JPS6292116A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS6292116A JPS6292116A JP19782086A JP19782086A JPS6292116A JP S6292116 A JPS6292116 A JP S6292116A JP 19782086 A JP19782086 A JP 19782086A JP 19782086 A JP19782086 A JP 19782086A JP S6292116 A JPS6292116 A JP S6292116A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film layer
- base film
- thin ferromagnetic
- ferromagnetic metallic
- recording medium
- Prior art date
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- Granted
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は強磁性金属薄膜型磁気記録媒体に関し、さら
に詳しくは磁気特性および耐擦傷性に優れた強磁性金属
薄膜型磁気記録媒体に関する。
に詳しくは磁気特性および耐擦傷性に優れた強磁性金属
薄膜型磁気記録媒体に関する。
近年、磁気記録の高密度化に対応して、ポリエステル、
ポリイミド、ポリアミド等の高分子成形物からなるベー
スフィルム上に、強磁性金属またはその合金あるいはこ
れらの金属を含む化合物からなる強磁性金属薄膜層を蒸
着等によって被着形成した強磁性金属薄膜型磁気記録媒
体が開発されている。この種の磁気記録媒体は、従来の
磁性粉末を有限バインダー中に分散して塗布する生布型
磁気記録媒体に比べ高密度記録に通した特性を有するが
、高分子成形物からなるベースフィルムが結晶質部分と
無定形部分とからなる微細な結晶性組織を有し本質的に
不均一である上に、延伸などの機械的処理による配向組
織や、表面の平？ｈ性を調節するための充填粒子の存在
、さらに汚染物質の吸着などによって表面がさらに不均
一になり、このベースフィルム表面の不均一性が原因と
なってこの上に茎着等によって被着形成される強磁性金
属薄膜層が不均一になり易く、このためノイズが高くな
り、又出力変動も大きくなって所望の磁気特性を有する
強磁性金属薄膜層が得られ乙こくい難点がある。
ポリイミド、ポリアミド等の高分子成形物からなるベー
スフィルム上に、強磁性金属またはその合金あるいはこ
れらの金属を含む化合物からなる強磁性金属薄膜層を蒸
着等によって被着形成した強磁性金属薄膜型磁気記録媒
体が開発されている。この種の磁気記録媒体は、従来の
磁性粉末を有限バインダー中に分散して塗布する生布型
磁気記録媒体に比べ高密度記録に通した特性を有するが
、高分子成形物からなるベースフィルムが結晶質部分と
無定形部分とからなる微細な結晶性組織を有し本質的に
不均一である上に、延伸などの機械的処理による配向組
織や、表面の平？ｈ性を調節するための充填粒子の存在
、さらに汚染物質の吸着などによって表面がさらに不均
一になり、このベースフィルム表面の不均一性が原因と
なってこの上に茎着等によって被着形成される強磁性金
属薄膜層が不均一になり易く、このためノイズが高くな
り、又出力変動も大きくなって所望の磁気特性を有する
強磁性金属薄膜層が得られ乙こくい難点がある。
そこで、このような欠点を克服する手段として強磁性金
属薄膜層の下に非磁性全屈（アルミニウム）からなる一
層の下地膜層を介在させることが提案されている。
属薄膜層の下に非磁性全屈（アルミニウム）からなる一
層の下地膜層を介在させることが提案されている。
ところが、アルミニウム金属からなる下地膜層では充分
に満足できる磁気特性が得られない。
に満足できる磁気特性が得られない。
