金型製造方法。
- アスペクト比1.0以上の原版からマスター版を複版することを特徴とする請求項1〜3記載の金型製造方法。
- 前記金型がホログラム用金型であることを特徴とする請求項1〜4記載の金型の製造方法。
- マスター版からマザー版を複版し,該マザー版からスタンパーを複版し,該スタンパーによりホログラムパターンをエンボス形成するホログラムの製造方法において,
前記原版がレリーフホログラム原版であって,請求項1〜5記載の金型の製造方法を用いてマスター版を製造することを特徴とするホログラム製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008095839A JP2009251082A (ja) | 2008-04-02 | 2008-04-02 | 電鋳金型およびホログラムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008095839A JP2009251082A (ja) | 2008-04-02 | 2008-04-02 | 電鋳金型およびホログラムの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009251082A true JP2009251082A (ja) | 2009-10-29 |
Family
ID=41311902
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008095839A Pending JP2009251082A (ja) | 2008-04-02 | 2008-04-02 | 電鋳金型およびホログラムの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2009251082A (ja) |
Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63192078A (ja) * | 1987-02-04 | 1988-08-09 | Fujitsu Ltd | 表面レリ−フ型ホログラムの製造方法 |
JPS6476086A (en) * | 1987-09-17 | 1989-03-22 | Fujitsu Ltd | Resist film eliminating method |
JPH06282216A (ja) * | 1993-03-29 | 1994-10-07 | Toppan Printing Co Ltd | 単色光再生型ホログラムとその再生方法及びその再生装置 |
JPH08305264A (ja) * | 1995-04-28 | 1996-11-22 | Toppan Printing Co Ltd | レリーフパターン複製版の製造方法 |
JP2000144384A (ja) * | 1998-11-04 | 2000-05-26 | Ulvac Japan Ltd | 低応力Mo蒸着膜の製造方法 |
JP2000251551A (ja) * | 1999-02-24 | 2000-09-14 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 封入接点材料の製造方法及び前記封入接点材料を用いた封入接点 |
JP2002200900A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-07-16 | Toyo Seikan Kaisha Ltd | 3次元的ホログラム付缶 |
JP2002371350A (ja) * | 2001-06-14 | 2002-12-26 | Nitto Denko Corp | 透明積層体の製造方法 |
JP2002371355A (ja) * | 2001-06-14 | 2002-12-26 | Nitto Denko Corp | 透明薄膜の製造方法 |
JP2006054334A (ja) * | 2004-08-12 | 2006-02-23 | Seiko Epson Corp | 半導体製造装置、スパッタリング装置、ドライエッチング装置及び半導体装置の製造方法 |
JP2006091555A (ja) * | 2004-09-24 | 2006-04-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 凹凸状パターンの形成方法、及び光学素子の製造方法 |
JP2006093357A (ja) * | 2004-09-22 | 2006-04-06 | Ebara Corp | 半導体装置及びその製造方法、並びに処理液 |
JP2006310737A (ja) * | 2005-03-29 | 2006-11-09 | Seiko Epson Corp | 発光素子、発光素子の製造方法及び画像表示装置 |
JP2007262563A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-11 | Furukawa Electric Co Ltd:The | フィルム金属積層体、その製造方法、前記フィルム金属積層体を用いた回路基板、および前記回路基板の製造方法 |
-
2008
- 2008-04-02 JP JP2008095839A patent/JP2009251082A/ja active Pending
Patent Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63192078A (ja) * | 1987-02-04 | 1988-08-09 | Fujitsu Ltd | 表面レリ−フ型ホログラムの製造方法 |
JPS6476086A (en) * | 1987-09-17 | 1989-03-22 | Fujitsu Ltd | Resist film eliminating method |
JPH06282216A (ja) * | 1993-03-29 | 1994-10-07 | Toppan Printing Co Ltd | 単色光再生型ホログラムとその再生方法及びその再生装置 |
JPH08305264A (ja) * | 1995-04-28 | 1996-11-22 | Toppan Printing Co Ltd | レリーフパターン複製版の製造方法 |
JP2000144384A (ja) * | 1998-11-04 | 2000-05-26 | Ulvac Japan Ltd | 低応力Mo蒸着膜の製造方法 |
JP2000251551A (ja) * | 1999-02-24 | 2000-09-14 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 封入接点材料の製造方法及び前記封入接点材料を用いた封入接点 |
JP2002200900A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-07-16 | Toyo Seikan Kaisha Ltd | 3次元的ホログラム付缶 |