この発明はかかる問題を解決するため種々検討を行った
結果なされたもので、基体と強磁性金属薄膜層との間に
介在させる下地膜層を、モリブデン、ゲルマニウムから
選ばれる少なくとも１種の金属を含んだ層で形成するこ
とにより所期の目的を達成したものである。
結果なされたもので、基体と強磁性金属薄膜層との間に
介在させる下地膜層を、モリブデン、ゲルマニウムから
選ばれる少なくとも１種の金属を含んだ層で形成するこ
とにより所期の目的を達成したものである。
この発明によれば、強磁性金属薄膜層と接する下地膜層
は結晶成長が均一な前記金属で形成されているため、平
滑性のよい緻密な下地膜層が形成され、このためこの下
地膜層上には均一でかつ平滑性に優れた強磁性金属薄膜
層が形成されて磁気特性も改善され、又耐擦傷性も改善
される。このようにこの発明によれば、この下地膜層に
よって磁気特性および耐擦傷性に優れた強磁性金属薄膜
層を存する磁気記録媒体が得られる。
は結晶成長が均一な前記金属で形成されているため、平
滑性のよい緻密な下地膜層が形成され、このためこの下
地膜層上には均一でかつ平滑性に優れた強磁性金属薄膜
層が形成されて磁気特性も改善され、又耐擦傷性も改善
される。このようにこの発明によれば、この下地膜層に
よって磁気特性および耐擦傷性に優れた強磁性金属薄膜
層を存する磁気記録媒体が得られる。
この発明において、高分子形成物などからなる基体への
下地ＨｆＪ層および強磁性金属薄膜層の形成は、真空蒸
着、イオンプレーティング、スパッタリング、メッキ等
の手段によって行なわれ、基体としてはガラス、表面に
酸化膜を有するアルミニウム金属、あるいはポリエステ
ル、ポリイミド、ポリアミド等一般に使用されている高
分子成形物からなるベースフィルムが使用される。
下地ＨｆＪ層および強磁性金属薄膜層の形成は、真空蒸
着、イオンプレーティング、スパッタリング、メッキ等
の手段によって行なわれ、基体としてはガラス、表面に
酸化膜を有するアルミニウム金属、あるいはポリエステ
ル、ポリイミド、ポリアミド等一般に使用されている高
分子成形物からなるベースフィルムが使用される。
また、この発明で使用される下地膜層の形成材料として
は、モリブデン、ゲルマニウム等の金属が好適なものと
して使用され、これらは単独で、あるいは併用して、も
しくはクロム、タンタル、ニッケルなどと併用して使用
される。これらの金属は結晶成長が均一であるため平滑
性のよい緻密な下地ｌＩ！ｉ！層が形成され、従ってこ
の上に形成される強磁性金属薄膜層は均一かつ平滑性に
優れたものとなり、磁気特性が改善される。下地膜層の
層厚は、充分な下地膜効果を発揮し、かつ基体と下地膜
層との熱膨張係数の相違にもとづく下地膜層の微細な割
れや熱変形を防止するため２００〜２０００人の範囲に
するのが適当である。
は、モリブデン、ゲルマニウム等の金属が好適なものと
して使用され、これらは単独で、あるいは併用して、も
しくはクロム、タンタル、ニッケルなどと併用して使用
される。これらの金属は結晶成長が均一であるため平滑
性のよい緻密な下地ｌＩ！ｉ！層が形成され、従ってこ
の上に形成される強磁性金属薄膜層は均一かつ平滑性に
優れたものとなり、磁気特性が改善される。下地膜層の
層厚は、充分な下地膜効果を発揮し、かつ基体と下地膜
層との熱膨張係数の相違にもとづく下地膜層の微細な割
れや熱変形を防止するため２００〜２０００人の範囲に
するのが適当である。
強磁性金属薄膜層を形成する磁性材としては、コバルト
、ニッケル、鉄などの全屈単体の他、ニハルトーニノケ
ル、コバルト−鉄、コバルト−クロム、コバルト−ニッ
ケルークロムなどの合金漬るいは酸化物、およびＣｏ−
Ｐ、 Ｃｏ−Ｎ１−Ｐなどが好適なちとして使用される
。
、ニッケル、鉄などの全屈単体の他、ニハルトーニノケ
ル、コバルト−鉄、コバルト−クロム、コバルト−ニッ
ケルークロムなどの合金漬るいは酸化物、およびＣｏ−
Ｐ、 Ｃｏ−Ｎ１−Ｐなどが好適なちとして使用される
。
基体として高分子成形物からなるベースフィルムを使用
する場合には、このベースフィルムとモリブデン、ゲル
マニウム金属からなる下地膜層との接着性に幾分難点が
あるため、この下地膜層と基体との間に、酸化アルミニ
ウム（Ａ Ｉ ２０３ ）および５ｉＯ１Ｓｉ０２など
の酸化ケイ素の上置ＨＵＦＦを介在させるのが好ましく
、これらの下地膜層を介在させると、ベースフィルムと
モリブデン、ゲルマニウム金属からなる下地膜層との接
着性がより改善される。
する場合には、このベースフィルムとモリブデン、ゲル
マニウム金属からなる下地膜層との接着性に幾分難点が
あるため、この下地膜層と基体との間に、酸化アルミニ
ウム（Ａ Ｉ ２０３ ）および５ｉＯ１Ｓｉ０２など
の酸化ケイ素の上置ＨＵＦＦを介在させるのが好ましく
、これらの下地膜層を介在させると、ベースフィルムと
モリブデン、ゲルマニウム金属からなる下地膜層との接
着性がより改善される。
次に、この発明の実施例について説明する。
実施例１〜４
約６μ厚のポリエステルヘースフィルムに表面処理（Ａ
ｒガス、ボンバード処理）を施した後、これを真空蒸着
装置に装填し、下記第１表に示す第１蒸着物をそれぞれ
の条件で蒸発させて第１の下地膜層を形成し、次いで同
表に示す第２蒸着物をそれぞれの条件で蒸発させて第２
の下地膜層を形成した。
ｒガス、ボンバード処理）を施した後、これを真空蒸着
装置に装填し、下記第１表に示す第１蒸着物をそれぞれ
の条件で蒸発させて第１の下地膜層を形成し、次いで同
表に示す第２蒸着物をそれぞれの条件で蒸発させて第２
の下地膜層を形成した。
第 １ 表
次に、この二層構造の下地膜層を形成したベースフィル
ム上に酸素圧５ＸＩＯ−’トールの残留ガス圧の下で、
コバルト金属を２０００人の膜厚になるように蒸着して
強磁性金属薄膜層を形成した。コバルト金属の蒸着はコ
バルト金属の蒸気の入射方向とベースフィルムの法線方
向とのなす角（入射角）が４５°Ｃ以上となるように落
着装置内に防着板を設けて連続斜め入射原着を行った。
ム上に酸素圧５ＸＩＯ−’トールの残留ガス圧の下で、
コバルト金属を２０００人の膜厚になるように蒸着して
強磁性金属薄膜層を形成した。コバルト金属の蒸着はコ
バルト金属の蒸気の入射方向とベースフィルムの法線方
向とのなす角（入射角）が４５°Ｃ以上となるように落
着装置内に防着板を設けて連続斜め入射原着を行った。
これを所定の巾に裁断して磁気テープをつくった。
比較例１
実施例において、第２蒸着物の落着を省いて下地膜層を
一層にし、第１蒸着物としてＡｌ２Ｏ３を使用し、膜厚
が５００人となるように蒸着して第１の下地膜層を形成
した以外は実施例と同様にして磁気テープをつくった。
一層にし、第１蒸着物としてＡｌ２Ｏ３を使用し、膜厚
が５００人となるように蒸着して第１の下地膜層を形成
した以外は実施例と同様にして磁気テープをつくった。
比較例２
比較例１において、第１蒸着物としてＡｌ２Ｏ３に替え
てＳｉＯ２を使用した以外は比較例１と同様にして磁気
テープをつくった。
てＳｉＯ２を使用した以外は比較例１と同様にして磁気
テープをつくった。
比較例３
実施例１において、第１蒸着物による第１の下地膜層を
形成せず、第２蒸着物としてＡＩ金金属５００人の厚さ
で蒸着させてＡＩ金金属下地膜層を形成した以外は、実
施例１と同様にして磁気テープをつ（った。
形成せず、第２蒸着物としてＡＩ金金属５００人の厚さ
で蒸着させてＡＩ金金属下地膜層を形成した以外は、実
施例１と同様にして磁気テープをつ（った。
各実施例および各比較例で得られた磁気テープについて
保磁力（１−（ｃ ）および角型（Ｂｒ／８ｍ）を１ｊ
ｉ１１定し、接着力および耐擦傷性を試験した。
保磁力（１−（ｃ ）および角型（Ｂｒ／８ｍ）を１ｊ
ｉ１１定し、接着力および耐擦傷性を試験した。
接着力はセロテープ剥離試験及びダイヤモンド描画試験
方法で行ない、耐擦傷性は脱脂綿による（５傷試験方法
で行なった。下記第２表はその結果である。
方法で行ない、耐擦傷性は脱脂綿による（５傷試験方法
で行なった。下記第２表はその結果である。
第２表
〔発明の効果〕