JP2002371350A (ja) * | 2001-06-14 | 2002-12-26 | Nitto Denko Corp | 透明積層体の製造方法 |
JP2002371355A (ja) * | 2001-06-14 | 2002-12-26 | Nitto Denko Corp | 透明薄膜の製造方法 |
JP2006054334A (ja) * | 2004-08-12 | 2006-02-23 | Seiko Epson Corp | 半導体製造装置、スパッタリング装置、ドライエッチング装置及び半導体装置の製造方法 |
JP2006093357A (ja) * | 2004-09-22 | 2006-04-06 | Ebara Corp | 半導体装置及びその製造方法、並びに処理液 |
JP2006091555A (ja) * | 2004-09-24 | 2006-04-06 | Fuji Photo Film Co Ltd | 凹凸状パターンの形成方法、及び光学素子の製造方法 |
JP2006310737A (ja) * | 2005-03-29 | 2006-11-09 | Seiko Epson Corp | 発光素子、発光素子の製造方法及び画像表示装置 |
JP2007262563A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-11 | Furukawa Electric Co Ltd:The | フィルム金属積層体、その製造方法、前記フィルム金属積層体を用いた回路基板、および前記回路基板の製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5876059B2 (ja) | 大面積上に高秩序化ナノピラーまたはナノホール構造を作製するための方法 | |
CN101135842B (zh) | 一种复制纳米压印模板的方法 | |
JP2008126450A (ja) | モールド、その製造方法および磁気記録媒体 | |
TW525159B (en) | Formation method for metallic stamper and metallic stamper and, manufacture method for optical disk substrate with the use of the stamper and optical disk fabricated by the manufacture method | |
TWI447781B (zh) | A method of making a microstructure embossing die | |
JP2009149097A (ja) | インプリント加工用スタンパーおよびその製造方法 | |
JP2010274650A (ja) | 複製技術のための金属製スタンプの製造 | |
JP2006032423A (ja) | インプリント加工用スタンパーおよびその製造方法 | |
JP2002182403A (ja) | エンボス面として使用される光画定可能なポリイミドフィルム | |
JP2009251082A (ja) | 電鋳金型およびホログラムの製造方法 | |
JP2006303454A (ja) | ナノインプリント用モールドとその製造方法、凹凸パターンの転写方法、凹部を有する部材の製造方法 | |
KR101635138B1 (ko) | 다단 복합 스탬프의 제작방법 및 다단 복합 스탬프를 이용한 위조방지 필름의 제작방법 | |
TWI226059B (en) | Method for manufacturing master disk for optical recording medium having pits and projections, stamper, and optical recording medium | |
JP5027182B2 (ja) | インプリント用型材の製造方法およびインプリント用型材 | |
JP6668714B2 (ja) | インプリント用モールドの離型性検査方法 | |
JP2008230083A (ja) | スタンパーの製造方法 | |
KR102180106B1 (ko) | 슬리브형 나노 및 마이크로 패턴을 가지는 롤 금형 제조 방법 | |
WO2010016465A1 (ja) | 成形金型および成形金型の製造方法 | |
Sato et al. | Development of film mold for roll to roll nanoimprintg process and its application | |
KR100927481B1 (ko) | 마이크로-나노 금속 구조물의 제조 방법 | |
JP2010077476A (ja) | スタンパの製造方法 | |
US20230176475A1 (en) | Conformal micro- or nanopatterned nanoimprint lithography master and methods of making and using the same | |
TW201217151A (en) | Nano-imprinting mold and producing method thereof and method for nano-imprinting using the mold and method | |
TW201029823A (en) | Composite stamp for embossing | |
Mekaru | Application of Ni-P Alloys to A Mold Material for Thermal Imprinting on Pyrex Glass |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110322 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120315 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120817 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121002 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121203 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130813 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131010 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20140507 |