上記第２表らか明らかなように、この発明によって得ら
れた磁気テープ（実施例１〜４）はＡ１２０３からなる
一層の下地層を形成して得られた磁気テープ（比較例１
）、ＳｉＯ２からなる一層の下地膜層を形成して得られ
た磁気テープ（比較例２）およびＡＩ金属下地膜層を形
成して得られた磁気テープ（比較例３）に比し、いずれ
も保磁力が大きく、角型も比較的高くて磁気特性に優れ
ていることがわかる。さらにこの発明によって（厚られ
た磁気テープ（実施例１〜４）は比較例Ｉ、２および３
に比しいずれも耐［４（ｌｉ性が良好で耐擦傷性も改善
されていることがわかる。
れた磁気テープ（実施例１〜４）はＡ１２０３からなる
一層の下地層を形成して得られた磁気テープ（比較例１
）、ＳｉＯ２からなる一層の下地膜層を形成して得られ
た磁気テープ（比較例２）およびＡＩ金属下地膜層を形
成して得られた磁気テープ（比較例３）に比し、いずれ
も保磁力が大きく、角型も比較的高くて磁気特性に優れ
ていることがわかる。さらにこの発明によって（厚られ
た磁気テープ（実施例１〜４）は比較例Ｉ、２および３
に比しいずれも耐［４（ｌｉ性が良好で耐擦傷性も改善
されていることがわかる。
Claims (1)
- １、基体上に、モリブデン、ゲルマニウムから選ばれる
１種以上の金属を含んでなる下地膜層を形成し、この下
地膜層上に強磁性金属薄膜層を形成したことを特徴とす
る磁気記録媒体
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19782086A JPS6292116A (ja) | 1986-08-23 | 1986-08-23 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19782086A JPS6292116A (ja) | 1986-08-23 | 1986-08-23 | 磁気記録媒体 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10830579A Division JPS5634141A (en) | 1979-08-25 | 1979-08-25 | Magnetic recording medium |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6292116A true JPS6292116A (ja) | 1987-04-27 |
| JPS6330691B2 JPS6330691B2 (ja) | 1988-06-20 |
Family
ID=16380884
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19782086A Granted JPS6292116A (ja) | 1986-08-23 | 1986-08-23 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6292116A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0324395A (ja) * | 1989-06-20 | 1991-02-01 | Nissan Motor Co Ltd | ホースクランプ |
| JPH051090U (ja) * | 1991-06-26 | 1993-01-08 | 株式会社東郷製作所 | ホースクリツプ |
| JPH0497196U (ja) * | 1991-10-01 | 1992-08-21 |
-
1986
- 1986-08-23 JP JP19782086A patent/JPS6292116A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6330691B2 (ja) | 1988-06-20 |
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